CN114740553A - 大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置 - Google Patents

大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置 Download PDF

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CN114740553A CN202210583293.5A CN202210583293A CN114740553A CN 114740553 A CN114740553 A CN 114740553A CN 202210583293 A CN202210583293 A CN 202210583293A CN 114740553 A CN114740553 A CN 114740553A
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Abstract

本发明公开了大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置，其中复合膜，包括顺次设置的OCA光学胶层、基材、防眩光层、防反射层以及AF层，与防反射层相邻侧，防眩光层的表面为非平面，防反射层具有多层结构且该多层结构包括若干五氧化二铌层和若干二氧化硅层，五氧化二铌层的折射率为2.3且厚度范围为10‑130nm，二氧化硅层的折射率为1.45且厚度范围为10‑100nm。本发明的复合膜有效改善了多层复合防反射膜的结合性，同时通过优化的防反射结构，有效改善了复合膜的减反效果。

Description

大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置
技术领域
本发明是关于光学复合膜，特别是关于一种大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置。
背景技术
随着科学技术的迅速发展，在诸如手机、平板电脑、车载导航仪、笔记本电脑等电子产品上广泛地应用了触摸屏。生活中我们都或多或少有被眩光袭击的经历，部分来源于眩光光源，部分来源于眩光的反射。我们在操作各类电子设备时常常因为屏幕外面的景物在屏幕表面的反射而无法看清显示内容而烦恼。这些都是由于屏幕表面的光反射引起的，因为普通屏幕具有高的反射率，要减少反射光的影响，将屏幕表面进行减反射处理可以起到良好的效果。因此对各类屏幕保护膜的性能也提出了特殊的光学需求，现有的保护膜一般采用以聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PET)、三醋酸纤维素薄膜(TAC)、聚酰亚胺薄膜((PI)、聚碳酸酯薄膜(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)、环烯烃聚合物薄膜(COP)为基材进行表面加工后使具有防眩光(Anti-Glare)、防反射(Anti-Reflective)和防指纹(Anti-fingerprint)的效果。
低反射膜一般情况下都是在零度角度下反射率最低，但是在一些特殊的应用场景下，如车载导航仪等，人眼一般都是以40°左右来观察屏幕，因此要求低反射膜不仅要在零度角度下反射率低，而且也需要在大角度范围内的反射率处于低值。
防眩光层(Anti-Glare)一般可以采用UV压印和湿法工艺成膜。其中UV压印使用具有微纳级网格凹槽和球面形微纳级凸起结构的防眩光模具，模具表面球面形微纳级凸起结构经烘烤固化形成。在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PET)、三醋酸纤维素薄膜(TAC)、聚酰亚胺薄膜((PI)、聚碳酸酯薄膜(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)、环烯烃聚合物薄膜(COP)为基材的表面提供一层支撑层，在支撑层上涂布一层UV胶，根据防眩光层(Anti-Glare)所需要的雾度(Haze)大小，来使用相应微纳级别的防眩光模具对UV胶层进行UV压印，UV压印后UV胶层形成所需要的微纳级别的防眩光结构层。
湿法工艺是通过使用防眩光涂布液在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(PET)、三醋酸纤维素薄膜(TAC)、聚酰亚胺薄膜((PI)、聚碳酸酯薄膜(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜(PMMA)、环烯烃聚合物薄膜(COP)为基材的表面进行涂布成膜，在80℃条件下热风烘烤90秒，烘烤完毕后在UV能量400mj条件下进行UV固化。其中防眩光涂布液主要由防眩光主剂和防眩光粒子组成，其中防眩光主剂主要为多官能度丙烯酸酯类稀释剂包括，二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸对戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯等，防眩光粒子主要为二氧化硅微粒、氧化铝微粒、硅酸镁微粒等，通过调节主剂和粒子的比例来达到防眩光层(Anti-Glare)所需要的雾度(Haze)大小和防眩程度。
为了满足大角度(0°-45°)下防反射层(Anti-Reflective)都能保持低反射的状态，防眩光层(Anti-Glare)表面的微观结构需要满足分布均匀且起伏平缓，不能够出现局部水平、局部凹凸的形状。因此使用UV压印和湿法涂布工艺的防眩光层(Anti-Glare)，其表面微观结构如图1所示。在如图2所示的不同入射角度下，现有技术方案的防反射层结构难以满足电子产品的性能要求。
公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
发明内容
本发明的目的在于提供一种大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置，通过优化复合膜的层结构和层材料，有效改善了多层复合防反射膜的结合性，同时通过优化的多层防反射结构，有效改善了复合膜的减反效果。
为实现上述目的，本发明的实施例提供了大视角抗反射复合膜，包括顺次设置的OCA光学胶层、基材、防眩光层、防反射层以及AF层，在与防反射层相邻侧，防眩光层的表面为非平面，防反射层具有多层结构且该多层结构包括若干五氧化二铌层和若干二氧化硅层，五氧化二铌层的折射率为2.3且厚度范围为10-130nm，二氧化硅层的折射率为1.45且厚度范围为10-100nm。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层由若干五氧化二铌层和若干二氧化硅层交替形成。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层具有偶数层结构。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层的多层结构中与防眩光层相邻的为五氧化二铌层。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层包括四层结构：由防眩光层开始顺次地设置有第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层，第一五氧化二铌层的厚度为10-20nm，第一二氧化硅层的厚度为20-30nm，第二五氧化二铌层的厚度为110-130nm，第二二氧化硅层的厚度为70-100nm。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层包括六层结构：由防眩光层开始顺次地设置有第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第三二氧化硅层，第一五氧化二铌层的厚度为10-15nm，第一二氧化硅层的厚度为30-40nm，第二五氧化二铌层的厚度为40-50nm，第二二氧化硅层的厚度为10-20nm，第三五氧化二铌层的厚度为30-40nm，第三二氧化硅层的厚度为90-100nm。
在本发明的一个或多个实施方式中，防反射层为磁控溅射形成的多层结构。
在本发明的一个或多个实施方式中，基材其材料选自PET、TAC、PI、PC、PMMA、COP。优选的，基材为膜材料。其厚度优选为50-125微米。
在本发明的一个或多个实施方式中，显示组件，包括如前述的大视角抗反射复合膜以及显示装置，显示装置包括显示屏面，大视角抗反射复合膜贴合到显示屏面。
在本发明的一个或多个实施方式中，显示装置，包括如前述的显示组件以及用于限制显示组件的框架结构。显示装置包括而不限于手机、平板电脑、车载导航仪、笔记本电脑等。
与现有技术相比，根据本发明实施方式的大视角抗反射复合膜、显示组件以及显示装置，通过优化复合膜的层结构和层材料，有效改善了多层复合防反射膜的结合性，同时通过优化的多层防反射结构，有效改善了复合膜的减反效果。
附图说明
图1是现有技术中眩光层的表面状态示意图；
图2是光线入射方向示意图；
