CN1113388C - 阴极射线管 - Google Patents
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Abstract
一种阴极射线管,其真空外壳包括:一个玻璃面板1,面板的内表面敷有荧光膜4,从而形成荧光屏;一个管颈部分,内装电子枪;和一个漏斗部分,将玻璃面板与管颈部分连接。玻璃面板的外表面上形成有多层防反射防静电的薄膜,该薄膜由折射率为1.6至2.2的高折射率薄膜和折射率为1.3至1.58的低折射率薄膜构成。高折射率薄膜夹在面板外表面与低折射率薄膜之间,高折射率薄膜与低折射率薄膜之间具有平均直径5至80μm,高度为10至40nm的不平整区。
Description
本发明涉及阴极射线管,特别涉及防止外部光反射到玻璃屏盘上,以提高对比度、并防止静电电荷的阴极射线管。
用在电视接收机或个人计算机监视器中的阴极射线管中,真空外壳由构成荧光屏或图像显示屏的玻璃屏盘,内装电子枪的颈部,与玻璃屏盘和颈部连接的漏斗部分,和荧光屏内表面上形成的、由电子枪发射的经过调制的电子束激励以显示所需图像的荧光膜构成。
图11是作为这类阴极射线管一个子的彩色阴极射线管的荫罩的结构示意图。图11中,数字1是指玻璃屏盘,2是颈部;3是漏斗部分;4是荧光膜;5是荫罩;6是荫罩框架;7是荫罩支承机构;8是支承销;9是内磁屏蔽;10是阳极钮;11是内导体涂层;12是偏转器;13是电子枪;14是电子束(红,绿,蓝)。图11所示阴极射线管中,真空外壳由构成荧光屏的玻璃屏盘1、内装电子枪的颈部2连接玻璃屏盘和颈部的漏斗部分3构成的。该真空外壳内表面涂有内导体涂层11,用于给阳极钮10、荧光屏和电子枪提供高阳极电压。
荫罩5焊到荫罩框架6并悬挂在带有埋在玻璃屏盘1的裙部内壁中的支承销8的支承机构7上,因此,它固定在与玻璃屏盘1的内表面上形成的荧光膜4相隔预定的小间隙处。
设置内磁屏蔽9,以屏蔽外部磁场,如地球磁场对用电子束14显示的图像显示的有害影响,内磁屏蔽9焊到荫罩框架6上并由荫罩框架6固定。
漏斗部分3的颈部一侧上安装偏转器12,用于建立使电子枪发射的电子束从中通过的水平磁场和垂直磁场,使从电子枪13发射的3束电子束按水平方向和垂直方向偏转,以按两个方向扫描荧光膜,由此显示所需图像。
通常,该阴极射线管设置有抗反射抗静电电荷膜,用于防止入射到玻璃屏盘上的或入射到图像显示屏上的外部光由此反射,从而防止图像显示的对比度损坏,防止玻璃屏盘静电充电。
图12是图11的局部放大剖视图,用于展示阴极射线管抗外部光反射结构的一个例子。图12中,数字42指示黑色矩阵;43是荧光屏;44是金属敷层;51是荫罩的电子束通孔;符号R、G和B是各个颜色的电子束轨迹;数字20是防反射抗静电电荷膜;23是从荧光膜发射的光;24是外部光线;数字25和26指外部光的反射光。与图11中相同的数字指示相同的部分。
图12中电子枪发射的3束电子束(R、G和B)用荫罩5的电子束通孔51对3个颜色(R、G和B)用的各个荧光膜43选择颜色直至电子束照射到荧光膜4上。
电子束射入荧光屏43使其激励发光,并经过玻璃屏盘1发射。玻璃屏盘表面上形成防反射抗静电电荷膜20。达到玻璃屏盘1的防反射抗静电电荷膜20的外部光25经防反射抗静电电荷膜20中的吸收或干扰而使光能得以抑制,因此,防止了外部光在表面侧的正常反射,同时防止了防反射抗静电电荷膜20表面的漫反射26。
可用任何一种方法形成该防反射抗静电电荷膜,但通常用所称的“溶胶-凝胶法”形成它。
具体地说,(1)日本特许公开334853/1992公开了形成两层防反射抗静电电荷膜的方法,把超细(直径不大于几十nm)颗粒导电氧化物,如A、T、O即含氧化锑的氧化锡,或I、T、O,即含氧化铟的氧化锡,能形成高折射率膜的导电氧化物,分散在乙醇中形成溶液,用所称的“旋涂法”形成厚度为60至100nm的平坦下层膜、在已形成的膜上用烷氧基硅的水溶液用旋涂或喷涂去形成厚度为80至130nm的均匀上层膜,由此,形成混合物膜。
(2)日本特许公开343008/1993公开了在阴极射线管的玻璃屏盘上用化学汽相淀积法(以下缩写成CVD)形成含锑的有机成无机锡化物膜的方法,构成高折射率的A、T、O膜,在A、T、O膜上均匀涂敷烷氧基硅水溶液,形成厚度为80至100nm的低折射率膜,在第2层膜上喷涂厚度为10至50nm的烷氧基硅水溶液,形成低折射率的第3层漫射膜,减小第2层防反射抗静电电荷膜中存在的颜色反射密度和降低400至700nm直观区中的折射率,并使第3层膜不平整。
