JP2002311208A - 反射防止膜用硬化性組成物及びそれを用いた反射防止膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布性に優れ、硬化させた場合に、帯電防止
性、及び透明性等に優れた硬化物が得られる反射防止膜
用硬化性組成物及びそれを用いた反射防止膜を提供す
る。 【解決手段】 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分からなることを
特徴とする反射防止膜用硬化性組成物。 （Ａ）導電性金属酸化物粉末１００重量部 （Ｂ）水酸基含有重合体５〜５０重量部 （Ｃ）分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロ
イル基を有する（メタ）アクリレート化合物５〜５０重
量部 （Ｄ）光重合開始剤０．１〜１０重量部 （Ｅ）有機溶剤２，０００〜１０，０００重量部

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜用硬化
性組成物及びそれを用いた反射防止膜に関する。より詳
細には、塗布性に優れるとともに、硬化させた場合に、
帯電防止性、透明性等に優れた硬化物が得られる反射防
止膜用硬化性組成物、及びそれを硬化させた硬化物を含
む反射防止膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プ
ラズマディスプレー等の各種表示パネルにおいて、外光
の映りを防止し、画質を向上させるために、低反射率
性、帯電防止性、高透明性性及び高耐擦傷性反射防止膜
が求められている。

【０００３】反射防止膜用材料として、例えば、熱硬化
型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−
２４７７４３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特
開平７−３３１１１５号公報及び特開平１０−２３２３
０１号公報等に開示されている。しかしながら、このよ
うな熱硬化型ポリシロキサン組成物を利用して得られる
反射防止膜は、帯電防止性や耐擦傷性に乏しかった。

【０００４】また、特開平８−９４８０６号公報に開示
されているように、基材上に、微粒子を高屈折率バイン
ダー樹脂中に極在化させた高屈折率膜と、フッ素系共重
合体からなる低屈折率膜とを順次に積層した光学機能性
フィルムが提案されている。しかしながら、この光学機
能性フィルムは、反射防止性や帯電防止性が不十分であ
る等の問題があった。

【０００５】一方、特開平６−１７２６８７号公報に
は、（ａ）酸化アンチモン含有酸化錫粉末１００重量
部、（ｂ）（メタ）アクリレート化合物１０〜１００重
量部、（ｃ）アセタール樹脂１０〜１００重量部、
（ｄ）光重合開始剤０．１〜１０重量部及び（ｅ）有機
溶剤１００〜１，０００重量部からなる光硬化性導電塗
料組成物が開示されている。しかしながら、この光硬化
性導電塗料組成物を硬化して得られる塗膜を、反射防止
膜の用途に使用することについては何等開示されていな
い。この光硬化性導電塗料組成物は、均一塗布性が悪
く、この光硬化導電塗料組成物を硬化して得られる塗膜
の膜厚制御が困難であり、その塗膜は、反射防止膜とし
て使用するのに適していなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者らは
鋭意検討した結果、導電性金属酸化物粉末、水酸基含有
重合体、分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリ
ロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物、光重合
開始剤及び有機溶剤を所定の範囲内の添加量で混合する
ことにより、上述した課題を解決できることを見出し
た。したがって、本発明は、均一塗布性及び膜厚制御性
に優れるとともに、硬化させた場合に、帯電防止性、及
び透明性等に優れた硬化物が得られる反射防止膜用硬化
性組成物、及びそれを含む反射防止膜を提供することを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記
（Ａ）〜（Ｅ）成分からなることを特徴とする反射防止
膜用硬化性組成物が提供される。 （Ａ）導電性金属酸化物粉末１００重量部 （Ｂ）水酸基含有重合体５〜５０重量部 （Ｃ）分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロ
イル基を有する（メタ）アクリレート化合物５〜５０重
量部 （Ｄ）光重合開始剤０．１〜１０重量部 （Ｅ）有機溶剤２，０００〜１０，０００重量部

【０００８】このように構成することにより、均一塗布
性に優れ、膜厚制御が容易になるとともに、硬化させた
場合に、帯電防止性、及び透明性等に優れた硬化物が得
られる反射防止膜用硬化性組成物を容易に得ることがで
きる。

【０００９】また、本発明の反射防止膜用硬化性組成物
において、（Ａ）成分が、アンチモン含有酸化錫又はイ
ンジウム含有酸化錫であることが好ましい。アンチモン
含有酸化錫又はインジウム含有酸化錫を用いることによ
り、高屈折率かつ高帯電防止性の反射防止膜用硬化性組
成物を容易に得ることができる。

【００１０】また、本発明の反射防止膜用硬化性組成物
において、（Ａ）成分が、表面処理されていることが好
ましい。表面処理されていることにより、（Ａ）成分の
硬化性組成物中の分散性を向上させることができ、塗膜
の透明性が確保できる。さらに、硬化性樹脂組成物の保
存安定性をより向上させることができる。

【００１１】また、本発明の反射防止膜用硬化性組成物
において、（Ｂ）成分が、ブチラール樹脂であることが
好ましい。ブチラール樹脂を用いることにより、反射防
止膜用硬化性組成物の溶剤に対する溶解性をより向上さ
せることができ、（Ａ）成分の均一分散性が容易にな
り、しかも得られた反射防止膜において、基材及び低屈
折率層に対する密着力や機械強度を向上させることがで
きる。

【００１２】また、本発明の反射防止膜用硬化性組成物
において、（Ｂ）成分が、側鎖に（メタ）アクリロイル
基を有するブチラール樹脂であることが好ましい。側鎖
に（メタ）アクリロイル基を有するブチラール樹脂を用
いることにより、（Ａ）成分の均一分散性が容易にな
り、しかも得られた反射防止膜において、基材及び低屈
折率層に対する密着力や機械強度を向上させることがで
きるだけでなく、側鎖の（メタ）アクリロイル基を利用
して、反射防止膜用硬化性組成物中の他の成分との間の
結合力をより強固にすることにより、得られる硬化物の
強度をより向上させることができる。

