JPH1069866A - 陰極線管 - Google Patents
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- JPH1069866A JPH1069866A JP8228382A JP22838296A JPH1069866A JP H1069866 A JPH1069866 A JP H1069866A JP 8228382 A JP8228382 A JP 8228382A JP 22838296 A JP22838296 A JP 22838296A JP H1069866 A JPH1069866 A JP H1069866A
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- H01J2229/8913—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices
- H01J2229/8915—Surface treatment of vessel or device, e.g. controlled surface roughness
Abstract
(57)【要約】
【課題】パネルガラスへの外来光の反射を防止して高コ
ントラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防
止膜を備えた陰極線管を提供する。 【解決手段】内面に蛍光体層４を被着してスクリーンを
構成するパネルガラス１と、電子銃を収納するネックお
よび前記パネルガラスとネックとを連接するファンネル
とで真空外囲器を構成してなる陰極線管において、前記
パネルガラス１の外面に高屈折率層２１と低屈折率層２
２の多層膜で構成された反射帯電防止膜２０を有し、前
記低屈折率層２２が前記高屈折率層２１の上層に位置す
ると共に、前記高屈折率層２１の前記低屈折率層２２側
に凹凸を形成した。
ントラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防
止膜を備えた陰極線管を提供する。 【解決手段】内面に蛍光体層４を被着してスクリーンを
構成するパネルガラス１と、電子銃を収納するネックお
よび前記パネルガラスとネックとを連接するファンネル
とで真空外囲器を構成してなる陰極線管において、前記
パネルガラス１の外面に高屈折率層２１と低屈折率層２
２の多層膜で構成された反射帯電防止膜２０を有し、前
記低屈折率層２２が前記高屈折率層２１の上層に位置す
ると共に、前記高屈折率層２１の前記低屈折率層２２側
に凹凸を形成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管に係り、
特にパネルガラスへの外来光の反射を防止して高コント
ラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防止膜
を備えた陰極線管に関する。
特にパネルガラスへの外来光の反射を防止して高コント
ラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防止膜
を備えた陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビ受像機やパソコンモニターに使用
される陰極線管は、画像表示面であるスクリーンを構成
するパネルガラスと電子銃を収納するネックおよびパネ
ルガラスとネックとを連接するファンネルとで真空外囲
器を構成し、電子銃から発射される変調電子ビームでス
クリーンの内面に形成された蛍光体層を励起して所要の
画像を表示するものである。
される陰極線管は、画像表示面であるスクリーンを構成
するパネルガラスと電子銃を収納するネックおよびパネ
ルガラスとネックとを連接するファンネルとで真空外囲
器を構成し、電子銃から発射される変調電子ビームでス
クリーンの内面に形成された蛍光体層を励起して所要の
画像を表示するものである。
【０００３】図１１はこの種の陰極線管の一例としての
シャドウマスク型カラー陰極線管の構造を説明する概略
断面図であって、１はパネルガラス、２はネック、３は
ファンネル、４は蛍光体層、５はシャドウマスク、６は
マスクフレーム、７は懸架機構、８は支持ピン、９は磁
気シールド、１０はアノードボタン、１１は内部導電
膜、１２は偏向装置、１３は電子銃、１４は電子ビーム
（赤、緑、青）である。同図において、この陰極線管
は、スクリーンを構成するガラスパネル１と電子銃を収
納するネック２およびパネルガラスとネックとを連接す
るファンネル３とで真空外囲器を構成する。この真空外
囲器の内面には、アノードボタン１０に印加される高圧
の陽極電圧をスクリーンおよび電子銃に供給するための
内部導電膜１１が塗布されている。
シャドウマスク型カラー陰極線管の構造を説明する概略
断面図であって、１はパネルガラス、２はネック、３は
ファンネル、４は蛍光体層、５はシャドウマスク、６は
マスクフレーム、７は懸架機構、８は支持ピン、９は磁
気シールド、１０はアノードボタン、１１は内部導電
膜、１２は偏向装置、１３は電子銃、１４は電子ビーム
（赤、緑、青）である。同図において、この陰極線管
は、スクリーンを構成するガラスパネル１と電子銃を収
納するネック２およびパネルガラスとネックとを連接す
るファンネル３とで真空外囲器を構成する。この真空外
囲器の内面には、アノードボタン１０に印加される高圧
の陽極電圧をスクリーンおよび電子銃に供給するための
内部導電膜１１が塗布されている。
【０００４】シャドウマスク５はマスクフレーム６に溶
接されて懸架機構７でパネルガラス１のスカート部内壁
に埋設された支持ピン８に懸架され、ガラスパネル１の
内面に形成された蛍光体層４に対して所定の微小間隔で
保持される。
接されて懸架機構７でパネルガラス１のスカート部内壁
に埋設された支持ピン８に懸架され、ガラスパネル１の
内面に形成された蛍光体層４に対して所定の微小間隔で
保持される。
【０００５】磁気シールド９は電子ビーム１４に対する
地磁気等の外部次回を遮蔽するものであり、マスクフレ
ーム６に溶接して保持される。
地磁気等の外部次回を遮蔽するものであり、マスクフレ
ーム６に溶接して保持される。
【０００６】また、ファンネルのネック側には電子銃か
ら発射された電子ビームの通路に水平磁界と垂直磁界を
形成する偏向装置１２が装架され、電子銃１３から発射
