JPH07312170A

JPH07312170A - 反射防止，帯電防止機能を持つ陰極線管とその製造方法

Info

Publication number: JPH07312170A
Application number: JP10000294A
Authority: JP
Inventors: Toshio Tojo; 利雄東條; Shoko Nishizawa; 昌紘西澤; Shigemi Hirasawa; 重實平澤; Norikazu Uchiyama; 則和内山
Original assignee: Hitachi Device Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Consumer Electronics Co Ltd; Japan Display Inc
Priority date: 1994-05-13
Filing date: 1994-05-13
Publication date: 1995-11-28

Abstract

(57)【要約】【目的】コントラストと解像度の低下がない反射防止と
帯電防止の機能をもつ膜をパネル表面に形成した陰極線
管とその製造方法を提供する。【構成】陰極線管のパネル１の表面上に、導電性高屈折
率の平滑な第１層３と、低屈折率の平滑な第２層４と、
前記第２層を不連続に被覆して形成した散乱性を有しな
い低屈折率の第３層部５とをこの順で積層形成してな
り、外光の干渉による反射防止機能と帯電防止機能とを
持たせた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、外光散乱による解像度
の低下およびコントラストの低下のない反射防止と帯電
防止の機能をもった陰極線管とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】テレビジョン受像機や情報端末機器のモ
ニターに用いられる陰極線管では、画像表示面での外光
の反射によって、解像度の低下やコントラストの低下等
の表示画像の品質が劣化することが知られている。

【０００３】従来、陰極線管の反射防止対策としては、
パネル表面に多層膜を形成し、この多層膜による光の干
渉を利用して反射を抑える多層干渉方式（ＡＲ方式）
と、パネル表面に微細な凹凸を形成して外光を散乱さ
せ、鏡面反射のみを低減させるノングレア方式とが知ら
れている。

【０００４】前者については、ＰＶＤ（Physical Vapor
Deposition)）法により、屈折率の異なる材料で３〜４
層から成る反射防止膜をガラスプレート上に形成し、そ
のガラスプレートを陰極線管のパネル表面へ貼付る方法
が一般的であった。

【０００５】この方法は低反射の波長領域を広くできる
ため優れた反射防止特性を示すが、高価であるという欠
点があるために一部の高級品種の陰極線管に適用されて
いるだけであった。

【０００６】また、高価な上記ＰＶＤ法ではなく、安価
なスピン塗布法で反射防止帯電防止機能を実現しようと
する試みもなされているが、パネル表面全面における均
一性を維持しようとするとスピン塗布法では２層が限度
であった。

【０００７】なお、２層膜でも光の干渉により反射率を
低減させることができるが、低反射の波長領域が狭くな
り、そのために反射光の着色が強くなって陰極線管とし
て好まれないものとなってしまう。

【０００８】後者については、パネル表面をサンドブラ
ストやフッ酸等によるエッチングを施すことで微細な凹
凸を形成する方法や、シリコンアルコキシドのアルコー
ル液をスプレー塗布し、その後の熱処理により微細な凹
凸を形成する方法がある。

【０００９】これらの方法は、安価で汎用性に優れてい
るが、表面の凹凸のために散乱反射が増し、これにより
黒の浮き上がり現象が起り、コントラストが低下する。
また透過光も僅かに散乱するため、解像度の低下が起る
という欠点もあった。

【００１０】これらの従来技術の問題を解決するものと
して、特開平４−３３４８５２号公報や特開平５−３４
３００８号公報に開示されたように、ＡＲ方式とノング
レア方式を組み合わせた方式も提案されている。

【００１１】これらの組合せ方式の反射防止膜は光学的
には２層で、下層が高屈折率層、上層が低屈折率層の反
射防止膜構造となっており、かつ上層の表面に凹凸を形
成してある。このため、上層の平滑部でＡＲ特性が得ら
れ、凹凸部でノングレア特性が得られる。

【００１２】帯電防止については、酸化すず等を主成分
とする導電膜を形成することが既知の技術としてあり、
反射防止膜との組合せとしても実用化されている。

【００１３】酸化すずは高屈折率材料であるため、２層
ＡＲ方式の第１層目として使用されるが、必ずしも十分
な反射特性が得られている訳ではない。これは酸化すず
層の屈折率が所望の値よりも低いためである。

【００１４】これを解決するために、酸化すずよりも屈
折率の高い酸化チタンや酸化ジルコニウムなどの材料を
添加することも行われている。しかしこれらの多くの材
料は絶縁物質であるため導電性を低下させてしまう。