上述的现有技术中,单独均匀构成结构中的高反射率膜和其上的低反射率膜,并与两层防反射膜的理论结构基本一致(如PP:100 to 103,OPTICALTHIN FILM Written lay kozo lshiguro et al.1986,KYDRITSU SHUPPAN所述)。结果,结构有V形反射特征,反射波谱是,400至700nm可视区两端的两个波长的反射率大于中心波长的反射率。
但是,可视区中的反射率减小时,两端的两个波长处的反射率大于中心波长处的反射率。结果,反射光颜色,即反射色剧增;当反射色减小时,反射率上升。为减小这种缺陷,使第3层膜形成为厚度小的和折射率低的不平整膜。但是,不平整区的高度小,形成密度低,即,每单位面积的凸起和凹坑数大时,这种作用不足。当不平整区的高度大和形成密度大时,漫射强度增大,使阴极射线管的清晰度下降。
由于用旋涂或CVD法形成高折射率膜,这就出现了工艺复杂和制造成本增大的问题。
为克服现有技术中存在的上述缺陷,本发明的目的是,提供一种有防反射抗静电电荷膜的阴极射线管,它能防止外部光反射到玻璃屏盘上。防止静电电荷,提高对比度。
按本发明的阴极射线管,玻璃屏盘的外表面上形成的多层防反射抗静电电荷膜包括折射率为1.6至2.2的高折射率膜和折射率为1.3至1.58的低折射率膜。高折射率膜夹在玻璃屏盘的外表面与低折射率膜之间,高折射率膜与低折射率膜之间的界面处形成平均直径为5至80μm不平整区。界面高度为10至40nm。低折射率膜表面的不平整度小于高折射率膜与低折射率膜之间的不平整区的平均粗糙度R2,或低折射率膜的表面是均匀的。
按本发明的阴极射线管,用依次为旋涂步骤,或喷涂步骤和喷涂步骤形成的防反射抗静电电荷膜构成高折射率膜和低折射率膜。
按本发明第1方案,设置包括真空外壳的阴极射线管,它包括:玻璃屏盘,它的内表面涂敷荧光膜,构成荧光屏;内装电子枪的颈部;和连接玻璃屏盘和颈部的漏斗部分,其中,在玻璃屏盘外表面上形成的折射率为1.6至2.2的高折射率膜和折射率为1.3至1.58的低折射率膜,设置成高折射率膜夹在玻璃屏盘外表面与低折射率膜之间,高折射率膜与低折射率膜之间的界面处设置平均直径是5至80μm和高度为10至40nm的不平整区。
按本发明第2方案,还使第1方案的低折射率膜表面变得平整,平均粗糙度不大于10nm。
按该结构,反射特征曲线变得平坦,减小了400至700nm区的平均反射率,并减弱了反射光强度与波长的依赖关系,提高了阴极射线管的图像清晰度。
按本发明第3方案,第1方案的低折射率膜表面上的平均粗糙度Rz大于10nm。由于该结构,使阴极射线管的图像清晰度因为外部光从低折射率膜的漫射而得到更好提高。
按本发明第4方案,低折射率膜的表面平均粗糙度Rz小于高折射率膜与低折射率膜之间的不平整区的平均粗糙度Rz。由于这种结构,由于外部光从低折射率膜的漫射而使阴极射线管的图像清晰度提高。这里,如果低折射率膜的表面平均粗糙度Rz和单位面积的凸起和凹坑数小于低折射率膜与高折射率膜之间的界面平均粗糙度和单位面积的凸起和凹坑数,则阴极射线管的图像清晰度会更好。
按本发明第5方案,形成高折射率膜用的材料包含导电氧化物或金属颗粒,形成低折射率膜用的材料包含硅化物或诸如MgF2或CaF2的氟化物。由于这种结构,反射光强度与温度的依赖关系减弱,并使反射特性曲线变得平坦,反射的颜色密度减小,提高了阴极射线管的图像清晰度。这里,包含的导电氧化物或金属颗粒可以是平均直径小于70nm的超细颗粒。
按本发明,用所称的“溶胶-凝胶法”,构成基本上是两层的防反射抗静电电荷膜的高折射率膜结构,该结构中,玻璃屏盘和与之相对设置的高折射率膜之间的界面形成不均匀膜,使现有技术的两层防反射抗静电电荷膜缺陷的反射光密度减小,使反射曲线变得平坦。结果,能提供如阴极射线管的显示装置,它能减小400-700nm的平均反射率,能减小光漫射,提高显示屏的对比度,和图像清晰度。
按本发明,能用喷涂法构成高折射率膜,以减少价格昂贵的溶液消耗量,使制造工艺简化,制造成本降低。
图1是说明按本发明实施例的阴极射线管的玻璃屏盘结构的部分剖视示意图;
图2是说明构成图1所示防反射抗静电电荷膜的高折射率层膜的表面状态的放大顶平面图;
图3是说明按本发明又一实施例的阴极射线管的玻璃屏盘结构的部分剖视示意图;
图4是两层防反射抗静电电荷膜的反射特性曲线图;
图5是不平整区的反射特性曲线图;
图6是按本发明的阴极射线管的制造方法工艺流程图;
图7是按本发明的阴极射线管制造方法另一例的工艺流程图;
图8是按本发明的阴极射线管制造方法又一例的工艺流程图;
