WO2005040245A1 - 感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム - Google Patents

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WO2005040245A1
WO2005040245A1 PCT/JP2004/015605 JP2004015605W WO2005040245A1 WO 2005040245 A1 WO2005040245 A1 WO 2005040245A1 JP 2004015605 W JP2004015605 W JP 2004015605W WO 2005040245 A1 WO2005040245 A1 WO 2005040245A1
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WO
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photosensitive resin
compound
general formula
hard coat
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PCT/JP2004/015605
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Inventor
Hirokazu Karino
Yuichiro Matsuo
Daisuke Watakabe
Koji Nakayama
Original Assignee
Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition containing an epoxy group-containing silicon compound and a film having a cured film thereof. More specifically, the present invention relates to a photosensitive resin composition having a low reflectance when used in an antireflection film having excellent scratch resistance and a low refractive index, and a film having a cured film thereof.
  • plastics are widely used in various industries including the automobile industry, the home appliance industry, and the electric and electronic industry.
  • the reason why plastics are used in large quantities in this way is that, in addition to their workability and transparency, they are lightweight, inexpensive, and have excellent optical properties.
  • it has drawbacks such as being softer than glass and the like and easily scratching the surface.
  • a hard coat agent a thermosetting hard coat agent such as a silicone paint, an acrylic paint, or a melamine paint is used.
  • silicon-based hard coat agents are widely used because of their high hardness and excellent quality.
  • the curing time is long and expensive, it is not suitable for a hard coat layer provided on a continuously processed film.
  • photosensitive acrylic hard coat agents have been developed and used (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-148934 and Patent Document 1).
  • the photosensitive hard coat agent cures immediately upon irradiation with radiation such as ultraviolet rays to form a hard film, so it has a fast processing speed and has excellent properties such as hardness and scratch resistance. Because of the low total cost, it is now the mainstream in the hard coat field.
  • it is suitable for continuous processing of films such as polyester.
  • Plastic films include polyester finolem, polyatalylate film, acrylic film, polycarbonate film, vinyl chloride film, triacetyl cellulose film, and polyethersulfone film.Polyester films are the most widely used due to their excellent properties. Have been.
  • This Polyester film is a glass shatterproof film, a car light-shielding film, a surface film for whiteboard, a system kitchen surface antifouling film, and electronic materials such as touch panels, liquid crystal displays, and CRT flat TVs. Widely used as film. These are coated with a hard coat to make sure that the surface is not damaged even if it is displaced.
  • AR processing light interference due to the difference in refractive index to reflect and prevent reflection
  • thermosetting type (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-000726 and Patent Document 3) that condenses a silane conjugate by a sol-gel method is used.
  • a radiation-curable resin using a (meth) phthalate having a fluorine atom has also been developed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-182745 and Patent Literature 4). It is necessary to cure in a vacuum or in a nitrogen atmosphere in order to sufficiently cure the (meth) atarylate, and the equipment becomes expensive and there is a problem.
  • a radiation-curable low-refractive-index hard coat has been demanded because of problems such as productivity and generation of cracks due to heating.
  • radiation curable resins do not have sufficient abrasion resistance, and it is necessary to add new equipment to the current line such as nitrogen replacement.
  • Patent Document 1 JP-A-9-48934
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-145903
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-000726
  • Patent Document 4 JP-A-10-182745
  • the present invention is easily cured by radiation even without nitrogen substitution or the like, has excellent scratch resistance, and when used in an anti-reflection film, has a low reflectance, a photosensitive resin composition and its curing. It is an object to provide a film having a film.
  • the present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, have found that a photosensitive resin composition having a specific compound and composition can solve the above problems, and have reached the present invention. .
  • R represents a substituent having an epoxy group.
  • R represents an alkyl group of C 1 1 1 4
  • R represents a substituent having 1-20 fluorine atoms.
  • R is a C alkyl f 2 14
  • a photosensitive resin composition characterized by containing
  • R is glycidoxy C is oxy e 11 C alkyl group or
  • e is a C alkyl group
  • the polymer compound (E) having a (poly) siloxane structure in the side chain can be obtained by copolymerization of a modified silicone having a terminal double bond and a polymerizable monomer.
  • the ratio of the compound of the general formula (1) to the compound of the general formula (2) is such that the compound of the general formula (2) is 0.5 to 2 mol per mole of the compound of the general formula (1).
  • a hard coat agent and a high refractive index hard coat agent having a refractive index of 1.55 or more are applied in this order on a base film, and the above (1) to ( 10) ⁇ , the anti-reflection hard coat obtained by coating and curing the photosensitive resin composition according to any one of
  • the high-refractive-index hard coating agent contains a polyfunctional (meth) acrylate (H), a metal oxide (I) having a primary particle diameter of 11 to 200 nanometers, and a radical photopolymerization initiator).
  • R represents a substituent having an epoxy group.
  • R represents a C-C alkyl group.
  • R represents a substituent having 112 fluorine atoms.
  • R represents a C 1 -C alkyl group f 214).
  • An alkoxysilicon compound having a fluorine atom represented by the following formula is used.
  • R is not particularly limited as long as it is a substituent having an epoxy group.
  • a glycidoxy C-C alkyl group such as a ⁇ -glycidoxystyl group, a ⁇ -glycidoxypropyl group, a ⁇ -glycidoxybutyl group, preferably a glycidoxy C-C alkyl group,
  • Glycidinole ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethynole, ⁇ _ (3,4-epoxycyclohexyl) propyl, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl, ⁇ - C with oxysilane groups such as (3,4-epoxycyclohexyl) propyl, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) butyl, and _ (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl
  • Preferred specific examples of the compound that can be used as the compound of the above include j3-glycidyl
  • R is a force showing an alkyl group of C.
  • R are methinole and ethyl.
  • the fluorine-containing alkoxysilicon compound represented by the general formula (2) used in the present invention includes a substituent R
  • f It may be a substituent having 20 substituents.
  • Specific examples include, for example, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyl Noretriethoxysilane, nonafluorohexyltrimethoxysilane, nonafluorohexyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, 3-trimethoxysilylpropylpentadecaful Orotate, 3-triethoxysilylpropylpentadecafluorootate, 3-trimethoxysilylpropylpentadecafluorooctylamide, 3_triethoxysilylpropylpentadecafluorooctylamide, 2-trimethoxy Silylethyl pentadecafluorodecyl sulf
  • R are methinole and ethinole.
  • the compound represented by the general formula (2) can be obtained from the market.
  • Examples of commercially available products include KBM-7103 and KBM-7803 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
  • the epoxy group-containing alkoxy silicon compound represented by the general formula (1) or the general formula (1) The power obtained by (co) condensing the alkoxysilicon compound having an epoxy group of 1) and the alkoxysilicon compound having a fluorine atom of the general formula (2) in the presence of a basic catalyst can be obtained.
  • the (co) condensation ratio of the compound of the general formula (1) and the compound of the general formula (2) is The compound is preferably 0.5 to 2 mol.
  • water can be added as necessary.
  • the amount of water to be added is usually 0.05 to 1.5 monoles, preferably 0.07 to 1.2 monoles per 1 mol of alkoxy groups in the whole reaction mixture.
  • the catalyst used in the above condensation reaction is not particularly limited as long as it is basic, but sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogencarbonate, Inorganic bases such as potassium bicarbonate, and organic bases such as ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, ⁇ -butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, and tetramethylammonium hydroxide can be used. Among them, an inorganic base or an amine is particularly preferable in that the catalyst is easily removed from the product. Moyua is preferred.
  • the amount of catalyst added to the catalyst is usually 5 to the total weight of the alkoxysilicon compound having an epoxy group (general formula (1)) and the alkoxysilicon compound having a fluorine atom (general formula (2)).
  • the condensation reaction can be performed without a solvent or in a solvent.
  • the solvent is not particularly limited as long as it dissolves an alkoxysilicon compound having an epoxy group and an alkoxysilicon compound having a fluorine atom.
  • examples of such a solvent include aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These are ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.
  • a photo-induced thione polymerization initiator (B) is used.
  • the light-powered thione polymerization initiator (B) is a catalyst that promotes a cationic polymerization reaction under light irradiation, and can be used to generate a cationic polymerization catalyst such as a Lewis acid upon irradiation with ultraviolet light or the like.
  • a cationic polymerization catalyst such as a Lewis acid upon irradiation with ultraviolet light or the like.
  • diazonium salt, sulfonium salt, odonium salt and the like can be mentioned.
  • benzenediazonexane hexaf / leo mouth antimonate benzenediazonexanehexafluorophosphate, benzenediazoniumhexafluoroborate, triphenylsulfoniumhexafluoate Oleantimonate, triphenylsulfonium hexenophosphate phosphate, triphenylenolesnorefonyhexahexenoleroborate, 4,4'_bis [bis (2-hydroxyethoxyphenylinole) sulfonate O] Phenylsulfide bishexafluo Mouth phosphate, diphenyliodenehexafluoroantimonate, diphenyliodonedomexafluorophosphate, diphenyl-2-phenyl-4-phenyloxyphenylsulfoniumhexafluroate Lophosphate and the like, and preferably, odonium salts. These may be
  • photodynamic thione polymerization initiators (B) can be easily obtained from the market.
  • Commercial products of the photoinitiated thione polymerization initiator (B) include, for example, UVI-6990 (trade name, manufactured by Union Carbide), Adeka Optomer SP-150, and Adeka Optomer SP-170 (trade name; I CIT-1370, CIT-1682, CIP-1866S, CIP-2048S, CIP-2064S (trade names; all manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), DPI-101, DPI-102 , DPI-103, DPI -105, MP 103, MP 105, BB 101, BB 102, BB 103, BB 105, TPS-101, TPS-102, TPS-103, TPS-105, MDS-103, MDS- 105, DTS-102, and DTS_103 (trade names; Re, misalignment manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.) and the like.
