TW202413077A - 光學積層體及物品 - Google Patents

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森山浩伸
小林智明
雪下皓平
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日商迪睿合股份有限公司
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本發明之光學積層體依序積層有透明基材、硬塗層、密接層、光學功能層、及防污層，使用蕭氏D硬度為40且直徑為0.8 mm之滑動具，以荷重250 g進行500次往復之滑動試驗時，滑動部位之滑動前後之L *a *b *表色系統中之b *值之變化量Δb *之絕對值為1.9以下。

Description

光學積層體及物品
本發明係關於一種光學積層體及物品。本申請案係基於2022年5月12日於日本提出申請之特願2022-078796來主張優先權，並將其內容援用於本文中。
例如，存在於平板顯示器(FPD)、觸控面板、太陽電池等之表面設置抗反射用之光學積層體之情況。由於圖像係經由光學積層體而視認，因此要求光學積層體不會對視認性產生不良影響。又，光學積層體隨著各種操作機器之觸控面板化，亦要求提高耐擦傷性。
例如，專利文獻1中記載有如下內容：藉由將CIE-Lab表色系統中之a *值與b *值之差設為2以上，可減少顯示器之色不均。
例如，專利文獻2中記載有如下內容：藉由將作為最外層之低折射率層之組成最佳化，可提昇耐筆滑動性。
例如，專利文獻3中記載有一種具有抗反射塗層之物品，該抗反射塗層使伴隨刮痕或指紋而產生之表面缺陷不明顯。
例如，專利文獻4中記載有一種具有耐擦傷性層，並且耐久性及耐擦傷性優異之物品。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2019-28364號公報 專利文獻2：日本專利特開2004-86196號公報 專利文獻3：日本專利特開2020-126278號公報 專利文獻4：日本專利第6761348號公報
[發明所欲解決之問題]
於筆觸控方式之觸控面板之情形時，筆在光學積層體之表面滑動。存在筆滑動後之滑動痕跡使觸控面板之視認性下降之情況。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種滑動前後之顏色變化於目視下不容易明顯之光學積層體及物品。 [解決問題之技術手段]
為解決上述問題，本發明提供如下方法。
(1)第1態樣之光學積層體依序積層有透明基材、硬塗層、密接層、光學功能層、及防污層。對於該光學積層體，使用蕭氏D硬度為40且直徑為0.8 mm之滑動具，以荷重250 g進行500次往復之滑動試驗時，滑動部位之滑動前後之L *a *b *表色系統中之b *值之變化量Δb *值的絕對值為1.9以下。
(2)於上述態樣之光學積層體中，上述光學功能層自靠近上述密接層側起可依序具備第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層、及第2低折射率層。上述第1高折射率層及上述第2高折射率層各者之折射率高於上述第1低折射率層及上述第2低折射率層各者。上述第1高折射率層之物理膜厚為10 nm以上20 nm以下，上述第1低折射率層之物理膜厚為2 nm以上15 nm以下，上述第2低折射率層之物理膜厚為70 nm以上85 nm以下。
(3)於上述態樣之光學積層體中，上述光學功能層自靠近上述密接層側起可依序具備第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層、及第2低折射率層。上述第1高折射率層及上述第2高折射率層各者之折射率高於上述第1低折射率層及上述第2低折射率層各者。上述第1高折射率層之光學膜厚為20 nm以上48.8 nm以下，上述第1低折射率層之光學膜厚為2.9 nm以上21.9 nm以下，上述第2低折射率層之光學膜厚為102 nm以上124.1 nm以下。
(4)於上述態樣之光學積層體中，上述光學功能層之物理膜厚之總厚可為170 nm以上220 nm以下。
(5)於上述態樣之光學積層體中，上述光學功能層之光學膜厚之總厚可為320 nm以上410 nm以下。
(6)於上述態樣之光學積層體中，上述防污層之物理膜厚可為2 nm以上10 nm以下。
(7)於上述態樣之光學積層體中，上述光學功能層可為濺鍍膜。
(8)於上述態樣之光學積層體中，上述防污層可為蒸鍍膜。
(9)於上述態樣之光學積層體中，上述防污層可包含氟化合物。
(10)第2態樣之物品具備上述態樣之光學積層體。 [發明之效果]
上述態樣之光學積層體及物品在滑動前後之顏色變化於目視下不容易明顯。
以下，適當參照圖式，對本實施方式詳細地進行說明。以下之說明中所使用之圖式有時為了方便起見而將特徵部分放大表示以便理解其特徵，有時各構成要素之尺寸比率等與實際不同。以下之說明中所例示之材料、尺寸等為一例，本發明並不限定於其等，可於發揮其效果之範圍內適當進行變更而實施。
「光學積層體」 對於本實施方式之光學積層體10，使用蕭氏D硬度為40且直徑為0.8 mm之滑動具，以荷重250 g進行500次往復之滑動試驗時，滑動部位之滑動前後之L*a*b*表色系統中之b*值之變化量Δb*的絕對值為1.9以下。
滑動試驗按照以下步序進行。首先，以光學積層體10之防污層5位於表面之方式，使用透明黏著劑片(LINTEC股份有限公司製造)將光學積層體10貼合於1 mm厚之玻璃上。然後，使用聚縮醛製之筆(前端形狀為0.8 mm ϕ，蕭氏D硬度為40)，使用滑動試驗機(井本製作所製造)直線地進行滑動試驗。荷重為250 gf，滑動次數為1000次(500次往復)，往復距離為50 mm，往復之速度為1秒內滑動2次(1次往復)。
於L *a *b *表色系統中，L *表示亮度，a *值及b *值表示色度。a *值及b *值之絕對值越大之座標之顏色，則彩度越大。即，a *值及b *值之絕對值越大之座標之顏色，則顏色越鮮豔，a *值及b *值之絕對值越小之座標之顏色，則顏色越接近非彩色。+a *之座標為紅色方向之色相，-a *之座標為綠色方向之色相，+b *之座標為黃色方向之色相，-b *之座標為藍色方向之色相。色彩測定係使用由標準光源D65所發出之波長380 nm以上780 nm以下之光來進行。滑動前後之L *值、a *值、b *值之測定中之光相對於測定表面之入射角設為0°。
