JP2004118094A - 反射防止フィルムとその製造方法、およびこれを用いた反射防止パネル - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 91
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 91
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 33
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 23
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 21
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 144
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 8
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHLPIOPUASGRQN-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methylprop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C(C)=C WHLPIOPUASGRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006264 polyurethane film Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【課題】層間の接着力を改善し、優れた耐擦傷性を有する反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明樹脂フィルム7上に、2以上の層、例えば高屈折率層1と低屈折率層2とからなる反射防止膜を形成する。2以上の層の界面にはウレタン結合を形成する。透明樹脂フィルム7と反射防止膜との間には、ハードコート層5を介在させてもよく、この場合は、ハードコート層5と反射防止膜との間にもウレタン結合を形成してもよい。透明樹脂フィルムの裏面には、近赤外吸収層6を配置しても構わない。
【選択図】 図3
【解決手段】透明樹脂フィルム7上に、2以上の層、例えば高屈折率層1と低屈折率層2とからなる反射防止膜を形成する。2以上の層の界面にはウレタン結合を形成する。透明樹脂フィルム7と反射防止膜との間には、ハードコート層5を介在させてもよく、この場合は、ハードコート層5と反射防止膜との間にもウレタン結合を形成してもよい。透明樹脂フィルムの裏面には、近赤外吸収層6を配置しても構わない。
【選択図】 図3
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルムとその製造方法に関し、さらにこのフィルムを用いた反射防止パネルに関する。本発明は、特に、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)などの大型ディスプレイに適した反射防止フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、ディスプレイへの外光の映り込みを防止するために、反射防止膜が用いられている。反射防止膜の多くは、蒸着法、スパッタリング法などの真空成膜法により形成された無機薄膜である。真空成膜法のような乾式法では製造効率に限界がある。一方、コーティング液を用いる湿式法によると、生産性は向上するが、形成した膜はその表面硬度が低く耐擦傷性に問題を残す。紫外線などの照射により硬化する光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂を用いると、湿式法による塗膜の硬度は向上するが、この程度の改善では十分でない。
【0003】
この問題を考慮して、湿式法で形成したフッ素含有低屈折率膜の耐擦傷性を改善する方法が提案されている(特開平11−2702号公報)。この低屈折率膜はパーフルオロ系化合物を含み、この化合物を合成するために、エポキシ基とカルボキシル基の反応、水酸基とイソシアネート基との反応などが利用される。
【0004】
特定の含フッ素化合物と含ケイ素イソシアネート化合物とをウレタン化反応させ、低屈折率膜を形成するための新規なフッ素化合物を合成することも提案されている(特開平11−35585号公報)。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−2702号公報
【特許文献2】
特開平11−35585号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
より高い反射防止性能を得るためには、多層の反射防止膜が必要となる。しかし、湿式法で多層の反射防止膜を形成すると、各層の表面硬度のみならず、各層の界面の密着性が不十分となる。例えば表面硬度が高い低屈折率層を最上層として形成しても、この膜とこの膜の下地となる高屈折率層との密着性が不足していれば、反射防止膜はこの界面で剥離しやすくなる。
【0007】
【課題を解決するための手段】
以上の事情を鑑み、本発明は、透明樹脂フィルムと、この透明樹脂フィルム上に形成された2以上の層からなる反射防止膜とを含み、この2以上の層の界面にウレタン結合が形成された反射防止フィルムを提供する。
【0008】
また、本発明は、上記反射防止フィルムと、透明基板とを含み、透明樹脂フィルムを介して反射防止膜が透明基板と反対側に位置するように、透明基板上に反射防止フィルムを配置した反射防止パネルを提供する。
【0009】
さらに、本発明は、上記反射防止フィルムの製造方法を提供する。この製造方法では、反射防止膜を構成する2以上の層のそれぞれを、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法により、前記2以上の層においてイソシアネート基と水酸基とが交互に存在するように形成し、100℃以下の熱処理により上記2以上の層の界面にウレタン結合を形成する。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の反射防止フィルムでは、ウレタン結合により、反射防止膜の層界面の密着性が改善され、その結果、耐擦傷性が向上する。この反射防止膜は、透明樹脂フィルム上に直接形成されていてもよいが、透明樹脂フィルム上に1または2以上の層からなる中間層を介して形成されていてもよい。中間層は、いわゆるハードコート層を含むとよい。本発明の好ましい一形態では、透明樹脂フィルム上に、ハードコート層を介して反射防止膜が形成されている。ハードコート層は、透明樹脂フィルム上に形成された状態でその表面が3H以上の鉛筆硬度を有することが好ましく、透明樹脂フィルムよりも表面硬度(鉛筆硬度)が相対的に高い層が好適である。ハードコート層は、具体的には、無機微粒子と樹脂とを含む膜が適している。
【0011】
ハードコート層と反射防止膜との界面にもウレタン結合を形成すると、耐擦傷性がさらに向上する。本発明の反射フィルムでは、透明樹脂フィルムの一主面上に形成される層の界面のすべてにウレタン結合が形成され、各層の接合にウレタン結合が寄与していることが好ましい。
【0012】
本発明の反射防止フィルムでは、高い耐擦傷性を維持しつつ、反射防止膜を光入射側として測定した可視光域(波長380nm〜780nm)における分光反射率の最小値を0.5%以下とすることもできる。分光反射率が最小となる波長域は、視感度が高い領域、例えば500nm〜650nmが好適である。
【0013】
反射防止膜は、2以上の層を含んでいればよく、その層数および層構成に制限はないが、高屈折率層と低屈折率層とを含み、高屈折率層および低屈折率層が、透明樹脂フィルム側からこの順に配置されていることが好ましい。反射防止膜は、例えば、高屈折率層と低屈折率層との2層膜としてもよく、中屈折率層(第1高屈折率層)、高屈折率層(第2高屈折率層)および低屈折率層をこの順に積層した3層膜としてもよく、高屈折率層および低屈折率層の組み合わせを一単位として、この一単位を高屈折率層と低屈折率層とが交互に配置されるように積層して構成したn層膜(nは4以上の偶数)としても構わない。複数の高(低)屈折率層を用いる場合、各層に用いる材料や各層の厚みは同じでなくてもよい。
