JP2002120311A - 構造体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供す
る。 【解決手段】表面側の第１層と、これに下方で接する第
２層を含む構造体において、第１層および第２層の表面
粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）をそれぞれＲ１
およびＲ２（μｍ）とし、第１層の膜厚をＤ１（μｍ）
としたときに、Ｒ１を１μｍ以下の値とし、Ｒ２をＲ１
よりも大きな値であって、かつ０．０１〜２μｍの範囲
内の値とするとともに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜
２の範囲内の値とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、構造体に関し、よ
り詳細には、反射防止膜積層体等として適当な耐擦傷性
や透明性に優れた構造体に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プ
ラズマデスプレーなどの各種表示パネルにおいて、外光
の映りを防止し、画質を向上させるために、低反射率
性、低ヘイズ性、さらには、耐スチールウール性に代表
される耐擦傷性が良好な透明積層体が求められている。
近年においては、これらの特性に加えて、安定した性能
を確保するためのガスバリア性を有する透明積層体が求
められている。かかる透明積層体において、低反射率と
する方法としては、古くからフレネルの式に基づき屈折
率と膜厚を制御した薄膜を気相法により積層する技術が
実用化されている。しかしながら、液状のコーティング
剤を用いて、同等の性能を生産性よく発現する技術につ
いては、いまだ確立されていないのが実情である。この
ような従来の反射防止膜用のコーティング剤として、例
えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、
特開昭６１−２４７７４３号公報、特開平６−２５５９
９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平
１０−２３２３０１号公報等に開示されている。しかし
ながら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成物を利
用して得られる反射防止膜は、耐擦傷性に乏しく、結果
として、耐久性に乏しいという問題が見られた。また、
かかる反射防止膜を製造するにあたり、高温で、長時間
にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低かっ
たり、あるいは適用可能な基材の種類が限定されるとい
う問題が見られた。

【０００３】そこで、特開平７−９８４０１号公報や、
特開平９−２４９４１１号公報には、表面層（低屈折率
膜）に二酸化ケイ素等の微粒子を露出させた状態で添加
し、所定の表面凹凸を形成した反射防止膜が開示されて
いる。しかしながら、いずれも表面層における表面凹凸
と厚さとの関係を考慮しておらず、また、下地としての
高屈折率膜の表面凹凸についても、何ら着目していなか
った。そのため、耐擦傷性、反射防止性、透明性のそれ
ぞれのバランスに優れた反射防止膜を得ることができな
かった。

【０００４】また、特開平８−９４８０６号公報に開示
されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バイン
ダー樹脂中に局在化させた高屈折率膜と、フッ素系共重
合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能性
フィルムが提案されている。より具体的には、高屈折率
膜を形成するのに、２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子等
の微粒子層を工程紙上に予め形成しておき、それを基材
上の高屈折率バインダー樹脂に対して圧接することによ
り、高屈折率バインダー樹脂中に微粒子層を埋設して、
局在化させている。また、低屈折率膜については、フッ
化ビニリデン３０〜９０重量％およびヘキサフルオロプ
ロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共
重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であ
るフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽
和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部と、これ
らの合計量を１００重量部としたときに、０．５〜１０
重量部の重合開始剤とからなる樹脂組成物を硬化して、
膜厚２００ｎｍ以下の薄膜としている。

【０００５】さらに、ガスバリア性と反射防止性を有す
るように設計された積層体も知られており、例えば、特
開平７−３３４０４号公報においては、凹凸のある高屈
折層上にシリカ膜を形成したガスバリア性を有する防眩
性反射防止フィルムが開示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
８−９４８０６号公報に開示された光学機能性フィルム
は、高屈折率膜の製造工程が複雑であり、結果として均
一な特性を示す光学機能性フィルムを作成することが困
難であった。また、かかる光学機能性フィルムは、低屈
折率膜における表面粗さと、膜厚との関係、および高屈
折率膜における表面粗さの値を考慮しておらず、低屈折
率膜の耐擦傷性が乏しいという問題が見られた。すなわ
ち、屋外で使用される場合が増加し、砂などによる摩耗
を想定した耐擦傷性の評価試験である耐スチールウール
性が要求されているが、特開平８−９４８０６号公報に
開示された光学機能性フィルムは、かかる特性について
も満足するものではなかった。さらに、かかる光学機能
性フィルムは、低屈折率膜と、高屈折率膜との相性が良
好でなく、反射防止性や、透明性が不十分であるという
問題点が見られた。また、特開平７−３３４０４号公報
に開示された防眩性反射防止フィルムにおいては、光が
乱反射する大きな凹凸形状に加工した上に、気相法でシ
リカ膜を形成して反射防止機能をもたせるため、ヘイズ
値が大きく、表示パネルとして用いた場合に、画質に乏
しいという問題があった。また、かかる防眩性反射防止
フィルムは、気相法でシリカ膜を形成するために、生産
性が低いという製造上の問題点も見られた。さらに、上
述したように、屋外で使用される場合が増加し、高度の
耐擦傷性が求められているものの、特開平７−３３４０
４号公報に開示された防眩性反射防止フィルムは、かか
る特性についても満足するものではなかった。

【０００７】そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した
結果、表面側の第１層と、これに下方で接する第２層と
を含む構造体において、第１層の表面粗さ（Ｒ１）と、
膜厚（Ｄ１）との関係を考慮することにより、あるいは
第１層の表面粗さ（Ｒ１）と、膜厚（Ｄ１）との関係お
よび高屈折率膜における表面粗さの値（Ｒ２）を考慮す
ることにより、上述した問題を解決できることを見出し
た。すなわち、本発明は、簡易な構造でありながら、耐
擦傷性や透明性に優れた構造体（耐擦傷性構造体や透明
性構造体と称する場合がある。）を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、表面側
の第１層と、これに下方で接する第２層とを含む構造体
において、第１層の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１
に準拠）をＲ１（μｍ）とし、第１層の膜厚をＤ１（μ
ｍ）としたときに、当該Ｒ１を２μｍ以下の値とすると
ともに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値
とした構造体が提供され、上述した問題を解決すること
ができる。すなわち、第１層の表面粗さ（Ｒ１）および
膜厚（Ｄ１）との関係をこのように考慮していることか
ら、第１層での光の散乱を有効に防止することができ
る。したがって、可視光域における光透過率（全光線透
過率）を高い値とすることができ、透明性に優れた構造
体を提供することができる。また、第１層が適度な表面
粗さを有していることから、外部から応力（摩擦力）が
与えられた場合に、第１層における耐擦傷性を向上させ
ることができる。

【０００９】また、本発明の別な態様によれば、表面側
の第１層と、これに下方で接する第２層とを含む構造体
において、第１層の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１
に準拠）をＲ１（μｍ）とし、第２層の表面粗さＲｚ
（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）をＲ２（μｍ）とし、第
１層の膜厚をＤ１（μｍ）としたときに、当該Ｒ１を２
μｍ以下の値とし、Ｒ２をＲ１以上の値であって、かつ
０．０１〜２μｍの範囲内の値とするとともに、Ｒ１／
Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値とした構造体が
提供され、上述した問題を解決することができる。すな
わち、表面側に位置する第１層の表面粗さ（Ｒ１）およ
び膜厚（Ｄ１）との関係、並びに第２層の表面粗さの値
（Ｒ２）をこのように考慮することにより、第２層の表
面に設けられた凹凸が、第１層中に適度に入り込むこと
になる。そのため、第１層における耐擦傷性を著しく向
上させることができる。また、第１層の表面粗さ（Ｒ
１）および膜厚（Ｄ１）との関係をこのように考慮して
いることから、第１層での光の散乱を有効に防止するこ
とができる。

【００１０】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、Ｒ１／Ｒ２の比率を０．０５〜１の範囲内の値とす
ることが好ましい。第２層の表面粗さ（Ｒ２）が、第１
層の表面粗さ（Ｒ１）に影響するため、このようにＲ１
／Ｒ２を関係付けることにより、第１層における耐擦傷
性をさらに向上させることができる。

【００１１】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．０６〜２の範囲内の値とす
ることが好ましい。このように第２層の表面粗さ（Ｒ
２）と、第１層の厚さ（Ｄ１）を関係付けることによ
り、第２層の表面に設けられた凹凸が、第１層中に確実
に入り込むことになり、第１層における耐擦傷性をさら
に向上させることができる。

【００１２】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、第１層の屈折率（ｎ１）を１．３５〜１．５０の範
囲内の値とし、第２層の屈折率（ｎ２）を１．４５〜
２．１０の範囲内の値とするとともに、第１層および第
２層の屈折率が、ｎ１＜ｎ２の関係を満足することが好
ましい。このように第１層および第２層の屈折率の値を
制限することにより、反射防止膜等の用途において、優
れた耐擦傷性を得ることができる。

【００１３】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、第２層の下方に、ハードコート層を設けることが好
ましい。このようにハードコート層が形成してあると、
第２層を強固に固定することができ、したがって、かか
る第２層が内部に入り込んだ第１層においても、耐擦傷
性をより向上させることができる。