  • the amount of the photoinitiated thione polymerization initiator (B) to be used is preferably 0.5 to 20 parts by weight when the solid content in the photosensitive resin composition is 100 parts by weight, particularly preferably, It is 15 parts by weight.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may further contain a sensitizer, if necessary.
  • a sensitizer that can be used a sensitizer that promotes photothion polymerization is used. Specifically, anthracene, 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-jetoxyanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene, 2-ethynoleic 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethynoleic 9,10-jetoxy Anthracene, 2-ethynoleic 9,10-dipropoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-di (methoxyethoxy) anthracene, fluorene, pyrene, stilbene, 4, -nitrobenzyl 9,10-dimethoxyanthracene 1-2-sulfonate , 4'_nitrobenzyl 9,10-Jetoxyanthracene_2-sulfonate, 4
  • 2-Ethyl-9,10-di (methoxyethoxy) anthracene is particularly preferred in view of its compatibility with substances.
  • these sensitizers are used, they are used in an amount of 11 to 200 parts by weight, preferably 5 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photoinitiated thione polymerization initiator (B).
  • the photosensitive resin composition of the present invention uses a polymer compound (C) having a fluorine atom.
  • a polymer compound (C) having a fluorine atom As the high molecular compound having a fluorine atom (C), various high molecular compounds having a fluorine atom can be used.
  • colloidal silica (D) having a primary particle size of 1,200 nanometers is used.
  • the colloidal silica (D) that can be used includes, for example, a colloidal solution in which colloidal silica is dispersed in a solvent, or a fine powdered colloidal silica containing no dispersion solvent.
  • Examples of the dispersion solvent of a colloidal solution in which colloidal silica is dispersed in a solvent include water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether, and propylene.
  • Polyhydric alcohols such as glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate and derivatives thereof, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, amides such as dimethylacetamide, and acetic acid Esters such as ethyl and mono-n-butyl acetate, non-polar solvents such as toluene and xylene, 2-hydroxybutyl ((meth) atalylates such as methacrylate, and other general organic solvents can be used. Dispersion solvents can be used.
  • the amount of colloida is usually 100 parts by weight of silica with respect to a 100 - 900 parts by weight.
  • colloidal silicas commercially available ones manufactured by a known method can be used. It is necessary to use a primary particle having a primary particle diameter of 1 to 200 nanometers, preferably a primary particle diameter of 5 to 100 nanometers, and more preferably a primary particle diameter of 10 to 80 nanometers. It is Torr. In the present invention, it is preferable to use colloidal silica having a pH of 2 to 6.
  • the surface of the colloidal silica may be surface-treated with a silane coupling agent or the like.
  • the surface of the colloidal silica is coated with an alkoxysilicon compound having an epoxy group represented by the general formula (1) or an alkoxysilicon compound having a fluorine atom represented by the general formula (2).
  • the treatment can be performed by a known method. Specifically, there are a dry method and a wet method. The dry method is a method of treating silica powder.A stock solution or solution of an alkoxysilicon compound is uniformly dispersed in a silica powder that is rapidly stirred by a stirrer. This is the processing method.
  • the wet method is a method in which silica is dispersed in a solvent or the like to form a slurry, and an alkoxysilicate compound is added to the slurry and the mixture is stirred and treated.
  • a polymer compound (E) having a (poly) siloxane structure in a side chain is used.
  • This compound (E) can be obtained by copolymerization of a modified silicone having a terminal double bond with a polymerizable monomer, and is a comb-shaped structure in which the trunk is composed of an acrylic polymer and the branch is composed of silicone. It is a graft polymer.
  • the component (E) can be produced, for example, according to the method described in JP-B-7-81113.
  • the proportion of silicone in the component (E) is in the range of 10 to 50 parts by weight, preferably 20 to 40 parts by weight, more preferably 20 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the component (E). is there.
  • the molecular weight 50,000 to 100,000 is preferable.
  • polymer compounds (E) having a (poly) siloxane structure in the side chain include, for example, CYMAC US-270, US-350, US-352, US-380 (there are also Toagosei products) And so on.
  • a diluent (F) can be used.
  • the diluent (F) that can be used for example, lactones such as ⁇ -petit mouth ratataton, ⁇ -valerolatone, ⁇ -force prolactone, ⁇ -heptalataton, hyacinoleure ⁇ -butyrolataton, ⁇ -force prolataton; Dioxane, 1,2-dimethoxymethane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycolone diethylene glycol, diethylene glycolone dibutyltinoleatene, propylene glycolone monomethinoleateneole, propylene glycolonelenoteineoleatene, Triethylene glycolone resin methinooleate, triethyleneglycoreleetinolate, tetraethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol getyl ether Etc .;
  • an antifoaming agent (G) can be used.
  • the improvement by the addition of an antifoaming agent (G), which tends to cause foaming problems, is very useful at the time of coating.
  • the antifoaming agent (G) include a silicone-based antifoaming agent, a fluorine-based antifoaming agent, a foam-breaking polymer, a high-boiling-point solvent, and the like.
  • Specific examples include BYK-060N and BYK-066N (Bik Chem. AF-600, AF-630 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may be added with a leveling agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and the like, if necessary, to impart desired functions. It is. Fluorine compounds and silicone compounds are used as leveling agents, benzotriazole compounds, benzophenone compounds and triazine compounds are used as ultraviolet absorbers, and hindered amine compounds and benzoate compounds are used as light stabilizers. And the like.
  • the photosensitive resin composition of the present invention comprises the above components (A) and (B), and if necessary, component (C), component (D) and component (E), or further, if necessary. It can be obtained by mixing component (F), component (G) and other components in any order.
  • the amounts used are usually 0.5 to 50% by weight of component (A), 0.05 to 50% by weight of component (B), 0 to 30% by weight of component (C), and 0 to 39.5% of component (D).
  • the photosensitive resin composition of the present invention thus obtained is stable over time.
  • the antireflection hard coat film of the present invention can be obtained by providing a hard coat layer, a high refractive index hard coat layer, and the photosensitive resin composition layer in this order on a base film (base film). First, a hard coat agent is applied on a base film so as to have a thickness of 110 to 30 am, preferably 3 to 20 ⁇ m after drying, and after drying, a hardened film is formed by irradiating radiation.
  • the film thickness is 0.05-5 xm, preferably 0.05-3 xm (reflectance It is preferable to set the film thickness so that the wavelength showing the maximum value is 500-700 nm), and after drying, irradiate with radiation to form a cured film.
  • the film thickness is 0.05-0.5 / im, preferably 0.05-0.3 ⁇ m (reflectance It is preferable to set the film thickness so that the wavelength that shows the minimum value is 500 to 700 nm, preferably 520 to 650 nm), and after drying, irradiate with radiation to form a cured film.
  • the wavelength that shows the minimum value is 500 to 700 nm, preferably 520 to 650 nm
  • the base film examples include polyester, polypropylene, polyethylene, polyacrylate, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyethersulfone, and cycloolefin-based polymer.
  • the film may be thick to some extent or a sheet.
  • the film to be used may be a film provided with a pattern or an easy-adhesion layer, or a film having been subjected to a surface treatment such as corona treatment.
  • Examples of the method for applying the photosensitive resin composition include bar coater coating, Meyer bar coating, air knife coating, gravure coating, reverse gravure coating, micro gravure coating, and die coater. Coating, dip coating, spin coating and the like can be mentioned.
  • the radiation to be irradiated for curing includes, for example, ultraviolet rays, electron beams and the like.
  • an ultraviolet irradiation device having a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used as a light source, and the amount of light, the arrangement of the light source, and the like are adjusted as necessary.
  • a high-pressure mercury lamp is used, curing is preferably performed at a transport speed of 5 to 60 m / min for one lamp having an energy of 80 to 120 WZcm 2 .
  • the hard coat agent used as the first layer of the antireflection hard coat film of the present invention a commercially available hard coat agent may be used as it is, or a polyfunctional (meth) acrylate (H) may be used.
  • a photoradical polymerization initiator (J) and a diluent (F) may be blended and used.
  • Specific examples of the polyfunctional (meth) atalylate ( ⁇ ) include, for example, polyethylene glycol di (meth) atalylate, tripropylene glycol di (meth) atalylate, and dipentyl ⁇ - prolatetaton adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate.
  • (Meth) acrylate for example, Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD ⁇ _220, ⁇ —620, etc.
  • bis (phenol) ⁇ adduct di (meth) acrylate trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Trimethylolpropane polyethoxytri (meth) atalylate, pentaerythritol tri (meth) atalylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) atalylate, dipentaerythritolhexa (meth) atalylate, tripetaerythritol octa (meta) Atarilate, polyg Sidyl compounds (such as bisphenol II epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, trisphenol methane epoxy resin, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin polydaricidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, etc.
  • Examples of the photoradical polymerization initiator ti) include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy 2- Phenylacetophenone, 1,1-Dichloroacetophenone, 2-Hydroxy_2-Methynole-phenylpropane_1_one, Jetoxyacetophenone, 1-Hydroxycyclohexylphenylketone, 2-Methyl-1_ [4_ (Methylthio) phenyl] _2_morpholinopropane-1-one and other acetophenones; 2-ethylanthraquinone, 2_t-butylanthraquinone, 2_cycloanthraquinone, 2-alpha Anthraquinones such as milanthraquinone
  • tertiary amines such as triethanolamine and methyl jetanolamine, N, N-dimethylaminoethyl benzoate, N, N- It can be used in combination with a polymerization accelerator such as benzoic acid derivatives such as dimethylamino benzoic acid isoamyl ester.
