WO2023067900A1 - 透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法 - Google Patents

透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023067900A1
WO2023067900A1 PCT/JP2022/032537 JP2022032537W WO2023067900A1 WO 2023067900 A1 WO2023067900 A1 WO 2023067900A1 JP 2022032537 W JP2022032537 W JP 2022032537W WO 2023067900 A1 WO2023067900 A1 WO 2023067900A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
transparent
piezoelectric film
coating layer
less
transparent conductive
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/032537
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
誠 今治
Original Assignee
株式会社クレハ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社クレハ filed Critical 株式会社クレハ
Priority to CN202280063610.9A priority Critical patent/CN118044357A/zh
Priority to KR1020247012556A priority patent/KR20240060822A/ko
Priority to JP2023554971A priority patent/JPWO2023067900A1/ja
Publication of WO2023067900A1 publication Critical patent/WO2023067900A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80—Constructional details
    • H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/857—Macromolecular compositions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/025—Electric or magnetic properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/01—Manufacture or treatment
    • H10N30/06—Forming electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80—Constructional details
    • H10N30/87—Electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
    • H10N30/877—Conductive materials
    • H10N30/878—Conductive materials the principal material being non-metallic, e.g. oxide or carbon based
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80—Constructional details
    • H10N30/88—Mounts; Supports; Enclosures; Casings
    • H10N30/883—Additional insulation means preventing electrical, physical or chemical damage, e.g. protective coatings

Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive piezoelectric film, a touch panel, and a method for manufacturing a transparent conductive piezoelectric film.
  • a touch panel is widely used as a device that allows you to input information by touching the screen.
  • a touch panel is a light-transmitting input device arranged on a display device such as a liquid crystal panel.
  • a display device such as a liquid crystal panel.
  • capacitive touch panels have been devised that detect the pressing amount at the time of touch.
  • a transparent conductive layer made of metal oxide such as indium oxide containing tin oxide (tin-doped indium oxide, ITO) or zinc oxide is formed on the piezoelectric film in order to detect the amount of depression at the time of touch.
  • Laminated conductive piezoelectric films are used.
  • a technique of crystallizing a metal oxide layer by annealing treatment is known (see, for example, Patent Document 1).
  • the annealing treatment increases the transmittance in the short wavelength region of visible light, improves the transparency of the conductive film, suppresses yellow coloration, and reduces the surface resistance value, thereby increasing the conductivity.
  • the piezoelectric film has lower heat resistance than other conductive film substrates, the yellow coloration may become more pronounced due to the annealing treatment.
  • it is necessary to increase the thickness of the metal oxide layer.
  • the transparency of the film is decreased and yellow coloration to become noticeable.
  • it is difficult to accurately reproduce the color development of the display device placed under the input device. There's a problem.
  • An object of one aspect of the present invention is to realize a conductive piezoelectric film with excellent transparency.
  • a transparent conductive piezoelectric film has a transmittance of 75% or more at a wavelength of 450 nm, a transmittance of 85% or more at a wavelength of 550 nm, and a piezoelectric constant d33 of 5 pC. /N or more and 40 pC/N or less, comprising a transparent electrode layer, wherein the transparent electrode layer has a surface resistance value of 50 ⁇ /sq or more and less than 300 ⁇ /sq.
  • one aspect of the method for producing a transparent conductive piezoelectric film according to one aspect of the present invention includes forming a first transparent coating layer and a second transparent coating on at least one surface of the transparent piezoelectric film.
  • a method for producing a laminated film comprising a layer and a transparent electrode layer laminated in this order, wherein the transparent piezoelectric film forming a film having a refractive index of 1.30 or more and less than 1.45 is manufactured.
  • a conductive piezoelectric film with excellent transparency can be realized.
  • 1 is a transparent conductive piezoelectric film 11 according to one embodiment of the present invention
  • 1 is a transparent conductive piezoelectric film 12 according to one embodiment of the present invention
  • a transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment of the present invention is a film in which a transparent electrode layer is provided on a piezoelectric film.
  • the transparent conductive piezoelectric film of this embodiment has a transmittance of 75% or more at a wavelength of 450 nm, a transmittance of 85% or more at a wavelength of 550 nm, and a piezoelectric constant d33 of 5 pC/N or more and 40 pC/N or less.
  • the transparent conductive piezoelectric film has excellent piezoelectric properties, transparency, and conductivity, and can be suitably used for devices such as touch panels.
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm is 75% or more and the transmittance at a wavelength of 550 nm is 85% or more.
  • the transmittance of the transparent conductive piezoelectric film at a wavelength of 450 nm and a wavelength of 550 nm is within the above range, it is possible to obtain a transparent conductive piezoelectric film with suppressed color and no turbidity. Therefore, it can be suitably used for devices requiring transparency. For example, when used in a device such as a touch panel, transparency is preferable because it does not interfere with the display screen of the touch panel.
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm is preferably 78% or more, more preferably 80% or more.
  • a transparent conductive piezoelectric film having a transmittance at a wavelength of 450 nm within this range can be judged to be a film with particularly suppressed yellowness.
  • the transparent conductive piezoelectric film has a transmittance of 85% or more, preferably 87% or more, and more preferably 89% or more at a wavelength of 550 nm.
  • a transparent conductive piezoelectric film having a transmittance at a wavelength of 550 nm within the above range can be judged to be a transparent conductive piezoelectric film that sufficiently transmits light and has high transparency when used for optical applications in devices and the like.
  • the 450 nm wavelength transmittance and the 550 nm wavelength transmittance of the transparent conductive piezoelectric film are sufficient as long as the desired effect can be sufficiently obtained in the above case. may be It is preferable that the 450 nm wavelength transmittance and the 550 nm wavelength transmittance are close to 100%.
  • “transparency” refers to optical properties evaluated by the 450 nm wavelength transmittance and the 550 nm wavelength transmittance
  • “transparency” or “highly transparent” means that the 450 nm wavelength transmittance is 75 % or more, and the transmittance at a wavelength of 550 nm is 85% or more.
  • the piezoelectric constant d33 of the transparent conductive piezoelectric film of the present embodiment may be 5 pC/N or more, preferably 8 pC/N or more, more preferably 10 pC/N or more. Also, the piezoelectric constant d33 of the transparent conductive piezoelectric film may be 40 pC/N or less, preferably 30 pC/N or less, and more preferably 20 pC/N or less. Such a piezoelectric constant is achieved by the piezoelectric film provided by the transparent conductive piezoelectric film.
  • the piezoelectric constant d 33 indicates the amount of voltage displacement in the stress direction with respect to the applied stress.
  • the higher the piezoelectric constant d33 the higher the voltage generated in response to stress, which is preferable for use in any device.
  • the piezoelectric constant d33 does not fall below the lower limit from the viewpoint of imparting sufficient piezoelectric properties to the transparent conductive piezoelectric film. From the viewpoint of film surface properties, it is preferable that the piezoelectric constant d33 does not exceed the upper limit.
  • a transparent conductive piezoelectric film having such a piezoelectric constant d33 is expected to be applied to a wide range of devices. For example, in the acoustic, security, traffic, and medical fields, applications to sensors such as arbitrary pressure sensors and vibration sensors, switches, energy harvesting elements, actuators, and the like are expected.
  • a transparent conductive piezoelectric film having a piezoelectric constant d33 within the above range is particularly suitable for use in touch panels.
  • a transparent conductive piezoelectric film comprises a transparent electrode layer.
  • the transparent electrode layer is a structure having transparency, conductivity and planar extent.
  • the shape of the transparent electrode layer when viewed in plan may be appropriately set according to the use of the transparent conductive piezoelectric film. Details of the transparent electrode layer will be described in ⁇ Specific Examples of Transparent Conductive Piezoelectric Film>.
  • the surface resistance value of the transparent conductive piezoelectric film may be determined according to the application. For example, from the viewpoint of realizing a transparent conductive piezoelectric film that achieves both high transparency and conductivity, the surface resistance value may be 50 ⁇ /sq or more, 70 ⁇ /sq or more, or even 90 ⁇ /sq. or more. Also, the surface resistance value may be less than 480 ⁇ /sq. When the surface resistance value is within this range, it can be used for any device as a conductive film. Further, the surface resistance value can be less than 300 ⁇ /sq. A transparent conductive piezoelectric film having a surface resistance value within this range has a small surface resistance value, and can be suitably used for devices such as touch panels.
  • the transparent conductive piezoelectric film may be a laminated film formed by stacking a plurality of arbitrary layers.
  • a transparent conductive piezoelectric film is a laminated film having a structure in which a first transparent coating layer, a second transparent coating layer and a transparent electrode layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent piezoelectric film.
  • stacked in this order means a state in which the layers are arranged adjacent to each other in the listed order in a laminate including the above layers.
  • FIG. 1 shows a transparent conductive piezoelectric film 11 as an example of the transparent conductive piezoelectric film.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 is a laminated film in which a first transparent coating layer 2, a second transparent coating layer 3 and a transparent electrode layer 4 are laminated in this order on one surface of the transparent piezoelectric film 1.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 is not limited to the configuration shown in FIG. 1, and may further include another layer structure.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 may be a transparent conductive piezoelectric film in which the transparent piezoelectric film 1 and the first transparent coating layer 2 are overlaid with the third transparent coating layer 5 interposed therebetween. That is, the transparent conductive piezoelectric film may be provided with a third transparent coating layer 5 between the transparent piezoelectric film 1 and the first transparent coating layer 2 .
  • Such a transparent conductive piezoelectric film is shown as transparent conductive piezoelectric film 12 in FIG.
  • the transparent conductive piezoelectric film 12 is formed by stacking a third transparent coating layer 5, a first transparent coating layer 2, a second transparent coating layer 3 and a transparent electrode layer 4 on one side of the transparent piezoelectric film 1 in this order. It is a composed laminated film.
  • the transparent piezoelectric film 1 has a refractive index of 1.30 or more and less than 1.45
  • the first transparent coating layer 2 has a refractive index of 1.60 or more and less than 1.80
  • the refractive index of the second transparent coating layer 3 is 1.30 or more and 1.50 or less
  • the refractive index of the transparent electrode layer 4 is 1.80 or more and 2.20 or less.
  • the refractive index of the third transparent coating layer 5 may be 1.45 or more and less than 1.60.
  • the transparent conductive piezoelectric film 12 can improve its transparency.
  • the "refractive index” refers to the refractive index at a wavelength of 589 nm.
  • the refractive indices of the first transparent coating layer 2 and the second transparent coating layer 3 were measured according to JIS K7142. Specifically, using an Abbe refractometer, measurement light with a wavelength of 589 nm is incident on each layer for each coating layer prepared experimentally, and the measurement is performed three times at 25.0 ⁇ 1.0 ° C. The average of the values was taken as the refractive index.
  • the refractive index of the transparent electrode layer 4 was determined by measuring psi ( ⁇ ) and delta ( ⁇ ) with a multi-incidence angle high-speed spectroscopic ellipsometer (M-2000 manufactured by JA Woollam), and then calculating the refractive index at a wavelength of 589 nm. Calculated.
  • the refractive index of the transparent piezoelectric film 1 was measured according to ASTM D542.
  • the thickness of the second transparent coating layer 3 is 10 nm or more and 70 nm or less. Even if the refractive index of each layer is within a predetermined range, if the thickness of the second transparent coating layer 3 is outside the range, the transmittance at a wavelength of 450 nm may be low, resulting in a yellowish transparent conductive piezoelectric film.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 has a high transmittance at a wavelength of 450 nm and a transmittance at a wavelength of 550 nm. level can be compatible.
  • the thickness of the transparent electrode layer 4 is, for example, 13 nm or more and less than 40 nm. By setting the thickness of the transparent electrode layer 4 within this range, the transparent conductive piezoelectric film 11 can be provided with a suitable surface resistance value and transparency.
  • each layer of the transparent conductive piezoelectric film 11 and the transparent conductive piezoelectric film 12 will be described in detail below.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 by setting the refractive index of each layer within the “further preferable” range described later, the transparent conductive piezoelectric film can be made with higher transparency.
  • the transparent piezoelectric film 1 included in the transparent conductive piezoelectric film 11 refers to a film that has piezoelectricity and is transparent.
  • the “transparent” of the transparent piezoelectric film 1 refers to a film having excellent transmittance at a wavelength of 450 nm and a transmittance at a wavelength of 550 nm.
  • the transmittance of the transparent piezoelectric film 1 at a wavelength of 450 nm may be 88% or more, preferably 90% or more.
  • the transmittance of the transparent piezoelectric film 1 at a wavelength of 550 nm may be 89% or more, preferably 91% or more.
  • the refractive index of the transparent piezoelectric film 1 is, for example, 1.30 or more and less than 1.45.
  • the refractive index of the transparent piezoelectric film 1 may be within this range, preferably 1.34 or more, more preferably 1.36 or more.
  • the refractive index is preferably 1.44 or less, more preferably 1.43 or less.
  • the transparent piezoelectric film 1 is a resin film.
  • the resin in this embodiment may be any resin, and may be a single resin or a combination of two or more resins, as long as the film has piezoelectric properties represented by the piezoelectric constant d33 .
  • resins satisfying the above conditions include fluororesin, polyamide 11, cellulose, polyurethane and polyurea.
  • the transparent piezoelectric film is made of fluororesin, it is possible to obtain a transparent conductive piezoelectric film that is excellent in transparency and piezoelectric properties represented by the piezoelectric constant d33 .
  • “made of fluororesin” means that the main component of the composition constituting the transparent piezoelectric film is fluororesin.
  • the phrase "mainly composed of a fluororesin” means that the fluororesin is the most abundant component among the resin components in the composition.
  • the content of the fluororesin in the composition is preferably 51% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass. That is, it is particularly preferable that the transparent piezoelectric film 1 is a film made of fluororesin.
  • vinylidene fluoride resins are preferred.
  • vinylidene fluoride resins include vinylidene fluoride homopolymers and copolymers thereof.
  • the content of structural units derived from monomers other than vinylidene fluoride in the copolymer of vinylidene fluoride may be appropriately determined within a range in which properties according to the application of the transparent piezoelectric film can be exhibited.
  • Examples of monomers other than vinylidene fluoride in vinylidene fluoride copolymers include hydrocarbon-based monomers and fluorine compounds.
  • Examples of the hydrocarbon monomers include vinyl fluoride (VF), trifluoroethylene (TrFE), tetrafluoroethylene (TeFE), hexafluoropropene (HFP), 1-chloro-1-fluoro-ethylene ( 1,1-CFE), 1-chloro-2-fluoro-ethylene (1,2-CFE), 1-chloro-2,2-difluoroethylene (CDFE), chlorotrifluoroethylene (CTFE), trifluorovinyl monomers , 1,1,2-trifluorobutene-4-bromo-1-butene, 1,1,2-trifluorobutene-4-silane-1-butene, perfluoroalkyl vinyl ether, perfluoromethyl vinyl ether (PMVE), perfluoropropyl Fluoromonomers such as vinyl ethers (PPVE),
  • allyl glycidyl ether acrylic acid-based monomers, methacrylic acid-based monomers, and hydrocarbon-based monomers such as vinyl acetate.
  • trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, and hexafluoropropene are preferred as monomers other than vinylidene fluoride in the copolymer.
  • the vinylidene fluoride copolymer is a vinylidene fluoride copolymer (VDF/TrFE) obtained by copolymerizing vinylidene fluoride and trifluoroethylene, and a vinylidene fluoride copolymer obtained by copolymerizing vinylidene fluoride and hexafluoropropene.
  • VDF/HFP vinylidene fluoride copolymers
  • VDF/TeFE binary copolymers
  • the binary copolymer preferably has a mixing ratio of vinylidene fluoride and comonomer of 50:50 to 90:10.
  • a vinylidene fluoride copolymer VDF/TeFP
  • VDF/TFE/HFP vinylidene fluoride copolymer
  • a ternary copolymer such as vinylidene fluoride copolymer (VDF/TFE/HFP) in which vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and hexafluoropropene are copolymerized at a mixing ratio of 40:40:20. It may be a polymer.
  • homopolymers of vinylidene fluoride and copolymers of vinylidene fluoride and tetrafluoroethylene are preferably used.
  • the transparent piezoelectric film of the present embodiment may contain various additives within the range where the effects of the present embodiment can be obtained.
  • the additive may be one or more, examples of which include plasticizers, lubricants, cross-linking agents, UV absorbers, pH adjusters, stabilizers, antioxidants, surfactants and pigments.
  • the thickness of the transparent piezoelectric film 1 in this embodiment can be appropriately determined depending on the application of the transparent conductive piezoelectric film 11 and within the range in which the effects of this embodiment can be obtained. If the thickness of the transparent piezoelectric film 1 is too thin, the mechanical strength may be insufficient. Sometimes. From such a viewpoint, the thickness of the transparent piezoelectric film 1 may be 20 ⁇ m or more, preferably 30 ⁇ m or more, and more preferably 35 ⁇ m or more. Also, the thickness of the transparent piezoelectric film 1 may be less than 200 ⁇ m, preferably 120 ⁇ m or less, and more preferably 80 ⁇ m or less.
  • the transparent electrode layer 4 in this embodiment is a layered electrode overlaid on the second transparent coating layer 3 .
  • the transparent electrode layer 4 in this embodiment has a structure that spreads in a plane and has conductivity and sufficient transparency, and can also be called a transparent conductive layer. Even if the material itself constituting the transparent electrode layer 4 does not have transparency, the layer should exhibit sufficient transparency in a structure in which the transparent electrode layer 4 can exhibit its function.
  • the transparent electrode layer 4 may be composed of a highly transparent conductive member or composition, or may be composed of a non-transparent conductive material that can exhibit sufficient transparency. It may be an ultra-thin or ultra-fine microstructure.
  • the transparent electrode layer 4 may be formed on a transparent substrate and adhered to the second transparent coating layer 3 together with the substrate.
  • the transparent electrode layer 4 may be arranged on at least one side of the transparent piezoelectric film 1 .
  • the transparent electrode layer 4 is arranged on at least one side of the second transparent coating layer 3. Just do it.
  • the material constituting the transparent electrode layer 4 is not limited, and at least selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd and W.
  • a metal oxide of one kind of metal is preferably used.