滑動前後之L *a *b *表色系統中之b *值之變化量Δb *之絕對值為1.9以下之光學積層體10於筆滑動試驗後，不容易視認出滑動痕跡。如上所述，表示色度之參數有a *值及b *值，但對滑動前後之視認性影響較大者為b *值。b *值之變化量Δb *之絕對值之變化幅度越小，則對視認性產生之影響越小。b *值之變化量Δb *之絕對值較佳為1.7以下，更佳為1.3以下。
滑動前後之L *a *b *表色系統中之a *值之變化量Δa *之絕對值較佳為3.8以下，更佳為2.8以下，進而較佳為2.4以下。變化量Δa *越小，則越不容易伴隨滑動而引起視認性之下降。再者，滑動前後之a *值之變化量Δa *對視認性產生之影響小於b *值之變化量Δb *之絕對值。
又，光學積層體10之滑動前後之色差ΔE *ab例如為3.4以下，較佳為3.2以下，更佳為2.9以下，進而較佳為2.8以下。滑動前後之色差ΔE *ab由ΔE *ab＝(ΔL *2＋Δa *2＋Δb *2) 1/2表示。其中，ΔL *為滑動前後之亮度之變化量ΔL *，Δa *為滑動前後之a *值之變化量，Δb *為滑動前後之b *值之變化量。
又，本實施方式之光學積層體10較佳為以入射角5°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值與以入射角45°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值之間的變化量Δb *之絕對值為6.0以下。色彩測定係使用由標準光源D65所發出之波長380 nm以上780 nm以下之光來進行。
如上所述，+a *之座標為紅色方向之色相，-a *之座標為綠色方向之色相，+b *之座標為黃色方向之色相，-b *之座標為藍色方向之色相。另一方面，對視感度影響較大之可見光之波長之中心位於565 nm附近，其於L *a *b *表色系統中位於-a *且+b *之座標，為包含黃色方向及綠色方向之座標域之色相。本實施方式之光學積層體為了抑制因光相對於光學積層體之入射角變化而導致所視認出之色相發生變化(產生色不均)，而抑制向容易視認之包含黃色方向及綠色方向之座標方向之色相變化，而不容易視認出色不均。
本實施方式之光學積層體滿足以入射角5°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值與以入射角45°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值之間的變化量Δb *之絕對值為6.0以下。
又，對於本實施方式之光學積層體，以入射角5°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值與以入射角45°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值分別較佳為滿足-20≦b *≦10，更佳為滿足-20≦b *≦0。
進而，對於本實施方式之光學積層體，以入射角5°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之a *值與以入射角45°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之a *值分別較佳為滿足-10≦a *≦20，更佳為滿足-3≦a *≦6。
又，本實施方式之光學積層體進而較佳為滿足以入射角5°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之a *值與以入射角45°入射時之反射光於L *a *b *表色系統中之a *值之間的變化量Δa *之絕對值為10以下。若滿足該條件，則更不容易視認出因視認角度變化而產生之色不均。又，此時，入射角45°時之a*值減去入射角5°時之a *值之差量較佳為正。
b *值對視感度產生之影響較大，容易影響物品之色相。若由視認角度不同所引起之b *值之變化量Δb *較小，則不容易視認出因視認角度變化而產生之色相之變化，不容易視認出色不均。
藉由使b *值滿足-15≦b *≦10，較佳為-15≦b *≦0，不容易視認出a *值之變化。尤其是，藉由使b≦0，不容易視認出a *值之變化。
藉由使a *值滿足-10≦a *≦20，較佳為滿足-3≦a *≦6，可避免對更容易視認出色不均之綠色方向之色彩產生影響。
若除了b *值之變化量Δb *以外，a *值之變化量Δa *亦較小，則更加不容易視認出因視認角度變化而導致之色不均。
又，光學積層體10之由光之入射角不同所引起之色差ΔE *ab例如為19.4以下，較佳為15.2以下，更佳為13.6以下，進而較佳為10以下。由光之入射角不同所引起之色差ΔE *ab係根據以入射角5°入射時之反射光之L *a *b *值及以入射角45°入射時之反射光之L *a *b *值，由ΔE *ab＝(ΔL *2＋Δa *2＋Δb *2) 1/2求出。其中，ΔL *為因光之入射角不同而導致之亮度之變化量ΔL *，Δa *為因光之入射角不同而導致之a *值之變化量，Δb *為因光之入射角不同而導致之b *值之變化量。
圖1係第1實施方式之光學積層體10之一例之剖視圖。光學積層體10依序積層有透明基材1、硬塗層2、密接層3、光學功能層4、及防污層5。
(透明基材) 透明基材1包含能夠使可見光區域之光透過之透明材料。透明基材1例如為塑膠膜。塑膠膜之構成材料例如為聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂。透明基材1為無機基材，可為玻璃膜。
透明基材1之構成材料較佳為聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚烯烴系樹脂。透明基材1例如較佳為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基材或三乙醯纖維素(TAC)基材。