  • the diluent (F) used in the hard coat agent the above-mentioned diluent (F) can be used.
  • the components (H),) and (F) used in the hard coat agent can be combined and mixed in any order, and if necessary, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used. Can be added.
  • the use ratio of each component is as follows: ( ⁇ ) component 80-99 ⁇ 5% by weight,) component 0.5-20% by weight, and (F) component 0-90% by weight, preferably 20-90% by weight in the hard coat agent composition. 80% by weight.
  • the high-refractive-index hard coat used in the second layer of the antireflection hard-coated film of the present invention, 1J may have a refractive index of 1.55 or more, and is preferably a polyfunctional (meth) atarelay.
  • a photosensitive resin composition obtained from a metal oxide (I) having a primary particle size of 1 to 200 nanometers, a photoradical polymerization initiator (J), and, if necessary, a diluent (F). Is good.
  • the compound described above can be used as the polyfunctional (meth) atalylate ( ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ), the photoradical polymerization initiator and the diluent (F).
  • Metal oxides (I) having a primary particle diameter of 200 nanometers include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, iron oxide, indium tin oxide ( ⁇ ), and antimony-doped acid. Tin ( ⁇ ), zinc antimonate, aluminum-doped zinc oxide and the like. These can be obtained as a fine powder or a dispersion dispersed in an organic solvent.
  • Examples of the organic solvent used in the dispersion include methanol, ethanol, and isopropanol.
  • Alcohols such as alcohol, n-butanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and vinegar.
  • Esters such as ethyl acid and butyl acetate, and nonpolar solvents such as toluene and xylene.
  • the amount of the organic solvent is usually 70 to 900 parts by weight based on 100 parts by weight of the metal oxide.
  • a conductive metal oxide (K) can be used as the metal oxide (I) for imparting antistatic performance to the antireflection hard coat film of the present invention.
  • the conductive metal oxide (K) include tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), zinc antimonate, and aluminum-doped zinc oxide. Zinc antimonate is preferred because of its price, stability and dispersibility.
  • the component (H), the components (I) and), and the component (F), if necessary, used in the high refractive index hard coating agent can be mixed and mixed in an arbitrary order. If necessary, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be added.
  • the proportion of each component used is usually 19.5 to 79.5% by weight of component (II), 20 to 80% by weight of component (I), and 0.5 to 20% by weight of component in the high refractive index hard coating composition.
  • the component (F) is 0 to 99% by weight, preferably 50 to 98% by weight.
  • Epoxy equivalent measured by a method according to JIS II-7236.
  • the obtained hard coat agent was applied on a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., A_4300, film thickness: 188 ⁇ m) with a microgravure coater so that the film thickness became about 5 ⁇ m, After drying with C, it was cured with an ultraviolet irradiator.
  • Dipentaerythritol hexatalylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2 parts, Irgacure 184 (Chinoku Specialty Chemicals) 0.15 parts, Irgaki Yua 907 (Chiba) 0.15 parts, Cellnax CX-Z600M-3F2 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., zinc antimonate methanol dispersion sol, solid content 60%) 7.5 parts, methanol 31 parts, 60 parts of propylene glycol monomethyl ether was mixed to obtain a high refractive index hard coat agent having a solid content of 6%.
  • the high refractive index hard coat obtained on the PET film on which the hard coat layer obtained in Production Example 1 was formed was applied with a microgravure coater, dried at 80 ° C., and then cured with an ultraviolet irradiator. I let it. At this time, the film thickness was adjusted so that the maximum value of the reflectance was 500 to 700 nm.
  • a photosensitive resin composition containing the materials shown in Table 1 was applied on a PET film formed up to the high refractive index hard coat layer obtained in Production Example 2 using a microgravure coater, dried at 80 ° C, and then irradiated with ultraviolet light. The composition was cured by an oven to obtain an antireflection hard coat film. At this time, the film thickness was adjusted so that the minimum value of the reflectance was 520 to 650 nm. In Table 1, the unit represents "part".
  • KD200 Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., fluoropolymer (solid content 29.3%)
  • NK-4 Fluoropolymer from Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.
  • NK-8 Fluoropolymer from Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.
  • BYK-060N Made by Big Chemie, defoamer (solid content 3%)
  • MEK-ST Organosilica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • MEK-ST (solid content: 30%)
  • US-270 Toagosei Co., Ltd., a polymer compound having a (poly) siloxane structure in the side chain (solid content 30%)
  • DPHA Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD DPHA (mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and pentaatalylate, cross-linking agent)
  • UVI-6990 Triphenylsulfonium fluorophosphate manufactured by Union Carbide Irg. 184: Irgacure 184 (1-hydroxycyclohexyl peroxyl ketone) manufactured by Chinoku Specialty Chemicals Co., Ltd.
  • PI2074 Rhodia Japan Co., Ltd., photo-induced thione polymerization initiator
  • BBI-102 Light power thione polymerization initiator manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.
  • MFS-10P Nissan Chemical Industry Co., Ltd., magnesium fluoride sol (solid content 10%)
  • MEK Methino ethynole ketone
  • the pencil hardness of the coated film having the above composition was measured using a pencil pulling tester. Specifically, a pencil was applied at a 45 ° angle and a load of lkg was applied from above on a polyester film having a cured film to be measured, and the pencil was pulled for about 5 mm to confirm the degree of damage. Five measurements were taken.
  • a load of 200 gZcm 2 was applied on steel wool # 0000 for 20 reciprocations, and the condition of the scratch was visually judged.
  • Table 2 shows the evaluation results.
  • the anti-reflection hard coat film of Example 14 exhibited excellent effects in all of pencil hardness, scratch resistance, adhesion, and minimum reflectance, but the anti-reflection hard coat film of Comparative Example 1 The rem had poor pencil hardness, scratch resistance, and minimum reflectance.
  • the pencil hardness of the coated film having the above composition was measured using a pencil pulling tester. Specifically, apply a lkg load from above to a polyester film with a cured film to be measured and apply a load of lkg from above to pull the pencil about 5 mm.
  • the steel wool # 0000 was reciprocated 10 times under a load of 200 g / cm 2 under a load of 200 g / cm 2 , and the state of the scratch was visually determined.
  • Table 3 shows the evaluation results.
  • the anti-reflection hard coat films of Examples 5 to 7 exhibited excellent effects in all of pencil hardness, scratch resistance, abrasion resistance, defoaming property, adhesion, and minimum reflectance.
  • the anti-reflective hard coat film exhibited excellent effects in all of pencil hardness, scratch resistance, abrasion resistance, adhesion, and minimum reflectance.
  • the hard coat film of Comparative Example 1 was not good in pencil hardness, scratch resistance, and minimum reflectance.