  • ITO, zinc oxide, antimony-tin composite oxide (ATO), or the like is preferably used as the metal oxide, and ITO is particularly preferably used.
  • the metal oxide may be doped with metal atoms shown in the above group, if necessary.
  • the transparent electrode layer 4 is a metal oxide
  • the metal oxide may become amorphous.
  • the fact that the transparent electrode layer 4 is made of an amorphous material can be confirmed by, for example, an observation image of a transmission electron microscope.
  • a material in which crystals other than microcrystals are not observed is called amorphous
  • a material in which crystal grains are observed is called crystalline.
  • the amorphousness of the transparent electrode layer 4 can be determined using an X-ray diffraction method. It is possible to adjust the presence or absence and the degree of implementation of the step of promoting crystallization in the production of .
  • the transparent electrode layer 4 is composed of an indium-tin composite oxide. In yet another aspect, the transparent electrode layer 4 is composed of an indium-tin composite oxide, and the peak of the indium-tin composite oxide is not detected in X-ray diffraction. According to this configuration, the transparent electrode layer 4 can be amorphous and have a refractive index within a suitable range.
  • the refractive index of the transparent electrode layer 4 is, for example, 1.80 or more and 2.20 or less.
  • the refractive index of the transparent electrode layer 4 is not limited as long as it is within this range, preferably 1.83 or more, more preferably 1.85 or more.
  • the refractive index of the transparent electrode layer 4 is preferably 2.00 or less, more preferably 1.94 or less.
  • the transparent conductive piezoelectric film including the transparent electrode layer 4 having a refractive index of 1.94 or less is a film produced without heating at a high temperature. Therefore, the transparency and color of the transparent piezoelectric film 1 are not impaired by the high-temperature treatment, and a suitable transparent conductive piezoelectric film can be obtained.
  • a transparent conductive piezoelectric film having a refractive index of 1.94 or less and including an amorphous transparent electrode layer 4 is preferable.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 on which such a transparent electrode layer 4 is deposited tends to be a film having a tint even if other layers are transparent.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 according to one embodiment of the present invention by adjusting the refractive index of each layer, the transparent conductive piezoelectric film 11 with suitable optical properties can be achieved.
  • the thickness of the transparent electrode layer 4 may be 13 nm or more, preferably 15 nm or more, more preferably 20 nm or more. If the thickness of the transparent electrode layer 4 is too thin, the electrical resistance of the transparent conductive piezoelectric film 11 may increase, and discontinuous portions may be formed in the transparent electrode layer 4 . When the thickness of the transparent electrode layer 4 is not less than the above lower limit, the surface resistance of the transparent conductive piezoelectric film 11 can be made into a continuous film having good conductivity of less than 480 ⁇ /sq.
  • the thickness of the transparent electrode layer 4 is 20 nm or more.
  • a more suitable transparent conductive piezoelectric film having a surface resistance of less than 300 ⁇ /sq can be obtained.
  • the thickness of the transparent electrode layer 4 may be less than 40 nm, preferably less than 38 nm, more preferably less than 35 nm. If the thickness of the transparent electrode layer 4 is too thick, the transparency may deteriorate. By not exceeding the above upper limit of the transparent electrode layer 4, the transparency of the transparent conductive piezoelectric film can be enhanced. Incidentally, the thickness of the transparent electrode layer 4 is obtained by the following method of obtaining from observation of the cross section of the transparent conductive piezoelectric film 11 .
  • a transparent conductive piezoelectric film is embedded in epoxy resin, and the epoxy resin mass is cut so that the cross section of the transparent conductive piezoelectric film is exposed.
  • a cross section of the exposed transparent conductive piezoelectric film was observed using a scanning electron microscope ("SU3800", manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) under conditions of an acceleration voltage of 3.0 kV and a magnification of 50,000 times. Measure the thickness of each coating layer and transparent electrode layer.
  • the thickness of each coating layer and transparent electrode layer is measured at any two locations, and the average value of the measured values obtained for each layer is taken as the thickness of each layer. do.
  • the interfaces between the layers are observed as substantially smooth lines. In this case, the thickness of each layer is measured by measuring the distance between the lines.
  • the thickness of the transparent electrode layer 4 is important from the viewpoint of maintaining the conductivity and improving the transparency of the transparent conductive piezoelectric film 11 . Furthermore, the preferred combination of the refractive index and the thickness of each of the first transparent coating layer, the second transparent coating layer, the transparent electrode layer, and the optionally provided third transparent coating layer of the transparent conductive piezoelectric film 11 allows the interfacial reflection of each layer. are preferably adjusted so that they cancel each other out, and the transparency is further improved.
  • the first transparent coating layer 2 in this embodiment is a layer located between the transparent piezoelectric film 1 and the second transparent coating layer 3 .
  • the refractive index of the first transparent coating layer 2 is 1.60 or more and less than 1.80. Although the refractive index of the first transparent coating layer 2 is not limited as long as it is within this range, it is preferably 1.63 or more, more preferably 1.65 or more. Also, the refractive index of the first transparent coating layer 2 is preferably 1.75 or less, more preferably 1.72 or less.
  • the material of the first transparent coating layer 2 may be appropriately selected from all available materials as long as it satisfies such a refractive index.
  • the material may be an inorganic material, an organic material, an inorganic-organic mixed material, or a composite material thereof.
  • it may be a single material, a mixed material of two or more materials, or a composite material, but from the viewpoint of improving the transparency of the transparent conductive piezoelectric film, a single material or a composite material further containing metal oxide particles described later.
  • the material of the coating layer may be the material of the hard coat layer. Examples of such materials include melamine resins, urethane resins, (meth)acrylic acid ester resins, silane compounds and metal oxides.
  • (meth)acrylic acid is a generic term for acrylic acid and methacrylic acid, and means one or both of them.
  • (meth)acrylic acid ester resins are preferable from the viewpoints of sufficient transparency, wide variety of materials, and low raw material costs.
  • the material of the first transparent coating layer 2 may contain other materials necessary for forming the transparent coating layer.
  • a material for the (meth)acrylic acid ester resin transparent coating layer generally a composition obtained by mixing an initiator, an oligomer, a monomer and other components can be used.
  • the physical properties of the transparent coating layer are mainly determined by oligomers and monomers.
  • oligomers include monofunctional or polyfunctional (meth)acrylates.
  • monomers include urethane (meth)acrylates, epoxy (meth)acrylates, polyester (meth)acrylates.
  • the refractive index of the first transparent coating layer 2 may be adjusted by adding metal oxide particles to the above materials.
  • the metal oxide fine particles having a refractive index of 1.50 or more include aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide and tin oxide. Among them, titanium oxide and zirconium oxide are preferred. .
  • the first transparent coating layer 2 may further contain a material for exhibiting any function.
  • the first transparent coating layer 2 may contain an antistatic agent.
  • antistatic agents include surfactants, antimony pentoxide, indium-tin composite oxide (ITO) and conductive polymers.
  • the preferred thickness of the first transparent coating layer 2 varies depending on the presence or absence of the third transparent coating layer 5 in the transparent conductive piezoelectric film.
  • the thickness of the first transparent coating layer 2 may be 400 nm or more, preferably 450 nm or more, and more preferably 500 nm or more.
  • the thickness of the first transparent coating layer 2 may be less than 1300 nm, preferably 1000 nm or less, and more preferably 800 nm or less.
  • the first transparent coating layer should not only have a predetermined refractive index to enhance the transparency of the transparent conductive piezoelectric film, but also the transparent piezoelectric film 1. It is also required to prevent scratches and irregularities on the surface of the product.
  • the thickness of the first transparent coating layer 2 is not less than the lower limit, scratches and irregularities on the surface of the transparent piezoelectric film 1 can be prevented, so that the transparency of the transparent piezoelectric film 1 is enhanced.
  • it is preferable that the thickness of the first transparent coating layer 2 does not exceed the upper limit, from the viewpoint of thinning the transparent piezoelectric film and enhancing the transparency of the film.
  • the thickness of the first transparent coating layer 2 may be 60 nm or more, preferably 70 nm or more, and more preferably 83 nm or more. Also, the thickness of the first transparent coating layer 2 may be less than 300 nm, preferably 250 nm or less, and more preferably 230 nm or less. By setting the thickness of the first transparent coating layer within this range, transparency can be imparted to the transparent conductive piezoelectric film 11 .
  • the second transparent coating layer 3 in this embodiment is a layer located between the first transparent coating layer 2 and the transparent electrode layer 4 .
  • the refractive index of the second transparent coating layer 3 is, for example, 1.30 or more and 1.50 or less.
  • the refractive index of the second transparent coating layer 3 may be within this range, preferably 1.35 or more, more preferably 1.37 or more.
  • the refractive index of the second transparent coating layer 3 is preferably 1.48 or less, more preferably 1.47 or less.
  • the material of the second transparent coating layer 3 may be appropriately selected from all available materials as long as the material satisfies such a refractive index.
  • a material may be appropriately selected from the materials exemplified as the material of the first transparent coating layer 2 so as to have an appropriate refractive index.
  • one or more metal fluorides or silicon dioxide selected from the group consisting of NaF, Na3AlF6 , LiF, MgF2 , CaF2 and BaF2 may be included to adjust the refractive index.
  • silicon dioxide is preferred.
  • the material of the second transparent coating layer 3 may contain other materials necessary for forming the transparent coating layer, similar to the materials described for the material of the first transparent coating layer 2.
  • the thickness of the second transparent coating layer 3 should be 10 nm or more and 70 nm or less.
  • the thickness of the second transparent coating layer 3 is preferably 15 nm or more, more preferably 20 nm or more.
  • the thickness of the second transparent coating layer 3 is preferably 68 nm or less, more preferably 65 nm or less.
  • the third transparent coating layer 5 is an optional layer provided on the transparent conductive piezoelectric film.
  • the third transparent coating layer 5 is the layer that directly contacts the transparent piezoelectric film 1 .
  • a layer located between the transparent piezoelectric film 1 and the first transparent coating layer 2 such as the transparent conductive piezoelectric film 12 .
  • the first transparent coating layer 2 is present only on one side of the transparent piezoelectric film 1
  • the other side of the transparent piezoelectric film 1 may be provided with the third transparent coating layer 5 .
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 may have a third transparent coating layer 5 on both sides of the transparent piezoelectric film 1 .
  • the third transparent coating layer 5 may have a refractive index of 1.45 or higher, preferably 1.48 or higher, and more preferably 1.50 or higher. Also, the third transparent coating layer 5 may have a refractive index of less than 1.60, preferably less than 1.58, more preferably less than 1.55.
  • the material for the third transparent coating layer 5 may be appropriately selected from all available materials as long as it satisfies such a refractive index.
  • a material may be appropriately selected from the materials exemplified as the material of the first transparent coating layer 2 so as to have an appropriate refractive index.
  • the third transparent coating layer 5 may be a transparent surface protection layer for scratch prevention, which is also called a hard coat layer. It is preferable that the material has a suitable refractive index and is excellent in abrasion resistance.
  • Inorganic particles, polymer beads, and the like may be added to the material of the third transparent coating layer 5 from the viewpoint of blocking prevention and adhesion between films.
  • examples of inorganic particles that can be used include synthetic silica, talc, diatomaceous earth, calcium carbonate, feldspars, quartz, etc.
  • Synthetic silica is particularly preferably used from the viewpoint of improving the quality of plastic films.
  • Synthetic silicas include, for example, SiO2 .
  • the thickness of the third transparent coating layer 5 may be 500 nm or more, preferably 700 nm or more, and more preferably 900 nm or more. When the thickness of the third transparent coating layer 5 does not fall below the lower limit, the effect of protecting the transparent piezoelectric film 1 can be expected.
  • the thickness of the third transparent coating layer 5 may be 1400 nm or less, preferably 1200 nm or less, and more preferably 1100 nm or less, from the viewpoint of thinning the film. When the thickness of the third transparent coating layer does not exceed the upper limit, it is possible to suppress the deterioration of the piezoelectric properties represented by the piezoelectric constant d33 .
  • the transparent conductive piezoelectric film 12 with improved transparency can be obtained.
  • a device comprises a transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment described above.
  • the device may be anything as long as it comprises the transparent conductive piezoelectric film of this embodiment.
  • the location and number of transparent conductive piezoelectric films can be determined appropriately depending on the application or intended function of the device.
  • a transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment has suitable conductivity and a high piezoelectric constant as described above. Also, each layer of the transparent conductive piezoelectric film can be made into ink and can be formed by coating or printing. In addition, the transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment has chemical stability and film flexibility. Based on these characteristics, the transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment is being studied for application to devices such as flexible sensors such as pressure sensors and vibration sensors, energy harvesting elements, and actuators. It should be noted that the transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment of the present invention is particularly preferably applied to touch panels and the like because of its conductivity and piezoelectricity.
  • the transparent adhesive sheet is adhered not only on an arbitrary transparent coating layer but also on the transparent coating layer via the transparent adhesive sheet in the production thereof. may be formed on other layers that In this case, the transparent adhesive sheet layer may or may not be on the transparent coating layer side.
  • a device that incorporates a transparent conductive piezoelectric film according to one embodiment can eliminate electrode layers made of, for example, PET/ITO that are included in conventional devices because the transparent conductive piezoelectric film also functions as an electrode. is. Therefore, the layer structure of the device can be simplified more than before.
  • the method for manufacturing the transparent conductive piezoelectric film will be described below by taking the method for manufacturing the transparent conductive piezoelectric film 11 as an example.
  • the method for manufacturing the transparent conductive piezoelectric film 11 comprises a first transparent coating layer 2, a second transparent coating layer 3, and a transparent electrode layer 4, which are laminated in this order on at least one surface of the transparent piezoelectric film 1. It is a method for manufacturing a laminated film.
  • the manufacturing method includes a first step of manufacturing a transparent piezoelectric film 1 forming a film having a refractive index of 1.30 or more and less than 1.45; Above, the second step of forming the first transparent coating layer 2 of less than 1.80, and the surface of the first transparent coating layer 2 has a refractive index of 1.30 or more and less than 1.50 and a thickness of 10 nm or more and 70 nm. a third step of forming the second transparent coating layer 3 below, and a transparent layer having a refractive index of 1.80 or more and 2.20 or less and a thickness of 20 nm or more and less than 40 nm on the surface of the second transparent coating layer 3; and a fourth step of forming the electrode layer 4 .
  • the first step may be a step of producing the transparent piezoelectric film 1, and the steps may be changed or added as appropriate according to the type of the transparent piezoelectric film 1 to be produced.
  • a step of producing a resin film by a conventionally known method such as a casting method, a hot press method, and a melt extrusion method, a step of stretching the resin film, and a step of polarizing the non-polarized resin film are continued.
  • the transparent piezoelectric film 1 can be produced by carrying out the above steps.
  • the second to fourth steps can be suitably carried out using known coating methods such as wet coating method and dry coating method.
  • the wet coating method forms a layer by applying a material, so it is suitable for forming a thick layer. Suitable for forming thin layers.
  • the second step is to form the first transparent coating layer.
  • the second step can be performed by a known method, such as a wet coating method or a dry coating method.
  • the wet coating method is particularly preferable in terms of productivity and manufacturing costs.
  • the material for the first transparent coating layer may be applied to at least one surface of the transparent piezoelectric film 1 produced in the first step.
  • the coating method may be a conventionally known method and is not particularly limited.
  • a wet coating method is particularly preferred in terms of productivity and manufacturing cost.
  • the wet coating method may be a known method, and typical methods include roll coating, spin coating, dip coating, gravure coating, and the like. Among them, methods capable of forming layers continuously, such as the roll coating method and the gravure coating method, are preferable from the viewpoint of productivity.