【００１５】また、Ｖ字型の分光反射スペクトルの最小
反射率は低くなるが、反面Ｖ字の傾斜が大きくなり、低
反射波長の領域が狭くなるのに対して低反射域の外側で
反射が強くなるため反射色が濃いものとなり、陰極線管
として好まれない外観となっていた。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
においては、ＰＶＤ法によるＡＲ方式は高価であるこ
と、安価な塗布による２層反射防止膜は導電性との両立
の難しさと反射色が濃いという問題であった。

【００１７】また、ノングレア方式は外光による管面の
黒の浮き上がりによりコントラストが低下したり解像度
が低下するという問題があった。

【００１８】そして、上記した特開平４−３３４８５２
号公報や特開平５−３４３００８号公報に記載のよう
に、ＡＲ方式とノングレア方式を組み合わせた方式にお
いても、ノングレアの機能があるために黒の浮き上がり
や解像度の低下は避けられない。

【００１９】本発明の目的は、ＡＲ方式のコストと導電
性と反射色の問題及びノングレア方式のコントラスト低
下と解像度低下の問題を解決し、安価で反射防止効果が
高く、コントラストと解像度の低下がない反射防止と帯
電防止の機能をもつ膜をパネル表面に形成した陰極線管
とその製造方法を提供することにある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の第１の発明は、陰極線管のパネル
表面上に、導電性高屈折率の平滑な第１層と、低屈折率
の平滑な第２層と、前記第２層を不連続に被覆して形成
した散乱性を有しない低屈折率の第３層とをこの順で積
層形成してなり、外光の干渉による反射防止機能と帯電
防止機能とを持たせたことを特徴とする。

【００２１】請求項２に記載の第２の発明は、前記第３
層の前記第２層を被覆する部分の表面が平滑であり、前
記第３層による第２層の表面被覆率をＣとするとき、上
記Ｃが０．１≦Ｃ≦０．５の関係をもつことを特徴とす
る。

【００２２】請求項３に記載の第３の発明は、前記第３
層の第２層を被覆する部分の表面が緩やかな傾斜をも
ち、前記表面被覆率Ｃが０．１≦Ｃ≦０．８の関係をも
つことを特徴とする。

【００２３】請求項４に記載の第４の発明は、前記導電
性高屈折率の第１層が酸化すずを主成分とし、これに酸
化アンチモン、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ジル
コニム、カ−ボンブラック、酸化けい素、金属の超微粒
子の中から選ばれた一つまたはそれ以上の成分を含み、
前記低屈折率の第２層が酸化けい素、あるいはこれとフ
ッ化マグネシムまたはフッ化カルシウムの混合物を成分
とすることを特徴とする。

【００２４】請求項５に記載の第５の発明は、補強体を
具備した陰極線管のパネル表面に前記第１層および前記
第２層をスピン塗布法により形成し、前記第３層をスプ
レ−塗布法により形成した後、１２０〜１８０°Ｃで熱
処理を施すことを特徴とする。

【００２５】請求項５に記載の第５の発明は、補強体を
具備した陰極線管のパネル表面に前記第１層をスピン塗
布法により形成し、前記第２層および前記第３層をスプ
レー塗布法により形成した後、１２０〜１８０゜Ｃの熱
処理を施して陰極線管を製造することを特徴とする。

【００２６】すなわち、本発明は、第１層に例えば酸化
すずを主成分とする導電性高屈折率層を形成し、その上
に第２層として例えば酸化けい素を主成分とする低屈折
率層を形成する。さらにその上に第２層を不連続に被覆
して散乱性がなく第２層と同様の低屈折率の第３層を形
成する。

【００２７】第１層は導電性が許容できる範囲で酸化チ
タン等の高屈折率材料を添加し、低反射の条件に合わす
ことが望ましい。この条件での２層膜では反射色は濃い
ものであるが、第３層でこれが解決できる。

【００２８】平滑で光散乱性のない第３層の有無によっ
て、第２層部と第３層部からなる低屈折率層の厚さに差
をつけることができる。この第２層部と第３層部では最
小反射率の波長λbが異なり、形成した膜全体としては
これらの合成スペクトルとなる。第２層部と第３層部の
λbの組合せにより，所謂Ｖ字型スペクトルの傾斜を緩
くすることができ、その結果、反射色を薄くすることが
できる。