【0014】
反射防止膜を構成する2以上の層は、それぞれ、無機微粒子と樹脂とを含む層、またはフッ素およびシリコンから選ばれる少なくとも1種を含む樹脂を含む層とするとよい。前者の層は高屈折率層に適しており、後者の層は低屈折率層に適している。これらの層およびハードコート層では、樹脂を、放射線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂から選ばれる少なくとも1種を硬化させた樹脂とするとよい。これらの樹脂から形成すると、層の表面硬度を保ちやすくなる。
【0015】
なお、本明細書において、放射線とは、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線などの電磁波すべてを包含し、放射線硬化型樹脂とは、放射線の照射により硬化する樹脂、例えば紫外線硬化型樹脂を意味する。
【0016】
本発明の反射防止フィルムは、透明樹脂フィルム、および透明樹脂フィルム上に形成された層から選ばれる少なくとも1つに、近赤外吸収剤が含まれた形態としてもよい。また、透明樹脂フィルムを介して反射防止膜と反対側に配置された近赤外吸収膜をさらに含んでいても構わない。近赤外吸収剤や近赤外吸収膜を配置した形態は、特にPDP用の反射防止フィルム(パネル)に適している。PDPからはプラズマ放電による近赤外線が放出されるからである。この近赤外線は周辺の電子機器に影響を及ぼし、PDP自体についてもリモコンの誤動作を引き起こすことがある。
【0017】
このような悪影響を排除するため、本発明の反射防止フィルムは、波長850〜1100nmの全領域において分光透過率が20%以下(換言すればこの波長域における最大透過率が20%以下)であることが好ましい。従来、近赤外線に対応するためには、PDPの前面板に近赤外線吸収フィルムを貼り付け、さらに反射防止フィルムを貼り付ける作業を要していたが、近赤外吸収能を有する反射防止フィルムを用いれば、煩雑でコスト高の原因となるこの作業を解消できる。
【0018】
本発明の製造方法では、反射防止膜を含む多層膜を構成する際に、100℃以下の熱処理によりウレタン結合を形成する。100℃を超える熱処理を施すと、基材とするフィルムが変形、収縮、ブロッキングなどを起こすことがあり、これを避けようとすると透明樹脂フィルムの材料が制限される。100℃以下の温度で確実にウレタン結合を形成しようとすると、長時間(例えば12時間以上、好ましくは16〜48時間程度)の熱処理が必要となり、これが湿式法による優れた生産性を損なうおそれがある。したがって、長時間の熱処理は、量産工程では、透明樹脂フィルムを巻回した状態で実施することが好ましい。熱処理温度は、低すぎるとウレタン結合が形成されないか、あるいは反応が徐々にしか進行しないため、60℃以上が好適である。
【0019】
本発明の製造方法では、反射防止膜を形成する前に、コーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法によりハードコート層を形成してもよい。この場合は、ハードコート層を、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を用いて形成し、上記熱処理により、上記2以上の層の界面とともに、ハードコート層と反射防止膜との界面にもウレタン結合を形成するとよい。
【0020】
以下、本発明を図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムの一形態を示す断面図である。この反射防止フィルム10では、透明樹脂フィルム7の一方の主面上に、ハードコート層5、高屈折率層1、低屈折率層2がこの順に形成されている。
【0021】
透明樹脂フィルム7としては、特に制限されるわけではないが、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステルフィルム、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、トリアセチルセルロースフィルムなどが適している。透明樹脂フィルム7の厚みは、基材としての強度を有しながらも巻回可能な範囲、例えば30μm〜200μmとするとよい。
【0022】
ハードコート層5を構成する樹脂成分としては、放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂が適している。放射線硬化型樹脂としては、例えば、多官能もしくは単官能のアクリレートモノマーまたはオリゴマー、光重合開始剤および必要に応じて添加される各種添加剤を含む樹脂が適している。熱硬化型樹脂としては、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系など従来から知られている各種樹脂を用いればよい。ここに例示した樹脂材料は、他の層の形成にも適している。ただし、高い表面硬度を得るためには、通常、熱硬化型樹脂よりも放射線硬化型樹脂が適している。
【0023】
ハードコート層5は、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成するとよいが、硬化による収縮を緩和するために、さらに無機微粒子を含む層とするとよい。無機微粒子としては、後に列挙する各種酸化物の微粒子を用いても構わないが、シリコン酸化物微粒子が好適である。一般にシリカ微粒子と呼ばれるこの微粒子の好ましい平均粒径は0.005μm〜1μm、特に0.01μm〜0.1μmである。無機微粒子の含有量は、ハードコート層を形成するためのコーティング液中の全固形成分の10〜80重量%、特に30〜70重量%が好ましい。
【0024】
ハードコート層5の厚みは、1μm〜30μm、特に3μm〜10μmが好適である。薄すぎると硬度の維持が難しくなり、厚すぎるとクラックまたはカール(フィルムの反り)が生じやすくなる。
【0025】
ハードコート層5は、上記樹脂などともに、さらにイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物を含む材料から形成することが好ましい。ハードコート層と反射防止膜の最下層とを少なくともウレタン結合を介して接合するためである。ウレタン化反応は、比較的低温で容易に進行するが、特に第1級水酸基を有する化合物を用いると、速やかに反応が進行する。ウレタン化反応をさらに速やかに進行させるために、ジ−n−ブチルスズジラウレートのような金属塩化合物を触媒として用いてもよい。
【0026】
この有機化合物は、用いる樹脂成分(例えば放射線硬化型樹脂)と反応可能な重合性不飽和基を分子中に有し、かつイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を分子中に有する化合物(例えば2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート)が好ましい。ここに例示した有機化合物は、他の層の形成にも適している。ただし、上記官能基は樹脂成分に含まれていてもよい。即ち、上記有機化合物を添加する代わりに、あるいは上記有機化合物の添加とともに、上記官能基を含有する樹脂を用いても構わない。
【0027】
高屈折率層1も、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成するとよいが、さらに無機微粒子を含む層とするとよい。無機微粒子としては、相対的に屈折率が高い微粒子、例えば、ジルコニウム、亜鉛、チタン、錫、アンチモンおよびインジウムから選ばれる少なくとも1種を含む酸化物の微粒子、より具体的には、ジルコニア微粒子、酸化亜鉛微粒子、チタニア微粒子、ITO(インジウム−錫酸化物)微粒子、ATO(アンチモン−錫酸化物)微粒子、が好適である。
【0028】
低屈折率層2も、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成することができる。低屈折率層2としては、フッ素含有樹脂、シリコン含有樹脂などが適している。低屈折率層2に、さらにシリカ微粒子などの無機微粒子を含有させてもよい。