再者，本發明中所說之「透明材料」係指於不損害本發明之效果之範圍內，使用波長區域之光之透過率為80%以上之材料。又，於本實施方式中，「(甲基)丙烯酸」意指甲基丙烯酸及丙烯酸。
只要不顯著損害光學特性，則透明基材1可包含補強材料。補強材料例如為纖維素奈米纖維、奈米二氧化矽等。
透明基材1可為被賦予光學功能及/或物理功能之膜。具有光學功能及/或物理功能之膜例如為偏光板、相位差補償膜、熱線阻斷膜、透明導電膜、增亮膜、阻隔性提高膜、透鏡薄片等。又，可對該等膜賦予抗靜電功能。
透明基材1之厚度並無特別限定，例如為25 μm以上，較佳為40 μm以上。透明基材1之厚度為物理膜厚。若透明基材1之厚度為25 μm以上，則可確保基材本身之剛性，即使對光學積層體10施加應力，亦不容易產生褶皺。又，若透明基材1之厚度為25 μm以上，則即使於透明基材1上連續地形成硬塗層2，亦不容易產生褶皺，製造上之顧慮較少。若透明基材1之厚度為25 μm以上，則光學積層體10於製造途中不易捲曲，易於處理。
透明基材1之厚度較佳為1 mm以下，更佳為500 μm以下，尤佳為300 μm以下。若透明基材1之厚度為1 mm以下，則可確保透明基材1實質上之光學透明性。又，若透明基材1之厚度為1 mm以下，則既可以單片方式亦可以卷對卷方式於透明基材1上成膜。尤其是，若透明基材1之厚度為300 μm以下，則於以卷對卷方式製造光學積層體10之情形時，可使捲繞為卷狀之透明基材1可1次投入之長度變長。因此，若透明基材1之厚度為300 μm以下，則於以卷對卷方式連續地生產光學積層體10之情形時，生產性優異。又，若透明基材1之厚度為300 μm以下，則可成為品質良好之光學積層體10，故而較佳。
透明基材1可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、紫外線照射、電子束照射、化學處理、氧化等蝕刻處理及/或底塗處理。藉由預先實施該等處理，形成於透明基材1上之硬塗層2之密接性提高。又，在透明基材1上形成硬塗層2之前，可視需要對透明基材1之表面進行溶劑洗淨、超音波洗淨等，藉此使透明基材1之表面除塵、潔淨化。
(硬塗層) 硬塗層2並無特別限定，可使用公知者。硬塗層2例如可包含黏合劑樹脂及填料。除此以外，硬塗層2還可包含調平劑。
黏合劑樹脂較佳為具有透明性者，例如為藉由紫外線、電子束而硬化之樹脂即游離輻射硬化型樹脂、熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂等。
作為黏合劑樹脂之游離輻射硬化型樹脂之一例為(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮等。又，游離輻射硬化型樹脂可為具有2個以上不飽和鍵之化合物。具有2個以上不飽和鍵之游離輻射硬化型樹脂例如為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、雙甘油四(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸金剛烷基酯、二(甲基)丙烯酸異𦯉基酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物等。其中，季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)及季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)適合用於黏合劑樹脂。再者，「(甲基)丙烯酸酯」係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。又，作為游離輻射硬化型樹脂，可為藉由PO(環氧丙烷)、EO(環氧乙烷)、CL(己內酯)等使上述化合物改性而得者。游離輻射硬化型樹脂較佳為丙烯酸系之紫外線硬化型樹脂組合物。
又，作為黏合劑樹脂之熱塑性樹脂之一例為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、矽酮系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂為非晶性，且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物、硬化性化合物之共通溶劑)。尤其是，就透明性及耐候性之觀點而言，黏合劑樹脂較佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
作為黏合劑樹脂之熱硬化性樹脂例如可為酚樹脂、尿素樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂(包括籠狀、梯狀等所謂倍半矽氧烷等)等。
硬塗層2可包含有機樹脂及無機材料，亦可為有機無機混合材料。作為一例，可例舉由溶膠凝膠法所形成者。作為無機材料，例如可例舉二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、二氧化鈦。作為有機材料，例如可例舉丙烯酸樹脂。
填料可為包含有機物者，亦可為包含無機物者，還可為包含有機物及無機物者。就防眩性、與後述之光學功能層4之密接性、抗黏連性之觀點等而言，硬塗層2中所含之填料可視光學積層體10之用途來選擇各種材料。具體而言，作為填料，例如可使用二氧化矽(Si之氧化物)粒子、氧化鋁(Aluminium oxide)粒子、有機微粒子等公知者。
於填料為二氧化矽粒子及/或氧化鋁粒子之情形時，填料之平均粒徑例如為800 nm以下，較佳為100 nm以下，更佳為40 nm以上70 nm以下。於填料為有機微粒子之情形時，有機微粒子之平均粒徑例如為10 μm以下，較佳為5 μm以下，更佳為3 μm以下。
硬塗層2之厚度例如較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上。硬塗層2之厚度較佳為100 μm以下。硬塗層2之厚度為物理膜厚。硬塗層2可為包含單一層者，亦可為由複數個層積層而成者。
(密接層) 密接層3位於硬塗層2與光學功能層4之間。密接層3使硬塗層2與光學功能層4之密接良好。