【００１４】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、第１層および第２層、あるいはいずれか一方の層
に、数平均粒子径が０．００５〜０．５μｍの粒子を含
有することが好ましい。このように第１層および第２層
あるいはいずれか一方の層に、所定粒子径の粒子を添加
することにより、第１層および第２層における表面粗さ
（Ｒ１およびＲ２）の調節がより容易となる。

【００１５】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、第１層が、フッ素化合物およびケイ素化合物、ある
いはいずれか一方の化合物を含有することが好ましい。
このように第１層の構成材料を選択することにより、反
射防止膜等の用途において、優れた反射防止効果を得る
ことができる。また、本発明の構造体であれば、このよ
うに耐擦傷性に乏しい材料を用いた場合であっても、優
れた耐擦傷性が得られるという利点がある。

【００１６】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、第１層および第２層、あるいはいずれか一方の層
が、紫外線硬化物あるいは電子線硬化物であることが好
ましい。このように第１層および第２層あるいはいずれ
か一方の層の硬化方法を制限することにより、反射防止
膜等の用途において、製造が迅速かつ容易となる。

【００１７】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、
ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリ
エーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ノルボ
ルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およびガラスから
なる群から選択される少なくとも一種の材料からなる基
板を含むことが好ましい。このように第２層の下方に特
定の基板を設けることにより、反射防止膜等の用途にお
いて、優れた機械的強度や耐久性を得ることができる。

【００１８】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、水酸基含有高分子を含むガスバリア層を有すること
が好ましい。このように構成することにより、ガスバリ
ア性が要求される用途、例えば、包装容器、食品フィル
ム、酸素バリアフィルム、あるいは液晶表示パネル、冷
陰極線管パネル、プラズマディスプレー、太陽電池用パ
ネルなどの各種表示パネルにおいて、耐擦傷性や透明性
に優れた構造体を提供することができる。

【００１９】また、本発明の構造体を構成するにあた
り、反射防止膜積層体、防汚膜、撥水膜、電子部品、光
学部品、包装容器、または帯電防止膜の一部品として形
成してあることが好ましい。このような用途において、
本発明の構造体が設けてあれば、優れた耐擦傷性や透明
性を発揮することができる。すなわち、これらの用途に
おいては、表面に耐擦傷性や透明性に乏しいフッ素化合
物や、シリコーン化合物からなる塗膜が設けられること
が多いが、本発明の構造体によれば、これらの化合物を
用いた場合であっても、優れた耐擦傷性や透明性を得る
ことができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の構造体における実施形態
は、図１に示すように、基材１２上に、高屈折率膜（第
２層）１０と低屈折率膜（第１層）１４とを順次に含む
反射防止膜積層体１６である。また、かかる実施形態の
変形例として、図２に示すように、基材１２と高屈折率
膜２０との間にハードコート層１８を介在させた反射防
止膜積層体２４であることも好ましい。そして、本発明
の反射防止膜積層体に関する実施形態は、低屈折率膜
（第１層）の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準
拠。ただし、評価長さについてはＪＩＳ Ｂ０６０１に
準拠しない場合がある。以下、同様である。）をＲ１
（μｍ）とし、低屈折率膜の膜厚をＤ１（μｍ）とした
ときに、当該Ｒ１を２μｍ以下の値とするとともに、Ｒ
１／Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値とした構造
体であるか、あるいは、さらに、高屈折率膜（第２層）
の表面粗さＲｚ（ＪＩＳＢ０６０１に準拠）をＲ２（μ
ｍ）としたときに、Ｒ１を２μｍ以下の値とし、Ｒ２を
Ｒ１以上の値であって、かつ０．０１〜２μｍの範囲内
の値とするとともに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜２
の範囲内の値とした構造体である。以下、本発明の構造
体につき、反射防止膜積層体を例に採って、具体的に説
明する。したがって、以下の説明において、低屈折率膜
が本発明の第１層に該当し、高屈折率膜が本発明の第２
層に該当する。

【００２１】１．Ｒ１／Ｄ１の比率 Ｒ１／Ｄ１を０．０１〜２の範囲内の値とする理由は、
かかるＲ１／Ｄ１の比率が、０．０１未満の値となる
と、低屈折率膜の膜厚が相対的に厚くなり、高屈折率膜
の表面粗さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低
下するためである。一方、かかるＲ１／Ｄ１の比率が２
を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大
きくなって、光散乱が生じやすくなり、結果として、反
射率や、透明性が低下する場合があるためである。した
がって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１４〜１の範囲内の
値とすることが好ましく、０．０１４〜０．８の範囲内
の値とすることがさらに好ましい。

【００２２】次に、耐擦傷性および全光線透過率に対す
るＲ１／Ｄ１の比率の影響について、図３を参照してよ
り詳細に説明する。図３は、実施例（第１層：低屈折率
膜、第２層：高屈折率膜、第３層：ハードコート層）の
表１に示す結果に基づいており、横軸にＲ１／Ｄ１の比
率を採ってあり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示
してあり、右縦軸に全光線透過率の値（％、ＪＩＳ Ｋ
７１０５、測定法Ａに準拠、以下、同様である。）を採
って示してある。図３中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示
すが、Ｒ１／Ｄ１の比率が０〜０．１６の範囲では、か
かる比率が大きいほど耐擦傷性の評価点が向上すること
が理解される。また、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．０８以上
であれば、許容範囲である評価点３以上の耐擦傷性が得
られることが理解される。一方、Ｒ１／Ｄ１の比率が
０．１６〜０．８の範囲では、すべて耐擦傷性の評価点
は５である。したがって、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．１６
以上の値にすることにより、安定して優れた耐擦傷性が
得られることが理解される。

【００２３】また、図３中、曲線Ｂが全光線透過率の変
化を示すが、耐擦傷性の評価とほぼ同様の傾向をもって
変化することが理解される。なお、図４に、Ｒ１／Ｄ１
の比率と、反射率との関係を曲線Ｂで示すが、Ｒ１／Ｄ
１の比率が０．１６未満では、反射率の値が大きくな
り、一方、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．８程度となると、再
び反射率の値が若干大きくなり、低屈折率膜表面での光
散乱の影響を示唆しているものと考えられる。したがっ
て、図４に示す結果は、図３における結果と一致するこ
とが理解される。

【００２４】２．Ｒ１／Ｒ２の比率 また、本発明の実施形態において、Ｒ１／Ｒ２の比率を
０．００５〜１の範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかるＲ１／Ｒ２の比率が、０．００５未満
の値となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗
さの影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下するた
めである。一方、かかるＲ１／Ｒ２の比率が、１を超え
ると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大きくな
り、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射率や、
透明性が低下する場合があるためである。したがって、
Ｒ１／Ｒ２の比率を０．０１〜１の範囲内の値とするこ
とが好ましく、０．２〜１の範囲内の値とすることがさ
らに好ましい。

【００２５】この点、図５を参照してより詳細に説明す
る。図５は、横軸にＲ１／Ｒ２の比率を採ってあり、左
縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、右縦軸に
全光線透過率の値（％）を採って示してある。図５中、
曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｒ１／Ｒ２の比率が
０〜０．２の範囲では、かかる比率が大きいほど耐擦傷
性の評価点が向上することが理解される。一方、Ｒ１／
Ｒ２の比率が０．２〜１の範囲では、すべて耐擦傷性の
評価点は５である。したがって、Ｒ１／Ｒ２の比率を
０．２以上にすることにより、安定して優れた耐擦傷性
が得られることが理解される。また、図５中、曲線Ｂが
全光線透過率の変化を示すが、耐擦傷性の評価とほぼ同
様の傾向をもって変化することが理解される。ただし、
Ｒ１／Ｒ２の比率が０．２〜１の範囲では、Ｒ１／Ｒ２
の比率が０．２における全光線透過率と比較して、若干
低下している傾向が見られる。これは、Ｒ１／Ｒ２の比
率が大きくなるにつれて、低屈折率膜における表面粗さ
が相対的に大きくなり、光散乱が生じやすくなったため
と思われる。

【００２６】３．Ｒ２／Ｄ１の比率 また、本発明の実施形態において、Ｒ２／Ｄ１の比率を
０．０６〜２の範囲内の値とすることが好ましい。この
理由は、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、０．０６未満の値
となると、低屈折率膜に対する高屈折率膜の表面粗さの
影響が発揮されずに、耐擦傷性が著しく低下する場合が
あるためである。一方、かかるＲ２／Ｄ１の比率が、２
を超えると、低屈折率膜における表面粗さが相対的に大
きくなり、光散乱が生じやすくなり、結果として、反射
率や、透明性が低下する場合があるためである。したが
って、Ｒ２／Ｄ１の比率を０．２〜２の範囲内の値とす
ることが好ましく、０．４〜１．５の範囲内の値とする
ことがさらに好ましい。