【0029】
高屈折率層1および低屈折率層2を形成する材料には、さらにウレタン結合を形成する成分が添加される。この成分は、上記と同様、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物とするとよく、例えば、重合性不飽和基を分子中に有し、かつイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を分子中に有する化合物である。ここでも、上記有機化合物を添加する代わりに、あるいは上記有機化合物の添加とともに、上記官能基を含有する樹脂を用いてもよい。
【0030】
高屈折率層1の屈折率はハードコート層5の屈折率よりも大きいことが好ましい。低屈折率層2の屈折率は、少なくとも高屈折率層1の屈折率よりも小さいことを要し、十分な反射防止効果を得るためには、高屈折率層1の屈折率との差が0.2以上であることが好ましい。特に制限されないが、高屈折率層1の屈折率は1.6以上が、低屈折率層2の屈折率は1.45以下がそれぞれ好適である。
【0031】
高屈折率層1および低屈折率層2の厚みは、それぞれ、0.02μm〜0.3μm、特に0.05μm〜0.2μmが好ましい。
【0032】
反射防止膜は、高屈折率層1および低屈折率層2の2層構成に限らず、3層またはそれ以上の層から構成してもよい。図2に示す反射防止フィルム10では、さらに第2高屈折率層3が配置された3層構成の反射防止膜が用いられている。ここで、第2高屈折率層3としては、高屈折率層1よりも高い屈折率を有する層とするとよく、その屈折率は1.9以上が好ましい。第2高屈折率層3は、例えば、チタニア微粒子と樹脂成分とを含み、その比率を調整した層として形成できる。この反射防止膜では、高屈折率層(中屈折率層)1と第2高屈折率層3との間、および第2高屈折率層3と低屈折率層2との間にウレタン結合が形成される。
【0033】
本発明の反射防止フィルムは、図示しない他の層を含んでいても構わない。例えば、反射防止膜の上に、さらに保護膜などを配置してもよく、透明樹脂フィルム7とハードコート層5との間に、接着性を改善するための下地層などを配置してもよい。
【0034】
特にPDPの反射防止フィルムとして用いる場合には、可視光域における反射防止特性とともに、赤外域、特に近赤外域における遮蔽特性を重視する必要がある。近赤外域の遮蔽特性は、透明樹脂フィルム7および/またはこのフィルム上に形成された層1〜3,5の少なくとも1つに、近赤外吸収剤を添加することによって得ることができる。これに代えて、またはこの添加とともに、図3に示すように、近赤外吸収層6を形成してもよい。
【0035】
近赤外吸収層6は、近赤外吸収剤を含む樹脂層とするとよく、上記各層と同様、湿式法で成膜するとよい。特に透明樹脂フィルムの厚みが十分に厚くない場合は図3に示すように、近赤外吸収層6を、透明樹脂フィルムの裏面、即ち反射防止膜を形成する主面とは逆側の透明樹脂フィルム7の主面、に形成するとよい。反射防止膜から見て反対側の面に形成すると、カールを軽減でき、好ましい。
【0036】
近赤外吸収剤としては、特に制限されないが、フタロシアニン系化合物、ポリメチン系化合物、ジイモニウム系化合物およびアントラキノン系化合物から選ばれる少なくとも1種を用いればよい。近赤外吸収層の厚み、近赤外吸収剤の種類、含有率などは、波長850〜1100nmの全領域において、反射防止フィルムの分光透過率が20%以下となるように適宜定めればよい。
【0037】
図4に示すように、本発明の反射防止フィルム10は、透明基板20上に貼り付けて用いてもよい。巻回可能な薄いフィルム10を基材として用いても、これにより、必要な剛性を確保できる。透明基板20としては、特に制限はないが、アクリル板、ポリカーボネート板などの樹脂板、強化ガラス板などのガラス板を用いることができる。透明基板20の好ましい厚みは、少なくとも透明樹脂フィルムより厚い範囲、例えば0.2mm〜10mmである。
【0038】
図5は、本発明の反射防止フィルムの製造に用いうるコーティング装置の一例を示す断面図である。この装置を用いれば、いわゆるロールトゥロールのウェットコーティングにより、反射防止フィルムを効率的に製造できる。
【0039】
透明樹脂フィルムは巻回され、フィルムロール31として装置の巻き出し部に配置される。フィルムは、ロール31から順次繰り出され、塗工部33に至る。塗工部33では、コーティング液41がコーティングロール42を介してフィルムの一面に塗布される。フィルムは、さらに所定の温度(例えば80〜120℃、さらには80〜100℃)に保持された乾燥部34を通過し、塗膜が乾燥した状態で必要に応じて紫外線などの放射線が照射され、ロール36へと巻き取られる。
【0040】
紫外線の照射は、例えば、乾燥部34の後方に配置された紫外線ランプ(図示省略)を用いて行われる。熱硬化型樹脂を用いる場合、硬化のための加熱(熱処理)は、ロール36に巻き取ってから行うとよい。
【0041】
このようにロールトゥロールで巻回可能な透明樹脂フィルム上に順次各層を形成していくと、反射防止膜を含む多層膜を効率的に形成できる。反射防止膜を構成する各層は、隣接する一対の層が界面を介して、イソシアネート基と水酸基との組み合わせが存在するように形成される。この組み合わせが存在すれば、イソシアネート基と水酸基とが同一の層に含まれていてもよい。
【0042】
こうして得た反射防止膜付き透明樹脂フィルムのロールは、ウレタン結合の形成のために、そのままの状態で熱処理すればよい。ウレタン化反応は100℃以下でも進行するため、例えばPETなどのポリエステルフィルムを用いても、巻回した状態で熱処理できる。フィルムの変形などを抑制するために、熱硬化型樹脂を硬化させる熱処理も100℃以下で行うことが好ましい。熱硬化型樹脂の硬化のための熱処理とウレタン化反応のための熱処理とは同時に行ってもよい。
【0043】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0044】
(実施例1)
厚さ100μmの近赤外線カット性PETフィルム(東洋紡績社製「NIRフィルムDK109」)の表面に、シリカ超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型ハードコート剤(日本化薬社製「カヤノーバFOP−5000A」)100重量部とイソシアネート基を有するアクリルモノマーである2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製「カレンズMOI」)5重量部を混合したコーティング液を、塗工部にマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いたロールトゥロールの塗布装置を用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射してハードコート剤を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。JIS K5400に準じて測定したところ、このハードコート層の鉛筆硬度は3Hであった。なお、上記PETフィルムの鉛筆硬度はFである。
【0045】
次いで、ハードコート層の上に、ジルコニア超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型高屈折率反射防止剤(JSR社製「デソライトKZ7987C」)100重量部、メチルエチルケトン300重量部、水酸基を有するアクリルモノマーである2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射し、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。なお、この高屈折率層の屈折率は1.68であり、ハードコート層の屈折率1.49よりも高い。
【0046】
引き続き、高屈折率層の上に、フッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止剤(JSR社製「オプスターJN7215」)100重量部と3官能脂肪族系イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業社製「コロネートHL」)5重量部とを混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成した。なお、この低屈折率層の屈折率は1.41となる。