  • a bar coater, a gravure coater, or the like, for example, may be used to apply the material of the first transparent coating layer 2 .
  • After coating the material it may be dried at 50° C. to 180° C. for 0.5 to 60 minutes.
  • the dried coating of the first transparent coating layer 2 may be solidified by UV irradiation.
  • a UV irradiation device may be used to irradiate UV with an integrated light quantity of 50 to 1200 mJ/cm 2 .
  • Conditions such as the apparatus used in the second step, the concentration of the material, and the temperature may be appropriately changed with reference to the material, film thickness, and the like of the first transparent coating layer 2 .
  • the material for the first transparent coating layer may be adhered to at least one surface of the transparent piezoelectric film 1 produced in the first step by a known dry coating method.
  • Typical dry coating methods include, for example, sputtering, vacuum deposition, ion plating, and the like. These methods may be appropriately selected according to the required film thickness.
  • the metal or the like that constitutes the first transparent coating layer is used as the target material.
  • the target material can be appropriately selected from known target materials according to the desired refractive index of the first transparent coating layer.
  • examples of the sputtering gas include an inert gas such as Ar.
  • a reactive gas such as oxygen gas can be used together as necessary.
  • the third step is to form the second transparent coating layer.
  • a coating of the material of the second transparent coating layer 3 may be applied to the first transparent coating layer 2 produced in the second step by known methods.
  • the material for the second transparent coating layer 3 may be applied using a wet coating method similar to the first transparent coating layer 2 .
  • the conditions such as the device, material concentration and temperature in the third step may be the same as those in the second step.
  • the thickness of the second transparent coating layer 3 can be adjusted by adjusting the concentration of the material or the sputtering time.
  • the fourth step is the step of forming a transparent electrode layer.
  • the transparent electrode layer 4 may be formed by a known method on the second transparent coating layer 3 produced in the third step.
  • the transparent electrode layer 4 may be formed by depositing the material of the transparent electrode layer 4 by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like.
  • the material for the transparent electrode layer may be applied using a wet coating method in the same manner as the first transparent coating layer 2 and the second transparent coating layer 3 .
  • the target material includes the above-mentioned inorganic substances constituting the transparent electrode layer 4, preferably ITO.
  • the tin oxide concentration of ITO is, for example, 0.5% by mass or more, preferably 2% by mass or more, and is, for example, 15% by mass or less, preferably 13% by mass or less, and more preferably 7% by mass. % or less.
  • the sputtering gas examples include inert gases such as Ar.
  • a reactive gas such as oxygen gas can be used together as necessary.
  • the flow rate ratio of the reactive gas is not particularly limited, but is, for example, 0.1 flow % or more and 5 flow % or less with respect to the total flow rate ratio of the sputtering gas and the reactive gas.
  • the atmospheric pressure during sputtering is, for example, 1 Pa or less, preferably 0.7 Pa or less, from the viewpoints of suppressing a decrease in sputtering rate, discharge stability, and the like.
  • the power source used in the sputtering method may be, for example, a DC power source, an AC power source, an MF power source, an RF power source, or a combination thereof.
  • the manufacturing method of the present embodiment may include further steps as long as it includes the first to fourth steps.
  • a third transparent coating layer 5 may be formed on the transparent piezoelectric film 1 between the first step and the second step.
  • the third transparent coating layer 5 may be formed by applying the material for the third transparent coating layer 5 onto the transparent piezoelectric film 1 produced in the first step by a known method.
  • a step of adding other layer configurations to the transparent conductive piezoelectric film 11 may be added.
  • a step of corona-treating the transparent piezoelectric film 1 to enhance adhesion to the first transparent coating layer 2 may be added.
  • the transparent conductive piezoelectric film 11 having high transparency and suitable color can be manufactured.
  • the transparent electrode layer 4 does not need to be annealed after the fourth step. Since the color of the transparent piezoelectric film 1 is not impaired by not performing the annealing treatment, the transparent conductive piezoelectric film 11 that can be suitably used for devices such as displays can be produced.
  • the transparent piezoelectric film according to Mode 1 has a transmittance of 75% or more at a wavelength of 450 nm, a transmittance of 85% or more at a wavelength of 550 nm, a piezoelectric constant d33 of 5 pC/N or more and 40 pC/N or less, and is transparent.
  • An electrode layer is provided, and the transparent electrode layer has a surface resistance value of 50 ⁇ /sq or more and less than 300 ⁇ /sq.
  • Such a transparent conductive piezoelectric film has excellent piezoelectric properties, transparency and conductivity, and can be suitably used for a wide range of devices.
  • the transparent conductive piezoelectric film according to aspect 2 of aspect 1 is configured by stacking a first transparent coating layer, a second transparent coating layer, and a transparent electrode layer in this order on at least one surface of the piezoelectric film.
  • the transparent piezoelectric film has a refractive index of 1.30 or more and less than 1.45
  • the first transparent coating layer has a refractive index of 1.60 or more and less than 1.80
  • the layer has a refractive index of 1.30 or more and less than 1.50
  • the transparent electrode layer has a refractive index of 1.80 or more and 2.20 or less.
  • a third transparent coating layer having a refractive index of 1.45 or more and less than 1.60 is provided between the transparent piezoelectric film and the first transparent coating layer.
  • the first transparent coating layer has a thickness of 60 nm or more and 300 nm or less
  • the second transparent coating layer has a thickness of 10 nm or more and 70 nm or less
  • the transparent electrode layer has a thickness of 20 nm or more and less than 40 nm.
  • the transparent conductive piezoelectric film according to Mode 4 is, in Mode 3, the third transparent coating layer, the first transparent coating layer, the second transparent coating layer, and the transparent electrode on one surface of the transparent piezoelectric film.
  • the layers are stacked in this order, and the other side of the transparent piezoelectric film is provided with another third transparent coating layer. This configuration can improve the transparency of the transparent conductive piezoelectric film.
  • the thickness of the first transparent coating layer is 400 nm or more and 1000 nm or less, and the thickness of the second transparent coating layer is 10 nm or more and 70 nm or less,
  • the transparent electrode layer has a thickness of 20 nm or more and less than 40 nm.
  • the first transparent coating layer, the second transparent coating layer and the transparent electrode layer are laminated in this order on one surface of the transparent piezoelectric film. and a separate third transparent coating layer on the other side of the transparent piezoelectric film, wherein the third transparent coating layer has a refractive index of 1.45 or more and less than 1.60.
  • This configuration can improve the transparency of the transparent conductive piezoelectric film.
  • a transparent conductive piezoelectric film according to Mode 7 is the transparent piezoelectric film according to any one of Modes 1 to 6, which contains a fluororesin as a main component. With this configuration, a transparent piezoelectric film having a preferable refractive index can be obtained.
  • the transparent electrode layer has a refractive index of 1.94 or less. Since such a transparent conductive piezoelectric film is a film produced without heating at a high temperature, it is suitable in that the color of the transparent piezoelectric film is not impaired.
  • the touch panel according to aspect 9 is a touch panel comprising the transparent conductive piezoelectric film according to any one of aspects 1 to 8.
  • the production method according to aspect 10 is a laminated film in which a first transparent coating layer, a second transparent coating layer, and a transparent electrode layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent piezoelectric film.
  • a manufacturing method comprising: a first step of manufacturing the transparent piezoelectric film forming a film having a refractive index of 1.30 or more and less than 1.45; a second step of forming the first transparent coating layer having a thickness of less than 1.80; and a third step of forming the second transparent coating layer having a refractive index of 1.80 or more and 2.20 or less and a thickness of 20 nm or more and less than 40 nm on the surface of the second transparent coating layer. and a fourth step of forming a transparent electrode layer.
  • Example 1 [Production of transparent conductive piezoelectric film] ⁇ Example 1> (First step: production of transparent piezoelectric film) A resin film (thickness: 120 ⁇ m) molded from polyvinylidene fluoride (manufactured by Kureha Co., Ltd.) having an inherent viscosity of 1.3 dl/g was stretched at a draw ratio of 4.2 times. After the stretching, the film was passed through polarization rolls for polarization treatment to obtain a piezoelectric film. At that time, the DC voltage was applied while being increased from 0 kV to 12.0 kV to perform the polarization treatment. The polarized film was further heat-treated at 130° C. for 1 minute to obtain a transparent piezoelectric film having a refractive index of 1.42 and a thickness of 40 ⁇ m.
  • amorphous silica-containing UV-curable resin composition made of an acrylic resin was applied to the upper surface (side A) of the transparent piezoelectric film, dried at 80°C, and then irradiated with UV rays at an integrated light intensity of 400 mJ/cm 2 .
  • a tri-transparent coating layer (thickness 1000 nm, refractive index 1.52) was formed.
  • a third transparent coating layer (thickness: 1000 nm, refractive index: 1.52) was also formed on the lower surface (B surface) of the transparent piezoelectric film in the same manner.
  • an ultraviolet curable resin composition containing zirconium oxide particles is applied to the upper surface of the third transparent coating layer (side A), dried at 80° C., and irradiated with ultraviolet rays at an integrated light amount of 400 mJ/cm 2 , A first transparent coating layer (thickness 99 nm, refractive index 1.65) was formed.
  • a hollow silica-containing UV-curable resin composition made of an acrylic resin is applied, dried at 80° C., and then irradiated with UV rays at an integrated light amount of 400 mJ/cm 2 .
  • a transparent coating layer (thickness 44 nm, refractive index 1.37) was formed.
  • a transparent electrode layer having a refractive index of 1 is formed by a reactive sputtering method using a sintered material containing 97% by mass of indium oxide and 3% by mass of tin oxide as a target. 0.88 and a thickness of 30 nm.
  • a transparent conductive piezoelectric film was obtained, and the obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 1.
  • Example 2 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the second transparent coating layer was 61 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 2.
  • Example 3 A transparent conductive piezoelectric film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the first transparent coating layer had a refractive index of 1.70 and a thickness of 105 nm, and the second transparent coating layer had a refractive index of 1.40 and a thickness of 20 nm. got The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 3.
  • Example 4 A first transparent coating layer, a second transparent coating layer, and a transparent electrode layer were formed in this order on the A side of the transparent piezoelectric film without forming the third transparent coating layer on the A side and the B side of the transparent piezoelectric film.
  • a transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 3, except that the thickness of the first transparent coating layer was 533 nm and the thickness of the second transparent coating layer was 69 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 4.
  • Example 5 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 3, except that the thickness of the first transparent coating layer was 219 nm, the refractive index was 1.74, and the thickness of the second coating layer was 34 nm.
  • the obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 5.
  • Example 6 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the transparent electrode layer was 22 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 6.
  • Example 7 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the transparent electrode layer was 34 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 7.
  • Example 8> (Formation of first transparent coating layer) A third transparent coating layer was formed on both sides of the transparent piezoelectric film in the same manner as in Example 1, and a first transparent coating layer (thickness: 83 nm, refractive index: 1.65) was further formed on the A side.
  • a SiO 2 film was formed on the first transparent coating layer by a sputtering method using Si as a target material. Specifically, after the inside of the chamber was evacuated to 7 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa or less, a mixed gas of Ar gas and oxygen gas was introduced into the chamber to deposit a SiO 2 film with a thickness of 25 nm, A second transparent coating layer (thickness 25 nm, refractive index 1.46) was formed.
  • Example 8 (Formation of transparent electrode layer) A transparent electrode layer was formed in the same manner as in Example 1 on the second transparent coating layer. Thus, a transparent conductive piezoelectric film was obtained, and the obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 8.
  • Example 9 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 8, except that the thickness of the first transparent coating layer was 99 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 9.
  • Example 10 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 8, except that the thickness of the first transparent coating layer was 139 nm. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 10.
  • Example 11 A transparent conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 8, except that the thickness of the first transparent coating layer was 105 nm and the refractive index was 1.70. The obtained transparent conductive piezoelectric film was designated as Example 11.
  • Example 1 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the third transparent coating layer, the first transparent coating layer, and the second transparent coating layer were not formed. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 1.
  • Example 2 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the second transparent coating layer was 80 nm. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 2.
  • Example 3 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 2, except that the thickness of the second transparent coating layer was 151 nm. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 3.
  • Example 4 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the transparent electrode layer was 45 nm. The obtained conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 4.
  • Example 5 A conductive piezoelectric film was produced in the same manner as in Example 1, except that the first transparent coating layer had a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.52, and the second transparent coating layer had a thickness of 80 nm and a refractive index of 1.40. Obtained. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 5.
  • Example 6 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the first transparent coating layer was 105 nm, the thickness of the second transparent coating layer was 29 nm, and the refractive index was 1.51. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 6.
  • Example 7 A conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the transparent electrode layer was 15 nm. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 7.
  • a conductive piezoelectric film was obtained in the same manner as in Example 8. The resulting conductive piezoelectric film was designated as Comparative Example 8.
  • the thicknesses of the transparent coating layer and the transparent electrode layer constituting the transparent conductive piezoelectric films and conductive piezoelectric films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8 were determined according to the following electronic It was obtained by a method based on observation with a microscope. In this method, first, a transparent conductive piezoelectric film is embedded in an epoxy resin, and the epoxy resin block is cut so that the cross section of the transparent conductive piezoelectric film is exposed.
  • a section of the exposed transparent conductive piezoelectric film is observed with a scanning electron microscope ("SU3800", manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) under conditions of an acceleration voltage of 3.0 kV and a magnification of 50,000. Then, the thickness of the transparent conductive piezoelectric film and the individual films or layers in the transparent conductive piezoelectric film are measured.
  • SU3800 scanning electron microscope
  • Table 1 shows the refractive index of each layer of the conductive piezoelectric films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8.
  • Table 2 shows the thickness of each layer of the conductive piezoelectric films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8.
  • piezoelectric constant d 33 values The piezoelectric constant d 33 of each of the conductive piezoelectric films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8 was measured at 0.2 N using a piezoelectric constant measuring device (“Piezometer System PM300” manufactured by PIEZOTEST). It was clipped and the charge generated when a force of 0.15 N and 110 Hz was applied was read. The measured value of the piezoelectric constant d33 is a positive value or a negative value depending on the front and back of the film to be measured, but the absolute value is described in this specification. If the piezoelectric constant d33 value is 5 pC/N or more and 40 pC/N or less, it can be judged that there is no practical problem in the use of devices such as touch panels.
  • ⁇ Optical property evaluation> (Transmittance)
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm and the transmittance at a wavelength of 550 nm of each of the conductive piezoelectric films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8 were measured using a spectral colorimeter (SD7000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). It can be determined that a transmittance at a wavelength of 450 nm is 75% or more without any practical problem in the use of devices such as touch panels, more preferably 78% or more, and even more preferably 80% or more. It can be determined that a transmittance at a wavelength of 550 nm is 85% or more without any practical problem in the use of devices such as touch panels, more preferably 87% or more, and even more preferably 89% or more.
  • Table 3 shows the results of the above evaluation.
  • the present invention can be used for devices that require piezoelectric properties.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

