JP2002235036A

JP2002235036A - 反射防止積層体

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Publication number: JP2002235036A
Application number: JP2001034947A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Yoshihara; 俊昭吉原; Koichi Ohata; 浩一大畑; Toru Okubo; 透大久保
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-02-13
Filing date: 2001-02-13
Publication date: 2002-08-23
Anticipated expiration: 2021-02-13
Also published as: JP4747421B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、低屈折率と実用上十分な物理的強度
を有し、しかも安価で、防汚性、生産性等に優れた反射
防止積層体を提供することを目的とする。【解決手段】プラスチックやガラス等の透明基材の少な
くとも片面に、下記一般式（Ａ）と一般式（Ｂ）で表さ
れるフッ素含有ケイ素化合物、およびその加水分解物と
を主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成され
た低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止積層体
でる。一般式（Ａ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （ただし、Ｒはアルキル基）で表されるＳｉアルコキシ
ド、およびその加水分解物一般式（Ｂ）ＣＦ₃-（ＣＦ₂）_p-（ＣＨ）_n-Ｓｉ
（ＯＲ）₃ （ただし、ｐは０≦ｐ≦８の整数、ｎはｎ＜５の整数、
Ｒはアルキル基）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスやプラスチ
ック等の透明基材などに塗工した、低屈折率で、かつ物
理的強度に優れた光学多層膜が形成された反射防止積層
体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ガラスやプラスチックなどの透明
基材に、酸化チタンや酸化ケイ素などの無機酸化物を蒸
着法あるいはスパッタ法などのドライコーティングによ
って薄膜を形成して反射防止膜などの光干渉による光学
多層膜を形成する方法が知られている。しかし、このよ
うなドライコーティングプロセスでは装置が高価で、成
膜速度が遅く、生産性が高くないなどの課題を有してい
る。特に、ディスプレイの反射防止膜などの最外層に使
用される形態においては、表面の汚れ防止、容易拭き取
り性いわゆる防汚性能が必要であるが、これらの機能を
付与するために別途ウェットあるいはドライプロセスに
てフッ素含有ケイ素化合物などの保護膜を設ける必要が
あり、工程が煩雑でより高価なものとなってしまうなど
の課題もある。

【０００３】これに対して、金属アルコキシドなどを出
発組成とし、基材に塗工して光学多層膜を形成する方法
が知られている。この高屈折率材料としては、ＴｉやＺ
ｒなどのアルコキシドが用いられる。また、低屈折率材
料としては、Ｓｉ系アルコキシドあるいはＳｉアルコキ
シドの一部をエポキシ基やアルキル基など他の有機置換
基に置き換えた有機ケイ素化合物、いわゆるシランカッ
プリング剤などを用い、さらに防汚成分としてフッ素含
有ケイ素化合物を添加されてなる塗膜を設ける方法が提
案されている（特開平９-２０８８９８号など）。

【０００４】しかし、これらの塗膜は塗膜形成時の乾燥
・重合に高温、長時間を必要とするため生産性に問題が
ある。また、この塗膜は、ある程度の低い屈折率と、あ
る程度の防汚性を付与するとはできるが、硬度や耐擦傷
性、基材との密着性などの物理的強度を満足することが
できない。上記塗膜は、最外層に使用されるため、強度
が不十分では実用に耐えることができないといった欠点
を有している。