【0047】
上記各層を形成したPETフィルムを、巻回した状態で、80℃で24時間熱処理した。この熱処理により、低屈折率層を硬化させるととともに、ハードコート層と高屈折率層との界面および高屈折率層と低屈折率層との界面において、イソシアネート基と水酸基とを反応させた。こうして、各層の界面にウレタン結合が形成された多層膜を含む反射防止フィルムを得た。
【0048】
(実施例2)
厚さ100μmのPETフィルム(東洋紡績社製「コスモシャインA4300」)の表面に、アクリル樹脂(三菱レイヨン社製「ダイヤナールBR113」)100重量部、ジイモニウム系化合物(日本化薬社製「カヤソーブIRG−022」)5重量部、メチルエチルケトン250重量部を混合したコーティング液を、マイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ10μmの近赤外線吸収層を形成した。
【0049】
次いで、PETフィルムの裏面に、実施例1と同様にしてハードコート層を形成し、この層の上に、ジルコニア超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型高屈折率反射防止剤(JSR社製「デソライトKZ7987C」)100重量部、水酸基を有するアクリルモノマー(N−メチロールアクリルアミド:綜研化学社製「N−MAM」)5重量部、メチルエチルケトン300重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射し、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。
【0050】
引き続き、高屈折率層の上にフッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止剤(JSR社製「オプスターTT1006」)100重量部と3官能脂肪族系イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業社製「コロネートHL」)5重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成した。
【0051】
上記各層を形成したPETフィルムを、巻回した状態で、80℃で24時間熱処理した。この熱処理により、低屈折率層を硬化させるととともに、ハードコート層と高屈折率層との界面および高屈折率層と低屈折率層との界面において、イソシアネート基と水酸基とを反応させた。こうして、各層の界面にウレタン結合が形成された反射防止フィルムを得た。
【0052】
(実施例3)
実施例1において、近赤外線カット性PETフィルム(東洋紡績社製「NIRフィルムDK109」)に代えて、PETフィルム(東洋紡績社製「コスモシャインA4300」)を用いた以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0053】
(比較例1)
実施例1において、イソシアネート基を有するアクリルモノマー、水酸基を有するアクリルモノマーおよび3官能脂肪族系イソシアネート化合物を各コーティング液に添加しなかった以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0054】
(比較例2)
実施例1において、イソシアネート基を有するアクリルモノマーに代えて水酸基を有するアクリルモノマーである2−ヒドロキシエチルメタクリレートを用いてハードコート層を形成し、この層の上に、高屈折率層を形成せずに低屈折率層を直接形成した以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0055】
実施例1〜3および比較例1〜2で得られた反射防止フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
【0056】
(1)可視光線波長領域反射率
分光光度計(日本分光社製「Ubest V−570型」) を用いて、低屈折率層を入射側として、380〜780nmの可視光域における分光反射率曲線および反射率の最低値を測定した。
(2) 近赤外線波長領域透過率
分光光度計(日本分光社製「Ubest V−570型」)を用いて、850〜1100nmの近赤外域における透過率の最大値を、紫外域から近赤外域にかけての分光透過率曲線とともに測定した。
(3)耐擦傷性
スチールウール#0000に250g/cm2の荷重を加えて低屈折率層の表面を10往復擦り、傷つきの度合いを目視にて以下のいずれに該当するかを判定した。
A:無傷、B:僅かに傷つき、C:全面に傷つき、D:一部剥離、E:完全に剥離
【0057】
【表1】
【0058】
なお、低屈折率層の表面について、上記JISに準じて鉛筆硬度を測定したところ、すべての反射防止フィルムについて、3Hの測定結果が得られた。
【0059】
さらに、実施例1〜3、比較例1〜2で得た反射防止フィルムについて、可視光域における分光反射率曲線および紫外域から近赤外域にかけての分光透過率曲線を図6〜図15として示す。
【0060】
【発明の効果】
本発明の反射防止フィルムは、各層の界面がウレタン結合により結合されているため、層間の接着力が向上し、耐擦傷性が改善したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の反射防止フィルムの一形態を示す断面図である。
【図2】本発明の反射防止フィルムの別の一形態を示す断面図である。
【図3】本発明の反射防止フィルムのまた別の一形態を示す断面図である。
【図4】本発明の反射防止パネルの一形態を示す断面図である。
【図5】本発明の反射防止フィルムの製造に用いうる装置の構成を示すための図である。
【図6】実施例1で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図7】実施例1で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図8】実施例2で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図9】実施例2で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図10】実施例3で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図11】実施例3で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図12】比較例1で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図13】比較例1で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図14】比較例2で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図15】比較例2で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【符号の説明】
1 高屈折率層
2 低屈折率層
3 第2高屈折率層(中屈折率層)
5 ハードコート層
6 近赤外吸収層
7 透明樹脂フィルム
10 反射防止フィルム
20 透明基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルムとその製造方法に関し、さらにこのフィルムを用いた反射防止パネルに関する。本発明は、特に、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)などの大型ディスプレイに適した反射防止フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、ディスプレイへの外光の映り込みを防止するために、反射防止膜が用いられている。反射防止膜の多くは、蒸着法、スパッタリング法などの真空成膜法により形成された無機薄膜である。真空成膜法のような乾式法では製造効率に限界がある。一方、コーティング液を用いる湿式法によると、生産性は向上するが、形成した膜はその表面硬度が低く耐擦傷性に問題を残す。紫外線などの照射により硬化する光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂を用いると、湿式法による塗膜の硬度は向上するが、この程度の改善では十分でない。