される３本の電子ビームを水平方向と垂直方向の偏向し
て蛍光体層４を２次元走査する。
ら発射された電子ビームの通路に水平磁界と垂直磁界を
形成する偏向装置１２が装架され、電子銃１３から発射
される３本の電子ビームを水平方向と垂直方向の偏向し
て蛍光体層４を２次元走査する。
【０００７】一般にこのような陰極線管では、そのスク
リーンであるパネルガラスに入射する外来光の反射を防
止してコンラストの低下を防止し、あるいは静電気の帯
電を防止するための反射帯電防止層が形成されている。
リーンであるパネルガラスに入射する外来光の反射を防
止してコンラストの低下を防止し、あるいは静電気の帯
電を防止するための反射帯電防止層が形成されている。
【０００８】図１２は陰極線管の外来光の反射防止構造
の一例を説明する図１のＡ部分を拡大して示す断面模式
図であって、４２はブラックマトリクス、４３は蛍光
体、４４はメタルバック、５１はシャドウマスクの電子
ビーム通過孔、Ｒ，Ｇ，Ｂは各色の電子ビーム経路、２
０は反射防止帯電防止膜、２３は蛍光体の発光光、２４
は外来光、２５，２６は外来光の反射光、図１と同一符
号は同一部分に対応する。
の一例を説明する図１のＡ部分を拡大して示す断面模式
図であって、４２はブラックマトリクス、４３は蛍光
体、４４はメタルバック、５１はシャドウマスクの電子
ビーム通過孔、Ｒ，Ｇ，Ｂは各色の電子ビーム経路、２
０は反射防止帯電防止膜、２３は蛍光体の発光光、２４
は外来光、２５，２６は外来光の反射光、図１と同一符
号は同一部分に対応する。
【０００９】同図において、電子銃から発射された電子
ビームＲ，Ｇ，Ｂはシャドウマスク５の電子ビーム通過
孔５１でそれぞれの蛍光体４３ごとに色選別されて蛍光
体層４に射突する。
ビームＲ，Ｇ，Ｂはシャドウマスク５の電子ビーム通過
孔５１でそれぞれの蛍光体４３ごとに色選別されて蛍光
体層４に射突する。
【００１０】蛍光体４３は電子ビームの射突で励起され
て発光し、その発光光はパネルガラス１と通して出射す
る。パネルガラスの表面には反射防止帯電防止層２０が
形成されている。パネルガラス１に入射する外来光２４
は、反射防止帯電防止層２０の内部に入り込んだ分２５
は当該反射防止帯電防止層２０で吸収あるいは干渉でエ
ネルギーが抑制され、表面での乱反射２６と共に表面側
への反射が防止される。
て発光し、その発光光はパネルガラス１と通して出射す
る。パネルガラスの表面には反射防止帯電防止層２０が
形成されている。パネルガラス１に入射する外来光２４
は、反射防止帯電防止層２０の内部に入り込んだ分２５
は当該反射防止帯電防止層２０で吸収あるいは干渉でエ
ネルギーが抑制され、表面での乱反射２６と共に表面側
への反射が防止される。
【００１１】このような反射帯電防止層は様々な方法で
形成されるが、その多くは、所謂ゾル・ゲル法によって
形成されるのが一般的である。
形成されるが、その多くは、所謂ゾル・ゲル法によって
形成されるのが一般的である。
【００１２】すなわち、従来の反射帯電防止層は、例え
ば次のような方法で形成される。
ば次のような方法で形成される。
【００１３】すなわち、陰極線管のパネルガラスに高
屈折率層を形成する導電性酸化物（例えば、Ａ．Ｔ．
Ｏ：酸化アンチモン含有酸化スズ、あるいはＩ．Ｔ，
Ｏ：酸化スズ含有酸化インジウム）などの超微粒子（粒
径が数百Å以下）をアルコール溶液に分散させた混合組
成物を所謂スピン塗布で約６００乃至１０００Åの平坦
な厚さに成膜して下層を形成し、その上にシリコンのア
ルコキシドの加水分解液をスピン塗布またはスプレー塗
布して８００乃至１３００Åの平坦な厚さの上層を形成
して２層の反射帯電防止層を形成する方法。
屈折率層を形成する導電性酸化物（例えば、Ａ．Ｔ．
Ｏ：酸化アンチモン含有酸化スズ、あるいはＩ．Ｔ，
Ｏ：酸化スズ含有酸化インジウム）などの超微粒子（粒
径が数百Å以下）をアルコール溶液に分散させた混合組
成物を所謂スピン塗布で約６００乃至１０００Åの平坦
な厚さに成膜して下層を形成し、その上にシリコンのア
ルコキシドの加水分解液をスピン塗布またはスプレー塗
布して８００乃至１３００Åの平坦な厚さの上層を形成
して２層の反射帯電防止層を形成する方法。
【００１４】陰極線管のパネルガラスにアンチモンを
含有したスズの有機または無機化合物をＣＶＤ法または
ＬＶＤ法で成膜してＡ．Ｔ．Ｏ膜を形成し、その上層に
シリコンアルコキシド加水分解液を８００乃至１０００
Åの厚さで平坦に塗布し、二層反射帯電防止膜がもつ反
射色の濃さと人間の眼の感度４００乃至７００ｎｍの濃
度域での反射率の高さを軽減するため、さらに二層膜上
にシリコンアルコキシドの加水分解液を１００乃至５０
０Åの厚さにスプレー法で吹き付けて散乱層を設ける。
この三層目に凹凸を設ける。
含有したスズの有機または無機化合物をＣＶＤ法または
ＬＶＤ法で成膜してＡ．Ｔ．Ｏ膜を形成し、その上層に
シリコンアルコキシド加水分解液を８００乃至１０００
Åの厚さで平坦に塗布し、二層反射帯電防止膜がもつ反
射色の濃さと人間の眼の感度４００乃至７００ｎｍの濃
度域での反射率の高さを軽減するため、さらに二層膜上
にシリコンアルコキシドの加水分解液を１００乃至５０
０Åの厚さにスプレー法で吹き付けて散乱層を設ける。
この三層目に凹凸を設ける。
【００１５】なお、上記従来技術を開示したものとして
は、特開平４−３３４８５３号公報、特開平５−３４３
００８号公報を挙げることができる。
は、特開平４−３３４８５３号公報、特開平５−３４３
００８号公報を挙げることができる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術では、
高屈折率層及びその上層の低屈折率層を平坦な膜とし、
略々二層反射防止膜の理論的構造と一致させているた
め、４００乃至７００ｎｍの波長領域でＶ字型の反射特
性を持つ。
高屈折率層及びその上層の低屈折率層を平坦な膜とし、
略々二層反射防止膜の理論的構造と一致させているた
め、４００乃至７００ｎｍの波長領域でＶ字型の反射特
性を持つ。
【００１７】そのため、反射率を下げようとすると反射
色が強くなり、反射色を低減しようとすると反射率が高
くなる。この欠点を緩和するために、三層目に薄い低屈
折率の凹凸層を付けているが、この凹凸が少ないと効果
が充分でなく、凹凸を多くすると光の散乱量が増加し、
陰極線管の解像度が低下する。
色が強くなり、反射色を低減しようとすると反射率が高