Abstract

 放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。  下記一般式(1)     ReSi(OR1)3   (1) (式中Reは、エポキシ基を有する置換基を示す。R1はC1~C4のアルキル基を示す。)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式(1)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式(2)     RfSi(OR2)3   (2) (式中Rfは、フッ素原子を1~20個有する置換基を示す。R2はC1~C4のアルキル基を示す。)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるエポキシ基含有ケイ素化合物(A)、光カチオン重合開始剤(B)、並びに必要によりフッ素原子を有する高分子化合物(C)、一次粒径が1~200ナノメートルのコロイダルシリカ(D)及び側鎖に(ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物(E)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

Description

明 細 書
感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム
技術分野
[0001] 本発明は、エポキシ基含有ケィ素化合物を含有する感光性樹脂組成物及びその 硬化皮膜を有するフィルムに関する。詳しくは、耐擦傷性に優れ、低屈折率で反射 防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜 を有するフィルムに関する。
背景技術
[0002] 現在、プラスチックは自動車業界、家電業界、電気電子業界を初めとして種々の産 業界で大量に使われてレ、る。このようにプラスチックが大量に使われてレ、る理由は、 その加工性、透明性に加えて軽量、安価、光学特性が優れているなどの理由による 。し力 ながら、ガラスなどに比べて柔らかぐ表面に傷が付きやすいなどの欠点を有 している。これらの欠点を改良するために、表面にハードコート剤をコーティングする ことが一般的な手段として行われている。このハードコート剤には、シリコン系塗料、 アクリル系塗料、メラミン系塗料などの熱硬化型のハードコート剤が用いられている。 この中でも特に、シリコン系ハードコート剤は、ハードネスが高ぐ品質が優れている ため多く用いられている。し力しながら、硬化時間が長 高価であり、連続的に加工 するフィルムに設けられるハードコート層には適しているとは言えない。
[0003] 近年、感光性のアクリル系ハードコート剤が開発され、利用されるようになった(特開 平 9一 48934号公報、特許文献 1参照。)。感光性ハードコート剤は、紫外線などの放 射線を照射することにより、直ちに硬化して硬い皮膜を形成するため、加工処理スピ ードが速ぐまたハードネス、耐擦傷性などに優れた性能を持ち、トータルコスト的に 安価になるため、今やハードコート分野の主流になっている。特に、ポリエステルなど のフィルムの連続加工には適している。プラスチックのフィルムとしては、ポリエステル フイノレム、ポリアタリレートフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、塩化 ビニルフィルム、トリァセチルセルロースフィルム、ポリエーテルスルホンフィルムなど があるが、ポリエステルフィルムが種々の優れた特性から最も広く使用されている。こ のポリエステルフィルムは、ガラスの飛散防止フィルム、あるいは、 自動車の遮光フィ ルム、ホワイトボード用表面フィルム、システムキッチン表面防汚フィルム、電子材料 的には、タツチパネル、液晶ディスプレイ、 CRTフラットテレビなどの機能性フィルムと して広く用いられてレ、る。これらはレ、ずれもその表面に傷が付かなレ、ようにするため にハードコートを塗工してレヽる。
[0004] 更に近年におけるハードコート剤をコーティングしたフィルムを設けた CRT、 LCD などの表示体では、反射により表示体画面が見難くなり、 目が疲れやすいと言う問題 が生ずるため、用途によっては、表面反射防止能のあるハードコート処理が必要とな つている。表面反射防止の方法としては、感光性樹脂中に無機フィラーや有機フイラ 一を分散させたものをフィルム上にコーティングし、表面に凹凸をつけて反射防止す る方法 (AG処理)、フィルム上に高屈折率層、低屈折率層の順に多層構造を設け、 屈折率の差による光の干渉を利用し映り込み、反射を防止する方法 (AR処理)、また は上記 2つの方法を合わせた AG/AR処理の方法などがある。 (特開平 9一 145903 号公報、特許文献 2参照。 )
[0005] し力 ながら、 AR処理に用いられる低屈折率層にはゾルーゲル法によるシランィ匕合 物を縮合させるような熱硬化タイプ (特開平 10 - 000726号公報、特許文献 3参照。 ) が用いられている力 硬化に時間が掛かり生産性が悪いことや、ハードコート層が加 熱により収縮しクラックが入るといった問題がある。一方、フッ素原子を有する (メタ)ァ タリレートを用いた放射線硬化型樹脂も開発されている(特開平 10-182745号公報 、特許文献 4参照。)が、耐擦傷性が十分ではなかったり、(メタ)アタリレートを十分硬 ィ匕させるために真空中または窒素雰囲気下で硬化させる必要があり設備も高価にな り問題がある。
[0006] 生産性や加熱によるクラックの発生等の問題から放射線硬化タイプの低屈折率ハ ードコートが求められている。また、放射線硬化型樹脂は、耐擦傷性が十分ではなか つたり、窒素置換など現状ラインに新たに設備を入れる必要があるのが実状である。
[0007] 文献のリスト:
特許文献 1:特開平 9 - 48934号公報
特許文献 2:特開平 9 - 145903号公報 特許文献 3:特開平 10 - 000726号公報
特許文献 4 :特開平 10-182745号公報
発明の開示
[0008] 本発明は、窒素置換等をしなくても放射線により容易に硬化し、耐擦傷性に優れ、 反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低レ、感光性樹脂組成物及びその硬化 皮膜を有するフィルムを提供することを課題とする。
[0009] 本発明者らは前記課題を解決するため、鋭意検討を行った結果、特定の化合物及 び組成を有する感光性樹脂組成物が前記課題を解決することを見いだし、本発明に 到達した。
[0010] 即ち本発明は、
(1)下記一般式 (1)
R Si (OR ) (1)
e 1 3
(式中、 Rは、エポキシ基を有する置換基を示す。 Rはじ一 Cのアルキル基を示す e 1 1 4
。)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物同士力 \又は前記一般式
(1)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物と下記一般式(2)
R Si (OR ) (2)
f 2 3
(式中、 Rは、フッ素原子を 1一 20個有する置換基を示す。 Rはじ一 Cのアルキル f 2 1 4
基を示す。 )で表されるフッ素原子を有するアルコキシケィ素化合物とを、塩基性触 媒の存在下に、縮合させて得られるエポキシ基含有ケィ素化合物 (A)と光力チオン 重合開始剤 (B)とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、
(2)—般式(1)の化合物において、 Rがグリシドキシ C はォキシ e 1一 Cアルキル基又
4
ラン基を持った C一 Cのシクロアルキル基で置換された C である上
5 8 1一 Cアルキル基
3
記(1)に記載の感光性樹脂組成物、
(3)—般式(1)の化合物において、 Rがグリシドキシ C
e 1一 Cアルキル基である化合
4
物及びォキシラン基を持った C
5一 C のシクロアルキル基で置換された C アルキ 8 1 3 ル基である化合物を用いることを特徴とする上記(1)に記載の感光性樹脂組成物、
(4)更にフッ素原子を有する高分子化合物 (C)を含有することを特徴とする上記(1) なレ、し(3)のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物、 (5)一次粒径が 1一 200ナノメートノレのコロイダルシリカ(D)を含有することを特徴と する上記(1)なレ、し (4)のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物、
(6)側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物 (E)を含有することを特徴と する上記(1)なレ、し (5)のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物、
(7)側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物 (E)が、末端二重結合を有 する変性シリコーンと重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる、幹部分 がアクリル系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型グラフトポリマーであ る上記(1)なレ、し (6)のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物、
(8)希釈剤(F)を含有することを特徴とする上記(1)なレ、し(7)のレ、ずれか一項に記 載の感光性樹脂組成物、
(9)一般式(1)の化合物と一般式(2)の化合物との比率が、一般式(1)の化合物 1モ ルに対して一般式(2)の化合物が 0. 5— 2モルである上記(1)ないし(8)のいずれか 一項に記載の感光性樹脂組成物、
(10)消泡剤(G)を含有することを特徴とする上記(1)なレ、し(9)のレ、ずれか一項に 記載の感光性樹脂組成物、
(11)基材フィルム上にハードコート剤及び屈折率が 1. 55以上の高屈折率ハードコ 一ト剤をこの順に塗工し、硬化させたハードコート層の上に、上記(1)ないし(10)の レ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を塗工し、硬化させた反射防止ハードコ
(12)高屈折率ハードコート剤が、多官能 (メタ)アタリレート(H)、 1次粒径 1一 200ナ ノメートルの金属酸化物 (I)及び光ラジカル重合開始剤ひ)を含有する感光性樹脂組 成物であることを特徴とする上記(11)に記載の反射防止ハードコートフィルム、
(13) 1次粒径 1一 200ナノメートルの金属酸化物(I)が、導電性金属酸化物 (Κ)であ る上記(12)に記載の反射防止ハードコートフィルム、
に関する。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下、本発明について詳細に説明する。
[0012] 本発明の感光性樹脂組成物では、下記一般式(1) R Si (OR ) (1)
e 1 3
(式中 Rは、エポキシ基を有する置換基を示す。 Rは C一 Cのアルキル基を示す。
e 1 1 4
)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物同士力、又は前記一般式( 1)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物と下記一般式(2)
R Si (OR ) (2)
f 2 3
(式中 Rは、フッ素原子を 1一 20個有する置換基を示す。 Rは C一 Cのアルキル基 f 2 1 4 を示す。)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケィ素化合物を用いる。