【０００５】上記に述べたような問題点を解決するため
に、塗膜を形成する組成物としてケイ素アルコキシドを
出発物質としたシリカゾルと反応性有機ケイ素化合物
（シランカップリング剤や末端に反応基を有するジメチ
ルシリコーンなど）との複合材料などが提案されている
（特開平９ー２２０７９１号など）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のＳｉＯ₂系複合膜組成物からなる塗膜に十分な物性を
得ようとすると加熱に長時間を要する。例えば、塗膜
が、アクリロイル基などの重合性不飽和基を含有する有
機ケイ素化合物からなる場合、いずれもアクリロイル基
が１個ないし２個の単官能あるいは２官能性の化合物で
あり、電子線による重合しても高い架橋密度が得られな
い。上記組成物からなる塗膜の硬度や耐擦傷性などの物
理的強度を向上させようとすると、上記塗膜成分中にシ
リカ成分以外の成分、例えば、アクリル系化合物を複合
させて、アクリル成分比率を高くする必要がある。ま
た、ケイ素アルコキシドを出発物質とした塗膜は、アク
リル成分比率を高くなると光学特性を決定するＳｉ系な
どのアルコキシドを出発組成とするシリカ成分の体積比
が減少し、低屈折率化をはかることができないという欠
点を有する。前記組成物からなる塗膜では、低屈折率化
と硬度や耐擦傷性、密着性などの物理的強度が両立し、
かつ指紋などの汚れを簡単に拭き取ることができる反射
防止積層体は見出されていない。

【０００７】そこで、本発明は、上記課題を解決するた
めになされたものであって、低屈折率と実用上十分な物
理的強度を有し、しかも安価で、防汚性、生産性等に優
れた反射防止積層体を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、請求項１に係る発明は、プラスチックやガラス等
の透明基材の少なくとも片面に、一般式（Ａ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （ただし、Ｒはアルキル基）で表されるＳｉアルコキシ
ド、およびその加水分解物と、一般式（Ｂ）ＣＦ₃-（ＣＦ₂）_p-（ＣＨ）_n-Ｓｉ（ＯＲ）₃ （ただし、ｐは０≦ｐ≦８の整数、ｎはｎ＜５の整数、
Ｒはアルキル基）で表されるフッ素含有ケイ素化合物、
およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーテ
ィング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特
徴とする反射防止積層体でる。

【０００９】請求項２に係る発明は、請求項１記載の透
明基材と低屈折率層の間にハードコート層を設けたこと
を特徴とする反射防止積層体である。

【００１０】請求項３に係る発明は、請求項２記載の反
射防止積層体において、前記ハードコート層が、紫外
線、電子線等の電離放射線硬化樹脂からなることを特徴
とする。

【００１１】請求項４に係る発明は、請求項３記載の反
射防止積層体において、前記電離放射線硬化樹脂が、分
子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等
の重合可能な不飽和結合を少なくとも３個以上有するア
クリル系化合物を主成分としたことを特徴とする。

【００１２】請求項５に係る発明は、請求項４記載の反
射防止積層体において、前記電離放射線硬化樹脂が、ア
クリル系化合物の少なくとも１種が分子中にウレタン結
合を有するウレタンアクリレートからなることを特徴と
する。

【００１３】請求項６に係る発明は、請求項５記載の反
射防止積層体において、前記ハードコート層を形成する
ウレタンアクリレートが分子中に２個以上のイソシナー
ト基を有する化合物と該イソシア基と反応するＯＨ基を
有しアクリロイル基を２個以上有するアクリル化合物と
の反応生成物であることを特徴とする。

【００１４】請求項７に係る発明は、請求項６記載の反
射防止積層体において、前記電離放射線硬化樹脂が、平
均分子量６００〜５０００の範囲であることを特徴とす
る。

【００１５】請求項８に係る発明は、請求項６記載の反
射防止積層体において、前記電離放射線硬化樹脂が、生
成分子中のアクロイル基が４個以上の多官能ウレタンア
クリル化合物であることを特徴とする。

【００１６】＜作用＞本発明によれば、ハードコート層
をウレタン結合を有する電離放射線硬化樹脂とし、低屈
折率層を一般式（Ａ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （ただし、Ｒはアルキル基）で表せられるＳｉアルコキ
シド、およびその加水分解物と一般式（Ｂ）ＣＦ₃−（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ）_n-Ｓｉ（ＯＲ）₃ （ただし、ｐは０≦ｐ≦８の整数、ｎはｎ＜５の整数、
Ｒはアルキル基、）で表されるフッ素含有ケイ素化合
物、およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率の
ゾルゲルコーティング剤で形成される塗膜で、ハードコ
ート層と低屈折率層との密着性を高めることができるも
のである。