くなる。この欠点を緩和するために、三層目に薄い低屈
折率の凹凸層を付けているが、この凹凸が少ないと効果
が充分でなく、凹凸を多くすると光の散乱量が増加し、
陰極線管の解像度が低下する。
【００１８】また、高屈折率層をスピン塗布またはＣＶ
ＤあるいはＬＶＤ法で形成するので、工程が複雑で製造
コストも上昇するという問題があった。
ＤあるいはＬＶＤ法で形成するので、工程が複雑で製造
コストも上昇するという問題があった。
【００１９】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を
解消し、パネルガラスへの外来光の反射を防止して高コ
ントラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防
止膜を備えた陰極線管を提供することにある。
解消し、パネルガラスへの外来光の反射を防止して高コ
ントラスト化を図ると共に、帯電を防止する反射帯電防
止膜を備えた陰極線管を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、陰極線管のパネルガラスに形成する多層
膜の反射防止帯電防止層を構成する高屈折率層を軽微な
凹凸をもつ構造とし、その上層に高屈折率層よりも凹凸
が少ないか、または平坦な層を形成して成ることを特徴
とする。
に、本発明は、陰極線管のパネルガラスに形成する多層
膜の反射防止帯電防止層を構成する高屈折率層を軽微な
凹凸をもつ構造とし、その上層に高屈折率層よりも凹凸
が少ないか、または平坦な層を形成して成ることを特徴
とする。
【００２１】また、高屈折率層、低屈折率層の形成を、
スプレー塗布→スピン塗布、またはスプレー塗布→スプ
レー塗布で行うことにより低コストで高性能の反射防止
帯電防止膜を得ることを特徴とする。
スプレー塗布→スピン塗布、またはスプレー塗布→スプ
レー塗布で行うことにより低コストで高性能の反射防止
帯電防止膜を得ることを特徴とする。
【００２２】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、内面に蛍光体層を被着してスクリーンを構成するパ
ネルガラスと、電子銃を収納するネックおよび前記パネ
ルガラスとネックとを連接するファンネルとで真空外囲
器を構成してなる陰極線管において、前記パネルガラス
外面に高屈折率層と低屈折率層の多層膜で構成された反
射帯電防止膜を有し、前記低屈折率層が前記高屈折率層
の上層に位置すると共に、前記高屈折率層の前記低屈折
率層側に凹凸を有することを特徴とする。
は、内面に蛍光体層を被着してスクリーンを構成するパ
ネルガラスと、電子銃を収納するネックおよび前記パネ
ルガラスとネックとを連接するファンネルとで真空外囲
器を構成してなる陰極線管において、前記パネルガラス
外面に高屈折率層と低屈折率層の多層膜で構成された反
射帯電防止膜を有し、前記低屈折率層が前記高屈折率層
の上層に位置すると共に、前記高屈折率層の前記低屈折
率層側に凹凸を有することを特徴とする。
【００２３】さらに、請求項２に記載の第２の発明は、
第１の発明における前記低屈折率層の表面を平坦にした
ことを特徴とする。
第１の発明における前記低屈折率層の表面を平坦にした
ことを特徴とする。
【００２４】この構成により、反射色の濃さが低減さ
れ、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００Å
の平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上す
る。
れ、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００Å
の平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上す
る。
【００２５】また、請求項３に記載の第３の発明は、第
１の発明における前記低屈折率層の表面に凹凸を有する
ことを特徴とする。
１の発明における前記低屈折率層の表面に凹凸を有する
ことを特徴とする。
【００２６】この構成により、低屈折率層での外来光の
乱反射と相まって陰極線管の視認性がより向上する。
乱反射と相まって陰極線管の視認性がより向上する。
【００２７】さらに、請求項４に記載の第４の発明は、
第３の発明における前記低屈折率層の凹凸の大きさが前
記高屈折率層の凹凸の大きさより小であることを特徴す
る。この構成により、低屈折率層での外来光の乱反射と
相まって陰極線管の視認性がより向上する。
第３の発明における前記低屈折率層の凹凸の大きさが前
記高屈折率層の凹凸の大きさより小であることを特徴す
る。この構成により、低屈折率層での外来光の乱反射と
相まって陰極線管の視認性がより向上する。
【００２８】そして、請求項５に記載の第５の発明は、
第１の発明における前記高屈折率層の形成材料が導電性
酸化物あるいは金属の超微粒子を含有し、前記低屈折率
層の形成材料がシリコン化合物あるいはフッ化物を含有
することを特徴とする。
第１の発明における前記高屈折率層の形成材料が導電性
酸化物あるいは金属の超微粒子を含有し、前記低屈折率
層の形成材料がシリコン化合物あるいはフッ化物を含有
することを特徴とする。
【００２９】この構成により、反射色の濃さが低減さ
れ、反射特性カーブが平坦化されて陰極線管の視認性が
向上する。
れ、反射特性カーブが平坦化されて陰極線管の視認性が
向上する。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。
き、実施例を参照して詳細に説明する。
【００３１】図１は本発明による陰極線管の第１実施例
のパネルガラス部分の構成を説明する部分断面模式図で
あって、１はパネルガラス、４は蛍光体層、２０は反射
防止帯電防止膜、２１は高屈折率層、２１ａは凸部、２
１ｂは凹部、２２は低屈折率層である。
のパネルガラス部分の構成を説明する部分断面模式図で
あって、１はパネルガラス、４は蛍光体層、２０は反射
防止帯電防止膜、２１は高屈折率層、２１ａは凸部、２
１ｂは凹部、２２は低屈折率層である。
【００３２】この実施例は、高屈折率層２１の表面に凹
凸を形成し、その上層である低屈折率層２２には平坦ま
たは略々平坦な表面を持たせたものである。
凸を形成し、その上層である低屈折率層２２には平坦ま
たは略々平坦な表面を持たせたものである。
【００３３】高屈折率層２１は超微粒子を分散したアル