【００１３】また、本発明の別の態様は、基材と、基材
の上にあって、上述の反射防止膜用硬化性組成物を硬化
させた硬化物からなる、膜厚が０.０５〜０．５μｍで
ある高屈折率層と、高屈折率層の上にあって、膜厚が
０.０５〜１μｍである低屈折率層とを含む反射防止膜
である。ここで、基材、高屈折率層及び低屈折率層のそ
れぞれの間に、他の層が介在していても良い。このよう
に反射防止膜を構成することにより、塗膜外観に優れる
とともに、紫外線や電子線等長時間暴露された後でも、
優れた反射防止性、帯電防止性、及び透明性等を発揮す
ることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の反射防止膜用硬化
性組成物（以下、硬化性組成物と称する場合がある）及
びそれを用いた反射防止膜についてさらに詳しく説明す
る。

【００１５】１．（Ａ）成分、導電性金属酸化物粉末 導電性金属酸化物粉末（以下、（Ａ）成分と称する場合
がある）は、硬化性組成物を硬化して得られる硬化物及
びそれを用いた反射防止膜の帯電防止性を高めるために
用いられる。

【００１６】（１）種類 （Ａ）成分の種類は、粒子の体積固有抵抗や、屈折率の
調製の容易さや透明性等を考慮して決定することが好ま
しいが、より具体的には、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化
インジウム、酸化アンチモン、酸化錫、硫化亜鉛、酸化
セレン、酸化タングステン、アンチモン酸亜鉛、ガラス
セラミックス、ＡＴＯ(アンチモンドープ酸化錫)、ＩＴ
Ｏ(インジウムドープ酸化錫)、酸化バナジウム等の一種
単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。ただ
し、これらの導電性金属酸化物粉末のうち、比較的少量
の添加で硬化後の屈折率の値を１．５以上の値に容易に
調節することができ、しかも帯電防止機能を付与できる
ことから、屈折率が１．９以上の導電性金属酸化物粉末
を使用することが好ましい。このような導電性金属酸化
物粉末としては、アンチモン含有酸化錫及びインジウム
含有酸化錫が特に好ましい。なお、導電性金属酸化物粉
末の形状は特に限定されず、球状でも針状でも鱗片状で
もよい。針状及び鱗片状粉末を含む場合、少量の添加で
硬化物中に導電路を有効に形成することができる。

【００１７】（２）粒径 （Ａ）成分が球状の場合、その平均粒子径（数平均粒子
径、以下、同様である。）は、０．０１μｍ〜０．５μ
ｍ以下であることが好ましい。また、（Ａ）成分が針状
の場合、その平均粒子径は、０．０１μｍ〜２μｍ以下
であることが好ましい。ここで、（Ａ）成分が針状の場
合の平均粒子径は、針状粒子の長径をいう。この理由
は、平均粒子径が０．０１μｍ未満になると、硬化物中
に導電路を形成させることが困難になるため、帯電防止
性が著しく損なわれる場合があるためである。また、平
均粒子径が２μｍを超えると、反射防止膜において
（Ａ）成分を均一に分散させることが困難となり、ま
た、製造時に、硬化性組成物において無機酸化物粒子が
沈降しやすくなり、保存安定性に欠けたり、反射防止膜
の透明性が低下したり、濁度（ヘイズ値）が上昇する場
合があるためである。なお、（Ａ）成分の平均粒子径
は、電子顕微鏡によって測定される粒径の数平均値であ
る。

【００１８】（３）表面処理 （Ａ）成分は、分散性をより向上させるために、カップ
リング剤等の処理剤で表面処理することも好ましい。こ
こで、表面処理とは、（Ａ）成分と表面処理剤とを混合
することにより表面を改質する操作を意味するものであ
り、その方法としては、物理吸着、化学結合を形成する
反応のいずれを用いてもよいが、表面処理の効果の観点
から、化学結合を形成する反応がより好ましい。

【００１９】表面処理をカップリング剤を用いて行なう
場合、カップリング剤の例として以下の処理剤が挙げら
れる。 （ｉ）カップリング剤 表面処理に適する好ましいカップリング剤としては、イ
ソプロピルトリイソステアロイルチタネート、チタンｎ
−ブトキサイド、チタンエトキサイド、チタン２−エチ
ルヘキシオキシド、チタンイソブトキサイド、チタンイ
ソプロポキサイド、チタンメトキサイド、チタンメトキ
シプロポキサイド、チタンｎ−ノニルオキサイド、チタ
ンｎ−プロポキサイド、チタンステアリルオキシド、ト
リイソプロポキシヘプタデシナートチタン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン等の分子内に不飽和二重結合を有する化合物群、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン等の分子内にエポ
キシ基を有する化合物群、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等
の分子内にアミノ基を有する化合物群、γ−メルカプト
プロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン等の分子内にメルカプト基を有する
化合物群、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアルキル
シラン類、テトラブトキシシチタン、テトラブトキシジ
ルコニウム、テトライソプロポキシアルミニウム等の一
種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。ま
た、市販のカップリング剤としては、例えば、日本ユニ
カー（株）製のA-1100、A-1102、A-1110、A-1120、A-11
22、Y-9669、A-1160、AZ-6166、A-151、A-171、A-172、
A-174、Y-9936、AZ-6167、AZ-6134、A-186、A-187、A-1
89、AZ-6129、A-1310、AZ-6189、A-162、A-163、AZ-617
1、A-137、A-153、A-1230、A-1170、A-1289、Y-5187、A
-2171、Y-11597などや、東レダウコーニング・シリコー
ン（株）製のSH6020、SH6023、SH6026、SZ6030、SZ603
2、AY-43-038、SH-6040、SZ-6050、SH6062、SH6076、SZ
6083、SZ6300などを挙げることができる。