透明性に優れる導電圧電フィルムを実現することを目的とする。本発明に係る透明導電圧電フィルム（１１）は、波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、圧電定数ｄ３３が５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下であり、透明電極層（４）を備える。

Description

透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法
　本発明は透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法に関する。
　画面に触れることにより情報を入力できるデバイスとして、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、光を透過する入力装置を液晶パネル等の表示装置上に配置したものであり、代表的な形式として、画面と指との間に生じる電気容量の変化を利用した静電容量式タッチパネルがある。また、近年では、タッチ位置情報に加えて、タッチ時の押込み量を検出する静電容量式タッチパネルが各種考案されている。このようなタッチパネルでは、タッチ時の押込み量を検出するために、圧電フィルム上に酸化錫を含有するインジウム酸化物（錫ドープ酸化インジウム、ＩＴＯ）または酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層した導電圧電フィルムが用いられる。
　ところで、基材が圧電フィルムではない、従来の導電性フィルムの製造過程では、アニーリング処理によって金属酸化物層を結晶化させる技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。当該アニーリング処理によって、可視光短波長領域の透過率が高まり、導電性フィルムの透明性が向上し、黄色の呈色が抑制され、表面抵抗値が小さくなることで導電性を高めることができる。
特開２０１７－０７４７９２号公報
　しかしながら、圧電フィルムは他の導電性フィルムの基材と比較して耐熱性が低いため、アニーリング処理によって黄色の呈色がより顕著になることがある。アニーリング処理なしでも十分な導電性を有する導電圧電フィルムを得るには、金属酸化物層の厚みを増す必要があるが、結晶化が不十分な金属酸化物層の厚みが増すことで、導電圧電フィルムの透明性の低下と黄色の呈色が顕著になる傾向にある。このように透明性が不十分で黄色に呈色した導電圧電フィルムをタッチパネルの入力装置の部材として用いた場合、入力装置の下に配置される表示装置の発色を正確に表現することが難しいという問題がある。
　本発明の一態様は、透明性に優れる導電圧電フィルムを実現することを目的とする。
　上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る透明導電圧電フィルムは、波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、圧電定数ｄ３３が５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下であり、透明電極層を備え、前記透明電極層の表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ以上、３００Ω／ｓｑ未満である透明導電圧電フィルムである。
　また、上記課題を解決するために、本発明の一態様にかかわる透明導電圧電フィルムの製造方法の一態様は、透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層、および透明電極層がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムの製造方法であり、屈折率が１．３０以上、１．４５未満のフィルムを形成する前記透明圧電フィルムを製造する第一工程と、前記透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に屈折率１．６０以上、１．８０未満の前記第一透明コーティング層を形成する第二工程と、前記第一透明コーティング層の表面に屈折率１．３０以上、１．５０未満であり、厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下である前記第二透明コーティング層を形成する第三工程と、前記第二透明コーティング層の表面に屈折率１．８０以上、２．２０以下であり、厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である前記透明電極層を形成する第四工程と、を含む、透明導電圧電フィルムの製造方法である。
　本発明の一態様によれば、透明性に優れる導電圧電フィルムを実現することができる。
本発明の一実施形態に係る透明導電圧電フィルム１１である。 本発明の一実施形態に係る透明導電圧電フィルム１２である。
　以下、本発明の一実施形態について、詳細に説明する。
　〔透明導電圧電フィルム〕
　本発明の一実施形態に係る透明導電圧電フィルムは、圧電フィルムに透明電極層が付与されたフィルムである。本実施形態の透明導電圧電フィルムは、波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、圧電定数ｄ３３が５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下となっている。当該透明導電圧電フィルムは圧電特性、透明性、および導電性に優れ、タッチパネル等のデバイスに好適に用いることができる。
　（透過率）
　本実施形態の透明導電圧電フィルムにおいて、波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であればよい。透明導電圧電フィルムの波長４５０ｎｍおよび波長５５０ｎｍの透過率が当該範囲であることで、色味が抑えられ、かつ濁りのない透明導電圧電フィルムとすることができる。このため、透明性が求められるデバイスに好適に使用できる。例えば、タッチパネル等のデバイスに利用する場合には、透明であることによってタッチパネルの表示画面を妨げないため好ましい。
　波長４５０ｎｍの透過率は７８％以上であることが好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。波長４５０ｎｍの透過率が当該範囲内である透明導電圧電フィルムは、特に黄色味が抑えられたフィルムと判断できる。
　また、透明導電圧電フィルムは、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、８７％以上であることが好ましく、８９％以上であることがさらに好ましい。波長５５０ｎｍの透過率が当該範囲内である透明導電圧電フィルムはデバイス等に光学用途で用いる際に十分に光を透過し、高い透明性を有する透明導電圧電フィルムであると判断できる。
　当該透明導電圧電フィルムの波長４５０ｎｍ透過率および波長５５０ｎｍ透過率は、上記の場合において所期の効果が十分に得られるのであればよく、例えば波長４５０ｎｍ透過率および波長５５０ｎｍ透過率がそれぞれ９７％以下であってもよい。波長４５０ｎｍ透過率および波長５５０ｎｍ透過率は１００％に近いほど好ましい。以下、本明細書において、「透明性」とは、波長４５０ｎｍ透過率および波長５５０ｎｍ透過率によって評価される光学特性を指し、「透明」または「透明性が高い」とは波長４５０ｎｍ透過率が７５％以上、および波長５５０ｎｍ透過率が８５％以上である状態を指す。
　（圧電定数）
　本実施形態の透明導電圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は５ｐＣ／Ｎ以上であればよく、８ｐＣ／Ｎ以上であることが好ましく、１０ｐＣ／Ｎ以上であることがさらに好ましい。また、透明導電圧電フィルムの圧電定数ｄ３３は４０ｐＣ／Ｎ以下であればよく、３０ｐＣ／Ｎ以下であることが好ましく、２０ｐＣ／Ｎ以下であることがさらに好ましい。このような圧電定数は、透明導電圧電フィルムが備える圧電フィルムによって達成される。
　圧電定数ｄ３３は印加応力に対する応力方向の電圧の変位量を示す。圧電定数ｄ３３が大きいほど、応力に対して生じる電圧が大きくなり、任意のデバイスに使用する際に好ましい。圧電定数ｄ３３がとりわけ下限を下回らないことは、透明導電圧電フィルムに十分な圧電特性を付与する観点から好ましい。また、圧電定数ｄ３３がとりわけ上限を上回らないことは、フィルムの表面性の点から好ましい。
　このような圧電定数ｄ３３を有する透明導電圧電フィルムは、幅広いデバイスへの応用が期待される。例えば、音響、保安、交通、および医療の分野で、任意の圧力センサおよび振動センサなどのセンサ、スイッチ、エネルギーハーベスト素子、ならびにアクチュエータなどへの応用が期待される。圧電定数ｄ３３の範囲が上記の範囲内である透明導電圧電フィルムは、特にタッチパネルへの利用に適する。
　（透明電極層）
　透明導電圧電フィルムは透明電極層を備える。透明電極層は、透明性、導電性および平面状の広がりを有する構造である。平面視したときの透明電極層の形状は、透明導電圧電フィルムの用途に応じて適宜に設定してよい。なお、透明電極層の詳細は＜透明導電圧電フィルムの具体例＞において詳述する。
　透明導電圧電フィルムの表面抵抗値は用途に合わせて決定してもよい。例えば、高い透明性と導電性を両立する透明導電圧電フィルムを実現する観点より、表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ以上であってもよく、７０Ω／ｓｑ以上であってもよく、さらには９０Ω／ｓｑ以上であってもよい。また、当該表面抵抗値は、４８０Ω／ｓｑ未満であってもよい。表面抵抗値が当該範囲であることで、導電性を有するフィルムとして、任意のデバイスに使用することが可能となる。さらに、当該表面抵抗値は３００Ω／ｓｑ未満であり得る。表面抵抗値が当該範囲である透明導電圧電フィルムは表面抵抗値が小さく、例えばタッチパネルのようなデバイスに好適に用いることができる。
　＜透明導電圧電フィルムの具体例＞
　上述の透明導電圧電フィルムとするために透明導電圧電フィルムは任意の層が複数重ねられて構成される積層フィルムであってもよい。透明導電圧電フィルムは、透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層および透明電極層がこの順で重ねられた構造を有する積層フィルムである。
　本実施形態において、「この順で重ねられている」とは、上記の層を含む積層物において、当該層が列挙された順番で隣接して配置されている状態を意味する。
　ここで、透明導電圧電フィルムの一例として、透明導電圧電フィルム１１を図１に示す。透明導電圧電フィルム１１は、透明圧電フィルム１の一方の面上に、第一透明コーティング層２、第二透明コーティング層３および透明電極層４がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムである。なお、透明導電圧電フィルム１１は図１に示される構成に限定されず、他の層構造をさらに備えるものであってもよい。
　透明導電圧電フィルム１１は、透明圧電フィルム１と第一透明コーティング層２とが第三透明コーティング層５を介して重ねられている透明導電圧電フィルムであってもよい。すなわち、透明圧電フィルム１と第一透明コーティング層２との間に第三透明コーティング層５を備える透明導電圧電フィルムとしてもよい。このような透明導電圧電フィルムを図２に透明導電圧電フィルム１２として示す。透明導電圧電フィルム１２は、透明圧電フィルム１の一方の面上に、第三透明コーティング層５、第一透明コーティング層２、第二透明コーティング層３および透明電極層４がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムである。
　透明導電圧電フィルム１１において、例えば、透明圧電フィルム１の屈折率は１．３０以上、１．４５未満であり、第一透明コーティング層２の屈折率は１．６０以上、１．８０未満であり、第二透明コーティング層３の屈折率は１．３０以上、１．５０以下であり、透明電極層４の屈折率は１．８０以上、２．２０以下である。各層の屈折率が当該範囲内であることで、透明性が高い透明導電圧電フィルム１１の透明導電圧電フィルムとすることができる。特に、第一透明コーティング層２および第二透明コーティング層３の屈折率が当該範囲内であることで、波長５５０ｎｍの透過率が向上する。
　透明導電圧電フィルム１１が透明導電圧電フィルム１２である場合、第三透明コーティング層５の屈折率が１．４５以上、１．６０未満であってもよい。透明導電圧電フィルム１２は、第三透明コーティング層５を備えることで、透明性を向上できる。
　なお、本実施形態において、「屈折率」は、波長５８９ｎｍにおける屈折率のことを指す。
　第一透明コーティング層２および第二透明コーティング層３の屈折率はＪＩＳ　Ｋ７１４２に準拠して測定したものである。具体的には、試験的に作製した各コーティング層に対して、アッベ屈折率計を用い、波長５８９ｎｍの測定光を各層に入射させて２５．０±１．０℃で３回測定し、測定値の平均を屈折率とした。
　透明電極層４の屈折率は多入射角高速分光エリプソメータ（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製：Ｍ―２０００）によって、プサイ（Ψ）およびデルタ（Δ）を測定し、そこから波長５８９ｎｍにおける屈折率を算出した。
　透明圧電フィルム１の屈折率はＡＳＴＭ　Ｄ５４２に準拠して測定したものである。
　また、透明導電圧電フィルム１１において、例えば第二透明コーティング層３の厚みは１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下である。各層の屈折率が所定の範囲であっても、第二透明コーティング層３の厚みが当該範囲外であると、波長４５０ｎｍの透過率が低くなることがあり、黄色味を帯びた透明導電圧電フィルムとなることがある。各層の屈折率を所定の範囲とした上で、第二透明コーティング層３の厚みを当該範囲とすることによって、透明導電圧電フィルム１１において、波長４５０ｎｍの透過率と波長５５０ｎｍの透過率とを高い水準で両立することができる。
　さらに、透明導電圧電フィルム１１において、透明電極層４の厚みは例えば１３ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である。透明電極層４の厚みがこの範囲であることで、透明導電圧電フィルム１１に好適な表面抵抗値および透明性を付与することができる。
　以下、透明導電圧電フィルム１１および透明導電圧電フィルム１２における各層について詳細に説明する。なお、透明導電圧電フィルム１１において、各層の屈折率を後述の「さらに好ましい」範囲とすることで、より透明性の高い透明導電圧電フィルムとすることができる。
　（透明圧電フィルム１）
　透明導電圧電フィルム１１に含まれる透明圧電フィルム１は、圧電性を有しており、かつ透明であるフィルムのことを指す。ここで、透明圧電フィルム１の「透明」とは、波長４５０ｎｍの透過率および波長５５０ｎｍの透過率に優れるフィルムのことを指す。具体的には、透明圧電フィルム１の波長４５０ｎｍの透過率は８８％以上であってもよく、９０％以上であることが好ましい。また、透明圧電フィルム１の波長５５０ｎｍの透過率は８９％以上であってもよく、９１％以上であることが好ましい。
　透明圧電フィルム１の屈折率は、例えば１．３０以上、１．４５未満である。透明圧電フィルム１の屈折率はこの範囲内であればよいが、１．３４以上であることが好ましく、１．３６以上であることがさらに好ましい。また、屈折率は１．４４以下であることが好ましく、１．４３以下であることがさらに好ましい。
　本実施形態において、透明圧電フィルム１は樹脂製フィルムである。本実施形態における樹脂は、フィルムが圧電定数ｄ３３で表される圧電特性を有する限りにおいて、いかなる樹脂であってもよく、一種の樹脂でも二種以上を組み合わせた樹脂でもよい。上記の条件を満たす樹脂として、フッ素樹脂、ポリアミド１１、セルロース、ポリウレタンおよびポリウレア等が挙げられる。
　上記の樹脂のなかでもフッ素樹脂が好ましい。透明圧電フィルムがフッ素樹脂製であることで、透明性および圧電定数ｄ３３で表される圧電特性に優れた透明導電圧電フィルムを得ることができる。なお、本実施形態において、実施形態において「フッ素樹脂製」とは、透明圧電フィルムを構成する組成物においてフッ素樹脂が主成分であることを意味する。また、「フッ素樹脂が主成分である」とは、当該組成物においてフッ素樹脂が樹脂成分中で最多の成分であることを意味する。当該組成物におけるフッ素樹脂の含有量は、５１質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましく、１００質量％であることが特に好ましい。すなわち、透明圧電フィルム１は、フッ素樹脂からなるフィルムであることが特に好ましい。
　フッ素樹脂のなかでもフッ化ビニリデン樹脂が好ましい。フッ化ビニリデン樹脂の例には、フッ化ビニリデンの単独重合体、およびその共重合体が含まれる。フッ化ビニリデンの共重合体におけるフッ化ビニリデン以外の単量体に由来する構成単位の含有量は、透明圧電フィルムの用途に応じた特性を発現可能な範囲で適宜に決めてよい。
　フッ化ビニリデンの共重合体におけるフッ化ビニリデン以外の単量体の例には、炭化水素系単量体およびフッ素化合物が含まれる。当該炭化水素系単量体の例には、ビニルフルオリド（ＶＦ）、トリフルオロエチレン（ＴｒＦＥ）、テトラフルオロエチレン（ＴｅＦＥ）、ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）、１－クロロ－１－フルオロ－エチレン（１，１－ＣＦＥ）、１－クロロ－２－フルオロ－エチレン（１，２－ＣＦＥ）、１－クロロ－２，２－ジフルオロエチレン（ＣＤＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、トリフルオロビニルモノマー、１，１，２－トリフルオロブテン－４－ブロモ－１－ブテン、１，１，２－トリフルオロブテン－４－シラン－１－ブテン、ペルフルオロアルキルビニルエーテル、ペルフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）、ペルフルオロプロピルビニルエーテル（ＰＰＶＥ）、ペルフルオロアクリラート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリラート、および２－（ペルフルオロヘキシル）エチルアクリラート等のフルオロモノマー；並びに、エチレン、プロペン、無水マレイン酸、ビニルエーテル、ビニルエステル、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸系モノマー、メタクリル酸系モノマー、および酢酸ビニル等の炭化水素系モノマーが挙げられる。共重合体におけるフッ化ビニリデン以外の単量体としては、これらのなかでも、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロペンが好ましい。
　例えば、フッ化ビニリデン共重合体は、フッ化ビニリデンおよびトリフルオロエチレンを共重合させたフッ化ビニリデン共重合体（ＶＤＦ／ＴｒＦＥ）、フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロペンを共重合させたフッ化ビニリデン共重合体（ＶＤＦ／ＨＦＰ）、ならびにフッ化ビニリデンおよびテトラフルオロエチレンを共重合させたフッ化ビニリデン系共重合体（ＶＤＦ／ＴｅＦＥ）のような二元系の共重合体であってもよい。二元系の共重合体は、フッ化ビニリデンとコモノマーとの混合比が５０：５０～９０：１０であるものが好ましい。たとえば、フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンとを８０：２０の混合比で共重合させたフッ化ビニリデン共重合体（ＶＤＦ／ＴｅＦＰ）が挙げられる。また、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロペンを４０：４０：２０の混合比で共重合させた、フッ化ビニリデン共重合体（ＶＤＦ／ＴＦＥ／ＨＦＰ）のような三元系の共重合体であってもよい。
　本実施形態においては、フッ化ビニリデンの単独重合体、およびフッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンとの共重合体が好適に用いられる。
　本実施形態における透明圧電フィルムは、本実施形態の効果が得られる範囲において種々の添加剤を含んでもよい。当該添加剤は、一種以上でよく、その例には、可塑剤、滑剤、架橋剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、安定剤、抗酸化剤、界面活性剤および顔料が含まれる。
　本実施形態における透明圧電フィルム１の厚みは、透明導電圧電フィルム１１の用途に応じて、本実施形態の効果が得られる範囲から適宜に決めることができる。透明圧電フィルム１の厚みは、薄すぎると機械的強度が不十分となることがあり、厚すぎると効果が頭打ちになり、あるいは透明性が不十分になり、光学用途で使用することが難しくなることがある。このような観点から、透明圧電フィルム１の厚みは、２０μｍ以上であってもよく、３０μｍ以上であることが好ましく、３５μｍ以上であることがさらに好ましい。また、透明圧電フィルム１の厚みは２００μｍ未満であってもよく、１２０μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　（透明電極層４）
　本実施形態における透明電極層４は第二透明コーティング層３の上に重ねられている層状の電極である。
　本実施形態における透明電極層４は、平面状の広がりを有し導電性と十分な透明性を有する構造であり、透明導電層とも言える。透明電極層４を構成する材料自体が透明性を有さないものであっても、透明電極層４がその機能を発揮できる構造において、当該層が十分な透明性を発現すればよい。例えば、透明電極層４は、高い透明性を有する導電性の部材または組成で構成されてもよいし、透明性を有さない導電性の材料で構成されるが十分な透明性を発現可能な極薄または極細の微細な構造であってもよい。