【0003】
この問題を考慮して、湿式法で形成したフッ素含有低屈折率膜の耐擦傷性を改善する方法が提案されている(特開平11−2702号公報)。この低屈折率膜はパーフルオロ系化合物を含み、この化合物を合成するために、エポキシ基とカルボキシル基の反応、水酸基とイソシアネート基との反応などが利用される。
【0004】
特定の含フッ素化合物と含ケイ素イソシアネート化合物とをウレタン化反応させ、低屈折率膜を形成するための新規なフッ素化合物を合成することも提案されている(特開平11−35585号公報)。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−2702号公報
【特許文献2】
特開平11−35585号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
より高い反射防止性能を得るためには、多層の反射防止膜が必要となる。しかし、湿式法で多層の反射防止膜を形成すると、各層の表面硬度のみならず、各層の界面の密着性が不十分となる。例えば表面硬度が高い低屈折率層を最上層として形成しても、この膜とこの膜の下地となる高屈折率層との密着性が不足していれば、反射防止膜はこの界面で剥離しやすくなる。
【0007】
【課題を解決するための手段】
以上の事情を鑑み、本発明は、透明樹脂フィルムと、この透明樹脂フィルム上に形成された2以上の層からなる反射防止膜とを含み、この2以上の層の界面にウレタン結合が形成された反射防止フィルムを提供する。
【0008】
また、本発明は、上記反射防止フィルムと、透明基板とを含み、透明樹脂フィルムを介して反射防止膜が透明基板と反対側に位置するように、透明基板上に反射防止フィルムを配置した反射防止パネルを提供する。
【0009】
さらに、本発明は、上記反射防止フィルムの製造方法を提供する。この製造方法では、反射防止膜を構成する2以上の層のそれぞれを、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法により、前記2以上の層においてイソシアネート基と水酸基とが交互に存在するように形成し、100℃以下の熱処理により上記2以上の層の界面にウレタン結合を形成する。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の反射防止フィルムでは、ウレタン結合により、反射防止膜の層界面の密着性が改善され、その結果、耐擦傷性が向上する。この反射防止膜は、透明樹脂フィルム上に直接形成されていてもよいが、透明樹脂フィルム上に1または2以上の層からなる中間層を介して形成されていてもよい。中間層は、いわゆるハードコート層を含むとよい。本発明の好ましい一形態では、透明樹脂フィルム上に、ハードコート層を介して反射防止膜が形成されている。ハードコート層は、透明樹脂フィルム上に形成された状態でその表面が3H以上の鉛筆硬度を有することが好ましく、透明樹脂フィルムよりも表面硬度(鉛筆硬度)が相対的に高い層が好適である。ハードコート層は、具体的には、無機微粒子と樹脂とを含む膜が適している。
【0011】
ハードコート層と反射防止膜との界面にもウレタン結合を形成すると、耐擦傷性がさらに向上する。本発明の反射フィルムでは、透明樹脂フィルムの一主面上に形成される層の界面のすべてにウレタン結合が形成され、各層の接合にウレタン結合が寄与していることが好ましい。
【0012】
本発明の反射防止フィルムでは、高い耐擦傷性を維持しつつ、反射防止膜を光入射側として測定した可視光域(波長380nm〜780nm)における分光反射率の最小値を0.5%以下とすることもできる。分光反射率が最小となる波長域は、視感度が高い領域、例えば500nm〜650nmが好適である。
【0013】
反射防止膜は、2以上の層を含んでいればよく、その層数および層構成に制限はないが、高屈折率層と低屈折率層とを含み、高屈折率層および低屈折率層が、透明樹脂フィルム側からこの順に配置されていることが好ましい。反射防止膜は、例えば、高屈折率層と低屈折率層との2層膜としてもよく、中屈折率層(第1高屈折率層)、高屈折率層(第2高屈折率層)および低屈折率層をこの順に積層した3層膜としてもよく、高屈折率層および低屈折率層の組み合わせを一単位として、この一単位を高屈折率層と低屈折率層とが交互に配置されるように積層して構成したn層膜(nは4以上の偶数)としても構わない。複数の高(低)屈折率層を用いる場合、各層に用いる材料や各層の厚みは同じでなくてもよい。
【0014】
反射防止膜を構成する2以上の層は、それぞれ、無機微粒子と樹脂とを含む層、またはフッ素およびシリコンから選ばれる少なくとも1種を含む樹脂を含む層とするとよい。前者の層は高屈折率層に適しており、後者の層は低屈折率層に適している。これらの層およびハードコート層では、樹脂を、放射線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂から選ばれる少なくとも1種を硬化させた樹脂とするとよい。これらの樹脂から形成すると、層の表面硬度を保ちやすくなる。
【0015】
なお、本明細書において、放射線とは、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線などの電磁波すべてを包含し、放射線硬化型樹脂とは、放射線の照射により硬化する樹脂、例えば紫外線硬化型樹脂を意味する。
【0016】
本発明の反射防止フィルムは、透明樹脂フィルム、および透明樹脂フィルム上に形成された層から選ばれる少なくとも1つに、近赤外吸収剤が含まれた形態としてもよい。また、透明樹脂フィルムを介して反射防止膜と反対側に配置された近赤外吸収膜をさらに含んでいても構わない。近赤外吸収剤や近赤外吸収膜を配置した形態は、特にPDP用の反射防止フィルム(パネル)に適している。PDPからはプラズマ放電による近赤外線が放出されるからである。この近赤外線は周辺の電子機器に影響を及ぼし、PDP自体についてもリモコンの誤動作を引き起こすことがある。
【0017】
このような悪影響を排除するため、本発明の反射防止フィルムは、波長850〜1100nmの全領域において分光透過率が20%以下(換言すればこの波長域における最大透過率が20%以下)であることが好ましい。従来、近赤外線に対応するためには、PDPの前面板に近赤外線吸収フィルムを貼り付け、さらに反射防止フィルムを貼り付ける作業を要していたが、近赤外吸収能を有する反射防止フィルムを用いれば、煩雑でコスト高の原因となるこの作業を解消できる。
【0018】
本発明の製造方法では、反射防止膜を含む多層膜を構成する際に、100℃以下の熱処理によりウレタン結合を形成する。100℃を超える熱処理を施すと、基材とするフィルムが変形、収縮、ブロッキングなどを起こすことがあり、これを避けようとすると透明樹脂フィルムの材料が制限される。100℃以下の温度で確実にウレタン結合を形成しようとすると、長時間(例えば12時間以上、好ましくは16〜48時間程度)の熱処理が必要となり、これが湿式法による優れた生産性を損なうおそれがある。したがって、長時間の熱処理は、量産工程では、透明樹脂フィルムを巻回した状態で実施することが好ましい。熱処理温度は、低すぎるとウレタン結合が形成されないか、あるいは反応が徐々にしか進行しないため、60℃以上が好適である。
【0019】
本発明の製造方法では、反射防止膜を形成する前に、コーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法によりハードコート層を形成してもよい。この場合は、ハードコート層を、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を用いて形成し、上記熱処理により、上記2以上の層の界面とともに、ハードコート層と反射防止膜との界面にもウレタン結合を形成するとよい。