【００２０】（ii）添加量 なお、（Ａ）成分を表面処理するにあたり、表面処理剤
の添加割合を、（Ａ）成分１００重量部に対して、０．
１〜２０重量部の範囲内の値とすることが好ましく、
０．５〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ま
しく、１〜５重量部の範囲内の値とすることがより好ま
しい。その理由は、表面処理剤の添加割合が０．１重量
部未満の場合には、添加硬化が発揮されない場合がある
ためであり、一方、添加割合が２０重量部を越える場
合、硬化性樹脂組成物中に未反応の表面処理剤が多く残
存し、組成物の保存安定性の低下、及び硬化物の帯電防
止、機械的強度が不十分になる場合があるためである。

【００２１】２．（Ｂ）成分、水酸基含有重合体 水酸基含有重合体（以下、（Ｂ）成分と称する場合があ
る）は、硬化性組成物を硬化して得られる硬化物及びそ
れを用いた反射防止膜の耐擦傷性、及び透明性を高める
ために用いられる。

【００２２】（１）種類 （Ｂ）成分としては、分子内に水酸基を有する重合体で
あれば、好適に使用することができる。より具体的に
は、ポリビニルアセタール樹脂（ポリビニルブチラール
樹脂、ポリビニルホルマール樹脂）、ポリビニルアルコ
ール樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリフェノール系樹
脂、フェノキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み
合わせが挙げられる。

【００２３】これらのうち、基材に対する密着力や機械
的特性に優れており、しかも、（Ａ）成分の均一分散が
比較的容易な点から、ポリビニルブチラール樹脂や変性
ポリビニルブチラール樹脂が好ましい。また、ブチラー
ル樹脂の中でも、平均重合度が１，０００以下であり、
一分子中のポリビニルアルコール単位が１８重量％以上
であり、かつ、ガラス転移点が７０℃以上の物性を有す
るものがより好ましい。

【００２４】また、上記の変性ポリブチラール樹脂とし
ては、側鎖に（メタ）アクロイル基を有するブチラール
樹脂、メチロール基を有するブチラール樹脂、カルボキ
シル基を有するブチラール樹脂、イソシアネート基を有
するブチラール樹脂等が挙げられる。これらのうち、下
記（Ｃ）成分との結合力をより強固にできることから、
側鎖に（メタ）アクロイル基を有するブチラール樹脂が
より好ましい。

【００２５】側鎖に（メタ）アクロイル基を有するブチ
ラール樹脂は、分子内のビニルアルコール単位に由来す
る水酸基と、この水酸基と反応する官能基を有する（メ
タ）アクリレート化合物とから合成することができる。
このような水酸基と反応する（メタ）アクリレート化合
物の例としては、（メタ）アクリロイルイソシアネー
ト、メチロール基含有（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリル酸、（メタ）アクリル酸ハロゲン化物、（メ
タ）アクリル酸無水物等の一種単独又は二種以上の組み
合わせが挙げられる。

【００２６】（２）添加量 本発明の硬化性組成物では、（Ｂ）成分の添加量は、
（Ａ）成分１００重量部に対して、５〜５０重量部の範
囲内である。この理由は、添加量が５重量部未満の場合
には、（Ａ）成分の分散安定性や、硬化性組成物を硬化
させて得られる塗膜の透明性が劣る場合があるためであ
り、添加量が５０重量部を超える場合には、相対的に導
電性金属酸化物粒子量が減少するため、硬化物の屈折率
及び帯電防止性が低下し、反射防止膜の帯電防止性及び
反射防止性が著しく損なわれる場合があるためである。
また、上記の理由により、（Ｂ）成分の添加量を、５〜
４０重量部の範囲内とすることが好ましく、５〜３０重
量部の範囲内とすることがより好ましい。

【００２７】３．（Ｃ）成分、分子内に少なくとも２個
以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化
合物 分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロイル基
を有するアクリレート化合物（以下、（Ｃ）成分と称す
る場合がある）は、硬化性組成物を硬化して得られる硬
化物及びそれを用いた反射防止膜の耐擦傷性を高めるた
めに用いられる。

【００２８】（１）種類 （Ｃ）成分の種類については、分子内に少なくとも二つ
の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物であれば特
に限定されるものではない。このような例としては、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリト−ルヘキサ（メタ）アクリレ−ト、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレー
ト、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アク
リレート、トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリ
レ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラ（メタ）アクリレ
−ト、トリメチロ−ルプロパントリオキシエチルトリ
（メタ）アクリレ−ト、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレ−トトリ（メタ）アクリレ−ト等の一
種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。

【００２９】（２）添加量 本発明の硬化性組成物では、（Ｃ）成分の添加量は、
（Ａ）成分１００重量部に対して、５〜５０重量部の範
囲内である。この理由は、添加量が５重量部未満の場合
には、硬化性組成物を硬化して得られる硬化物の塗膜強
度が劣る場合があるためであり、添加量が５０重量部を
超える場合には、相対的に導電性金属酸化物粒子量が減
少するため、硬化物の屈折率及び帯電防止性が低下し、
反射防止膜の帯電防止性及び反射防止性が著しく損なわ
れる場合があるためである。また、上記の理由により、
（Ｃ）成分の添加量を、５〜４０重量部の範囲内とする
ことが好ましく、５〜３０重量部の範囲内とすることが
より好ましい。

【００３０】４．（Ｄ）成分、光重合開始剤 光重合開始剤（以下、（Ｄ）成分と称する場合がある）
は、硬化性組成物を硬化させるために用いられる。 （１）種類 （Ｄ）成分の例としては、２−メチル−１−〔４−（メ
チルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フ
ルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カル
バゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベン
ゾフェノン、４,４’−ジメトキシベンゾフェノン、４,
４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベン
ゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロ
パン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサン
トン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチ
オキサントン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキシ
ベンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルホスフィ
ンオキシド等の一種単独または二種以上の組み合わせが
挙げられる。