　透明電極層４は、透明な基板上に形成され、当該基板とともに第二透明コーティング層３に接着されていてもよい。透明電極層４は、透明圧電フィルム１の少なくとも片面側に配置されていればよい。第一透明コーティング層２および第二透明コーティング層３を透明圧電フィルムの両面側に形成する場合では、透明電極層４は、少なくともいずれか一方側の第二透明コーティング層３上に配置されていればよい。
　透明電極層４を構成する材料は限定されず、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、ＰｄおよびＷからなる群より選択される少なくとも一種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、ＩＴＯ、酸化亜鉛またはアンチモン－スズ複合酸化物（ＡＴＯ）等が好ましく用いられ、ＩＴＯが特に好ましく用いられる。前記金属酸化物には、必要に応じて、上記群に示された金属原子がドープされていてもよい。
　本実施形態における透明導電圧電フィルム１１は、透明圧電フィルム１の変色を避けるために、その加工において高温での加熱を避ける必要がある。このため、透明電極層４の材料が金属酸化物である場合、金属酸化物が非晶質となる場合がある。透明電極層４が非晶質の材料で構成されていることは、例えば、透過型電子顕微鏡の観察像で確認することが可能である。本明細書では微結晶以外の結晶が観察されないものを非晶質、結晶粒が観察される程度に結晶が成長したものを結晶質と呼ぶ。
　透明電極層４における非晶性は、Ｘ線回折法を利用して求めることが可能である、また、当該非晶性は、透明電極層４を形成した後のアニーリングのような透明電極層４の作製における結晶化を促進させる工程の実施の有無および実施の程度によって調整することが可能である。
　一態様において、透明電極層４は、インジウム－スズ複合酸化物で構成されている。さらに別の態様では、透明電極層４は、インジウム－スズ複合酸化物で構成されており、かつＸ線回折におけるインジウム－スズ複合酸化物のピークが検出されない状態となっている。この構成によれば、非晶質であり、さらに屈折率が好適な範囲内である透明電極層４とすることができる。
　透明電極層４の屈折率は、例えば１．８０以上、２．２０以下である。透明電極層４の屈折率はこの範囲内である限り制限はなく、１．８３以上であることが好ましく、１．８５以上であることがさらに好ましい。また、透明電極層４の屈折率は、２．００以下であることが好ましく、１．９４以下であることがさらに好ましい。
　特に屈折率が１．９４以下である透明電極層４を含む透明導電圧電フィルムは、高温での加熱を行わずに製造したフィルムである。このため、透明圧電フィルム１の透明性および色味が高温処理によって損なわれることがなく、好適な透明導電圧電フィルムとすることができる。なかでも屈折率が１．９４以下であって、さらに非晶質である透明電極層４を含む透明導電圧電フィルムが好ましい。
　一方、透明電極層４の材料が非晶質である場合、材料それ自体は黄色味のある材料である。このような透明電極層４を堆積させた透明導電圧電フィルム１１には、他の層が透明であっても、色味を有するフィルムになる傾向がある。しかしながら、本発明の一実施形態に係る透明導電圧電フィルム１１のように、各層の屈折率を調節することにより、好適な光学特性を有する透明導電圧電フィルム１１を達成することができる。
　透明電極層４の厚みは１３ｎｍ以上であればよいが、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。透明電極層４の厚みが薄すぎると、透明導電圧電フィルム１１の電気抵抗が高くなる虞があり、また透明電極層４中に非連続の部分が形成される虞がある。透明電極層４の厚みが上述の下限を下回らないことで、透明導電圧電フィルム１１の表面抵抗値を４８０Ω／ｓｑ未満の良好な導電性を有する連続被膜とすることができる。
　特に透明電極層４の厚みは２０ｎｍ以上であることが好ましい。透明電極層４の厚みを２０ｎｍ以上とすることにより、表面抵抗値が３００Ω／ｓｑ未満のより好適な透明導電圧電フィルムとすることができる。
　一方、透明電極層４の厚みは４０ｎｍ未満であればよいが、３８ｎｍ未満であることが好ましく、３５ｎｍ未満であることがさらに好ましい。透明電極層４の厚みは厚くなりすぎると透明性の低下等をきたすことがある。透明電極層４の上述の上限を上回らないことで、透明導電圧電フィルムの透明性を高めることができる。なお、透明電極層４の厚みは、透明導電圧電フィルム１１の断面の観察から求める以下の方法によって求められる。
　透明導電圧電フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、透明導電圧電フィルムの断面が露出するようにエポキシ樹脂塊を切断する。露出した透明導電圧電フィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（「ＳＵ３８００」、株式会社日立ハイテク製）を用いて加速電圧３．０ｋＶ、倍率５０，０００倍の条件で観察し、透明導電圧電フィルム中の各コーティング層および透明電極層の厚みを測定する。
　なお、各コーティング層および透明電極層の厚みの測定において、各コーティング層および透明電極層のうちの任意の２ヶ所の厚みを測定し、各層で得られた測定値の平均値を各層の厚みとする。なお、上記の観察条件において、各層の界面は、ほぼ滑らかな線として観察される。この場合、各層の厚みの測定では、当該線間の距離を測定する。
　上述の通り、透明電極層４の厚みは、透明導電圧電フィルム１１の導電性の維持および透明性の向上の観点より重要である。さらに、透明導電圧電フィルム１１の第一透明コーティング層、第二透明コーティング層および透明電極層ならびに任意で設けられる第三透明コーティング層の、屈折率およびそれぞれの厚みの好ましい組み合わせによって、各層の界面反射が打ち消し合うよう好適に調整され、透明性がより向上する。
　（第一透明コーティング層２）
　本実施形態における第一透明コーティング層２は、透明圧電フィルム１と第二透明コーティング層３との間に位置する層である。
　第一透明コーティング層２の屈折率は１．６０以上、１．８０未満である。第一透明コーティング層２の屈折率はこの範囲内である限り制限はないが、１．６３以上であることが好ましく、１．６５以上であることがさらに好ましい。また、第一透明コーティング層２の屈折率は１．７５以下であることが好ましく、１．７２以下であることがさらに好ましい。
　第一透明コーティング層２の材料は、このような屈折率を満たす材料であれば、使用可能なあらゆる材料の中から適宜に選択すればよい。当該材料は、無機材料でも有機材料でもよいし、無機－有機の混合材料またはそれらの複合材料でもよい。また、一種の材料でも二種以上の混合材料または複合材料であってもよいが、透明導電圧電フィルムの透明性を向上する観点では一種の材料またはそれにさらに後述の金属酸化物粒子を含む複合材料であることが好ましい。また、当該コーティング層の材料は、ハードコート層の材料であってもよい。当該材料の例には、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、シラン化合物および金属酸化物が含まれる。なお、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸の総称であり、これらの一方または両方を意味する。特に、（メタ）アクリル酸エステル樹脂が十分な透明性、材料の種類の豊富さ、および、原料価格の低さの観点から好ましい。
　第一透明コーティング層２の材料は、透明コーティング層を構成するのに必要な他の材料を含んでいてよい。（メタ）アクリル酸エステル樹脂製透明コーティング層の材料であれば、一般に、開始剤、オリゴマー、モノマーおよびその他の成分が混合してなる組成物が使用され得る。この場合、透明コーティング層の物性は、主に、オリゴマーおよびモノマーによって決まる。当該オリゴマーの例には、単官能または多官能の（メタ）アクリルレートが含まれる。上記モノマーの例には、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートが含まれる。
　上述の材料に金属酸化物粒子を加えることで、第一透明コーティング層２の屈折率を調整してもよい。金属酸化物微粒子の屈折率は１．５０以上である当該金属酸化物微粒子としては、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛および酸化スズが挙げられ、中でも、酸化チタン、および酸化ジルコニウムが好ましい。
　第一透明コーティング層２は、任意の機能を発現させるための材料をさらに含んでもよい。例えば、第一透明コーティング層２は帯電防止剤を含んでもよい。帯電防止剤の例には、界面活性剤、五酸化アンチモン、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）および導電性高分子が含まれる。
　第一透明コーティング層２の好適な厚みは、透明導電圧電フィルムにおける第三透明コーティング層５の有無によって異なる。第三透明コーティング層５を備えない透明導電圧電フィルム１１においては、第一透明コーティング層２の厚みは４００ｎｍ以上であってもよく、４５０ｎｍ以上であることが好ましく、５００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、第一透明コーティング層２の厚みは１３００ｎｍ未満であってもよく、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、８００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　第三透明コーティング層５を備えない透明導電圧電フィルムである場合、第一透明コーティング層は、透明導電圧電フィルムの透明性を高めるために所定の屈折率を有することだけでなく、透明圧電フィルム１の表面の傷および凹凸などを防ぐことも求められる。第一透明コーティング層２の厚みがとりわけ下限を下回らないことで、透明圧電フィルム１の表面の傷および凹凸などを防ぐことができるため、透明圧電フィルム１の透明性が高まる。一方、第一透明コーティング層２の厚みがとりわけ上限を上回らないことは、透明圧電フィルムの薄膜化およびフィルムの透明性を高める観点から好ましい。
　第三透明コーティング層５を備える透明導電圧電フィルム１２においては、第一透明コーティング層２の厚みは６０ｎｍ以上であってもよく、７０ｎｍ以上であることが好ましく、８３ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、第一透明コーティング層２の厚みは３００ｎｍ未満であってもよく、２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。第一透明コーティング層の厚みが当該範囲であることで、透明導電圧電フィルム１１に透明性を付与することができる。
　（第二透明コーティング層３）
　本実施形態における第二透明コーティング層３は、第一透明コーティング層２と透明電極層４との間に位置する層である。
　第二透明コーティング層３の屈折率は、例えば１．３０以上、１．５０以下である。第二透明コーティング層３の屈折率はこの範囲内であればよいが、１．３５以上であることが好ましく、１．３７以上であることがさらに好ましい。また、第二透明コーティング層３の屈折率は、１．４８以下であることが好ましく、１．４７以下であることがさらに好ましい。
　第二透明コーティング層３の材料は、このような屈折率を満たす材料であれば、使用可能なあらゆる材料の中から適宜に選択すればよい。例えば、第一透明コーティング層２の材料として例示した材料から適切な屈折率になるように、材料を適宜に選択すればよい。また、屈折率を調整するためにＮａＦ、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２およびＢａＦ２からなる群から選ばれる一以上の金属フッ化物または二酸化ケイ素を含むことができる。これらのなかでも二酸化ケイ素が好ましい。
　さらに、第二透明コーティング層３の材料は、第一透明コーティング層２の材料について記載した材料と同様に、透明コーティング層を構成するのに必要な他の材料を含んでいてよい。
　第二透明コーティング層３の厚みは、１０ｎｍ以上であり、７０ｎｍ以下であればよい。第二透明コーティング層３の厚みは、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、第二透明コーティング層３の厚みは、６８ｎｍ以下であることが好ましく、６５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。第二透明コーティング層３の厚みが上記範囲内であることにより、透明導電圧電フィルム１１の透明性および色味を向上することができる。
　（第三透明コーティング層５）
　第三透明コーティング層５は透明導電圧電フィルムに任意に設けられる層である。第三透明コーティング層５が存在する場合、第三透明コーティング層５は透明圧電フィルム１に直接接する層である。例えば、透明導電圧電フィルム１２のように、透明圧電フィルム１と第一透明コーティング層２との間に位置する層である。また、第一透明コーティング層２が透明圧電フィルム１の一方の面にのみしか存在しない場合、透明圧電フィルム１の他方の面に第三透明コーティング層５を備えてもよい。透明導電圧電フィルム１１は第三透明コーティング層５を透明圧電フィルム１の両面に備えてもよい。
　第三透明コーティング層５は、屈折率が１．４５以上であってもよく、１．４８以上であることが好ましく、１．５０以上であることがさらに好ましい。また、第三透明コーティング層５は、屈折率が１．６０未満であってもよく、１．５８未満であることが好ましく、１．５５未満であることがさらに好ましい。このような第三透明コーティング層５を透明圧電フィルム１の少なくとも一方の面に備えることにより、透明導電圧電フィルム１２の透明性を向上することができる。
　第三透明コーティング層５の材料は、このような屈折率を満たす材料であれば、使用可能なあらゆる材料の中から適宜に選択すればよい。例えば、第一透明コーティング層２の材料として例示した材料から適切な屈折率になるように、材料を適宜に選択すればよい。また、第三透明コーティング層５は、いわゆるハードコート層とも呼ばれる、傷つき防止のための透明な表面保護層であってもよい。好適な屈折率を実現する材料であって、さらに、耐擦傷性に優れる材料であることが好ましい。
　第三透明コーティング層５の材料に、フィルム同士のブロッキング防止および接着性の観点より、無機粒子およびポリマービーズ等を添加してもよい。当該無機粒子には、例えば合成シリカ、タルク、珪藻土、炭酸カルシウム、長石類または石英類等が使用でき、特に合成シリカがプラスチックフィルムの高品質化の観点より好ましく使用できる。合成シリカには例えばＳｉＯ２が挙げられる。
　第三透明コーティング層５の厚みは、５００ｎｍ以上であってもよく、７００ｎｍ以上であることが好ましく、９００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。第三透明コーティング層５の厚みが下限を下回らないことで、透明圧電フィルム１の保護効果を期待できる。また、第三透明コーティング層５の厚みは、フィルムの薄膜化の観点から１４００ｎｍ以下であってもよく、１２００ｎｍ以下であることが好ましく、１１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。第三透明コーティング層の厚みが上限を上回らないことで、圧電定数ｄ３３で表される圧電特性の低下を抑制することができる。また、クラック、および、透明導電圧電フィルムをデバイスに組み込む工程における加熱によっておこる透明導電圧電フィルムのカール、等の品質低下を抑制することができる。第三透明コーティング層５の厚みが上記の範囲内であることで、透明性が向上した透明導電圧電フィルム１２とすることができる。
　〔デバイス〕
　本発明の一実施形態のデバイスは、前述した一実施形態に係る透明導電圧電フィルムを備える。当該デバイスは、本実施形態における透明導電圧電フィルムを備えていれば、いかなるものであってもよい。例えば、透明導電圧電フィルムの位置および数は、デバイスの用途または所期の機能に応じて、適宜に決めることができる。
　一実施形態に係る透明導電圧電フィルムは、上述した通り好適な導電性および高い圧電定数を有している。また、透明導電圧電フィルムの各層は、インク化が可能で塗布または印刷により形成が可能である。さらに、一実施形態に係る透明導電圧電フィルムは、化学的な安定性およびフィルムの柔軟性を有する。これらの特徴から、一実施形態に係る透明導電圧電フィルムは、可撓性を持つ圧力センサおよび振動センサなどのセンサ、エネルギーハーベスト素子、ならびにアクチュエータなどのデバイスへの応用が検討されている。なお、本発明の一実施形態に係る透明導電圧電フィルムは、その導電性および圧電性から、タッチパネル等への応用が特に好ましい。
　なお、一実施形態に係る透明導電圧電フィルムを、デバイスに応用する場合は、その製造において、透明粘着シートは、任意の透明コーティング層上のみならず、透明粘着シートを介して透明コーティング層と接着する他の層の上に形成されていてもよい。この場合、透明粘着シート層は、透明コーティング層側にあってもよいし、なくてもよい。
　一実施形態に係る透明導電圧電フィルムを組み込んだデバイスは、透明導電圧電フィルムが電極としても機能するため、従来のデバイスに含まれていた、例えばＰＥＴ／ＩＴＯからなる電極層を削減することが可能である。このため、デバイスの層構成を従来よりも簡略化することができる。
　〔透明圧電フィルムの製造方法〕
　以下、透明導電圧電フィルムの製造方法について、透明導電圧電フィルム１１の製造方法を例に説明する。透明導電圧電フィルム１１の製造方法は、透明圧電フィルム１の少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層２、第二透明コーティング層３、および透明電極層４がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムの製造方法である。当該製造方法は、屈折率が１．３０以上、１．４５未満のフィルムを形成する透明圧電フィルム１を製造する第一工程と、透明圧電フィルム１の少なくとも一方の面上に屈折率１．６０以上、１．８０未満の第一透明コーティング層２を形成する第二工程と、第一透明コーティング層２の表面に屈折率１．３０以上、１．５０未満であり、厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下である第二透明コーティング層３を形成する第三工程と、第二透明コーティング層３の表面に屈折率１．８０以上、２．２０以下であり、厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である透明電極層４を形成する第四工程と、を含む。
　第一工程は、透明圧電フィルム１を作製する工程であればよく、作製する透明圧電フィルム１の種類に応じて、適宜に工程を変更または追加してもよい。例えば、キャスティング法、熱プレス法、および溶融押出法等の従来公知の方法によって樹脂フィルムを作製する工程と、樹脂フィルムを延伸する工程と、非分極の樹脂フィルムを分極処理する工程と、を続けて行うことにより、透明圧電フィルム１を作製することができる。
　第二工程から第四工程は、ウェットコーティング法およびドライコーティング法などの公知のコーティング方法を利用して好適に実施することが可能である。一般に、ウェットコーティング法は、材料を塗布して層を形成するため、膜厚の大きい層を形成するのに適しており、ドライコーティング法は、材料を微細に堆積させて層を形成するため、膜厚の小さい層を形成するのに適している。このような利点に応じて公知の技術を適用することで、第二工程から第四工程の各工程を好適に実施することが可能である。
　第二工程は、第一透明コーティング層を形成する工程である。第二工程は、公知の方法によって実施することが可能であり、例えはウェットコーティング法で実施してもよいし、ドライコーティング法で実施してもよい。
　ウェットコーティング法は、生産性および製造コストの面から特に好ましい。ウェットコーティング法による第二工程では、第一透明コーティング層の材料を、第一工程で作製した透明圧電フィルム１の少なくとも一方の面に、塗布すればよい。塗布の方法は、従来公知の方法でよく、特に制限されない。生産性および製造コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は、公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法等が代表的な方法として挙げられる。その中でロールコート法、グラビアコート法等、連続的に層を形成できる方法が生産性の点より好ましい。
　第一透明コーティング層２の材料の塗布には、例えば、バーコータおよびグラビアコータ等を用いればよい。材料の塗布後に５０℃～１８０℃の条件で０．５～６０分間乾燥させてもよい。さらに、乾燥させた第一透明コーティング層２の塗膜を、ＵＶ照射によって固化してもよい。ＵＶ照射による固化は、例えば、ＵＶ照射装置を用いて、５０～１２００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量でＵＶを照射すればよい。第二工程において用いる装置、材料の濃度および温度等の条件は、第一透明コーティング層２の材料および膜厚等を参照して、適宜変更してもよい。
　ドライコーティング法による第二工程では、第一工程で作製した透明圧電フィルム１の少なくとも一方の面に、公知のドライコーティング法によって第一透明コーティング層の材料を付着させればよい。ドライコーティング法は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等が代表的な方法として挙げられる。これらの方法は、必要とする膜厚に応じて適宜に選択すればよい。
