WO2007074693A1 - 減反射性光学フィルム及びその製造法 - Google Patents

減反射性光学フィルム及びその製造法 Download PDF

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WO2007074693A1
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film
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layer
compound
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Yasuhiro Hozumi
Kunimitsu Nagayoshi
Shoichi Kaneko
Iwao Takahashi
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Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
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Definitions

  • the present invention relates to an optical film. More specifically, the present invention relates to a low-reflective optical film for improving the visibility by reducing the reflection of a background or the like by pasting it on the front surface of a display or the like, a manufacturing method thereof, and an optical film for a plasma display panel using the same. About.
  • Glass and transparent plastic transparent substrates are used for displays such as televisions, notebook computers, word processors, and video cameras.
  • visual information such as characters, figures, still images, and moving images is observed or recognized through these transparent substrates, there is a problem of visibility that external light is reflected on the surfaces of these transparent substrates and the visual information becomes difficult to see.
  • a method for suppressing such reflection of external light for example, there is a method of reducing reflection by providing an extremely thin low refractive index layer on the display surface.
  • a method of providing a low refractive index layer a low refractive index layer was directly provided on a display surface or a protective film substrate for display protection, or a low refractive index layer was separately provided on a transparent film.
  • PDPs plasma display panels
  • a method that shields harmful electromagnetic waves while reducing reflection of external light by bonding, etc. is used.
  • Methods for providing an ultrathin low refractive index layer on various substrates include a wet coating method and a dry coating method.
  • a method of wet coating the composition for the low refractive index layer on the surface of the transparent substrate film is generally used from the viewpoint of production efficiency and ease of handling of the low reflection product. It is. This method is used in recent days It is said to be the most suitable method for increasing the size of play.
  • Anti-reflective optical films need functions such as anti-fouling, scratch resistance, chemical resistance and transparency as well as anti-reflection and surface uniformity. In order to obtain an optical film, it is necessary to reduce the price by developing an inexpensive material for a low refractive index layer and simplifying the process.
  • the coating film is generally cured by a thermosetting method or an active energy ray curing method.
  • Ultraviolet rays are most commonly used for the active energy ray curing method.
  • the advantage of the UV curing method is that it can be cured by UV irradiation, so that an UV irradiation device can be installed at the place where the dried film passes and the surface can be continuously cured in the process flow.
  • the advantage of the thermosetting method is that it only requires a heat source that requires expensive equipment such as an ultraviolet curing device.
  • the thermosetting method has the following problems (1) to (3).
  • thermosetting method after coating the coating material for the low refractive index layer, drying the coating layer, and scraping off the obtained film to a roll, the obtained roll film is put into a thermosetting chamber.
  • Heat cure with
  • the base film usually has a property of heat shrinking at a high temperature. Therefore, when the thermosetting temperature is higher than the temperature at which the film starts heat shrinking, The film shrinks due to the heat shrinkage of the film, and the quality of the film may be significantly reduced.
  • UV curing equipment This includes the need for curing equipment, and (3) the fact that it is allowed to stand for a certain period of time in the thermosetting chamber to cure, so that speedy production cannot be achieved.
  • Patent Documents 1 and 2 disclose those that can be cured at a relatively low temperature in a short time.
  • these do not allow the drying process and the thermosetting process to be performed continuously in a heating device such as a dryer, and because they use a silicone resin having a fluorine-containing organic substituent, they are expensive.
  • a heating device such as a dryer
  • silicone resin having a fluorine-containing organic substituent
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-53804
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3595
  • the present invention provides a low-reflection optical film excellent in performance such as anti-reflection, surface uniformity, antifouling, chemical resistance, and scratch resistance, by a simplified manufacturing process.
  • the purpose is to develop a low-refractive-index layer coating material that can be manufactured at low cost and to establish a manufacturing technology for a low-reflection optical film using the same.
  • thermosetting layer of a resin composition containing an inexpensive silicon compound containing no fluorine as a low refractive index layer.
  • the above problems can be solved by providing the film directly on the film or through another layer provided on the base film, in particular, a silicone oligomer containing no fluorine atom, containing a fluorine atom.
  • the present invention was completed by finding that a resin composition containing a non-aminosilane coupling agent and a silicone-grafted acrylic polymer containing no fluorine atom can be cured at a relatively low temperature in a short time.
  • a low-reflection optical film in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and the low refractive index layer according to (1) are provided in this order on a transparent substrate film,
  • thermosetting resin composition containing an aminosilane coupling agent without an organic substituent, a fluorine-containing organic substituent, a silicone-grafted acrylic polymer, and a solvent.
  • a is 0, 1 or 2
  • R is an organic group having no fluorine-containing organic group, and when a is 2, two Rs may be the same or different.
  • X is hydrolyzed.
  • a plurality of X's which are the same or different from each other and are oligomers of compounds represented by the formula (1),
  • the anti-reflection optical film according to (7) which is an alkoxysilane compound oligomer in which R is a hydrocarbon residue of C1 to C10, and X is a C1 to C4 alkoxy group,
  • the aminosilane coupling agent having no fluorine-containing organic substituent is an amino C1-C4 alkyltri C1-C3 alkoxysilane which may have an N-amino C1-C4 alkyl substitution
  • (11) N-amino C1-C4 alkyltri C1-C3 alkoxysilane, which may have N-amino C1-C4 alkyl substitution is N-amino C1-C4 alkylaminopropyltri (methoxy or ethoxy) silane or
  • the anti-reflection optical film according to (10) which is minopropyltri (methoxy or ethoxy) silane,
  • a silicone-grafted acrylic polymer having no fluorine-containing organic substituent is represented by the following formula (2)
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • n may be different, n is 1 to: a positive number of L0000, m is a positive number of 1 to 3500, and p is a positive number of 1 to 500)
  • the anti-reflection optical film according to (1) which is a silicone-grafted acrylic polymer having a structural unit force represented by:
  • Oligosilanes of alkoxysilane compounds having no fluorine-containing organic substituents are tetra (methoxy or ethoxy) silane, methyltri (methoxy or ethoxy) silane, phenyltri (methoxy or ethoxy) silane, butyltri (methoxy) Or ethoxy) silane, 3-glycidoxypropyl pyrtri (methoxy or ethoxy) silane, 3-glycidoxypropylmethyl (methoxy or ethoxy) silane, 3-chloropropyltri (methoxy or ethoxy) silane, dimethyldi (methoxy or ethoxy) )
  • An aminosilane coupling agent that is an oligomer of at least one compound selected from the group consisting of silane and diphenyldi (methoxy or ethoxy) silane and has no fluorine-containing organic substituent is N- (2-aminoethyl) amino Prop
  • X is a hydrolyzable group. A plurality of Xs may be the same or different from each other, and may be different from each other!),
  • An oligomer obtained by hydrolysis and dehydration condensation of a compound represented by The present invention relates to a ring agent, a thermosetting resin composition containing a silicone-grafted acrylic polymer containing no fluorine atom obtained by copolymerization of a silicone-modified acrylic monomer and an acrylic monomer.
  • the anti-reflection optical film and the optical film for PDP of the present invention have a low production efficiency and a low cost because the anti-reflection layer is obtained from an inexpensive material and can be cured at a relatively low temperature in a short time. In addition, it has excellent anti-reflection properties, surface uniformity, antifouling properties, chemical resistance, and scratch resistance. In addition, the resin composition used in the present invention can be cured at a relatively low temperature and in a short time, and is optimal for the above-mentioned use.
  • the present invention can be applied to these methods (1) and (3).
  • a hard coat layer for scratching and a high refractive index layer for enhancing the low reflection property are provided, and a low refractive index layer is provided on the hard coating layer, thereby providing a high-performance reduced reflection optical film.
  • the aspect of obtaining can also be taken.
  • the low refractive index layer in the present invention is not required to be in direct contact with the transparent substrate film as long as it is on the transparent substrate film. It may be provided on another layer such as a high refractive index layer for increasing the thickness.
  • the transparent base film used in the reduced-reflection optical film of the present invention has elasticity and high transparency. Any film can be used as long as it is a specific film.
  • a polyester resin such as polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) or polyethylene naphthalate; a polyolefin resin such as cyclic polyethylene naphthalate, cyclic polyolefin, polyethylene, polypropylene or polystyrene; Examples include bullocks such as rubber; polycarbonate resin; talyl resin; triacetyl cellulose; polyethersulfone; polyetherketone; and a transparent film such as norbornene resin. However, it is not limited to these.
  • the haze value related to transparency is preferably 5% or less, more preferably 1% or less, and film is preferred.
  • Various physical properties such as elasticity and heat resistance, handling properties, availability, etc. PET film is more preferable.
  • the surface of the transparent substrate film has a corona discharge treatment, a plasma treatment, a glow discharge treatment, a roughening treatment, a chemical treatment, or a treatment with an anchor coating agent or a primer in order to improve the adhesion to the coating agent. Easy adhesion treatment may be performed. Further, it may be a film that retains ultraviolet shielding properties.
  • the thickness of the transparent substrate film is 10 to 400 111, more preferably 20 to 250 ⁇ m.
  • the base film is a transparent film that is managed so that it can be sufficiently used as a base material for an optical film that has high uniformity of thickness that is preferable for a film that can be wound into a roll, and that is free of fish eyes and foreign substances. preferable.
  • Such transparent substrate films include “Cosmo Shine” series (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), “Lumilla” series (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.), “Diafoil” series (product) Name, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.).
  • the resin composition is an oligomer of an alkoxysilane compound having no fluorine-containing organic substituent (hydrolyzable groups such as alkoxy groups of alkoxysilane compounds are hydrolyzed,
  • alkoxysilane polycondensation compound having no fluorine-containing organic group oligomerized by dehydration polycondensation; alkoxysilane polycondensation compound (hereinafter also referred to as the present alkoxysilane polycondensation compound), having no fluorine-containing organic group ⁇
  • Aminosilane coupling agent also F-free aminosilane coupling agent ⁇ ⁇
  • silicone-grafted acrylic polymer without fluorine-containing organic group also called F-free silicone graft acrylic polymer
  • a composition that is uniformly dissolved in a solvent together with an additive is a composition obtained by being dispersed and composed of a relatively inexpensive compound, and is heated at a relatively low temperature in parallel with drying in a heating device such as a dryer. It is characterized in that it can be cured and a low refractive index resin coating layer can be easily formed.
  • the alkoxysilane compound for obtaining the alkoxysilane polycondensation compound has the following formula:
  • R is an organic group having no fluorine-containing organic group, and when a is 2, two Rs may be the same or different.
  • a compound that is a hydrolyzable group and a plurality of Xs may be the same or different from each other is preferred.
  • the organic group having no fluorine-containing organic group for R is not particularly limited as long as it is an organic group not containing X and not containing a fluorine atom.
  • R may include a hydrocarbon residue having about 1 to 10 carbon atoms which may have a functional substituent, and more preferably has a functional substituent such as an epoxy group or a bur group. The hydrocarbon residue having about 1 to 6 carbon atoms may be mentioned.
  • Examples of the functional substituent include a chloro atom, a hydroxy group, an epoxy group, a glycidyl group, or a C1-C4 lower alkoxy group substituted with these groups.
  • Preferred examples of the functional substituent include a chloro atom or a glycidyl group, and a daricidyl group is more preferred.
  • Specific examples of preferable R include hydrocarbon residues having about 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, pentyl, pentyl, hexyl, butyl, phenol, and glycidoxypropyl.
  • examples of R include a C1-C4 alkyl group, a bur group, a phenol group, and a glycidoxy-substituted C1-C4 alkyl group. wear. More preferably, U and R are C1-C4 alkyl groups.
  • Examples of X include a chloro atom, a bromo atom, an alkoxy group, and the like, preferably a C1-C4 alkoxy group, and most preferably a methoxy group.
  • Such compounds include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropinoremethinoresimethoxy.
  • Examples include silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, dimethinoresimethoxymethoxysilane, dipheninoresimethoxymethoxysilane, and those in which the alkoxy group of these silanes is an ethoxy group.
  • the present invention is not limited to these.
  • these compounds can be obtained by carrying out hydrolysis polycondensation (more preferably acid hydrolysis polycondensation) by a conventional method.
  • the raw material Silane compound may be used alone or in combination of two or more.
  • a hydrolyzable group preferably an alkoxy group
  • the hydrolysis may be either acid hydrolysis or alkali hydrolysis, but acid hydrolysis is preferred.
  • a low molecular weight oligomer for example, a condensate of tetramethoxysilane such as methyl silicate 51
  • a compound obtained by polycondensation of a low molecular weight oligomer is also included in the alkoxysilane polycondensation compound.
  • the desired alkoxysilane polycondensation compound can be obtained by appropriately selecting the type of alkoxysilane compound and the degree of dehydration condensation.
  • a resin composition that cures under desired conditions can be obtained, which can be suitably used for a thermosetting low refractive index layer.
  • the degree of polymerization of the above alkoxysilane polycondensed compound (oligomer) is in the range of about 2 to about LOO, usually about 2 to 50, more preferably about 3 to 30 and in some cases about 4 to 20 or 2 It is about ⁇ 10. In the present invention, those having these polymerization degrees are called oligomers for convenience.
  • These alkoxysilane polycondensation compounds are obtained by hydrolyzing the above alkoxysilane compound with an acid such as hydrochloric acid, and optionally in the presence of a catalyst such as a tin-based catalyst.
  • Tosgard 510 is one of the more preferable ones.
  • examples of the alkoxysilane polycondensation compound include compounds obtained by hydrolysis polycondensation of alkoxysilane compounds described below.
  • alkoxysilane compound examples include tetra (methoxy or ethoxy) silane, methyltri (methoxy or ethoxy) silane, phenyltri (methoxy or ethoxy) silane, butyltri (methoxy or ethoxy) silane, 3-glycidoxypropyltrisilane.
  • At least one alkoxysilane compound selected from the group power that is also a silane force more preferably tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and diphenyldisilane.
  • One or two or more (preferably two) alkoxysilane compounds may be mentioned in which a group force that also has a methoxysilane force is selected.
  • a more preferable alkoxysilane polycondensation compound is a compound (oligomer) obtained by hydrolysis polycondensation of at least one compound selected from the group consisting of tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane and dimethyldimethoxysilane.
  • the polycondensation compound is more preferably an alkoxysilane polycondensation compound (poly C1) obtained by hydrolysis polycondensation of di-C1-C4 alkyldimethoxysilane such as dimethyldimethoxysilane. ⁇ C4 alkylsiloxane).
  • the alkoxysilane polycondensation compound may be used alone or in combination of two or more as required.
  • a polycondensation compound of phenyltrimethoxysilane or diphenyldimethoxysilane can be used in combination with the above preferred alkoxysilane polycondensation compound.
  • the terminal of the polycondensed compound may be a hydroxy group or an alkoxy group. Usually a hydroxy group.
  • the F-free aminosilane coupling agent has functions of accelerating curing and imparting scratch resistance and adhesion to the low refractive index layer by improving surface hardness.
  • the aminosilane cappuri The linking agent is not particularly limited as long as it is a silane coupling agent having an amino group. Typical examples are amino C1-C5 alkyltri C1-C3 alkoxysilane, amino Cl-
  • C5 alkyl C1 to C3 alkyldi C1 to C3 alkoxysilane N— (amino C1 to C3 alkyl) —3 aminoalkyltri C1 to C3 alkoxysilane or N— (amino C1 to C3 alkyl) 3 aminoalkyl C1 to C3 Examples include alkyldi C1-C3 alkoxysilanes.
  • Preferable examples include amino C1-C5 alkyltri C1-C3 alkoxysilane, and 3-aminopropyltrimethoxysilane is more preferable.
  • F-free silicone graft acrylic polymer is a polymer alloy of silicone resin and acrylic resin, so it has the properties of both resins, and with a small amount of additive, it has low refractive index coating and is resistant to scratches and antifouling due to smoothness. Has a function of imparting adhesiveness and adhesion. Furthermore, this polymer is excellent in the action of promoting the curing of the resin composition at a relatively low temperature when used together with the alkoxysilane polycondensation compound and the aminosilane coupling agent. .
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R represents a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group
  • n is 1 to: a positive number of L0000, m is a positive number of 1 to 3500, and p is a positive number of 1 to 500.
  • the copolymer can be obtained by radical copolymerization of a silicone-modified acryl monomer and an acrylic monomer by a conventional method.
  • acrylic monomers used in the synthesis of the graft polymer include acrylic acid and methacrylic acid, and their C1-C6 alkyl esters, preferably C1-C4 alkyl esters, more preferably methyl and ethyl esters. At least one selected from the group consisting of, and preferably one or a combination of two or three types.
  • examples of silicone-modified acrylic monomers include silicone-modified (meth) acrylic acid C1-C6 alkyl esters. It is done.
  • silicone-modified allylic acid C1-C6 alkyl ester or silicone-modified methacrylic acid C1-C6 alkyl ester.
  • Preferable examples include silicone-modified (meth) acrylic acid propyl ester.
  • R is a hydrogen atom or a methyl group
  • R is a C1-C6 alkylene group
  • R is a methyl group
  • Atalylate-substituted chlorosilane compound and dimethyl siloxane compound having a hydroxy group at one end (C1-C4 alkyl group such as methyl group is preferred at the opposite end of the hydroxy group, preferably a methyl group) It can be obtained by dehydrochlorination reaction by the method.