【００３１】なお、これらのうち、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−
プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセ
トフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシド、ビス−（２,６−ジメトキシベ
ンゾイル）−２,４,４−トリメチルペンチルホスフィン
オキシドが特に好ましい。

【００３２】（２）添加量 本発明の硬化性組成物では、（Ｄ）成分の添加量は、
（Ａ）成分１００重量部に対して、０．１〜１０重量部
の範囲内である。この理由は、添加量が０．１重量部未
満となると、硬化性組成物の硬化が不十分となる場合が
あるためである。一方、添加量１０重量部を超えると、
光重合開始剤自身が可塑剤として働き、硬化物の塗膜硬
度が低下する場合があるためである。また、上記の理由
により、光重合開始剤の添加量を、１〜７重量部の範囲
内とすることが好ましく、１〜４重量部の範囲内とする
のがより好ましい。

【００３３】５．（Ｅ）成分、有機溶剤 有機溶剤（以下、（Ｅ）成分と称する場合がある）は、
硬化性組成物の塗布性を高めるために用いられる。 （１）種類 （Ｅ）成分の種類としては特に制限されるものではない
が、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン
類、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、エチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコール
モノメチルエーテル等のエーテル基含有アルコール類、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のヒドロキシエ
ステル類、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセ
ト酢酸ブチル等のβ―ケトエステル類、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類からなる群から選択される少
なくとも一種の有機溶剤を使用することが好ましい。こ
れらの中で、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン
類がより好ましい。

【００３４】（２）添加量 本発明の硬化性組成物では、（Ｅ）成分の添加量は、
（Ａ）成分１００重量部に対して、２，０００〜１０，
０００重量部の範囲内である。この理由は、上記範囲外
となると、硬化性組成物を光学膜厚で均一に塗布するこ
とが困難となり、硬化性組成物を硬化して得られる硬化
物及びそれを用いた反射防止膜の塗膜外観及び反射防止
性が劣る場合があるためである。また、上記の理由によ
り、（Ｅ）成分の添加量を、２，０００〜７，０００重
量部の範囲内とすることが好ましく、２，０００〜５，
０００重量部の範囲内とするのがより好ましい。

【００３５】６．その他 （１）本発明の硬化性組成物では、固形分中の無機含量
は５０〜９０％が好ましく、全固形分濃度は３〜５％が
好ましい。 （２）本発明の硬化性組成物には、本発明の目的や効果
を損なわない範囲において、光増感剤、重合禁止剤、重
合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性
剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、
無機充填剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させて
もよい。

【００３６】７．調製方法 本発明の硬化性組成物は、上記（Ａ）〜（Ｅ）成分と、
必要に応じて添加剤をそれぞれ添加して、室温または加
熱条件下で混合することにより調製することができる。
具体的には、ミキサ、ニーダー、ボールミル、三本ロー
ル等の混合機を用いて、調製することができる。ただ
し、加熱条件下で混合する場合には、重合開始剤の分解
開始温度以下で行うことが好ましい。

【００３７】８．硬化条件 硬化性組成物の硬化条件についても特に制限されるもの
ではないが、例えば放射線を用いた場合、露光量を０．
０１〜１０Ｊ／ｃｍ²の範囲内の値とするのが好まし
い。この理由は、露光量が０．０１Ｊ／ｃｍ²未満とな
ると、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、
露光量が１０Ｊ／ｃｍ²を超えると、硬化時間が過度に
長くなり基材が劣化する場合があるためである。また、
上記の理由により、露光量を０．１〜５Ｊ／ｃｍ²の範
囲内の値とするのがより好ましく、０．３〜３Ｊ／ｃｍ
²の範囲内の値とするのがより好ましい。このようにし
て得られる硬化物は、帯電防止性、及び透明性等に優
れ、反射防止膜の一部品として使用できる。

【００３８】９．反射防止膜 以下、本発明の反射防止膜の各層について説明する。本
発明の反射防止膜は、基材上に、上記の反射防止膜用硬
化性組成物を硬化して得られる硬化物からなる高屈折率
層を形成した後、その上に低屈折率層を形成して構成し
てある。図１に、本発明の反射防止膜の一実施形態によ
る反射防止膜１０を示す。図１に示すように、基材１２
の上に、ハードコート層１４を介して、高屈折率層１６
及び低屈折率層１８が順に積層されている。なお、高屈
折率層１６に含まれる（Ａ）成分が表面処理されている
場合、低屈折率層１８との結合が強くなり、低屈折率層
１８の耐擦傷性及び反射防止膜の透明性をより高めるこ
とができる。さらに、高屈折率層１６と低屈折率層１８
との間、又は高屈折率層１６とハードコート層１４との
間に、中屈折率層（図示せず）を設けてもよい。

【００３９】（１）基材 高屈折率層やハードコート層を設けるための基材の種類
は特に制限されるものではないが、例えば、ポリエステ
ル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホ
ン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ノルボルネン樹脂、ア
クリルスチレン樹脂、及びガラス等からなる透明基材を
挙げることができる。例えば、これらの基材を含む反射
防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ
（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけ
るカラーフィルター等の広範な反射防止膜の利用分野に
おいて、反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐電防
止性や透明性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久
性を得ることができる。また、例えば、これらの基材を
含むガスバリア材とすることにより、トリアセチルセル
ロース等の吸湿性に問題のある透明基材を使用している
液晶表示パネル用偏光フィルムの等の利用分野におい
て、ガスバリア性効果により偏光フィルムの性能が安定
する効果が得られる。また、水分、酸素により劣化しや
すい太陽電池パネルの長期耐久性が改善される。これら
に加え、優れた耐擦傷性や透明性が得られ、しかも優れ
た機械的強度や耐久性を得ることができる。