图9是高折射率膜的不平整区的平均直径与不均匀细颗粒的漫射强度的关系曲线图;
图10是高折射率膜的不平整区的最大高度与不均匀细颗粒的底反射率的关系曲线图;
图11是作为阴极射线管的一个实例的荫罩彩色阴极射线管的结构剖视图;
图12是说明阴极射线管的外部光抗反射结构的一个实例的图11的A的放大剖视示意图。
结合本发明实施例详细说明本发明如下。
图1是说明按本发明第1实施例的阴极射线管的玻璃屏盘结构的部分示意图。图1中,数字1是指玻璃屏盘;4是荧光膜;20是防反射抗静电膜;21是高折射率膜;21a是凸起;21b是凹坑;22是低折射率膜。
该实施例中,高折射率膜21的表面不平整;上面盖一个表面平坦或平坦的低折射率膜22。
在玻璃屏盘1的表面上用喷涂法喷涂包含金属氧化物超细颗粒的乙醇液形成高折射率膜21。控制喷涂材料中含的组分和涂敷条件,在高折射率的表面上形成所需的不平整区。这里,金属氧化物超细颗粒的不平整区的平径是70nm。
旋涂或喷涂烷氧基硅的乙醇溶液形成低折射率膜22。
图2是说明构成图1所示防反射抗静电电荷膜的高折射率膜的表面状顶平面放大图。如图2所示,使高折射率膜21的表面构成不平整区,其中起21a包围凹坑21b,并涂有低折射率膜22。由于有该结构,反射特性曲得平坦,使400至700nm的平均反射率减小,减小了反射光颜色密度,提阴极射线管的图像清晰度。
图3是说明按本发明第2实施例的阴极射线管的玻璃屏盘结构的部分示意图。图中与图1中相同的数字指示相同的部分。
本实施例中,构成防反射抗静电电荷膜20的上层的低折射率膜22的表面有与位于其下的高折射率膜21的不平整区相应的不平整区。
由于这种结构,由于在低折射率膜22的表面上形成了不平整区,而造成入射光的漫射作用,因此使反射特性曲线变得平坦,400至700nm的平均反射率下降,反射光的颜色密度减小,提高了阴极射线管的图像清晰度。
图4是两层防反射抗静电电荷膜的反射特性曲线图。图4中的横坐标表示波长(nm),纵坐标表示反射率(%)。这里,在用日立公司出品的光谱偏光仪U3400的非极化光测试条件和光入射角为5度的条件下获得图4所示曲线。图4中所示的最小反射率称作底反射率Rb,相应的波长称作底波长λb。
通常,当高折射率膜的厚度偏离所述标准值时,相对于高折射率膜存在的最小反射率Rb低折射率膜的底反射率Rb升高,反射曲线变缓。对低折射率膜22的底反射率Rb有小的影响。低折射率膜22的厚度大于前述标准厚度时,底波长λb向比标准厚度的底反射率Rb对应的底波长λb长的波长-侧漂移。
但是,如果不平整区是在边长大于入射光波长10倍至100倍的方块小区中,或在直径比入射光波长大10倍至100倍的圆环中,能获得相应于不平整区形状的反射特性曲线变化。如果不平整区高度不大于40nm、则不平整区可作为双层反射膜。这里,如果所述方块的边长或圆环的直径是光波长或比它大几倍,随着光的干扰作用减小光漫射会出现不希望有的增大。
图5是不平整区的反射特性曲线图。图5中,虚线表示反射曲线(任意小面积区的反射特性),实线表示用组合小面积反射特性获得的,本发明阴极射线管的玻璃屏盘的反射曲线(总的反射特性)。如图5所示,实线所示总的反射特性是宏观观察到的。特性中,底反射率Rb稍稍升高,但反射曲线是平坦的,反射颜色淡,反射率低到400至700nm。
如果只在低折射率膜表面形成该不平整区,折射率太低,致使光干扰起作用。结果,不平整区高度不得不增高,反射光的漫射增强,从而损坏了阴极射线管的图像显示。
如对本发明的各实施例的描述,高质量的阴极射线管中,外部光反射急剧减少并能防止静电电荷。能提供两层结构,其中低折射率膜位于玻璃屏盘外表面上设置的高折射率膜上面。至少在高折射率膜与低折射率膜之间的界面上形成小的不平整区,因导电材料形成位于其下的高折射率膜。
这里将说明制造本发明阴极射线管的方法。
图6是制造本发明阴极射线管的方法的第1实施例的工艺流程图。
首先,抛光荧光屏节距为0.26mm,有效对角线长41cm的彩色显像管的玻璃屏盘表面,除去污物(步骤1)。之后,把玻璃屏盘的表面温度加热到40℃(步骤2),屏盘表面喷涂有下列组分(1)的高折射率材料悬浮液(步骤3)。按液体流速为2升/小时、空气流速为2升/分钟,喷涂宽度70mm,喷涂玻璃屏盘的整个表面,以在整个表面上进行喷涂步骤。整个表面喷涂后,重复同样的步骤一次、两次或三次。在步骤3中用的高折射率材料悬浮液的总消耗量是20ml。
高折射率材料悬浮液的组分(1):
A.T.O:平均颗粒直径是30nm;重量2wt%,
乙醇: 16wt%
分散剂:(KAO有限公司出品,商品名:Demol N)0.05wt%