【００１７】本発明の低屈折率層は、Ｓｉ系成分が低屈
折率成分として機能するものではあるが、パーフルオロ
アルキル基の導入により塗膜内部のシロキサンネットワ
ークを寸断することで塗膜内部に分子レベルの隙間を形
成し、膜密度を低下させ、低屈折率化（１．４４以下）
をはかることができるものであり、特定の加水分解方法
で調整することで架橋構造をある程度寸断しても、分子
レベルで均一で、溶液中で適当な分子量の重合体を形成
しハイブリッド構造を呈しているものである。塗膜の密
度は低下しても充分な架橋構造を有しているので、充分
な強度を発揮でき、硬度が高く耐擦傷性性も良好であっ
て、従来の低屈折率組成物の欠点を大幅に改善すること
ができ、低屈折率化と高強度化の両立可能でなおかつ防
汚機能も有する積層体を提供するものである。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の一実施例を詳細に説明す
る。

【００１９】本発明の反射防止積層体はウレタン結合を
有する紫外線、放射線等の電離放射線硬化樹脂からなる
ハードコート層とゾルゲル系低屈折率組成物を基材に順
次塗工し、ハードコート層、低屈折率層を形成し、反射
防止積層体を得るものである。本発明における低屈折率
層は、テトラエトキシシランなどのＳｉアルコキシドと
フッ素含有ケイ素化合物およびその加水分解物を主成分
とする組成物からなるものてあり、これを基材に塗工
し、加熱乾燥し、塗膜を形成可能とするものであり、該
組成物中にさらに長鎖Ｒｆ基など導入し膜密度を制御す
ることで、膜の屈折率を低下させるものである。

【００２０】低屈折率層のコーティング材料に含まれる
各成分について以下に詳述する。本発明において用いら
れる、Ｓｉアルコキシドは、一般式（Ａ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （ただし、Ｒはアルキル基）で表されるものであり、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが例示
される。フッ素含有ケイ素化合物は、一般式（Ｂ）ＣＦ₃-（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ）_n-Ｓｉ（ＯＲ）₃ （ただし、ｐは０≦ｐ≦８の整数、ｎはｎ＜５の整数、
Ｒ：アルキル基、）で表されるもので、トリフルオロプ
ロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチル
トリメトキシシランなどが例示され、ｍが８より大きき
なると均質な膜が形成できなくなるため不適である。一
般式（Ａ）のＳｉアルコキシドと一般式（Ｂ）のフッ素
含有ケイ素化合物との比率がモル比で（Ａ）／（Ｂ）＝
１．０／０．０１〜１．０／０．２とすることで低屈折
率化と強度を両立することができ、防汚性能も発現でき
好適であるが、さらに好ましくは１．０／０．０３〜１
／０．１の範囲である。フッ素含有ケイ素化合物のＳｉ
アルコキシドに対するモル比が、０．０１以下では低屈
折率化が図れず、また防汚機能も充分ではない。また、
フッ素含有ケイ素化合物のＳｉアルコキシドに対するモ
ル比が、０．２より過剰になると低屈折率化と防汚は良
好であるが、Ｒｆ基の増加によりシロキサン架橋が充分
得られず強度が著しく低下してしまい不適である。有機
ケイ素化合物は、上記に例示した化合物に例示に限定さ
れるものでなく、２種以上組み合わせても何ら差し支え
なく、Ｓｉアルコキシドとフッ素含有ケイ素化合物を併
用してあれば良い。