【００４０】（２）高屈折率層 本発明の反射防止膜において、高屈折率層は、上述の反
射防止膜用硬化性組成物を硬化して得られる硬化物を使
用する。以下、高屈折率層の屈折率、膜厚及び形成方法
について説明する。

【００４１】（ｉ）屈折率 高屈折率層における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定
温度２５℃）は、特に制限されるものではないが、１．
５０〜２．１の範囲内であることが好ましい。この理由
は、かかる屈折率が１．５０未満になると、低屈折率層
と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下する
場合があるためであり、一方、２．１を超えると、使用
可能な材料が過度に制限される場合があるためである。
また、上記の理由により、高屈折率層の屈折率を、１．
５５〜２．０の範囲内のとすることがより好ましく、
１．６〜１．９の範囲内の値とすることがさらに好まし
い。

【００４２】（ii）膜厚 高屈折率層における膜厚は、０．０５〜０．５μｍの範
囲内である。この理由は、かかる高屈折率層の膜厚が
０．０５μｍ未満となると、低屈折率層と組み合わせた
場合に、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する
場合があるためである。一方、高屈折率層の膜厚が０．
５μｍを超えると、光干渉効果が生じずに、反射防止効
果が損なわれたり、高屈折率層における光吸収が大きく
なり、光透過率が低下する場合があるためである。ま
た、上記の理由により、膜厚を０．０８〜０．４μｍの
範囲内の値とするのがより好ましく、０．１〜０．３μ
ｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００４３】（iii）形成方法 高屈折率層用の塗膜を形成した後、硬化性組成物の硬化
について上述したように、硬化させる。高屈折率層を形
成する工程において、一度塗りで高屈折率層を形成して
もよく、複数回に分けて高屈折率層を形成してもよい。

【００４４】（３）低屈折率層 （ｉ）低屈折率層用硬化性組成物１ 低屈折率層を形成するための低屈折率層用硬化性組成物
としては、特に制限されるものでないが、主成分とし
て、フッ素系樹脂（フッ素化合物含む。）、シロキサン
系樹脂（シリコーン樹脂や、ポリシラザン樹脂を含
む。）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタ
ン系樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせを含
むことが好ましい。これらの樹脂であれば、屈折率の値
の調節が比較的容易なだけでなく、低屈折率層として、
強固な塗膜を形成することができる。

【００４５】（ii）低屈折率層用硬化性組成物２ 低屈折率層を形成するための低屈折率層硬化性組成物と
しては、熱硬化性、光硬化性等のいずれの硬化性組成物
であっても良いが、高屈折率層との密着性を確保し、反
射防止膜の耐擦傷性を向上させるために、高屈折率層中
の（Ｂ）成分と反応しうる硬化剤からなる、含フッ素組
成物であることが好ましい。そして、このような含フッ
素組成物の一例として、以下の（ａ）及び（ｂ）成分を
含む含フッ素組成物を挙げることができる。 （ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する硬化剤 このような（ａ）及び（ｂ）成分を含むことにより、耐
久性に優れるとともに、耐溶剤性及び機械特性に優れた
低屈折率層を得ることができる。

【００４６】（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体 （ａ）成分としては、分子内に水酸基を有する含フッ素
共重合体であれば、好適に使用することができる。より
具体的には、フッ素原子を含有する単量体と、水酸基を
含有する単量体とを共重合して得ることができる。ま
た、必要に応じて、これらの単量体以外のエチレン性不
飽和単量体を添加することも好ましい。

【００４７】フッ素原子を含有する単量体としては、テ
トラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フ
ッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、トリフ
ルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、（フルオロ
アルキル）ビニルエーテル、（フルオロアルコキシアル
キル）ビニルエーテル、パーフルオロ（アルキルビニル
エーテル）、パーフルオロ（アルコキシビニルエーテ
ル）、フッ素含有（メタ）アクリル酸エステル等の一種
単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。なお、
フッ素原子を含有する単量体の配合量は特に制限される
ものではないが、１０〜９９モル％の範囲内の値である
ことが好ましく、１５〜９７モル％の範囲内の値である
ことがより好ましい。

【００４８】また、水酸基を含有する単量体としては、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピル
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシペンチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリルエーテル、ヒ
ドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリ
ルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリル酸エステル等の一種単独または二種以上の
組み合わせが挙げられる。なお、水酸基を含有する単量
体の配合量は特に制限されるものではないが、１〜４０
モル％の範囲内の値であることが好ましく、より好まし
くは、３〜３０モル％の範囲内の値である。

【００４９】（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有す
る硬化剤 水酸基と反応し得る硬化剤としては、水酸基と反応し得
る官能基を有するものであれば、好適に使用することが
できる。より具体的には、メラミン化合物、尿素化合
物、グアナミン化合物、フェノール化合物、エポキシ化
合物、イソシアネート化合物、多塩基酸等の一種単独ま
たは二種以上の組み合わせが挙げられる。

【００５０】これらの硬化剤のうち、保存安定性に比較
的優れるとともに、比較的低温硬化が可能な点から、分
子内にメチロール基及びアルコキシ化メチル基あるいは
いずれか一方を２個以上有するメラミン化合物を使用す
ることが好ましい。より具体的には、ヘキサメチルエー
テル化メチロールメラミン化合物、ヘキサブチルエーテ
ル化メチロールメラミン化合物、メチルブチル混合エー
テル化メチロールメラミン化合物、メチルエーテル化メ
チロールメラミン化合物、ブチルエーテル化メチロール
メラミン化合物等のメチル化メラミン化合物等がより好
ましい。また、硬化剤の添加量を、水酸基を有する含フ
ッ素共重合体１００重量部に対して、１〜７０重量部の
範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる
硬化剤の添加量が、１重量部未満となると、水酸基を有
する含フッ素共重合体の硬化が不十分となる場合がある
ためであり、一方、７０重量部を超えると、低屈折率層
用硬化性組成物の保存安定性が低下したり、相対的に含
フッ素共重合体含量が低下するために、屈折率が大きく
なってしまい、反射防止膜としての特性を発揮できない
場合があるためである。