乙二醇: 0.1wt%
去离子水: 平衡量
喷涂高折射率材料悬浮液后,玻璃屏盘表面温度调到35℃(步骤4),送入有下列组分(2)的50毫升(ml)低折射率材料溶液,旋涂机按150RPM速度旋转70秒。除去多的溶液(步骤5),之后,加热到160℃保温30分钟(步骤6)。
低折射率材料溶液的组分(2):
Si(C2H5O)4:平均聚合度1000:...1.1wt%
盐酸(用HCl表示): 0.005wt%
乙醇: 平衡量
结果,如图1所示,形成两层的防反射抗静电电荷膜,它由不平整区平均直径为25μm,不平整区的最大高度为40nm,平均膜厚为80nm,折射率为1.8的高折射率膜下层,和平均膜厚为110nm和折射率为1.46的低折射率膜下层构成。这里,用OLYMPUS有限公司出品的光干扰显微镜拍摄的照片放大400倍,在一个视场中任取10至20个颗粒样,测试它们照片上的直径,计算测试值的算数平均值,来确定不平整区的平均直径,而且,用图像处理器RD550,从在日立公司出品的扫描电子显微镜S-2250N观测区的图像计算出的最大粗糙度Rmax是不平整区的最大高度。用扫描电子显微镜的图像处理器同样确定不平整区的平均粗糙度。用Mi20 jiri Kogaku Kogyo有限公司出品的光源波长为550nm的自动偏振光椭圆计DVA-36VW测得折射率。
该防反射抗静电电荷膜的表面电阻为8×106Ω/口,底折射率0.8%,底波长为570nm,400nm的折射率为3.2%,700nm的折射率为2.1%。这里,用DIA INSTRUMENT有限公司出品的Roresta IP仪测试表面电阻值,测试条件是:在25℃的大气中,把测试探针直接放到形成的膜表面上。用日立有限公司出品的光谱仪U3400在非极化光和入射角为5度的条件下测试折射率。
图7是制造本发明阴极射线管的方法的第2实施例的工艺流程图。
首先,抛光其荧光屏节距为0.26mm和有效对角线长度为41cm的彩色显像管的玻璃屏盘表面,除去污物(步骤1)。之后,玻璃屏盘表面温度加热到40℃(步骤2),用有所述组分(1)的高折射率材料的悬浮液喷涂屏盘表面(步骤3)。按液体流速为2升/小时,空气流速为2升/分钟,喷涂宽度在70mm以下喷涂玻璃屏盘的整个表面,进行整个表面上的喷涂步骤。对同一步骤适当重复一次、两次或三次。在步骤3用的高折射率材料悬浮液的总消耗量是20ml。
高折射率材料悬浮液喷涂之后,玻璃屏盘的表面温度调到50℃(步骤4),送入有下列组分面(3)50ml低折射率材料溶液,旋涂机按150RPM的速度转70秒,除去多余的溶液(步骤5),之后加热到160℃,保温30分钟(步骤6)。
低折射率材料溶液的组分(3):
Si(C2H5O)4:平均聚合度100:...0.95wt%
盐酸(用HCl表示): 0.007wt%
乙醇: 平衡量
结果,如图2所示,形成两层的防反射抗静电电荷膜,它由平均颗粒直径为25μm、不平整区的最大高度为40nm,平均膜厚为80nm,折射率为1.8的高折射率膜下层,和平均厚度为95nm和折射率为1.46的低折射率膜上层构成。
该防反射抗静电电荷膜的表面电阻为8×106Ω/口,底折射率为0.9%,底波长为530nm,400nm的折射率为3.0%和700nm的折射率为2.0%。
图8是制造本发明阴极射线管的方法的第3实施例的工艺流程图。
首先,抛光其荧光屏节距为0.26mm和有效对角线长度为41cm的彩色显像管的玻璃屏盘表面,除去污物(步骤1)。
玻璃屏盘表面温度升高到40℃(步骤2)。用SPRAYING SYSTEM有限公司出品的两流体喷嘴在屏盘表面喷涂有所述组分(1)的高折射率材料悬浮液(步骤3)。按液体流速为2升/小时、空气流速为2升/分钟、喷涂宽度在70mm以下的条件,喷涂整个玻璃屏盘表面,在整个表面上进行该喷涂步骤,同一步骤适当重复一次、两次或三次。步骤3用的高折射率材料总消耗量是20ml。高折射率材料悬浮液喷涂后,玻璃屏盘表面温度加热到25℃(步骤4),用所述的两个流体喷嘴按高折射率材料相同的喷涂条件喷涂有所述组分(3)的低折射率材料溶液(步骤5),之后,在加热温度为160℃下,保温30分钟进行热处理(步骤6)。结果,获得其性能与所述第2实施例性能基本相同的防反射抗静电电荷膜。
图9是平均颗粒直径与高折射率膜和低折射率膜之间的界面处的不平整区漫射的关系曲线图。图9中,横坐标表示平均直径(μm),纵坐标表示高折射率膜的漫射强度(按相对值)。更希望在图9所示坐标上膜的漫射强度(按相对值)较小,阴极射线管的图像显示屏允许的漫射强度不大于3。图9中,虚线表示不平整区的最大高度是10nm的情况,实线表示不平整区的最大高度是40nm的情况。