密接層3例如包含選自以下之任1種或2種以上：矽、鎳、鉻、錫、金、銀、鉑、鋅、鈦、鎢、鋁、鋯、鈀、銦等金屬；該等金屬之合金；該等金屬之氧化物、氟化物、硫化物或氮化物。
密接層3可包含非化學計量組成之無機氧化物。密接層3例如可為處於缺氧狀態之金屬氧化物，例如亦可為以SiO x(Si氧化物)為主成分者。密接層3可僅由Si氧化物構成，除Si氧化物以外，亦可於50質量%以下之範圍，較佳為10質量%以下之範圍內包含其他元素。作為其他元素，可包含Na以提高密接層3之耐久性，亦可包含選自Zr、Al、N之1種或2種以上之元素以提高密接層3之硬度。
密接層3之厚度例如較佳為1 nm以上10 nm以下，更佳為1 nm以上5 nm以下。密接層3之厚度為物理膜厚。若密接層3之厚度為上述範圍內，則光學功能層4與硬塗層2之密接性提高。
(光學功能層) 光學功能層4係表現出光學功能之層。光學功能係指控制反射、透過及折射這些光之性質之功能，例如可例舉抗反射功能、選擇反射功能、防眩功能、透鏡功能等。
光學功能層4例如為自密接層3側起依序交替地積層有高折射率層及低折射率層之積層膜。高折射率層之折射率高於低折射率層。各高折射率層之折射率可相同，亦可不同。各低折射率層之折射率可相同，亦可不同。
光學功能層4中之低折射率層與高折射率層之積層數之合計並無特別限定。例如，如圖1所示，各層之積層數可為4層，亦可為3層以下，還可為5層以上。光學功能層4中之低折射率層與高折射率層之積層數之合計較佳為4層以上10層以下，更佳為4層以上6層以下，最佳為4層。於光學功能層4之積層數為4層之情形時，由於積層數較少且厚度較薄，故而與積層數為5層以上之情形相比，生產性更優異。又，於光學功能層4之積層數為4層之情形時，與積層數為3層以下之情形相比，抗反射性較高，可使反射光之色相更加接近中性(非彩色)。
光學功能層4藉由在高折射率層及低折射率層交替地積層而成之積層體之各界面反射之反射光發生干涉，以及使自防污層5側入射之光擴散來顯示出抗反射功能。
以下，例舉光學功能層4為自靠近密接層3之側起依序積層有第1高折射率層41a、第1低折射率層41b、第2高折射率層42a、及第2低折射率層42b這4層之積層體之情形來進行說明。第1高折射率層41a及第2高折射率層42a各者之折射率高於第1低折射率層41b及第2低折射率層42b各者。
第1高折射率層41a及第2高折射率層42a之折射率例如為2.00以上2.60以下，較佳為2.10以上2.45以下。第1高折射率層41a及第2高折射率層42a之折射率可相同，亦可不同。
作為第1高折射率層41a及第2高折射率層42a之材料，例如可例舉：五氧化鈮(Nb 2O 5，折射率2.33)、氧化鈦(TiO 2，折射率2.33～2.55)、氧化鎢(WO 3，折射率2.2)、氧化鈰(CeO 2，折射率2.2)、五氧化鉭(Ta 2O 5，折射率2.16)、氧化鋅(ZnO，折射率2.1)、氧化銦錫(ITO，折射率2.06)、氧化鋯(ZrO 2，折射率2.2)等。第1高折射率層41a及第2高折射率層42a較佳為五氧化鈮。構成第1高折射率層41a及第2高折射率層42a之材料可相同，亦可不同。
第1低折射率層41b及第2低折射率層42b之折射率例如為1.20以上1.60以下，較佳為1.30以上1.50以下。第1低折射率層41b及第2低折射率層42b之折射率可相同，亦可不同。
第1低折射率層41b及第2低折射率層42b例如包含Si之氧化物。第1低折射率層41b及第2低折射率層42b例如為以SiO 2(Si之氧化物)為主成分之層。就容易獲取及成本方面而言，Si之氧化物有利。SiO 2單層膜無色透明。於本實施方式中，主成分係指層中所含之成分中占50質量%以上之成分。第1低折射率層41b及第2低折射率層42b之折射率可相同，亦可不同。
於Si之氧化物為主成分之情形時，第1低折射率層41b及第2低折射率層42b可包含未達50質量%之其他元素。除Si之氧化物以外之其他元素之含量較佳為10%以下。其他元素例如為Na、Zr、Al、N。Na提高第1低折射率層41b及第2低折射率層42b之耐久性。Zr、Al、N提高第1低折射率層41b及第2低折射率層42b之硬度，並提高耐鹼性。
第1高折射率層41a之物理膜厚例如為10 nm以上20 nm以下。第1高折射率層41a之物理膜厚較佳為10 nm以上17 nm以下。第1高折射率層41a之光學膜厚例如為20 nm以上48.8 nm以下。第1高折射率層41a之光學膜厚較佳為23.8 nm以上44.3 nm以下。光學膜厚係物理膜厚乘以該層之折射率而得者。
第1低折射率層41b之物理膜厚例如為2 nm以上15 nm以下。第1低折射率層41b之物理膜厚較佳為4 nm以上9 nm以下，更佳為7 nm以上9 nm以下。第1低折射率層41b之光學膜厚例如為2.9 nm以上21.9 nm以下。第1低折射率層41b之光學膜厚較佳為5.8 nm以上13.7 nm以下，更佳為10.22 nm以上13.72 nm以下。
第2高折射率層42a之物理膜厚例如為30 nm以上110 nm以下。第2高折射率層42a之物理膜厚較佳為74 nm以上102 nm以下。第2高折射率層42a之光學膜厚例如為60 nm以上277.2 nm以下。第2高折射率層42a之光學膜厚較佳為172.4 nm以上226.8 nm以下，更佳為172.4 nm以上217.9 nm以下。
第2低折射率層42b之物理膜厚例如為70 nm以上85 nm以下。第2低折射率層42b之物理膜厚較佳為73 nm以上81 nm以下。第2低折射率層42b之光學膜厚例如為102 nm以上124.1 nm以下。第2低折射率層42b之光學膜厚較佳為106.6 nm以上118.3 nm以下。
藉由將第1高折射率層41a、第1低折射率層41b、第2高折射率層42a、第2低折射率層42b各者之膜厚設為規定之範圍內，可實現來自表面之反射光於L *a *b *表色系統中之b *值於滑動試驗中不容易變動之光學積層體10。此時，第1低折射率層41b之膜厚於光學功能層4之各層中為最薄。
光學功能層4之物理膜厚之總厚例如為170 nm以上220 nm以下，較佳為180 nm以上210 nm以下，更佳為189 nm以上198 nm以下。光學功能層4之光學膜厚之總厚例如為320 nm以上410 nm以下，較佳為341.4 nm以上399.0 nm以下，更佳為362.8 nm以上386.8 nm以下。藉由使光學功能層4之總厚為特定之範圍內，可使反射光之色相接近中性。又，藉由使光學功能層4之總厚為特定之範圍內，可有效率地生產光學積層體10。