【００２７】この点、図８を参照してより詳細に説明す
る。図８は、横軸にＲ２／Ｄ１の比率を採ってあり、左
縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、右縦軸に
全光線透過率の値（％）を採って示してある。図８中、
曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｒ２／Ｄ１の比率が
０．０２〜０．２の範囲では、かかる比率が大きいほど
耐擦傷性の評価点が向上することが理解される。一方、
Ｒ２／Ｄ１の比率が０．２〜１．２の範囲では、すべて
耐擦傷性の評価点は５である。したがって、Ｒ２／Ｄ１
の比率を０．２以上にすることにより、安定して優れた
耐擦傷性が得られることが理解される。また、図８中、
曲線Ｂが全光線透過率の変化を示すが、耐擦傷性の評価
とほぼ同様の傾向をもって変化することが理解される。

【００２８】４．低屈折率膜（第１層） （１）低屈折率膜用硬化性組成物１ 低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物
としては、特に制限されるものでないが、主成分とし
て、フッ素系樹脂（フッ素化合物含む。）、シロキサン
系樹脂（シリコーン樹脂や、ポリシラザン樹脂を含
む。）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタ
ン系樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせを含
むことが好ましい。これらの樹脂であれば、低屈折率膜
として、強固な薄膜を形成することができ、結果とし
て、低屈折率膜の耐擦傷性を著しく向上させることがで
きるためである。また、これらの樹脂であれば、低屈折
率膜における屈折率の値の調節が比較的容易なためであ
る。

【００２９】（２）低屈折率膜用硬化性組成物２ 低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物
としては、熱硬化性、光硬化性等のいずれの硬化性組成
物であっても良いが、製造が容易であることから、熱硬
化性の含フッ素組成物であることが好ましい。そして、
このような含フッ素組成物の一例として、以下の（ａ）
〜（ｄ）成分から構成された含フッ素組成物を挙げるこ
とができる。 （ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤 （ｃ）硬化触媒 （ｄ）有機溶剤

【００３０】（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ａ）成分としては、分子内に水酸基を有する含フッ素
共重合体であれば、好適に使用することができる。より
具体的には、フッ素原子を含有する単量体と、水酸基を
含有する単量体とを共重合して得ることができる。ま
た、必要に応じて、これらの単量体以外のエチレン性不
飽和単量体を添加することも好ましい。フッ素原子を含
有する単量体としては、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリ
フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフル
オロエチレン、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、
（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル、パー
フルオロ（アルキルビニルエーテル）、パーフルオロ
（アルコキシビニルエーテル）、フッ素含有（メタ）ア
クリル酸エステル等の一種単独または二種以上の組み合
わせが挙げられる。なお、フッ素原子を含有する単量体
の配合量は特に制限されるものではないが、１０〜９９
モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好まし
くは、１５〜９７モル％の範囲内の値である。

【００３１】また、水酸基を含有する単量体としては、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピル
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒ
ドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリ
ルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の
組み合わせが挙げられる。なお、水酸基を含有する単量
体の配合量は特に制限されるものではないが、１〜２０
モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好まし
くは、３〜１５モル％の範囲内の値である。

【００３２】（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有す
る熱硬化剤 水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤（以下、単
に熱硬化剤と称する場合がある。）としては、分子内に
メチロール基およびアルコキシ化メチル基あるいはいず
れか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用するこ
とが好ましい。より具体的には、ヘキサメチルエーテル
化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテル化
メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エーテル
化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メチロ
ールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロールメラ
ミン化合物等のメチル化メラミン化合物等がより好まし
い。また、熱硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フッ
素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる熱
硬化剤の添加量が、１重量部未満となると、水酸基を有
する含フッ素共重合体の硬化が不十分となる場合がある
ためであり、一方、７０重量部を超えると、低屈折率膜
用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるため
である。

【００３３】（ｃ）硬化触媒 硬化触媒としては、水酸基含有重合体と硬化剤との間の
反応を促進するものであれば、好適に使用することがで
きるが、高屈折率用硬化性組成物における硬化触媒と同
様の硬化触媒を使用することが好ましい。このような硬
化剤としては、有機酸、無機酸およびこれらと塩基性化
合物との塩をもちいることができ、パラトルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸、蓚酸、蟻酸、酢酸などの有機
酸、塩酸、リン酸、硝酸、硫酸などの無機酸、及び、こ
れらのアンモニウム塩を挙げることができる。また、硬
化触媒の添加量についても特に制限されるものでは無い
が、上述した水酸基を有する含フッ素共重合体と、水酸
基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤との合計量を１
００重量部としたときに、当該硬化触媒の添加量を０．
１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この
理由は、かかる硬化触媒の添加量が０．１重量部未満と
なると、硬化触媒の添加効果が発現しない場合があるた
めであり、一方、硬化触媒の添加量が３０重量部を超え
ると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下す
る場合があるためである。

【００３４】（ｄ）有機溶剤 低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤として
は、後述する高屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機
溶剤と同様の種類を使用することが好ましい。また、有
機溶剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１
００重量部に対して、５００〜１０，０００重量部の範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる有
機溶剤の添加量が５００重量部未満となると、均一な膜
厚を有する低屈折率膜を形成することが困難となる場合
があるためであり、一方、１０，０００重量部を超える
と、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する
場合があるためである。

【００３５】（３）表面粗さ 低屈折率膜における表面粗さ（Ｒ１＝ＪＩＳ Ｂ０６０
１に準拠したＲｚ）を２μｍ以下の値とすることが好ま
しい。この理由は、かかる表面粗さ（Ｒ１）が、２μｍ
を超えると、耐擦傷性が著しく低下する場合があるため
である。したがって、表面粗さ（Ｒ１）を１．４μｍ以
下の値とすることがより好ましく、０．０２〜１μｍの
範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００３６】（４）屈折率 低屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定
温度２５℃）を１．３５〜１．５０の範囲内の値とする
のがより好ましい。この理由は、かかる屈折率が１．３
５未満の値となると、使用可能な材料の種類が過度に制
限される場合があり、一方１．５を超えると、高屈折率
膜と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下す
る場合があるためである。したがって、低屈折率膜の屈
折率を、より好ましくは１．３５〜１．４５の範囲内の
値とすることであり、１．３５〜１．４２の範囲内の値
とすることがさらに好ましい。

【００３７】また、低屈折率膜を設ける場合、より優れ
た反射防止効果が得られることから、高屈折率膜との間
の屈折率差を０．０５以上の値とするのが好ましい。こ
の理由は、低屈折率膜と、高屈折率膜との間の屈折率差
が０．０５未満の値となると、これらの反射防止膜層で
の相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する
場合があるためである。したがって、低屈折率膜と、高
屈折率膜との間の屈折率差を０．１〜０．５の範囲内の
値とするのがより好ましく、０．１５〜０．５の範囲内
の値とするのがさらに好ましい。

【００３８】（５）膜厚 また、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）についても特に制限さ
れるものではないが、２μｍ以下の値とすることが好ま
しい。この理由は、かかる低屈折率膜の膜厚が２μｍを
超えると、高屈折率膜における表面粗さ（Ｒ２）を低屈
折率膜に反映する効果が低下する場合があるためであ
る。ただし、低屈折率膜の膜厚が過度に薄くなると、塗
膜強度や耐擦傷性が低下する場合がある。したがって、
低屈折率膜の膜厚を０．０２〜１μｍの範囲内の値とす
ることが好ましく、０．０３〜０．５μｍの範囲内の値
とすることがより好ましく、０．０４〜０．３μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。また、このよう
な関係を容易に理解できるように、図６に、低屈折率膜
の膜厚（Ｄ１）と、耐擦傷性および反射率との関係を示
す。図６は、横軸にＤ１の膜厚（μｍ）を採って示して
あり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示してあり、
右縦軸に反射率の値（％）を採って示してある。図６
中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、Ｄ１の値が０．
０５〜０．１５μｍの範囲では、安定して優れた耐擦傷
性が得られることが理解される。また、図６中、曲線Ｂ
が反射率の変化を示すが、Ｄ１の値が０．０５〜０．１
５μｍの範囲では、安定して優れた反射率の値が得られ
ることが理解される。なお、低屈折率膜の膜厚（Ｄ１）
は、例えば、図９〜図１０に示す電子顕微鏡写真の断面
における低屈折率膜の粗さ曲線の平均線と、下地として
の高屈折率膜の粗さ曲線の平均線との距離から算出され
る値である。

【００３９】（６）形成方法 低屈折率膜を形成するにあたり、低屈折率膜用硬化性組
成物を高屈折率膜に対して塗布（コーティング）して、
低屈折率膜形成用の塗膜を形成することが好ましい。こ
のようなコーテイング方法としては、特に制限されるも
のでないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バ
ーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテ
ンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、ま
たはインクジェット法等のコーテイング方法を用いるこ
とができる。次いで、高屈折率膜の一部と反応させて、
全体として強固な塗膜を形成できることから、低屈折率
膜用硬化性組成物からなる塗膜を熱硬化することが好ま
しい。この場合、３０〜２００℃、０．１〜１８０分間
の条件で加熱するのが好ましい。この理由は、このよう
な加熱条件であれば、基材や形成される反射防止膜を損
傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた反射
防止膜積層体を得ることができるためである。したがっ
て、低屈折率膜を形成する際の加熱条件としては、５０
〜１６０℃で、０．２〜１２０分間の条件で加熱するこ
とがより好ましく、６０〜１４０℃で、０．５〜６０分
間の条件で加熱することがさらに好ましい。