【0020】
以下、本発明を図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の反射防止フィルムの一形態を示す断面図である。この反射防止フィルム10では、透明樹脂フィルム7の一方の主面上に、ハードコート層5、高屈折率層1、低屈折率層2がこの順に形成されている。
【0021】
透明樹脂フィルム7としては、特に制限されるわけではないが、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステルフィルム、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリウレタンフィルム、トリアセチルセルロースフィルムなどが適している。透明樹脂フィルム7の厚みは、基材としての強度を有しながらも巻回可能な範囲、例えば30μm〜200μmとするとよい。
【0022】
ハードコート層5を構成する樹脂成分としては、放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂が適している。放射線硬化型樹脂としては、例えば、多官能もしくは単官能のアクリレートモノマーまたはオリゴマー、光重合開始剤および必要に応じて添加される各種添加剤を含む樹脂が適している。熱硬化型樹脂としては、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系など従来から知られている各種樹脂を用いればよい。ここに例示した樹脂材料は、他の層の形成にも適している。ただし、高い表面硬度を得るためには、通常、熱硬化型樹脂よりも放射線硬化型樹脂が適している。
【0023】
ハードコート層5は、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成するとよいが、硬化による収縮を緩和するために、さらに無機微粒子を含む層とするとよい。無機微粒子としては、後に列挙する各種酸化物の微粒子を用いても構わないが、シリコン酸化物微粒子が好適である。一般にシリカ微粒子と呼ばれるこの微粒子の好ましい平均粒径は0.005μm〜1μm、特に0.01μm〜0.1μmである。無機微粒子の含有量は、ハードコート層を形成するためのコーティング液中の全固形成分の10〜80重量%、特に30〜70重量%が好ましい。
【0024】
ハードコート層5の厚みは、1μm〜30μm、特に3μm〜10μmが好適である。薄すぎると硬度の維持が難しくなり、厚すぎるとクラックまたはカール(フィルムの反り)が生じやすくなる。
【0025】
ハードコート層5は、上記樹脂などともに、さらにイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物を含む材料から形成することが好ましい。ハードコート層と反射防止膜の最下層とを少なくともウレタン結合を介して接合するためである。ウレタン化反応は、比較的低温で容易に進行するが、特に第1級水酸基を有する化合物を用いると、速やかに反応が進行する。ウレタン化反応をさらに速やかに進行させるために、ジ−n−ブチルスズジラウレートのような金属塩化合物を触媒として用いてもよい。
【0026】
この有機化合物は、用いる樹脂成分(例えば放射線硬化型樹脂)と反応可能な重合性不飽和基を分子中に有し、かつイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を分子中に有する化合物(例えば2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート)が好ましい。ここに例示した有機化合物は、他の層の形成にも適している。ただし、上記官能基は樹脂成分に含まれていてもよい。即ち、上記有機化合物を添加する代わりに、あるいは上記有機化合物の添加とともに、上記官能基を含有する樹脂を用いても構わない。
【0027】
高屈折率層1も、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成するとよいが、さらに無機微粒子を含む層とするとよい。無機微粒子としては、相対的に屈折率が高い微粒子、例えば、ジルコニウム、亜鉛、チタン、錫、アンチモンおよびインジウムから選ばれる少なくとも1種を含む酸化物の微粒子、より具体的には、ジルコニア微粒子、酸化亜鉛微粒子、チタニア微粒子、ITO(インジウム−錫酸化物)微粒子、ATO(アンチモン−錫酸化物)微粒子、が好適である。
【0028】
低屈折率層2も、放射線硬化型樹脂および/または熱硬化型樹脂から形成することができる。低屈折率層2としては、フッ素含有樹脂、シリコン含有樹脂などが適している。低屈折率層2に、さらにシリカ微粒子などの無機微粒子を含有させてもよい。
【0029】
高屈折率層1および低屈折率層2を形成する材料には、さらにウレタン結合を形成する成分が添加される。この成分は、上記と同様、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する有機化合物とするとよく、例えば、重合性不飽和基を分子中に有し、かつイソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を分子中に有する化合物である。ここでも、上記有機化合物を添加する代わりに、あるいは上記有機化合物の添加とともに、上記官能基を含有する樹脂を用いてもよい。
【0030】
高屈折率層1の屈折率はハードコート層5の屈折率よりも大きいことが好ましい。低屈折率層2の屈折率は、少なくとも高屈折率層1の屈折率よりも小さいことを要し、十分な反射防止効果を得るためには、高屈折率層1の屈折率との差が0.2以上であることが好ましい。特に制限されないが、高屈折率層1の屈折率は1.6以上が、低屈折率層2の屈折率は1.45以下がそれぞれ好適である。
【0031】
高屈折率層1および低屈折率層2の厚みは、それぞれ、0.02μm〜0.3μm、特に0.05μm〜0.2μmが好ましい。
【0032】
反射防止膜は、高屈折率層1および低屈折率層2の2層構成に限らず、3層またはそれ以上の層から構成してもよい。図2に示す反射防止フィルム10では、さらに第2高屈折率層3が配置された3層構成の反射防止膜が用いられている。ここで、第2高屈折率層3としては、高屈折率層1よりも高い屈折率を有する層とするとよく、その屈折率は1.9以上が好ましい。第2高屈折率層3は、例えば、チタニア微粒子と樹脂成分とを含み、その比率を調整した層として形成できる。この反射防止膜では、高屈折率層(中屈折率層)1と第2高屈折率層3との間、および第2高屈折率層3と低屈折率層2との間にウレタン結合が形成される。
【0033】
本発明の反射防止フィルムは、図示しない他の層を含んでいても構わない。例えば、反射防止膜の上に、さらに保護膜などを配置してもよく、透明樹脂フィルム7とハードコート層5との間に、接着性を改善するための下地層などを配置してもよい。
【0034】
特にPDPの反射防止フィルムとして用いる場合には、可視光域における反射防止特性とともに、赤外域、特に近赤外域における遮蔽特性を重視する必要がある。近赤外域の遮蔽特性は、透明樹脂フィルム7および/またはこのフィルム上に形成された層1〜3,5の少なくとも1つに、近赤外吸収剤を添加することによって得ることができる。これに代えて、またはこの添加とともに、図3に示すように、近赤外吸収層6を形成してもよい。
【0035】
近赤外吸収層6は、近赤外吸収剤を含む樹脂層とするとよく、上記各層と同様、湿式法で成膜するとよい。特に透明樹脂フィルムの厚みが十分に厚くない場合は図3に示すように、近赤外吸収層6を、透明樹脂フィルムの裏面、即ち反射防止膜を形成する主面とは逆側の透明樹脂フィルム7の主面、に形成するとよい。反射防止膜から見て反対側の面に形成すると、カールを軽減でき、好ましい。
【0036】
近赤外吸収剤としては、特に制限されないが、フタロシアニン系化合物、ポリメチン系化合物、ジイモニウム系化合物およびアントラキノン系化合物から選ばれる少なくとも1種を用いればよい。近赤外吸収層の厚み、近赤外吸収剤の種類、含有率などは、波長850〜1100nmの全領域において、反射防止フィルムの分光透過率が20%以下となるように適宜定めればよい。