【００２９】第３層の光散乱性を防止するために種々検
討した結果、粒子の断面形状を表１のＮｏ．２、３のよ
うにし、第３層の厚さを２０ｎｍ以下にすることによ
り、実質的に光散乱性のない膜を形成できる。

【００３０】

【表１】

【００３１】表１に示す断面の粒子について光散乱度を
変角光度計やヘーズメータ等で測定したが、平滑面との
差がなく、目視で種々の角度から見ての相対評価で行
い、数値化したものが表１の光散乱度（相対値）であ
る。

【００３２】この値が１２０以下であれば、陰極線管の
解像度低下やコントラスト低下の問題はない。本発明で
は表１のＮｏ．２，３に示す粒子を形成する。

【００３３】以上の手段により、前記の目的を達成する
ことができる。

【００３４】

【作用】上記構成としたことにより、本発明による陰極
線管表面の膜は、物理的には３層膜であるが、光学的に
は２層膜である。第３層のない２層部と第３層のある３
層部は両方とも２層膜特有のＶ字型の分光反射スペクト
ルになるが、最小反射率を示す波長λbが異なる。その
ため膜全体の反射スペクトルとしては各々の面積比を掛
け合わせた合成スペクトルとなる。これにより２層部単
独や３層部のＶ字型反射スペクトルの傾斜よりも緩やか
な合成反射スペクトルとなり、反射色を薄くすることが
できる。

【００３５】つまり２層部のλbと３層部のλbを所定の
範囲で組み合わせることにより、第１層と第２層の光学
膜厚を変えたことと同じ効果が得られるため、第１層の
材料の組合せの自由度が増し、反射防止と導電性を両立
することが容易にできるようになる。さらに第３層は散
乱性がないため、コントラストの低下や解像度の低下は
ない。

【００３６】

【実施例】

〔実施例１〕図１は本発明による陰極線管の第１実施例
を説明するパネル部の要部断面図、また図２は本発明に
よる陰極線管の第１実施例を説明するパネル部の要部平
面図であって、１はパネルガラス、２は蛍光面、３は第
１層、４は第２層、５は第３層部、６は第２層の露出
部、７は第３層の表面、８は第２層での反射光路、９は
第３層での反射光路である。

【００３７】この実施例では、陰極線管のパネル部を構
成するパネルガラス１の外表面の全面にに高屈折率の第
１層を形成し、第１層の表面全面に低屈折率の第２層を
全面に形成する。そして、さらに、第２層を不連続に覆
って低屈折率の第３層を形成してなる。

【００３８】すなわち、第２層の表面は露出部６と第３
層の被覆部（図２で表面７が見えている）とからなり、
外光は第２層での反射経路８と第３層部５の被覆部での
反射経路９を取って反射する。

【００３９】第１層３の屈折率ｎ₁は１．６５〜１．７
０、第２層４と第３層部５の屈折率ｎ₂は１．４４〜
１．４８である。また、第１層３の厚さは８０〜９０ｎ
ｍ、第２層４の厚さは８０〜９５ｎｍ、第３層部５の厚
さは５〜１５ｎｍである。なお、第３層部５は微粒子で
なり、その平均粒径は５〜２０μｍである。また、第３
層部５による第２層４の表面被覆率Ｃは０．１≦Ｃ≦
０．５の範囲にあるのが望ましく、本実施例では約０．
３（約３０％）である。

【００４０】図３は本実施例による反射防止，帯電防止
膜を備えた陰極線管パネルの分光反射スペクトルの説明
図であって、横軸に波長（ｎｍ）を、縦軸に反射率％を
とって示す。

【００４１】この分光反射スペクトルはパネル上に形成
した第１層と第２層とからなる２層部と第３層部を含む
３層全体の反射率である。

【００４２】同図において、１０は２層部での反射スペ
クトル、１１は第３層部での反射スペクトル（推定）、
１２は３層膜の合成反射スペクトル、１３は３層膜の最
小反射波長と同じになる２層膜の反射スペクトルを示
す。

【００４３】図中、第３層部を有しない２層膜の分光ス
ペクトル１３に対して、３層膜の反射スペクトルの方が
若干ではあるが、Ｖ字型の傾斜が緩やかなっており、反
射色も２層膜の場合の濃赤紫色に対して３層膜では薄紫
色となっている。