光學功能層4之各層例如為濺鍍膜。濺鍍膜與使用一般之真空蒸鍍法或塗佈法所形成之膜相比更緻密。例如，濺鍍膜之光學功能層4之水蒸氣透過性為1.0 g/m 2/day以下。緻密之濺鍍膜之水蒸氣透過率較低。濺鍍膜緻密，不容易留下滑動痕跡。例如，即使於防污層5之一部分因筆滑動而剝離之情形時，因光學功能層4緻密，亦不容易留下筆滑動之痕跡。
於形成光學功能層4之層中之防污層5側例如配置有低折射率層4b。於光學功能層4之低折射率層4b與防污層5相接之情形時，光學功能層4之抗反射性能變得良好。
(防污層) 防污層5位於光學功能層4之與密接層3相接之面之相反側之面上。防污層5位於光學功能層4之最外表面上。防污層5防止光學功能層4之污損。又，防污層5抑制應用於觸控面板等時因筆滑動而導致光學功能層4損耗之情況。
防污層5例如為使防污性材料蒸鍍而成之蒸鍍膜。關於防污層5，例如藉由於構成光學功能層4之第2低折射率層42b之一面，真空蒸鍍作為防污性材料之氟系化合物，來形成防污層5。若防污層5包含氟系化合物，則利用筆進行輸入時滑動變得順暢，同時光學積層體10之筆滑動耐性進一步提高。
防污層5中所含之氟系化合物例如為氟系有機化合物。氟系有機化合物例如為包含氟改性有機基及反應性矽烷基(例如，烷氧基矽烷)之化合物。作為可用於防污層5之市售品，可例舉OPTOOL DSX(大金股份有限公司製造)、KY-100系列(信越化學工業股份有限公司製造)等。
於在防污層5中使用包含氟改性有機基及反應性矽烷基(例如，烷氧基矽烷)之化合物，在光學功能層4之第2低折射率層42b中使用SiO 2之情形時，於氟系有機化合物之骨架即矽烷醇基與SiO 2之間形成矽氧烷鍵。矽氧烷鍵提高光學功能層4與防污層5之密接性。
防污層5之厚度例如為1 nm以上20 nm以下，較佳為3 nm以上10 nm以下。防污層之厚度為物理膜厚。若防污層5之厚度為1 nm以上，則於將光學積層體10應用於觸控面板用途等時，可充分確保耐磨性。又，若防污層5之厚度為20 nm以下，則蒸鍍所需之時間為短時間即可，可高效地製造。
防污層5可視需要包含光穩定劑、紫外線吸收劑、著色劑、抗靜電劑、潤滑劑、調平劑、消泡劑、抗氧化劑、阻燃劑、紅外線吸收劑、界面活性劑等添加劑。
藉由蒸鍍而形成之防污層5與光學功能層4牢固地結合，空隙較少而緻密。因此，藉由蒸鍍而形成之防污層5顯示出與藉由塗佈防污性材料等其他方法而形成之防污層5不同之特性。藉由蒸鍍而形成之防污層5不易磨耗。
繼而，對本實施方式之光學積層體之製造方法進行說明。首先準備透明基材1。透明基材例如可藉由購買市售品來獲取。
繼而，於透明基材1之一面形成硬塗層2。於透明基材1上塗佈包含要成為硬塗層2之材料之漿料，並利用公知之方法使要成為硬塗層2之材料硬化，藉此獲得硬塗層2。在透明基材1上形成硬塗層2之前，可視需要洗淨表面。作為透明基材1之表面之洗淨方法，例如可例舉溶劑洗淨、超音波洗淨等。為了對透明基材1之表面進行除塵，使表面潔淨化，較佳為進行透明基材1之洗淨。又，亦可購買市售之形成有硬塗層2之透明基材1。
繼而，於硬塗層2上形成密接層3。密接層3之製造方法並無特別限定，可使用公知之製造方法來製造。密接層3例如可藉由濺鍍法來形成。
繼而，於硬塗層2上形成光學功能層4。關於光學功能層4，例如於密接層3上依序成膜第1高折射率層41a、第1低折射率層41b、第2高折射率層42a、及第2低折射率層42b。第1高折射率層41a、第1低折射率層41b、第2高折射率層42a、及第2低折射率層42b各者例如使用濺鍍法來製作。作為濺鍍法之電源方法，可例舉DC(Direct Current，直流)、RF(Radio Frequency，高頻)、MF(Medium Frequency，中頻)。於光學功能層包含氧化物膜之情形時，使用DC則無法進行濺鍍，使用RF則生產性較差。因此，於對氧化物膜進行濺鍍之情形時，作為濺鍍裝置，較佳為使用MF電源之雙磁控濺鍍裝置。作為濺鍍時之頻率，較佳為20 KHz至60 KHz。濺鍍時之真空度例如為1.0 Pa以下。又，於以卷對卷方式形成光學功能層4之情形時，將搬送速度(線速)例如設為0.5 m/min以上20 m/min以下。若於此種條件下形成光學功能層4，則光學功能層4之各層變得緻密。
繼而，於光學功能層4之第2低折射率層42b上形成防污層5。較佳為於形成防污層5之前，對光學功能層4之表面進行電漿處理。若藉由電漿處理對第2低折射率層42之表面進行改質，則光學功能層4與防污層5之密接性提高。電漿處理時之累計輸出較佳為130 W･min/m 2以上2000 W･min/m 2以下。藉由處於該範圍內，耐滑動性提高。
防污層5例如藉由蒸鍍而形成。蒸鍍係藉由將要成為防污層5之材料加熱至蒸氣壓溫度來進行。蒸鍍時之真空度例如為1.0 Pa以下。若於此種條件下形成防污層5，則防污層5變得緻密，不易磨耗。
密接層3、光學功能層4之各層、防污層5之成膜較佳為於減壓環境下以卷對卷方式進行。經過上述步序，可製作光學積層體10。
第1實施方式之光學積層體10在滑動前後之L *a *b *表色系統中之b *值之變化量Δb *值之絕對值為特定值以下。若滑動前後之b *值之變化量Δb *值較小，則不容易視認出滑動試驗後之滑動痕跡，但不清楚明確之理由。
如上所述，本發明並不限定於上述實施方式，可於申請專利範圍內所記載之本發明之主旨之範圍內進行各種變化、變更。
光學積層體10可具有除透明基材1、硬塗層2、密接層3、光學功能層4及防污層5以外之層。又，光學積層體10可於透明基材1之與形成有光學功能層4等之面對向之面，視需要具有各種層。例如，光學積層體10可具有用於與其他構件接著之黏著劑層。又，可經由該黏著劑層而於光學積層體10貼合其他光學膜。其他光學膜例如有作為偏光膜、相位差補償膜、1/2波片、1/4波片發揮功能之膜等。
又，可於透明基材1之對向之面直接形成具有抗反射、選擇反射、防眩、偏光、相位差補償、視野角補償或放大、導光、擴散、增亮、色相調整、導電等功能之層。可於光學積層體10之表面形成表現出蛾眼、防眩功能之奈米級凹凸構造。可於光學積層體10之表面形成透鏡、稜鏡等微米至毫米級幾何學形狀。
