CN101351332B - 减反射光学膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种减反射光学膜，其可以通过将包含不具有含氟有机取代基的硅氧烷树脂材料(烷氧基硅烷化合物的低聚物、氨基硅烷偶联剂及硅氧烷接枝丙烯酸聚合物)的热固化性低折射率涂层剂涂布于透明基材膜上，并在干燥机内连续进行干燥与热固化来制造，其不会因卷紧而发生品质劣变，具有优良的减反射性、防污性、耐化学药品性、耐擦伤性等，并且可以高效制造，价格低廉。该减反射光学膜具备具有近红外光吸收功能及氖光吸收功能的层，因此适合作为PDP用光学膜。

Description

减反射光学膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种光学膜。更具体地，本发明涉及一种用以贴合在显示器等的前面来减少背景等的映射、提高视认性的减反射光学膜及其制造方法，以及利用其的等离子显示器用光学膜。
背景技术
在电视、个人计算机、文字处理机、摄像机等显示器中使用玻璃或透明塑料的透明基板。在透过该透明基板观察或辨识文字、图形、静画、动画等视觉信息时，外来光线反射于该透明基板表面会造成视觉信息难以看清的视认性问题。
作为抑制这种外来光线的反射的方法，例如有在显示器表面设置极薄的低折射率层而减少反射的方法。作为设置低折射率层的方法，有在显示器表面或在保护显示器用保护膜的基板上直接设置低折射率层，或是在其它的透明膜上设置低折射率层，再将得到的带低折射率层的透明膜贴合在显示器表面或保护膜的基板表面的方法等。另外，在等离子显示器(以下，记为PDP)中，将从面板前面放射出的被认为有害身体的电磁波予以屏蔽的功能、将成为周边机器误运转原因的近红外线予以屏蔽的功能、将抑制红色光鲜明度的波长595nm附近的电磁波予以屏蔽的功能等成为必要的功能，因此采用将兼具此类屏蔽功能与减反射功能的复合机能光学滤膜安装在PDP前面或直接贴合，从而在减少外来光线反射的同时，屏蔽有害电磁波的方法。
作为在各种基板上设置极薄低折射率层的方法，有湿式涂布法及干式涂布法。要获得大量且大面积的低折射率层时，从生产效率及减反射制品的处理方便性的角度考虑，一般采用将低折射层用组合物湿式涂布于透明基材膜表面上的方法。该方法也被称为最适合于近来的显示器大型化的方法。
另外，随着显示器大型化及其对消费者的普及的推进，减反射光学膜的性能的改善及价格的降低也倍受要求，如何低价地制造性能优良的膜成为一个大的技术课题。对于减反射光学膜无疑要求具备减反射性及表面均匀性，而防污性、耐擦伤性、耐化学药品性及透明性等功能也是必要的，为了得到满足此类机能且低价的减反射光学膜，需要通过低价的低折射率层用材料的开发及步骤的简单化等来降低价格。
利用湿式涂布法在透明基材膜上设置低折射率层时，一般采用热固化方式或活性能量线固化方式等使涂膜固化。活性能量线固化方式中，一般最常使用紫外线。紫外线固化方式的优点在于，为了利用紫外线照射进行固化，将紫外线照射装置设置于干燥后的膜通过的地方，从而能够在生产步骤流程中连续地进行表面固化处理。热固化方式的优点在于，不需要紫外线固化装置那样的高价设备，只要有热源即可。但是热固化方式有如下(1)至(3)项所述的问题。通常，热固化方式中，在进行低折射率层用涂层剂的涂布、涂层的干燥、将得到的膜卷至辊筒的流程后，使得到的卷膜在热固化室内进行热固化。但该方法可以列举下述问题：(1)由于基材膜通常在高温下具有热收缩的性质，因此当上述热固化温度高于该膜开始热收缩的温度时，由于该膜的热收缩而产生卷膜的卷紧，有导致该膜的品质显著下降的可能；(2)虽然不像紫外线固化设备那样昂贵，但还是需要热固化室等热固化设备；(3)在热固化室中必须静置一定时间使其固化，因此无法进行快速的生产。为了解决这样的问题，希望有在低温下短时间内就可发生热固化的低折射率层用涂层剂。在专利文献1及2中公开了可在较低温度下短时间内发生固化的涂层剂。但此类涂层剂不能在干燥机等加热机器中连续进行干燥步骤及热固化步骤，另外由于其使用具有含氟有机取代基的硅氧烷树脂，因此也存在成本上的问题。因此，难以称为可低价且高效地制造性能优良的减反射光学膜的技术。
专利文献1：日本特开2002-53804号公报
专利文献2：日本特开2002-3595号公报
发明内容
[发明拟解决的课题]
本发明的目的在于研发可通过简化的制造步骤，高效低价地制造减反射性、表面均匀性、防污性、耐化学药品性及耐擦伤性等性能优良的减反射光学膜的低折射率层用涂层剂及使用该涂层剂的减反射光学膜，并确立其制造技术。
[解决课题的方法]
本发明人等为了解决上述课题而锐意研究，结果发现通过将含有不含氟的低价硅氧烷化合物的树脂组合物的热固化层作为低折射率层，直接设置于透明基材膜上，或经由设在该基材膜上的其它层而设置在透明基材膜上，可以解决上述课题；特别是发现含有不含氟原子的硅氧烷低聚物、不含氟原子的氨基硅烷偶联剂、不含氟原子的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物的树脂组成物，可在较低温下短时间内发生固化，从而完成了本发明。
即，本发明涉及：
(1)一种减反射光学膜，其中，在透明基材膜上具有低折射率层，该低折射率层通过含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物的涂层的固化而得到。
(2)一种减反射光学膜，其中，在透明基材膜上依次设置硬涂层、高折射率层及第(1)项所述的该低折射率层。
(3)第(2)项所述的减反射光学膜，其中，高折射率层为含有掺锑氧化锡或掺锑氧化锌或同时含有两者的层。
(4)一种减反射光学膜的制造方法，其特征在于，将由含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物所构成之涂层液涂布在透明基材膜或依次设置有硬涂层及高折射率层的透明基材膜上之后，使其在供应有70至200℃空气的热风干燥机内通过0.5至5分钟，连续进行溶剂的干燥步骤及热固化步骤，从而形成低折射率层。
(5)一种等离子显示器用光学膜，其中，在第(1)至(3)项的任一项所述的减反射光学膜或第(4)项所述的制造方法所得到的减反射光学膜上，设置含有吸收波长700至1100nm的近红外线的化合物和/或在波长550至620nm处具有最大吸收的化合物的层。
(6)一种等离子显示器用光学膜，其中，在第(1)至(3)项的任一项所述的减反射光学膜或根据第(4)项所述的制造方法所得到的减反射光学膜的低折射率层设置面的相反面上，设置含有吸收波长700至1100nm的近红外线的化合物、或在波长550至620nm处具有最大吸收的化合物、或该两种化合物的粘着层。
(7)第(1)项所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为下述式(1)所示的化合物的低聚物：
RaSiX(4-a)                  (1)
(式中，a为0、1或2，R为不具有含氟有机基的有机基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为可水解基团，多个X可互为相同或不同)。
(8)第(7)项所述的减反射光学膜，其中，烷氧基硅烷化合物的低聚物中，R为C1至C10的烃残基，X为C1至C4的烷氧基。
(9)第(8)项所述的减反射光学膜，其中，R为C1至C4的烷基。
(10)第(1)项所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为可具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷。
(11)第(10)项所述的减反射光学膜，其中，可具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷为N-氨基C1至C4烷基氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷或氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷。
(12)第(1)项所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为由下述式(2)所示的结构单位所构成的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物：
Figure S2006800497997D00051
(式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至6之烷基，R3表示氢原子或甲基。它们在每个重复单位中可为相同或不同，n为1至10000之正数，m为1至3500之正数，p为1至500之正数)。