【００４４】図４は本発明による陰極線管の製造方法の
第１実施例を説明する概略工程図であって、上記陰極線
管の第１実施例の製造に対応する。

【００４５】同図において、先ず、陰極線管のパネル表
面を研磨した後、研磨剤を完全に除去し、清浄な表面と
する（工程１）。

【００４６】次に、パネル表面の温度を約４０゜Ｃに調
整し、酸化すずと酸化チタンを固形分とするアルコール
液をスピン塗布法により塗布し（工程２）、４０〜５０
°Ｃで乾燥する（工程３）。これにより第１層３が形成
される。

【００４７】上記の工程で形成した第１層の上にシリコ
ンアルコキシドのアルコール溶液をスピン塗布法により
塗布し（工程４）、４０〜５０°Ｃで乾燥して（工程
５）第２層を形成する。

【００４８】第２層を形成した後、パネル表面の温度を
３０〜６０°Ｃ、雰囲気温度を２５±８°Ｃ、相対湿度
２５〜６５％ＲＨ、絶対湿度５〜２０ｇ／ｍ³とする雰
囲気調整（Ｉ）を施し（工程６）、上記第２層とは異な
る組成のシリコンアルコキシドのアルコール液、すなわ
ちシリコンエトキシドが１〜４％、硝酸０．１〜２％、
水分２５〜６０％、残部をエタノールからなる塗布液を
スプレー塗布法で塗布する（工程７）。

【００４９】その後、１２０〜１８０゜Ｃでの熱処理を
施し（工程８）、反射防止，帯電防止膜を形成する。

【００５０】本実施例により形成された反射防止，帯電
防止膜を持つ陰極線管のパネルは前記図１，図２に示し
たものとなり、その反射防止，帯電防止効果は前記図３
で説明したとおりである。

【００５１】〔実施例２〕図５は本発明による陰極線管
の第２実施例を説明するパネル部の要部断面図、また図
６は本発明による陰極線管の第２実施例を説明するパネ
ル部の要部平面図であって、前記図１，図２と同一符号
は同一部分に対応し、５’は第３層部、７’は第３層の
表面である。

【００５２】図５に示したように、本実施例による第３
層部５’の被覆部（７’）は第２層の露出部６に関して
緩やかな傾斜を有している。また、図６に示したよう
に、第３層部５’による第２層の被覆率Ｃは０．１≦Ｃ
≦０．８の範囲にあるのが望ましく、本実施例では約
０．６（約６０％）である。

【００５３】図７は本実施例による反射防止，帯電防止
膜を備えた陰極線管パネルの分光反射スペクトルの説明
図であって、横軸に波長（ｎｍ）を、縦軸に反射率％を
とって示す。

【００５４】この分光反射スペクトルはパネル上に形成
した第１層と第２層とからなる２層部と第３層部を含む
３層全体の反射率である。

【００５５】同図において、１０は２層部での反射スペ
クトル、１１’は第３層部の最も厚い部分での反射スペ
クトル（推定）、１２は３層膜の合成反射スペクトル、
１３は３層膜の最小反射波長と同じになる２層膜の反射
スペクトルを示す。

【００５６】図中、第３層部５’の第２層被覆部７’の
傾斜により、最小反射波長λｂは連続的に変化する。こ
のときの合成反射スペクトル１２は上記最小反射波長λ
ｂが連続的に変化しているために、前記実施例に比べて
反射率の増加が抑制される。図８は本発明による陰極線
管の製造方法の第２実施例を説明する概略工程図であっ
て、上記陰極線管の第２実施例の製造に対応する。

【００５７】同図において、先ず、陰極線管のパネル表
面を研磨した後、研磨剤を完全に除去し、清浄な表面と
する（工程１）。

【００５８】次に、パネル表面の温度を約４０゜Ｃに調
整し、酸化すずと酸化チタンを固形分とするアルコール
液をスピン塗布法により塗布し（工程２）、４０〜５０
°Ｃで乾燥する（工程３）。これにより第１層３が形成
される。

【００５９】上記の工程で形成した第１層の上にシリコ
ンアルコキシドのアルコール溶液をスピン塗布法により
塗布し（工程４）、４０〜５０°Ｃで乾燥して（工程
５）第２層を形成する。

【００６０】第２層を形成した後、パネル表面の温度を
２５〜５０°Ｃ、雰囲気温度を２５±５°Ｃ、相対湿度
４０〜６５％ＲＨ、絶対湿度８〜２０ｇ／ｍ³とする雰
囲気調整（II）を施し（工程６）、上記第２層とは異な
る組成のシリコンアルコキシドのアルコール液、すなわ
ちシリコンエトキシドが１〜４％、硝酸０．１〜２％、
水分２５〜６０％、残部をエタノールからなる塗布液を
スプレー塗布法で塗布する（工程７）。