【００２１】有機ケイ素化合物は、コーティング組成物
中にｐ-トルエンスルホン酸などの有機酸触媒を含有さ
せることで、塗工後に大気中の水分でもって加水分解反
応させて塗膜形成しても良いし、また予め水（塩酸など
の触媒を含む）を添加し、加水分解反応させたものを用
いることもできる。特に、下地との密着性を重視する場
合、塩酸を触媒として通常用いられる加水分解水（通
常、アルコキシド１ｍｏｌに対し、水２〜４ｍｏｌ）よ
りも多い状態で反応させる。すなわち、一般式（Ａ）の
Ｓｉアルコキシドと一般式（Ｂ）のＲｆ−Ｓｉとを合わ
せた全シラン化合物を０．１Ｎ〜５．０Ｎの塩酸によっ
て加水分解を行い、加水分解の際の塩酸中の水が、全シ
ラン化合物：水のモル比で１：５〜１：１０ｍｏｌ／ｍ
ｏｌの比率とすることで密着良好で均一な透明塗膜が形
成することができる。塩酸の規定度が低い場合、水の比
率が高すぎる場合（１：１０以上）は、その加水分反応
溶液を基材にコーティングしたとき、斑点状のハジキや
欠陥が生じ易く、水の比率が低い（１：５以下）場合
は、塗膜は均一であるが、下地のハードコート層との密
着がやや低下するため望ましくない。また各成分を別々
に加水分解反応させた後、混合させても良いが、反応さ
せる前に混合して、同時に共加水分解させた方が均質な
重合体ができるため望ましい。

【００２２】上記のゾルゲル系組成物の組み合わせは、
一般に公知ではあるが、本発明の積層体は単なる組み合
わせではなく、下地のウレタン結合とマトリックスであ
るコート組成物の無機のネットワークとの相溶性、親和
性が高く、単に有機樹脂からなる層上に積層するより密
着性が高い塗膜が得られる材料系である。そして、上記
調整方法のようにコントロールされた加水分解条件によ
って密着性がさらに向上する。

【００２３】ハードコート層は、透明プラスチック基材
表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻き
による傷を防止し、また透明基材の屈曲による反射防止
層のクッラク発生を抑制することができ、反射防止積層
体の機械的強度が改善できるものであり、通常、分子中
にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの
重合可能な不飽和結合を少なくとも３個以上を有するア
クリル系化合物を主成分とする電離放射線硬化樹脂が用
いられる。本発明におけるハードコート層は、アクリル
化合物の少なくとも１種が分子中にウレタン結合を有す
る、いわゆるウレタンアクリレートからなる電離放射線
硬化樹脂を用いることで、ハードコートとしての性能を
発揮しつつ、低屈折率層との高い密着性も発現させるも
のである。

【００２４】ウレタン結合を有する多官能アクリル化合
物とは、その分子中にビニル基、アクリロイル基やメタ
クルロイル基など重合可能なの不飽和結合を少なくとも
３個以上有し、かつウレタン結合を有するものであっ
て、例えば、ジイソシアネートとアクリル基含有ポリオ
ールとのプレポリマーなどがあげられ、特に限定される
ものではないが、なかでもＯＨ基含有多官能モノマーで
あるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ
Ａ）とヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）など
のジイソシアネートとの反応生成である多官能アクリル
化合物で、平均分子量６００〜５０００のものであれば
好適である。ウレタン／アクリルの混合比は塗膜中にお
ける固形分比で３０ｗｔ％以上が好適であるが、３０％
より少ない固形分比では効果が少ない。

【００２５】多官能モノマーは、１種類のみを使用して
も良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で
有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもで
きる。ハードコート層は、透明基材と屈折率が同等もし
くは近似していることがより好ましい。膜厚は２μｍ以
上あればある程度十分な強度となるが、透明性、塗工精
度、取り扱いから４〜７μｍの範囲が好ましい。前記ハ
ードコート層に、平均粒子径が０．０１〜３μｍの無機
あるいは有機物微粒子を混合分散させる。または、表面
形状を凹凸させることで、一般的にアンチグレアと呼ば
れる光拡散性処理を施すことができる。上記微粒子は透
明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材
料が好ましく、酸化珪素が安定性、耐熱性等の点からで
好ましい。