  • R represents a methyl group, or optionally a hydrogen atom and a methyl group (for example, as a (meth) acrylic monomer, both acrylic acid and methacrylic acid, or a C1-C2 alkyl ester thereof.
  • R is a hydrogen atom, methyl group or ethyl group
  • N is 1 to 5000 force S, particularly preferably 1 to 2500
  • m is about 1 to 2000
  • 10 to 2000 force S is preferable, and particularly preferably ⁇ 1 to: LOOO, pi 5 It is about 300, and 10-300 is preferable.
  • 6-: about LOO is preferable.
  • the repeating numbers n and m represent the total number of segments of each component in the silicone graft acrylic polymer, and do not necessarily indicate the number of continuous monomers.
  • the preferred number average molecular weight of the polymer is about 1,000 to 100,000.
  • the content of the silicone in the silicone graft acrylic polymer is 5 to 90 weight 0/0 (hereinafter unless% otherwise specified are by weight%) is in the range of 10-90% of the range of good preferred, 10 60 0/0, particularly preferably ⁇ or 20 to 50 0/0. Also optionally, preferably from 5 to 60 0/0 force S preferably tool 5 to 50%.
  • the silicone graft acrylic polymer can also be obtained from the market as, for example, Cymac US-270, US-380 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), X-22-8000 series (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc. .
  • None of the above components used in the present invention has a fluorine-containing organic group, and such a compound constitutes a coating material for a low refractive index layer! Phenomenon that repels the coating film in a point-like manner, which is cheaper than a resin composition using a resin having a base, and has good adhesion, scratch resistance, antifouling property, chemical resistance, etc. (Hereinafter referred to as repellency) and other reflection defects (reflective dotted surface defects) (a phenomenon in which the coating film is repelled and dot-shaped holes are formed) is small It is possible to form a low refractive index resin coating film that can be cured for a short time at a relatively low temperature.
  • composition ratio of each of the above components is such that the aminosilane coupling agent is 5 to 40 parts, more preferably 100 parts by weight of the alkoxysilane polycondensation compound (parts are parts by weight unless otherwise specified).
  • the aminosilane coupling agent is 5 to 40 parts, more preferably 100 parts by weight of the alkoxysilane polycondensation compound (parts are parts by weight unless otherwise specified).
  • silicone grafted acrylic polymer is 0.5-10 parts, more preferably 1-5 parts.
  • the aminosilane coupling agent is 3 to 40 parts, more preferably 5 to 30 parts
  • the silicone graph acrylic polymer is about 2 to 8 parts to 100 parts of the alkoxysilane polycondensation compound. But you can.
  • each of these components is contained in a total amount of 0.5 to 20% by weight (hereinafter,% indicates% by weight unless otherwise specified), more preferably 1 to 10% with respect to the entire resin composition including the solvent. Is done. In some cases, the total amount of each component may be about 1 to 30%, preferably about 5 to 15%, based on the entire resin composition including the solvent.
  • the balance is a solvent other than the above components and additives that are added as necessary.
  • a resin composition for a low refractive index layer can be prepared by uniformly dissolving and Z or dispersing each of the above components in a solvent. Dissolution and Z or Dispersion Method No particular limitation. Since gelation may occur, it is preferable to mix each of the above components in a solution dissolved in a solvent.
  • a solution obtained by previously dissolving the alkoxysilane polycondensation compound in the following solvent and a solution obtained by dissolving the silicone graft acrylic polymer in the solvent are uniformly mixed, and the resulting mixture and the aminosilane coupling agent are used in the following solvent. It is preferable to prevent the whole from gelling by mixing the dissolved solution.
  • the resin composition thus obtained is coated so that the film thickness after curing is 1 m or less, for example, about 0.01 to about m, more preferably about 0.05 to 0.5 / zm.
  • the temperature is relatively low, for example, about 80 to 200 ° C, preferably about 90 to 170 ° C, more preferably about 95 to 160 ° C, for a short time, for example 0.5 to 10 minutes, preferably 0.5 to 5 minutes, more preferably 1 to 5 minutes, and even more preferably about 1 to 4 minutes, and the resin composition can be cured at a relatively low temperature for a short time.
  • any solvent that can be used can be used as long as it has high solubility in each of the above components.
  • the solvent is selected as appropriate in consideration of the uniformity of the coating layer, ease of drying, flammability, toxicity, availability, etc. do it.
  • Specific examples of the solvent include, for example, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxymethane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethylol ether, diethylene glycol dibutinoyl ether, propylene glycol noremono methinoreatenole, propylene glycol noremono ethino.
  • Reethenole Triethyleneglycolenores Retinoletenole, Triethyleneglycololecinoreetenore, Tetraethyleneglycolole Ethers such as dimethyl ether or tetraethyleneglycol jetyl ether; Carbonates such as ethylene carbonate or propylene carbonate Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or acetophenone; phenol, Phenols such as resole or xylenol; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl acetate sorb acetate, butyl acetate sorb acetate, carbitol acetate, butycarbitol acetate or propylene glycol monomethyl ether acetate; toluene, xylene, Hydrocarbons such as tilbenzene or cyclohexane; Halogen
  • additives such as a viscosity modifier, an antifoaming agent or / and a leveling agent (surfactant, etc.) may be added as desired! / ,.
  • the resin composition may be used as it is, or in accordance with the coating method described below, the viscosity may be adjusted to an appropriate viscosity. It can also be diluted with a solvent.
  • the viscosity of the coating agent is usually preferably ImPa 'S (millipascal' second) or less.
  • the coating material for the low refractive index layer may be applied to the transparent substrate film using an ordinary coater.
  • the coater include a curtain flow coater and a micro gravure coater. ⁇ , Mouth 1 ⁇ Noreko 1 ⁇ ' ⁇ ", Spinco 1 ⁇ ' ⁇ ”, Ripco ⁇ ⁇ "' ⁇ ”, Blur ⁇ ⁇ "Doko ⁇ ⁇ "' ⁇ ", No ⁇ ⁇ ” “Ta, reverse coater, die coater, etc. can be used.
  • the thickness of the low refractive index layer is preferably the thickness of 1Z4 of the wavelength of visible light to reduce reflection.
  • the coating film is cured at a relatively low temperature and in a short time, the coating film drying process and the thermosetting process can be performed continuously in a hot air dryer.
  • the coating material for the low refractive index layer is used.
  • the coating of Are simultaneously heat-cured Once ⁇ refractive index of the resulting low-refractive index layer is 1.5 or less preferably tool further to ⁇ or 1. 35 ⁇ :.! L preferably from 49 force /,.
  • the reduced reflection optical film of the present invention is one in which the low refractive index layer is directly provided, but at least one or more other layers are provided on the transparent base film. It may be.
  • the other layers include a hard coat layer for complementing the ease of scratching of the transparent substrate film and / or a high refractive index layer for enhancing the low reflection property.
  • a hard coat layer and a high refractive index layer are provided, a hard coat layer is provided on the base film, then a high refractive index layer is provided thereon, and further the low refractive index layer is provided thereon.
  • the reduced reflection optical film of the present invention can be obtained.
  • These layers contain fine particles such as silica for imparting antiglare properties, and further, the high-refractive index layer and the low-refractive index layer are alternately stacked to widen the wavelength range of dereflection.
  • the coating material for the low refractive index layer is applied on the transparent base film provided with the hard coat layer and the ridge or the high refractive index layer, the coating can be used in the same manner as described above.
  • the hard coat layer coating agent is not particularly limited as long as it can form a transparent layer having high hardness and excellent scratch resistance.
  • the coating agent is a thermosetting monomer and an active energy ray-curable monomer that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays (hereinafter, both are also simply referred to as a curable monomer), a polymerization initiator.
  • active energy rays such as ultraviolet rays
  • other additives such as dispersants, which are added as necessary, are used by dissolving and dispersing or dispersing them in a solvent.
  • thermosetting monomer and the active energy ray curable monomer a polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated groups, for example, dipentaerythritol hexene (medium Ta) ate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, penta erythritol di (meth) ate Rate, ditrimethylol
  • Tetramethylolmethanetetratalylate 1, 1, 1-tris (ataryloyloxyethoxy ethoxycyclohexyl) propane, 2, 2 bis (4-ataryloxyethoxyethoxyphenyl) propane, 2, 2 bis ( 4 Atalyloxyethoxyethoxyphenyl) methane, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydrogenated dicyclopentagel-di (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate triatari Rate, Tris (hydroxychetyl) isocyanurate diatalylate, 1,4 butanediol di (meth) atrelate, 1,6 hexanediol di (meth) atalylate, isobornyldi (meth) atalylate or poly Alkylene glycol di (meth) acrylate (eg, polyethylene glycol di (meth)) Bi- to tetra-
  • Examples of the polymerization initiator include azo-based radical polymerization initiators such as azobisisobutyoxy-tolyl, azobiscyclohexancarbo-tolyl or azobisvalero-tolyl, benzoyl peroxide, tert butyl hydroperoxide Radical polymerization initiators of organic peroxides such as cumenoxide or diacyl peroxide, benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether or benzoin isopropyl ether, benzyl, benzophenone, and acetophenone
  • a photopolymerization initiator such as a carbole compound such as Michler's ketone, an azo compound such as azobisisobutyryl-tolyl or azodibenzoyl, or a mixture of an ⁇ -diketone and a tertiary amine can be used.
  • the additive known leveling agents, antifoaming agents and the like are appropriately added.
  • the solvent the solvents described in the coating material for the low refractive index layer can be used, and the solubility and drying can be used. What is necessary is just to select suitably in consideration of easiness to dry, safety
  • the coating agent for the hard coat layer is obtained by uniformly dissolving and Z or dispersing the other additives such as the curable monomer, the polymerization initiator and the dispersing agent in the solvent, and can be easily applied as necessary. It can be obtained by adjusting the concentration. Generally, the total content of the curable monomer and the polymerization initiator is adjusted to 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight in the hard coat layer coating. The balance is solvent and other additives.
  • the polymerization initiator is preferably used in an amount of 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the curable monomer.
  • Hard coat OPZUV series (trade name, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), KAYANOVA POP, such a hard coat layer coating agent in which a curable monomer, a polymerization initiator, a dispersant, etc. are mixed in a solvent.
  • Market power can also be obtained as a series (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Reicure OP series (trade name, manufactured by Jujo Chemical Co., Ltd.), etc.
  • a higher surface hardness can be obtained by adding inorganic fine particles, for example, fine particles of silicon oxide, acid aluminum, tin oxide, titanium oxide, etc., to the hard coat layer coating agent.
  • the adjustment of the refractive index can alleviate the shrinkage caused by the curing of the resin.
  • a dispersant, a coating leveling agent, or other additives can be added to the coating agent.
  • the hard coat layer thickness is preferably 1 to 15 m. If the thickness is 1 ⁇ m or less, sufficient surface hardness cannot be obtained, and if it exceeds 15 m, the curl of the transparent substrate film increases and cracks are generated. It is not preferable because it becomes easy to do.
  • the hard coat layer in order to diffusely reflect the reflected light.
  • fine particles inorganic compounds or organic compounds such as silica, melamine, acrylic, etc., having an average particle diameter of 0.5 to 10 ⁇ m, more preferably 1 to 5 ⁇ m are used.
  • the hard coat layer coating agent can be applied directly to the transparent substrate film using, for example, a coater, and a film with a hard coat layer can be obtained through a drying step and a curing step.
  • curtain flow coater micro gravure coater, ron coat coater, lip coater, spin coater-blade coater, no coater, reno-ku coater, die coater, etc.
  • the drying process and the curing process of the coating film can be performed by conventional methods.
  • Pencil hardness on the film surface is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and 3H or higher may be required depending on the application.
  • a hard coat layer having a desired surface hardness can be provided by a treatment such as nitrogen purge during curing. By providing the low refractive index layer on this, a reduced reflection optical film with a hard coat layer can be obtained.
  • a resin layer having a high refractive index can be formed in the lower layer of the low refractive index layer as needed for the purpose of further increasing the antireflection property.
  • the coating material for the high refractive index layer includes, for example, a thermosetting monomer, an active energy ray curable monomer, a polymerization initiator, and a metal acid that provides high refractive index properties.
  • the product can be obtained by dissolving and Z or dispersing in the solvent together with other additives added as necessary.
  • metal oxides that provide high refractive index include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, zinc oxide, iron oxide, indium tin oxide, antimony-doped tin oxide, antimony-doped zinc oxide, and aluminum-doped acid.
  • metal oxides that provide high refractive index include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, zinc oxide, iron oxide, indium tin oxide, antimony-doped tin oxide, antimony-doped zinc oxide, and aluminum-doped acid.
  • Examples include zinc. Surface properties such as coating shading, imparting electrical conductivity (antistatic property), and price Antimony monophosphate and antimony monoacid zinc are more preferable.
  • the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more. It is preferable to set the film thickness so that the wavelength indicating the maximum reflectance of the film provided with the high refractive index layer is 400 to 900 nm, usually in the range of 0.1 to 0.3 m. It is preferable to set
  • Such a high-refractive index layer is preferably provided on the hard coat layer, and a common coater similar to the coating of the hard coat layer may be used.
  • a common coater similar to the coating of the hard coat layer may be used.
  • the film thickness can be appropriately selected from a die coater or the like in consideration of the target film thickness and surface condition. After coating, a film having a high refractive index layer can be obtained through a drying step and a curing step, and by providing the low refractive index layer thereon, an excellent anti-reflection optical film can be obtained.
  • the hard coat layer is first provided on the transparent substrate film, then the high refractive index layer is provided, and finally the low refractive index layer is provided.
  • a reflective optical film is the most preferred embodiment of the present invention.
  • PDP applies a voltage to a rare gas (neon, xenon, etc.) enclosed in a cell sandwiched between two glass sheets, and applies the ultraviolet light generated at that time to the phosphor processed on the cell wall surface.
  • the necessary visible light is generated and the image is displayed on the display. Therefore, in PDP, it is caused by near infrared rays with wavelengths of 700 to L 100 nm (hereinafter also referred to as NIR), electromagnetic waves that are harmful to the human body, and neon gases, which cause malfunctions of peripheral home appliances simultaneously with visible light.
  • NIR near infrared rays with wavelengths of 700 to L 100 nm
  • Harmful electromagnetic waves such as orange light (hereinafter referred to as neon light, and in some cases also referred to as NE) near the wavelength of 595 nm, which lowers the purity of red light, are also emitted together. Harmful electromagnetic waves need to be shielded. Therefore, an optical filter for this purpose is required on the front side of the PDP module. For this reason, when the anti-reflection optical film is used as an optical film for PDP, it is usual to use a film for shielding these electromagnetic waves and the like on the anti-reflection optical film.
  • the anti-reflection optical film of the present invention can be optimally used for such applications, and can be made into a composite optical film for PDP that is excellent in anti-reflection, near infrared absorption, and neon light absorption.
  • the anti-reflection optical film is bonded to a transparent body that shields electromagnetic waves that are harmful to the human body (hereinafter referred to as an electromagnetic wave shielding transparent body), and a layer having other functions is provided as necessary. Therefore, it can be used as an optical filter for PDP that has low reflectivity.
  • the electromagnetic wave shielding transparent body includes a mesh type in which an ultrafine wire of a metal such as copper is held in a transparent body such as a transparent film with a geometric pattern such as a lattice shape that does not affect visibility.
  • a thin film type in which the ultra-thin film of the metal is held in a transparent body within a range having visible light transmittance.
  • Thin-film type electromagnetic wave shielding transparent bodies usually reflect near infrared rays. Since it does not transmit to the receiver side, when it is used for the optical filter, a layer having a neon light shielding property is provided on the electromagnetic wave shielding transparent body or the anti-reflection optical film.
  • the electromagnetic wave shielding transparent body of the mesh type that can be used as the optical filter for the PDP by combining both is used for the optical filter, at least the electromagnetic wave shielding transparent body or the anti-reflection optical film, It is necessary that the layer provided on either side has a near infrared shielding property and a neon light shielding property.
  • a near infrared shielding 700-: L lOOnm near-infrared absorbing compound (also known as near-infrared absorbing compound), and for neon light shielding, a compound having a maximum absorption at a wavelength of 550-620 nm ( Neon light-absorbing compound) is used.
  • the layer having the shielding property is not particularly limited.
  • the electromagnetic wave shielding transparent body and the anti-reflection optical film are bonded to each other between the adhesive layer and the anti-reflection film.
  • Binder to be provided One layer can be mentioned.
  • a binder layer is provided on the surface of the transparent substrate film opposite to the anti-reflection surface of the anti-reflective film using a coating material containing the above-mentioned respective compounds and a binder resin, and an adhesive layer is further formed thereon.
  • a compound that absorbs the above-mentioned wavelength is contained under the low refractive index layer of the low reflection optical film, that is, the hard coat layer or the high refractive index layer, or on the opposite side of the antireflection surface.
  • a layer such as a coating film containing the compound is newly provided on the transparent base film surface, or the adhesive layer is allowed to contain the compound when an adhesive layer is provided on the opposite side of the anti-reflection surface. From this, it is possible to obtain a reduced reflection optical film (optical film for plasma display) of the present invention having a composite function.
  • a near-infrared ray having a wavelength of 700-: LlOOnm can be efficiently absorbed, the visible light transmittance is good, and any deviation can be used if it is a compound.