[0013] 本発明で使用する前記一般式(1 )で示されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素 化合物中の Rとしては、エポキシ基を有する置換基であれば特に制限はなレ、が、例 e
えば β -グリシドキシェチル基、 γ -グリシドキシプロピル基、 γ -グリシドキシブチル 基等のグリシドキシ C一 Cアルキル基、好ましくはグリシドキシ C一 Cアルキル基、
1 4 1 3
グリシジノレ基、 β -(3, 4一エポキシシクロへキシノレ)ェチノレ基、 γ _ (3, 4—エポキシシ クロへキシル)プロピル基、 β -(3, 4一エポキシシクロへプチル)ェチル基、 β -(3, 4 一エポキシシクロへキシル)プロピル基、 β -(3, 4一エポキシシクロへキシル)ブチル 基、 _ (3, 4—エポキシシクロへキシル)ペンチル基等のォキシラン基を持った C
5一
Cのシクロアルキル基で置換された C一 Cアルキル基が挙げられる。
8 1 3
[0014] これらの中で —グリシドキシェチル基、 γ—グリシドキシプロピル基、 _ (3, 4—ェ ポキシシクロへキシル)ェチル基が好ましい。これらの置換基 Rを有する一般式(1) e
の化合物として用いることのできる化合物の好ましい具体例としては、 j3—グリシドキ
/3—グリシドキシェチノレトリエトキシシラン、 γ—グリシドキシ
Figure imgf000006_0001
γ—グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、 /3— (3,4—ェ ポキシシクロへキシル)ェチルトリメトキシシラン、 β _ (3, 4_エポキシシクロへキシル) ェチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
[0015] 前記一般式(1)において、 Rはじ一 Cのアルキル基を示す力 反応条件の点で、
1 1 4
Rとして好ましいものは、メチノレ、ェチルである。
1
[0016] また、本発明で用いる前記一般式(2)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケ ィ素化合物としては、置換基 R力 フッ素原子を 1
f 一 20個有する置換基であればよ い。具体例としては、例えばトリフルォロプロピルトリメトキシシラン、トリフルォロプロピ ノレトリエトキシシラン、ノナフルォ口へキシルトリメトキシシラン、ノナフルォ口へキシルト リエトキシシラン、ヘプタデカフルォロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルォロデ シルトリエトキシシラン、 3—トリメトキシシリルプロピルペンタデカフルォロオタテート、 3 —トリエトキシシリルプロピルペンタデカフルォロオタテート、 3—トリメトキシシリルプロピ ルペンタデカフルォロォクチルアミド、 3_トリエトキシシリルプロピルペンタデカフルォ ロォクチルアミド、 2—トリメトキシシリルェチルペンタデカフルォロデシルスルフイド、 2 —トリエトキシシリルェチルペンタデカフルォロデシルスルフイド等が挙げられ、容易に 入手でき、またエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物との相溶性からトリフルォ [0017] 前記一般式(2)において、 Rはじ
2 1一 Cのアルキル基を示す力 反応条件の点で、
4
Rとして好ましいものは、メチノレ、ェチノレである。
2
[0018] 前記一般式(2)で表される化合物は、市場から入手することができる。市販品として は、たとえば、 KBM-7103、 KBM-7803 (信越化学工業(株)製)が挙げられる。
[0019] 本発明で使用するエポキシ基を有するケィ素化合物 (A)を得る前記縮合反応にお いては、一般式(1)のエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物同士力、又は一 般式(1)のエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物と一般式 (2)のフッ素原子を 有するアルコキシケィ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、(共)縮合させることに より得ること力 S出来る。一般式(1)の化合物と一般式(2)の化合物の(共)縮合比率は 、硬化性や屈折率の観点から、一般式(1)の化合物 1モルに対して一般式 (2)の化 合物が 0. 5— 2モルが好ましい。また、(共)縮合を促進するため、必要に応じ水を添 加することができる。水の添加量は、反応混合物全体のアルコキシ基 1モルに対し通 常 0. 05— 1. 5モノレ、好ましく ίま 0. 07— 1. 2モノレである。
[0020] 上記縮合反応に使用する触媒は塩基性であれば特に限定されないが、水酸化ナト リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸力リウ ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの無機塩基、アンモニア、トリェチルァ ミン、ジエチレントリァミン、 η—ブチルァミン、ジメチルァミノエタノール、トリエタノーノレ ζ、テトラメチルアンモニゥムヒドロキシドなどの有機塩基を使用することが出来る 二れらの中でも、特に生成物からの触媒除去が容易である点で無機塩基又はアン モユアが好ましい。触媒の添カ卩量としては、エポキシ基を有するアルコキシケィ素化 合物 (一般式(1) )とフッ素原子を有するアルコキシケィ素化合物 (一般式 (2) )の合 計量に対し、通常 5 X 10_4— 7. 5重量%、好ましくは 1 X 10_3— 5重量%である。
[0021] 上記縮合反応は、無溶剤または溶剤中で行うことができる。溶剤を用いる場合の溶 剤としては、エポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物及びフッ素原子を有するァ ルコキシケィ素化合物を溶解する溶剤であれば特に制限はない。このような溶剤とし ては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルェ チルケトン、メチルイソブチルケトンなどの非プロトン性極性溶媒、トルエン、キシレン 等の芳香族炭化水素等が挙げられ、好ましくはメチルェチルケトン、メチルイソプチ ルケトンである。
[0022] 本発明の感光性樹脂組成物では、光力チオン重合開始剤 (B)を使用する。光力チ オン重合開始剤(B)は、光照射下にカチオン重合反応を促進する触媒であり、紫外 線等を照射することでルイス酸などのカチオン重合触媒を生成するものを用いること ができる。例えば、ジァゾニゥム塩、スルホニゥム塩、ョードニゥム塩等が挙げられる。 具体的には、ベンゼンジァゾ二ゥムへキサフ /レオ口アンチモネート、ベンゼンジァゾ二 ゥムへキサフルォロホスフェート、ベンゼンジァゾニゥムへキサフルォロボレート、トリ フエニルスルホニゥムへキサフルォロアンチモネート、トリフエニルスルホニゥムへキサ フノレオ口ホスフェート、トリフエニノレスノレホニゥムへキサフノレオロボレート、 4, 4' _ビス [ ビス(2—ヒドロキシエトキシフエ二ノレ)スルホ二ォ]フエニルスルフイドビスへキサフルォ 口ホスフェート、ジフエ二ルョードニゥムへキサフルォロアンチモネート、ジフエニルョ 一ドニゥムへキサフルォロホスフェート、ジフエ二ノレ— 4—チオフエノキシフエニルスルホ ニゥムへキサフルォロホスフェート等が挙げられ、好ましくは、ョードニゥム塩類である 。これらは、単独又は 2種以上を混合して使用してもよい。
[0023] これらの光力チオン重合開始剤(B)は市場から容易に入手が可能である。光力チ オン重合開始剤(B)の市販品としては、例えば、 UVI-6990 (商品名;ユニオンカー バイド社製)、アデカオプトマー SP— 150、アデカオプトマー SP— 170 (商品名;いず れも旭電ィ匕社製)、 CIT— 1370、 CIT— 1682、 CIP— 1866S、 CIP— 2048S、 CIP— 2 064S (商品名;いずれも日本曹達社製)、 DPI - 101、 DPI - 102、 DPI - 103、 DPI -105, MPト 103、 MPト 105、 BBト 101、 BBト 102、 BBト 103、 BBト 105、 T PS— 101、 TPS— 102、 TPS— 103、 TPS— 105、 MDS— 103、 MDS— 105、 DTS— 102、 DTS_103 (商品名;レ、ずれもみどり化学社製)等が挙げられる。
[0024] 光力チオン重合開始剤(B)の使用量は、感光性樹脂組成物中の固形分を 100重 量部とした時、 0. 5— 20重量部が好ましぐ特に好ましくは、 1一 15重量部である。
[0025] 本発明の感光性樹脂組成物には、さらに必要に応じて、増感剤を併用することがで きる。使用しうる増感剤は、光力チオン重合を促進するものが用いられる。具体的に は、アントラセン、 9, 10—ジメトキシアントラセン、 9, 10—ジェトキシアントラセン、 9, 1 0—ジプロポキシアントラセン、 2—ェチノレー 9, 10—ジメトキシアントラセン、 2—ェチノレー 9, 10—ジェトキシアントラセン、 2—ェチノレー 9, 10—ジプロポキシアントラセン、 2—ェ チルー 9, 10—ジ(メトキシエトキシ)アントラセン、フルオレン、ピレン、スチルベン、 4, —ニトロべンジルー 9, 10—ジメトキシアントラセン一 2—スルホネート、 4' _ニトロべンジ ルー 9, 10—ジェトキシアントラセン _2—スルホネート、 4'_ニトロべンジルー 9, 10—ジ プロポキシアントラセン一 2—スルホネート等が挙げられる力 S、溶解性及び感光性樹脂 組成物への相溶性の点で特に 2—ェチルー 9, 10—ジ (メトキシエトキシ)アントラセンが 好ましい。これら増感剤を用いる場合の使用量は、光力チオン重合開始剤(B) 100 重量部に対して 1一 200重量部、好ましくは 5— 150重量部である。
[0026] 本発明の感光性樹脂組成物には、フッ素原子を有する高分子化合物(C)を使用 する。フッ素原子を有する高分子化合物(C)としては、種々のフッ素原子を有する高 分子化合物を使用することができ、例えば、ポリテトラフルォロエチレン、ポリフッ化ビ 二リデンや、トリフルォロェチル(メタ)アタリレート、テトラフルォロプロピル(メタ)アタリ レート、ォクタフルォロペンチル(メタ)アタリレート、ヘプタデカフルォロデシル(メタ) アタリレート、 1H, 1H, 7H—ドデカフルォ口へプチル(メタ)アタリレート、 1H, 1H, 9 H—へキサデカフルォロノニル(メタ)アタリレート、 2, 2, 3, 4, 4, 4_へキサフルォロ ブチル(メタ)アタリレート、へキサフルォロイソプロピル(メタ)アタリレート、 2—ヒドロキ シ— 1H, 1H, 2H, 3H, 3H—ノナフルォ口へプチル(メタ)アタリレート、 2—ヒドロキシ -1H, 1H, 2H, 3H, 3H—トリデカフルォロノニル(メタ)アタリレート、 2—ヒドロキシ一 6 一トリフルォロメチル- 1H, 1H, 2H, 3H, 3H—ォクタフルォ口へプチル(メタ)アタリレ ート、 2—ヒドロキシ— 8—トリフルォロメチル— 1H, 1H, 2H, 3H, 3H—ドデカフルォロ ノニル (メタ)アタリレートなどのフッ素原子とエチレン性不飽和基を有する化合物を単 独または 2種以上、あるいはフッ素原子とエチレン性不飽和基を有する化合物とフッ 素原子を含まないエチレン性不飽和基を有する化合物を重合したポリマーなどが挙 げられる。
[0027] 本発明の感光性樹脂組成物には、一次粒径が 1一 200ナノメートノレのコロイダルシ リカ(D)を使用する。使用しうるコロイダルシリカ(D)としては、例えば、溶媒にコロイ ダルシリカを分散させたコロイド溶液、又は分散溶媒を含有しなレ、微粉末のコロイダ ルシリカがある。