【0037】
図4に示すように、本発明の反射防止フィルム10は、透明基板20上に貼り付けて用いてもよい。巻回可能な薄いフィルム10を基材として用いても、これにより、必要な剛性を確保できる。透明基板20としては、特に制限はないが、アクリル板、ポリカーボネート板などの樹脂板、強化ガラス板などのガラス板を用いることができる。透明基板20の好ましい厚みは、少なくとも透明樹脂フィルムより厚い範囲、例えば0.2mm〜10mmである。
【0038】
図5は、本発明の反射防止フィルムの製造に用いうるコーティング装置の一例を示す断面図である。この装置を用いれば、いわゆるロールトゥロールのウェットコーティングにより、反射防止フィルムを効率的に製造できる。
【0039】
透明樹脂フィルムは巻回され、フィルムロール31として装置の巻き出し部に配置される。フィルムは、ロール31から順次繰り出され、塗工部33に至る。塗工部33では、コーティング液41がコーティングロール42を介してフィルムの一面に塗布される。フィルムは、さらに所定の温度(例えば80〜120℃、さらには80〜100℃)に保持された乾燥部34を通過し、塗膜が乾燥した状態で必要に応じて紫外線などの放射線が照射され、ロール36へと巻き取られる。
【0040】
紫外線の照射は、例えば、乾燥部34の後方に配置された紫外線ランプ(図示省略)を用いて行われる。熱硬化型樹脂を用いる場合、硬化のための加熱(熱処理)は、ロール36に巻き取ってから行うとよい。
【0041】
このようにロールトゥロールで巻回可能な透明樹脂フィルム上に順次各層を形成していくと、反射防止膜を含む多層膜を効率的に形成できる。反射防止膜を構成する各層は、隣接する一対の層が界面を介して、イソシアネート基と水酸基との組み合わせが存在するように形成される。この組み合わせが存在すれば、イソシアネート基と水酸基とが同一の層に含まれていてもよい。
【0042】
こうして得た反射防止膜付き透明樹脂フィルムのロールは、ウレタン結合の形成のために、そのままの状態で熱処理すればよい。ウレタン化反応は100℃以下でも進行するため、例えばPETなどのポリエステルフィルムを用いても、巻回した状態で熱処理できる。フィルムの変形などを抑制するために、熱硬化型樹脂を硬化させる熱処理も100℃以下で行うことが好ましい。熱硬化型樹脂の硬化のための熱処理とウレタン化反応のための熱処理とは同時に行ってもよい。
【0043】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0044】
(実施例1)
厚さ100μmの近赤外線カット性PETフィルム(東洋紡績社製「NIRフィルムDK109」)の表面に、シリカ超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型ハードコート剤(日本化薬社製「カヤノーバFOP−5000A」)100重量部とイソシアネート基を有するアクリルモノマーである2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製「カレンズMOI」)5重量部を混合したコーティング液を、塗工部にマイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いたロールトゥロールの塗布装置を用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射してハードコート剤を硬化させ、厚さ5μmのハードコート層を形成した。JIS K5400に準じて測定したところ、このハードコート層の鉛筆硬度は3Hであった。なお、上記PETフィルムの鉛筆硬度はFである。
【0045】
次いで、ハードコート層の上に、ジルコニア超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型高屈折率反射防止剤(JSR社製「デソライトKZ7987C」)100重量部、メチルエチルケトン300重量部、水酸基を有するアクリルモノマーである2−ヒドロキシエチルメタクリレート5重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射し、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。なお、この高屈折率層の屈折率は1.68であり、ハードコート層の屈折率1.49よりも高い。
【0046】
引き続き、高屈折率層の上に、フッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止剤(JSR社製「オプスターJN7215」)100重量部と3官能脂肪族系イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業社製「コロネートHL」)5重量部とを混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成した。なお、この低屈折率層の屈折率は1.41となる。
【0047】
上記各層を形成したPETフィルムを、巻回した状態で、80℃で24時間熱処理した。この熱処理により、低屈折率層を硬化させるととともに、ハードコート層と高屈折率層との界面および高屈折率層と低屈折率層との界面において、イソシアネート基と水酸基とを反応させた。こうして、各層の界面にウレタン結合が形成された多層膜を含む反射防止フィルムを得た。
【0048】
(実施例2)
厚さ100μmのPETフィルム(東洋紡績社製「コスモシャインA4300」)の表面に、アクリル樹脂(三菱レイヨン社製「ダイヤナールBR113」)100重量部、ジイモニウム系化合物(日本化薬社製「カヤソーブIRG−022」)5重量部、メチルエチルケトン250重量部を混合したコーティング液を、マイクログラビアコータ(康井精機社製)を用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ10μmの近赤外線吸収層を形成した。
【0049】
次いで、PETフィルムの裏面に、実施例1と同様にしてハードコート層を形成し、この層の上に、ジルコニア超微粒子含有アクリレート系紫外線硬化型高屈折率反射防止剤(JSR社製「デソライトKZ7987C」)100重量部、水酸基を有するアクリルモノマー(N−メチロールアクリルアミド:綜研化学社製「N−MAM」)5重量部、メチルエチルケトン300重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させた後、300mJ/cm2で紫外線を照射し、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。
【0050】
引き続き、高屈折率層の上にフッ素系ポリマー含有熱硬化型低屈折率反射防止剤(JSR社製「オプスターTT1006」)100重量部と3官能脂肪族系イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業社製「コロネートHL」)5重量部を混合したコーティング液を、上記マイクログラビアコータを用いて塗布した。塗膜を乾燥させ、厚さ100nmの低屈折率層を形成した。
【0051】
上記各層を形成したPETフィルムを、巻回した状態で、80℃で24時間熱処理した。この熱処理により、低屈折率層を硬化させるととともに、ハードコート層と高屈折率層との界面および高屈折率層と低屈折率層との界面において、イソシアネート基と水酸基とを反応させた。こうして、各層の界面にウレタン結合が形成された反射防止フィルムを得た。
【0052】
(実施例3)
実施例1において、近赤外線カット性PETフィルム(東洋紡績社製「NIRフィルムDK109」)に代えて、PETフィルム(東洋紡績社製「コスモシャインA4300」)を用いた以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0053】
(比較例1)
実施例1において、イソシアネート基を有するアクリルモノマー、水酸基を有するアクリルモノマーおよび3官能脂肪族系イソシアネート化合物を各コーティング液に添加しなかった以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0054】