コール溶液をスプレーを用いてパネルガラス１の表面に
吹き付け塗布する。このスプレー塗布の塗布材料の成分
と塗布条件により高屈折率層２１の表面に所定の凹凸が
形成される。
コール溶液をスプレーを用いてパネルガラス１の表面に
吹き付け塗布する。このスプレー塗布の塗布材料の成分
と塗布条件により高屈折率層２１の表面に所定の凹凸が
形成される。
【００３４】低屈折率層２２は、シリコンのアルコキシ
ドのアルコール溶液をスピン塗布あるいはスプレー塗布
で成膜する。
ドのアルコール溶液をスピン塗布あるいはスプレー塗布
で成膜する。
【００３５】図２は図１の反射防止帯電防止膜を構成す
る高屈折率層の表面状態を説明する拡大平面模式図であ
る。
る高屈折率層の表面状態を説明する拡大平面模式図であ
る。
【００３６】同図に示したように、高屈折率層２１の表
面は凸部２１ａで囲まれた凹部２１ｂからなる凹凸で満
たされ、この上に低屈折率層２２が被覆される。
面は凸部２１ａで囲まれた凹部２１ｂからなる凹凸で満
たされ、この上に低屈折率層２２が被覆される。
【００３７】この構成により、反射色の濃さが低減さ
れ、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００Å
の平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上す
る。
れ、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００Å
の平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上す
る。
【００３８】図３は本発明による陰極線管の第２実施例
のパネルガラス部分の構成を説明する部分断面模式図で
あって、図１と同一符号は同一部分に対応する。
のパネルガラス部分の構成を説明する部分断面模式図で
あって、図１と同一符号は同一部分に対応する。
【００３９】この実施例では、反射防止帯電防止膜２０
の上層を構成する低屈折率層２２の表面を下層の高屈折
率層２１の凹凸に倣った凹凸を有する。
の上層を構成する低屈折率層２２の表面を下層の高屈折
率層２１の凹凸に倣った凹凸を有する。
【００４０】この構成により、低屈折率層２２に形成さ
れた凹凸による散乱機能と相まって反射色の濃さが低減
され、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００
Åの平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上
する。
れた凹凸による散乱機能と相まって反射色の濃さが低減
され、反射特性カーブが平坦化されて４００乃至７００
Åの平均反射率が低くなって、陰極線管の視認性が向上
する。
【００４１】図４は二層反射防止帯電防止膜の典型的な
反射特性の説明図であって、横軸に光波長（ｎｍ）を、
縦軸に反射率（％）を取って示す。
反射特性の説明図であって、横軸に光波長（ｎｍ）を、
縦軸に反射率（％）を取って示す。
【００４２】同図中、最低の反射率をボトム反射率Ｒ
ｂ、その時の波長をボトム波長λｂと称することとす
る。
ｂ、その時の波長をボトム波長λｂと称することとす
る。
【００４３】一般に、最小の反射率Ｒｂを持つときの高
屈折率層および低屈折率層の厚さを標準としたとき、高
屈折率層の厚さが上記標準よりずれるとボトム反射率Ｒ
ｂは高くなり、反射カーブは緩やかになる。
屈折率層および低屈折率層の厚さを標準としたとき、高
屈折率層の厚さが上記標準よりずれるとボトム反射率Ｒ
ｂは高くなり、反射カーブは緩やかになる。
【００４４】また、低反射率層２２はボトム反射率Ｒｂ
にほとんど影響を与えないが、標準より厚いときはボト
ム反射率Ｒｂに対応するボトム波長λｂより長波長側に
シフトする傾向がある。
にほとんど影響を与えないが、標準より厚いときはボト
ム反射率Ｒｂに対応するボトム波長λｂより長波長側に
シフトする傾向がある。
【００４５】したがって、微小範囲で凹凸を作ればその
凹凸に対応して種々の反射カーブが得られる。また、斜
面方向から見ても凹凸が４００Å以下で少なくないので
二層反射膜として働く。
凹凸に対応して種々の反射カーブが得られる。また、斜
面方向から見ても凹凸が４００Å以下で少なくないので
二層反射膜として働く。
【００４６】図５は凹凸部分の反射特性の説明図であっ
て、図中点線は種々の微小範囲での凹凸による反射カー
ブ（微小部分の反射特性）を、実線は微小部分の反射特
性を合成した本発明の反射カーブ（総合反射特性）を示
す。
て、図中点線は種々の微小範囲での凹凸による反射カー
ブ（微小部分の反射特性）を、実線は微小部分の反射特
性を合成した本発明の反射カーブ（総合反射特性）を示
す。
【００４７】同図に示したように、マクロ的に見れば実
線に示した総合反射特性を見ていることになり、ボトム
反射率Ｒｂは多少上昇するが、反射カーブが平坦で反射
色が薄く、かつ４００乃至７００ｎｍの範囲での反射率
の低い特性が得られる。
線に示した総合反射特性を見ていることになり、ボトム
反射率Ｒｂは多少上昇するが、反射カーブが平坦で反射
色が薄く、かつ４００乃至７００ｎｍの範囲での反射率
の低い特性が得られる。
【００４８】この凹凸を低屈折率層のみで行うと、屈折
率が低いので凹凸を大きくしなけらばならないので散乱
が大きくなる。
率が低いので凹凸を大きくしなけらばならないので散乱
が大きくなる。
【００４９】したがって本発明の上記各実施例で説明し
たような高屈折率層との二層構造でかつ少なくとも下層
の高屈折率層に微小な凹凸を形成することにより、ま
た、その材料に導電性物質を用いることにより、外光の
反射を著しく低減し、帯電を防止した高品質の陰極線管
を提供できる。
たような高屈折率層との二層構造でかつ少なくとも下層
の高屈折率層に微小な凹凸を形成することにより、ま
た、その材料に導電性物質を用いることにより、外光の
反射を著しく低減し、帯電を防止した高品質の陰極線管
を提供できる。
【００５０】次に、本発明の陰極線管の製造方法につい
て説明する。
て説明する。
【００５１】図６は本発明の陰極線管の製造方法の第１
例を説明する概略工程図である。
例を説明する概略工程図である。
【００５２】先ず、４１ｃｍのカラーディスプレイ管の
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