【００５１】硬化触媒 また、低屈折率層用硬化性組成物において、上述の水酸
基を有する含フッ素共重合体と硬化剤との間の反応を促
進するための硬化触媒を使用することが好ましい。この
ような硬化触媒としては、脂肪族スルホン酸、脂肪族ス
ルホン酸塩、脂肪族カルボン酸、脂肪族カルボン酸塩、
芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボ
ン酸、芳香族カルボン酸塩、金属塩、リン酸エステル等
の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ただし、これらの硬化触媒のうち、水酸基を有する含フ
ッ素共有重合体に対するメチル化メラミン化合物等の硬
化剤の硬化速度をより向上させることができる点から、
芳香族スルホン酸が最も好ましい。

【００５２】また、硬化触媒の添加量についても特に制
限されるものでは無いが、上述した水酸基を有する含フ
ッ素共重合体と、水酸基と反応し得る官能基を有する熱
硬化剤との合計量を１００重量部としたときに、当該硬
化触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とす
るのが好ましい。この理由は、かかる硬化触媒の添加量
が０．１重量部未満となると、硬化触媒の添加効果が発
現しない場合があるためであり、一方、硬化触媒の添加
量が３０重量部を超えると、低屈折率層用硬化性組成物
の保存安定性が低下する場合があるためである。

【００５３】有機溶剤 また、低屈折率層用硬化性組成物において有機溶剤を使
用することが好ましい。有機溶剤の例としては、前述し
た反射防止膜用硬化性組成物で使用する有機溶剤と同様
の種類が挙げられる。有機溶剤の添加量については特に
制限されるものではないが、水酸基を有する含フッ素共
重合体１００重量部に対して、５００〜１０，０００重
量部の範囲内とすることが好ましい。この理由は、有機
溶剤の添加量がこの範囲外になると、均一な膜厚を形成
させることが困難になるからである。

【００５４】（iii）屈折率 低屈折率層における屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定
温度２５℃）は１．３〜１．５の範囲内である。この理
由は、かかる屈折率が１．３未満の値となると、使用可
能な材料の種類が過度に制限される場合があり、一方
１．５を超えると、高屈折率層と組み合わせた場合に、
反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。
また、上記の理由により、低屈折率層の屈折率を、より
好ましくは１．３５〜１．５の範囲内とすることがより
好ましく１．３５〜１．４５の範囲内とすることがさら
に好ましい。

【００５５】また、低屈折率層を設ける場合、より優れ
た反射防止効果が得られることから、高屈折率層との間
の屈折率差を０．０５以上の値とするのが好ましい。こ
の理由は、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差
が０．０５未満の値となると、これらの反射防止膜での
相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場
合があるためである。また、上記の理由により、低屈折
層膜と、高屈折率層との間の屈折率差を０．１〜０．５
の範囲内の値とするのがより好ましく、０．１５〜０．
５の範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００５６】（iv）膜厚 低屈折率層における膜厚は、０．０５〜１μｍの範囲内
である。この理由は、かかる低屈折率層の膜厚が０，０
５μｍ未満となると、反射防止効果や、基材に対する密
着性が低下する場合があるためである。一方、低屈折率
層の膜厚が１μｍを超えると、光干渉が生じずに反射防
止効果が低下する場合があるためである。また、上記の
理由により、膜厚を０，０５〜０．５μｍの範囲内の値
とすることがより好ましく、０．０６〜０．２μｍの範
囲内の値とすることがさらに好ましい。

【００５７】（ｖ）形成方法 低屈折率硬化性組成物を高屈折率層に対して塗布（コー
ティング）して、低屈折率層形成用の塗膜を形成するこ
とが好ましい。このようなコーティング方法としては、
特に制限されるものでないが、例えば、ディッピング
法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピ
ンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シル
クスクリーン法、またはインクジェット法等のコーティ
ング方法を用いることができる。低屈折率組成物を硬化
させる手段も特に制限されるものではないが、例えば加
熱することが好ましい。この場合、３０〜２００℃、
０．１〜１８０分間の条件で加熱するのが好ましい。こ
の理由は、このような加熱条件であれば、基材や形成さ
れる反射防止膜を損傷することなく、より効率的に反射
防止性に優れた反射防止膜を得ることができるためであ
る。上記の理由により、低屈折率層を形成する際の加熱
条件としては、５０〜１６０℃で、０．２〜１２０分間
加熱することがより好ましく、６０〜１４０℃で、０．
５〜６０分間加熱することがさらに好ましい。また、無
機化合物を蒸着させることにより低屈折率層を形成して
もよい。

【００５８】（４）ハードコート層 ハードコート層を設けることにより、高屈折率層を強固
に固定することができる。また、低屈折率層において
も、耐擦傷性をより向上させることができる。ハードコ
ート層の構成材料についても特に制限されるものでない
が、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エ
ポキシ樹脂等の一種単独または二種以上の組み合わせを
挙げることができる。これらの中で高い硬度を有する材
料としては、例えば、特開昭６３−１１７０７４に示さ
れるアルキルアルコキシシランとコロイド状シリカとを
親水性溶媒中で反応させて得られる熱硬化型ハードコー
ト組成物や、特開平９−１００１１１に示される反応性
シリカ粒子が分散された紫外線硬化型のハードコート組
成物や、ウレタンアクリレートと多官能性アクリレート
とを主成分とする公知の紫外線硬化型ハードコート組成
物を挙げることができる。