(13)第(12)项所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为选自四(甲氧基或乙氧基)硅烷、甲基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、苯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、乙烯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-氯丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、二甲基二(甲氧基或乙氧基)硅烷及二苯基二(甲氧基或乙氧基)硅烷所组成的组中的至少一种化合物的低聚物；不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为选自N-(2-氨基乙基)氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二(甲氧基或乙氧基)硅烷及3-氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷所组成的组中的至少1种化合物。
(14)一种热固化性树脂组合物，其含有由下述式(1)所示化合物的水解及脱水缩合而得到的低聚物、不含氟原子的氨基硅烷偶联剂、通过硅氧烷改性丙烯酸类单体及丙烯酸类单体共聚合而得到的不含氟原子的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物
RaSiX(4-a)                (1)
(式中，a为0、1或2，R为不具有含氟有机基的有机基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为可水解基团，多个X可互为相同或不同)。
[发明效果]
本发明的减反射光学膜及PDP用光学膜，由于其减反射层可由低价原料而得到，并且可在较低温度下在短时间内发生固化，因此可以高效且低价地进行制造，同时还具有优良的减反射性、表面均匀性、防污性、耐化学药品性及耐擦伤性等。另外，本发明中所使用的树脂组合物可在较低温度下在短时间内发生固化，所以最适合上述用途。
具体实施方式
以下具体说明本发明。
减反射光学膜分为3种类型：
(1)利用在透明基材膜的表面设置极薄的低折射率层而抑制外来光线的反射，同时提高其可见光透过率的清晰(clear)型。
(2)利用在透明基材膜的表面设置含有微粒子等的树脂组合物的涂膜而在膜表面形成凹凸，由此使外来光线发生漫反射而抑制外来光线映入的防眩(anti-glare)型。
(3)利用第(2)项的方法在透明基材膜表面设置凹凸，再利用第(1)项的方法设置低折射率层，发挥上述两种方法特征的类型。
本发明适用于上述第(1)及第(3)项的方法，也可另外采用在透明基材膜上设置防划伤的硬涂层及提高减反射性的高折射率层，然后再在其上设置低折射率层，由此获得性能更加优良的减反射光学膜的形式。
即，本发明中的低折射率层，只要设置在透明基材膜上即可，不必直接粘合于透明基材膜上，可在基材膜上设置硬涂层和/或用以提高减反射性能的高折射率层等其它层，再于其上设置低折射率层。
本发明的减反射光学膜所用的透明基材膜，只要是具有弹性且透明性高的薄膜，任何种类均可使用，作为可使用的透明基材膜的具体例，可以列举：聚对苯二甲酸乙二酯(下文中记作PET)或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯树脂类；环状聚萘二甲酸乙二酯、环状聚烯烃、聚乙烯、聚丙烯或聚苯乙烯等聚烯烃树脂类；聚氯乙烯或聚氯联苯等乙烯树脂类；聚碳酸酯树脂；丙烯酸树脂；三乙酸纤维素；聚醚砜；聚醚酮；或原冰烯树脂等的透明膜，但不局限于此。作为与透明性有关的雾度(haze)值优选5％以下，更优选1％以下的高透明膜。从弹性及耐热性等各种物性以及处理方便性、易获得性等角度考虑，更优选PET膜。另外，为了提高与涂剂之间的粘合性，可以在上述透明基材膜表面进行电晕放电处理、等离子处理、辉光放电处理、粗化处理、化学药品处理或粘固涂层(anchor coat)剂或底涂剂处理等提高接着性的处理。另外，也可采用保持紫外光屏蔽性的膜。透明基材膜的厚度为10至400μm，更优选20至250μm。该基材膜优选卷取成辊筒状，更优选厚度均匀性高、无鱼眼或异物、作为光学膜的基材充分耐用的透明膜。该透明基材膜可由市场上销售的商品获得，例如「Cosmoshine」系列产品(商品名，东洋纺绩股份公司制品)、「Lumirror」系列产品(商品名，东丽股份公司制品)、「Diafoil」系列产品(商品名，三菱化学聚酯膜股份公司制品)等。
接下来，就本发明的树脂组合物(下文中仅称树脂组合物)加以说明。
该树脂组合物，是将不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物(烷氧基硅烷化合物的烷氧基等可水解基团水解，再经脱水聚缩合而低聚化的不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷聚缩物；以下也称为该烷氧基硅烷聚缩物)、不具有含氟有机基的氨基硅烷偶联剂(也称为不含F氨基硅烷偶联剂)及不具有含氟有机基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物(也称为不含F硅氧烷接枝丙烯酸聚合物)，与根据需要添加的其它添加剂一起，均匀溶解或分散于溶剂中所得到的组合物，其特征为，由较低价的化合物所构成，在干燥机等加热机器中，可与干燥并行在较低温度下进行热固化，可容易地形成低折射率树脂被覆膜层。
用于得到该烷氧基硅烷聚缩物的烷氧基硅烷化合物优选下式(1)所示的化合物。
RaSiX(4-a)            (1)
(式中，a为0、1或2，R为不具有含氟有机基的有机基；当a为2时，两个R可为相同或不同；X为可水解基团，多个X可互为相同或不相同)。R的不具有含氟有机基的有机基，只要是X中不含的且不含氟原子的有机基则没有特别的限制。通常R可以列举可具有官能取代基的碳原子数约1至约10的烃残基，更优选可以列举可具有环氧基或乙烯基等官能取代基的碳原子数约1至约6的烃残基。官能取代基可以列举氯原子、羟基、环氧基、环氧丙基或经此类基团取代的C1至C4的低级烷氧基等。优选的官能取代基可以列举氯原子或环氧丙基，更优选环氧丙基。优选的R的具体例可以列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、乙烯基、苯基、环氧丙氧基丙基等碳原子数约1至约6的烃残基。更优选的R可以列举C1至C4的烷基、乙烯基、苯基、环氧丙氧基取代的C1至C4的烷基等。特别优选R为C1至C4的烷基。
另外，X可以列举氯原子、溴原子、烷氧基等，优选C1至C4的烷氧基，最优选甲氧基。
此类化合物的具体例可列举如四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、以及烷氧基为乙氧基的此类硅烷。但并不局限于此。
从此类烷氧基硅烷化合物合成低聚物时，可以通过将此类化合物依照常法进行水解聚缩合(更优选酸水解聚缩合)而得到。原料的该硅烷化合物可使用1种或并用2种以上。在该水解聚缩合过程中，此类烷氧基硅烷化合物的可水解基团(优选烷氧基)被水解，接着由脱水缩合而低聚化，形成烷氧基硅烷聚缩物。该水解可为酸水解或碱水解，优选酸水解。另外，根据情况可使用低分子量的低聚物(例如硅酸甲酯51等四甲氧基硅烷的缩合物等)作为原料，进行聚缩合而得到高分子量的低聚物。本发明中，由低分子量的低聚物聚缩合而得到的化合物也包括在本烷氧基硅烷聚合物中。通过适当选择烷氧基硅烷化合物的种类及脱水缩合程度，可以得到所期望的该烷氧基硅烷聚合物。使用该聚合物可以得到能在所期望的条件下固化的树脂组合物，并适合用于热固化性低折射率层。上述烷氧基硅烷聚合物(低聚物)的聚合度在约2至约100的范围内，一般为约2至约50，更优选约3至约30，根据情况可为约4至约20或约2至约10。本发明中，为方便起见将具有此类聚合度的聚合物称为低聚物。此类烷氧基硅烷聚合物可通过将上述烷氧基硅烷化合物加以水解，例如以盐酸等酸水解，然后根据需要在锡类催化剂等催化剂的存在下聚缩合而得到。另外，也很容易从销售的商品中得到，例如SolGard-NP-730(商品名，日本Dacro Shamrock股份公司制品)，Tosgard 510(商品名，东芝有机硅股份公司制品)或KP-64(商品名，信越化学工业股份公司制品)等。此类商品中，Tosgard 510为更优选的一种。
优选的该烷氧基硅烷聚合物，可列举由下述烷氧基硅烷化合物水解聚缩合而得到的化合物。
该烷氧基硅烷化合物可列举选自四(甲氧基或乙氧基)硅烷、甲基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、苯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、乙烯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-氯丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、二甲基二(甲氧基或乙氧基)硅烷及二苯基二(甲氧基或乙氧基)硅烷所组成的组中的至少1种的烷氧基硅烷化合物，更优选选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷及二苯基二甲氧基硅烷所组成的组中的一种或两种以上(优选两种)的烷氧基硅烷化合物。