图10是不平整区的最大高度与在高折射率膜与低折射率膜之间的界面处的底折射率的关系曲线。图10中,横坐标表示不平整区的最大高度(nm),纵坐标表示高折射率膜的底反射率(%)图10中,虚线表示平均直径为5μm的情况(用相位对比显微镜拍摄的照片的圆环的平均直径),实线是相同的平均直径为20μm的情况。
为了形成有小的光漫射和低的底反射率的防反射抗静电电荷膜,要求平均颗粒直径是5至80μm,不平整区的最大高度不大于40nm。不平整区的最大高度不大于10nm时,折射曲线呈V形,因此,折射率与波长的依赖关系增强,折射光呈蓝色。因此,不大于10nm的不平整区最大高度无用。当直径大于100nm,另一方面,显示的图像粗糙度会增大,这是不希望出现的,显示的图像光滑性下降。
所述实施例中,用A.T.D作高折射率膜的导电材料,但是,用I.T.O时也能获得类似的反射特性,能形成表面电阻为3至8×104Ω/口的防反射抗静电电荷膜。
用相同的方法,用各种金属的超细颗粒形成的防反射抗静电电荷膜,其表面电阻和底反射率列于表1中。
表1
材料 | 底-反射率(%) | 表面电阻(Ω/□) |
银铂金钯铑铱 | 0.080.10.10.20.20.2 | 2-5×1021-3×1031-5×1033-5×1031-6×1033-8×103 |
偶尔也用相同的方法用包括铝,镍,铜,钴,铬,银合金,铂合金,金合金,钯合金,铑合金,和铱合金的其它材料试验性地形成其它防反射抗静电电荷膜。除贵金属构成的防反射抗静电电荷膜外,根据气氛会形成氧化物,氢氧化物或碳酸盐,底反射率或表面电阻随时间变化,特性不稳定。
已用两层膜构成防反射抗静电电荷膜的实施例形式说明了实施例。但是,尽管有这些说明,但本发明不限于这些实施例,但还可以改为3层的防反射抗静电电荷膜,其中有作为低折射率膜和高漫射强度的同样不均匀膜的高折射率膜放在两层结构上,或者做成四层或多层结构,在两层结构基础上,交替形成高折射率膜和低抑射率膜,而且,不同折射率的膜层间的界面是不平整的。
按已说明过的各个实施例,可提供有防反射抗静电电荷膜的阴极射线管,它能防止外部光在玻璃屏盘上反射,屏盘表面有高对比度和小粗糙度,能显示高清晰度图像,能防止静电电荷。
而且,本发明不仅能用于阴极射线管,还能用于诸如液晶显示极,等离子显示板或EL显示板的显示装置的显示屏。
Claims (55)
1.一种阴极射线管,其真空外壳包括:一个玻璃面板,面板的内表面敷有荧光膜,从而形成荧光屏;一个颈部,内装电子枪;和一个漏斗部分,将所述玻璃面板与所述颈部连接起来;所述玻璃面板的外表面形成有折射率为1.6至2.2的高折射率膜和折射率为1.3至1.58的低折射率膜,所述高折射率膜夹在所述玻璃面板外表面与所述低折射率膜之间,其中,所述高折射率膜与所述低折射率膜之间设置,平均直径为5至80μm,高度为10至40nm的不平整区。
2.如权利要求1所述的阴极射线管,其特征在于,所述低折射率膜外表面的平均粗糙度不大于10nm。
3.如权利要求1所述的阴极射线管,其特征在于,所述低折射率膜外表面的平均粗糙度大于10nm。
4.如权利要求3所述的阴极射线管,其特征在于,所述低折射率膜外表面的平均粗糙度小于所述高折射率膜与所述低折射率膜之间界面不平整程度的平均粗糙度。
5.如权利要求1所述的阴极射线管,其特征在于,所述高折射率膜含至少导电氧化物和金属的粒子之一,所述低折射率膜含至少硅化物和氟化合物之一。
6.如权利要求1所述的阴极射线管,其特征在于,所述荧光屏形成的荧光屏节距小于0.26mm。
7.一种彩色阴极射线管,其真空外壳包括:
一个玻璃面板,面板的内表面敷有荧光膜,从而形成荧光屏;一个颈部,内装一个向所述荧光屏发射三束电子束的电子枪;和一个漏斗部分,将所述玻璃面板与所述颈部连接起来;所述玻璃面板的外表面形成有防反射防静电膜,所述防反射防静电膜包括一层折射率为1.6至2.2的高折射率膜和一层折射率小于所述高折射率膜的低折射率膜,所述高折射率膜夹在所述玻璃面板外表面与所述低折射膜之间,其中,所述高折射率膜与所述低折射率膜之间设有平均直径为5至80μm,高度为10至40nm的不平整区。
8.一种阴极射线管,其真空外壳包括:(1)一个玻璃面板,具有一个内表面和一个外表面,所述的内表面敷有荧光膜,从而形成荧光屏;(2)一个颈部,内装电子枪;(3)和一个漏斗部分,将所述玻璃面板与所述颈部连接起来;