【００５９】また、ハードコート層の膜厚を０．１〜５
０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由
は、ハードコート層の膜厚が０．１μｍ未満となると、
低屈折率層を強固に固定することが困難となる場合があ
るためであり、一方、膜厚が５０μｍを超えると、製造
が困難となったり、あるいは、フィルム用途に用いた場
合に屈曲性が低下する場合があるためである。また、上
記の理由により、ハードコート層の膜厚を１〜３０μｍ
の範囲内の値とするのがより好ましく、３〜２０μｍの
範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００６０】

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、
本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるもので
はない。

【００６１】（製造例１） 側鎖にメタクリロイル基を有するブチラール樹脂（Ｂ−
１）溶液の調製 乾燥空気雰囲気の攪拌機付きの容器内にデンカブチラー
ル＃２０００−Ｌ（以下、ブチラール樹脂と略す場合が
ある。電気化学工業（株）製、ポリビニルブチラール樹
脂、平均重合度約３００、一分子中のポリビニルアルコ
ール単位２１重量％以上、ガラス転移点７１℃）６０重
量部をメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫと略記す
る。）２８５重量部に溶解させた溶液に、ジブチル錫ジ
ラウレート０．２８重量部を加え攪拌しながら、２−メ
タクリロイルオキシエチルイソシアネート３５．３重量
部を加えた。室温で１時間攪拌した後に、６０℃で３時
間攪拌し反応液を得た。この反応液中の生成物、すなわ
ち、側鎖にメタクリロイル基を有するブチラール樹脂
（以下、Ｂ−１と称す）における残存イソシアネート量
をＦＴ−ＩＲで測定したところ、０．１重量％以下であ
り、反応がほぼ定量的に行われたことを確認した。ま
た、分子内にウレタン結合と、メタクリロイル基とを有
することを確認した。

【００６２】（製造例２） アンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）の調製 アンチモン含有酸化錫微粉末（石原テクノ（株）製、Ｓ
Ｎ−１００Ｐ）１００重量部を製造例１にて調製したＢ
−１溶液１００重量部、及びＭＥＫ２１７重量部に添加
し、ガラスビーズにて１０時間分散を行い、ガラスビー
ズを除去してアンチモン含有酸化錫ゾル（以下、Ａ−１
と称す）４１７重量部を得た。ここで、得られたアンチ
モン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）２ｇをアルミ皿上で秤量
し、１２０℃のホットプレート上で１時間乾燥して全固
形分濃度を求めたところ、３０重量％であった。また、
このアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）２ｇを磁性る
つぼに秤量し、８０℃のホットプレート上で３０分予備
乾燥した後、７５０℃のマッフル炉中で１時間焼成を行
ない、得られた無機残渣量、及び全固形分濃度から全固
形分中の無機含量を求めたところ、８０重量％であっ
た。

【００６３】（製造例３） アンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−２）の調製 アンチモン含有酸化錫微粉末（石原テクノ（株）、ＳＮ
−１００Ｐ）１００重量部、ブチラール樹脂（以下、Ｂ
−２と称す）２５重量部及びＭＥＫ２９２重量部に添加
し、ガラスビーズにて１０時間分散を行い、ガラスビー
ズを除去してアンチモン含有酸化錫ゾル（以下、Ａ−２
と称す）４１７重量部を得た。ここで、得られたアンチ
モン含有酸化錫ゾル（Ａ−２）の全固形分濃度、及び全
固形分中の無機含量を、製造例２と同様に測定したとこ
ろ、それぞれ３０重量％、８０重量％であった。

【００６４】（製造例４） アンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−３）の調製 表面処理剤としてイソプロピルトリイソステアロイルチ
タネート（味の素（株）製、商品名ＫＲ−ＴＴＳ）１重
量部を加えたこと以外は製造例３と同様に、アンチモン
含有酸化錫ゾル（以下、Ａ−３と称す）を調製した。こ
こで、得られたアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−３）の
全固形分濃度、および全固形分中の無機含量を、製造例
２と同様に測定したところ、それぞれ３０重量％、８０
重量％であった。

【００６５】（比較製造例１） アンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−４）の調製 ブチラール樹脂(Ｂ−２)の代わりにニューポールＰＥ−
６１（以下、（Ｆ）成分と称す。三洋化成工業（株）
製、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマー）を用いた以外は製造例３と同様に、アンチ
モン含有酸化錫ゾル（以下、Ａ−４と称す）を調製し
た。ここで、得られたアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−
４）の全固形分濃度、及び全固形分中の無機含量を、製
造例２と同様に測定したところ、それぞれ３０重量％、
８０重量％であった。

【００６６】（製造例５） 含フッ素共重合体１の製造 内容積１.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル５００
ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＦＰＶ
Ｅ）５３.２ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）５０.
５ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶＥ）２
６.４ｇ及び過酸化ラウロイル１.２５ｇを加え、ドライ
アイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒
素ガスで系内の酸素を除去した。次いでヘキサフルオロ
プロピレン（ＨＦＰ）１２０.０ｇを加え、昇温を開始
した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点で
の圧力は５.３×１０⁵Ｐａを示した。その後、７０℃で
２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１.７×１０⁵Ｐ
ａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停
止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出しオ
ートクレーブを開放し、固形分濃度２６.４％のポリマ
ー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投
入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、
５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの含フッ素共重合体
を得た。これを含フッ素共重合体１とする。結果を表１
に示す。

【００６７】

【表１】 ＨＦＰ ：ヘキサフルオロプロピレン ＦＰＶＥ：パーフルオロ（プロピルビニルエーテル） ＨＥＶＥ：ヒドロキシエチルビニルエーテル ＥＶＥ ：エチルビニルエーテル