【００６１】その後、１２０〜１８０゜Ｃでの熱処理を
施し（工程８）、反射防止，帯電防止膜を形成する。

【００６２】本実施例により形成された反射防止，帯電
防止膜を持つ陰極線管のパネルは前記図５，図６に示し
たものとなり、その反射防止，帯電防止効果は前記図７
で説明したとおりである。

【００６３】〔実施例３〕図９は本発明による陰極線管
の製造方法の第３実施例を説明する概略工程図であっ
て、上記第１実施例と略ゝ同等の陰極線管の製造に対応
する。

【００６４】同図において、先ず、陰極線管のパネル表
面を研磨した後、研磨剤を完全に除去し、清浄な表面と
する（工程１）。

【００６５】次に、パネル表面の温度を約４０゜Ｃに調
整し、酸化すずと酸化チタンを固形分とするアルコール
液をスピン塗布法により塗布し（工程２）、４０〜５０
°Ｃで乾燥する（工程３）。これにより第１層３が形成
される。

【００６６】上記の工程で第１層を形成したパネルの表
面温度を２５〜４０°Ｃ、温度２５±５°Ｃ、相対湿度
４０〜６５％、絶対湿度８〜２０ｇ／ｍ³に雰囲気調整
（III ）を施し（工程４）、第３層を前記実施例１と同
様の塗布液を用いて同様のスプレー塗布法で第２層を塗
布して（工程５）乾燥する（工程６）。

【００６７】そして、引続き第３層を前記実施例１と同
様にスプレー塗布し（工程７）、１２０〜１８０゜Ｃで
の熱処理を施して（工程８）、反射防止，帯電防止膜を
形成する。

【００６８】本実施例により形成された反射防止，帯電
防止膜を持つ陰極線管のパネルは前記図１，図２に示し
たものとなり、その反射防止，帯電防止効果は前記図３
で説明したとおりである。

【００６９】〔実施例４〕図１０は本発明による陰極線
管の製造方法の第４実施例を説明する概略工程図であっ
て、先ず、第１層目を実施例１と同様にスピン塗布法で
塗布し（工程１，２，３）、第２層目に色素を含むアル
コール液をスピン塗布法又はスプレー塗布法で塗布、乾
燥する（工程４，５）。

【００７０】この第２層塗布液組成は、シリコンエトキ
シが１．５％、フタロシアニンブルー顔料が０．１５
％、塩酸が０．１５％、水分が５８．２％、残部がエタ
ノールからなる。

【００７１】次に、第３層目は前記実施例２の塗布液と
スプレー条件で膜を形成することにより（工程６，７，
８）、光選択吸収性をもつ高コントラストの反射防止帯
電防止膜が形成できた。

【００７２】なお、上記各実施例では、第２層、第３層
目のスプレー塗布液に含まれるアルコールにエタノール
を用いたが、ケトン類やエステル類等で代替できること
及び触媒の硝酸、塩酸は酢酸、硫酸およびその他の有機
酸で代替できることは言うまでもない。

【００７３】また、実施例４では色素としてフタロシア
ニンブルー顔料を用いたが、顔料の代わりにアシッドレ
ッド、アンスラキノン系ブルー染料、トリフェニルメタ
ン系のブルー染料を用いて任意の波長領域に吸収を持た
せることができることも同様である。

【００７４】図１１は本発明を適用したカラー陰極線管
の概略構成を説明する部分断面図であって、２０はパネ
ル、２１はファンネル、２２はネック、２３は電子銃、
２４はシャドウマスク、２５は蛍光面、２６は偏向ヨー
ク、２７は反射防止，帯電防止膜、２８はテンションバ
ンドである。

【００７５】同図において、ネック２２に収納された電
子銃２３から発射された３本の電子ビームＲ，Ｇ，Ｂは
偏向ヨーク２６で水平と垂直の２方向に偏向されてシャ
ドウマスク２４を介してパネル２０の内面に形成された
蛍光面２５に射突し、所要のカラー画像を再生する。

【００７６】パネル２０の表面には前記した本発明によ
る反射防止，帯電防止膜２７が形成されており、外光の
反射を防止し、かつ静電気の帯電を防止して高品質の画
像を生成することができる。