  • Known near-infrared absorbing compounds such as complexes, azo compounds, polymethines, diphenylmethanes, triphenylmethanes, quinones or dim salt salts can be used. These can be used alone or in combination of two or more.
  • neon light absorbing compounds absorb neon light efficiently.
  • any other compound with good visible light transmittance can be used, such as cyanine, azaporphyrin, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol or azo compounds.
  • a neon light absorbing compound known per se can be used. These can be used alone or in combination of two or more.
  • a layer such as a hard coat layer
  • a near infrared absorbing compound and a neon light absorbing compound are coated.
  • only the neon light absorbing compound is mixed with the coating material to prepare a coating material containing each of the coating materials.
  • a desired layer may be formed.
  • the binder resin material when forming a binder layer containing a compound that absorbs light of each of these wavelengths (hereinafter also referred to simply as an absorbing compound), the binder resin material may be used as necessary. It is preferred that the absorbing compound is dissolved and Z or dispersed in a solvent together with additives such as a color adjusting dye and a stabilizer to form a coating material. In particular, since these absorbing compounds may deteriorate with time in the binder layer, it is preferable to give sufficient consideration to the selection of durable compounds and the assembly of formulations.
  • binder resins examples include materials such as polyester-based resins, acrylic-based resins, polyamide-based resins, polyurethane-based resins, polyolefin-based resins, and polycarbonate-based resins.
  • the hard coat layer it may be coated using a normal coater with the appropriate solvent and coating conditions.
  • the transmittance of near infrared light having a wavelength of 700 to LlOOnm is 20% or less, More preferably, the amount of each absorbing compound and / or the coating conditions are set so that the neon light transmittance, for example, the transmittance of light in the vicinity of a wavelength of 590 ⁇ m is 50% or less, more preferably 40% or less, to 10% or less. It is preferable to set.
  • the anti-reflection optical film of the present invention is usually used by being bonded to a planar body of a target device, it is advantageous to provide an adhesive layer on the film.
  • the adhesive layer contains the above-mentioned near-infrared absorbing compound and Z or neon light-absorbing compound, and transmits near-infrared light having a wavelength of 700 to: LlOOnm.
  • Each absorbing compound is incorporated so that the transmittance is 20% or less, more preferably 10% or less, and the neon light transmittance, for example, the transmittance of light in the vicinity of a wavelength of 590 nm is 50% or less, more preferably 40% or less. Is preferred.
  • Examples of the adhesive component that can be used for the adhesive layer in which a highly transparent adhesive layer is preferable include an acrylic resin adhesive, a rubber adhesive, and a silicone resin adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive component constituting the pressure-sensitive adhesive layer has a high molecular weight (degree of polymerization) in order to maintain adhesion, that is, the weight average molecular weight Mw of the main polymer is preferably about 600,000 to 2,000,000, more preferably 80 It is about 10,000 to 1.8 million.
  • acrylic resin adhesives are preferred because they are excellent in transparency, adhesiveness, heat resistance, ease of handling, price, and the like.
  • This pressure-sensitive adhesive is usually an acrylic alkyl ester as a main component, a polar monomer copolymerized therewith to form a copolymer, and further crosslinked with a crosslinking agent.
  • This adhesive material has excellent adhesive strength and cohesive strength, and has high stability to light and oxygen because there is no unsaturated bond in the polymer.
  • the type and molecular weight of the monomer used to obtain the copolymer can be selected. It is excellent in that the degree of freedom is high.
  • the proportion of the polar monomer component in the copolymer is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 15 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the acrylic acid alkyl ester component. 1 to 10 parts by weight is preferred.
  • main component acrylic acid alkyl ester examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid.
  • methyl (meth) acrylate and the like are used to mean “methyl acrylate or Z and methyl methacrylate” and the like, and the same “(meth) acryl” or “(meta ) Is used in the same sense for words that contain expressions such as “atarilate”.
  • polar monomer those functioning as a crosslinking point with the crosslinking agent described below are used, and those having a hydroxyl group or a carboxyl group as the polar group are preferred, for example, acrylic acid or methacrylic acid Carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid 2-hydroxylethyl or (meth) acrylic acid 2-hydroxylpropyl group-containing (meth) acrylic acid ester monomers, N, N-dimethyl Acrylic polar monomers such as amino group-containing (meth) acrylate monomers such as aminoethyl acrylate and N-t-butylaminoethyl acrylate, or maleic acid can be used. However, these are not limited. These are used alone or in combination of two or more.
  • cross-linking agent examples include polyisocyanate compounds (for example, fats such as hexamethylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate trimethylolpropane adduct).
  • polyisocyanate compounds for example, fats such as hexamethylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate trimethylolpropane adduct.
  • Aromatic diisocyanates such as trimethylol propane bread adduct of tolylene diisocyanate or tolylene diisocyanate); diamine compounds such as hexamethylene diamine or triethyl diamine; epoxy compounds (eg bisphenol A or epichlorohydrin, etc.) Epoxy resin or epoxy resin compound such as polyethylene glycol diglycidyl ether); urea resin compound; metal salt (eg salt ⁇ aluminum, salt ⁇ ferric iron, aluminum sulfate or copper sulfate) Can be mentioned. However, it is not limited to these. These crosslinking agents are used alone or in combination of two or more.
  • crosslinking agents are generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.005 to 5 parts by weight, more preferably 0.01 to 3 parts by weight per 100 parts by weight of the acrylic resin-based adhesive. It is done.
  • the above-mentioned pressure-sensitive adhesive component is used as a coating material for the pressure-sensitive adhesive layer by being dissolved and Z or dispersed in a solvent together with other additives added as necessary.
  • Solvents that can be used include, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, propinole acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethinoreserosonoleb, butyrose sorb, benzene, toluene, xylene, Tetrahydrofuran, n-hexane, n-heptane, methylene chloride, chloroform, N, N-dimethylformamide and the like.
  • the above-mentioned near infrared absorption Examples thereof include compounds, neon light absorbing compounds, ultraviolet absorbers and / or color adjusting dyes.
  • the anti-reflection optical film of the present invention having an adhesive layer is prepared by subjecting the adhesive layer coating material to the usual adhesive layer so that the thickness after drying of the adhesive layer is 5 to 100 m, preferably 10 to 50 m.
  • Normally used near-infrared absorbing compounds and neon light-absorbing compounds may be deteriorated by ultraviolet rays. Therefore, it is important to select a compound that does not easily deteriorate or to compose a composition that does not easily deteriorate.
  • an ultraviolet absorber on the external light side of the adhesive layer, that is, the hard coat layer on the anti-reflection surface, or to use a transparent substrate film containing an ultraviolet absorber, which deteriorates the absorbing compound. This is effective for preventing damage and improving durability.
  • NIR ⁇ Ne low reflection optical film (PDP optical film)
  • the following examples of optical films for PDP have a layer structure for PDP using a mesh type electromagnetic wave shielding transparent body, and near infrared absorption performance is omitted for PDP using a thin film type electromagnetic wave shielding transparent body. In other words, it is a layer structure with NIR removed.
  • the anti-reflection optical film of the present invention is excellent in anti-reflection, antifouling, scratch resistance, chemical resistance and the like.
  • the raw materials used are inexpensive and the curing temperature in the manufacturing process is relatively low, the manufacturing equipment can be simplified, so that manufacturing at a low cost is possible.
  • a low-reflection optical film having a hard coat layer, a high refractive index layer and the like is suitable for application to an optical film for PDP.
  • UV curable acrylic hard coat agent (trade name: KAYANOVA POP-052AS; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) formulated with multifunctional acrylic monomer, polymerization initiator, etc. 10 parts, butyl acetate 18 parts, methylethyl 42 parts of ketone were thoroughly mixed and dissolved to obtain a hard coat layer coating.
  • Antimony-doped zinc oxide with a solid content of 60% (trade name Celnax CX—Z600M—3; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Cationic dispersant (trade name: Sorse) while stirring 100 parts Perth 20000; manufactured by Zeneca Co., Ltd. 3.
  • Cationic dispersant (trade name: Sorse)
  • Sorse Cationic dispersant
  • KAYARAD DPHA dipentaerythritol hexaatalylate
  • photopolymerization initiator product
  • No. Irgacure 184 Ciba Geigy Co., Ltd.
  • This alkoxysilane polycondensation compound solution (content 20 to 21%) in 100 parts of isopropyl alcohol (trade name Tosgard 510; manufactured by Toshiba Silicone) 32 parts and F-free silicone graph acrylic polymer solution (content 30%) ( (Product name: Cymac US270; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.9 parts were mixed and dissolved. Gradually add and mix 10 parts of a 5% isopropyl alcohol solution of F-free aminosilane coupling agent (trade name KBM903; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: active ingredient 3 aminopropylmethoxysilane) to 40 parts of this solution.
  • FBM903 F-free aminosilane coupling agent
  • the mixture was made into a uniform solution, and further 50 parts of isopropyl alcohol was added to make a uniform solution, whereby a coating material for a low refractive index layer was obtained.
  • the refractive index after curing of the coating film obtained from this coating agent was about 1.45.
  • Table 1 The materials shown in Table 1 below were sufficiently mixed and dissolved to obtain a coating material for an adhesive layer containing an ultraviolet absorber. Table 1
  • Acrylic adhesive (trade name PTR-2500T; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts
  • Ultraviolet absorber (trade name: Tinuvin 109; manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1 part
  • Hardener 1 (Product name: M12ATY; Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.5 part
  • Hardener 2 (Product name L45EY; Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.4 part
  • Hardener 3 (Brand name C 50; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.1 part
  • Example 1 Fabrication of a low-reflection optical film having a hard coat layer and a high refractive index layer
  • a roll-shaped PET film product name; Apply the above hard coat layer coating on one side of Lumirror 100U46 (Toray Industries, Inc.) with a micro gravure coater at a speed of 15 mZ so that the thickness of the layer after curing is 8 ⁇ m, and 50 ° C
  • the coating film was dried while supplying warm air.
  • the coating film was cured by continuously irradiating the coating film with ultraviolet rays at V to obtain a film having a hard coat layer.
  • a high refractive index coating agent was applied on the hard coat layer of this film with a microgravure coater at a speed of 25 mZ so that the layer thickness after curing was 0 .: m, and 50 ° C. It was dried while supplying warm air. Subsequently, the coating film was cured by continuously irradiating the coating film with ultraviolet rays to obtain a film having a high refractive index layer laminated thereon. Further on this, the above coating agent for low refractive index layer was applied at a rate of 12 mZ so that the thickness of the layer after curing by a micro gravure coater was 0.1 ⁇ m.
  • the obtained film having the coating film was supplied to a 25 m hot air dryer with hot air of 100 ° C for the first 1Z3, 140 ° C for the first 1Z3, and 100 ° C for the last 1Z3.
  • the coating film was dried and cured in the dryer while passing through (time required for passing through the hot air dryer: about 2 minutes).
  • the obtained anti-reflection optical film of the present invention had a luminous reflectance of 1.2% and was excellent in scratch resistance, antifouling property and chemical resistance as described later.
  • the microgravure coater used in the examples and comparative examples is an apparatus in which the coater part, the dryer part, and the ultraviolet irradiation part are integrated.
  • the film production speed is the same as the coating speed, and each film is 3 It was wound around an inch core and made into a roll.
  • the luminous reflectance was measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer (trade name “UV-3150” manufactured by Shimadzu Corporation) equipped with a 5 ° specular reflection measuring device.
  • the film was applied to a thickness of 18 m and dried to obtain a release film having an adhesive layer.
  • the pressure-sensitive adhesive surface is wound around a 3 inch diameter core while roll-pressing the PET surface on the opposite side of the anti-reflection surface of the previously obtained anti-reflection optical film, and the pressure-sensitive adhesive layer is placed on the PET surface.
  • the film of the present invention with an adhesive layer in which the adhesive layer was covered with a release film was obtained.
  • Silica fine particles with an average particle diameter of 1.8 m (trade name SYLYSIA350; manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.) 2. Add 4 parts to 160 parts of the hard coat layer coating agent described in (1) above and uniformly disperse. It was.
  • a film of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained coating material was used in place of the coating material for hard coat layer in Example 1, and a film of the present invention having excellent antiglare properties was obtained. It was.
  • This film was made into a film with an adhesive layer in the same manner as in Example 1, and an anti-glare film with an adhesive layer in which the adhesive layer was covered with a release film was obtained.
  • This film diffused external light and satisfactorily suppressed the reflection of the background.
  • the anti-reflection of the present invention is performed in the same manner as in Example 1 except that UV-absorbing PET (trade name Lumirror 100QT78; manufactured by Toray Industries, Inc.) is used instead of PET film (trade name Lumirror 100U46; manufactured by Toray Industries, Inc.)
  • PET film trade name Lumirror 100U46; manufactured by Toray Industries, Inc.
  • Optical film was prepared.
  • the regular reflectance of the film was 1.2%, and the film had excellent scratch resistance, antifouling property and chemical resistance.
  • a coating for near infrared and neon light absorbing layer (NIRZNe layer) shown in Table 2 below is applied to the opposite side of the anti-reflection surface of the film so as to have a layer thickness of about 8 m after drying.
  • NIRZNe layer near infrared and neon light absorbing layer
  • the coated surface was dried with 120 ° C hot air in a drier to produce an anti-reflection optical film (PDP optical film) having a NIRZNe layer.
  • the film had a near infrared transmittance of 9% and a neon light transmittance of 32% at a wavelength of 700-: LlOOnm and a wavelength of 585 nm.
  • An adhesive layer was provided on the NIRZNe layer of this film in the same manner as in Example 1 to produce an NIRZNe reduced-reflection optical film (PDP optical film) with an adhesive layer suitable for a mesh type electromagnetic wave shielding transparent body.
  • Acrylic resin * (trade name IR-G205; manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 76. 0 parts
  • Ne light absorber (trade name TY-102; manufactured by Asahi Denki Kogyo Co., Ltd.) 0.03
  • NIR absorbent (trade name IRG-022; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.80 parts
  • NIR absorbent (trade name CY-40BE; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0. 05
  • NIR absorbent (trade name IR-12; manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0. 20 parts
  • the NIRZNeZ color adjustment adhesive layer coating material with a thickness of 38 ⁇ m is composed of the components and compositions described in Table 3 below, including a near infrared absorbing compound, a neon light absorber, an ultraviolet absorber, a color adjustment dye and an adhesive.
  • the surface of the PET release film (trade name Daifoil MR-38; manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) was applied with a comma coater so that the thickness of the adhesive layer after drying was 18 ⁇ m and dried.
  • this adhesive surface was wound around a 3-inch diameter core while roll-pressing the PET surface opposite to the anti-reflection surface of the anti-reflection optical film obtained in (1) of Example 1
  • a film of the present invention having a NIRZNeZ color-adjusting adhesive layer (an optical film for PDP with a near-infrared compound, a neon light absorbing compound and a color-adjusting dye-containing adhesive layer) having an adhesive layer covered with a release film was prepared.
  • the film had a near infrared transmittance of 9% and a neon light transmittance of 32% at a wavelength of 585 nm from a wavelength of 700 to L 10 Onm.
  • Neon light absorber (trade name TAP— 2) 0.1 part
  • Ultraviolet absorber (trade name Tinuvin 109) 1. 2 parts
  • Acrylic resin (trade name PTR-2500T) 120. 0
  • TAP-2 Tetrazabolfylin compound; manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.
  • Tinuvin 109 benzotriazole compound; manufactured by Ciba Geigy Corporation
  • Blue pigment (Color Index); Solvent Blue 35 made by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the alkoxysilane polycondensation compound solution ( Tosgard 510) Comparative film 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 32 parts of isopropyl alcohol was added to 100 parts of isopropyl alcohol to form a uniform solution.
  • This alkoxysilane polycondensation compound solution contained in the coating material for low refractive index layer of Example 1 (Tosgard 510; solid content 20%) 32 parts of tetraethoxysilane (trade name KBE04; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 6.
  • Comparative film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4 parts and 25.6 parts of isopropyl alcohol were used.
  • the surface opposite to the anti-reflective surface of each specimen is sanded with a rough surface to block the light, and the luminous reflectance of the light-reflecting surface by the C light source is measured with an ultraviolet with a 5 ° specular reflection measuring device.
  • a visible light spectrophotometer (trade name “UV-3150” manufactured by Shimadzu Corporation).
  • Anti-reflective evaluation criteria;? Appreciable reflectance should be 1.5% or less 1.5.
  • the adhesion of the reduced reflection surface of each specimen was measured according to JIS K5400 cross-cut peel test method.
  • Adhesion evaluation criteria Adhesion is excellent if the cross-cut (non-peeling degree) is not 95Z100.
  • Antifouling evaluation criteria the greater the contact angle, the better the antifouling property.
  • Test chemical solution (1) 3 wt% sodium hydroxide aqueous solution, (2) methyl ethyl ketone, (3) 5 wt% neutral detergent aqueous solution (trade name Fresh Lime; manufactured by Nissan Ishizuka Co., Ltd.), (4 ) 5 wt 0/0 alkaline detergent solution (trade name My pet, manufactured by Kao Corporation) chemical resistance evaluation criteria; no change in all of the chemical solution is excellent.