图3是根据本发明一实施方式的结构示意图，防反射层具有四层结构；
图4是根据本发明一实施方式的实施例1与实施例2反射率对比图；
图5是根据本发明一实施方式的实施例2不同入射角的反射率示意图。
具体实施方式
下面结合本发明的具体实施方式，对本发明技术方案进行示例性的详细描述，但应当理解本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。
除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
AF涂层使用一种表面张力很低的含氟涂料。一般称为全氟聚醚，通常涂层的厚度为4-20nm，其主要功能是附着在丝网表面，增加丝网的疏水、排油、防污等性能。广泛应用于手机、平板、显示器、单反相机的防护玻璃。在经常使用带有屏幕的电子产品之后，我们几乎可以随时触摸它，这种疏水拒油的效果与水滴落在荷叶上一样。AF层的材料主要分为液体和靶材，分别适用于喷涂和真空蒸发镀膜。
光学胶按照厚度不同可应用于不同的领域，其主要用途为：电子纸、透明器件粘结、投影屏组装、航空航天或军事光学器件组装、显示器组装、镜头组装、电阻式触摸屏G+F+F、F+F、电容式触摸屏、面板、ICON及玻璃以及聚碳酸脂等塑料材料的贴合。
OCA(Optically Clear Adhesive)光学透明胶是用于胶结透明光学元件(如镜头等)的特种粘胶剂。要求具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，固化收缩小等特点。OCA光学胶是触摸屏的重要原材料之一，是将光学亚克力胶做成无基材，然后在上下底层再各贴合一层离型薄膜制备而成，是一种无基体材料的双面贴合胶带。利用OCA胶可以贴合触控屏与显示屏，消除触控屏与显示屏之间的空气层，从而提高显示效果，并隔绝灰尘和水汽。
防反射层(Anti-Reflective)一般可以采用三种方法成膜，包括真空蒸发、湿法涂布和磁控溅射镀膜。其中真空蒸发镀膜的镀膜均匀性差，薄膜涂层的附着力小，重复性差，难以获得结晶结构的薄膜，因此不适合在防眩光层(Anti-Glare)上做低反射膜。
湿法涂布的平均反射率较高，平均反射率在1％左右。并且在防眩光层(Anti-Glare)做湿法涂布，其在大角度上的反射率较高，不适合做大角度应用的低反射膜。
通常防眩光层(Anti-Glare)上的粒子大小为微米量级，而湿法涂布的LR层的厚度一般在100-200nm左右，LR层无法将AG层表面的凹凸起伏涂平，因此在光线垂直入射时，凹坑底部的湿法涂布LR层的光学厚度nd满足光学匹配，能够起到减反效果，当光线大角度入射时，斜面上的LR层的光学厚度nd减小，无法满足光学匹配的原则，导致减反效果大大降低，因此在大角度入射时，不适合在AG层上使用湿法涂布LR。
因此选用磁控溅射来进行镀膜，其相对于湿法涂布来说，其平均反射率降低了，能够处于0.5％左右。并且其在防眩光层(Anti-Glare)上镀膜对于大角度的反射率影响小，大角度的反射率也能够处于低值。
磁控溅射在进行镀膜时，是根据AG层的表面形貌进行原子累积叠加的，因此在AG层表面粒子上堆积的厚度都是一致的，所以光线无论是在垂直入射和大角度入射时，光线所经过的路径都是一样的，因此光学厚度nd都满足光学匹配的原则，能够起到减反效果。所以在光线大角度入射时，使用磁控溅射在AG层上镀AR层能够满足减反效果。
适用于手机、平板电脑、车载导航仪、笔记本电脑等电子产品。首先，光在两种介质界面上的振幅反射系数为(1-ρ)/(1+ρ)，其中ρ为两介质的折射率之比，反射率为振幅反射系数的平方，R＝(n1-n2)2/(n1+n2)2。当光从光疏介质入射到光密介质时，反射光会有180°相位的变化；当光从光密介质入射到光疏介质时，反射光相位与入射光相同。光在薄膜上下两个表面反射形成的两个分量将按如下方式重新合成：当它们的相位差为180°的奇数倍时，合振幅为两个分量振幅之差；当它们的相位差为零或180°的偶数倍时，合振幅便是两个分量振幅之和。前一种情况成为两光束发生干涉相消，后一种情况称为干涉相长。在相位差为其他值的情况下，干涉将介于这两种可能性之间。
减反膜或多或少取决于薄膜上下两表面的反射光彼此完全相消的情况。设基底的折射率为nsub，膜层的折射率为n1，入射介质几乎在所有情况内均为空气，折射率为n0。为使得两束光束完全相消，膜层上下两界面的反射光强度应当相等，这意味这每一界面处的折射率之比应当相等，即n0/n1＝n1/nsub或n1＝(n0nsub)1/2。此公式表明，膜层折射率应介于空气折射率(n0＝1)与基底折射率nsub之间。在减反膜的上下两个表面，反射都发生在折射率小的介质内，因此为了保证两个反射光的相位差为180°的奇数倍，膜层的光学厚度nd＝λ/4(λ为减反射膜的工作波长)。
考虑到可用材料的折射率存在限制，在实际应用中，使用的单层或者双层的减反膜所能得到的减反性能很有限，为了实现更好的减反效果，需要使用光学厚度λ/4，λ/2的高低折射率材料的多层减反膜来实现。具体地，减反射膜包括N个由低折射率膜层和高折射率膜层堆叠的交替结构，且后一个交替结构的低折射率膜层堆叠在前一个交替结构的高折射率膜层上，N个交替结构的最上方依次堆叠有一层高折射率膜层和一层低折射率膜层构成基础结构。
大视角抗反射复合膜的防反射层具有四层结构：Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为10-20nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为20-30nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为110-130nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为70-100nm。如图3所示的，该复合膜主要具有五层结构，包括顺次设置的OCA光学胶层1、基材2、防眩光层3、防反射层01以及AF层8，此时该五层结构相互堆叠形成了完整的复合膜。图3中的防反射层01展示了具有四层结构的情形，顺次包括第一五氧化二铌层4、第一二氧化硅层5、第二五氧化二铌层6、第二二氧化硅层7。当然毫无疑问的，只要满足产品的防反射需求，防反射层01还可以堆叠得到其它层数的结构，如由三层五氧化二铌层和三层二氧化硅层交替堆叠得到的六层结构、由四层五氧化二铌层和四层二氧化硅层交替堆叠得到的八层结构等。防反射层01采用偶数的总层数结构，五氧化二铌与二氧化硅为一组，五氧化二铌在下层，二氧化硅在上层，如由四层五氧化二铌层和四层二氧化硅层交替堆叠得到的八层结构等。
大视角抗反射复合膜的防反射层具有六层结构：Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为10-15nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为30-40nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为40-50nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为10-20nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为30-40nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为90-100nm。
实施例1：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度50微米的PET膜)的AG层镀上四层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中四层以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为17nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为25nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为110nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为86nm。
实施例2：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度60微米的TAC膜)的AG层镀上六层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中六层也是以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为11.3nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为33.5nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为44.5nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为15nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为37.1nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为91.3nm。