【００５３】パネルガラスの表面温度を４０°Ｃに加温
し（工程２）、下記組成（１）の高屈折率材料の溶液を
スプレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流
量２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付
け幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面
吹き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材
料の溶液使用量は２０ミリリットルである。
し（工程２）、下記組成（１）の高屈折率材料の溶液を
スプレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流
量２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付
け幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面
吹き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材
料の溶液使用量は２０ミリリットルである。
【００５４】高屈折率材料の溶液のスプレー後、パネル
ガラスの表面温度を３５°Ｃに調整し（工程４）、下記
組成（２）の低屈折率材料の溶液を５０ミリリットル注
入して１５０ｒｐｍで７０秒間スピンして振り切る（工
程５）。これを１６０°Ｃで３０分間焼成する（工程
６）。
ガラスの表面温度を３５°Ｃに調整し（工程４）、下記
組成（２）の低屈折率材料の溶液を５０ミリリットル注
入して１５０ｒｐｍで７０秒間スピンして振り切る（工
程５）。これを１６０°Ｃで３０分間焼成する（工程
６）。
【００５５】 組成（１）：高屈折率材料 Ａ．Ｔ．Ｏ．：平均粒径３００Å・・・・・・・・・・・２ｗｔ．％ エチルアルコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１６％ 分散剤（株式会社花王製；商品名デモールＮ）・・・・・０．０５％ エチレングリコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．１％ 水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・残部 組成（２）：低屈折率材料 Ｓｉ（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）4 ：平均重合度１０００・・・・１．１ｗｔ．％ 塩酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．００５ｗｔ．％ メチルアルコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・残部 これにより、平均粒径：２５μｍ、凹凸の最大差：４０
０Å、平均膜厚：８００Åの高屈折率層を下層とし、上
層に平均厚さ１１００Åの低屈折率層からなる前記図１
に示した二層の反射防止帯電防止膜が形成された。
０Å、平均膜厚：８００Åの高屈折率層を下層とし、上
層に平均厚さ１１００Åの低屈折率層からなる前記図１
に示した二層の反射防止帯電防止膜が形成された。
【００５６】この反射防止帯電防止膜の表面抵抗は８×
１０6 Ω／□、ボトム反射率は０．８％、ボトム波長は
５７０ｎｍであり、４００ｎｍでの反射率は３．２％、
７００ｎｍでの反射率は２．１％である。
１０6 Ω／□、ボトム反射率は０．８％、ボトム波長は
５７０ｎｍであり、４００ｎｍでの反射率は３．２％、
７００ｎｍでの反射率は２．１％である。
【００５７】図７は本発明の陰極線管の製造方法の第２
例を説明する概略工程図である。
例を説明する概略工程図である。
【００５８】先ず、４１ｃｍのカラーディスプレイ管の
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
【００５９】パネルガラスの表面温度を４０°Ｃに加温
し（工程２）、前記組成（１）の高屈折率材料の溶液を
スプレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流
量２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付
け幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面
吹き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材
料の溶液使用量は２０ミリリットルである。
し（工程２）、前記組成（１）の高屈折率材料の溶液を
スプレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流
量２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付
け幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面
吹き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材
料の溶液使用量は２０ミリリットルである。
【００６０】高屈折率材料の溶液のスプレー後、パネル
ガラスの表面温度を５０°Ｃに調整し（工程４）、下記
組成（３）の低屈折率材料の溶液を５０ミリリットル注
入して１５０ｒｐｍで７０秒間スピンして振り切る（工
程５）。これを１６０°Ｃで３０分間焼成する（工程
６）。
ガラスの表面温度を５０°Ｃに調整し（工程４）、下記
組成（３）の低屈折率材料の溶液を５０ミリリットル注
入して１５０ｒｐｍで７０秒間スピンして振り切る（工
程５）。これを１６０°Ｃで３０分間焼成する（工程
６）。
【００６１】 組成（３）：低屈折率材料 Ｓｉ（Ｃ2 Ｈ5 Ｏ）4 ：平均重合度１００・・・・０．９５ｗｔ．％ 塩酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．００７ｗｔ．％ メチルアルコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・残部 これにより、平均粒径：２５μｍ、凹凸の最大差：４０