更优选的烷氧基硅烷聚合物为选自四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷及二甲基二甲氧基硅烷所组成的组中的至少一种化合物经水解聚缩合而得到的化合物(低聚物)。另外，根据情况更优选的该聚合物为二甲基二甲氧基硅烷等的二C1至C4烷基二甲氧基硅烷经水解聚缩合而得到的烷氧基硅烷聚缩合物(聚C1至C4烷基硅氧烷)。该烷氧基硅烷聚合物根据需要可以使用一种或并用两种以上。例如上述优选的烷氧基硅烷聚合物中可以并用苯基三甲氧基硅烷或二苯基二甲氧基硅烷的聚合物。该聚合物的末端可为羟基或烷氧基。一般为羟基。
不含F氨基硅烷偶联剂，可促进固化，同时具有通过提高低折射率层的表面硬度而赋予其耐擦伤性及粘合性的功能。该氨基硅烷偶联剂，只要为具有氨基地硅烷偶联剂，则没有特别限制。典型例可列举氨基C1至C5烷基三C1至C3烷氧基硅烷、氨基C1至C5烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基三C1至C3烷氧基硅烷或N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷。更具体地，例如可使用N-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷以及此类化合物的部分水解物或聚合物，此类化合物可单独使用一种或并用两种以上。此类偶合剂可从市售商品获得，例如TSL8300系列(商品名，东芝有机硅股份公司制品)，KBM系列及KBE系列(商品名，信越化学工业股份公司制品)等。
优选的不含F氨基硅烷偶联剂可列举氨基C1至C5烷基三C1至C3烷氧基硅烷，更优选3-氨基丙基三甲氧基硅烷。
另外，不含F硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为硅氧烷树脂与丙烯酸树脂的高分子合金(polymer alloy)，因此兼有两种树脂的性质，具有少量添加即可赋予低折射率覆膜因润滑功能而带来的耐擦伤性及防污性、粘着性的功能。另外，该聚合物通过与上述该烷氧基硅烷聚合物及上述氨基硅烷偶联剂一起使用，具有优良的在较低温度下促进树脂组合物固化的作用。该聚合物，只要是在由丙烯酸类聚合物所构成的主链上，接枝以二甲基硅氧烷为主成分的支链而构成的聚合物，则可无特别限制地使用，例如，如下述式(2)所示，由丙烯酸类单体衍生的构造单位(n为重复单位)与硅氧烷改性丙烯酸类单体(m为重复单位)共聚而得到的聚合物适宜使用。
Figure S2006800497997D00111
[式(2)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至6的烷基，R3表示氢原子或甲基。上述在每个重复单位可为相同或不同。N为1至10000的正数，m为1至3500的正数，p为1至500的正数。]
另外，如日本特开平7-97770号公报中所公开地，该共聚物可通过将经硅氧烷改性丙烯酸类单体及丙烯酸类单体依照常法进行自由基共聚反应而得到。上述接枝聚合物的合成所使用的丙烯酸类单体可列举丙烯酸及甲基丙烯酸以及它们的C1至C6烷基酯，优选C1至C4烷基酯，更优选选自甲酯及乙酯等所组成的组中的至少一种。优选使用一种或并用两至三种。
另外，硅氧烷改性丙烯酸单体可列举硅氧烷改性(甲基)丙烯酸C1至C6烷基酯。更具体地为硅氧烷改性丙烯酸C1至C6烷基酯或硅氧烷改性甲基丙烯酸C1至C6烷基酯等。优选硅氧烷改性(甲基)丙烯酸丙酯。另外，硅氧烷改性丙烯酸C1至C6烷基酯可通过将式
CH2＝C(R3)COOR4-Si(R5)3-QClQ
(式中，R3为氢原子或甲基，R4为C1至C6亚烷基，R5为甲基或甲氧基，Cl为氯原子；Q为1至3的整数，优选1)所示的(甲基)丙烯酸酯取代氯硅烷化合物与一侧末端具有羟基的二甲基硅氧烷化合物(羟基的对侧的末端优选甲基等C1至C4烷基、甲基)，依照常法进行脱盐酸反应而得到。使用R4为亚丙基、Q为1的(甲基)丙烯酸酯取代氯硅烷化合物与上述二甲基硅氧烷化合物反应所得的硅氧烷改性(甲基)丙烯酸丙酯，与(甲基)丙烯酸类单体共聚合时，可得到具有上述式(2)所示结构单位的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物。
在上述式(2)中，R1优选甲基，或根据情况优选氢原子与甲基(例如作为(甲基)丙烯酸类单体，使用丙烯酸及甲基丙烯酸两者或其C1至C2烷基酯时)；R2优选氢原子、甲基或乙基。n优选1至5000，特别优选1至2500；m为约1至约2000，优选10至2000，特别优选1至1000；p为约5至约300，优选10至300。另外，根据情况优选约6至约100。另外，重复数n及m，表示硅氧烷接枝丙烯酸聚合物中各结构成分的合计链段数目，不一定表示连续的单体数目。
另外，该聚合物的优选数均分子量为约1000至约100,000。
硅氧烷接枝丙烯酸聚合物中的硅氧烷含量为5至90重量％(以下若无特别说明，％均表示重量％)范围，优选10至90％的范围，特别优选10至60％，最优选20至50％。另外，根据情况优选5至60％，更优选5至50％。
该硅氧烷接枝丙烯酸聚合物也可由市场购买，例如SYMACUS-270、US-380(商品名，东亚合成股份公司制品)，X-22-8000系列(商品名，信越化学工业股份公司制品)等。
本发明中所使用上述各成分任何一种都不具有含氟有机基，由于低折射率层用涂剂由上述化合物所构成，因此与使用具有含氟有机基树脂的树脂组合物相比价格低廉，且能够形成可在较低温度下、短时间内固化的低折射率树脂涂膜，该膜具有优良的粘合性、耐擦伤性、防污性及耐化学药品性等，并且涂膜上少有因点状剥落现象(下文中简称为剥落)等所造成的反射缺陷(反射性点状缺陷)(涂膜剥落而产生点状孔洞的现象)。
上述各成分的组成比例，对于100重量份(以下若无特别说明，份表示重量份)的该烷氧基硅烷聚合物，氨基硅烷偶联剂为5至40份，更优选10至30份；硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为0.5至10份，更优选1至5份。另外，根据情况，相对于100份的该烷氧基硅烷聚合物，也可采用氨基硅烷偶联剂为约3至约40份，更优选约5至约30份；硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为约2至约8份。上述各成分的总量，相对于包含溶剂的树脂组合物整体，含量为0.5至20重量％(以下若无特别说明，％表示重量％)，更优选1至10％。另外，根据情况，该各成分的总量，相对于包含溶剂的树脂组成物整体，为约1至约30％，优选约5至约15％。其余部分为上述各成分以外的溶剂及视需要而添加的添加剂。
通过将上述各成分均匀溶解和/或分散在溶剂中可制成低折射率层用树脂组合物。溶解和/或分散的方法虽无特别限制，但由于有时会发生凝胶化，因此优选将上述各成分分别溶解于溶剂中成为溶液状之后再进行混合。例如优选将预先由该烷氧基硅烷聚合物溶解于下述溶剂中而制成的溶液与由硅氧烷接枝丙烯酸聚合物溶解于溶剂中而制成溶液均匀混合而得到的混合液与由氨基硅烷偶联剂溶解于下述溶剂中而制得的溶液混合等的方法，由此使整体不发生凝胶化。
如此得到的树脂组合物，以固化后的膜厚1μm以下(例如约0.01至约1μm，更优选约0.05至约0.5μm)的方式涂布时，在较低温度下(例如约80至约200℃，优选约90至约170℃，更优选约95至约160℃)，短时间内(例如约0.5至约10分钟，优选约0.5至约5分钟，更优选约1至约5分钟，最优选约1至约4分钟)就能固化，为可在较低温度下短时间内固化的树脂组合物。
制备本发明的树脂组合物时，所使用的溶剂只要是对于上述各成分具有高溶解性的溶剂均可使用。一般可从涂层均匀性、易干燥性、可燃性、毒性、获得的容易性等角度考虑适当选择该溶剂。该溶剂的具体例可列举如二噁烷、四氢呋喃、1，2-二甲氧基甲烷、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、三乙二醇二甲醚、三乙二醇二乙醚、四乙二醇二甲醚或四乙二醇二乙醚等醚类；碳酸亚乙酯或碳酸亚丙酯等碳酸酯类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮或苯乙酮等酮类；苯酚、甲酚或二甲酚等酚类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇丁醚乙酸酯、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯或丙二醇单甲醚乙酸酯等酯类；甲苯、二甲苯、二乙基苯或环己烷等烃类；三氯乙烷、四氯乙烷或单氯苯等卤化烃类；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、2-丁醇或正己醇等醇类；石油醚或石油脑等石油类溶剂等有机溶剂，但并不局限于此。此类溶剂可单独使用或混合2种以上使用。