【００２６】ハードコート層を紫外線照射によって硬化
する際には、ラジカル重合開始剤を添加すると好適であ
る。ラジカル重合開始剤として、ベンゾインメチルエー
テルなどのベンゾインエーテル系開始剤、アセトフェノ
ン、２、１- ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
などのアセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノンなどの
ベンゾフェノン系開始剤などが挙げられるが、特に限定
されるものではない。

【００２７】ハードコート層を形成するコーティング組
成物は、上述した各成分をいくつか組み合わせて加える
ことができ、さらに、物性を損なわない範囲で、分散
剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤など公知の添加剤を
加えることもできる。

【００２８】コーティング組成物の塗布方法には、通常
用いられる、ディッピング法、ロールコティング法、ス
クリーン印刷法、スプレー法など従来公知の手段が用い
られる。塗膜の厚さは、目的の光学設計にあわせて、液
の濃度や塗工量によって適宜選択調整することができ
る。

【００２９】ハードコート層上に、コーティング溶液を
塗工する前に、コート層に予め表面処理を施すことによ
り、ハードコート層と低屈折率層との密着性を向上させ
ることができる。前処理としては、アルカリ処理法、酸
処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等を
挙げることができるが、なかでもアルカリ処理が有効
で、使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、あるいはそれ
らの水溶液に、更にアルコール等の各種有機溶媒を加え
たアルカリ水溶液等を挙げることができる。アルカリ処
理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた
場合、０．１〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用するこ
とが望ましく、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。ま
た、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましく
は、２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．
０１〜１０時間、好ましくは、０．１〜１時間である。

【００３０】ハードコート層に、予めアルカリ処理を施
すことでハードコート表面の粗度（凸凹状態）を制御
し、コート層表面にナノ凸凹構造を形成することによ
り、より低屈折率層との密着を向上させるものである。
本発明における表面粗さとは、表面粗さの定義は、ＪＩ
Ｓ―Ｂ０６０１に準拠するものではあるが、原子間力顕
微鏡などによって測定される微小領域、微小スケールに
おける表面粗さのことである。算術平均粗さＲａ、１０
点平均粗さの計算はＪＩＳ-Ｂ０６０１の定義に準じ
た。

【００３１】本発明における反射防止積層体は、可視領
域の光学干渉を利用した反射防止層であるため、積層さ
れる塗膜の膜厚が１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度であり、
塗膜が連続した膜を形成できかつ、光散乱の影響がでな
い程度の表面粗さである必要がある。凸凹の差が大きす
ぎたり、凸凹の頻度が高すぎると積層体のヘイズが増加
し、さらに強度の低下を引き起こすので適当ではない。
また、平滑過ぎる表面ではハードコート層と低屈折率層
との密着強度向上が期待できない。以上のことから、表
面粗さＲｚが５０ｎｍ以下で、Ｒａが２〜１０ｎｍが好
適である。

【００３２】

【実施例】以下、本発明の反射防止積層体の具体的な実
施例について説明する。

【００３３】＜実施例１〜４＞８０μｍ厚のトリアセチ
ルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを基材として、下記に
示したハードコート組成物として、ウレタン結合を有す
るアクリル系紫外線硬化樹脂組成物を表面に塗工して、
紫外線硬化させてハードコート層（５μｍ）を設けた基
材を作製した。このハードコート層の表面をアルカリ処
理を施し、下記に示した低屈折率コーティング組成物と
して、Ａ１、Ａ２を用いて、バーコーターにより塗布し
て、乾燥機で１２０℃―５ｍｉｎ乾燥後、光学膜厚（ｎ
ｄ＝屈折率ｎ＊膜厚ｄ（ｎｍ））が、ｎｄ＝５５０／４
ｎｍになるよう濃度調整をして低屈折率層を形成し、各
種評価用の反射防止積層体を得た。その反射防止積層体
を、下記に示した評価方法に基づいて評価した結果を表
１に示す。