【００４０】５．高屈折率膜（第２層） （１）高屈折率膜用硬化性組成物１ 高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用硬化性組成物
としては、特に制限されるものでないが、被膜形成成分
として、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、メラミン
系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル
系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキ
サン樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせを含
むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率膜
として、強固な薄膜を形成することができ、結果とし
て、構造体の耐擦傷性を著しく向上させることができる
ためである。しかしながら、通常、これらの樹脂単独で
の屈折率は１．４５〜１．６２であり、高い反射防止性
能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折
率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することが
より好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外
線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることが
できるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組
成物が用いられる。

【００４１】（２）高屈折率膜用硬化性組成物２ また、高屈折率膜を形成するための高屈折率膜用硬化性
組成物として、以下の（Ａ）〜（Ｄ）成分を含むことが
好ましい。 （Ａ）平均粒子径が０．１μｍ以下の無機酸化物粒子 （Ｂ）光重合可能な官能基を有する化合物 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）有機溶剤

【００４２】（Ａ）無機酸化物粒子 （Ａ）成分としての無機酸化物粒子は、平均粒子径（数
平均粒子径、以下、同様である。）が０．１μｍ以下の
ものが好適に用いられる。この理由は、無機酸化物粒子
の平均粒子径が０．１μｍを超えると、構造体において
無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難となり、
また、製造時に、高屈折率膜用硬化性組成物において無
機酸化物粒子が沈降しやすくなり、保存安定性に欠ける
場合があるためである。また、無機酸化物粒子の平均粒
子径が０．１μｍを超えると、得られる反射防止膜の透
明性が低下したり、濁度（ヘイズ値）が上昇する場合が
あるためである。したがって、無機酸化物粒子の平均粒
子径を０．０８μｍ以下の値とするのがより好ましく、
０．０５μｍ以下の値とするのがさらに好ましい。な
お、無機酸化物粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡によっ
て測定される粒径の数平均値である。

【００４３】また、（Ａ）成分である無機酸化物粒子の
種類は、屈折率の調整の容易さや透明性等を考慮して決
定することが好ましいが、より具体的には、酸化ケイ素
（ＳｉＯ₂、１．４７）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂、
屈折率２．０５）、酸化スズ（ＳｎＯ₂、屈折率２．０
０）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率１．
９５）、酸化チタン（ＴｉＯ₂、屈折率２．３〜２．
７）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率１．９０）、スズドー
プ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率１．９５）、酸化セ
リウム（ＣｅＯ_２、屈折率２．２）、酸化セレン（Ｓｅ
Ｏ₂、屈折率１．９５）、酸化アンチモン（Ｓｂ₂Ｏ₅、
屈折率１．７１）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃、屈折
率１．６３）、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃、屈折率１．
８７）、およびアンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ、屈折率１．
９０）等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げ
られる。ただし、これらの無機酸化物粒子のうち、比較
的少量の添加で硬化後の屈折率の値を１．５以上の値に
容易に調節することができ、しかも帯電防止機能を付与
できることから、屈折率が１．９以上の金属酸化物粒子
を使用することが好ましい。具体的には酸化スズ、アン
チモンドープ酸化スズ、酸化亜鉛、スズドープ酸化イン
ジウム等を使用することが好ましい。また、耐擦傷性を
より高めることから、アンチモンドープ酸化スズ、酸化
亜鉛、スズドープ酸化インジウム、アンチモン酸亜鉛、
および酸化アルミニウムからなる群から選択される少な
くとも一種の無機酸化物粒子を添加することが好まし
い。

【００４４】また、無機酸化物粒子に対して、カップリ
ング剤処理することが好ましい。ここで、カップリング
処理とは、無機酸化物粒子とカップリング剤とを混合す
ることにより表面を改質する操作を意味し、物理吸着、
化学結合を形成する反応いずれを用いてもよいが、好ま
しくは、化学結合を形成する反応が好ましい。無機酸化
物粒子がカップリング剤処理してあることにより、高屈
折率膜（第２層）における無機酸化物粒子と有機樹脂間
の結合力を高めることができ、結果として、低屈折率膜
（第１層）における耐擦傷性を著しく向上させることが
できるためである。また、このようにカップリング剤処
理することにより、無機酸化物粒子の分散性を向上さ
せ、製造時における高屈折率膜用硬化性組成物の保存安
定性を向上させることも可能である。

【００４５】ここで、カップリング剤処理を実施するに
あたり、好ましいカップリング剤としては、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、等の分子内に不飽和二重結合を有する化合物群、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等の分子内にエ
ポキシ基を有する化合物群、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
などの分子内にアミノ基を有する化合物群、γ−メルカ
プトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシランなどの分子内にメルカプト基を
有する化合物群、メチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のア
ルキルシラン類、テトラブトキシシチタン、テトラブト
キシジルコニウム、テトライソプロポキシアルミニウム
等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられ
る。また、市販のカップリング剤としては、例えば、日
本ユニカー（株）製のA-1100、A-1102、A-1110、A-112
0、A-1122、Y-9669、A-1160、AZ-6166、A-151、A-171、
A-172、A-174、Y-9936、AZ-6167、AZ-6134、A-186、A-1
87、A-189、AZ-6129、A-1310、AZ-6189、A-162、A-16
3、AZ-6171、A-137、A-153、A-1230、A-1170、A-1289、
Y-5187、A-2171、Y-11597などや、東レダウコーニング
・シリコーン（株）製のSH6020、SH6023、SH6026、SZ60
30、SZ6032、AY-43-038、SH-6040、SZ-6050、SH6062、S
H6076、SZ6083、SZ6300などを挙げることができる。

【００４６】これらの中で、好ましいカップリング剤
は、有機樹脂と共重合もしくは架橋反応する官能基を有
する組み合わせが選ばれる。また、これら市販のカップ
リング剤以外のカップリング剤を製造して用いることが
できる。そのような例としてはγ-メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、イソホロンジイソシアネート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレートをチオウレタンお
よびウレタン結合を介して結合させた３官能性アクリル
シラン化合物を用いてもよい。なお、カップリング剤処
理量を、無機酸化物粒子１００重量部に対して、０．１
〜２００重量部の割合とすることが好ましく、１〜１０
０重量部の割合とすることがより好ましく、５〜５０重
量部の割合とすることがさらに好ましい。

【００４７】また、無機酸化物粒子の含有量を、全体量
に対して、１０〜９０ｖｏｌ％の範囲内の値とすること
が好ましい。この理由は、かかる無機酸化物粒子の含有
量が、１０ｖｏｌ％未満の値となると、高屈折率膜（第
２層）の表面粗さを調節することが困難となる場合があ
るためであり、結果として、低屈折率膜（第１層）の耐
擦傷性が低下する場合があるためである。一方、無機酸
化物粒子の含有量が、９０ｖｏｌ％を超えた値となる
と、高屈折率膜の機械的強度が低下し、結果として、低
屈折率膜の耐擦傷性が低下する場合があるためである。
したがって、無機酸化物粒子の含有量を２０〜７０ｖｏ
ｌ％の範囲内の値とすることがより好ましく、かかる無
機酸化物粒子の含有量を３０〜５０ｖｏｌ％の範囲内の
値とすることがさらに好ましい。

【００４８】（Ｂ）光重合可能な官能基を有する化合
物 （Ｂ）成分は、分子内に光重合可能な官能基を有する化
合物であれば、好適に使用することができる。そのよう
な光重合可能な官能基としてラジカル重合性基の例を挙
げると、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、などが
あり、カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセ
タン基、ビニルエーテル基、などを挙げることができ
る。これらは１種以上組み合わせて用いてもよい。ま
た、前述したカップリング剤の中からラジカルもしくは
カチオン重合性基を有する化合物を選ぶこともできる。
これらの中で、（メタ）アクリロイル基を有する化合物
が好適に用いられる。このような（メタ）アクリル化合
物としては、塗膜強度が強靱であることから多官能性ア
クリレート類が好ましく、そのような化合物としては、
例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサ（メタ）アクリレ−
ト、トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−
ト、ペンタエリスリト−ルテトラ（メタ）アクリレ−
ト、トリメチロ−ルプロパントリオキシエチル（メタ）
アクリレ−ト、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシ
アヌレ−トトリ（メタ）アクリレ−トがあり、市販品と
して、ＤＰＣＡ−２０、−３０、−６０、−１２０、Ｈ
Ｘ−２２０、−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３３０、ＤＰ
ＨＡ、ＫＡＹＡＭＥＲ−ＰＭ１、−ＰＭ２、−ＰＭ２１
（以上、日本化薬（株）製）等を挙げることができる。