另外，制备上述树脂组合物时，依据要求还可以添加粘度调整剂、消泡剂或/及流平剂(界面活性剂等)等添加剂。
本发明所使用的热固化性低折射率层用涂剂，可直接使用上述树脂组合物，也可配合下述涂布方法以上述溶剂稀释成适当粘度使用。该涂剂的粘度通常优选1mPa·S(millipascal·seconds)以下。
将低折射率层涂剂直接涂布于透明基材膜上而设置低折射率层时，可按照下述方法进行。
将低折射率层涂剂涂布于透明基材膜，只要使用一般的涂布机即可。该涂布机可使用例如幕帘式涂布机、微凹版涂布机、辊式涂布机、旋转涂布机、唇板涂布机、刮刀涂布机、棒式涂布机、反向涂布机或压铸模涂布机等。该低折射率层的厚度优选可使反射减低的可见光线波长1/4的厚度；一般以固化后的膜厚为约0.01至约1μm的方式涂布，优选约0.05至约0.5μm，更优选约0.05至约0.3μm，最优选约0.1μm。本发明中，由于涂膜能在较低温下短时间内进行固化，所以涂膜的干燥步骤及热固化步骤可在热风干燥机内连续进行。因此，本发明中，依照一般光学膜的干燥条件，例如使其以0.5至5分钟时间通过供给70至200℃温度的空气的加热机器，由此使低折射率层用涂剂的涂膜在干燥的同时进行热固化。得到的低折射率层的折射率优选1.5以下，更优选1.35至1.49。
另外，本发明的减反射光学膜中可以直接设置上述低折射率层，也可以在上述透明基材膜上设置至少1层以上的其它层。该其它层可列举用以弥补透明基材膜易受损性的硬涂层和/或用以提高减反射性的高折射率层等。同时设置硬涂层及高折射率层两者时，首先在该基材膜上设置硬涂层，接着于其上设置高折射率层，然后再于其上设置上述低折射率层，由此可得到本发明的减反射光学膜。此类层中可含有用以赋予防眩性的二氧化硅等微粒子，另外还可采用将高折射率层与低折射率层交互重叠层压而扩大减反射波长范围的形式。在设置有硬涂层和/或高折射率层的透明基材膜上涂布上述低折射率层用涂剂时，也可使用上述涂布机同样地进行。
硬涂层涂剂，只要是能形成硬度高、具有透明性、耐擦伤性优良的层的涂剂，则没有特别限制。一般，该涂剂使用将热固化性单体及可由紫外线等活化能量线而固化的活化能量线固化性单体(以下也将两者合称为固化性单体)、聚合引发剂、以及根据需要而添加的分散剂等其它添加剂，溶解和/或分散于溶剂中而得到的涂剂。
在此，热固化性单体及活化能量线固化性单体，是指具有2个以上的聚合性不饱和基团的多官能单体，例如可使用二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯、1，1，1-三(丙烯酰氧乙氧基乙氧基环己基)丙烷、2，2-双(4-丙烯酰氧乙氧基乙氧基苯基)丙烷、2，2-双(4-丙烯酰氧乙氧基乙氧基苯基)甲烷、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、加氢二环戊二烯基二(甲基)丙烯酸酯、三(羟基乙基)三聚异氰酸酯三丙烯酸酯、三(羟基乙基)三聚异氰酸酯二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、异冰片基二(甲基)丙烯酸酯或聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯(例如聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯或聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等)等2至4官能基(甲基)丙烯酸酯，此类单体可单独使用或并用2种以上。
另外，聚合引发剂可使用例如偶氮二异丁腈、偶氮二环己基甲腈或偶氮二戊腈等偶氮类的自由基聚合引发剂；过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、过氧化异丙苯或二酰基过氧化物等有机过氧化物类的自由基聚合引发剂；苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚或苯偶姻异丙醚等苯偶姻类化合物，苯偶酰、二苯甲酮、苯乙酮或米歇勒酮等羰基化合物，偶氮二异丁腈或偶氮二苯甲酰等偶氮化合物或α-二酮与三级胺的混合物等光聚合引发剂等。
另外，可适当添加其本身已知的流平剂、消泡剂等作为添加剂。
另外，溶剂可使用上述低折射率层用涂剂处所述的溶剂，考虑溶解性、易干燥性、安全性等适当选择即可。
硬涂层用涂剂可通过将上述固化性单体、聚合引发剂及分散剂等其它添加剂均匀溶解和/或分散于溶剂中，再根据需要调整为容易涂布的浓度而制成。一般而言，硬涂层用涂剂中，固化性单体及聚合引发剂的合计含量宜调整为20至80重量％，优选调整为30至70重量％。其余部份为溶剂及其它添加剂。另外，对于100重量份的上述固化性单体，聚合引发剂优选使用0.01至10重量份。
在溶剂中调配有固化性单体、聚合引发剂、分散剂等的上述硬涂层用涂剂，也可从市场上购买到，例如Hard Loc OP/UV系列(商品名，电气化学工业股份公司制品)，KAYANOVA POP系列(商品名，日本化药股份公司制品)，Raycure OP系列(商品名，十条化工股份公司制品)等。
另外，在上述硬涂层用涂剂中，可通过添加无机微粒子，例如氧化硅、氧化铝、氧化锡、氧化钛等微粒子，而获得更高的表面硬度，同时可调节折射率，并可缓和由树脂的固化所造成收缩。另外，该涂剂中，也可添加分散剂或涂布的流平剂或其它添加剂。硬涂层的膜厚优选1至15μm，当其为1μm以下时，无法获得充分的表面硬度；当其超过15μm时，透明基材膜的卷缩会变大，容易发生龟裂等因而不优选。
另外，在制成具有防眩功能的减反射光学膜时，为了使反射光发生漫反射，优选在硬涂层、低折射率层、高折射率层的任一层中加入微粒子，而在较厚层的硬涂层中加入更为适宜。微粒子可使用二氧化硅、三聚氰胺、丙烯酸等无机化合物或平均粒径为0.5至10μm，更优选1至5μm的有机化合物。
将硬涂层直接(例如使用涂布机)涂布于透明基材膜上，经干燥步骤、固化步骤可制成带硬涂层的膜。上述涂布机，例如可使用幕帘式涂布机、微凹版涂布机、辊式涂布机、唇板涂布机、旋转涂布机、刮刀涂布机、棒式涂布机、反向涂布机、压铸模涂布机等，可根据目的膜厚及表面状态适当选择。涂膜的干燥步骤及固化步骤可按照一般方法进行。涂膜表面的铅笔硬度优选H以上，更优选2H以上，根据用途有时需要达到3H以上，可通过选择固化性单体、选定膜厚、添加无机微粒子、固化时进行氮清洗等处理而设置所期望的表面硬度的硬涂层。在其上设置上述低折射率层，由此可得到带硬涂层的减反射光学膜。
出于进一步提高减反射性的目的，根据需要可在上述低折射率层的下层形成高折射率的树脂层。用于该目的的高折射率层用涂剂，例如可通过将上述硬涂层用涂剂所使用的热固化性单体、活化能量线固化性单体、聚合引发剂及赋予高折射率性的金属氧化物，加入上述溶剂中，与根据需要加入的其它添加剂一起溶解和/或分散而制成。上述赋予高折射率性的金属氧化物可列举如氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化锡、氧化铁、氧化铟锡、掺锑氧化锡、掺锑氧化锌、掺铝氧化锌等。从涂布的易操作性、导电性(防静电性)的赋予及价格等方面考虑，更优选使用掺锑氧化锡及掺锑氧化锌。高折射率层的折射率优选1.55以上。其膜厚优选设定为可使表示设置高折射率层的膜的反射率的最大值的波长在400至900nm范围，通常优选设定为0.1至0.3μm范围内的厚度。
上述高折射率层优选设置在上述硬涂层之上，涂布时使用与硬涂层涂布相同的一般涂布机即可，例如可从幕帘式涂布机、微凹版涂布机、辊式涂布机、唇板涂布机、旋转涂布机、刮刀涂布机、棒式涂布机、反向涂布机、压铸模涂布机等之中，考虑目的膜厚及表面状态而适当选择。涂布后，经干燥步骤、固化步骤可得到具有高折射率层的膜，然后在其上设置上述低折射率层，由此可获得优良的减反射光学膜。
由上述说明可知，本发明的最佳实施方式的减反射光学膜，具有如下的层结构：在透明基材膜上首先设置上述硬涂层，接着设置上述高折射率层，最后设置上述低折射率层。
PDP是指对由两张板状玻璃夹成的单元中所封入的惰性气体(氖、氙等)施加电压，此时所产生的紫外线照射在单元壁面上经处理的发光体上，使其产生必要的可见光，从而使影像显示于显示器上的装置。因此，在PDP中，除了放出可见光之外，同时也会一起放出成为造成邻近家电误操作原因的波长为700至1100nm的近红外线(以下有时也称为NIR)、对人体有害的电磁波、起因于氖气的使红色光纯度降低的波长为595nm附近的橙色光(以下称为氖光，另外，依情况也称为NE)等有害的电磁波，因而使有益的可见光透过的同时，还必须屏蔽此类有害的电磁波。因此，有必要在PDP模块的前面设置此用途的光学滤膜。所以在将减反射光学膜作为PDP用光学膜使用时，通常会在减反射光学膜上贴合用以遮蔽此类电磁波的膜来使用。本发明的减反射光学膜最适用于此类用途，可制成减反射性、近红外线吸收性及氖光吸收性优良的PDP用复合光学膜。例如可在屏蔽对人体有害的电磁波的透明体(以下记为电磁波屏蔽透明体)上贴合上述减反射光学膜，必要时设置具有其它机能的层，而作为具有减反射性的PDP用光学滤膜来利用。