　一例として、第二工程としてスパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、第一透明コーティング層を構成する金属などを用いる。当該ターゲット材は、第一透明コーティング層の所望の屈折率に応じて、公知のターゲット材から適宜に選択され得る。また、スパッタガスとしては、例えば、Ａｒ等の不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガス等の反応性ガスを併用することができる。
　第三工程は、第二透明コーティング層を形成する工程である。第三工程では、第二透明コーティング層３の材料による被膜を、第二工程で作製した第一透明コーティング層２に、公知の方法によって適用すればよい。例えば、第一透明コーティング層２と同様にウェットコーティング法を用いて第二透明コーティング層３の材料を塗布してもよい。また、第二透明コーティング層３の材質に応じて、スパッタリング法などのドライコーティング法によって被膜を形成することも可能である。第三工程の装置、材料の濃度および温度等の条件は第二工程と同様にしてもよい。なお、第二透明コーティング層３の膜厚の調整は、材料の濃度またはスパッタリング時間を調整することで可能となる。
　第四工程は、透明電極層を形成する工程である。第四工程では、透明電極層４を、第三工程において作製した第二透明コーティング層３上に、公知の方法によって形成させればよい。透明電極層４の形成には、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の方法により、透明電極層４の材料を付着させればよい。または、透明電極層４の形成では、第一透明コーティング層２および第二透明コーティング層３と同様にウェットコーティング法を用いて透明電極層の材料を塗布してもよい。
　以下、第四工程においてスパッタリング法を採用して透明電極層を形成する構成を一例に、第四工程をさらに詳しく説明する。スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、透明電極層４を構成する上述の無機物が挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、２質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下であり、さらに好ましくは７質量％以下である。
　スパッタガスとしては、例えば、Ａｒ等の不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガス等の反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。
　スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性等の観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．７Ｐａ以下である。
　スパッタリング法に用いる電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。
　本実施形態の製造方法は、第一工程～第四工程を含んでいれば、さらに別の工程を含んでいてもよい。例えば、第一工程と第二工程との間に透明圧電フィルム１の上に第三透明コーティング層５を形成してもよい。第三透明コーティング層５は、第三透明コーティング層５の材料を、第一工程で作製した透明圧電フィルム１の上に、公知の方法によって塗布すればよい。
　さらに、その他の層構成を透明導電圧電フィルム１１に追加する工程を加えてもよい。また、透明圧電フィルム１をコロナ処理して、第一透明コーティング層２との密着性を高める工程を加えてもよい。
　本実施形態の製造方法によれば、高い透明性および好適な色味を有する透明導電圧電フィルム１１を製造できる。
　本実施形態の製造方法においては、第四工程の後に透明電極層４のアニーリング処理を実施しなくてもよい。アニーリング処理を行わないことにより、透明圧電フィルム１の色味が損なわれないため、ディスプレイなどのデバイスに好適に使用できる透明導電圧電フィルム１１を作製できる。
　本発明は上述した各実施形態に限定されず、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態も、本発明の技術的範囲に含まれる。
　（まとめ）
　本発明を、以下のように表現することもできる。
　本態様１に係る透明圧電フィルムは、波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、圧電定数ｄ３３が５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下であり、透明電極層を備え、前記透明電極層の表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ以上、３００Ω／ｓｑ未満である。このような透明導電圧電フィルムは、圧電特性、透明性、および導電性に優れ、幅広いデバイスに好適に用いることができる。
　本態様２に係る透明導電圧電フィルムは、本態様１において、圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層および透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、前記透明圧電フィルムの屈折率が１．３０以上、１．４５未満であり、前記第一透明コーティング層の屈折率が１．６０以上、１．８０未満であり、前記第二透明コーティング層の屈折率が１．３０以上、１．５０未満であり、前記透明電極層の屈折率が１．８０以上、２．２０以下である。この構成により、透明導電圧電フィルムに好ましい透明性を付与することができる。
　本態様３に係る透明導電圧電フィルムは、本態様２において、前記透明圧電フィルムと前記第一透明コーティング層との間に、屈折率が１．４５以上、１．６０未満の第三透明コーティング層をさらに備え、前記第一透明コーティング層の厚みが６０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であり、前記第二透明コーティング層の厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であり、前記透明電極層の厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である。この構成により、透明導電圧電フィルムに好ましい透明性と電気特性（表面抵抗値）を付与することができる。
　本態様４に係る透明導電圧電フィルムは、本態様３において、前記透明圧電フィルムの一方の面上に前記第三透明コーティング層、前記第一透明コーティング層、前記第二透明コーティング層および前記透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、前記透明圧電フィルムの他方の面に別の前記第三透明コーティング層を備える。この構成により、透明導電圧電フィルムの透明性を向上できる。
　本態様５に係る透明導電圧電フィルムは、本態様２において、前記第一透明コーティング層の厚みが４００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であり、前記第二透明コーティング層の厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であり、前記透明電極層の厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である。この構成により、透明導電圧電フィルムに好ましい透明性と電気特性（表面抵抗値）を付与することができる。
　本態様６に係る透明導電圧電フィルムは、本態様５において、前記透明圧電フィルムの一方の面上に前記第一透明コーティング層、前記第二透明コーティング層および前記透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、前記透明圧電フィルムの他方の面に別の第三透明コーティング層を備え、前記第三透明コーティング層の屈折率が１．４５以上、１．６０未満である。この構成により、透明導電圧電フィルムの透明性を向上できる。
　本態様７に係る透明導電圧電フィルムは、本態様１～６のいずれかにおいて、前記透明圧電フィルムがフッ素系樹脂を主成分として含む。この構成により、屈折率が好ましい透明圧電フィルムとすることができる。
　本態様８に係る透明導電圧電フィルムは、本態様１～７のいずれかにおいて、前記透明電極層の屈折率が１．９４以下である。このような透明導電圧電フィルムは、高温での加熱を行わずに製造したフィルムであるため、透明圧電フィルムの色味を損なわない点で好適である。
　本態様９に係るタッチパネルは、本態様１～８のいずれかの透明導電圧電フィルムを備える、タッチパネルである。
　本態様１０に係る製造方法は、透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層、および透明電極層がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムの製造方法であり、屈折率が１．３０以上、１．４５未満のフィルムを形成する前記透明圧電フィルムを製造する第一工程と、前記透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に屈折率１．６０以上、１．８０未満の前記第一透明コーティング層を形成する第二工程と、前記第一透明コーティング層の表面に屈折率１．３０以上、１．５０未満であり、厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下である前記第二透明コーティング層を形成する第三工程と、前記第二透明コーティング層の表面に屈折率１．８０以上、２．２０以下であり、厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である前記透明電極層を形成する第四工程と、を含む、透明導電圧電フィルムの製造方法である。
　本発明の一実施例について以下に説明する。
　〔透明導電圧電フィルムの製造〕
　＜実施例１＞
　（第一工程：透明圧電フィルムの作製）
　インヘレント粘度が１．３ｄｌ／ｇであるポリフッ化ビニリデン（株式会社クレハ製）から成形された樹脂フィルム（厚さ、１２０μｍ）を延伸倍率が４．２倍になるように延伸した。延伸後、フィルムを分極ロールに通して分極処理を行い、圧電フィルムを得た。その際、直流電圧は０ｋＶから１２．０ｋＶへと増加させながら印加することで分極処理を行った。分極処理後のフィルムをさらに１３０℃で１分間熱処理することで、屈折率１．４２、厚みが４０μｍの透明圧電フィルムを得た。
　（第二工程：第一透明コーティング層の形成）
　透明圧電フィルムの上面（Ａ面）にアクリル樹脂からなる非晶質シリカ含有紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、８０℃で乾燥後、４００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で紫外線を照射して、第三透明コーティング層（厚み１０００ｎｍ、屈折率１．５２）を形成した。次に、同様の方法で透明圧電フィルムの下面（Ｂ面）にも第三透明コーティング層（厚み１０００ｎｍ、屈折率１．５２）を形成した。続いて、第三透明コーティング層（Ａ面）の上面に、酸化ジルコニウム粒子含有紫外線硬化型樹脂組成物を塗布し、８０℃で乾燥後、４００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で紫外線を照射して、第一透明コーティング層（厚み９９ｎｍ、屈折率１．６５）を形成した。
　（第三工程：第二透明コーティング層の形成）
　次に、第一透明コーティング層上に、アクリル樹脂からなる中空シリカ含有紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、８０℃で乾燥後、４００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で紫外線を照射して、第二透明コーティング層（厚み４４ｎｍ、屈折率１．３７）を形成した。
　（第四工程：透明電極層の形成）
　次に、第二透明コーティング層上に、９７質量％の酸化インジウムおよび３質量％の酸化スズを含有する焼結体材料をターゲットとして用いる反応性スパッタリング法により、透明電極層である、屈折率１．８８、厚み３０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。こうして、透明導電圧電フィルムを得て、得られた透明導電圧電フィルムを実施例１とした。
　＜実施例２＞
　第二透明コーティング層の厚みを６１ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例２とした。
　＜実施例３＞
　第一透明コーティング層の屈折率を１．７０、厚みを１０５ｎｍとし、第二透明コーティング層の屈折率を１．４０、厚みを２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例３とした。
　＜実施例４＞
　透明圧電フィルムのＡ面およびＢ面に第三透明コーティング層を形成せず、透明圧電フィルムのＡ面に第一透明コーティング層、第二透明コーティング層、および透明電極層をこの順に形成した。第一透明コーティング層の厚みを５３３ｎｍ、第二透明コーティング層の厚みを６９ｎｍとした以外は、実施例３と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例４とした。
　＜実施例５＞
　第一透明コーティング層の厚みを２１９ｎｍ、屈折率を１．７４、第二コーティング層の厚みを３４ｎｍとした以外は、実施例３と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例５とした。
　＜実施例６＞
　透明電極層の厚みを２２ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例６とした。
　＜実施例７＞
　透明電極層の厚みを３４ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例７とした。
　＜実施例８＞
　（第一透明コーティング層の形成）
　実施例１と同様の方法で第三透明コーティング層を透明圧電フィルムの両面に形成させ、Ａ面にはさらに第一透明コーティング層（厚み８３ｎｍ、屈折率１．６５）を形成させた。
　（第二透明コーティング層の形成）
　次に、第一透明コーティング層上に、Ｓｉをターゲット材として用いたスパッタリング法により、ＳｉＯ２膜を形成した。具体的には、チャンバー内を７×１０－４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、チャンバー内にＡｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入し、厚さ２５ｎｍのＳｉＯ２膜を堆積させて、第二透明コーティング層（厚み２５ｎｍ、屈折率１．４６）を形成した。
　（透明電極層の形成）
　第二透明コーティング層上に、実施例１と同様にして、透明電極層を形成した。こうして、透明導電圧電フィルムを得て、得られた透明導電圧電フィルムを実施例８とした。
　＜実施例９＞
　第一透明コーティング層の厚みを９９ｎｍとした以外は、実施例８と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例９とした。
　＜実施例１０＞
　第一透明コーティング層の厚みを１３９ｎｍとした以外は、実施例８と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例１０とした。
　＜実施例１１＞
　第一透明コーティング層の厚みを１０５ｎｍ、屈折率を１．７０とした以外は、実施例８と同様にして透明導電圧電フィルムを得た。得られた透明導電圧電フィルムを実施例１１とした。
　＜比較例１＞
　第三透明コーティング層、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例１とした。
　＜比較例２＞
　第二透明コーティング層の厚みを８０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例２とした。
　＜比較例３＞
　第二透明コーティング層の厚みを１５１ｎｍとした以外は、実施例２と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例３とした。
　＜比較例４＞
　透明電極層の厚みを４５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例４とした。
　＜比較例５＞
　第一透明コーティング層の厚みを１００ｎｍ、屈折率を１．５２とし、第二透明コーティング層の厚みを８０ｎｍ、屈折率を１．４０とした以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例５とした。
　＜比較例６＞
　第一透明コーティング層の厚みを１０５ｎｍとし、第二透明コーティング層の厚みを２９ｎｍ、屈折率を１．５１とした以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例６とした。
　＜比較例７＞
　透明電極層の厚みを１５ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例７とした。
　＜比較例８＞
　第一透明コーティング層の厚みを４０μｍ、屈折率を１．５５とし、第二透明コーティング層の厚みを４０μｍとし、酸化スズを３６質量％含有した酸化インジウムをターゲットとしてスパッタリングを行ったこと以外は、実施例８と同様にして導電圧電フィルムを得た。得られた導電圧電フィルムを比較例８とした。
　〔各層の厚みの測定〕
　実施例１～１１および比較例１～８の透明導電圧電フィルムおよび導電圧電フィルム（以下、単に「導電圧電フィルム」とも言う）を構成する透明コーティング層および透明電極層の厚みは、以下に示す電子顕微鏡での観察による方法により求めた。当該方法とは、まず、透明導電圧電フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、透明導電圧電フィルムの断面が露出するようにエポキシ樹脂塊を切断する。露出した透明導電圧電フィルムの断面を、走査型電子顕微鏡（「ＳＵ３８００」、株式会社日立ハイテク製）を用いて加速電圧３．０ｋＶ、倍率５０，０００倍の条件で観察する。そして、透明導電圧電フィルムおよび当該透明導電圧電フィルム中の個々のフィルムまたは層の厚みを測定する。
　実施例１～１１、および比較例１～８の導電圧電フィルムの各層の屈折率について、表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　実施例１～１１、および比較例１～８の導電圧電フィルムの各層の厚みについて、表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　〔評価〕
　実施例１～１１および比較例１～８の導電圧電フィルムについて、フィルムの物性および光学特性を評価した。
　＜物性評価＞
　（表面抵抗値）
　実施例１～１１および比較例１～８の導電圧電フィルムのそれぞれの表面抵抗値（Ω／ｓｑ）を、抵抗率計（「ＬｏｒｅｓｔａＧＰ　ＭＣＰ－Ｔ６１０」、三菱ケミカルアナリテック社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７１９４に準拠して行った。測定は３回行い、３回の平均値を代表値として求めた。表面抵抗値は、５０Ω／ｓｑ以上、４８０Ω／ｓｑ未満であれば、タッチパネル等のデバイス用途において実用上問題ないと判断することができる。
　（圧電定数ｄ３３値）
　実施例１～１１および比較例１～８の導電圧電フィルムのそれぞれの圧電定数ｄ３３を、圧電定数測定装置（「ピエゾメーターシステムＰＭ３００」、ＰＩＥＺＯＴＥＳＴ社製）を用いて、０．２Ｎでサンプルをクリップし、０．１５Ｎ、１１０Ｈｚの力を加えた際の発生電荷を読み取った。圧電定数ｄ３３の実測値は、測定されるフィルムの表裏によって、プラスの値、またはマイナスの値となるが、本明細書中においては絶対値を記載した。圧電定数ｄ３３値は、５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下であればタッチパネル等のデバイスの用途において実用上問題ないと判断することができる。
　＜光学特性評価＞
　（透過率）
　実施例１～１１および比較例１～８の導電圧電フィルムのそれぞれの波長４５０ｎｍの透過率および波長５５０ｎｍの透過率を、分光色彩計（日本電色工業株式会社製　ＳＤ７０００）を用いて測定した。波長４５０ｎｍの透過率は、７５％以上であれば、タッチパネル等のデバイスの用途において実用上問題なく、７８％以上であればより好ましく、８０％以上であればさらに好ましいと判断することができる。波長５５０ｎｍの透過率は、８５％以上であればタッチパネル等のデバイスの用途において実用上問題なく、８７％以上であればより好ましく、８９％以上がさらに好ましいと判断することができる。
　上記評価の結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３に示すように、実施例１～１１の導電圧電フィルムは、いずれも、タッチパネル等のデバイスの用途において、実用上問題のない物性を有しており、さらに、波長４５０ｎｍ透過率および波長５５０ｎｍ透過率の両方を満足する高い透明性を有している。これに対し、比較例１～８の導電圧電フィルムは、いずれも、波長４５０ｎｍ透過率および５５０ｎｍ透過率の両方を満足しなかった。
　本発明は、圧電特性が求められるデバイスに利用することができる。
　１　透明圧電フィルム
　２　第一透明コーティング層
　３　第二透明コーティング層
　４　透明電極層
　５　第三透明コーティング層
　１１、１２　透明導電圧電フィルム