【００４９】また、（Ｂ）成分の添加量を、（Ａ）成分
の無機酸化物粒子１００重量部に対して、１〜１００重
量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、
（Ｂ）成分の添加量が１重量部未満となると、得られる
高屈折率膜の基材に対する密着力が低下する場合がある
ためであり、一方、（Ｂ）成分の添加量が１００重量部
を超えると、相対的に無機酸化物粒子量が減少し、硬化
後における反射防止膜の屈折率の調整が困難となる場合
があるためである。したがって、（Ａ）成分１００重量
部に対し、（Ｂ）成分の添加量を３〜７０重量部の範囲
内の値とするのがより好ましく、５〜５０重量部の範囲
内の値とするのがより好ましい。

【００５０】（Ｃ）光重合開始剤 （Ｃ）成分としては、光ラジカル発生剤や、光酸発生剤
が挙げられる。また、（Ｃ）成分は、それぞれ単独で使
用することもできるが、光ラジカル発生剤と、光酸発生
剤とを併用してもよい。また、（Ｃ）成分の使用量も特
に制限されるものではないが、例えば、（Ｂ）成分１０
０重量部に対して、好ましくは０．１〜４０重量部、よ
り好ましくは１〜３０重量部の範囲内の値とすることで
ある。この理由は、（Ｃ）成分の使用量が０．１重量部
未満となると、（Ｃ）成分の硬化が不十分となる場合が
あるためである。一方、（Ｃ）成分の使用量が４０重量
部を超えると、（Ｃ）成分が可塑剤として働き、塗膜強
度が低下する場合があるためである。

【００５１】このような光重合開始剤の具体例を示す
と、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キ
サントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレ
ン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾー
ル、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェ
ノン、４,４’−ジメトキシベンゾフェノン、４,４’−
ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン
プロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジ
ルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサント
ン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２,
４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、ビス−（２,６−ジメトキシベンゾイル）−２,
４,４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドなどを
挙げることができる。

【００５２】また、光照射により酸を発生する化合物、
すなわち、光酸発生剤もカチオン重合性の有機樹脂、モ
ノマーと併用することで硬化被膜を形成することが可能
である。このような光酸発生剤としては、有機オニウム
塩の化合物が好ましく、例えば、ヘキサフリオロアンチ
モネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート
塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロア
ルザネート塩などがあり、市販品としてはユニオンカー
バイド社製のサイラキュアUVI―6970、UVI―6974、UVI
―6990、日本曹達（株）製のCIT-1682、サートマー社製
のCD-1010、CD-1011、CD-1012、旭電化工業（株）製のS
P-170、SP-171、SP-172などを挙げることができる。

【００５３】これらの中で好ましい例は、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−１−〔４
−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プロパ
ン−１−オン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキシ
ベンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルホスフィ
ンオキシドである。また、これらの光重合開始剤の市販
品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５
１、５００、９０７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５
０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒ
１１１６、１１７３（以上、チバスペシャルティケミカ
ルズ（株）製）；ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、ＬＲ８７２８
（ＢＡＳＦ社製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）な
どが挙げられる。好ましい例を挙げると、Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒ
ｅ９０７、Ｄａｒｏｃｕｒ１１７３、ＬｕｃｉｒｉｎＴ
ＰＯである。

【００５４】（Ｄ）有機溶剤 また、高屈折率膜用硬化性樹脂組成物においては有機溶
剤を配合することができ、例えば、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
チルアセトンなどのケトン類、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール
などのアルコール類、エチルセルソルブ、ブチルセロソ
ルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの
エーテル基含有アルコール類、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチルなどのヒドロキシエステル類、およびア
セト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸ブチル
などのβ―ケトエステル類、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類などからなる群から選択される少なく
とも一種の有機溶剤を使用することが好ましい。これら
の中で、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセチルアセトンなどのケトン
類が好ましい。このような有機溶剤を使用することによ
り、高屈折率膜用硬化性組成物から高屈折率膜を形成す
る際に、かかる高屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）の
制御がさらに容易となる。

【００５５】また、（Ｄ）成分の添加量についても特に
制限されるものではないが、高屈折率硬化性組成物中２
０〜９９．５重量％、好ましくは、５０〜９９重量％と
なる範囲で用いられる。この理由は、（Ｄ）成分の添加
量が２０重量％未満となると、高屈折率膜用硬化性組成
物の粘度が増加して塗布性が低下する場合があるためで
あり、一方、９９．５重量％を越えると形成される高屈
折層の膜厚が薄すぎて十分な耐擦傷性が発現しない場合
があるためである。

【００５６】その他 高屈折率膜用硬化性組成物には、本発明の目的や効果を
損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重合
開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、
可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、無機
充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させること
も好ましい。

【００５７】（３）高屈折率膜用硬化性組成物３ また、高屈折率膜を形成するための別な高屈折率膜用硬
化性組成物として、以下の（ａ−１）および（ａ−２）
を有機溶媒中で反応させて得られる硬化性組成物も挙げ
られる。 （ａ−１）１次粒子径が０．１μｍ以下で、粉体抵抗が
１００Ω・ｃｍ以下の屈折率が１．９以上の導電性金属
酸化物粒子 （ａ−２）シランカップリング剤として、分子内にウレ
タン結合［−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］およびチオウレタ
ン結合［−Ｓ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］、あるいはいずれか
一方のウレタン結合と、不飽和ニ重結合とを有するアル
コキシシラン化合物このような高屈折率膜用硬化性組成
物であれば、帯電防止性、透明性、硬度、耐擦傷性、お
よび密着性に優れるとともに、高屈折率の塗膜（被膜）
を形成することができる。

【００５８】（４）表面粗さ（Ｒ２） 高屈折率膜（第２層）における表面粗さＲ２（ＪＩＳ
Ｂ０６０１に準拠のＲｚ）を０．０１〜２μｍの範囲内
の値とする。この理由は、かかるＲ２が、０．０１μｍ
未満の値となると、低屈折率膜と高屈折率膜との接触面
積が少なくなり、耐擦傷性が著しく低下するためであ
る。一方、かかるＲ２が２μｍを超えると、低屈折率膜
における表面粗さが相対的に大きくなり、光散乱が生じ
やすくなり、結果として、反射率や、透明性が低下する
ためである。したがって、Ｒ２を０．０５〜１μｍの範
囲内の値とすることが好ましく、０．０２〜０．５μｍ
の範囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５９】（５）屈折率 また、高屈折率膜における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折
率、測定温度２５℃）を１．４５〜２．１の範囲内の値
とするのがより好ましい。この理由は、かかる屈折率が
１．４５未満の値となると、低屈折率膜と組み合わせた
場合に、反射防止効果が著しく低下する場合があるため
であり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過
度に制限される場合があるためである。したがって、低
屈折率膜の屈折率を、より好ましくは１．５５〜２．０
の範囲内の値とすることであり、１．６〜１．９の範囲
内の値とすることがさらに好ましい。

【００６０】（６）膜厚 高屈折率膜の膜厚（Ｄ２）は、特に制限されるものでは
ないが、０．０１〜５０μｍの範囲内の値であることが
好ましい。この理由は、かかる高屈折率膜の膜厚が０．
０１μｍ未満となると、低屈折率膜と組み合わせた場合
に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下して、低
屈折率膜における耐擦傷性についても低下する場合があ
るためである。一方、高屈折率膜の膜厚が５０μｍを超
えると、高屈折率膜における光吸収が大きくなり、光透
過率が低下する場合があるためである。したがって、高
屈折率膜の膜厚を０．０２〜１０μｍの範囲内の値とす
るのがより好ましく、０．０５〜２μｍの範囲内の値と
するのがさらに好ましく、０．０５〜０．２μｍの範囲
内の値とするのが特に好ましい。

【００６１】また、このような関係を容易に理解できる
ように、図７に、高屈折率膜の膜厚（Ｄ２）と、高屈折
率膜における耐擦傷性、および全光線透過率との関係を
それぞれ示す。図７は、横軸にＤ２の膜厚（μｍ）を採
って示してあり、左縦軸に耐擦傷性の評価点を採って示
してあり、右縦軸に全光線透過率の値（％）を採って示
してある。図７中、曲線Ａが耐擦傷性の変化を示すが、
Ｄ２の値が０．０５〜１μｍの範囲では、安定して優れ
た耐擦傷性が得られることが理解される。また、図７
中、曲線Ｂが全光線透過率の変化を示すが、Ｄ２の値が
０．１μｍから１μｍへと増加すると、全光線透過率の
値が若干低下する傾向が見られる。この理由は、Ｄ２の
値が増加したことにより、高屈折率膜における光吸収が
増加したためと理解される。なお、高屈折率膜の膜厚
は、低屈折率膜と同様に測定することができる。例え
ば、図９〜図１０に示す断面の顕微鏡写真において、高
屈折率膜におけるＪＩＳＢ０６０１に規定される粗さ曲
線の平均線と、下地としてのハードコート層の粗さ曲線
の平均線との距離から算出される値である。