０Å、平均膜厚：８００Åの高屈折率層を下層とし、上
層に平均厚さ９５０Åの低屈折率層からなる前記図２に
示した二層の反射防止帯電防止膜が形成された。
０Å、平均膜厚：８００Åの高屈折率層を下層とし、上
層に平均厚さ９５０Åの低屈折率層からなる前記図２に
示した二層の反射防止帯電防止膜が形成された。
【００６２】この反射防止帯電防止膜の表面抵抗は８×
１０6 Ω／□、ボトム反射率は０．９％、ボトム波長は
５３０ｎｍであり、４００ｎｍでの反射率は３．０％、
７００ｎｍでの反射率は２．０％である。
１０6 Ω／□、ボトム反射率は０．９％、ボトム波長は
５３０ｎｍであり、４００ｎｍでの反射率は３．０％、
７００ｎｍでの反射率は２．０％である。
【００６３】但し、この反射防止帯電防止膜を前記第１
例の反射防止帯電防止膜と目視評価の結果、やや散乱性
の強い膜となっており、斜めから見た場合の反射防止効
果は第１例より低ものであった。
例の反射防止帯電防止膜と目視評価の結果、やや散乱性
の強い膜となっており、斜めから見た場合の反射防止効
果は第１例より低ものであった。
【００６４】図８は本発明の陰極線管の製造方法の第３
例を説明する概略工程図である。
例を説明する概略工程図である。
【００６５】先ず、４１ｃｍのカラーディスプレイ管の
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
パネルガラスの表面を研磨材で研磨して汚れを除去し、
清浄化する（工程１）。
【００６６】パネルガラスの表面温度を４０°Ｃに加温
し（工程２）、スプレーイングシステム社製の２流体ノ
ズルを用いて前記組成（１）の高屈折率材料の溶液をス
プレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流量
２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付け
幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面吹
き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材料
の溶液使用量は２０ミリリットルである。
し（工程２）、スプレーイングシステム社製の２流体ノ
ズルを用いて前記組成（１）の高屈折率材料の溶液をス
プレー塗布する（工程３）。このスプレー塗布は液流量
２リットル／時間、空気流量２リットル／分、吹き付け
幅７０ｍｍでパネルガラスの表面を順次掃引し、全面吹
き付け後、さらに同様の吹き付けを行う。高屈折率材料
の溶液使用量は２０ミリリットルである。
【００６７】高屈折率材料の溶液のスプレー後、パネル
ガラスの表面温度を２５°Ｃに調整し（工程４）、前記
組成（３）の低屈折率材料の溶液を前記２流体ノズルを
用いて前記高屈折率材料のスプレー条件と同じ条件で吹
き付けて塗布する（工程５）。これを１６０°Ｃで３０
分間焼成する（工程６）。
ガラスの表面温度を２５°Ｃに調整し（工程４）、前記
組成（３）の低屈折率材料の溶液を前記２流体ノズルを
用いて前記高屈折率材料のスプレー条件と同じ条件で吹
き付けて塗布する（工程５）。これを１６０°Ｃで３０
分間焼成する（工程６）。
【００６８】これにより、前記第２例とほぼ同様の特性
をもつ反射防止帯電防止膜が得られた。
をもつ反射防止帯電防止膜が得られた。
【００６９】但し、この反射防止帯電防止膜は前記第２
例の反射防止帯電防止膜と比較してボトム反射率が０．
２％程度上昇し、散乱度もかなり増加してやや解像度の
劣化が見られた。
例の反射防止帯電防止膜と比較してボトム反射率が０．
２％程度上昇し、散乱度もかなり増加してやや解像度の
劣化が見られた。
【００７０】図９は高屈折率膜を構成する超微粒子の平
均粒径と散乱度の関係の説明図であって、横軸は平均粒
径（μｍ）、縦軸は高屈折率膜の散乱度（相対値）であ
る。図中、点線は凹凸の最大差が１００Åの場合、実線
は同４００Åの場合の各カーブを示す。
均粒径と散乱度の関係の説明図であって、横軸は平均粒
径（μｍ）、縦軸は高屈折率膜の散乱度（相対値）であ
る。図中、点線は凹凸の最大差が１００Åの場合、実線
は同４００Åの場合の各カーブを示す。
【００７１】また、図１０は高屈折率膜を構成する超微
粒子の凹凸の最大差とそのボトム反射率の関係の説明図
であって、横軸は凹凸の最大差（Å）、縦軸は高屈折率
膜のボトム反射率（％）である。
粒子の凹凸の最大差とそのボトム反射率の関係の説明図
であって、横軸は凹凸の最大差（Å）、縦軸は高屈折率
膜のボトム反射率（％）である。
【００７２】図中、点線は粒径が５μｍの場合、実線は
粒径が２０μｍの場合のカーブを示す。
粒径が２０μｍの場合のカーブを示す。
【００７３】光の散乱が少なくボトム反射が低い反射防
止帯電防止膜を得るには、粒径が５乃至８０μｍ、凹凸
の最大差が４００Å以下が望ましいが、凹凸の最大差が
１００Å以下になると反射カーブがＶ字型になり、反射
色が強くなって、実用的でない。
止帯電防止膜を得るには、粒径が５乃至８０μｍ、凹凸
の最大差が４００Å以下が望ましいが、凹凸の最大差が
１００Å以下になると反射カーブがＶ字型になり、反射
色が強くなって、実用的でない。
【００７４】また、粒径が１００μｍを越えると画面の
ザラツキが多くなり、望ましくない。
ザラツキが多くなり、望ましくない。
【００７５】上記の実施例では、高屈折率層の導電材料
としてＡ．Ｔ．Ｏを例として説明したが、Ｉ．Ｔ．Ｏを
用いた場合も同様の反射特性が得られ、表面抵抗が３乃
至８×１０4 Ω／□の反射防止帯電防止膜が得られた。
としてＡ．Ｔ．Ｏを例として説明したが、Ｉ．Ｔ．Ｏを
用いた場合も同様の反射特性が得られ、表面抵抗が３乃
至８×１０4 Ω／□の反射防止帯電防止膜が得られた。
【００７６】さらに、種々の金属の超微粒子を用いて同
様の方法で反射防止帯電防止膜を形成したところ、その
表面抵抗とボトム反射率は表１に示したようになった。
様の方法で反射防止帯電防止膜を形成したところ、その
表面抵抗とボトム反射率は表１に示したようになった。
【００７７】
【表１】
【００７８】なお、上記の他にアルミニウム、銀、ニッ
ケル、その他の物質を用い、同様の手法で反射防止帯電
防止膜を試作したところ、貴金属以外は雰囲気によって
不安定であった。
ケル、その他の物質を用い、同様の手法で反射防止帯電
防止膜を試作したところ、貴金属以外は雰囲気によって