【００３４】ここで、低屈折率コーティング組成物とし
て、Ａ１の組成物を塗工したものを実施例１、Ａ２の組
成物を塗工したものを実施例２とした。また、ハードコ
ート層の表面をアルカリ処理を施していないハードコー
ト層に、低屈折率コーティング組成物として、Ａ１の組
成物を塗工したものを実施例３、Ａ２の組成物を塗工し
たものを実施例４とした。一方、比較例として、ウレタ
ン結合を含まないハードコート組成物として、ペンタエ
リスリトールトリアクリレートのみを用いてハードコー
ト層を形成し、そのコート層をアルカリ処理を施し、低
屈折率コーティング組成物として、Ａ１の組成物を塗工
したものを比較例１とした。

【００３５】＜ハードコート組成物＞市販のウレタンア
クリレート（ヘキサンメチレンジイソシアネートとペン
タエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）をＭ
ＥＫ溶剤にて希釈ＮＶ５０％溶液。紫外線硬化用開始剤
として、アセトフェノン系開始剤を重合成分に対して２
％添加した。

【００３６】＜低屈折率コーティング組成物＞（Ａ１）：テトラメトキシシラン１ｍｏｌにトリデカフ
ルオロオクチルトリメトキシシラン０．１ｍｏｌになる
ように所定量混合し、混合物１ｍｏｌに対して０．３Ｎ
の塩酸３ｍｏｌと固形分換算で１０％になるようにイソ
プロピルアルコールを混合し、室温で２時間攪拌反応さ
せたて基本組成Ａ１を得た。（Ａ２）：テトラメトキシシラン１ｍｏｌにトリデカフ
ルオロオクチルトリメトキシシラン０．１ｍｏｌになる
ように所定量混合し、混合物１ｍｏｌに対して０．３Ｎ
の塩酸７ｍｏｌと固形分換算で１０％になるようにイソ
プロピルアルコールを混合し、室温で２時間攪拌反応さ
せたて基本組成Ａ２を得た。

【００３７】＜評価方法＞（１）表面粗さ：原子間力顕微鏡ＡＦＭ（ＳＰＩ３７０
０；セイコー電子）を用い走査範囲□５μｍにて測定し
た。（２）光学特性：分光光度計により入射角５で550ｎｍ
における反射率を測定した。（３）密着性：塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００のク
ロスカット密着試験方法に準じて塗膜の残存数にて評価
した。（４）鉛筆硬度：塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００の
鉛筆引っかき値試験方法に準じて塗膜の擦り傷にて評価
した。（５）耐擦傷試験：スチールウール＃００００により、
２５０ｇ／ｃｍ２の荷重で往復５回擦傷試験を実施、目
視による傷の外観を検査した。評価は、傷なし（◎）、
かるく傷あり（○）、かなり傷つく（△）、著しく傷つ
く（×）の４段階評価を行った。（６）指紋拭き取り性：塗膜表面に指紋を付着させ、テ
ィッシュペーパーにて拭き取り性を目視で検査した。評
価は、容易に拭き取れる（○）、拭き取れる（△）、拭
き取れない（×）の３段階評価を行った。（７）接触角：塗膜表面に水滴をのせ、水滴と表面の接
触角を測定した。測定には協和界面科学（株）製の接触
角計を用いた。

【００３８】

【表１】

【００３９】表１に示すように、いずれも反射率が低
く、目的の低屈折率層を得ることができたが、本発明の
反射防止積層体におけるウレタン系ハードコート組成物
からなるハードコート層の塗膜は、密着性、硬度、耐擦
傷性、防汚性にも優れるが、それに対して、比較例での
反射防止積層体のハードコート層の塗膜は、耐擦傷性や
密着性など強度面で著しく特性が劣っていることがわか
る。また、本発明の反射防止積層体において、ハードコ
ート層表面のアルカリ処理（実施例１および２）のほう
が密着強度に優れ、またコーティング組成物の加水分解
条件で、水のモル比が多いＡ２を用いた系（実施例２）
のほうが密着性、耐擦傷性も優れている。