【００７７】なお、上記実施例では、光学的２層膜を主
体として説明したが、多層反射防止膜の最外層と同じ物
質を用いて光散乱性のない層を部分的に形成することに
より、干渉による反射色の濃さを低減できる。

【００７８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
安価な塗布法であるスピン塗布法あるいはスプレー塗布
法で直接パネル表面に反射防止，帯電防止膜を形成でき
る。

【００７９】上記反射防止，帯電防止膜はＡＲ方式で反
射を低減し、凹凸による散乱がないため解像度低下やコ
ントラスト低下がない。また、光学的には２層膜である
が物理的に３層膜であることにより、２層膜特有の濃い
反射色を避けることができ、高解像度、かつ高コントラ
ストの陰極線管を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による陰極線管の第１実施例を説明する
パネル部の要部断面図である。

【図２】本発明による陰極線管の第１実施例を説明する
パネル部の要部平面図である。

【図３】本発明による陰極線管の第１実施例による反射
防止，帯電防止膜を備えた陰極線管パネルの分光反射ス
ペクトルの説明図である。

【図４】本発明による陰極線管の製造方法の第１実施例
を説明する概略工程図である。

【図５】本発明による陰極線管の第２実施例を説明する
パネル部の要部断面図である。。

【図６】本発明による陰極線管の第２実施例を説明する
パネル部の要部平面図である。

【図７】本発明による陰極線管の第２実施例による反射
防止，帯電防止膜を備えた陰極線管パネルの分光反射ス
ペクトルの説明図である。

【図８】本発明による陰極線管の製造方法の第２実施例
を説明する概略工程図である。

【図９】本発明による陰極線管の製造方法の第３実施例
を説明する概略工程図である。

【図１０】本発明による陰極線管の製造方法の第４実施
例を説明する概略工程図である。

【図１１】本発明を適用したカラー陰極線管の概略構成
を説明する部分断面図である。

【符号の説明】

１パネルガラス２蛍光面３第１層４第２層５第３層部５’第３層部６第２層の露出部７第３層の表面７’ 第３層の表面８第２層での反射光路９第３層での反射光路 10 ２層部での反射スペクトル 11 ３層部での反射スペクトル（推定） 11’ ３層部の最も厚い部分での反射スペクトル（推
定） 12 ３層膜の合成反射スペクトル 13 ３層膜の最小反射波長と同じになる２層膜の反射ス
ペクトル。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平澤重實千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者内山則和千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陰極線管のパネル表面上に、導電性高屈折
率の平滑な第１層と、低屈折率の平滑な第２層と、前記
第２層を不連続に被覆して形成した散乱性を有しない低
屈折率の第３層とをこの順で積層形成してなり、外光の
干渉による反射防止機能と帯電防止機能とを持たせたこ
とを特徴とする陰極線管。
【請求項２】請求項１において、前記第３層の前記第２
層を被覆する部分の表面が平滑であり、前記第３層によ
る第２層の表面被覆率をＣとするとき、上記Ｃが０．１≦Ｃ≦０．５の関係をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項３】請求項１において、前記第３層の第２層を
被覆する部分の表面が緩やかな傾斜をもち、前記表面被
覆率Ｃが０．１≦Ｃ≦０．８の関係をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項４】請求項２または３において、前記導電性高
屈折率の第１層が酸化すずを主成分とし、これに酸化ア
ンチモン、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ジルコニ
ム、カ−ボンブラック、酸化けい素、金属の超微粒子の
中から選ばれた一つまたはそれ以上の成分を含み、前記
低屈折率の第２層が酸化けい素、あるいはこれとフッ化
マグネシムまたはフッ化カルシウムの混合物を成分とす
ることを特徴とする陰極線管。
【請求項５】前記請求項１〜４の陰極線管の製造方法に
おいて、補強体を具備した陰極線管のパネル表面に前記第１層お
よび前記第２層をスピン塗布法により形成し、前記第３
層をスプレ−塗布法により形成した後、１２０〜１８０
°Ｃで熱処理を施すことを特徴とする陰極線管の製造方
法。
【請求項６】請求項１〜４の陰極線管の製造方法におい
て、補強体を具備した陰極線管のパネル表面に前記第１層を
スピン塗布法により形成し、前記第２層および前記第３
層をスプレー塗布法により形成した後、１２０〜１８０
゜Ｃの熱処理を施すことを特徴とする陰極線管の製造方
法。