  • the reduced reflection surface of each specimen was cut into a size of lOOcm ⁇ 100 cm, and the number of reflective point surface defects having a size of 0.1 lm m 2 or more was visually counted.
  • the reflective spot-like surface defect means the spot-like reduced reflection unevenness in the reduced reflection surface caused by the dot-like holes generated by the coating film being repelled.Coating property evaluation criteria; ! / Is suitable for coating liquids with less repellency on the coated surface, and 5 or less is better.
  • Comparative Example 1 is inferior in scratch resistance and chemical resistance
  • Comparative Example 2 and Comparative Example 3 are inferior in scratch resistance, adhesion, and chemical resistance. it can.
  • Comparative Example 4 many reflection defects due to repellency occurred on the coating surface, and the coating property was poor. This is considered to be due to the influence of the alkoxysilane compound having a fluorine-containing organic substituent contained in the coating material for the low refractive index layer.
  • Example 1 and Example 2 are generally superior to any of the comparative examples.

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Abstract

含フッ素有機置換基を有しない、シリコーン樹脂材料（アルコキシシラン化合物のオリゴマー、アミノシランカップリング剤及びシリコーングラフトアクリルポリマー）を含む熱硬化性低屈折率層用塗剤を透明基材フィルムに塗工して乾燥機内で乾燥と熱硬化を連続して行うことにより、巻き締りによる品質低下がなく、減反射性、防汚性、耐薬品性、耐擦傷性等に優れ、効率的に製造できる安価な減反射性光学フィルムに関するものであり、近赤外線吸収性及び又はネオン光吸収性を有する層を有する該減反射性光学フィルムはＰＤＰ用光学フィルムとして適するものである。

Description

明 細 書
減反射性光学フィルム及びその製造法
技術分野
[0001] 本発明は光学フィルムに関する。更に詳しくは、本発明は、ディスプレイ等の前面 に貼って背景等の映り込みを減じ、視認性を良くするための減反射性光学フィルム 及びその製造法並びにそれを利用したプラズマディスプレイパネル用光学フィルム に関する。
背景技術
[0002] テレビ、ノ ソコン、ワープロ、ビデオカメラなどのディスプレイにはガラスや透明プラ スチックの透明基板が使用されている。これら透明基板を通して文字、図形、静止画 、動画等の視覚情報を観察又は認識する場合、これら透明基板表面に外光が反射 して視覚情報が見え難くなるという視認性の問題がある。
[0003] このような外光の反射を抑える方法として、例えばディスプレイ表面に極薄膜の低 屈折率層を設け反射を減じる方法がある。低屈折率層を設ける方法としては、デイス プレイ表面やディスプレイ保護のための保護膜の基板上に低屈折率層を直接設けた り、別途透明フィルム上に低屈折率層を設け、得られた低屈折率層付透明フィルムを ディスプレイ表面や保護膜の基板表面に貼合する方法等がある。また、プラズマディ スプレイパネル（以下、 PDPと記す）においては、パネルの前面から放射され、身体 に有害といわれる電磁波を遮蔽する機能、周辺機器の誤作動の原因となる近赤外線 を遮蔽する機能、赤色光の鮮明さを阻害する波長 595nm近辺の電磁波を遮蔽する 機能などが必要とされるため、これらの機能と減反射機能とを併せ持つ複合機能付き 光学フィルタを PDPの前面に取り付ける力、又は直接貼合するなどして、外光の反射 を減じると共に、有害な電磁波を遮蔽する方法が採用されている。
[0004] 種々の基板上に極薄の低屈折率層を設ける方法としては、湿式コーティング法と乾 式コーティング法がある。低屈折率層を大量にかつ大きい面積で得ようとする場合、 生産効率や減反射製品の取り扱いやすさから透明基材フィルムの表面に低屈折率 層用組成物を湿式コーティングする方法が一般的である。この方法は最近のデイス プレイの大型化に最も適合した方法と言われて 、る。
また、ディスプレイの大型化及びその消費者への普及が進むにつれて減反射性光 学フィルムの性能向上及び価格の低減が要求され、如何に優れたフィルムを安価に 製造するかが大きな技術的課題となって 、る。減反射性光学フィルムには減反射性 及び表面均一性はもとより、防汚性、耐擦傷性、耐薬品性及び透明性などの機能も 必要であり、これらの機能を満たしながら安価な減反射性光学フィルムを得るために は、安価な低屈折率層用材料の開発や工程の単純ィ匕等による価格の低減が必要と される。
透明基材フィルム上に低屈折率層を湿式コーティング法により設ける場合、塗膜を 熱硬化方式や活性エネルギー線硬化方式などで硬化させるのが一般的である。活 性エネルギー線硬化方式には紫外線が最も一般的に使用される。紫外線硬化方式 のメリットは紫外線照射による硬化のため、紫外線照射装置を乾燥後のフィルムの通 過場所に設置して、工程の流れの中で連続的に表面硬化できることである。熱硬化 方式のメリットは紫外線硬化装置のような高価な設備が必要なぐ熱源さえあればよ い点である。しかしながら熱硬化方式では下記（1)〜（3)に記載の問題点がある。通 常、熱硬化方式では、低屈折率層用塗剤のコーティング、コーティング層の乾燥、得 られたフィルムのロールへの卷き取りの行程を行った後、得られたロールフィルムを熱 硬化室で熱硬化させる。し力しながら、該方法では、（1)基材フィルムは通常高温に おいて熱収縮する性質を有するため、前記熱硬化温度の方が、該フィルムの熱収縮 を始める温度より高い場合は、該フィルムの熱収縮のためロールフィルムの卷き締り が生じ、該フィルムの品質を著しく低下させる恐れがあること、（2)紫外線硬化設備ほ ど高価ではな!/、が熱硬化室等の熱硬化設備が必要なこと、及び（3)熱硬化室で一 定時間静置して硬化させるため、スピーディーな生産ができな 、ことなどが挙げられ る。このような問題点を解決するためには低温で短時間に熱硬化可能な低屈折率層 用塗剤が望まれる。比較的低温で短時間に硬化可能なものに関しては特許文献 1及 び 2に開示がある。しかしこれらは、乾燥機等の加熱機器の中で乾燥工程と熱硬化 工程を連続的に行えるものではなぐ又これらは含フッ素有機置換基を有するシリコ 一ン榭脂を使用しているためコスト上の難点もある。そのため、性能に優れた減反射 性光学フィルムを、安価で効率よく製造しうる技術とは言 、がた 、。
[0006] 特許文献 1 :特開 2002— 53804号公報
特許文献 2：特開 2002— 3595号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明は減反射性、表面均一性、防汚性、耐薬品性及び耐擦傷性等の性能に優 れた減反射性光学フィルムを、簡略化された製造工程により、効率的、安価に製造し うる低屈折率層用塗剤及びそれを用いた減反射性光学フィルムの開発及び製造技 術の確立を目的とするものである。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討の結果、低屈折率層として、フッ素 を含有しない安価なシリコン化合物を含有する榭脂組成物の熱硬化層を透明基材フ イルム上に直接又は該基材フィルム上に設けられた他の層を介して、その上に設け ることにより前記課題が解決されること、特にフッ素原子を含有しないシリコーンオリゴ マー、フッ素原子を含有しないアミノシランカップリング剤、及びフッ素原子を含有し ないシリコーングラフトアクリルポリマーを含む榭脂組成物は、比較的低温で、短時間 に硬化できることを見出し本発明を完成させた。
[0009] 即ち、本発明は
(1)含フッ素有機置換基を有さないアルコキシシランィ匕合物のオリゴマー、含フッ素 有機置換基を有さな 、アミノシランカップリング剤、含フッ素有機置換基を有さな ヽシ リコーングラフトアクリルポリマー及び溶剤を含有する熱硬化性榭脂組成物のコーテ イング層の硬化により得られた低屈折率層を透明基材フィルム上に有する減反射性 光学フィルム。
(2)透明基材フィルム上に、ハードコート層、高屈折率層、及び（1)に記載の該低屈 折率層がこの順に設けられている減反射性光学フィルム、
(3)高屈折率層がアンチモンドープ酸化錫又はアンチモンドープ酸化亜鉛、又は両 者を含有する層である（2)に記載の減反射性光学フィルム、
(4)含フッ素有機置換基を有さな!/、アルコキシシランィ匕合物のオリゴマー、含フッ素 有機置換基を有さな 、アミノシランカップリング剤、含フッ素有機置換基を有さな ヽシ リコーングラフトアクリルポリマー及び溶剤を含有する熱硬化性樹脂組成物力 なる 塗工液を透明基材フィルム又はハードコート層及び高屈折率層がこの順で設けられ た透明基材フィルム上に塗工したのち、 70〜200°Cの空気が供給される熱風乾燥機 内を 0. 5〜5分で通過させ溶剤の乾燥工程及び熱硬化工程を連続的に施して低屈 折率層を形成せしめることを特徴とする減反射性光学フィルムの製造法、
(5) (1)乃至（3)の 、ずれか一項に記載の減反射性光学フィルム又は (4)の製造法 で得られた減反射性光学フィルムに波長 700〜： L lOOnmの近赤外線を吸収するィ匕 合物及び Z又は波長 550〜620nmに極大吸収を有する化合物を含有する層が設 けられてなるプラズマディスプレイパネル用光学フィルム、
(6) (1)乃至（3)の 、ずれか一項に記載の減反射性光学フィルム又は (4)の製造法 で得られた減反射性光学フィルムの低屈折率層の設けられた面と反対側の面に波 長 700〜： L lOOnmの近赤外線を吸収する化合物又は波長 550〜620nmに極大吸 収を有する化合物、又は両者を含有する粘着層を設けてなるプラズマディスプレイパ ネル用光学フィルム、
(7)含フッ素有機置換基を有さな 、アルコキシシランィ匕合物のオリゴマーが下記式（ 1)
R SiX (1)
a (4— a)
(式中 aは 0、 1又は 2であり、 Rは含フッ素有機基を有さない有機基であって、 aが 2 のとき 2つの Rは同一でも異なっていてもよぐ Xは加水分解性基であって、複数個あ る Xは、互 、に同一でも異なって!/、ても良 、）で表される化合物のオリゴマーである（ 1)に記載の減反射性光学フィルム、
(8) Rが C1〜C10の炭化水素残基、 Xが C1〜C4アルコキシ基であるアルコキシシラ ン化合物のオリゴマーである（7)に記載の減反射性光学フィルム、
(9)尺がじ1〜じ4ァルキル基でぁる（8)に記載の減反射性光学フィルム、
(10)含フッ素有機置換基を有さな 、アミノシランカツプリング剤が N -ァミノ C 1〜C4 アルキル置換を有しても良いアミノ C 1〜C4アルキルトリ C 1〜C3アルコキシシランで ある（1)に記載の減反射性光学フィルム、 (11) N-ァミノ C 1〜C4アルキル置換を有しても良いアミノ C 1〜C4アルキルトリ C 1 〜C3アルコキシシランが N—ァミノ C1〜C4アルキルアミノプロピルトリ（メトキシ又は エトキシ)シラン又はァミノプロピルトリ (メトキシ又はエトキシ)シランである（10)に記載 の減反射性光学フィルム、
(12)含フッ素有機置換基を有さないシリコーングラフトアクリルポリマーが下記式 (2)
R, R
Figure imgf000006_0001
？, )
CO CO CH3
OR2 0 ( CH2 J3 ~ Si OSi
CH-,
〔式中、 Rは水素原子又はメチル基を示し、 Rは水素原子又は炭素数 1〜6のアル
1 2
キル基を示し、 Rは水素原子又はメチル基を示す。これらは繰り返し単位ごとに同一
3
であっても異なっていてもよい、 nは 1〜： L0000の正数、 mは 1〜3500の正数、 pは 1 〜500の正数である〕
で表される構成単位力もなるシリコーングラフトアクリルポリマーである（1)に記載の減 反射性光学フィルム、
(13)含フッ素有機置換基を有さないアルコキシシランィ匕合物のオリゴマーがテトラ (メ トキシ又はエトキシ)シラン、メチルトリ（メトキシ又はエトキシ)シラン、フエニルトリ (メト キシ又はエトキシ）シラン、ビュルトリ（メトキシ又はエトキシ）シラン、 3—グリシドキシプ 口ピルトリ（メトキシ又はエトキシ)シラン、 3—グリシドキシプロピルメチル (メトキシ又は エトキシ）シラン、 3—クロ口プロピルトリ（メトキシ又はエトキシ）シラン、ジメチルジ (メト キシ又はエトキシ)シラン及びジフエニルジ (メトキシ又はエトキシ)シランからなる群か ら選ばれる少なくとも一種の化合物のオリゴマーであり、含フッ素有機置換基を有さ ないアミノシランカップリング剤が N— (2—アミノエチル）ァミノプロピルトリ（メトキシ又 はエトキシ）シラン、 N- (2—アミノエチル）ァミノプロピルメチルジ (メトキシ又はエトキ シ)シラン及び 3—ァミノプロピルトリ（メトキシ又はエトキシ)シラン力もなる群力も選ば れる少なくとも一種である（12)に記載の減反射性光学フィルム、
(14)下記式（1)
R SiX (1)
a (4— a)
(aは 0、 1、 2であり、 Rは含フッ素有機基を有さない有機基であって、 aが 2のとき 2 つの Rは同一でも異なっていてもよぐ Xは加水分解性基であって、複数個ある Xは、 互!ヽに同一でも異なって!/ヽても良 、）で表される化合物の加水分解及び脱水縮合に より得られるオリゴマー、フッ素原子を含まないアミノシランカップリング剤、シリコーン 変性したアクリル系単量体とアクリル系単量体の共重合によって得られたフッ素原子 を含まないシリコーングラフトアクリルポリマーを含有する熱硬化性榭脂組成物、 に関する。
発明の効果
[0010] 本発明の減反射性光学フィルム及び PDP用光学フィルムは、その減反射層が安価 な材料から得られ、且つ比較的低温且つ短時間で硬化が可能なことから、生産効率 がよく安価に製造できると共に、減反射性、表面均一性、防汚性、耐薬品性、耐擦傷 性等に優れる。また、本発明で使用する榭脂組成物は比較的低温且つ短時間で硬 化が可能であり、上記用途に最適である。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下に本発明を詳細に説明する。
減反射性光学フィルムには、
(1)透明基材フィルムの表面に極薄膜層の低屈折率層を設けることにより外光の反 射を抑制するとともに可視光線透過率を向上させるクリアタイプ、
(2)透明基材フィルムの表面に微粒子等を含有する榭脂組成物により塗膜を設ける ことによりフィルム表面に凹凸を設け、それによつて外光を乱反射させて外光の移り 込みを抑制するアンチグレアタイプ、
(3) (2)の方法により透明基材フィルムの表面に凹凸をつけた上に（1)の方法により 低屈折率層を設け、両方法の特徴を発揮させるタイプ、
の 3形態がある。本発明はこれらの（1)及び（3)の方法に適用しうるが、更に透明基 材フィルム上に、傷つきに《するためのハードコート層及び減反射性を高めるため の高屈折率層を設け、その上に低屈折率層を設けることにより更に性能のよい減反 射性光学フィルムを得るという態様も取りうるものである。
即ち、本発明における低屈折率層は、透明基材フィルム上にあればよぐ透明基材 フィルム上に直接密着している必要はなぐ基材フィルム上にハードコート層及び/又 は減反射性を高めるための高屈折率層等の他の層を設けたその上に設けられてい てもよい。