电磁波屏蔽透明体可分为下述两种类型。一种是将铜等金属的极微细线制成不影响视认性程度的格子状等几何形状，固定于透明膜等透明体上而构成的筛网型；另一种是在具有可见光透过性的范围内，将该金属的极薄膜固定于透明体上而构成的薄膜型。薄膜型的电磁波屏蔽透明体一般会反射近红外线而使其不能透过到观看者一侧，因此在使用其作为上述光学滤膜时，将具有氖光屏蔽性的层设置于该电磁波屏蔽透明体或上述减反射光学膜上，可使两者合为一体而作为上述PDP用光学滤膜而使用。但在使用筛网型电磁波屏蔽透明体作为光学滤膜时，在至少设置于该电磁波遮蔽透明体或上述减反射性光学膜之任一者上的层中，必需具有近红外线遮蔽性及氖光遮蔽性。一般，在近红外线屏蔽中使用可吸收波长700至1100nm的近红外线的化合物(也称为近红外线吸收化合物)，另外，在氖光屏蔽中使用在波长550至620nm处有最大吸收的化合物(也称为氖光吸收化合物)。具有该屏蔽性的层没有特别限制，作为优选方式之一可列举设置在用以贴合该电磁波屏蔽透明体及上述减反射光学膜的粘着层与减反射膜之间的粘合(binder)层。此时，使用含有上述各化合物与粘合剂树脂的涂剂，在减反射膜的减反射面的对侧的透明基材膜面上设置粘合层，再于其上设置粘着剂层，由此制成具有复合功能的本发明的减反射光学膜(等离子显示器用光学膜)。
另外，本发明中，通过在上述减反射光学膜的低折射率层之下，即在硬涂层或高折射率层中加入吸收上述波长的化合物，或在减反射面的对侧的透明基材膜面上重新设置含有该化合物的涂膜等的层，或在减反射面的对侧设置粘着层时，在该粘着层中加入该化合物等方法，可制成具有复合功能的本发明的减反射光学膜(等离子显示器用光学膜)。
上述中的近红外线吸收化合物，只要是能够有效吸收波长700至1100nm的近红外线且可见光透过率良好的化合物，任何种类均可使用。例如可使用酞菁类、硫醇金属错合物类、偶氮化合物、多亚甲基类、二苯基甲烷类、三苯基甲烷类、醌类或二亚铵盐(ジイモニウム塩)类的色素等本身已知的近红外线吸收化合物。此类化合物可单独使用或并用2种以上。另外，氖光吸收化合物只要是能有效吸收氖光且其它可见光透过率良好的化合物，任何种类均可采用，例如可使用菁类、氮杂卟啉类、方酸盐类、偶氮亚甲基类、氧杂蒽类、oxonol类或偶氮类化合物等本身已知的氖光吸收化合物。此类化合物可单独使用或并用2种以上。本发明中，在向硬涂层等层中赋予上述化合物时，在用于使用筛网型电磁波屏蔽透明体的PDP的情况下，将近红外线吸收化合物与氖光吸收化合物混合于涂剂中，而在用于使用薄膜型电磁波屏蔽透明体的PDP情况下，仅将氖光吸收化合物混合于涂剂中，制成含有各自不同成分的涂剂，再使用该涂剂形成目的层即可。
另外，如上所述形成此类含有能吸收各自波长的光的化合物(以下也将两者仅称为吸收化合物)的粘合层时，在粘合剂树脂材料中，优选将根据需要添加的色调调整色素、安定剂等添加剂与该吸收化合物一起溶解和/或分散在溶剂中制成涂剂。特别是此类吸收化合物有时会在粘合层中发生经时性劣化，因此优选充分考虑具有耐久性的化合物的选择及配方的组合。可使用的粘合剂树脂可列举如聚酯类树脂、丙烯酸类树脂、聚酰胺类树脂、聚氨酯类树脂、聚烯烃类树脂或聚碳酸酯类树脂等材料，在适合于各材料的溶剂中及涂布条件下，与上述硬涂层同样地使用一般涂布机涂布即可。
在上述得到的设置具有近红外线吸收性及氖光吸收性的层的光学膜或光学滤膜中，优选将各吸收化合物的量和/或涂布条件设定为可使波长为700至1100nm的近红外线的透过率成为20％以下(更优选10％以下)，并使氖光透过率例如波长590nm附近的光的透过率成为50％以下(更优选40％以下)。
本发明的减反射光学膜，一般贴附于对象机器的平面体上使用，因此宜在膜上设置粘着层。本发明的PDP用光学膜的最优选方式为该粘着层中含有上述近红外线吸收化合物和/或氖光吸收化合物的膜，并且优选含有上述各吸收化合物而使波长700至1100nm的近红外线的透过率成为20％以下(更优选10％以下)，并使氖光透过率例如波长为590nm附近的光的透过率成为50％以下(更优选40％以下)。
粘着层优选透明性高的层，粘着层可使用的粘着成分，可列举如丙烯酸类树脂粘着材料、橡胶类粘着材料或硅氧烷类树脂粘着材料等。构成粘着层的粘着成分为保持粘合性，其分子量(聚合度)高的成分即主聚合物的重均分子量(Mw)优选约60万至约200万，更优选约80万至约180万。
上述中，从具有优良的透明性、粘着性、耐热性、处理方便性、价格等的观点考虑，优选丙烯酸类树脂粘着材料。该粘着材料是指，一般以丙烯酸类烷基酯为主要成分，将其与极性单体共聚合，制成共聚物，再以交联剂交联而得到的材料。该粘着材料具有优良的粘着力及凝聚力，同时由于聚合物中没有不饱和键，因此对光或氧的安定性高；另外，在获得共聚物时单体的种类和分子量选择的自由度高的方面也很突出。上述共聚物中极性单体成分的比例，对于丙烯酸类烷基酯成分100重量份，优选0.1至20重量份，更优选0.5至15重量份，进一步优选1至10重量份。
作为主成分的丙烯酸类烷基酯的具体例可列举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯或(甲基)丙烯酸十二烷基酯等丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯(烷基酯中烷基的碳原子数优选约1至约12)。但不局限于此。此类丙烯酸类烷基酯可单独使用或并用2种以上。
另外，本说明书中，例如「(甲基)丙烯酸甲酯」等记述是指「丙烯酸甲酯或/及甲基丙烯酸甲酯」的意思，同样地包含「(甲基)丙烯酸」或「(甲基)丙烯酸酯」等表达方式的词句以相同的意思来使用。
极性单体可使用作为下述交联剂的交联点等发挥作用的单体，优选具有羟基或羧基作为极性基的单体，例如可使用丙烯酸或甲基丙烯酸等含有羧基的单体、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯或(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯等含有羟基的(甲基)丙烯酸酯类单体、丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、丙烯酸N-叔丁基氨基乙酯等含有氨基的(甲基)丙烯酸酯类单体等丙烯酸类极性单体，或马来酸等。但不局限于此。此类单体可单独使用或并用2种以上。
另外，可使用的交联剂的具体例可列举聚异氰酸酯化合物(例如六亚甲基二异氰酸酯或六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物等脂肪族二异氰酸酯，或亚甲苯基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物等芳香族二异氰酸酯)；六亚甲基二胺或三乙基二胺等二胺化合物；环氧基化合物(例如双酚A或环氧氯丙烷等环氧树脂，或聚乙二醇二环氧丙基醚等环氧树脂类化合物)；尿素树脂类化合物；金属盐(例如氯化铝、氯化铁、硫酸铝或硫酸铜等)。但不局限于此。此类交联剂可单独使用或并用2种以上。
上述交联剂的制备比例，一般，对于丙烯酸类树脂粘着材料100重量份，使用0.001至10重量份，优选0.005至5重量份，更优选0.01至3重量份。
上述粘着成分与必要时所添加的其它添加剂一起溶解和/或分散于溶剂中，作为粘着层用涂剂而使用。可使用的溶剂，可列举例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丙酯、甲醇、乙醇、异丙醇、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、苯、甲苯、二甲苯、四氢呋喃、正己烷、正庚烷、二氯甲烷、氯仿或N，N-二甲基甲酰胺等。但不局限于此。此类溶剂可单独使用或并用2种以上。另外，必要时所添加的其它添加剂，可列举上述近红外线吸收化合物及氖光吸收化合物或紫外光吸收剂或/及色调调整色素等。
具有粘着层的本发明的减反射光学膜，是将上述粘着层用涂剂使用一般的棒式涂布机、反向涂布机、Comma涂布机、凹版涂布机、压铸模涂布机、唇板涂布机等涂布机，涂布于减反射光学膜的减反射面的对侧面上，使粘着层干燥后的厚度成为5至100μm(优选10至50μm)；一般通过直接(视情况而定，若有其它层则在其上面)涂布，干燥，以及根据必要将剥离膜贴合在该粘着层上而卷取的方法而制成；或通过预先在剥离膜表面同样地涂布上述粘着层用涂剂，经干燥后，将具有粘着剂层的剥离膜压合在减反射光学膜的减反射面对侧的面上而转印粘着剂层，然后直接卷取的方法等而制成。在一般使用的近红外线吸收化合物或氖光吸收化合物中，有些会因紫外光而发生劣化，所以选择不易劣化的化合物或配伍不易劣化的组合方式是很重要的。另外，使粘着层的外来光线侧，即减反射面的硬涂层等中含有紫外线吸收剂，或使用含有紫外线吸收剂的透明基材膜，对于防止该吸收化合物的劣化，提高耐久性也是有效的。