[0028] 溶媒にコロイダルシリカを分散させたコロイド溶液の分散溶媒としては、例えば、水 、メタノール、エタノール、イソプロパノール、 n—ブタノールなどのアルコール類、ェチ レングリコール、エチレングリコールモノェチルエーテル、プロピレングリコールモノメ チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価アルコ ール類及びその誘導体、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサ ノンなどのケトン類、ジメチルァセトアミドなどのアミド類、酢酸ェチル、酢酸一 n—ブチ ルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの非極性溶媒、 2—ヒドロキシブチル(メタ リレート等の (メタ)アタリレート類及びその他一般有機溶剤類が使用できる。分散溶 媒の量は、通常コロイダルシリカ 100重量部に対し 100— 900重量部である。
[0029] これらのコロイダルシリカは、周知の方法で製造され市販されているものを使用でき る。粒径は、一次粒径が 1一 200ナノメートノレのものを使用することが必要であり、好 ましくは、一次粒径が 5— 100ナノメートル、更に好ましくは一次粒径が 10— 80ナノメ 一トルである。また、コロイダルシリカは、本発明においては pH = 2— 6のものを使用 することが好ましい。
[0030] また、コロイダルシリカの表面をシランカップリング剤等で表面処理してもよい。
[0031] また、コロイダルシリカの表面を、前記一般式(1)で表されるエポキシ基を有するァ ルコキシケィ素化合物又は前記一般式(2)で表されるフッ素原子を有するアルコキシ ケィ素化合物で表面処理することができる。 [0032] 処理方法は、公知の方法で処理することができる。具体的には、乾式法と湿式法が あり、乾式法はシリカ粉末に処理する方法で、撹拌機によって高速撹拌しているシリ 力粉末にアルコキシケィ素化合物の原液または溶液を均一に分散させて処理する方 法である。また、湿式法は溶剤などにシリカを分散させスラリー化したものにアルコキ シケィ素化合物を添加'撹拌することで処理する方法である。本発明では、どちらの 方法を用いてもよい。処理量は、処理量 (g) =シリカ重量 (g) Xシリカの比表面積 (m 2Zg) Zアルコキシケィ素化合物の最小被覆面積 (m2/g)から求められる量以下で あればよい。
[0033] 本発明の感光性樹脂組成物では、側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化 合物 (E)を使用する。
[0034] この化合物 (E)は末端二重結合を有する変性シリコーンと重合可能なモノマーとの 共重合により得ることができる、幹部分がアクリル系ポリマーで、枝部分がシリコーン で構成された櫛型グラフトポリマーである。該 (E)成分は、例えば特公平 7-81113 号公報に記載の方法に準じて製造することが出来る。 (E)成分中のシリコーンの割 合は、(E)成分 100重量部に対して 10— 50重量部の範囲であり、好ましくは 20— 4 0重量部、より好ましくは 20— 30重量部である。分子量については、 5— 10万が好ま しい。
[0035] 側鎖に(ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物 (E)の市販品としては、例えば サイマック US— 270、 US— 350、 US— 352、 US— 380 (レヽずれも東亞合成製)等を 挙げることができる。
[0036] 本発明の感光性樹脂組成物には、希釈剤(F)を使用することができる。使用しうる 希釈剤(F)としては、例えば、 γ—プチ口ラタトン、 γ—バレロラタトン、 γ—力プロラクト ン、 γ—ヘプタラタトン、 ひ一ァセチノレー γ _ブチロラタトン、 ε—力プロラタトン等のラクト ン類;ジォキサン、 1 , 2—ジメトキシメタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ エチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジブチノレエーテノレ、プロ ピレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、トリ エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、トリエチレングリコーノレジェチノレエーテノレ、テト ラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジェチルエーテル 等のエーテノレ類;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネ ;メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン、ァセトフエノン等の ケトン類;フエノール、クレゾール、キシレノール等のフエノール類;酢酸ェチル、酢酸 ブチル、ェチルセ口ソルブアセテート、ブチルセ口ソルブアセテート、カルビトールァ セテート、ブチノレカノレビトーノレアセテート、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレア セテート等のエステル類;トルエン、キシレン、ジェチルベンゼン、シクロへキサン等の 炭化水素類;トリクロロェタン、テトラクロロェタン、モノクロ口ベンゼン等のハロゲン化 炭化水素類等、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤類などが 挙げられる。これらは、単独又は 2種以上を混合して使用してもよい。
[0037] 本発明の感光性樹脂組成物では、消泡剤(G)を使用することができる。特にフッ素 系材料を使用した場合、起泡性の問題が生じ易ぐ消泡剤 (G)の添加による改善は 塗工時において非常に有用である。消泡剤(G)としては、シリコーン系消泡剤、フッ 素系消泡剤、破泡性ポリマー、高沸点溶剤等が挙げられ、具体的には、 BYK-060 N、 BYK-066N (ビックケミ一社製)、 AF_600、 AF—630 (信越化学工業(株)製) 等が好ましい。
[0038] これらは、単独又は 2種以上を混合して使用してもよい。
[0039] 更に、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じてレべリング剤、紫外線吸収 剤、光安定化剤などを添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能であ る。レべリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物等が、紫外線吸収剤と しては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフヱノン系化合物、トリアジン系化合物 等、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げ られる。
[0040] 本発明の感光性樹脂組成物は、上記 (A)成分及び (B)成分、並びに必要に応じ て (C)成分、(D)成分及び (E)成分、或いはさらに必要に応じて (F)成分、 (G)成分 及びその他の成分を任意の順序で混合することにより得ることができる。また使用量 は、通常、(A)成分 0. 5— 50重量%、 (B)成分 0. 05— 50重量%、(C)成分 0— 30 重量%、(D)成分 0— 39. 5重量%、 (E)成分 0— 15重量%、(G)成分 0— 5重量% であり、(F)成分に関しては、感光性樹脂組成物中 0— 99. 45重量%、更には 50— 98重量%が好ましい。
[0041] こうして得られた本発明の感光性樹脂組成物は、経時的に安定である。
[0042] 本発明の反射防止ハードコートフィルムは、基材フィルム(ベースフィルム)上にハ ードコート層、高屈折率ハードコート層及び上記感光性樹脂組成物層の順に各層を 設けることにより得られる。まず、基材フィルム上にハードコート剤を乾燥後膜厚が 1 一 30 a m、好ましくは 3— 20 μ mになるように塗布し、乾燥後放射線を照射して硬化 皮膜を形成させる。その後、形成されたハードコート層の上に、屈折率が 1. 55以上 の高屈折率ハードコート剤を乾燥後膜厚が 0. 05— 5 x m、好ましくは 0. 05— 3 x m (反射率の最大値を示す波長が 500— 700nmになるように膜厚を設定するのが好ま しい)になるように塗布し、乾燥後、放射線を照射して硬化皮膜を形成させる。さらに 、その高屈折率ハードコート層の上に本発明の感光性樹脂組成物を乾燥後膜厚が 0 . 05-0. 5 /i m、好ましくは 0. 05— 0. 3 μ m (反射率の最小値を示す波長が 500 一 700nm、好ましくは 520— 650nmになるように膜厚を設定するのが好ましい)にな るように塗布し、乾燥後放射線を照射して硬化皮膜を形成させることにより得ることが できる。
[0043] 基材フィルムとしては、例えば、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアク リレート、ポリカーボネート、トリァセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、シクロォ レフイン系ポリマーなどが挙げられる。フィルムはある程度厚レ、シート状のものであつ てもよレ、。使用するフィルムは、柄や易接着層を設けたもの、コロナ処理等の表面処 理をしたものであってもよレ、。
[0044] 上記の感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、バーコ一ター塗工、メイャ 一バー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、マイクログラビア 塗工、ダイコーター塗工、ディップ塗工、スピンコート塗工などが挙げられる。
[0045] 硬化のために照射する放射線としては、例えば、紫外線、電子線などが挙げられる 。紫外線により硬化させる場合、光源としては、キセノンランプ、高圧水銀灯、メタルノヽ ライドランプなどを有する紫外線照射装置が使用され、必要に応じて光量、光源の配 置などが調整される。高圧水銀灯を使用する場合、 80— 120WZcm2のエネルギー を有するランプ 1灯に対して搬送速度 5— 60m/分で硬化させるのが好ましい。 [0046] 本発明の反射防止ハードコートフィルムの 1層目に使用するハードコート剤としては 、市販されているハードコート剤をそのまま用いてもよいし、多官能 (メタ)アタリレート( H)と光ラジカル重合開始剤 (J)、希釈剤 (F)を配合して使用してもよい。多官能 (メタ )アタリレート(Η)の具体例としては、例えばポリエチレングリコールジ (メタ)アタリレー ト、トリプロピレングリコールジ(メタ)アタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグ リコールの ε一力プロラタトン付加物のジ (メタ)アタリレート(例えば、 日本化薬 (株)製 、 KAYARAD ΗΧ_220、 ΗΧ—620など)、ビスフエノーノレ Αの Ε〇付加物のジ(メタ )アタリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパンポリ エトキシトリ(メタ)アタリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アタリレート、ジトリメチロ ールプロパンテトラ(メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ(メタ)アタリレート 、トリペンタエリスリトールォクタ(メタ)アタリレート、ポリグリシジル化合物(ビスフエノー ル Α型エポキシ樹脂、フエノールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフエノールメタン型 エポキシ樹脂、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンポリダリシジ ルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなど)と(メタ)アクリル酸の 反応物であるエポキシ (メタ)アタリレート、水酸基を有する多官能 (メタ)アタリレート( ペンタエリスリトーノレトリ(メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アタリレ ート、トリペンタエリスリトールへプタ(メタ)アタリレートなど)とポリイソシァネートイ匕合物 (トリレンジイソシァネート、イソホロンジイソシァネート、キシリレンジイソシァネート、へ キサメチレンジイソシァネートなど)の反応物である多官能ウレタン (メタ)アタリレート などが挙げられる。これらは、単独または 2種以上を混合して使用してもよい。好まし レ、ものは、 3官能以上の(メタ)アタリレートである。