本発明の減反射性光学フィルムに用いられる透明基材フィルムは、弾性があり透明 性が高!ヽフィルムであれば何れも使用できるものである力 使用しうる透明基材フィル ムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、 PETと記す)又はポリェチレ ンナフタレート等のポリエステル樹脂類；環状ポリエチレンナフタレート、環状ポリオレ フィン、ポリエチレン、ポリプロピレン又はポリスチレン等のポリオレフイン榭脂類;ポリ 塩化ビュル又はポリ塩化ビフエ-ル等のビュル榭脂類；ポリカーボネート榭脂；アタリ ル榭脂；トリァセチルセルロース；ポリエーテルサルホン；ポリエーテルケトン；ある 、は ノルボルネン榭脂等の透明フィルムを挙げることができる。しかし、これらに限定され るものではない。透明性に関係するヘーズ値としては 5%以下のものが好ましぐ更 には 1%以下の透明性の高!、フィルムが好ま 、。弾性や耐熱性など各種物性や取 り扱い性、入手しやすさ等力 PETフィルムがより好ましい。又前記透明基材フィルム 表面には塗剤との密着性を上げるためにコロナ放電処理、プラズマ処理、グロ一放 電処理、粗面化処理、薬品処理、又はアンカーコート剤若しくはプライマー等による 処理等の易接着処理をしてあってもよい。また、紫外線遮蔽性を保持させたフィルム であってもよい。透明基材フィルムの厚さは10〜400 111、より好ましくは 20〜250 μ mである。該基材フィルムはロール状に巻き取れるフィルムが好ましぐ厚さの均一 性が高ぐフィッシュアイや異物等が無ぐ光学フィルムの基材として十分使用に耐え られるように管理された透明フィルムが好ましい。このような透明基材フィルムは、「コ スモシャイン」シリ—ズ (商品名、東洋紡績株式会社製)、「ルミラ-」シリ—ズ (商品名 、東レ株式会社製）、「ダイァホイル」シリーズ (商品名、三菱ィ匕学ポリエステルフィル ム株式会社製)等として市場力 入手が可能である。 [0013] 次に本発明の榭脂組成物（以下単に榭脂組成物という）について説明する。
該榭脂組成物は含フッ素有機置換基を有さないアルコキシシランィ匕合物のオリゴマ 一（アルコキシシラン化合物のアルコキシ基等の加水分解性基が加水分解され、次
V、で脱水重縮合によりオリゴマー化された含フッ素有機基を有さな 、アルコキシシラ ン重縮合化合物；以下、本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物ともいう）、含フッ素有機基 を有さな ヽアミノシランカップリング剤 (F不含アミノシランカップリング剤とも ヽぅ）及び 含フッ素有機基を有さないシリコーングラフトアクリルポリマー（F不含シリコーングラフ トアクリルポリマーともいう）を、必要に応じてその他の添加剤と共に、溶剤中に均一 に溶解ある 、は分散させて得られる組成物であり、比較的安価な化合物で構成され 、乾燥機等の加熱機器内で乾燥と並行して比較的低温で熱硬化でき、低屈折率榭 脂被膜層を容易に形成できることが特徴である。
[0014] 本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物を得るためのアルコキシシランィ匕合物は、下記式
(1)
R SiX (1)
a (4— a)
(式中 aは 0、 1、 2であり、 Rは含フッ素有機基を有さない有機基であって、 aが 2のと き、 2つの Rは同一でも異なっていてもよぐ Xは加水分解性基であって、複数個ある Xは、互いに同一でも異なっていても良い）で表される化合物が好ましい。 Rの含フッ 素有機基を有さない有機基としては、 Xに含まれない、フッ素原子を含まない有機基 であれば特に限定は無い。通常 Rとしては官能性置換基を有しても良い炭素数 1〜1 0程度の炭化水素残基を挙げることができ、より好ましくは、エポキシ基又はビュル基 などの官能性置換基を有しても良い炭素数 1〜6程度の炭化水素残基を挙げること ができる。官能性置換基としてはクロル原子、ヒドロキシ基、エポキシ基、グリシジル基 又はこれらの基で置換された C1〜C4低級アルコキシ基等を挙げることができる。好 まし 、官能性置換基としてはクロル原子またはグリシジル基を挙げることができ、ダリ シジル基がより好ましい。好ましい Rの具体例としてはメチル、ェチル、プロピル、プチ ル、ペンチル、へキシル、ビュル、フエ-ル、グリシドキシプロピルなどの炭素数 1〜6 程度の炭化水素残基を挙げることができる。より好まし 、Rとしては C1〜C4アルキル 基、ビュル基、フエ-ル基、グリシドキシ置換 C1〜C4アルキル基等を挙げることがで きる。更に好ま U、Rは C 1〜C4アルキル基である。
また、 Xとしては、クロル原子、ブロム原子、アルコキシ基などを挙げることができ、好 ましくは C1〜C4アルコキシ基であり、最も好ましくはメトキシ基である。
このような化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、 フエニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、 3—グリシドキシプロピルトリメトキ シシラン、 3—グリシドキシプロピノレメチノレジメトキシシラン、 3—クロ口プロピルトリメトキ シシラン、ジメチノレジメトキシシラン、ジフエニノレジメトキシシラン、及びこれらのシラン のアルコキシ基がエトキシ基であるものなどが挙げられる。但し、これらに限定される ものではない。
これらのアルコキシシラン化合物力 オリゴマーを合成するには、これらの化合物を 、常法により加水分解重縮合 (より好ましくは酸加水分解重縮合)を行うことによって 得ることができる。原料の該シランィ匕合物は一種でも、又は二種以上併用してもよい 。該加水分解重縮合においては、これらのアルコキシシランィ匕合物の加水分解性基 (好ましくはアルコキシ基）が加水分解され、次いで脱水縮合により、オリゴマー化さ れ、アルコキシシラン重縮合ィ匕合物となる。該加水分解は酸による加水分解でもアル カリによる加水分解でもよいが、酸による加水分解が好ましい。また、場合により、低 分子量のオリゴマー（例えばメチルシリケート 51等のテトラメトキシシランの縮合体等） を原料として、重縮合を行いより高分子量のオリゴマーとしても良い。本発明におい ては、低分子量のオリゴマーを重縮合させて得られる化合物も、本アルコキシシラン 重縮合ィ匕合物に含まれる。アルコキシシラン化合物の種類及び脱水縮合程度を適 宜選択することにより、所望の本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物を得ることができる。 それを使用することで、所望の条件で硬化する榭脂組成物を得ることができ、熱硬化 性低屈折率層用に好適に使用できる。上記アルコキシシラン重縮合ィ匕合物 (オリゴマ 一）の重合度は 2〜： LOO程度の範囲であり、通常 2〜50程度、より好ましくは 3〜30程 度、場合により 4〜20程度又は 2〜10程度である。本発明では便宜上これらの重合 度を有するものをオリゴマーと呼ぶ。これらのアルコキシシラン重縮合ィ匕合物は、上 記アルコキシシラン化合物を、加水分解、例えば塩酸などの酸での加水分解と、必 要に応じて錫系触媒等の触媒の存在下での、重縮合によって得ることができる。また 、例えば、ソルガー NP— 730 (商品名、日本ダクロシャムロック株式会社製）、トスガ ード 510 (商品名、東芝シリコーン株式会社製)又は KP— 64 (商品名、信越化学ェ 業株式会社製)等として市場から容易〖こ入手することもできる。これらの市販品の中 では、トスガード 510はより好ましいものの一つである。
好ま 、該アルコキシシラン重縮合ィ匕合物としては、次に記載するアルコキシシラン 化合物の加水分解重縮合によって得られる化合物を挙げることができる。
該アルコキシシランィ匕合物としては、テトラ (メトキシ又はエトキシ)シラン、メチルトリ（ メトキシ又はエトキシ)シラン、フエニルトリ (メトキシ又はエトキシ)シラン、ビュルトリ (メ トキシ又はエトキシ)シラン、 3—グリシドキシプロピルトリ（メトキシ又はエトキシ)シラン 、 3—グリシドキシプロピルメチル (メトキシ又はエトキシ）シラン、 3—クロ口プロピルトリ (メトキシ又はエトキシ)シラン、ジメチルジ (メトキシ又はエトキシ)シラン及びジフエ二 ルジ (メトキシ又はエトキシ)シラン力もなる群力も選ばれる少なくとも一種のアルコキ シシランィ匕合物、より好ましくはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメ トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フエニルトリメトキシシラン及びジフエ二ルジメ トキシシラン力もなる群力も選ばれる一種若しくは二種以上 (好ましくは二種)のアル コキシシランィ匕合物を挙げることができる。
より好ましいアルコキシシラン重縮合ィ匕合物としては、テトラメトキシシラン、メチルトリ メトキシシラン及びジメチルジメトキシシランよりなる群力 選ばれるすくなくとも一種の 化合物の加水分解重縮合によって得られる化合物 (オリゴマー）である。また、場合に より、より好まし 、該重縮合ィ匕合物はジメチルジメトキシシラン等のジ C1〜C4アルキ ルジメトキシシランの加水分解重縮合によって得られるアルコキシシラン重縮合ィ匕合 物（ポリ C1〜C4アルキルシロキサン）である。該アルコキシシラン重縮合化合物は、 必要に応じて、一種若しくは二種以上を併用してもよい。例えば上記好ましいアルコ キシシラン重縮合ィ匕合物に、フエニルトリメトキシシラン又はジフエ-ルジメトキシシラ ンの重縮合ィ匕合物を併用することもできる。該重縮合ィ匕合物の末端はヒドロキシ基で あっても、アルコキシ基であっても良い。通常はヒドロキシ基である。
F不含アミノシランカップリング剤は、硬化を促進するとともに、低屈折率層に表面 硬度向上による耐擦傷性及び密着性を与える機能を有する。該アミノシランカツプリ ング剤としては、アミノ基を有するシランカップリング剤であれば特に制限はない。代 表的なものとしてはァミノ C1〜C5アルキルトリ C1〜C3アルコキシシラン、ァミノ Cl〜
C5アルキル C1〜C3アルキルジ C1〜C3アルコキシシラン、 N— (ァミノ C1〜C3ァ ルキル）—3 アミノアルキルトリ C1〜C3アルコキシシラン又は N— (ァミノ C1〜C3 アルキル） 3 アミノアルキル C 1〜C 3アルキルジ C 1〜C3アルコキシシランが挙げ られる。より具体的には、例えば、 N— (2—アミノエチル)ァミノプロピルトリメトキシシ ラン、 N— (2 アミノエチル） 3 ァミノプロピルトリエトキシシラン、 N— (2 ァミノ ェチル）ァミノプロピルメチルジメトキシシラン、 N— (2—アミノエチル）ァミノプロピルメ チルジェトキシシラン、 3—ァミノプロピルトリメトキシシラン、 3—ァミノプロピルトリエト キシシラン、及びこれらの化合物の部分加水分解物や重合物が使用でき、これらは 一種又は二種以上が用いられる。これらのカップリング剤は、 TSL8300シリーズ（商 品名、東芝シリコーン株式会社製）、 KBMシリーズ及び KBEシリーズ (商品名、信越 化学工業株式会社製)等として市場力 入手することもできる。
好ましいものとしてはァミノ C1〜C5アルキルトリ C1〜C3アルコキシシランが挙げら れ、 3—ァミノプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
また、 F不含シリコーングラフトアクリルポリマーは、シリコーン榭脂とアクリル榭脂の ポリマーァロイであるため両樹脂の性質を併せ持ち、少量の添カ卩によって低屈折率 被膜にスベリ性による耐擦傷性や防汚性、密着性を付与する機能を有する。さらに、 このポリマーは、前記本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物及び前記アミノシランカツプリ ング剤と一緒に使用することにより、榭脂組成物の比較的低温での硬化を促進する 作用に優れている。このポリマーは、アクリル系ポリマーからなる主鎖に、ジメチルシロ キサンを主成分とする側鎖がグラフトしてなるポリマーであれば特に制限なく使用でき 、例えば、下記式（2)に示すように、アクリル系単量体力 誘導される構成単位 (n= 繰り返し単位)と、シリコーン変性したアクリル系単量体 (m=繰り返し単位）とを共重 合することにより得られるものが好適に用いられる。
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0002
[0018] 〔式（2)中、 Rは水素原子又はメチル基を示し、 Rは水素原子又は炭素数 1〜6のァ
1 2
ルキル基を示し、 Rは水素原子又はメチル基を示す。これらは繰り返し単位ごとに同
3
一であっても異なっていてもよい。 nは 1〜： L0000の正数、 mは 1〜3500の正数、 p は 1〜500の正数である。〕
また、該共重合体は特開平 7— 97770に開示されるように、シリコーン変性したァク リル系単量体とアクリル系単量体を常法によりラジカル共重合することによって得るこ とができる。上記グラフトポリマーの合成に使用されるアクリル系単量体としては、ァク リル酸及びメタクリル酸、及びそれらの C1〜C6アルキルエステル、好ましくは C1〜C 4アルキルエステル、更に好ましくはメチル及びェチルエステルなどからなる群から選 ばれる少なくとも一種が挙げられ、好ましくは一種又は二〜三種の併用が挙げられる また、シリコーン変性したアクリル単量体としてはシリコーン変性した (メタ)アクリル 酸 C1〜C6アルキルエステルが挙げられる。より具体的にはシリコーン変性したアタリ ル酸 C 1〜C6アルキルエステル又はシリコーン変性したメタクリル酸 C 1〜C6アルキ ルエステル等である。好まし 、ものとしてはシリコーン変性した (メタ）アクリル酸プロピ ルエステルを挙げることができる。また、シリコーン変性したアクリル酸 C1〜C6アルキ ルエステルは、
CH =C (R ) COOR Si (R ) CI
2 3 4 5 3-Q Q
(式中は Rは水素原子又はメチル基、 Rは C1〜C6アルキレン基、 Rはメチル基又
3 4 5
はメトキシ基、 C1はクロル原子、 Qは 1〜3の整数、好ましくは 1、を表す)で表される (メ タ）アタリレート置換クロロシランィ匕合物と片方の末端にヒドロキシ基を有するジメチル シロキサンィ匕合物（ヒドロキシ基の反対の末端はメチル基等の C1〜C4アルキル基、 メチル基が好ましい）とを常法により脱塩酸反応させることにより得ることができる。 R
4 がプロピレン基、そして Qは 1である（メタ）アタリレート置換クロロシランィ匕合物に上記 ジメチルシロキサンィ匕合物を反応させて得られるシリコーン変性した (メタ）アクリル酸 プロピルエステルを用いて、（メタ)アクリル系単量体と共重合したとき、上記式（2)で 示される構成単位を有するシリコーングラフトアクリルポリマーを得ることができる。
[0019] 上記式（2)において、 Rはメチル基、又は場合により水素原子とメチル基 (例えば（ メタ)アクリル系単量体として、アクリル酸とメタクリル酸の両者若しくはその C1〜C2ァ ルキルエステルを使用した場合）が好ましぐ Rは水素原子、メチル基又はェチル基
2
が好ましい。そして、 nは 1〜5000力 S好ましく、特に好ましくは 1〜2500であり、 mは 1 〜2000程度であり、 10〜2000力 S好ましく、特に好ましく ίま 1〜： LOOOであり、 piま 5〜 300程度であり、 10〜300が好ましい。また、場合により 6〜： LOO程度が好ましい。尚 、繰り返し数 n及び mは、シリコーングラフトアクリルポリマー中の各構成成分の合計セ グメント数を表し、必ずしも連続したモノマー数を示すものではな 、。
また、該ポリマーの好ましい数平均分子量は 1000〜100, 000程度である。
シリコーングラフトアクリルポリマー中におけるシリコーンの含有量は、 5〜90重量0 /0 (以下特に断らない限り％は重量％を表す）の範囲内であり、 10〜90%の範囲が好 ましく、 10〜600/0、特に好ましく ίま 20〜500/0である。また、場合により、 5〜600/0力 S 好ましぐより好ましくは 5〜50%である。
該シリコーングラフトアクリルポリマーは例えばサイマック US-270、 US— 380 (商 品名、東亞合成株式会社製)、 X— 22— 8000シリーズ (商品名、信越化学工業株式 会社製)等として市場からも入手できる。
[0020] 本発明で使用される上記各成分は何れも含フッ素有機基を有しておらず、このよう な化合物で低屈折率層用塗剤が構成されて!、るため、含フッ素有機基を有する榭脂 を用いた榭脂組成物に較べて安価であり、且つ密着性、耐擦傷性、防汚性及び耐 薬品性等の良好な、し力も塗膜を点状にはじく現象 (以下、ハジキと記す)等による反 射欠点 (反射性点状面欠点）（塗膜がはじかれて、点状の穴ができる現象)が少ない 、比較的低い温度で、短時間の硬化が可能な低屈折率榭脂塗膜を形成することが できる。
前記各成分の組成比は、本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物 100重量部（以下特に 断らない限り、部は重量部を示す）に対して、アミノシランカップリング剤は 5〜40部、 より好ましくは 10〜30部、シリコーングラフトアクリルポリマーは 0. 5〜10部、より好ま しくは 1〜5部である。また、場合により、本アルコキシシラン重縮合ィ匕合物 100部に 対して、アミノシランカップリング剤は 3〜40部、より好ましくは 5〜30部、シリコーング ラフトアクリルポリマーは、 2〜8部程度でもよい。これらの各成分は総量で、溶剤を含 む榭脂組成物全体に対して、 0. 5〜20重量％ (以下％は特に断らない限り重量％ を示す）、より好ましくは 1〜10%含有される。また、場合により、該各成分の総量は、 溶剤を含む榭脂組成物全体に対して、 1〜30%、好ましくは 5〜 15%程度でも良い 。残部は上記各成分以外の、溶媒及び必要に応じて添加される添加剤である。 上記の各成分を溶剤中に均一に溶解及び Z又は分散することにより低屈折率層用 榭脂組成物を調製することができる。溶解及び Z又は分散の方法特に限定されな ヽ 力 ゲル化する場合もあるので上記の各成分をそれぞれ溶剤に溶解した溶液状にし た上で混合するのが好ましい。例えば、予め本アルコキシシラン重縮合化合物を下 記溶剤に溶解した溶液と、シリコーングラフトアクリルポリマーを溶剤に溶解した溶液 を均一に混合し、得られた混合液と、アミノシランカップリング剤を下記溶剤に溶解し た溶液とを混合するなどの方法により、全体がゲル化しな ヽようにするのが好ま ヽ。 このようにして得られた榭脂組成物は、硬化後の膜厚が 1 m以下、例えば 0. 01 〜： m程度、より好ましくは 0. 05-0. 5 /z m程度となるように塗工されたとき、比較 的低温、例えば 80〜200°C程度、好ましくは 90〜170°C程度、更に好ましくは 95〜 160°C程度で、短時間、例えば 0. 5〜10分、好ましくは 0. 5〜5分、より好ましくは 1 〜5分、更に好ましくは 1〜4分程度で硬化可能であり、比較的低温で短時間硬化が 可能な榭脂組成物である。