本发明所制造的减反射光学膜及PDP用光学膜的任一者中设置粘着层时的层结构的具体例分别记载于如下(1)至(4)及(5)至(11)项，但不局限于此。另外，下述中，NIR表示具有近红外线吸收性，Ne表示具有氖光吸收性，AG表示具有防眩性。
非NIR·非Ne减反射光学膜的情形：
(1)低折射率层/硬涂层/透明基材膜/粘着层，(2)低折射率层/高折射率层/硬涂层/透明基材膜/粘着层，(3)低折射率层/高折射率层/AG·硬涂层/透明基材膜/粘着层，(4)低折射率层/高折射率层/低折射率层/高折射率层/硬涂层/透明基材膜/粘着层，
NIR·Ne减反射光学膜(PDP用光学膜)的情形：
下述PDP用光学膜的例子为使用筛网型电磁波屏蔽透明体的PDP用光学膜的层结构；在使用薄膜型电磁波屏蔽透明体的PDP用光学膜的情况下省略了其近红外线吸收性能，即成为删除NIR的层结构。(5)低折射率层/高折射率层/NIR·Ne·吸收硬涂层/透明基材膜/色调调整粘着层，(6)低折射率层/高折射率层/硬涂层/透明基材膜/NIR·Ne·粘着层，(7)低折射率层/NIR·Ne·吸收硬涂层/透明基材膜/粘着层，(8)低折射率层/硬涂层/透明基材膜/NIR·Ne·粘着层，(9)低折射率层/高折射率层/NIR·硬涂层/透明基材膜/Ne·粘着层，(10)低折射率层/高折射率层/硬涂层/透明基材膜/NIR·Ne层/色调调整粘着层，(11)低折射率层/硬涂层/透明基材膜/NIR·Ne层/色调调整粘着层。
本发明的减反射光学膜具有优良的减反射性、防污性、耐擦伤性、耐化学药品性等。另外，使用的原料价格低廉，制造步骤中的固化温度较低而可简化制造设备，因此能进行低成本的制造。另外，具有硬涂层、高折射率层的减反射光学膜适合于PDP用光学膜等用途。
[实施例]
以下，由实施例更具体地说明本发明。实施例中的「份」是指重量份，％是指重量％。
[各种涂剂的制备]
(1)硬涂层用涂剂
将多官能丙烯酸单体与聚合引发剂等调配成的紫外线固化性丙烯酸类硬涂剂(商品名为KAYANOVA POP-052AS型，日本化药股份公司制品)100份、乙酸丁酯18份、甲基乙基酮42份充分混合溶解而得到硬涂层用涂剂。
(2)高折射率层用涂剂
将固形物含量为60％的掺锑氧化锌(商品名为CelnaxCX-Z600M-3；日产化学工业股份公司制品)100份一边搅拌，一边于其中添加3.5份的阳离子类分散剂(商品名为Solsperse 20000，Zeneca股份公司制品)，再与二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名为KAYARADDPHA，日本化药股份公司制品)15份、光聚合引发剂(商品名为Irgacure-184，Ciba-Geigy股份公司制品)2.7份、甲苯16.4份及甲基乙基酮35份混合，而得到紫外线固化性高折射率层用涂剂。
(3)低折射率层用涂剂
在100份异丙醇中，将32份的本发明的烷氧基硅烷聚合物溶液(含量约为20％至21％)(商品名为Tosgard 510，东芝有机硅公司制品)与0.9份的不含F硅氧烷接枝丙烯酸聚合物溶液(含量约为30％)(商品名为SYMAC US270，东亚合成股份公司制品)混合并溶解。在40份的该溶液中慢慢添加10份的不含F氨基硅烷偶联剂(商品名为KBM 903，信越化学工业股份公司制品，有效成分为3-氨基丙基甲氧基硅烷)的5％异丙醇溶液，经混合成为均匀溶液，再加入50份的异丙醇制成均匀溶液，从而得到低折射率层用涂剂。由该涂剂所得到的涂膜在固化后的折射率约为1.45。
(4)粘着层用涂剂
将下述表1的材料充分混合溶解，而得到含有紫外线吸收剂的粘着层用涂剂。
表1
丙烯酸类粘着剂
(商品名为PTR-2500T，日本化药股份公司制品)            100份
紫外线吸收剂
(商品名为TINUVIN109，Ciba-Geigy股份公司制品)         1份
固化剂1
(商品名为M12ATY，日本化药股份公司制品)               0.5份
固化剂2
(商品名为L45EY，日本化药股份公司制品)                0.4份
固化剂3
(商品名为C-50，综研化学股份公司制品)                 0.1份
甲基乙基酮                                           70份
注：TINUVIN109：苯并三唑类化合物
M12ATY：金属螯合物
L45EY：异氰酸酯化合物
C-50：硅烷偶联剂
实施例1
(1)具有硬涂层及高折射率层的减反射光学膜的制造
在两面施行易接着处理的厚度为100μm、宽度为1300mm、长度为1000m的辊筒状的PET膜(商品名为Lumirror 100U46，东丽股份公司制品)的单面上，利用微凹版涂布机以15m/分钟的速度涂布上述硬涂层用涂剂使固化后的层厚成为8μm，然后一边供应50℃的热风，一边干燥该涂膜。接着，用紫外线连续照射该涂膜使其固化，而得到具有硬涂层的膜。然后在该膜的硬涂层上利用微凹版涂布机以25m/分钟的速度涂布高折射率层涂剂使固化后的层厚成为0.1μm，接着供给50℃的热风进行干燥。然后用紫外线连续照射该涂膜使其固化，而得到积层有高折射率层的膜。再于其上利用微凹版涂布机以12m/分钟的速度涂布上述低折射率层用涂剂使固化后的层厚成为0.1μm。接着，使得到的具有该涂膜的膜在25m长的热风干燥机中通过，最初1/3时间供给100℃的热风，中间1/3时间供给140℃的热风，最后1/3时间供给100℃的热风(通过热风干燥机所需时间约为2分钟)，在干燥机中进行该涂膜的干燥及固化。得到的本发明的减反射光学膜为视见反射率(Luminous reflectance)1.2％，且具有下述优良的耐擦伤性、防污性及耐化学药品性的减反射光学膜。
另外，实施例及比较例中所使用的微凹版涂布机为涂布机部分、干燥机部分、紫外线照射部分一体化的装置，膜的制作速度和涂布速度相同，将各膜卷取至3英寸卷芯上而制成辊筒状。另外，视见反射率利用附有5°正反射测定装置的紫外·可见光分光光度计(商品名为「UV-3150」，岛津制作所制品)而测定。
(2)带粘着层的减反射光学膜的制造
在38μm厚的PET剥离膜(商品名为Diafoil MR-38，三菱化学聚酯膜股份公司制品)的表面上，利用Comma涂布机涂布上述表1的粘着层用涂剂使干燥后的粘着层厚度成为18μm，经干燥而得到带粘着层的剥离膜。将该粘着层在先前获得的减反射光学膜的减反射面的对侧的PET面上，一边以辊筒加压一边卷取至直径3英寸的卷芯上，使粘着层粘着在该PET面，而得到粘着层由剥离膜被覆的带粘着层的本发明的膜。
实施例2
赋予防眩性的减反射光学膜的制造
在上述第(1)项所述的硬涂层用涂剂160份中，添加2.4份的平均粒径为1.8μm的二氧化硅微粒子(商品名为SYLYSIA350，富士Sylysia化学股份公司制品)，并使其均匀分散。使用得到的涂剂替代实施例1中的硬涂层用涂剂，除此之外按照与实施例1相同的方法制造本发明的膜，而得到具有优良防眩性的本发明的膜。
按照与实施例1相同的方法，将该膜制成带粘着层的膜，而得到粘着层由剥离膜被覆的带粘着层且具有防眩性的本发明的膜。本膜可使外来光线发生漫反射，良好地抑制背景等的映入。
实施例3
具有粘着层及NIR/Ne层的减反射光学膜(PDP用光学膜)的制造
使用紫外线吸收性PET(商品名为Lumirror 100QT78型，东丽股份公司制品)替代PET膜(商品名为Lumirror 100U46型，东丽股份公司制品)，除此之外按照与实施例1相同的方法制造本发明的减反射光学膜。该膜的正反射率为1.2％，且该膜具有优良的耐擦伤性，防污性及耐化学药品性。在该膜的减反射面的对侧，涂布下述表2所示的近红外线及氖光吸收层(NIR/Ne层)用涂剂，使干燥后的膜厚成为约8μm，接着在干燥机内用120℃的热风干燥该膜的涂布面，而制得具有NIR/Ne层的减反射光学膜(PDP用光学膜)。该膜的波长700至1100nm的近红外线透过率为9％，波长585nm的氖光透过率为32％。在该膜的NIR/Ne层上与实施例1相同地设置粘着层，制成适用于筛网型电磁波屏蔽透明体的带粘着层的NIR/Ne减反射光学膜(PDP用光学膜)。
NIR/Ne层用涂剂的制造
按下述表2中所述的比例，在下述表2所述的甲基乙基酮中加入下述表2所述的其它成分，充分搅拌使添加成分溶解而得到NIR/Ne层用涂剂。
表2
丙烯酸类树脂*
(商品名为IR-G205，日本触媒股份公司制品)         76.0份
Ne光吸收剂
(商品名为TY-102，旭电化工业股份公司制品)        0.03份
NIR吸收剂
(商品名为IRG-022，日本化药股份公司制品)         0.80份
NIR吸收剂
(商品名为CY-40BE，日本化药股份公司制品)         0.05份
NIR吸收剂
(商品名为IR-12，日本触媒股份公司制品)           0.20份