【００６２】（７）形成方法 形成方法１ 高屈折率膜を形成するに際して、高屈折率膜用の塗膜を
形成した後、高屈折率膜用硬化性組成物を紫外線硬化ま
たは電子線硬化することが好ましい。この場合、例え
ば、紫外線照射装置（メタルハライドランプや、高圧水
銀ランプ等）を用い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ²の光
照射条件とすることが好ましい。この理由は、このよう
な照射条件であれば、十分硬化した高屈折率膜が得られ
る一方、製造時間が過度に長くなることが無いためであ
る。したがって、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ²
とすることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ²とす
ることがさらに好ましい。また、電子線照射の場合は、
酸素を低減した不活性ガスの雰囲気下、加圧電圧１０〜
３００ｋＶ、電子密度０．０２〜０．３０ｍＡ／ｃ
ｍ²、線量１〜１０ＭＲａｄで行われる。なお、高屈折
率膜用硬化性組成物中の粒子の種類、平均粒子径、粒子
の添加量、溶剤種、あるいは高屈折率膜の膜厚等の条件
を適宜変更することにより、光照射するだけで高屈折率
膜の表面に凹凸を設けることが可能である。

【００６３】形成方法２ 高屈折率膜を形成する工程において、複数回塗りを実施
することが好ましい。この理由は、同じ膜厚の高屈折率
膜を形成することを想定した場合、一度で塗布形成する
と、無機酸化物粒子が膜内で沈降し、表面凹凸を形成す
ることが困難となる場合があるためである。すなわち、
複数回塗りを実施することにより、無機酸化物粒子を表
面に突出または露出させることが容易となるため、高屈
折率膜表面に精度良く凹凸を形成することができる。こ
の際、複数回塗りの最終回の膜厚を相対的に薄くするこ
とが好ましい。したがって、例えば、５．０μｍの膜厚
の高屈折率膜を形成する場合、一度塗りで高屈折率膜を
形成するのではなく、一旦、４．９μｍの膜厚の高屈折
率膜を形成したのち、さらにその上に０．１μｍの高屈
折率膜を形成するように、複数回に分けて高屈折率膜を
形成することが好ましい。

【００６４】６．ハードコート層 反射防止膜積層体を構成するにあたり、高屈折率膜（第
２層）の下方にハードコート層（第３層と称する場合が
ある。）を設けることが好ましい。このようにハードコ
ート層を設けることにより、高屈折率膜（第２層）を強
固に固定することができる。したがって、かかる高屈折
率膜が内部に侵入した低屈折率膜（第１層）において
も、ハードコート層の働きにより、耐擦傷性をより向上
させることができる。また、ハードコート層の構成材料
についても特に制限されるものでないが、シロキサン樹
脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの
一種単独または二種以上の組み合わせを挙げることがで
きる。これらの中で高い高度を有する材料としては、例
えば、特開昭６３−１１７０７４に示されるアルキルア
ルコキシシランとコロイド状シリカとを親水性溶媒中で
反応させて得られる熱硬化型ハードコート組成物や、特
開平９−１００１１１に示される反応性シリカ粒子が分
散された紫外線硬化型のハードコート組成物や、ウレタ
ンアクリレートと多官能性アクリレートとを主成分とす
る公知の紫外線硬化型ハードコート組成物を挙げること
ができる。

【００６５】また、ハードコート層の膜厚を０．１〜５
０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由
は、ハードコート層の膜厚が０．１μｍ未満となると、
低屈折率膜を強固に固定することが困難となる場合があ
るためであり、一方、膜厚が５０μｍを超えると、製造
が困難となったり、あるいは、フィルム用途に用いた場
合に屈曲性が低下する場合があるためである。したがっ
て、ハードコート層の膜厚を０．５〜３０μｍの範囲内
の値とするのがより好ましく、１〜２０μｍの範囲内の
値とするのがさらに好ましい。

【００６６】７．ガスバリア層 反射防止膜積層体を製造するにあたり、高屈折率膜（第
２層）の下方にガスバリア層を設けることが好ましい。
このようにガスバリア層を設けることにより、酸素や水
蒸気の透過を著しく制限することができる。したがっ
て、反射防止膜積層体の耐久性はもちろんのこと、かか
る反射防止膜積層体が含まれる構成物品の耐久性を向上
させることができる。また、ガスバリア層の構成材料に
ついても特に制限されるものではないが、水酸基含有高
分子を含むことが好ましい。さらに、ガスバリア層の構
成材料としては、例えば、塩化ビニル樹脂、フッ素樹
脂、フッ素樹脂、エチレン/酢酸ビニル共重合体や、特
開平７−２６６４８５に開示されている金属アルコキシ
ドの加水分解物、多価イソシアネート化合物、及びメラ
ミン縮合物との組成物を挙げることができる。また、広
く当業界で実施されている金属アルミニウムの蒸着膜、
酸化ケイ素のプラズマＣＶＤ膜など気相法で形成される
無機膜を用いることができる。これらは一種単独または
二種以上の組み合わせを挙げることができる。

【００６７】また、ガスバリア層の膜厚を０．１〜１０
μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
ガスバリア層の膜厚が０．１μｍ未満となると、ガスバ
リア効果が低下する場合があるためであり、一方、膜厚
が１０μｍを超えると、製造時間が長時間になるため、
生産性の低下が問題となり、また、積層体の柔軟性が低
下する問題が発生する。したがって、ガスバリア層の膜
厚を０．５〜８μｍの範囲内の値とするのがより好まし
く、１〜５μｍの範囲内の値とするのがさらに好まし
い。

【００６８】８．基材 次に、高屈折率膜、あるいは必要に応じてハードコート
層等を設けるための基材について説明する。かかる高屈
折率膜等を設ける基材の種類は特に制限されるものでは
ないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリアセチルセル
ロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネー
ト樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート
樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およ
びガラス等からなる基材を挙げることができる。例え
ば、これらの基材を含む反射防止膜積層体とすることに
より、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示
部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等
の広範な反射防止膜等の利用分野において、反射防止効
果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明性が得ら
れ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得ることができ
る。また、例えば、これらの基材を含むガスバリア材と
することにより、トリアセチルセルロースなどの吸湿性
に問題のある透明基材を使用している液晶表示パネル用
偏光フィルムの等の利用分野において、ガスバリア性効
果により偏光フィルムの性能が安定する効果が得られ
る。また、水分、酸素により劣化しやすい太陽電池パネ
ルの長期耐久性が改善される。これらに加え、優れた耐
擦傷性や透明性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐
久性を得ることができる。

【００６９】

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、
本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるもので
はない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載の
ない限り重量部を意味している。

【００７０】［実施例１］ （１）低屈折率膜用硬化性組成物の調製 水酸基を有する含フッ素重合体の調製 内容積１．５リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オ
ートクレーブ内を窒素ガスで十分置換処理した後、酢酸
エチル５００ｇと、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）３
４．０ｇと、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶ
Ｅ）４１．６ｇと、パーフルオロプロピルビニルエーテ
ル（ＦＰＶＥ）７５．４ｇと、過酸化ラウロイル１．３
ｇと、シリコーン含有高分子アゾ開始剤（和光純薬工業
（株）製、商品名：ＶＰＳ１００１）７．５ｇと、反応
性乳化剤（旭電化工業（株）製、商品名：ＮＥ−３０）
１ｇとを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃
まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去し
た。次いで、ヘキサフロロプロピレン（ＨＦＰ）１１
９．０ｇをさらに仕込み、昇温を開始した。オートクレ
ーブ内の温度が７０℃に達した時点での圧力は、５．５
×１０⁵Ｐａを示した。その後、攪拌しながら、７０
℃、２０時間の条件で反応を継続し、圧力が２．３×１
０⁵Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反
応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放
出し、オートクレーブを開放し、固形分濃度３０．０重
量％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液を、
メタノールに投入し、ポリマーを析出させた後、メタノ
ールによりさらに洗浄し、５０℃で真空乾燥を行い、１
７０ｇの水酸基を有する含フッ素重合体を得た。

【００７１】得られた水酸基を有する含フッ素共重合体
について、固有粘度（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶
剤使用、測定温度２５℃）を測定したところ、０．２８
ｄｌ／ｇであった。また、かかる含フッ素重合体につい
て、ガラス転移温度を、ＤＳＣを用い、昇温速度５℃／
分、窒素気流中の条件で測定したところ、３１℃であっ
た。また、かかる含フッ素重合体について、フッ素含量
を、アリザリンコンプレクソン法を用いて測定したとこ
ろ、５１．７％であった。さらに、かかる含フッ素重合
体について、水酸基価を、無水酢酸を用いたアセチル法
により測定したところ、１０２ｍｇＫＯＨ／ｇであっ
た。