[0047] 光ラジカル重合開始剤 ti)としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル 、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルェ 一テルなどのべンゾイン類;ァセトフエノン、 2, 2—ジエトキシー 2—フエ二ルァセトフエノ ン、 1 , 1—ジクロロアセトフエノン、 2—ヒドロキシ _2—メチノレ一フエニルプロパン _1_オン 、ジェトキシァセトフエノン、 1—ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2—メチルー 1 _〔4_ (メチルチオ)フエニル〕 _2_モルホリノプロパン一 1—オンなどのァセトフヱノン類 ; 2—ェチルアントラキノン、 2_t—ブチルアントラキノン、 2_クロ口アントラキノン、 2—ァ ミルアントラキノンなどのアントラキノン類; 2, 4_ジェチルチオキサントン、 2_イソプロ ピルチオキサントン、 2_クロ口チォキサントンなどのチォキサントン類;ァセトフエノン ジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類;ベンゾフエノン、 4_ ベンゾィルー 4 '一メチルジフヱ二ルサルファイド、 4, 4 '_ビスメチルァミノべンゾフエノ ンなどのベンゾフエノン類; 2, 4, 6_トリメチルベンゾィルジフエニルホスフィンォキシ ド、ビス(2, 4, 6_トリメチルベンゾィル)フエニルホスフィンォキシドなどのホスフィンォ キシド類等が挙げられる。
[0048] これらは、単独または 2種以上の混合物として使用でき、更にはトリエタノールァミン 、メチルジェタノールァミンなどの第 3級ァミン、 N, N—ジメチルァミノ安息香酸ェチル エステル、 N, N-ジメチルァミノ安息香酸イソアミルエステルなどの安息香酸誘導体 などの重合促進剤などと組み合わせて使用することができる。
[0049] 上記ハードコート剤で使用する希釈剤(F)は、前記の希釈剤(F)を使用することが できる。
[0050] 前記ハードコート剤に使用する(H)成分、 )成分、(F)成分は、任意の順序で配 合'混合することができ、必要に応じレべリング剤、消泡剤等を添加することができる。 各成分の使用比率は、(Η)成分 80— 99 · 5重量%、 )成分 0. 5— 20重量%で、 ( F)成分はハードコート剤組成中 0— 90重量%、好ましくは 20— 80重量%である。
[0051] 本発明の反射防止ハードコートフィルムの 2層目に使用する高屈折率ハードコート 斉 1Jは、屈折率 1. 55以上のものであればよいが、好ましくは、多官能 (メタ)アタリレー ト(Η)、 1次粒径が 1一 200ナノメートルの金属酸化物(I)及び光ラジカル重合開始剤 (J)、並びに必要に応じて希釈剤(F)から得られる感光性樹脂組成物がよい。
[0052] 多官能 (メタ)アタリレート (Η)及び光ラジカル重合開始剤ひ)、希釈剤 (F)は、前記 記載の化合物を使用することができる。
[0053] 1次粒径が 1一 200ナノメートノレの金属酸化物(I)としては、酸化チタン、酸化ジルコ 二ゥム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化鉄、酸化インジウム錫 (ΙΤΟ)、アンチモンドープ酸 化錫 (ΑΤ〇)、アンチモン酸亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛などが挙げられる。こ れらは、微粉末もしくは有機溶剤に分散させた分散液として入手することができる。
[0054] 分散液に使用する有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノ ール、 n—ブタノールなどのアルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモ ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの多価アルコール 類、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノンなどのケトン類、酢 酸ェチル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの非極性溶媒など 力 S挙げられる。有機溶剤の量は、通常、金属酸化物 100重量部に対して 70— 900 重量部である。
[0055] また、本発明の反射防止ハードコートフィルムに帯電防止性能を付与するため金属 酸化物(I)として、導電性金属酸化物 (K)を用いることができる。導電性金属酸化物( K)としては、例えば、酸化錫、酸化インジウム錫(ITO)、アンチモンドープ酸化錫 (A TO)、アンチモン酸亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛などが挙げられる。価格、安 定性、分散性などからアンチモン酸亜鉛が好ましレ、。
[0056] 高屈折率ハードコート剤に使用する(H)成分、(I)成分及び )成分、並びに必要 に応じて (F)成分は、任意の順序で配合 ·混合することができ、必要に応じてレベリン グ剤、消泡剤等を添加することができる。各成分の使用比率は、高屈折率ハードコー ト剤組成中、通常(Η)成分 19. 5— 79. 5重量%、 (I)成分 20— 80重量%、 )成分 0. 5— 20重量%で、(F)成分は 0— 99重量%、好ましくは 50— 98重量%である。 実施例
[0057] 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によつ て限定されるものではない。また、実施例中、特に断りがない限り、部は重量部を示 す。なお、実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。
(1)エポキシ当量: JIS Κ— 7236に準じた方法で測定。
(2)屈折率:アッベ屈折率計にて 25°Cで測定
[0058] 合成例 1
(エポキシ基含有ケィ素化合物の合成)
γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 47. 2部、トリフルォロプロピルトリメトキシ シラン 43. 6部、メチルイソプチルケトン 90. 8部、を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温 した。昇温後、 0. 1重量%水酸化カリウム水溶液 21. 6部を 30分間かけて連続的に 滴下した。滴下終了後、生成するメタノールを除去しながら 80°Cにて 5時間反応させ た。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。次いで減圧下で溶媒 を除去することによりエポキシ基含有ケィ素化合物 (A— 1) 65部を得た。得られた化 合物のエポキシ当量は 319g/eq、屈折率 1. 433であった。また、室温 1ヶ月の経時 でもゲル化は観察されなかった。
[0059] 合成例 2
(エポキシ基含有ケィ素化合物の合成)
γ—グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 47. 2部、 1Η, 1Η, 2Η, 2Η_ヘプタデカ 容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1重量%水酸化カリウム水溶液 21. 6 部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、生成するメタノールを除去しな 力 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗を繰り 返した。次いで減圧下で溶媒を除去することにより本発明のエポキシ基含有ケィ素化 合物 (A— 2) 109部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は 679g/eq、屈折率 1 . 392であった。また、室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観察されなかった。
[0060] 合成例 3
(エポキシ基含有ケィ素化合物の合成)
を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。昇温後、 0. 1重量%水酸化カリウム水溶液 21. 6部を 30分間かけて連続的に滴下した。滴下終了後、生成するメタノールを除 去しながら 80°Cにて 5時間反応させた。反応終了後、洗浄液が中性になるまで水洗 を繰り返した。次いで減圧下で溶媒を除去することによりエポキシ基含有ケィ素化合 物(A— 3) 67部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は 166gZeqであった。また 、室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観察されなかった。
[0061] 製造例 1
ジペンタエリスリトールへキサアタリレート(日本化薬(株)製、 KAYARAD DPHA ) 42部、 1, 6—へキサンジオールジアタリレート((株)化薬サートマ一製、 KS—HDD A) 5部、ィルガキュア 184 (チノく'スぺシャリティ'ケミカルズ社製) 3部、メチルェチル ケトン 25部、メチルイソプチルケトン 25部を混合し溶解させた。 [0062] 得られたハードコート剤をマイクログラビアコーターで PETフィルム(東洋紡績 (株) 製、 A_4300、膜厚 188 μ m)上に膜厚が約 5 μ mになるように塗布し、 80°Cで乾燥 後、紫外線照射器により硬化させた。
[0063] 製造例 2
ジペンタエリスリトールへキサアタリレート(日本化薬(株)製、 KAYARAD DPHA ) 1. 2部、ィルガキュア 184 (チノく'スぺシャリティ'ケミカルズ社製) 0. 15部、ィルガキ ユア 907 (チバ 'スぺシャリティ'ケミカルズ社製) 0. 15部、セルナックス CX— Z600M -3F2 (日産化学工業 (株)製、アンチモン酸亜鉛のメタノール分散ゾル、固形分 60 %) 7. 5部、メタノール 31部、プロピレングリコールモノメチルエーテル 60部を混合し 、固形分 6%の高屈折率ハードコート剤を得た。
[0064] 次いで、製造例 1で得たハードコート層を形成した PETフィルム上に得られた高屈 折率ハードコートをマイクログラビアコーターで塗布し、 80°Cで乾燥後、紫外線照射 器により硬化させた。この時、反射率の最大値が 500— 700nmになるように膜厚を 調整した。
[0065] 実施例 1一 8及び比較例 1
表 1に示す材料を配合した感光性樹脂組成物を製造例 2で得られた高屈折率ハー ドコート層まで形成した PETフィルム上にマイクログラビアコーターで塗布し、 80°Cで 乾燥後、紫外線照射器により硬化させて反射防止ハードコートフィルムを得た。この 時、反射率の最小値が 520— 650nmになるように膜厚を調整した。なお、表 1にお いて単位は「部」を表す。