实施例3：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度80微米的PI膜)的AG层镀上四层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中四层以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为10nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为20nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为115nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为70nm。
实施例4：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度50微米的PC膜)的AG层镀上六层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中六层也是以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为10nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为30nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为40nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为10nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为30nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为90nm。
实施例5：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度100微米的PMMA膜)的AG层镀上四层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中四层以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为15nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为23nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为117nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为75nm。
实施例6：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度70微米的COP膜)的AG层镀上六层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中六层也是以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为13nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为35nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为42nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为13nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为32nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为93nm。
实施例7：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度125微米的PET膜)的AG层镀上四层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中四层以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为19nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为27nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为120nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为100nm。
实施例8：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度50微米的PET膜)的AG层镀上六层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中六层也是以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为14nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为37nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为46nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为17nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为35nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为97nm。
实施例9：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度80微米的TAC膜)的AG层镀上四层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中四层以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为20nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为30nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为130nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为90nm。
实施例10：
本实施例中复合膜包括基材层，通过磁控溅射工艺在基材(厚度60微米的TAC膜)的AG层镀上六层五氧化二铌和二氧化硅，其中五氧化二铌的折射率为2.3，二氧化硅的折射率为1.45。其中六层也是以高低折射率结构交叉叠加，为Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层-Nb2O5层-SiO2层结构。其中其中第一层Nb2O5层的镀膜厚度为15nm，第二层SiO2层的镀膜厚度为40nm，第三层Nb2O5层的镀膜厚度为50nm，第四层SiO2层的镀膜厚度为20nm，第五层Nb2O5层的镀膜厚度为40nm，第六层SiO2层的镀膜厚度为100nm。
实施例1与实施例2反射率对比
Figure BDA0003662478640000111
实施例2结构不同入射角度的反射率对比
Figure BDA0003662478640000112
Figure BDA0003662478640000121
通过高低折射率结构的叠加来起到降低反射率的作用，六层结构与四层结构相比，其平均反射率更低，并且利用磁控溅射工艺在防眩光层(Anti-Glare)上镀膜，其在大角度范围内的反射率低，能够满足不同环境下的需求。
包括而不限于上述实施例1-10的技术方案，其性能检测均满足性能检测，充分表明本方案的，有效改善了产品的减反效果，体现了四层和六层减反结构在满足特定表面形态(可以为如图1所示的沉积峰谷结构)下反射特性。
前述对本发明的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本发明限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本发明的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本发明的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本发明的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。