本発明の榭脂組成物を調製するに当たり、使用しうる溶剤としては前記各成分に対 する溶解性の高いものであればいずれも使用可能である。通常、コーティング層の均 一性、乾燥しやすさ、引火性、毒性、入手のしゃすさ等を考慮し該溶媒を適宜選択 すればよい。該溶剤の具体例としては、例えば、ジォキサン、テトラヒドロフラン、 1,2 ージメトキシメタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ ェチノレエーテル、ジエチレングリコールジブチノレエ一テル、プロピレングリコーノレモノ メチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、トリエチレングリコーノレジ メチノレエーテノレ、トリエチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、テトラエチレングリコーノレ ジメチルエーテル又はテトラエチレングリコールジェチルエーテル等のエーテル類； エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネート等のカーボネート類;メチルェチル ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン又はァセトフエノン等のケトン類；フエ ノール、タレゾール又はキシレノール等のフエノール類；酢酸ェチル、酢酸ブチル、ェ チルセ口ソルブアセテート、ブチルセ口ソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブ チルカルビトールアセテート又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 等のエステル類；トルエン、キシレン、ジェチルベンゼン又はシクロへキサン等の炭化 水素類；トリクロロェタン、テトラクロロェタン又はモノクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭 化水素類；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、 n—ブチ ルアルコール、 2-ブチルアルコール又は n—へキシルアルコール等のアルコール類 ；石油エーテル又は石油ナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤を挙げることができる 力 これらに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独で用いても二種類以上 を混合して用いても良い。
[0022] 尚、前記榭脂組成物を調製するに当たり、所望により、粘度調整剤、消泡剤又は/ 及びレべリング剤（界面活性剤等)等の添加剤を添加してもよ!/、。
[0023] 本発明で使用する熱硬化性低屈折率層用塗剤は前記榭脂組成物をそのまま使用 してもよいし、下記塗工の方法に合わせて、適切な粘度となるように前記溶剤で希釈 することも出来る。該塗剤の粘度としては、通常 ImPa' S (ミリパスカル '秒)以下が好 ましい。
[0024] 低屈折率層用塗剤を透明基材フィルム上に直接塗工し低屈折率層を設ける場合 は、次のように行われる。
低屈折率層用塗剤は透明基材フィルムに通常のコーターを使用して塗布すれば 良い。該コーターとしては、例えば、カーテンフローコーター、マイクログラビアコータ ~~、口1 ~~ノレコ1 ~~ ' ~"、スピンコ1 ~~ ' ~"、リップコ^ ~" ' ~"、ブレ■ ~"ドコ■ ~" ' ~"、ノ ■ ~"コ^ ~"タ 一、リバースコーター又はダイコーター等が使用できる。該低屈折率層の厚さは反射 を低減させるべき可視光線の波長の 1Z4の厚さが好ましぐ通常、硬化後の膜厚が 0. 01〜1 μ m程度、好ましくは 0. 05〜0. 5 μ m程度、 0, 05〜0. 3 μ m程度、最も 好ましくは 0.： m程度になるように塗布するのが好ましい。本発明においては、塗 膜の硬化が比較的低温で、且つ短時間で行われるので、塗膜の乾燥工程及び熱硬 化工程は熱風乾燥機内で連続して行うことができる。従って、本発明においては、通 常の光学フィルムの乾燥条件、例えば、 70〜200°Cの温度の空気が供給される加熱 機器内を 0. 5〜5分間で通過させることにより、低屈折率層用塗剤の塗膜が乾燥さ れると同時に熱硬化される。得られる低屈折率層の屈折率は 1. 5以下が好ましぐ更 に ίま 1. 35〜： L 49力より好まし!/、。
[0025] また、本発明の減反射性光学フィルムは、、直接前記低屈折率層を設けたものであ つても、前記透明基材フィルム上に少なくとも 1層以上の他の層を設けたものであって もよい。該他の層としては、透明基材フィルムの傷付き易さを補完するためのハードコ ート層及び/又は減反射性を高めるための高屈折率層等を挙げることができる。ハー ドコート層及び高屈折率層の両者を設ける場合は、該基材フィルム上にハードコート 層を、次いでその上に高屈折率層を設け、そして更にその上に前記低屈折率層を設 けることにより本発明の減反射性光学フィルムを得ることが出来る。これらの層にはァ ンチグレア性を付与するためのシリカのような微粒子を含有させたり、更には、高屈折 率層と低屈折率層を交互に繰り返して積層して減反射の波長域を広げると！ヽぅ態様 も採用することが出来る。ハードコート層及び Ζ又は高屈折率層が設けられた透明基 材フィルム上に前記低屈折率層用塗剤を塗工する場合も、前記コーターを使用して 前記と同様に行うことが出来る。
[0026] ハードコート層用塗剤は硬度が高ぐ透明性を有する耐擦傷性に優れた層を形成 しうるものであれば特に限定されない。通常、該塗剤は熱硬化性単量体及び紫外線 等の活性エネルギー線により硬化しうる活性エネルギー線硬化性単量体 (以下両者 を合わせて単に硬化性単量体とも言う）、重合開始剤、及び必要に応じて添加される 、分散剤等のその他添加剤を溶剤中に溶解及び Ζ又は分散させたものが使用され る。
[0027] ここで、熱硬化性単量体及び活性エネルギー線硬化性単量体としては、重合性不 飽和基を 2個以上有する多官能性単量体、例えば、ジペンタエリスリトールへキサ (メ タ）アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトー ルテトラ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリ トールトリ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールジ (メタ）アタリレート、ジトリメチロール
テトラメチロールメタンテトラアタリレート、 1, 1, 1ートリス（アタリロイルォキシエトキシ エトキシシクロへキシル）プロパン、 2, 2 ビス（4—アタリロイルォキシエトキシェトキ シフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（4 アタリロイルォキシエトキシエトキシフエ-ル)メ タン、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、水添ジシクロペンタジェ -ルジ (メ タ）アタリレート、トリス（ヒドロキシェチル)イソシァヌレートトリアタリレート、トリス（ヒドロ キシェチル)イソシァヌレートジアタリレート、 1 , 4 ブタンジオールジ (メタ）アタリレー ト、 1, 6 へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、イソボル-ルジ (メタ）アタリレート又 はポリアルキレングリコールジ (メタ）アタリレート（例えば、ポリエチレングリコールジ (メ タ）アタリレート、ポリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート又はポリテトラメチレング リコールジ (メタ）アタリレート等)等の 2〜4官能 (メタ)アタリレートが用いられ、これら は単独又は二種以上を併用して用いることができる。
[0028] 又、重合開始剤としては、例えば、ァゾビスイソブチ口-トリル、ァゾビスシクロへキ サンカルボ-トリル又はァゾビスバレロ-トリル等のァゾ系のラジカル重合開始剤、過 酸化べンゾィル、 tert ブチルヒドロパーォキシド、クメンバーォキシド又はジァシル パーォキシド等の有機過酸ィ匕物系のラジカル重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメ チルエーテル、ベンゾインェチルエーテル又はべンゾインイソプロピルエーテル等の ベンゾイン系化合物、ベンジル、ベンゾフエノン、ァセトフエノン又はミヒラーズケトン等 のカルボ-ル化合物、ァゾビスイソブチ口-トリル又はァゾジベンゾィル等のァゾ化合 物、若しくは α—ジケトンと三級ァミンとの混合物等の光重合開始剤等が使用できる 更に、添加剤としては、それ自体公知のレべリング剤、消泡剤等が適宜添加される 更に、溶剤としては前記低屈折率層用塗剤で述べた溶剤が使用でき、溶解性や乾 燥し易さ、安全性等を配慮して適宜選択すればよい。
[0029] ハードコート層用塗剤は前記硬化性単量体、重合開始剤及び分散剤等その他添 加剤を溶剤中に均一に溶解及び Z又は分散させ、必要に応じて、塗工しやすい濃 度になるよう調整することにより得ることが出来る。一般的に硬化性単量体と重合開 始剤の合計含有量がハードコート層用塗剤中に 20〜80重量％、より好ましくは 30〜 70重量％になるように調整される。残部が溶剤及びその他の添加剤である。尚、重 合開始剤は、前記硬化性単量体 100重量部当たり 0. 01〜10重量部になるように用 いるのが好ましい。
硬化性単量体、重合開始剤、分散剤等が溶剤中に調合されたこのようなハードコ 一ト層用塗剤は、ハードロック OPZUVシリーズ (商品名、電気化学工業株式会社製 )、 KAYANOVA POPシリーズ（商品名、日本化薬株式会社製）、レイキュア OPシ リーズ (商品名、十条ケミカル株式会社製)等として市場力 入手することもできる。
[0030] 更に、前記ハードコート層用塗剤には無機微粒子、例えば、酸化珪素、酸ィ匕アルミ ユウム、酸化スズ、酸ィ匕チタン等の微粒子を添加することにより、より高い表面硬度を 得るとともに、屈折率の調整ゃ榭脂の硬化による収縮を緩和することができる。また、 該塗剤には分散剤や塗工のレべリング剤或いはその他添加剤を添加することもでき る。ハードコート層の膜厚は 1〜15 mが好ましぐ 1 μ m以下では十分な表面硬度 を得ることができず、 15 mを超えると透明基材フィルムのカールが大きくなり、クラッ クが発生しやすくなるなど、好ましくない。
また、アンチグレア性を付与した減反射性光学フィルムにする場合には反射光を乱 反射させるために微粒子を、ハードコート層、低屈折率層、高屈折率層のいずれか に含有させるのが好ましいが、比較的層厚の大きなハードコート層に含有させるのが 好都合である。微粒子としてはシリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物又は有機化 合物で平均粒子径が 0. 5〜10 μ m、より好ましくは 1〜5 μ mのものを使用するとよ い。 [0031] ハードコート層用塗剤を透明基材フィルムに直接、例えばコーターを使用して塗布 し、乾燥工程、硬化工程を経てハードコート層付フィルムを得ることが出来る。コータ 一としては、例えば、カーテンフローコーター、マイクログラビアコーター、ローノレコー ター、リップコーター、スピンコーター- ブレードコーター、ノ ーコーター、リノく一スコー ター、ダイコーター等が使用でき、 目的の膜厚や表面状態によって適宜選択すること ができる。塗膜の乾燥工程及び硬化工程は常法によって行うことが出来る。フィルム 表面の鉛筆硬度は好ましくは H以上、更に好ましくは 2H以上、用途によっては 3H以 上が必要とされる場合があるが、硬化性単量体の選択、膜厚の選定、無機微粒子の 添加、硬化時の窒素パージ等の処置によって望まれる表面硬度のハードコート層を 設けることができる。この上に前記低屈折率層を設けることにより、ハードコート層付 減反射性光学フィルムを得ることができる。
[0032] 減反射性を更に高める目的で必要に応じて前記低屈折率層の下層に高屈折率の 榭脂層を形成することができる。そのための高屈折率層用塗剤は、例えば前記ハー ドコート層用塗剤に用いられる熱硬化性単量体、活性エネルギー線硬化性単量体、 重合開始剤及び高屈折率性をもたらす金属酸ィ匕物を前記溶剤中に、必要に応じて 添加されるその他添加剤と共に溶解及び Z又は分散して得ることができる。高屈折 率性をもたらす金属酸ィ匕物としては、酸化チタン、酸ィ匕ジルコニウム、酸化亜鉛、酸 ィ匕スズ、酸化鉄、酸化インジウムスズ、アンチモンドープ酸化スズ、アンチモンドープ 酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸ィ匕亜鉛などが挙げられる。塗工のしゃすさ、導電性（ 帯電防止性)の付与及び価格等の面力 アンチモンド一プ酸ィ匕錫及びアンチモンド 一プ酸ィ匕亜鉛がより好ましい。高屈折率層の屈折率は 1. 55以上が好ましい。その 膜厚は、高屈折率層を設けたフィルムの反射率の最大値を示す波長が 400〜900n mになるように設定するのが好ましぐ通常 0. 1〜0. 3 mの範囲の厚さに設定する のが好ましい。
[0033] このような高屈折率層は、前記のハードコート層上に設けるのが好ましぐ塗工はハ ードコート層の被覆と同様の一般的なコーターを使用すれば良ぐ例えば、カーテン フロ■ ~~コ^ ~~タ' ~~、マイクログラビアコ^ ~"タ' ~"、口■ ~"ノレコ^ ~" ' ~" 力' ~"テンフロ■ ~"コ^ ~" ' ~" リップコーター- スピンコーター、ブレー "コーター- ノ ーコーター、リノく一スコーター 、ダイコーター等から目的の膜厚や表面状態を考慮して、適宜選択することができる 。塗工後、乾燥工程、硬化工程を経て高屈折率層を有するフィルムを得ることができ 、この上に前記低屈折率層を設けることにより、優れた減反射性光学フィルムを得る ことができる。
以上の説明により明らかなように、透明基材フィルム上に先ず前記ハードコ ト層を 設け、次に前記高屈折率層を設け、最後に前記低屈折率層を設けた層構成を有す る減反射性光学フィルムが本発明の最も好ましい態様である。
[0034] PDPは 2枚の板状ガラスで挟まれたセルに封入した希ガス (ネオン、キセノン等）に 電圧をかけ、そのときに生じる紫外線をセル壁面に処理された発光体に当てることで 必要な可視光線を発生させて映像をディスプレイに映し出すものである。そのため、 PDPにおいては、可視光線と同時に周辺家電の誤作動原因となる波長 700〜： L 100 nmの近赤外線 (以下場合により NIRともいう）、人体に有害とされる電磁波、ネオンガ スに起因し赤色光の純度を下げる波長 595nm近辺の橙色光線 (以下、ネオン光と いう、また、場合により NEともいう）等の有害な電磁波も一緒に放出されるため、有益 な可視光線は透過させる力 これら有害な電磁波は遮蔽する必要がある。従って、そ のための光学フィルタが PDPモジュールの前面に必要となる。そのため、減反射性 光学フィルムを、 PDP用光学フィルムとして使用する場合は、減反射性光学フィルム にこれらの電磁波を遮蔽するためのフィルム等を貼り合わせて使用するのが通常で ある。本発明の減反射性光学フィルムはこのような用途に最適に使用することができ 、減反射性、近赤外線吸収性及びネオン光吸収性に優れる PDP用の複合型光学フ イルムとすることが出来る。例えば、人体に有害とされる電磁波を遮蔽する透明体 (以 下、電磁波遮蔽透明体と記す）に、前記減反射性光学フィルムを貼合し、必要に応じ てその他機能を有する層を設けて、減反射性を有する PDP用光学フィルタとして使 用することができる。
[0035] 電磁波遮蔽透明体には、銅などの金属の極細線を視認性に影響を与えない程度 の格子状等の幾何学模様にして透明フィルム等の透明体に保持させたメッシュタイ プと、可視光線透過性を有する範囲で、該金属の極薄膜を透明体に保持させた薄 膜タイプがある。薄膜タイプの電磁波遮蔽透明体は、普通、近赤外線を反射して視 認者側に透過させないので、前記光学フィルタ用に、これを用いた場合は、ネオン光 遮蔽性を有する層を、該電磁波遮蔽透明体又は前記減反射性光学フィルムに設け
、両者を合体させることで前記 PDP用の光学フィルタとして使用出来る力 メッシュタ イブの電磁波遮蔽透明体を光学フィルタ用に用いた場合には、該電磁波遮蔽透明 体又は前記減反射性光学フィルムの少なくとも 、ずれかに設けられた層にお 、て、 近赤外線遮蔽性とネオン光遮蔽性を有することが必要になる。通常、近赤外線遮蔽 用には波長 700〜： L lOOnmの近赤外線を吸収する化合物（近赤外線吸収化合物と も 、う）力 又ネオン光遮蔽用には波長 550〜620nmに極大吸収を有する化合物（ ネオン光吸収化合物ともいう）が使用される。該遮蔽性を有する層としては、特に限 定されないが、好ましい一つの態様として、該電磁波遮蔽透明体と前記減反射性光 学フィルムを貼り合わせるための粘着層と減反射性フィルムとの間に設けるバインダ 一層を挙げることが出来る。その場合には、上記それぞれの化合物とバインダー榭 脂を含む塗剤を用いて、減反射性フィルムの減反射面の反対側の透明基材フィルム 面にバインダー層を設けその上に更に粘着剤層を設けることにより複合機能を有す る本発明の減反射性光学フィルム (プラズマディスプレイ用光学フィルム）とすることが 出来る。