[0066] [表 1] 表 1
纖例
1 3 5 6 7 8
A - 1 1.5 1.5 1.4 1.4 0.4 0.4
A - 2 1.5 1.5
A- 3 0.4 0.4
PI2074 0.1 0.1 0. 1
BBI-102 0.1
腦 0 4.6 4.6 2.05 2.05
K-4 2.7 2.7
K-8 2.3 1.8
BYK-060N 0.8
MEK-ST 2.3 2.3 2.8 2.8
US-270 0.5 1.0
DPHA 0.85
UVI-6990 0.15 0.15 0. 15 0. 15
Irg. 184 0.15
MFS-10P 20
MEK 93.75 93.75 93 93 93.4 93.4 92.8 96.6 79
(注)
KD200 :関東電化工業 (株)製、フッ素系ポリマー(固形分 29. 3%)
NK-4 : 関東電化工業 (株)製、フッ素系ポリマー
NK-8 : 関東電化工業 (株)製、フッ素系ポリマー
Figure imgf000019_0001
BYK-060N:ビックケミー製、消泡剤(固形分 3%)
MEK-ST :日産化学工業(株)製、オルガノシリカゾル MEK— ST (固形分 30%) US-270:東亞合成 (株)製、側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物( 固形分 30%)
DPHA :日本化薬(株)製、 KAYARAD DPHA (ジペンタエリスリトールへキサァク リレートとペンタアタリレートの混合物、架橋剤)
UVI-6990:ユニオンカーバイド社製、トリフエニルスルホニゥムフルォロホスフェート Irg. 184 :チノく'スぺシャリティ'ケミカルズ社製、ィルガキュア 184 (1—ヒドロキシシク 口へキシルフヱ二ルケトン)
PI2074:ローディアジャパン (株)製、光力チオン重合開始剤
BBI—102 :みどり化学 (株)製、光力チオン重合開始剤
MFS-10P :日産化学工業(株)製、フッ化マグネシウムゾル(固形分 10%) MEK:メチノレエチノレケトン
[0067] 試験例 1
実施例 1一 4、比較例 1で得られた反射防止ハードコートフィルムにっき、下記項目 を評価しその結果を表 2に示した。
[0068] (鉛筆硬度)
JIS K 5400に従レ、、鉛筆引つ力き試験機を用いて、上記組成の塗工フィルムの 鉛筆硬度を測定した。詳しくは、測定する硬化皮膜を有するポリエステルフィルム上 に、鉛筆を 45度の角度で、上から lkgの荷重を掛け 5mm程度引つかき、傷の付き具 合を確認した。 5回測定を行った。
評価 5/5 : 5回中 5回とも傷なし
0/5 : 5回中全て傷発生
[0069] (耐擦傷性試験)
スチールウール # 0000上に 200gZcm2の荷重を掛けて 20往復させ、傷の状況を 目視で判定した。
評価 A:傷なし
B :数本の傷発生
C : 10往復まで傷なし
D: 10往復で数本の傷発生
E : 10往復で著しい傷発生
[0070] (密着性)
JIS K 5400に従レ、、測定する硬化皮膜を有するフィルムの表面に lmm間隔で 縦、横 11本の切れ目を入れて 100個の碁盤目を作る。セロハンテープをその表面に 密着させた後、一気に剥がしたときに剥離せず残存したマス目の個数を示した。 [0071] (反射率)
フィルメトリタス社製薄膜測定装置 F20にて測定した。測定は、フィルムの裏面から の反射を防ぐため、塗工面の反対の面に黒のマジックを塗り、更に黒のビュルテープ を貝占った。
[0072] 上記評価結果を表 2に示した。
[0073] [表 2] 表 2
密着性 最小歸率
2H(4/5) B 100/100 0 . 6 % 鍾例 2 2H(3/5) C 100/100 0 . 5 %
2H(5/5) A 100/100 0 . 8 % 難例 4 2H(5/5) A 100/100 0 . 7 % t瞧 1 2H(0/5) E 100/100 1 . 0 %
[0074] 実施例 1一 4の反射防止ハードコートフィルムは、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性、最 小反射率のいずれも優れた効果を示したが、比較例 1の反射防止ハードコートフィノレ ムは、鉛筆硬度、耐擦傷性、最小反射率が良くなかった。
[0075] 試験例 2
実施例 5— 8、比較例 1で得られた反射防止ハードコートフィルムにっき、下記項目 を評価しその結果を表 3に示した。
[0076] (鉛筆硬度)
JIS K 5400に従レ、、鉛筆引つ力き試験機を用いて、上記組成の塗工フィルムの 鉛筆硬度を測定した。詳しくは、測定する硬化皮膜を有するポリエステルフィルム上 に、鉛筆を 45度の角度で、上から lkgの荷重を掛け 5mm程度引つかき、 5回中、 4 回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さで表した。
[0077] (耐擦傷性)
スチールウール # 0000上に 200g/cm2の荷重を掛けて 10往復させ、傷の状況を 目視で判定した。
評価 A:傷なし B :数本の傷発生
C :全体に傷発生
[0078] (耐摩耗性)
市販のガーゼで強く擦り、下層との剥がれを目視にて観察した。
評価 A:変化なし
B :傷あるが色目に変ィ匕なし
C :剥がれ発生
[0079] (消泡性)
固形分 10%に調整した液を 5g準備し、 lOccの透明硝子瓶に入れ、フタをしつ力り 閉め、 10秒間強く振とうする。静置し、 30分後の泡の状態を観察する。
評価 A:泡なし
B:大きな泡のみで殆どなし
C :泡が全体に残っている
[0080] (密着性)
JIS K 5400に従レ、、測定する硬化皮膜を有するフィルムの表面に lmm間隔で 縦、横 11本の切れ目を入れて 100個の碁盤目を作る。セロハンテープをその表面に 密着させた後、一気に剥がしたときに剥離せず残存したマス目の個数を示した。
[0081] (反射率)
島津製作所製分光硬度計 UV— 3150にて測定した。測定は、フィルムの裏面から の反射を防ぐため、塗工面の反対の面に黒のマジックを塗り、更に黒のビュルテープ を貝占った。
[0082] 上記評価結果を表 3に示した。
[0083] [表 3] 表 3
^m 注 耐磨耗 消泡性 密着注 最小 ΐί率 難例 5 3Η B B A 100/100 0 . 6 % 纖例 6 3H A A A 100/100 0 . 6 %
3H A A B 100/100 0 . 7 %
3H B B C 100/100 0 . 6 % i:國 1 2H C B A 100/100 1 . 0 %
[0084] 実施例 5— 7の反射防止ハードコートフィルムは、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、 消泡性、密着性、最小反射率のいずれも優れた効果を示し、実施例 8の反射防止ハ ードコートフィルムは、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、密着性、最小反射率のいず れも優れた効果を示した。しかし、比較例 1のハードコートフィルムは、鉛筆硬度、耐 擦傷性、最小反射率が良くなかった。
産業上の利用可能性
[0085] エポキシ基及びフッ素原子を有する新規ケィ素化合物及び光力チオン重合開始剤 を必須成分とし、さらに必要に応じてフッ素原子を有する高分子化合物、コロイダル シリカ、側鎖に (ポリ)シロキサン結合を有する高分子化合物を含有する本発明の感 光性樹脂組成物で得られた硬化皮膜は、耐擦傷性、耐摩耗性、消泡性、密着性に 優れ、また、高屈折率層の上に塗工し硬化させることにより反射率の低い反射防止フ イルムを製造するのに適している。この様な本発明のフィルムは、特にプラスチック光 学部品、タツチパネル、フラットパネルディスプレイ、フィルム液晶素子など反射防止 機能を必要とする分野に好適である。

Claims

請求の範囲
[1] 下記一般式(1)
R Si (OR ) (1)
e 1 3
(式中 Rは、エポキシ基を有する置換基を示す。 Rはじ を示す。
e 1 1一 Cのアルキル基
4
)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物同士力、又は前記一般式( 1)で表されるエポキシ基を有するアルコキシケィ素化合物と下記一般式(2)
R Si (OR ) (2)
f 2 3
(式中、 Rは、フッ素原子を 1一 20個有する置換基を示す。 Rはじ一 Cのアルキル f 2 1 4
基を示す。)で表されるフッ素原子を有するアルコキシケィ素化合物とを、塩基性触 媒の存在下に、縮合させて得られるエポキシ基含有ケィ素化合物 (A)と光力チオン 重合開始剤 (B)とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
[2] 一般式(1)の化合物において、 Rがグリシドキシ C ル基又はォキシラン e 1一 Cアルキ
4
基を持った C一 Cのシクロアルキル基で置換された C
1一 Cアルキル基である請求
5 8 3
項 1に記載の感光性樹脂組成物。
[3] 一般式(1)の化合物において、 Rがグリシドキシ C
e 1一 Cアルキル基である化合物
4
及びォキシラン基を持った C
5一 C のシクロアルキル基で置換された C
8 1一 Cアルキル
3 基である化合物を用いることを特徴とする請求項 1に記載の感光性樹脂組成物。
[4] 更にフッ素原子を有する高分子化合物 (C)を含有することを特徴とする請求項 1な レ、し 3のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
[5] 一次粒径が 1一 200ナノメートノレのコロイダルシリカ(D)を含有することを特徴とする 請求項 1なレ、し 4のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
[6] 側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物 (E)を含有することを特徴とす る請求項 1ないし 5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
[7] 側鎖に (ポリ)シロキサン構造を有する高分子化合物 (E)が、末端二重結合を有す る変性シリコーンと重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる、幹部分が アクリル系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型グラフトポリマーである 請求項 1なレ、し 6のレ、ずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
[8] 希釈剤(F)を含有することを特徴とする請求項 1なレ、し 7のレ、ずれか一項に記載の 感光性樹脂組成物。
[9] 一般式(1)の化合物と一般式(2)の化合物との比率が、一般式(1)の化合物 1モル に対して一般式(2)の化合物が 0. 5— 2モルである請求項 1ないし 8のいずれか一項 に記載の感光性樹脂組成物。
[10] 消泡剤(G)を含有することを特徴とする請求項 1なレ、し 9のレ、ずれか一項に記載の 感光性樹脂組成物。
[11] 基材フィルム上にハードコート剤及び屈折率が 1. 55以上の高屈折率ハードコート 剤をこの順に塗工し、硬化させたハードコート層の上に、請求項 1ないし 10のいずれ か一項に記載の感光性樹脂組成物を塗工し、硬化させた反射防止ハードコートフィ ノレム。
[12] 高屈折率ハードコート剤が、多官能 (メタ)アタリレート(H)、 1次粒径 1一 200ナノメ 一トルの金属酸化物(I)及び光ラジカル重合開始剤ひ)を含有する感光性樹脂組成 物であることを特徴とする請求項 11に記載の反射防止ハードコートフィルム。
[13] 1次粒径 1一 200ナノメートルの金属酸化物(I)が、導電性金属酸化物(Κ)である 請求項 12に記載の反射防止ハードコートフィルム。
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