Claims (10)

1.一种大视角抗反射复合膜，包括顺次设置的OCA光学胶层、基材、防眩光层、防反射层以及AF层，特征在于，在与所述防反射层相邻侧，所述防眩光层的表面为非平面，所述防反射层具有多层结构且该多层结构包括若干五氧化二铌层和若干二氧化硅层，所述五氧化二铌层的折射率为2.3且厚度范围为10-130nm，所述二氧化硅层的折射率为1.45且厚度范围为10-100nm。
2.如权利要求1所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层由若干五氧化二铌层和若干二氧化硅层交替形成。
3.如权利要求2所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层具有偶数层结构。
4.如权利要求3所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层的多层结构中与所述防眩光层相邻的为五氧化二铌层。
5.如权利要求4所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层包括四层结构：由所述防眩光层开始顺次地设置有第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层，所述第一五氧化二铌层的厚度为10-20nm，所述第一二氧化硅层的厚度为20-30nm，所述第二五氧化二铌层的厚度为110-130nm，所述第二二氧化硅层的厚度为70-100nm。
6.如权利要求4所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层包括六层结构：由所述防眩光层开始顺次地设置有第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第三二氧化硅层，所述第一五氧化二铌层的厚度为10-15nm，所述第一二氧化硅层的厚度为30-40nm，所述第二五氧化二铌层的厚度为40-50nm，所述第二二氧化硅层的厚度为10-20nm，所述第三五氧化二铌层的厚度为30-40nm，所述第三二氧化硅层的厚度为90-100nm。
7.如权利要求1所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述防反射层为磁控溅射形成的多层结构。
8.如权利要求1所述的大视角抗反射复合膜，其特征在于，所述基材其材料选自PET、TAC、PI、PC、PMMA、COP。
9.显示组件，包括如权利要求1-8任一所述的大视角抗反射复合膜以及显示装置，所述显示装置包括显示屏面，所述大视角抗反射复合膜贴合到所述显示屏面。
10.显示装置，包括如权利要求9所述的显示组件以及用于限制所述显示组件的框架结构。
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