又，光學積層體10可應用於各種物品。例如可於液晶顯示面板、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示面板等圖像顯示部之畫面設置光學積層體10。藉此，例如智慧型手機或操作機器之觸控面板顯示部表現出較高之耐擦傷性，可獲得適合實際使用之圖像顯示裝置。
又，物品並不限定於圖像顯示裝置，可將光學積層體10應用於窗玻璃、護目鏡、太陽電池之受光面、智慧型手機之畫面或個人電腦之顯示器、資訊輸入終端、平板終端、AR(Augmented Reality，擴增實境)器件、VR(Virtual Reality，虛擬實境)器件、電子顯示板、玻璃台面、遊戲機、飛機或電車等之運行輔助裝置、導航系統、儀錶盤、光學感測器之表面等。 [實施例]
「實施例1」 準備厚度為80 μm之包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)之膜作為透明基材1。然後，於透明基材1上形成物理膜厚為5 μm之硬塗層2。硬塗層2係藉由使用棒式塗佈機將具有表1所示之組成之塗佈液塗佈於透明基材1上，照射紫外線使其光聚合而硬化之方法來形成。
[表1]
   品名 製造商 結構 調配比
游離輻射硬化型樹脂 CN968 沙多瑪 具有聚酯骨架之6官能脂肪族胺基甲酸酯丙烯酸酯 8%
SR444 沙多瑪 季戊四醇三丙烯酸酯 7%
SR610 沙多瑪 聚乙二醇(600)二丙烯酸酯 (聚乙二醇鏈分子量約600) 11%
二氧化矽粒子 IPA-ST-L 日產化學 二氧化矽溶膠 (粒徑40～50 nm，溶劑異丙醇(IPA，isopropanol)，固形物成分30%) 37%
紫外線硬化起始劑 Irgacure184 BASF 羥基-環己基-苯基-酮 2%
溶劑 PGMA    丙二醇單甲醚乙酸酯 30%
乙酸丁酯       5%
合計          100%
調平劑 BYK377 BYK 含羥基之聚醚改性聚二甲基矽氧烷 上述合計每100重量份為0.01重量份
繼而，於硬塗層2上，使用Si靶與Nb靶作為濺鍍靶，使用Ar氣體與O 2氣體之混合氣體藉由反應性濺鍍法，連續地形成密接層3及光學功能層4。
使物理膜厚為3 nm且缺氧之Si氧化物(SiO x)成膜作為密接層3。光學功能層4之各層中，依序成膜包含Nb 2O 5之第1高折射率層41a、包含SiO 2之第1低折射率層41b、包含Nb 2O 5之第2高折射率層42a、及包含SiO 2之第2低折射率層42b。各層之物理膜厚及光學膜厚示於表2及表3。密接層3及光學功能層4以卷對卷方式製作，線速設為2.0 m/min。使用MF雙磁控濺鍍裝置作為濺鍍裝置，頻率設為40 KHz。
接著，以蒸鍍腔室內壓力0.01 Pa以下、蒸鍍溫度230℃、線速2.0 m/min，於光學功能層4上藉由蒸鍍來形成包含具有氟之有機化合物即具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷化合物(KY-1901，信越化學工業股份有限公司製造)之防污層5。防污層5之厚度設為5 nm。其後，將其捲取為卷狀，獲得實施例1之光學積層體(抗反射膜)。
測定所製作之光學積層體之表面粗糙度Ra、反射率、鉛筆硬度。表面粗糙度Ra係藉由原子力顯微鏡(AFM)來進行測定。將該等結果彙總於表4及表5中。反射率係使用分光光度計(日本分光股份有限公司製造之V-770)，根據反射光譜而求出。鉛筆硬度係依據JIS K5600-5-4來進行測定。
對光學積層體之表面進行筆滑動試驗。筆滑動試驗按照以下之步序進行。首先，將光學積層體10以防污層5位於表面之方式，使用透明黏著劑片(LINTEC股份有限公司製造)貼合於1 mm厚之玻璃上。然後，使用聚縮醛製之筆(前端形狀為0.8 mm ϕ，蕭氏D硬度為40)，使用滑動試驗機(井本製作所製造)直線地進行滑動試驗。荷重為250 gf，滑動次數為1000次(500次往復)，往復距離為50 mm，往復之速度為1秒內滑動2次(1次往復)。
滑動試驗前後之反射光之色度變化以如下方式求出。將附黏著劑之黑色PET膜貼合於筆滑動試驗樣本之玻璃背面側，並使用奧林巴斯股份有限公司製造之USPM-RU-W，對滑動前與滑動後之樣本分別進行測定。入射之光設為由標準光源D65所發出之波長380 nm以上780 nm以下之光。光之入射角設為0°。將其結果示於表4及表5中。
又，針對所獲得之光學積層體，改變光相對於光學積層體之表面之入射角，求出反射光之色度變化。反射光之色度變化係使用丙烯酸系透明黏著劑將光學積層體之透明基材側之面貼附於黑色之丙烯酸面板之表面，並使用分光光度計(日本分光股份有限公司製造之V-770)來進行測定。入射之光設為由標準光源D65所發出之波長380 nm～780 nm之光。關於光之入射角，分別以5°及45°進行入射。將其結果示於表4及表5中。
「實施例2～13」 實施例2～13與實施例1之不同之處在於，變更透明基材1之材料、第1高折射率層41a之厚度、第1低折射率層41b之厚度、第2高折射率層42a之厚度、第2低折射率層42b之厚度、第1高折射率層41a之材料、第2高折射率層42a之材料、防污層5之膜厚中之至少一者。將不同於實施例1之變更點彙總於表2及表3中。其他條件與實施例1相同，進行與實施例1相同之評估。將其結果彙總於表4及表5中。
「比較例1～4」 實施例1～4與實施例1之不同之處在於，變更透明基材1之材料、第1高折射率層41a之厚度、第1低折射率層41b之厚度、第2高折射率層42a之厚度、第2低折射率層42b之厚度中之至少一者。將不同於實施例1之變更點彙總於表2及表3中。其他條件與實施例1相同，進行與實施例1相同之評估。將其結果彙總於表4及表5中。
[表2]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8
透明基材 材質 PET PET PET TAC PET PET PET TAC
密接層 物理膜厚(nm) 3 3 3 3 3 3 3 3
第1高折射率層 材質 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5
物理膜厚(nm) 17 10 19 17 17 17 17 17