【００７２】低屈折率膜用硬化性組成物の調製 攪拌機付の容器内に、で得られた水酸基を有する含フ
ッ素共重合体１００ｇと、サイメル３０３（三井サイテ
ック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１
１．１ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫ
と称する。）３，７３６ｇとをそれぞれ添加し、１１０
℃、５時間の条件で攪拌し、水酸基を有する含フッ素共
重合体とサイメル３０３とを反応させた。次いで、キャ
タリスト４０４０（三井サイテック（株）製、固形分濃
度４０重量％）１１．１ｇをさらに添加し、１０分間攪
拌して、粘度１ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折
率膜用硬化性組成物（以下、塗布液Ａと称する場合があ
る。）を得た。

【００７３】なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物
から得られる低屈折率膜の屈折率を測定した。すなわ
ち、低屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ
（＃３）を用いて、シリコンウエファ上に塗工し、室温
で５分間風乾して、塗膜を形成した。次いで、熱風乾燥
器中において、１４０℃、１分間で塗膜を硬化させ、
０．３μｍの膜厚の低屈折率膜を形成した。得られた低
屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５
℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。
その結果、屈折率は１．４０であった。なお、膜厚の評
価は断面切片の透過型電子顕微鏡での観察より求め、界
面が平坦でない塗膜の膜厚はＪＩＳ Ｂ０６０１で規定
される粗さ曲線での測定長１μｍとして求めた平均線間
の距離で定義した。また、低屈折率膜における表面粗さ
（Ｒｚ）を、ＪＩＳＢ０６０１に準拠して測定した。す
なわち、硬化フィルムの断面切片を透過型電子顕微鏡で
の観察より求め、測定長１μｍでの低屈折率膜における
表面粗さ（Ｒｚ）として求めた。また、Ｒｚに面内での
方向性が有る場合は、水平面のｘ軸方向のＲｚｘとｙ軸
方向のＲｚｙの平均をＲｚとして定義した。得られた結
果を表１に示す。

【００７４】（２）高屈折率膜用硬化性組成物の調製 反応性アルコキシシランの製造 容器内のメルカプトプロピルトリメトキシシラン７．８
ｇと、ジブチルスズジラウレート０．２ｇとからなる溶
液に対し、イソホロンジイソシアネート２０．６ｇを、
乾燥空気中、５０℃、１時間の条件で滴下した後、６０
℃、３時間の条件で、さらに攪拌した。これにペンタエ
リスリトールトリアクリレート７１．４ｇを、３０℃、
１時間の条件で滴下した後、６０℃、３時間の条件で、
さらに攪拌し、反応液とした。この反応液中の生成物、
すなわち反応性アルコキシシランにおける残存イソシア
ネート量をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１重量％
以下であり、各反応がほぼ定量的に行われたことを確認
した。また、分子内に、チオウレタン結合と、ウレタン
結合と、アルコキシシリル基と、反応性不飽和結合とを
有することを確認した。

【００７５】高屈折率膜用硬化性組成物の調製 攪拌機付きの容器内に、アンチモンドープ酸化錫分散液
（石原テクノ（株）製、ＳＮＳ−１０Ｍ、分散溶媒メチ
ルエチルケトン、アンチモンドープ酸化錫含量２７．４
重量％、固形分３０重量％、動的光散乱法による重量平
均粒子径４０ｎｍ、数平均粒子径２２ｎｍ、以下、ＡＴ
Ｏ微粒子分散液と称する場合がある。）２６０ｇと、
で製造した反応性アルコキシシラン２５ｇと、蒸留水
０．３ｇと、ｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテ
ル０．０３ｇとを混合し、６５℃で、加熱攪拌した。５
時間後、オルト蟻酸メチルエステル８ｇを添加し、さら
に１時間加熱した。これに光重合開始剤として、イルガ
キュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）
製）６．１ｇと、ＭＩＢＫ１，７０８ｇとを添加して、
高屈折率膜用硬化性組成物（固形分５重量％、固形分中
のＡＴＯ微粒子量７８重量％、以下、塗布液Ｂと称する
場合がある。）を得た。

【００７６】（３）ハードコート層の作成 乾燥空気下、反応性アルコキシシラン８．７ｇと、メチ
ルエチルケトン分散シリカゾル（日産化学工業（株）
製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径２２ｎｍ、シリカ
濃度３０重量％）９１．３ｇと、イソプロピルアルコー
ル０．２ｇと、イオン交換水０．１ｇとからなる混合液
を、８０℃、３時間の条件で攪拌後、オルト蟻酸メチル
エステル１．４ｇを添加し、さらに１時間同一温度で攪
拌した。室温まで冷却後、トリメチロールプロパントリ
アクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫ
エステルＡ−ＴＭＰＴ）２１．９ｇと、トリメチロ−ル
プロパントリオキシエチルアクリレ−ト（新中村化学工
業（株）製、商品名ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３Ｅ
Ｏ）１０．９５ｇと、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン（チバスペシャルティケミカルズ（株）
製、商品名：イルガキュア１８４）３．２７ｇを混合し
て、ハードコート組成物（以下、塗布液Ｃと称する場合
がある。）を調製した。

【００７７】（４）反射防止膜積層体の作成 得られた塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を
用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績
（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オーブン
中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。
次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．
３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜
厚１０μｍであって、屈折率１．４９のハードコート層
を形成した。次いで、得られた塗布液Ｂを、ワイヤーバ
ーコータ（＃３）を用いて、ハードコート層上に塗工
し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜
を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを
用いて、０．３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗膜を紫外線
硬化させ、膜厚０．０５μｍであって、屈折率１．６８
の高屈折率膜を形成した。さらに、得られた塗布液Ａ
を、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用
いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。
この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で
加熱し、膜厚０．０５μｍであって、屈折率１．４０の
低屈折率膜を得た。

【００７８】（５）反射防止膜積層体の評価 得られた反射防止膜積層体における耐擦傷性を以下の基
準で評価した。また、得られた反射防止膜積層体におけ
る耐擦傷性、反射率、全光線透過率、および濁度（ヘイ
ズ値）を下記に示す測定法により測定した。

【００７９】耐擦傷性 得られた反射防止膜積層体の表面を＃００００スチール
ウールにより、荷重２００ｇ／ｃｍ²の条件で３０回こ
すり、反射防止膜積層体の耐擦傷性を以下の基準から目
視にて評価した。得られた結果を表１に示す。 評価５：傷の発生が全く観察されなかった。 評価４：１〜５本の傷の発生が観察された。 評価３：６〜５０本の傷の発生が観察された。 評価２：５１〜１００本の傷の発生が観察された。 評価１：塗膜剥離が観察された。 なお、評価３以上の耐擦傷性であれば、実用上許容範囲
であり、評価４以上の耐擦傷性であれば実用上の耐久性
が優れていることから好ましく、評価５の耐擦傷性であ
れば、実用上の耐久性が著しく向上することからさらに
好ましいといえる。

【００８０】反射率および全光線透過率 得られた反射防止膜積層体における反射率（測定波長に
おける最低反射率）および全光線透過率を、分光反射率
測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９
０を組み込んだ磁気分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作
所（株）製）により、ＪＩＳ Ｋ７１０５（測定法Ａ）
に準拠して、波長３４０〜７００ｎｍの範囲で測定し
た。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準
（１００％）として、各波長における反射防止膜積層体
（反射防止膜）における最低反射率および全光線透過率
を測定した。結果を表１に示す。

【００８１】濁度（ヘイズ値） 得られた反射防止膜積層体につき、カラーヘイズメータ
ー（須賀製作所（株）製）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ１０
０３に準拠してヘイズ値を測定した。得られた結果を表
１に示す。

【００８２】［実施例２〜５］実施例２〜５では、表１
に示すように、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ１／Ｄ１の比率を
変えた反射防止膜積層体について耐擦傷性等の評価を行
った。得られた結果を表１に示す。

【００８３】［比較例１］比較例１では、表１に示すよ
うに、Ｒ１およびＲ１／Ｄ１の比率を本発明の範囲外の
値とした反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価
を行った。得られた結果を表１に示す。

【００８４】

【表１】

【００８５】［実施例６］ （１）ガスバリア性組成物の調製 還流冷却器および攪拌機を備えた反応器に、日本曹達
(株)製テトライソプロポキシチタン１００ｇと、アセチ
ルアセトン７０ｇとを加え、６０℃、３０分の条件で攪
拌し、チタンキレート化合物を得た。このチタンキレー
ト化合物１０ｇと、エチレン／ビニルアルコール共重合
体（日本合成化学(株)製、商品名：ソアノールＤ２６３
０；ケン化度９８％以上、エチレン含有量２６モル％、
メルトフローインデックス３０ｇ／１０分）の固形分１
５％の水／ｎ−プロピルアルコール溶液（水／ｎ−プロ
ピルアルコール重量比＝６／４）１００ｇを混合し、室
温、１時間の条件で攪拌した。次いで、イソプロピルア
ルコール分散コロイダルシリカ（日産化学工業（株）
製、スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ、平均粒子径１０ｎ、
固形分３０重量％）５０ｇをさらに添加後、１時間攪拌
して、ガスバリア性組成物（以下、塗布液Ｄと称する場
合がある。）とした。