また、本発明では前記の減反射性光学フィルムの低屈折率層の下、つまりハードコ 一ト層ゃ高屈折率層に上記の波長を吸収する化合物を含有させるか、減反射面の 反対側の透明基材フィルム面に、該化合物を含有する塗膜等の層を新たに設けるか 、又は減反射面の反対側に粘着層を設ける際にその粘着層に該化合物を含有させ る等すること〖こより、複合機能を有する本発明の減反射性光学フィルム (プラズマディ スプレイ用光学フィルム）にすることが出来る。
上記における近赤外線吸収化合物としては、波長 700〜： L lOOnmの近赤外線を 効率よく吸収でき、可視光線の透過率が良 、化合物であれば 、ずれも使用可能で、 例えば、フタロシアニン系、チオール金属錯体系、ァゾ化合物、ポリメチン系、ジフエ -ルメタン系、トリフエニルメタン系、キノン系又はジィモ -ゥム塩系の色素等それ自 体公知の近赤外線吸収化合物が使用できる。これらは単独に或いは二種以上を併 用して用いることができる。また、ネオン光吸収化合物はネオン光を効率的に吸収で き、その他の可視光線の透過率の良い化合物であればいずれも使用可能で、例え ばシァニン系、ァザポルフィリン系、スクァリリウム系、ァゾメチン系、キサンテン系、ォ キソノール系又はァゾ系化合物等それ自体公知のネオン光吸収化合物が使用でき る。これらは、単独に或いは二種以上を併用して用いることができる。本発明におい てハードコート層などの層にこれらの化合物を含有させる場合、メッシュタイプの電磁 波遮蔽透明体を用いる PDP用の場合には、近赤外線吸収化合物とネオン光吸収化 合物を塗剤に混合して、他方薄膜タイプの電磁波遮蔽透明体を用いる PDP用の場 合には、ネオン光吸収化合物のみを塗剤に混合して、それぞれを含有する塗剤とし 、該塗剤を用いて、 目的とする層を形成すればよい。
また、上記のようにこれらのそれぞれの波長の光を吸収する化合物（以下両者を含 めて単に吸収化合物ともいう）を含むバインダー層を形成する場合は、バインダー榭 脂材料に、必要に応じて色調整色素、安定剤等の添加剤と共に、該吸収化合物を、 溶剤に溶解及び Z又は分散して塗剤とするのが好まし ヽ。特にこれらの吸収化合物 はバインダー層中で経時劣化をする場合があるので、耐久性のある化合物の選択及 び処方の組立てには十分配慮するのが好ましい。使用しうるバインダー榭脂としては 例えば、ポリエステル系榭脂、アクリル系榭脂、ポリアミド系榭脂、ポリウレタン系榭脂 、ポリオレフイン系榭脂又はポリカーボネート系榭脂等の材料が挙げられ、それぞれ の材料に合った溶剤やコーティング条件で前記ハードコート層と同じように、通常の コーターを使用してコーティングすればよい。
上記のようにして得られた近赤外線吸収性及びネオン光吸収性を有する層を有す る光学フィルム又は光学フィルタにおいては、波長 700〜： L lOOnmの近赤外線の透 過率が 20%以下、より好ましくは 10%以下に、ネオン光透過率、例えば波長 590η m近辺の光の透過率が 50%以下より好ましくは 40%以下になるように、各吸収化合 物の量及び/又はコーティング条件を設定するのが好ましい。
本発明の減反射性光学フィルムは通常、対象機器の平面体に貼合して使用される ので、フィルムに粘着層を設けておくと好都合である。本発明の PDP用光学フィルム の最も好ま 、一つの態様は該粘着層に前記の近赤外線吸収化合物及び Z又は ネオン光吸収化合物を含有させたもので、波長 700〜： L lOOnmの近赤外線の透過 率が 20%以下、より好ましくは 10%以下に、ネオン光透過率、例えば波長 590nm 近辺の光の透過率が 50%以下、より好ましくは 40%以下になるように各吸収化合物 を含有させるのが好ましい。
[0038] 粘着層は、透明性の高いものが好ましぐ粘着層に使用しうる粘着成分としては、ァ クリル系榭脂粘着材、ゴム系粘着材又はシリコーン系榭脂粘着材等が挙げられる。 粘着層を構成する粘着成分は密着性を保持するために分子量 (重合度)の高 ヽもの 、即ち、主ポリマーの重量平均分子量 Mwは 60万〜 200万程度が好ましぐより好ま しくは 80万〜 180万程度である。
これらのうち、透明性、粘着性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格等に優れている点で アクリル系榭脂粘着材が好ましい。この粘着材は、通常アクリル酸系アルキルエステ ルを主成分として、これに極性単量体を共重合させ、共重合体とし、更に架橋剤で架 橋したものである。この粘着材は粘着力及び凝集力に優れているとともに、ポリマー 中に不飽和結合がないため光や酸素に対する安定性が高ぐまた、共重合体を得る 際のモノマーの種類や分子量の選択の自由度が高い点で優れている。上記共重合 体中における極性単量体成分の割合は、アクリル酸系アルキルエステル成分 100重 量部あたり、好ましくは 0. 1〜20重量部、より好ましくは 0. 5〜15重量部、更には好 ましくは 1〜 10重量部である。
[0039] 主成分のアクリル酸系アルキルエステルの具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル 、（メタ）アクリル酸ェチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ） アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸へキシル、（メタ）アクリル酸へプチル、（メタ）ァ クリル酸オタチル、（メタ）アクリル酸ノエル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸 ゥンデシル又は (メタ）アクリル酸ドデシル等の、アクリル酸アルキルエステル又はメタ アクリル酸アルキルエステル（アルキルエステルにおけるアルキル基の炭素数が 1〜 12程度が好ましい）が挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。これら は単独又は二種以上の併用で使用される。
なお、本明細書において、例えば「(メタ)アクリル酸メチル」等の記載は「アクリル酸 メチル又は Z及びメタクリル酸メチル」等の意味で使用され、同様な「 (メタ）アクリル」 又は「 (メタ)アタリレート」等の表現を含む語にぉ 、ては、同様な意味で使用される。 [0040] 極性単量体としては次に記載する架橋剤との架橋点等として機能するものが用いら れ、極性基として水酸基やカルボキシル基を有するものが好ましぐ例えばアクリル酸 又はメタアクリル酸等のカルボキシル基含有単量体、（メタ）アクリル酸 2-ヒドロキシル ェチル又は (メタ）アクリル酸 2-ヒドロキシルプロピル等のヒドロキシル基含有 (メタ）ァ クリル酸エステル系単量体、 N, N—ジメチルアミノエチルアタリレート、 N— t—ブチ ルアミノエチルアタリレート等のアミノ基含有 (メタ）アクリル酸エステル系単量体等の アクリル系の極性単量体、又はマレイン酸等が使用できる。しかし、これらは限定され るものではない。これらは単独又は二種以上を併用して使用される。
[0041] 又、使用しうる架橋剤の具体例としては、ポリイソシァネートイ匕合物（例えばへキサメ チレンジイソシァネート又はへキサメチレンジイソシァネートのトリメチロールプロパン 付加物等の脂肪族ジイソシァネート、又はトリレンジイソシァネートのトリメチロールプ 口パン付加物等の芳香族ジイソシァネート）；へキサメチレンジァミン又はトリェチルジ ァミン等のジァミン化合物；エポキシ化合物（例えばビスフエノール A又はェピクロルヒ ドリン等のエポキシ榭脂、又はポリエチレングリコールジグリシジルエーテル等のェポ キシ榭脂系化合物）；尿素樹脂系化合物;金属塩 (例えば塩ィ匕アルミニウム、塩ィ匕第 二鉄、硫酸アルミニウム又は硫酸銅等）が挙げられる。し力しこれらに限定されるもの ではない。これらの架橋剤は単独又は二種以上を併用して使用される。
これらの架橋剤の配合は、通例、アクリル系榭脂粘着材 100重量部あたり 0. 001 〜10重量部、好ましくは 0. 005〜5重量部、更に好ましくは 0. 01〜3重量部が用い られる。
[0042] 上記した粘着成分は、必要に応じて添加されるその他の添加剤とともに、溶剤中に 溶解及び Z又は分散させて、粘着層用塗剤として使用する。使用しうる溶剤としては 、例えば、アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸ェチル、酢酸 プロピノレ、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ェチノレセロソノレブ、ブチ ルセ口ソルブ、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、 n—へキサン、 n—へ プタン、塩化メチレン、クロ口ホルム又は N, N—ジメチルホルムアミド等が挙げられる 。し力しこれらに限定されるものではない。これらは単独で又は二種以上の併用で使 用される。また、必要に応じて用いるその他の添加剤としては前記した近赤外線吸収 化合物及びネオン光吸収化合物や紫外線吸収剤又は/及び色調整用色素などが挙 げられる。
[0043] 粘着層を有する本発明の減反射性光学フィルムは、粘着層の乾燥後の厚さが 5〜 100 m、好ましくは 10〜50 mになるように前記粘着層用塗剤を通常のバーコ一 ' ~"、リノ 1 ~"スュ ~"タ' ~"、コンマコ^ ~" ' ~"、グラビアコ1 ~~タ' ~"、ダイコ1 ~~ ' ~~ リ、ソプコ■ ~" ター等のコーティング機を使用して、減反射性光学フィルムの減反射面の反対側の 面に、通常は直接 (場合により、他の層がある場合にはその上に)塗布し、乾燥させ、 必要に応じて、該粘着層上に剥離フィルムを貼り合わせて巻き取る方法、或いはあら かじめ剥離フィルム表面に前記粘着層用塗剤を同様に塗布し、乾燥後、減反射性光 学フィルムの減反射面と反対側の面に、粘着剤層を有する剥離フィルムを圧着して 粘着剤層を転写させ、そのまま巻き取る方法等によって作製される。通常使用される 近赤外線吸収化合物やネオン光吸収化合物には、紫外線で劣化するものがあるた め、劣化しにくい化合物を選択したり、劣化しにくい組成を組んだりすることが重要で ある。また、粘着層の外光側、つまり、減反射面のハードコート層等に紫外線吸収剤 を含有させたり、紫外線吸収剤を含有した透明基材フィルムを使用することも、該吸 収化合物の劣化を防ぎ、耐久性を良くするために有効である。
[0044] 以下に、本発明で製造される減反射性光学フィルム及び PDP用光学フィルムのい ずれも粘着層を設けた場合の層構成の具体例をそれぞれ (1)〜 (4)及び (5)〜（10 )に記すが、これらに限定されるものではない。尚、下記において、 NIRは近赤外線 吸収性を有するものであること、 Neはネオン光吸収性を有するものであること及び A Gはアンチグレア性を有するものであることを示す。
非 NIR ·非 Ne減反射性光学フィルムの場合
(1)低屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム Z粘着層、（2)低屈折率層 Z 高屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム Z粘着層、（3)低屈折率層 Z高屈 折率層 ZAG'ハードコート層 Z透明基材フィルム Z粘着層、（4)低屈折率層 Z高屈 折率層 Z低屈折率層 Z高屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム Z粘着層
NIR · Ne減反射性光学フィルム（PDP用光学フィルム）の場合 下記 PDP用光学フィルムの例はメッシュタイプの電磁波遮蔽透明体を用いた PDP 用の場合の層構成であり、薄膜タイプの電磁波遮蔽透明体を用いた PDP用の場合 は近赤外線吸収性能を省略した、つまり、 NIRを削除した層構成になる。（5)低屈折 率層 Z高屈折率層 ZNIR'Ne'ハードコート吸収層 Z透明基材フィルム Z色調整粘 着層、（6)低屈折率層 Z高屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム ZNIR'N e'粘着層、（7)低屈折率層 ZNIR'Ne'ハードコート吸収層 Z透明基材フィルム Z 粘着層、（8)低屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム ZNIR' Ne ·粘着層、 (9)低屈折率層 Z高屈折率層 ZNIR'ノ、一ドコート層 Z透明基材フィルム ZNe'粘 着層、（10)低屈折率層 Z高屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム ZNIR- Ne層 Z色調整粘着層、（11)低屈折率層 Zハードコート層 Z透明基材フィルム ZNI R-Ne層 Z色調整粘着層
[0045] 本発明の減反射性光学フィルムは減反射性、防汚性、耐擦傷性、耐薬品性等に優 れている。又、使用する原材料が安価であり、製造工程での硬化温度が比較的低温 であることから製造設備が簡略ィ匕できるので、低コストでの製造が可能である。また、 ハードコート層、高屈折率層等を有する減反射性光学フィルムは PDP用光学フィル ム等への適用に適するものである。
実施例
[0046] 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。実施例において部は重量部を
、％は重量％をそれぞれ意味する。
[0047] 各塗剤の調製
(1)ハードコート層用塗剤
多官能性アクリルモノマー、重合開始剤等が調合された紫外線硬化性のアクリル系 ハードコート剤（商品名 KAYANOVA POP— 052AS；日本化薬株式会社製） 10 0部、酢酸ブチル 18部、メチルェチルケトン 42部を十分混合、溶解し、ハードコート 層用塗剤を得た。
[0048] (2)高屈折率層用塗剤
固形分 60%のアンチモンドープ酸化亜鉛（商品名セルナックス CX— Z600M— 3； 日産化学工業株式会社製） 100部を撹拌しながらカチオン系分散剤 (商品名ソルス パース 20000 ;ゼネカ株式会社製） 3. 5部を添カ卩し、更に、ジペンタエリスリトールへ キサアタリレート（商品名 KAYARAD DPHA;日本化薬株式会社製） 15部、光重 合開始剤（商品名ィルガキュア— 184：チバガイギー株式会社製） 2. 7部、トルエン 1 6. 4部及びメチルェチルケトン 35部を混合し、紫外線硬化性の高屈折率層用塗剤 を得た。
[0049] (3)低屈折率層用塗剤
イソプロピルアルコール 100部に本アルコキシシラン重縮合化合物溶液 (含量約 20 〜21%) (商品名トスガード 510 ;東芝シリコーン社製） 32部及び F不含シリコーング ラフトアクリルポリマー溶液 (含量約 30%) (商品名サイマック US270 ;東亞合成株式 会社製) 0. 9部を混合、溶解した。この溶液 40部に F不含アミノシランカップリング剤 (商品名 KBM903 ;信越ィ匕学工業株式会社製:有効成分 3 ァミノプロピルメトキ シシラン）の 5%イソプロピルアルコール溶液 10部を徐々に添加混合して均一溶液に し、更にイソプロピルアルコール 50部を加えて均一溶液にし、低屈折率層用塗剤を 得た。この塗剤から得られる塗膜の硬化後の屈折率は約 1. 45であった。
[0050] (4)粘着層用塗剤
下記表 1の材料を十分に混合溶解し、紫外線吸収剤含有の粘着層用塗剤を得た。 表 1
アクリル系粘着剤（商品名 PTR— 2500T;日本化薬株式会社製） 100部
紫外線吸収剤（商品名チヌビン 109；チバガイギー株式会社製） 1部
硬化剤 1 (商品名 M12ATY;日本化薬株式会社製） 0. 5部
硬化剤 2 (商品名 L45EY;日本化薬株式会社製） 0. 4部
硬化剤 3 (商品名 C 50 ;綜研ィ匕学株式会社製） 0. 1部
メチルェチルケトン 70部
(註）チヌビン 109；ベンゾトリアゾール系化合物、
M12ATY;金属キレート化合物、
L45E Y；イソシァネート化合物、
C 50；シランカップリング剤
[0051] 実施例 1 (1)ハードコート層及び高屈折率層を有する減反射性光学フィルムの作製 両面に易接着処理がされた厚さ 100 μ mの幅 1300mm、長さ 1000mのロール状 の PETフィルム（商品名；ルミラー 100U46、東レ株式会社製）の片面に上記ハード コート層用塗剤をマイクログラビアコーターで硬化後の層の厚さが 8 μ mになるように 15mZ分の速度で塗布し、そして 50°Cの温風を供給しながら該塗膜を乾燥した。次 Vヽで該塗膜に連続的に紫外線を照射して硬化し、ハードコート層を有するフィルムを 得た。次いでこのフィルムのハードコート層の上に高屈折率層用塗剤を硬化後の層 の厚さが 0.： mになるようにマイクログラビアコーターで 25mZ分の速度で塗布し 、そして 50°Cの温風を供給しながら乾燥した。次いで該塗膜に連続的に紫外線を照 射して該塗膜を硬化し、高屈折率層を積層したフィルムを得た。更にこの上に上記の 低屈折率層用塗剤をマイクログラビアコーターで硬化後の層の厚さが 0. 1 μ mにな るように 12mZ分の速度で塗布した。次いで、得られた該塗膜を有するフィルムを 25 mの熱風乾燥機に、始めの 1Z3を 100°C、中間の 1Z3を 140°C、最後の 1Z3を 10 0°Cの温風を供給しながら通し (熱風乾燥機を通過するに要した時間:約 2分)、乾燥 機内で該塗膜の乾燥及び硬化をした。得られた本発明の減反射性光学フィルムは、 視感反射率 1. 2%で、かつ、後記するように耐擦傷性、防汚性及び耐薬品性に優れ たものであった。