【００４０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明により、特定
組成のハードコート組成物とゾルゲル系低屈折率トーテ
ィング組成物とを組合せたことで、ハードコート層と低
屈折率層との密着強度に優れ、しかも低屈折率という光
学特性と実用上十分な物理的強度を有する反射防止積層
体が得られた。本発明の反射防止積層体は、過酷な環境
に充分に耐えられるもので、防汚性に優れているので取
り扱い易く、反射防止膜として、ディスプレイの前面に
好適に使用される。また、本発明の反射防止積層体は、
コーティング方式によって製造することができるので、
従来の蒸着方式などと比較して、装置コストも比較的安
価で、生産速度も１０倍以上で、大量生産ができること
から、安価な反射防止積層体が得られる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｄ 175/14 Ｃ０９Ｄ 175/14 183/08 183/08 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＦターム(参考） 2K009 AA04 AA15 BB02 BB11 BB28 CC24 CC26 CC35 CC42 DD02 DD05 DD06 EE05 4D075 CA02 CA13 CA34 CA47 CB02 DA04 DA06 DB13 DB31 DC24 EA07 EA21 EA43 EB02 EB19 EB22 EB38 EB52 EB56 4F100 AG00A AJ06A AK01A AK01C AK25C AK25K AK51C AK51K AK52B AL06C AR00C BA03 BA07 BA10A BA10B GB41 JA07C JB14C JK06 JK12C JN06 JN18 JN18B YY00C 4J038 DL021 DL072 FA111 FA281 GA01 JC31 JC32 MA14 NA05 NA19 PA17 PC03 PC08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラスチックやガラス等の透明基材の少な
くとも片面に、一般式（Ａ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （ただし、Ｒはアルキル基）で表されるＳｉアルコキシ
ド、およびその加水分解物と、一般式（Ｂ）ＣＦ₃-（ＣＦ₂）_p-（ＣＨ）_n-Ｓｉ（ＯＲ）₃ （ただし、ｐは０≦ｐ≦８の整数、ｎはｎ＜５の整数、
Ｒはアルキル基）で表されるフッ素含有ケイ素化合物、
およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーテ
ィング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特
徴とする反射防止積層体。
【請求項２】請求項１記載の透明基材と低屈折率層の間
にハードコート層を設けたことを特徴とする反射防止積
層体。
【請求項３】前記ハードコート層が、紫外線、電子線等
の電離放射線硬化樹脂からなることを特徴とする請求項
２記載の反射防止積層体。
【請求項４】前記電離放射線硬化樹脂が、分子中にビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等の重合可能
な不飽和結合を少なくとも３個以上有するアクリル系化
合物を主成分としたことを特徴とする請求項３記載の反
射防止積層体。
【請求項５】前記電離放射線硬化樹脂が、アクリル系化
合物の少なくとも１種が分子中にウレタン結合を有する
ウレタンアクリレートからなることを特徴とする請求項
４記載の反射防止積層体。
【請求項６】前記ハードコート層を形成するウレタンア
クリレートが分子中に２個以上のイソシナート基を有す
る化合物と該イソシア基と反応するＯＨ基を有しアクリ
ロイル基を２個以上有するアクリル化合物との反応生成
物であることを特徴とする請求項５記載の反射防止積層
体。
【請求項７】前記電離放射線硬化樹脂が、平均分子量６
００〜５０００の範囲であることを特徴とする請求項６
記載の反射防止積層体。
【請求項８】前記電離放射線硬化樹脂が、生成分子中の
アクロイル基が４個以上の多官能ウレタンアクリル化合
物であることを特徴とする請求項６記載の反射防止積層
体。