Claims (10)

  1. 　波長４５０ｎｍの透過率が７５％以上、波長５５０ｎｍの透過率が８５％以上であり、
    　圧電定数ｄ３３が５ｐＣ／Ｎ以上、４０ｐＣ／Ｎ以下であり、
    　透明電極層を備え、
    　前記透明電極層の表面抵抗値が５０Ω／ｓｑ以上、３００Ω／ｓｑ未満である、透明導電圧電フィルム。
  2. 　透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層および透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、
    　前記透明圧電フィルムの屈折率が１．３０以上、１．４５未満であり、
    　前記第一透明コーティング層の屈折率が１．６０以上、１．８０未満であり、
    　前記第二透明コーティング層の屈折率が１．３０以上、１．５０未満であり、
    　前記透明電極層の屈折率が１．８０以上、２．２０以下である、
    　請求項１に記載の透明導電圧電フィルム。
  3. 　前記透明圧電フィルムと第一透明コーティング層との間に、屈折率が１．４５以上、１．６０未満の第三透明コーティング層をさらに備え、
    　前記第一透明コーティング層の厚みが６０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であり、
    　前記第二透明コーティング層の厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であり、
    　前記透明電極層の厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である、
    　請求項２に記載の透明導電圧電フィルム。
  4. 　前記第一透明コーティング層の厚みが４００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であり、
    　前記第二透明コーティング層の厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であり、
    　前記透明電極層の厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である、
    　請求項２に記載の透明導電圧電フィルム。
  5. 　前記透明圧電フィルムがフッ素系樹脂を主成分として含む、請求項３または４に記載の透明導電圧電フィルム。
  6. 　前記透明電極層の屈折率が１．９４以下である、請求項３または４に記載の透明導電圧電フィルム。
  7. 　前記透明導電圧電フィルムは、前記透明圧電フィルムの一方の面上に前記第三透明コーティング層、前記第一透明コーティング層、前記第二透明コーティング層および前記透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、
    　前記透明圧電フィルムの他方の面に別の前記第三透明コーティング層を備える、請求項３に記載の透明導電圧電フィルム。
  8. 　前記透明導電圧電フィルムは、前記透明圧電フィルムの一方の面上に前記第一透明コーティング層、前記第二透明コーティング層および前記透明電極層がこの順で重ねられて構成されており、
    　前記透明圧電フィルムの他方の面に別の第三透明コーティング層を備え、
    　前記第三透明コーティング層の屈折率が１．４５以上、１．６０未満である、
    　請求項４に記載の透明導電圧電フィルム。
  9. 　請求項３または４に記載の透明導電圧電フィルムを備える、タッチパネル。
  10. 　透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に、第一透明コーティング層、第二透明コーティング層、および透明電極層がこの順で重ねられて構成されている積層フィルムの製造方法であり、
    　屈折率が１．３０以上、１．４５未満のフィルムを形成する前記透明圧電フィルムを製造する第一工程と、
    　前記透明圧電フィルムの少なくとも一方の面上に屈折率１．６０以上、１．８０未満の前記第一透明コーティング層を形成する第二工程と、
    　前記第一透明コーティング層の表面に屈折率１．３０以上、１．５０未満であり、厚みが１０ｎｍ以上、７０ｎｍ以下である前記第二透明コーティング層を形成する第三工程と、
    　前記第二透明コーティング層の表面に屈折率１．８０以上、２．２０以下であり、厚みが２０ｎｍ以上、４０ｎｍ未満である前記透明電極層を形成する第四工程と、を含む、透明導電圧電フィルムの製造方法。
PCT/JP2022/032537 2021-10-22 2022-08-30 透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法 WO2023067900A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202280063610.9A CN118044357A (zh) 2021-10-22 2022-08-30 透明导电压电膜、触摸面板以及透明导电压电膜的制造方法
KR1020247012556A KR20240060822A (ko) 2021-10-22 2022-08-30 투명 도전 압전 필름, 터치 패널 및 투명 도전 압전 필름의 제조방법
JP2023554971A JPWO2023067900A1 (ja) 2021-10-22 2022-08-30

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-173431 2021-10-22
JP2021173431 2021-10-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023067900A1 true WO2023067900A1 (ja) 2023-04-27

Family

ID=86059019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/032537 WO2023067900A1 (ja) 2021-10-22 2022-08-30 透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2023067900A1 (ja)
KR (1) KR20240060822A (ja)
CN (1) CN118044357A (ja)
WO (1) WO2023067900A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002120311A (ja) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp 構造体
JP2004098420A (ja) * 2002-09-09 2004-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 透明積層フィルム、偏光板、液晶表示素子及び液晶表示装置
JP2017074792A (ja) 2016-12-28 2017-04-20 日東電工株式会社 透明導電性フィルム及びタッチパネル
WO2017170616A1 (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 ダイキン工業株式会社 バイモルフ型圧電フィルム
JP2019096680A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 日東電工株式会社 圧電フィルムおよび圧電センサ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002120311A (ja) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp 構造体
JP2004098420A (ja) * 2002-09-09 2004-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 透明積層フィルム、偏光板、液晶表示素子及び液晶表示装置
WO2017170616A1 (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 ダイキン工業株式会社 バイモルフ型圧電フィルム
JP2017074792A (ja) 2016-12-28 2017-04-20 日東電工株式会社 透明導電性フィルム及びタッチパネル
JP2019096680A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 日東電工株式会社 圧電フィルムおよび圧電センサ

Also Published As

Publication number Publication date
TW202318448A (zh) 2023-05-01
CN118044357A (zh) 2024-05-14
JPWO2023067900A1 (ja) 2023-04-27
KR20240060822A (ko) 2024-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2109116B1 (en) Transparent conductive multilayer body and touch panel made of the same
JP5739742B2 (ja) 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
JP7304129B2 (ja) 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板
US20230422628A1 (en) Transparent conductive piezoelectric film and touch panel
JP6048529B2 (ja) 透明導電性フィルム及びタッチパネル
US20230397500A1 (en) Piezoelectric film, touch panel, and piezoelectric film manufacturing method
WO2023067900A1 (ja) 透明導電圧電フィルム、タッチパネル、および透明導電圧電フィルムの製造方法
WO2023067899A1 (ja) 透明導電圧電フィルム、デバイス、および透明導電圧電フィルムの製造方法
TWI834329B (zh) 透明導電壓電膜、觸控面板及透明導電壓電膜之製造方法
US20240164218A1 (en) Conductive piezoelectric multi-layer film and production method
TW202229929A (zh) 光學積層體及物品
TWI836655B (zh) 透明導電壓電膜、裝置及透明導電壓電膜之製造方法
WO2022091827A1 (ja) 透明圧電積層フィルムおよびタッチパネル
WO2022220144A1 (ja) 透明導電性圧電積層フィルム
JP7377311B2 (ja) 光学積層体、偏光板、画像表示装置、および、光学積層体の製造方法
WO2022224671A1 (ja) 透明導電性圧電積層フィルム
JP6002801B2 (ja) 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
TW202223441A (zh) 附抗反射層之偏光板及圖像顯示裝置
TW202413077A (zh) 光學積層體及物品

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22883212

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023554971

Country of ref document: JP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20247012556

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2022883212

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022883212

Country of ref document: EP

Effective date: 20240522