不安定であった。
【００７９】また、上記実施例での反射防止帯電防止膜
を二層とした例で説明したが、本発明はこれに限るもの
ではなく、二層構造の上に低屈折率層と同じ凹凸膜を形
成した散乱性の大きい３層反射防止帯電防止膜とするこ
ともでき、さらにこの二層構造を基本とした四層以上の
多層膜構造とすることもできる。
を二層とした例で説明したが、本発明はこれに限るもの
ではなく、二層構造の上に低屈折率層と同じ凹凸膜を形
成した散乱性の大きい３層反射防止帯電防止膜とするこ
ともでき、さらにこの二層構造を基本とした四層以上の
多層膜構造とすることもできる。
【００８０】上記した各実施例によれば、パネルガラス
への外来光の反射を防止して高コントラスト化が図られ
ると共に、帯電を防止する反射帯電防止膜を備えた陰極
線管が得られる。
への外来光の反射を防止して高コントラスト化が図られ
ると共に、帯電を防止する反射帯電防止膜を備えた陰極
線管が得られる。
【００８１】さらに、本発明は陰極線管のみでなく、液
晶パネル、プラズマパネル、あるいはＥＬパネル、その
他の表示デバイスの画面にも適用できることは言うまで
もない。
晶パネル、プラズマパネル、あるいはＥＬパネル、その
他の表示デバイスの画面にも適用できることは言うまで
もない。
【００８２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
所謂ゾル・ゲル法を用いて基本的に二層となる反射帯電
防止膜の高屈折層の構造を凹凸膜とすることにより、従
来の二層の反射帯電防止膜の欠点である反射色の濃さを
低減し、反射カーブを平坦化することによって、４００
乃至７００ｎｍの平均反射率を低下することができ、視
認性が向上した陰極線管等の表示デバイスを提供でき
る。
所謂ゾル・ゲル法を用いて基本的に二層となる反射帯電
防止膜の高屈折層の構造を凹凸膜とすることにより、従
来の二層の反射帯電防止膜の欠点である反射色の濃さを
低減し、反射カーブを平坦化することによって、４００
乃至７００ｎｍの平均反射率を低下することができ、視
認性が向上した陰極線管等の表示デバイスを提供でき
る。
【００８３】また、高屈折率層をスプレー塗布する方法
を採用したことにより、コストの高い溶液の使用量を半
減することができ、その製造工程も簡素化でき、製造設
備のメンテナンスコストも大幅に低減することができ
る。
を採用したことにより、コストの高い溶液の使用量を半
減することができ、その製造工程も簡素化でき、製造設
備のメンテナンスコストも大幅に低減することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による陰極線管の第１実施例のパネルガ
ラス部分の構成を説明する部分断面模式図である。
ラス部分の構成を説明する部分断面模式図である。
【図２】図１の反射防止帯電防止膜を構成する高屈折率
層の表面状態を説明する拡大平面模式図である。
層の表面状態を説明する拡大平面模式図である。
【図３】本発明による陰極線管の第２実施例のパネルガ
ラス部分の構成を説明する部分断面模式図である。
ラス部分の構成を説明する部分断面模式図である。
【図４】二層反射防止帯電防止膜の典型的な反射特性の
説明図である。
説明図である。
【図５】凹凸部分の反射特性の説明図である。
【図６】本発明の陰極線管の製造方法の第１例を説明す
る概略工程図である。
る概略工程図である。
【図７】本発明の陰極線管の製造方法の第２例を説明す
る概略工程図である。
る概略工程図である。
【図８】本発明の陰極線管の製造方法の第３例を説明す
る概略工程図である。
る概略工程図である。
【図９】高屈折率膜を構成する超微粒子の平均粒径と散
乱度の関係の説明図である。
乱度の関係の説明図である。
【図１０】高屈折率膜を構成する超微粒子の凹凸の最大
差とそのボトム反射率の関係の説明図である。
差とそのボトム反射率の関係の説明図である。
【図１１】陰極線管の一例としてのシャドウマスク型カ
ラー陰極線管の構造を説明する概略断面図である。
ラー陰極線管の構造を説明する概略断面図である。
【図１２】陰極線管の外来光の反射防止構造の一例を説
明する図１１のＡ部分を拡大して示す断面模式図であ
る。
明する図１１のＡ部分を拡大して示す断面模式図であ
る。
１ パネルガラス ４ 蛍光体層 ２０ 反射防止帯電防止膜 ２１ 高屈折率層 ２１ａ 凸部 ２１ｂ 凹部 ２２ 低屈折率層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東條 利雄 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】内面に蛍光体層を被着してスクリーンを構
成するパネルガラスと、電子銃を収納するネックおよび
前記パネルガラスとネックとを連接するファンネルとで
真空外囲器を構成してなる陰極線管において、 前記パネルガラス外面に高屈折率層と低屈折率層の多層
膜で構成された反射帯電防止膜を有し、前記低屈折率層
が前記高屈折率層の上層に位置すると共に、前記高屈折
率層の前記低屈折率層側に凹凸を有することを特徴とす
る陰極線管。 - 【請求項２】前記低屈折率層の表面が平坦であることを
特徴とする請求項１記載の陰極線管。 - 【請求項３】前記低屈折率層の表面に凹凸を有すること
を特徴とする請求項１記載の陰極線管。 - 【請求項４】前記低屈折率層の凹凸の大きさが前記高屈
折率層の凹凸の大きさより小であることを特徴する請求
項３記載の陰極線管。 - 【請求項５】前記高屈折率層の形成材料が導電性酸化物
あるいは金属の超微粒子を含有し、前記低屈折率層の形
成材料がシリコン化合物あるいはフッ化物を含有するこ
とを特徴とする請求項１記載の陰極線管。
Priority Applications (12)
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|---|---|---|---|
| JP8228382A JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 陰極線管 |
| TW086111437A TW370674B (en) | 1996-08-29 | 1997-08-09 | Cathode-ray tube |
| EP01105416A EP1109195A1 (en) | 1996-08-29 | 1997-08-19 | Cathode ray tube |