尚、実施例及び比較例で使用したマイクログラビアコーターはコーター部分、乾燥 機部分、紫外線照射部分が一体化された装置であり、フィルムの作製速度は塗工速 度と同じで、各フィルムは 3インチ巻き芯に巻き取ってロール状にした。また、視感反 射率は 5° 正反射測定装置の付いた紫外 ·可視光分光光度計 (商品名「UV— 315 0」島津製作所製)により測定した。
(2)粘着層付き減反射性光学フィルムの作製
厚さ 38 μ mの PET剥離フィルム（商品名ダイァホイル MR— 38；三菱化学ポリエス テルフィルム株式会社製)の表面に前記表 1の粘着層用塗剤をコンマコーターで乾 燥後の粘着層の厚さが 18 mになるように塗布し、乾燥し、粘着層を有する剥離フィ ルムを得た。この粘着面を、先に得た減反射性光学フィルムの減反射面の反対側の PET面にロール加圧しながら直径 3インチの巻き芯に巻き取り、粘着層を該 PET面 に粘着させ、粘着層が剥離フィルムで覆われた粘着層付きの本発明フィルムを得た
[0053] 実施例 2
アンチグレア性付与減反射性光学フィルムの作製
前記（1)記載のハードコート層用塗剤 160部に平均粒子径 1. 8 mのシリカ微粒 子（商品名 SYLYSIA350；富士シリシァ化学株式会社製） 2. 4部を添加して均一に 分散させた。得られた塗剤を実施例 1におけるハードコート層用塗剤の代わりに使用 する以外は実施例 1と同様の方法で、本発明フィルムを作製し、優れたアンチグレア 性を有する本発明フィルムを得た。
このフィルムを、実施例 1と同様の方法で、粘着層付きフィルムとし、粘着層が剥離 フィルムで覆われた粘着層付きのアンチグレア性を有する本発明フィルムを得た。本 フィルムは外光を乱反射させ、背景等の映り込みを良好に抑制した。
[0054] 実施例 3
粘着層及び NIRZNe層を有する減反射性光学フィルム (PDP用光学フィルム）の作 製
PETフィルム（商品名ルミラー 100U46；東レ株式会社製)の代わりに紫外線吸収 性 PET (商品名ルミラー 100QT78 ;東レ株式会社製)を使用する以外は、実施例 1 と同様の方法で本発明の減反射性光学フィルムを作製した。該フィルムの正反射率 は 1. 2%であり、該フィルムは優れた耐擦傷性、防汚性及び耐薬品性を有していた。 該フィルムの減反射面の反対側に、後記表 2に示す近赤外線及びネオン光吸収層（ NIRZNe層）用塗剤を乾燥後に約 8 mの層厚になるように塗布し、次いで該フィル ムの塗布面を乾燥機内で、 120°Cの熱風で乾燥し、 NIRZNe層を有する減反射性 光学フィルム（PDP用光学フィルム）を作製した。該フィルムの、波長 700〜： L lOOnm の近赤外線透過率は 9%、波長 585nmのネオン光透過率は 32%であった。このフィ ルムの NIRZNe層上に実施例 1と同様に粘着層を設け、メッシュタイプの電磁波遮 蔽透明体に適応する粘着層付き NIRZNe減反射性光学フィルム (PDP用光学フィ ルム)を作製した。
[0055] NIRZNe層用塗剤の作製 下記表 2に記載の割合において、下記表 2に記載のメチルェチルケトンに、下記表 2に記載のそれ以外の成分を加え、十分撹拌して、添加成分を溶解し、 NIRZNe層 用塗剤を得た。
表 2
アクリル系榭脂 * (商品名 IR—G205 ;日本触媒株式会社製) 76. 0部
Ne光吸収剤（商品名 TY— 102 ;旭電ィ匕工業株式会社製） 0. 03部
NIR吸収剤（商品名 IRG— 022；日本化薬株式会社製） 0. 80部
NIR吸収剤（商品名 CY— 40BE ;日本化薬株式会社製） 0. 05部
NIR吸収剤（商品名 IR— 12；日本触媒株式会社製） 0. 20部
メチルェチルケトン 23. 0部
(注） *アクリル系榭脂の固形分は 30%
[0056] 実施例 4
(粘着層付き PDP用本発明フィルム）
近赤外線吸収化合物、ネオン光吸収剤、紫外線吸収剤、色調整用色素及び粘着 剤を含む後記表 3記載の成分及び組成カゝらなる NIRZNeZ色調整粘着層用塗剤 を厚さ 38 μ mの PET剥離フィルム（商品名ダイァホイル MR— 38；三菱化学ポリエス テルフィルム株式会社製)の表面にコンマコーターで乾燥後の粘着層の厚さが 18 μ mになるように塗布し、乾燥した。乾燥後、この粘着面を実施例 1の（1)で得られた減 反射性光学フィルムの減反射面の反対側の PET面にロール加圧しながら直径 3イン チの卷き芯に巻き取り、粘着層を剥離フィルムで覆われた NIRZNeZ色調整粘着 層を有する本発明フィルム (近赤外線化合物、ネオン光吸収化合物及び色調整色素 含有粘着層付きの PDP用光学フィルム）を作製した。該フィルムの、波長 700〜： L 10 Onmの近赤外線透過率は 9%、波長 585nmのネオン光透過率は 32%であった。
[0057] NIRZNeZ色調整粘着層用塗剤の調製
下記表 3に記載の割合で、下記表 3に記載のメチルェチルケトンに、下記表 3に記 載のそれ以外の成分を混合し、それらを溶解し、 NIRZNeZ色調整粘着層用塗剤 を得た。
表 3 近赤外線吸収化合物（下記式 (3)の化合物） 1. 0部
ネオン光吸収剤（商品名 TAP— 2) 0. 1部
紫外線吸収剤（商品名チヌビン 109) 1. 2部
黄色色素（商品名 KAYASET Yellow GN) 0. 006咅
青色色素（商品名 KAYASET Blue N) 0. 007咅
アクリル系榭脂（商品名 PTR— 2500T) 120. 0
硬ィ匕剤（商品名 M12ATY) 0. 32
硬化剤（商品名 L45EY) 0. 44咅
硬化剤（商品名 C— 50) 0. 14咅
メチルェチルケトン 84. 0
(註）
TAP— 2 ;テトラァザボルフイリンィ匕合物；山田化学工業株式会社製
チヌビン 109；ベンゾトリアゾール系化合物；チバガイギー株式会社製
黄色色素（Color Index)；ソルベントイェロー 93 ;日本化薬株式会社製
青色色素（Color Index)；ソルベントブルー 35日本化薬株式会社製
M12ATY;金属キレート化合物；日本化薬株式会社製
L45EY;イソシァネートイ匕合物；日本化薬株式会社製
C— 50；シランカツプリング剤；綜研化学株式会社製
[0058]
Figure imgf000032_0001
(. 3 '
[0059] max ; 1109nm (ジクロロメタン）、
モル吸光係数（ ε ) ; 107000
[0060] 比較例 1
実施例 1の低屈折率層用塗剤の代わりに、本アルコキシシラン重縮合化合物溶液 ( トスガード 510) 32部をイソプロピルアルコール 100部に加えて均一溶液にした低屈 折率層用塗剤を使用する以外は実施例 1と同様の方法で比較フィルム 1を得た。
[0061] 比較例 2
実施例 1の低屈折率層用塗剤に含有する本アルコキシシラン重縮合化合物溶液 ( トスガード 510 ;固形分 20%) 32部をテトラエトキシシラン (商品名 KBE04 ;信越ィ匕学 工業株式会社製) 6. 4部とイソプロピルアルコール 25. 6部に代える以外は実施例 1 と同様の方法で比較フィルム 2を得た。
[0062] 比較例 3
実施例 1の低屈折率層用塗剤に含有するアミノシランカップリング剤 (KBM903)を エポキシ基含有のシランカップリング剤（商品名 KBM403；信越ィ匕学工業社製）に代 える以外は実施例 1と同様の方法で比較フィルム 3を得た。
[0063] 比較例 4
実施例 1の低屈折率層用塗剤に含有するシリコーングラフトアクリルポリマー（サイ マック US270)を含フッ素有機置換基を有するアルコキシシラン化合物（商品名 XC 93— A5382 ;東芝シリコーン株式会社製）に代える以外は実施例 1と同様の方法で 比較フィルム4を得た。
[0064] 上記の実施例 1、実施例 2及び比較例 1〜比較例 4で得られた減反射性光学フィル ムについて、粘着層を設ける前の減反射性光学フィルムを検体として、以下の試験 方法で性能試験を行った。結果は表 4に示す。
[0065] (減反射性試験及び評価基準）
各検体の減反射面の反対側の面をサンドペーパーをかけて粗面化して遮光してお き、減反射面の C光源による視感反射率を、 5° 正反射測定装置の付いた紫外'可 視光分光光度計 (商品名「UV— 3150」島津製作所製)で測定した。減反射性評価 基準;?見感反射率は 1. 5%以下がよぐ 1. 5〜2. 0%では若干劣る。
[0066] (擦傷性試験及び耐擦傷性の評価基準）
表面性測定機 (商品名「HEIDON— 14S」新東科学社製）にて、各検体の減反射 面を上にし、 200gZcm2の荷重下、スチールウール（# 0000)で 10往復摩擦し、擦 傷状態を観察した。 耐擦傷性評価基準;擦傷は少ないほうが良ぐ 5本以下なら耐擦傷性は優れる。
[0067] (密着性試験及び評価基準）
各検体の減反射面の密着性を JIS K5400の碁盤目剥離試験法に従って測定し た。
密着性評価基準;剥離されなかった碁盤目（非剥離度)が 95Z100以上なら密着性 は優れる。
[0068] (防汚性試験及び評価基準）
各検体の減反射面に室温下で純水 2マイクロリットルを滴下し、接触角計 (商品名「 接触角計 CA— D型」協和界面科学株式会社製)にて接触角を測定した。
防汚性評価基準;接触角が大きいほど防汚性は良ぐ 95° 以上なら防汚性は優れる
[0069] (耐薬品性試験及び評価基準）
各検体の減反射面を上にして以下の薬液を 0. 2ミリリットル滴下して 30分間その状 態を保った後、試験面の変化の有無 (コート層の剥れ、変色等)を評価した。試験薬 液；（1) 3重量％水酸ィ匕ナトリウム水溶液、（2)メチルェチルケトン、（3) 5重量％中性 洗剤水溶液 (商品名フレッシュライム；ニッサン石鹼社製）、（4) 5重量0 /0アルカリ性洗 剤水溶液 (商品名マイペット；花王社製)耐薬品性評価基準；すべての薬液で変化の 無いものが優れる。
[0070] (塗工性試験及び評価基準）
各検体の減反射面を lOOcmX 100cmの大きさに切り取り、目視にて大きさ 0. lm m2以上の反射性点状面欠点の個数を数えた。なお、反射性点状面欠点とは塗膜が はじかれて生じる点状の穴等により生じる減反射面における点状の減反射むらを言う 塗工性評価基準;反射性点状面欠点が少な!/、ほうが塗工面のハジキが少なぐ塗工 液の処方が適しており、 5個以下なら優れる。
[0071] 評価結果
表 4 [0072]
Figure imgf000035_0001
[0073] 考察
実施例 1は全ての項目で良好であり、実施例 2は視感反射率が数値では若干劣る ものの、粘着層付きの同フィルムを 42インチ PDPの前面に粘着層を介して貼った場 合、外光を乱反射して写り込みをほぼ完全に抑えることができた。尚、その他の項目 については優れていた。
比較例 1は耐擦傷性、耐薬品性で劣り、比較例 2、比較例 3は耐擦傷性、密着性、 耐薬品性が劣っており、この硬化条件では十分に硬化されな力つたと判断できる。比 較例 4は塗工表面にハジキ現象による多くの反射欠点が生じ、塗工性が不良であつ た。これは低屈折率層用塗剤に含有する含フッ素有機置換基を有するアルコキシシ ランィ匕合物の影響によるものと判断される。
以上の結果、実施例 1及び実施例 2は何れの比較例に比べても総合的に優れて ヽ

Claims

請求の範囲
[1] 含フッ素有機置換基を有さな 、アルコキシシランィ匕合物のオリゴマー、含フッ素有 機置換基を有さな ヽアミノシランカップリング剤、含フッ素有機置換基を有さな ヽシリ コーングラフトアクリルポリマー及び溶剤を含有する熱硬化性榭脂組成物のコーティ ング層の硬化により得られた低屈折率層を透明基材フィルム上に有する減反射性光 学フィルム。
[2] 透明基材フィルム上に、ハードコート層、高屈折率層、及び請求項 1に記載の該低 屈折率層がこの順に設けられている減反射性光学フィルム。
[3] 高屈折率層がアンチモンドープ酸化錫又はアンチモンドープ酸化亜鉛、又は両者 を含有する層である請求項 2に記載の減反射性光学フィルム。
[4] 含フッ素有機置換基を有さな 、アルコキシシランィ匕合物のオリゴマー、含フッ素有 機置換基を有さな ヽアミノシランカップリング剤、含フッ素有機置換基を有さな ヽシリ コーングラフトアクリルポリマー及び溶剤を含有する熱硬化性榭脂組成物からなる塗 工液を透明基材フィルム又はハードコート層及び高屈折率層がこの順で設けられた 透明基材フィルム上に塗工したのち、 70〜200°Cの空気が供給される熱風乾燥機 内を 0. 5〜5分で通過させ溶剤の乾燥工程及び熱硬化工程を連続的に施して低屈 折率層を形成せしめることを特徴とする減反射性光学フィルムの製造法。
[5] 請求項 1乃至請求項 3の 、ずれか一項に記載の減反射性光学フィルム又は請求項 4の製造法で得られた減反射性光学フィルムに波長 700〜： L 1 OOnmの近赤外線を 吸収する化合物及び Z又は波長 550〜620nmに極大吸収を有する化合物を含有 する層が設けられてなるプラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
[6] 請求項 1乃至請求項 3の 、ずれか一項に記載の減反射性光学フィルム又は請求項 4の製造法で得られた減反射性光学フィルムの低屈折率層の設けられた面と反対側 の面に波長 700〜： L lOOnmの近赤外線を吸収する化合物及び Z又は波長 550〜6 20nmに極大吸収を有する化合物を含有する粘着層を設けてなるプラズマディスプ レイパネル用光学フィルム。
[7] 含フッ素有機置換基を有さないアルコキシシランィ匕合物のオリゴマーが下記式（1) R SiX (1)
a (4— a)
(式中 aは 0、 1又は 2であり、 Rは含フッ素有機基を有さない有機基であって、 aが 2 のとき 2つの Rは同一でも異なっていてもよぐ Xは加水分解性基であって、複数個あ る Xは、互 ヽに同一でも異なって!/、ても良 、）で表される化合物のオリゴマーである請 求項 1に記載の減反射性光学フィルム。
[8] Rが C1〜C10の炭化水素残基、 Xが C1〜C4アルコキシ基であるアルコキシシラン 化合物のオリゴマーである請求項 7に記載の減反射性光学フィルム。
[9] Rが C 1〜C4アルキル基である請求項 8に記載の減反射性光学フィルム。
[10] 含フッ素有機置換基を有さないアミノシランカップリング剤が N—ァミノ C1〜C4アル キル置換を有しても良 ヽァミノ C 1〜C4アルキルトリ C 1〜C3アルコキシシランである 請求項 1に記載の減反射性光学フィルム。
[11] N—ァミノ C 1〜C4アルキル置換を有しても良いアミノ C 1〜C4アルキルトリ C 1〜C 3アルコキシシランが N—ァミノ C1〜C4アルキルアミノプロピルトリ（メトキシ又はエト キシ)シラン又はァミノプロピルトリ（メトキシ又はエトキシ)シランである請求項 10に記 載の減反射性光学フィルム。
[12] 含フッ素有機置換基を有さないシリコーングラフトアクリルポリマーが下記式 (2)
Figure imgf000037_0001
Figure imgf000037_0002
〔式中、 Rは水素原子又はメチル基を示し、 Rは水素原子又は炭素数 1〜6のアル
1 2
キル基を示し、 Rは水素原子又はメチル基を示す。これらは繰り返し単位ごとに同一
3
であっても異なっていてもよい。 nは 1〜： L0000の正数、 mは 1〜3500の正数、 pは 1 〜500の正数である。〕 で表される構成単位力もなるシリコーングラフトアクリルポリマーである請求項 1に記 載の減反射性光学フィルム。
[13] 含フッ素有機置換基を有さな 、アルコキシシランィ匕合物のオリゴマーが
テトラ (メトキシ又はエトキシ)シラン、メチルトリ (メトキシ又はエトキシ)シラン、フエニル トリ (メトキシ又はエトキシ)シラン、ビュルトリ (メトキシ又はエトキシ)シラン、 3—グリシド キシプロピルトリ（メトキシ又はエトキシ）シラン、 3—グリシドキシプロピルメチル (メトキ シ又はエトキシ）シラン、 3—クロ口プロピルトリ（メトキシ又はエトキシ）シラン、ジメチル ジ (メトキシ又はエトキシ)シラン及びジフエニルジ (メトキシ又はエトキシ)シラン力ゝらな る群力 選ばれる少なくとも一種の化合物のオリゴマーであり、含フッ素有機置換基 を有さないアミノシランカップリング剤が N— (2—アミノエチル)ァミノプロピルトリ (メト キシ又はエトキシ）シラン、 N- (2—アミノエチル）ァミノプロピルメチルジ (メトキシ又 はエトキシ)シラン及び 3—ァミノプロピルトリ (メトキシ又はエトキシ)シラン力もなる群 力も選ばれる少なくとも一種である請求項 12に記載の減反射性光学フィルム。
[14] 下記式（1)
RaSiX (1)
(4-a)
(aは 0、 1、 2であり、 Rは含フッ素有機基を有さない有機基であって、 aが 2のとき 2 つの Rは同一でも異なっていてもよぐ Xは加水分解性基であって、複数個ある Xは、 互!ヽに同一でも異なって!/ヽても良 、）で表される化合物の加水分解及び脱水縮合に より得られるオリゴマー、フッ素原子を含まないアミノシランカップリング剤、シリコーン 変性したアクリル系単量体とアクリル系単量体の共重合によって得られたフッ素原子 を含まないシリコーングラフトアクリルポリマーを含有する熱硬化性榭脂組成物。
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