(比較例2)
実施例1において、イソシアネート基を有するアクリルモノマーに代えて水酸基を有するアクリルモノマーである2−ヒドロキシエチルメタクリレートを用いてハードコート層を形成し、この層の上に、高屈折率層を形成せずに低屈折率層を直接形成した以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。
【0055】
実施例1〜3および比較例1〜2で得られた反射防止フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
【0056】
(1)可視光線波長領域反射率
分光光度計(日本分光社製「Ubest V−570型」) を用いて、低屈折率層を入射側として、380〜780nmの可視光域における分光反射率曲線および反射率の最低値を測定した。
(2) 近赤外線波長領域透過率
分光光度計(日本分光社製「Ubest V−570型」)を用いて、850〜1100nmの近赤外域における透過率の最大値を、紫外域から近赤外域にかけての分光透過率曲線とともに測定した。
(3)耐擦傷性
スチールウール#0000に250g/cm2の荷重を加えて低屈折率層の表面を10往復擦り、傷つきの度合いを目視にて以下のいずれに該当するかを判定した。
A:無傷、B:僅かに傷つき、C:全面に傷つき、D:一部剥離、E:完全に剥離
【0057】
【表1】
【0058】
なお、低屈折率層の表面について、上記JISに準じて鉛筆硬度を測定したところ、すべての反射防止フィルムについて、3Hの測定結果が得られた。
【0059】
さらに、実施例1〜3、比較例1〜2で得た反射防止フィルムについて、可視光域における分光反射率曲線および紫外域から近赤外域にかけての分光透過率曲線を図6〜図15として示す。
【0060】
【発明の効果】
本発明の反射防止フィルムは、各層の界面がウレタン結合により結合されているため、層間の接着力が向上し、耐擦傷性が改善したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の反射防止フィルムの一形態を示す断面図である。
【図2】本発明の反射防止フィルムの別の一形態を示す断面図である。
【図3】本発明の反射防止フィルムのまた別の一形態を示す断面図である。
【図4】本発明の反射防止パネルの一形態を示す断面図である。
【図5】本発明の反射防止フィルムの製造に用いうる装置の構成を示すための図である。
【図6】実施例1で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図7】実施例1で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図8】実施例2で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図9】実施例2で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図10】実施例3で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図11】実施例3で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図12】比較例1で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図13】比較例1で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【図14】比較例2で得た反射防止フィルムの分光反射率曲線である。
【図15】比較例2で得た反射防止フィルムの分光透過率曲線である。
【符号の説明】
1 高屈折率層
2 低屈折率層
3 第2高屈折率層(中屈折率層)
5 ハードコート層
6 近赤外吸収層
7 透明樹脂フィルム
10 反射防止フィルム
20 透明基板
Claims (16)
- 透明樹脂フィルムと、前記透明樹脂フィルム上に形成された2以上の層からなる反射防止膜とを含み、前記2以上の層の界面にウレタン結合が形成された反射防止フィルム。
- 前記透明樹脂フィルム上に、ハードコート層を介して前記反射防止膜が形成された請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層が無機微粒子と樹脂とを含む請求項2に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層と前記反射防止膜との界面にウレタン結合が形成された請求項2または3に記載の反射防止フィルム。
- 前記反射防止膜を光入射側として測定した可視光域における分光反射率の最小値が0.5%以下である請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記反射防止膜が高屈折率層と低屈折率層とを含み、前記高屈折率層および前記低屈折率層が、前記透明樹脂フィルム側からこの順に配置された請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記2以上の層のそれぞれが、無機微粒子と樹脂とを含む層、またはフッ素およびシリコンから選ばれる少なくとも1種を含有する樹脂を含む層である請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記樹脂が、放射線硬化型樹脂および熱硬化型樹脂から選ばれる少なくとも1種を硬化させた樹脂である請求項3または7に記載の反射防止フィルム。
- 前記透明樹脂フィルム、および前記透明樹脂フィルム上に形成された層から選ばれる少なくとも1つに、近赤外吸収剤が含まれた請求項1〜8のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記透明樹脂フィルムを介して前記反射防止膜と反対側に配置された近赤外吸収層をさらに含む請求項1〜9のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 波長850〜1100nmの全領域において分光透過率が20%以下である請求項9または10に記載の反射防止フィルム。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の反射防止フィルムと、透明基板とを含み、前記透明樹脂フィルムを介して前記反射防止膜が前記透明基板と反対側に位置するように、前記透明基板上に前記反射防止フィルムを配置した反射防止パネル。
- 請求項1に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
反射防止膜を構成する2以上の層のそれぞれを、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法により、前記2以上の層においてイソシアネート基と水酸基とが交互に存在するように形成し、
100℃以下の熱処理により前記2以上の層の界面にウレタン結合を形成する反射防止フィルムの製造方法。 - 前記2以上の層を形成する前に、コーティング液を透明樹脂フィルム上に塗布する工程を含む方法によりハードコート層を形成する請求項13に記載の反射防止フィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層を、イソシアネート基および水酸基から選ばれる少なくとも1種を有する化合物を含むコーティング液を用いて形成し、前記熱処理により、前記2以上の層の界面とともに、前記ハードコート層と前記反射防止膜との界面にもウレタン結合を形成する請求項14に記載の反射防止フィルムの製造方法。
- 前記熱処理を、コーティング液が塗布された透明樹脂フィルムを巻回した状態で実施する請求項13〜15のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP2004118094A true JP2004118094A (ja) | 2004-04-15 |
Family
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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