甲基乙基酮                                      23.0份
注：*丙烯酸类树脂的固形物含量为30％。
实施例4
(带粘着层的PDP用本发明膜)
将含有近红外线吸收化合物、氖光吸收剂、紫外线吸收剂、色调调整色素及粘着剂的由下述表3所述的成分及组合方式所构成的NIR/Ne/色调调整粘着层用涂剂，利用Comma涂布机涂布在38μm厚的PET剥离膜(商品名为Diafoil MR-38，三菱化学聚酯膜股份公司制品)的表面，使干燥后的粘着层厚度成为18μm，并进行干燥。干燥后，将该粘着面在实施例1的第(1)项中所得到的减反射光学膜的减反射面的对侧的PET面上，一边以辊筒加压一边卷取至直径3英寸的卷芯上，制成粘着层由剥离膜被覆的具有NIR/Ne/色调调整粘着层的本发明的膜(带有含近红外线(吸收，日文原文中没有)化合物、氖光吸收化合物及色调调整色素的粘着层的PDP用光学膜)。该光学膜的波长700至1100nm的近红外线透过率为9％，波长585nm的氖光透过率为32％。
NIR/Ne/色调调整粘着层用涂剂的制备
按照下述表3所述的比例，在下述表3所述的甲基乙基酮中混合下述表3所述的其它成分，将其溶解而得到NIR/Ne/色调调整粘着层用涂剂。
表3
近红外线吸收化合物(下述式(3)的化合物)             1.0份
氖光吸收剂(商品名为TAP-2)                         0.1份
紫外线吸收剂(商品名为TINUVIN109)                  1.2份
黄色色素(商品名为KAYASET Yellow GN)               0.006份
蓝色色素(商品名为KAYASET Blue N)                  0.007份
丙烯酸类树脂(商品名为PTR-2500T)                   120.0份
固化剂(商品名为M12ATY)                            0.32份
固化剂(商品名为L45EY)                             0.44份
固化剂(商品名为C-50)                              0.14份
甲基乙基酮                                        84.0份
注：TAP-2：四氮杂卟啉化合物，山田化学工业股份公司制品
TINUVIN109：苯并三唑类化合物，Ciba-Geigy股份公司制品
黄色色素(色彩索引)：溶剂黄-93，日本化药股份公司制品
蓝色色素(色彩索引)：溶剂蓝-35，日本化药股份公司制品
M12ATY：金属螯合物，日本化药股份公司制品
L45EY：异氰酸酯化合物，日本化药股份公司制品
C-50：硅烷偶联剂，综研化学股份公司制品
Figure S2006800497997D00301
最大吸收值(λmax)：1109nm(二氯甲烷)
摩耳消光系数(ε)：107000。
比较例1
除使用将32份的本烷氧基硅烷聚合物溶液(Tosgard 510)加入100份异丙醇中形成均匀溶液而得到的低折射率层用涂剂，替代实施例1的低折射率层用涂剂以外，按照与实施例1相同的方法，得到比较膜1。
比较例2
除使用四乙氧基硅烷(商品名KBE04，信越化学工业股份公司制品)6.4份与异丙醇25.6份，替代实施例1的低折射率层用涂剂中所含有的32份本烷氧基硅烷聚合物溶液(Tosgard 510：固形物含量为20％)以外，按照与实施例1相同的方法，得到比较膜2。
比较例3
除使用含有环氧基的硅烷偶联剂(商品名为KB403，信越化学工业公司制品)，替代实施例1的低折射率层用涂剂中所含有的氨基硅烷偶联剂(KBM903)以外按照与实施例1相同的方法，得到比较膜3。
比较例4
除使用具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物(商品名XC93-A5382，东芝有机硅股份公司制品)替代实施例1的低折射率层用涂剂中所含有的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物(SYMAC US270)以外，按照与实施例1相同的方法，得到比较膜4。
对于上述实施例1、实施例2及比较例1至比较例4所得到的减反射光学膜，将设置粘着层前的减反射光学膜作为样品，按照以下试验方法进行性能试验。结果显示于表4中。
(减反射性试验及评价基准)
将各样品的减反射面的对侧的面以砂纸粗化并进行蔽光，利用带有5°正反射测定装置的紫外·可见光分光光度计(商品名为「UV-3150」，岛津制作所制品)测定减反射面在C光源下的视见反射率。减反射性评价基准：视见反射率1.5％以下为良好，1.5至2.0％为稍差。
(擦伤性试验及耐擦伤性的评价基准)
使用表面耐磨性测定仪(商品名为HEIDON-14S，新东科学公司制品)，将各样品的减反射面作为上面，在200g/cm2的负荷下，使用钢丝绒(#0000)来回摩擦10次，观察其擦伤状态。
耐擦伤性评价基准：擦伤少的为良好，5条刮痕以下则为耐擦伤性优秀。
(粘合性试验及评价基准)
依照JIS K5400的棋盘格剥离试验法，测定各样品的减反射面的粘合性。
粘合性评价基准：未剥离的棋盘格(非剥离度)在95/100以上，则为粘合性优秀。
(防污性试验及评价基准)
在室温下将纯水2μl滴加在各样品的减反射面上，以接触角仪(商品名为「接触角仪CA-D型」，协和界面科学股份公司制品)测定接触角。
防污性评价基准：接触角越大防污性越好，95°以上则为防污性优秀。
(耐化学药品性试验及评价基准)
将各样品的减反射面作为上面滴加0.2ml的下述药液，保持该状态30分钟之后，评价试验面有无变化(涂层的剥落、变色等)。试验药液：(1)3重量％的氢氧化钠水溶液、(2)甲基乙基酮、(3)5重量％的中性洗剂水溶液(商品名为Fresh lime，日产肥皂公司制品)，(4)5重量％的碱性洗剂水溶液(商品名为Mypet，花王公司制品)。
耐化学药品性评价基准：在所有药液下均无变化的样品为优秀。
(涂布性试验及评价基准)
将各样品的减反射面裁切成100cm×100cm大小，用目测计数大小0.1mm2以上的反射性点状缺陷的个数。另外，反射性点状缺陷是指由涂膜剥落所造成的点状的孔洞等所产生的减反射面的点状的减反射斑点。
涂布性评价基准：反射性点状缺陷少的则涂布面的剥落少，涂布液的配方适宜，5个以下则为优异。
评价结果
表4
减反射性 耐擦伤性 粘合性 防污性   耐化学药品性 涂布性
  视见反射率(％) 擦伤数(条) 非剥离度 接触角 变化药液 缺陷数(个)
 实施例1   1.2   3   100/100   98°   无   2
 实施例2   1.9   0   100/100   100°   无   0
 比较例1   1.2   多数   -   -   (1)(2)   2
 比较例2   1.0   多数   75/100   98°   (1)(2)   3
 比较例3   1.2   多数   80/100   98°   (1)(2)   3
 比较例4   1.2   3   100/100   103°   无   100以上
考察
实施例1在所有项目中均为良好，实施例2虽然在视见反射率的数值上稍差，但带粘着层的相同的膜通过粘着层贴合在42英寸的PDP前面时，可使外来光线漫反射而几乎完全抑制影像的映入。另外，在其它项目中均为优秀。
比较例1的耐擦伤性、耐化学药品性差，比较例2、比较例3的耐擦伤性、粘合性、耐化学药品性差，可判断为在该固化条件下无法充分固化。比较例4在涂布表面因剥落现象而产生多数反射缺陷，涂布性不良。可判断此为低折射率层用涂剂所含有的具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的影响所致。
上述结果显示，实施例1及实施例2与任一比较例相比，综合上都是优秀的。

Claims (13)

1.一种减反射光学膜，其中，在透明基材膜上具有低折射率层，该低折射率层通过含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物的涂层的固化而得到，
所述不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为下述式(1)所示的化合物的低聚物：
RaSiX(4-a)                                        (1)
式中，a为0、1或2，R为不具有含氟有机基的有机基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为可水解基团，多个X可互为相同或不同；
所述不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为氨基C1至C5烷基三C1至C3烷氧基硅烷、氨基C1至C5烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基三C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷或N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷；