其中所述玻璃面板的外表面敷有第一层,第一层是包括至少导电金属氧化物粒子和金属粒子之一的导电层,第一层上覆盖着具有一外表面的第二层,所述第二层基本上不吸收光,所述第二层的折射率小于所述第一层的折射率,所述第二层外表面的粗糙度比所述第一层在所述第一层与所述第二层之间界面的表面的粗糙度小。
9.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层为电绝缘层。
10.如权利要求9所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层基本上由选自一组包括硅化合物和氟化合物的至少一种材料组成。
11.如权利要求8所述的彩色阴极射线管,其特征在于,所述第一层的所述金属氧化物粒子基本上由选自A.T.O或I.T.O的至少一种粒子组成。
12.如权利要求8或9所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层外表面的粗糙度Rz小于10nm。
13.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层在其与所述第二层之间界面的表面的粗糙度小于40nm。
14.如权利要求8所述阴极射线管,其特征在于,所述导电金属氧化物粒子或金属粒子的平均直径小于70nm。
15.如权利要求14所述的阴极射线管,其特征在于,所述导电金属氧化物粒子或金属粒子的平均直径小于10nm。
16.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层所述外表面的粗糙度Rz小于10nm,所述导电金属氧化物粒子或金属粒子的平均直径小于70nm。
17.如权利要求8或9所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层用“旋转涂敷法”形成。
18.如权利要求12所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层用“旋转涂敷法”形成。
19.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层的折射率为1.3-1.58。
20.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层的折射率为1.6-2.2。
21.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层直接敷在玻璃面板的所述外表面上。
22.如权利要求8所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层所述外表面的粗糙度Rz大于10nm。
23.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层为电绝缘层。
24.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层基本上由至少硅化合物和氟化合物的材料之一组成。
25.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层的所述表面的粗糙度Rz小于40nm。
26.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述导电金属氧化物粒子或金属粒子的平均直径小于70nm。
27.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述导电金属氧化物粒子或金属粒子的平均直径小于10nm。
28.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层用喷涂法形成。
29.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层的折射率为1.3-1.58。
30.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层的折射率为1.6-2.2。
31.如权利要求22所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层直接敷在玻璃面板的外表面。
32.一种阴极射线管,其外壳是真空的,包括:(1)一个玻璃面板,具有一个内表面和一个外表面,所述的内表面敷有荧光膜,从而形成荧光屏;(2)一个颈部,内装电子枪;(3)一个漏斗部分,将所述玻璃面板和所述颈部连接起来;