【００８６】（２）ガスバリア性を有する反射防止膜積
層体の作成 （１）で得られた塗布液Ｄを、ワイヤーバーコータ（＃
１２）を用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東
洋紡績（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オー
ブン中、１２０℃、１分間の条件で加熱し、膜厚１μｍ
のガスバリア層を形成した。次いで、実施例１で得られ
た塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用い
て、ガスバリア層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１
分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。この塗膜に対し
て、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ
／ｃｍ²の光照射条件で紫外線を照射し、膜厚１０μｍ
のハードコート層とした。

【００８７】次いで、実施例１で得られた塗布液Ｂを、
ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、ハードコート
層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾
燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライ
ドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗
膜を紫外線硬化させ、膜厚０．１８μｍの高屈折率膜を
形成した。次いで、実施例１で得られた得られた塗布液
Ａを、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を
用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成し
た。この塗膜につき、オーブンを用いて１４０℃、１分
の条件で加熱し、基板上の高屈折率膜上に、膜厚０．０
９μｍの低屈折率膜を硬化形成して、ガスバリア性を有
する反射防止膜積層体とした。

【００８８】（３）ガスバリア性を有する反射防止膜積
層体の評価 得られたガスバリア性を有する反射防止膜積層体におけ
る酸素透過度や透湿度等を以下の基準で評価した。ま
た、その他の特性評価については、実施例１と同様に行
った。

【００８９】酸素透過度 ガスバリア性を有する反射防止膜積層体における酸素透
過度は、ＧＡＳＰＥＡＲＭ−１００（日本分光(株)製）
を用い、温度２５℃、相対湿度９０％の条件で測定し
た。

【００９０】透湿度 ガスバリア性を有する反射防止膜積層体における水蒸気
透過度は、ＪＩＳ Ｚ０２０８に準拠して、温度４０
℃、相対湿度９０％の条件で測定した。

【００９１】耐久性 ガスバリア性を有する反射防止膜積層体における耐久性
を、ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して、碁盤目試験（１ｍ
ｍ間隔、１００個）を行い評価した。すなわち、温度６
０℃、相対湿度９０％の条件に１か月保管後、カッター
で反射防止膜積層体上に碁盤目（１ｍｍ間隔、１００
個）を形成した後、粘着テープを貼り付けて引き剥が
し、残膜数を測定した。

【００９２】［実施例７〜１０］実施例７〜１０では、
表２に示すように、ガスバリア層の膜厚や、基材種等を
変えたガスバリア性を有する反射防止膜積層体につい
て、酸素透過度や透湿度等の評価を行った。得られた結
果を表２に示す。なお、フィルム単独での酸素透過度お
よび透湿度は、ポリエステルで酸素透過度２０ｃｍ^３／
ｍ^２／２４ｈｒ、透湿度２０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒであ
り、トリアセチルセルロースで７０ｃｍ^３／ｍ^２／２４
ｈｒ、透湿度３００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒであった。

【００９３】［比較例２］比較例２では、表３に示すよ
うに、反射防止機能を付与せずに、本発明の範囲外の値
とした反射防止膜積層体について、耐擦傷性等の評価を
行った。得られた結果を表２に示す。

【００９４】

【表２】

【００９５】

【発明の効果】本発明の構造体によれば、少なくとも第
１層の表面粗さ（Ｒ１）と、第１層における膜厚（Ｄ
１）および表面粗さ（Ｒ１）の比率（Ｒ１／Ｄ１）とを
考慮するか、あるいは、第１層の表面粗さ（Ｒ１）と、
第２層の表面粗さ（Ｒ２）と、第１層における膜厚（Ｄ
１）および表面粗さ（Ｒ１）の比率（Ｒ１／Ｄ１）とを
考慮して、第１層および第２層を形成することにより、
耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供できるようにな
った。したがって、例えば反射防止膜積層体に適用した
場合、屈折率を低下させるために表面側にフッ素化合物
や、ケイ素化合物等の耐擦傷性に乏しい樹脂を使用した
としても、本発明の簡易な構造を採ることにより、透明
性を損なうことなく、優れた耐擦傷性を示す反射防止膜
積層体を提供することができるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止膜積層体例の断面図である。

【図２】本発明のハードコート層を含む反射防止膜積層
体例の断面図である。

【図３】反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｄ１の影響を
説明するために供する図である（その１）。

【図４】反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｄ１の影響を
説明するために供する図である（その２）。

【図５】反射防止膜積層体におけるＲ１／Ｒ２の影響を
説明するために供する図である。

【図６】反射防止膜積層体におけるＤ１の影響を説明す
るために供する図である。

【図７】反射防止膜積層体におけるＤ２の影響を説明す
るために供する図である。

【図８】反射防止膜積層体におけるＲ２／Ｄ１の影響を
説明するために供する図である。

【図９】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である
（その１）。

【図１０】本発明の反射防止膜積層体の断面写真である
（その２）。

【符号の説明】

１０、２０ 高屈折率膜 １２ 基材 １３ 第２層の侵入部分（表面凹凸） １４、２２ 低屈折率膜 １６、２４ 反射防止膜積層体 １８ ハードコート層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA12 AA15 BB13 BB14 BB24 BB28 CC03 CC09 CC24 CC26 CC42 DD02 DD05 EE03 EE05 4F100 AG00D AH05A AH06A AJ04D AK01E AK02D AK12D AK17A AK25D AK41D AK45D AK52A AK55D AR00B AT00D BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA10E BA26 CC00C DA01 DD07A DE01A DE01B GB16 GB41 JA20A JB06 JB14A JB14B JD02E JD03 JD04 JG03 JK12C JK14 JL00 JL06 JN01 JN06 JN18A JN18B YY00A YY00B

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１層と、これに下方で接する第２層と
   を含む構造体において、 前記第１層の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準
   拠）をＲ１（μｍ）とし、前記第１層の膜厚をＤ１（μ
   ｍ）としたときに、 当該Ｒ１を２μｍ以下の値とし、Ｒ１／Ｄ１の比率を
   ０．０１〜２の範囲内の値とすることを特徴とする構造
   体。
2. 【請求項２】 第１層と、これに下方で接する第２層と
   を含む構造体において、 前記第１層の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ Ｂ０６０１に準
   拠）をＲ１（μｍ）とし、前記第２層の表面粗さＲｚ
   （ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠）をＲ２（μｍ）とし、前
   記第１層の膜厚をＤ１（μｍ）としたときに、 当該Ｒ１を２μｍ以下の値とし、Ｒ２をＲ１以上の値で
   あって、かつ０．０１〜２μｍの範囲内の値とするとと
   もに、Ｒ１／Ｄ１の比率を０．０１〜２の範囲内の値と
   することを特徴とする構造体。
3. 【請求項３】 Ｒ１／Ｒ２の比率を０．００５〜１の範
   囲内の値とすることを特徴とする請求項１または２に記
   載の構造体。
4. 【請求項４】 Ｒ２／Ｄ１の比率を０．０６〜２の範囲
   内の値とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか
   一項に記載の構造体。
5. 【請求項５】 前記第１層の屈折率（ｎ１）を１．３５
   〜１．５０の範囲内の値とし、前記第２層の屈折率（ｎ
   ２）を１．４５〜２．１０の範囲内の値とするととも
   に、当該第１層および第２の屈折率が、ｎ１＜ｎ２の関
   係を満足することを特徴とする請求項１〜４のいずれか
   一項に記載の構造体。
6. 【請求項６】 前記第２層の下方に、ハードコート層を
   さらに含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一
   項に記載の構造体。
7. 【請求項７】 前記第１層および第２層、あるいはいず
   れか一方の層に、数平均粒子径が０．００５〜０．５μ
   ｍの粒子を含有することを特徴とする請求項１〜６のい
   ずれか一項に記載の構造体。
8. 【請求項８】 前記第１層が、フッ素化合物およびケイ
   素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有するこ
   とを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の構
   造体。
9. 【請求項９】 前記第１層および第２層、あるいはいず
   れか一方の層が、紫外線硬化物あるいは電子線硬化物で
   あることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記
   載の構造体。
10. 【請求項１０】 ポリエステル樹脂、トリアセチルセル
    ロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネー
    ト樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート
    樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およ
    びガラスからなる群から選択される少なくとも一種の材
    料からなる基板を含むことを特徴とする請求項１〜９の
    いずれか一項に記載の構造体。
11. 【請求項１１】 水酸基含有高分子を含んでなるガスバ
    リア層をさらに有することを特徴とする請求項１〜１０
    のいずれか一項に記載の構造体。
12. 【請求項１２】 反射防止膜積層体、防汚膜、撥水膜、
    電子部品、光学部品、包装容器、または帯電防止膜の一
    部品として形成してあることを特徴とする請求項１〜１
    １のいずれか一項に記載の構造体。