所述不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为由下述式(2)所示的结构单位所构成的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物：
Figure FSB00000554947000011
式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至6的烷基，R3表示氢原子或甲基；它们在每个重复单位中可为相同或不同；n为1至10000的正数，m为1至3500的正数，p为1至500的正数。
2.一种减反射光学膜，其中，在透明基材膜上依次设置硬涂层、高折射率层及权利要求1所述的所述低折射率层。
3.权利要求2所述的减反射光学膜，其中，高折射率层为含有掺锑氧化锡或掺锑氧化锌或同时含有两者的层。
4.一种减反射光学膜的制造方法，其特征在于，将由含有不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物、不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂、不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物及溶剂的热固化性树脂组合物所构成的涂布液涂布于透明基材膜或依次设置有硬涂层及高折射率层的透明基材膜上之后，使其在供应有70至200℃空气的热风干燥机内通过0.5至5分钟，连续进行溶剂的干燥步骤及热固化步骤，从而形成低折射率层，
所述不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为下述式(1)所示的化合物的低聚物：
RaSiX(4-a)               (1)
式中，a为0、1或2，R为不具有含氟有机基的有机基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为可水解基团，多个X可互为相同或不同；
所述不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为氨基C1至C5烷基三C1至C3烷氧基硅烷、氨基C1至C5烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基三C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷或N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷；
所述不具有含氟有机取代基的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为由下述式(2)所示的结构单位所构成的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物：
Figure FSB00000554947000031
式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至6的烷基，R3表示氢原子或甲基；它们在每个重复单位中可为相同或不同；n为1至10000的正数，m为1至3500的正数，p为1至500的正数。
5.一种等离子显示器用光学膜，其中，在权利要求1至3的任一项所述的减反射光学膜或根据权利要求4所述的制造方法所得到的减反射光学膜上，设置含有吸收波长700至1100nm的近红外线的化合物和/或在波长550至620nm处具有最大吸收的化合物的层。
6.一种等离子显示器用光学膜，其中，在权利要求1至3的任一项所述的减反射光学膜或根据权利要求4所述的制造方法所得到的减反射光学膜的低折射率层设置面的相反面上，设置含有吸收波长700至1100nm的近红光线的化合物和/或在波长550至620nm处具有最大吸收的化合物的粘着层。
7.权利要求1所述的减反射光学膜，其中，
所述不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为下述式(1)所示的化合物的低聚物：
RaSiX(4-a)               (1)
式中，a为0、1或2，R为由下述官能取代基取代的碳原子数1～10的烃残基或者未取代的碳原子数1至10的烃残基，所述官能取代基为氯原子、羟基、环氧基、环氧丙基或由这些基团取代的C1至C4烷氧基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为C1至C4烷氧基，多个X可互为相同或不同。
8.权利要求7所述的减反射光学膜，其中，烷氧基硅烷化合物的低聚物中，R为C1至C10的烃残基，X为C1至C4的烷氧基。
9.权利要求8所述的减反射光学膜，其中，R为C1至C4的烷基。
10.权利要求1所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为不具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷或具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷。
11.权利要求10所述的减反射光学膜，其中，不具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷或具有N-氨基C1至C4烷基取代的氨基C1至C4烷基三C1至C3烷氧基硅烷为N-氨基C1至C4烷基氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷或氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷。
12.权利要求1所述的减反射光学膜，其中，不具有含氟有机取代基的烷氧基硅烷化合物的低聚物为选自四(甲氧基或乙氧基)硅烷、甲基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、苯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、乙烯基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基(甲氧基或乙氧基)硅烷、3-氯丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、二甲基二(甲氧基或乙氧基)硅烷及二苯基二(甲氧基或乙氧基)硅烷所组成的组中的至少一种化合物的低聚物；不具有含氟有机取代基的氨基硅烷偶联剂为选自N-(2-氨基乙基)氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二(甲氧基或乙氧基)硅烷及3-氨基丙基三(甲氧基或乙氧基)硅烷所组成的组中的至少一种化合物。
13.一种热固化性树脂组合物，其含有由下述式(1)所示化合物的水解及脱水缩合而得到的低聚物、不含氟原子的氨基硅烷偶联剂、通过硅氧烷改性丙烯酸类单体与丙烯酸类单体共聚合而得到的不含氟原子的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物
RaSiX(4-a)          (1)
式中，a为0、1或2，R为由下述官能取代基取代的碳原子数1～10的烃残基或者未取代的碳原子数1至10的烃残基，所述官能取代基为氯原子、羟基、环氧基、环氧丙基或由这些基团取代的C1至C4烷氧基；当a为2时，两个R可相同或不同；X为C1至C4烷氧基，多个X可互为相同或不同；
所述不含氟原子的氨基硅烷偶联剂为氨基C1至C5烷基三C1至C3烷氧基硅烷、氨基C1至C5烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷、N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基三C1至C3烷氧基硅烷或N-(氨基C1至C3烷基)-3-氨基烷基C1至C3烷基二C1至C3烷氧基硅烷；
所述不含氟原子的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物为由下述式(2)所示的结构单位所构成的硅氧烷接枝丙烯酸聚合物：
式中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳原子数1至6的烷基，R3表示氢原子或甲基；它们在每个重复单位中可为相同或不同；n为1至10000的正数，m为1至3500的正数，p为1至500的正数。
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