其中所述玻璃面板的外表面敷有第一层,第一层上覆盖有第二层,所述第二层的折射率小于所述第一层的折射率,和
所述第一层包括贵金属粒子并且在所述第一层和所述第二层之间具有一个不平整区。
33.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子选自银(Ag)、铂(Pt)、金(Au)、钯(Pd)、铑(Rh)、铱(Ir)。
34.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层基本上不吸收光。
35.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层是电绝缘层。
36.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层基本上由至少硅化合物和氟化合物之一组成。
37.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层的外表面的粗糙度比所述第一层在与所述第二层之间界面的表面粗糙度小。
38.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子的平均直径不大于70nm。
39.如权利要求37所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子的平均直径不大于70nm。
40.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子的平均直径不大于10nm。
41.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层外表面的粗糙度Rz不大于10nm。
42如权利要求37所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层外表面的粗糙度Rz不大于10nm。
43.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层用“旋转涂敷法”形成。
44.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层在其与所述第二层之间的界面的表面,其粗糙度Rz不大于40nm。
45.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层直接敷在玻璃面板的所述外表面。
46.如权利要求32所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层外表面的粗糙度Rz不小于10nm。
47.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层基本上不吸收光。
48.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层包括由至少硅化合物和氟化合物之一。
49.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层的外表面的粗糙度小于所述第一层在其与所述第二层之间界面的表面的粗糙度。
50.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子的平均直径不大于70nm。
51.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层用“喷涂法”形成。
52.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层在其与所述第二层之间的界面的表面粗糙度Rz不大于40nm。
53.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述贵金属粒子选自银(Ag)、铂(Pt)、金(Au)、钯(Pd)、铑(Rh)、铱(Ir)。
54.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第一层直接敷在玻璃面板的所述外表面。
55.如权利要求46所述的阴极射线管,其特征在于,所述第二层为电绝缘层。
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