光學膜厚(nm) 39.61 23.77 44.27 39.61 39.61 39.61 39.61 39.61
第1低折射率層 材質 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2
物理膜厚(nm) 8 8 8 4 9 8 8 8
光學膜厚(nm) 11.68 11.68 11.68 5.84 13.72 11.68 11.68 11.68
第2高折射率層 材質 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5
物理膜厚(nm) 90 90 90 90 90 79 93.5 90
光學膜厚(nm) 209.70 209.70 209.70 209.70 209.70 184.07 217.86 209.70
第2低折射率層 材質 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2
物理膜厚(nm) 81 81 81 81 81 81 81 73
光學膜厚(nm) 118.26 118.26 118.26 118.26 118.26 118.26 118.26 106.58
防污層 物理膜厚(nm) 5 5 5 5 5 5 5 5
[表3]
   實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4
透明基材 材質 PET PET PET PET PET PET TAC PET PET
密接層 物理膜厚(nm) 3 3 3 3 3 3 3 3 3
第1高折射率層 材質 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 TiO 2 ZnO Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5
物理膜厚(nm) 17 17 17 17 19 16 10 21 17
光學膜厚(nm) 39.61 39.61 39.61 42.84 39.90 37.28 23.30 48.93 39.61
第1低折射率層 材質 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2
物理膜厚(nm) 8 8 8 8 8 38 20 8 8
光學膜厚(nm) 11.68 11.68 11.68 11.68 11.68 55.48 29.20 11.68 11.68
第2高折射率層 材質 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 TiO 2 ZnO Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5 Nb 2O 5
物理膜厚(nm) 90 90 90 90 102 29 110 90 90
光學膜厚(nm) 209.70 209.70 209.70 226.80 214.20 67.57 256.3 209.7 209.7
第2低折射率層 材質 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2 SiO 2
物理膜厚(nm) 85 81 81 81 81 104 84 81 87
光學膜厚(nm) 124.10 118.26 118.26 118.26 118.26 151.84 122.64 118.26 127.02
防污層 物理膜厚(nm) 5 3 10 5 5 5 5 5 5
[表4]
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8
初始反射率 0.39 0.43 0.50 0.65 0.30 0.34 0.54 0.77
鉛筆硬度 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H
Ra(μm) 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2
筆滑動試驗 初始 L* 3.5 4.0 4.5 5.9 2.7 3.1 4.9 6.9
a* -0.6 0.3 -0.1 -6.1 2.2 5.8 -1.5 -3.1
b* -7.9 1.9 -11.4 -6.6 -9.1 1.4 -10.3 -9.0
250 g 1000次後 L* 4.1 3.4 5.4 6.2 3.5 2.8 5.9 8.5
a* -2.1 2.9 -2.7 -6.7 0.4 14.4 -4.4 -2.9
b* -7.3 0.3 -9.8 -8.2 -7.2 1.0 -8.7 -9.6
目視判定 ◎ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ◎
∆a* -1.4 2.4 -2.6 -0.6 -1.8 2.4 -2.8 0.2
∆b* 0.6 -1.7 1.6 -1.6 1.8 -0.4 1.6 -0.7
∆E*ab 1.7 2.9 3.2 1.7 2.7 2.4 3.4 1.8
角度 分光 5度 L* 3.5 3.9 4.5 5.9 2.7 3.1 5.0 6.9
a* -0.7 0.5 -0.2 -6.2 2.1 6.0 -1.7 -3.0
b* -7.7 1.8 -11.2 -6.6 -8.9 1.4 -10.1 -9.0
45度 L* 10.9 10.2 12.2 11.1 11.1 11.3 12.4 15.2
a* 4.7 18.0 0.6 4.9 4.8 19.5 -1.2 9.4
b* -7.6 -3.7 -7.8 -12.5 -4.9 2.4 -7.8 -11.7
∆a* 5.4 17.5 0.8 11.1 2.7 13.5 0.5 12.4
∆b* 0.1 -5.5 3.5 -5.9 4.0 1.0 2.3 -2.7
∆E*ab 9.2 19.4 8.5 13.6 9.6 15.8 7.8 15.2
綜合評估 ◎ ○ ◎ ○ ◎ ○ ◎ ○
[表5]
   實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4