| DE69708419T DE69708419T2 (de) | 1996-08-29 | 1997-08-19 | Kathodenstrahlröhre |
| EP97114308A EP0827180B1 (en) | 1996-08-29 | 1997-08-19 | Cathode ray tube |
| US08/916,668 US5973450A (en) | 1996-08-29 | 1997-08-22 | Cathode ray tube with multilayered high- and low-refractive index films thereon |
| MYPI97003968A MY125464A (en) | 1996-08-29 | 1997-08-28 | Cathode ray tube with multilayer high-and low-refractive films thereon |
| IDP973010A ID19212A (id) | 1996-08-29 | 1997-08-28 | Tabung sinar katoda |
| KR1019970042712A KR100239104B1 (ko) | 1996-08-29 | 1997-08-29 | 음극선관 |
| CN97118667A CN1113388C (zh) | 1996-08-29 | 1997-08-29 | 阴极射线管 |
| US09/395,354 US6163109A (en) | 1996-08-29 | 1999-09-14 | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
| US09/667,707 US6351062B1 (en) | 1996-08-29 | 2000-09-22 | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228382A JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1069866A true JPH1069866A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=16875598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8228382A Pending JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 陰極線管 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5973450A (ja) |
| EP (2) | EP1109195A1 (ja) |
| JP (1) | JPH1069866A (ja) |
| KR (1) | KR100239104B1 (ja) |
| CN (1) | CN1113388C (ja) |
| DE (1) | DE69708419T2 (ja) |
| ID (1) | ID19212A (ja) |
| MY (1) | MY125464A (ja) |
| TW (1) | TW370674B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002120311A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-23 | Jsr Corp | 構造体 |
| WO2008018201A1 (fr) * | 2006-08-11 | 2008-02-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Revêtement antireflet, plaque de polariseur, élément d'affichage à cristaux liquides et élément d'affichage |
| US8218108B2 (en) | 2006-09-28 | 2012-07-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display panel and liquid crystal display device |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1069866A (ja) * | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
| JPH10223160A (ja) | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
| EP0989443A3 (en) | 1998-09-22 | 2004-03-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and process for the preparation of the same |
| JP2001210260A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-08-03 | Hitachi Ltd | カラー受像管 |
| US6686431B2 (en) | 2000-11-01 | 2004-02-03 | Avery Dennison Corporation | Optical coating having low refractive index |
| EP1890315A3 (en) * | 2006-08-18 | 2009-07-01 | LG Electronics Inc. | Filter and plasma display device thereof |
| US10039610B2 (en) | 2008-08-08 | 2018-08-07 | Medline Industries, Inc. | Zip strip draping system and methods of manufacturing same |
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