初始反射率 0.35 0.42 0.35 0.40 0.68 0.23 0.09 0.48 0.35
鉛筆硬度 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H
Ra(μm) 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2
筆滑動試驗 初始 L* 3.2 3.8 3.1 3.6 6.1 2.1 1.9 5.9 3.4
a* 2.8 -1.5 2.5 -0.7 -8.5 4.6 2.2 0.9 5.0
b* -10.5 -7.4 -10.2 -8.3 6.1 -8.6 -5.2 -14.0 -12.4
250 g 1000次後 L* 3.3 4.4 3.3 4.3 6.8 2.2 2.7 7.3 3.2
a* 0.6 -2.5 0.2 -2.4 -9.7 4.7 -0.1 -2.9 2.5
b* -8.6 -7.3 -8.4 -7.6 7.4 -5.0 -1.4 -11.3 -10.2
目視判定 ○ ◎ ○ ◎ ○ × × × ×
∆a* -2.2 -1.0 -2.3 -1.6 -1.1 0.1 -2.4 -3.7 -2.6
∆b* 1.9 0.1 1.8 0.6 1.3 3.6 3.7 2.7 2.2
∆E*ab 2.8 1.1 2.8 1.8 1.9 3.6 4.4 4.7 3.3
角度 分光 5度 L* 3.2 3.8 3.1 3.6 6.1 2.1 2.0 6.0 3.4
a* 2.6 -1.6 2.3 -0.8 -8.6 4.6 2.1 0.6 4.8
b* -10.2 -7.3 -10.0 -8.1 6.1 -8.3 -4.9 -13.7 -12.1
45度 L* 9.3 11.6 9.5 11.2 12.5 10.6 11.2 13.7 8.7
a* 1.9 5.5 2.8 4.2 -3.6 8.5 -4.5 -2.9 0.5
b* -5.1 -8.2 -5.9 -7.6 0.7 7.5 2.5 -7.7 -3.9
∆a* -0.7 7.1 0.6 5.1 5.0 3.9 -6.6 -3.5 -4.3
∆b* 5.1 -0.9 4.1 0.5 -5.4 15.7 7.4 6.1 8.2
∆E*ab 8.0 10.5 7.7 9.1 9.8 18.3 13.5 10.4 10.7
綜合評估 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ × × × ×
筆滑動試驗中之目視判定中，將於目視下反射色幾乎沒有變化之情形設為「◎」，將反射色有少許變化之情形設為「○」，將反射色顯著變化或光學功能層4之一部分剝離之情形設為「×」。
角度分光中之判定以如下方式進行，並作為綜合評估。將Δb *值之絕對值為6以下者設為「○」，將Δb *值之絕對值為6以下且Δa *值之絕對值為10以下者設為「◎」，將｜b *｜值為6以上之情形設為「×」。
1:透明基材 2:硬塗層 3:密接層 4:光學功能層 5:防污層 10:光學積層體 41a:第1高折射率層 41b:第1低折射率層 42a:第2高折射率層 42b:第2低折射率層
圖1係第1實施方式之光學積層體之一例之剖視圖。
1:透明基材
2:硬塗層
3:密接層
4:光學功能層
5:防污層
10:光學積層體
41a:第1高折射率層
41b:第1低折射率層
42a:第2高折射率層
42b:第2低折射率層

Claims (10)

  1. 一種光學積層體，其依序積層有透明基材、硬塗層、密接層、光學功能層、及防污層， 使用蕭氏D硬度為40且直徑為0.8 mm之滑動具，以荷重250 g進行500次往復之滑動試驗時，滑動部位之滑動前後之L*a*b*表色系統中之b*值之變化量Δb*的絕對值為1.9以下。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中上述光學功能層自靠近上述密接層側起依序具備第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層、及第2低折射率層， 上述第1高折射率層及上述第2高折射率層各者之折射率高於上述第1低折射率層及上述第2低折射率層各者， 上述第1高折射率層之物理膜厚為10 nm以上20 nm以下， 上述第1低折射率層之物理膜厚為2 nm以上15 nm以下， 上述第2低折射率層之物理膜厚為70 nm以上85 nm以下。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中上述光學功能層自靠近上述密接層側起依序具備第1高折射率層、第1低折射率層、第2高折射率層、及第2低折射率層， 上述第1高折射率層及上述第2高折射率層各者之折射率高於上述第1低折射率層及上述第2低折射率層各者， 上述第1高折射率層之光學膜厚為20 nm以上48.8 nm以下， 上述第1低折射率層之光學膜厚為2.9 nm以上21.9 nm以下， 上述第2低折射率層之光學膜厚為102 nm以上124.1 nm以下。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中上述光學功能層之物理膜厚之總厚為170 nm以上220 nm以下。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中上述光學功能層之光學膜厚之總厚為320 nm以上410 nm以下。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中上述防污層之物理膜厚為2 nm以上10 nm以下。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中上述光學功能層為濺鍍膜。
  8. 如請求項1之光學積層體，其中上述防污層為蒸鍍膜。
  9. 如請求項1之光學積層體，其中上述防污層包含氟系化合物。
  10. 一種物品，其具備如請求項1至9中任一項之光學積層體。
TW112116236A 2022-05-12 2023-05-02 光學積層體及物品 TW202413077A (zh)

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