【００６８】得られたポリマーにつき、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレ
ン換算数平均分子量（Ｍｎ）、ＤＳＣによるガラス転移
温度（Ｔｇ）及びアリザリンコンプレクソン法によるフ
ッ素含量をそれぞれ測定した。また、¹Ｈ−ＮＭＲ、¹³
Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果、元素分析結果並びにフ
ッ素含量から含フッ素共重合体１を構成する各単量体成
分の割合を決定した。結果を表２に示す。

【００６９】

【表２】 ＨＦＰ ：ヘキサフルオロプロピレン ＦＰＶＥ：パーフルオロ（プロピルビニルエーテル） ＨＥＶＥ：ヒドロキシエチルビニルエーテル ＥＶＥ ：エチルビニルエーテル

【００７０】（製造例６） 含フッ素共重合体２の製造 ノニオン性反応性乳化剤として「アデカリアソープＮＥ
−３０」（旭電化工業株式会社製）、アゾ基含有ポリジ
メチルシロキサンとして「ＶＰＳ−１００１」（和光純
薬工業株式会社製）を追加して使用した以外は製造例５
と同様にしてポリシロキサンセグメントを有する含フッ
素共重合体を合成した。これを含フッ素共重合体２とす
る。結果を表１、２に示す。

【００７１】（製造例７） 低屈折率硬化性組成物１の調製 製造例５で得られた含フッ素系重合体１の１００ｇを、
架橋性化合物のメトキシ化メチルメラミン「サイメル３
０３」（三井サイテック株式会社製）３０ｇと共に溶剤
のメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）９００ｇ中に溶
解し、１００℃にて５時間攪拌下で反応させ反応液を得
た。得られた反応液１００ｇと、硬化触媒であるｐ−ト
ルエンスルホン酸２ｇとをＭＩＢＫ９００ｇに添加して
溶解させることにより、低屈折率硬化性組成物１を調製
した。上記の硬化性組成物のＭＩＢＫ溶液を、スピンコ
ーターによりシリコンウェーハー上に乾燥後の厚みが約
０．１μｍとなるように塗布して得られた試料につい
て、エリプソメーターを用いて２５℃での波長５８９ｎ
ｍにおける屈折率（ｎ_Ｄ ²⁵）を測定したところ屈折率は
１．４１であった。

【００７２】（製造例８） 低屈折率硬化性組成物２の調製 製造例６で得られた含フッ素系重合体２を用いたこと以
外は製造例７と同様にして、低屈折率硬化性組成物２を
調製した。得られた低屈折率硬化性組成物２の屈折率を
製造例７と同様に求めたところ１．４２であった。

【００７３】以下、本発明の硬化性組成物（高屈折率硬
化性組成物）の調製例を実施例１〜７及び比較例１〜３
に示す。 （実施例１）紫外線を遮蔽した容器中に、表３に示すと
おり、製造例２で調製したアンチモン含有酸化錫ゾル
（Ａ−１）４１７重量部（ＡＴＯ微粒子として１００重
量部、樹脂Ｂ−１として２５重量部）、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート（以下、Ｃ−１と称す）１
４．１重量部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン（以
下、Ｄと称す。）３重量部及びＭＥＫ４，３０８重量部
をそれぞれ加え、均一な溶液の硬化性組成物を得た。こ
の硬化性組成物中の全固形分濃度を、製造例２と同様に
測定したところ３重量％であった。

【００７４】

【表３】 Ａ−１：製造例２で調製した、アンチモン含有酸化錫ゾ
ル Ａ−２：製造例３で調製した、アンチモン含有酸化錫ゾ
ル Ａ−３：製造例４で調製した、表面処理されたアンチモ
ン含有酸化錫ゾル Ａ−４：比較製造例１で調製した、アンチモン含有酸化
錫ゾル Ｂ−１：製造例１で合成した側鎖にメタクリロイル基を
有するブチラール樹脂 Ｂ−２：ブチラール樹脂 Ｃ−１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート Ｃ−２：ペンタエリスリトールトリアクリレート Ｄ ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン Ｅ ：メチルエチルケトン Ｆ ：ニューポールＰＥ−６１（三洋化成工業（株）
製 ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマー）

【００７５】（実施例２）ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの代わりにペンタエリスリトールトリア
クリレート（以下、Ｃ−２と称す。）を加えたこと以外
は実施例１と同様にして、均一な溶液の硬化性組成物を
得た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製造例２
と同様に測定したところ３重量％であった。

【００７６】（実施例３）加えるＭＥＫ重量を２，４０
８重量部としたこと以外は実施例１と同様にして、均一
な溶液の硬化性組成物を得た。この硬化性組成物中の全
固形分濃度を、製造例２と同様に測定したところ５重量
％であった。

【００７７】（実施例４）製造例２で調製したアンチモ
ン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）の代わりに製造例３で調製
したアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−２）を加えたこと
以外は実施例１と同様にして、均一な溶液の硬化性組成
物を得た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製造
例２と同様に測定したところ３重量％であった。

【００７８】（実施例５）ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（Ｃ−１）の代わりにペンタエリスリト
ールトリアクリレート（Ｃ−２）を加えたこと以外は実
施例４と同様にして、均一な溶液の硬化性組成物を得
た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製造例２と
同様に測定したところ３重量％であった。

【００７９】（実施例６）製造例２で調製したアンチモ
ン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）の代わりに、製造例４で調
製したアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−３）を加えたこ
と以外は実施例３と同様にして、均一な溶液の硬化性組
成物を得た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製
造例２と同様に測定したところ５重量％であった。

【００８０】（実施例７）製造例２で調製したアンチモ
ン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）の代わりに、製造例４で調
製したアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−３）を加えたこ
と以外は実施例２と同様にして、均一な溶液の硬化性組
成物を得た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製
造例２と同様に測定したところ３重量％であった。

【００８１】（比較例１）加えるＭＥＫ重量を３９重量
部としたこと以外は実施例１と同様にして、均一な溶液
の硬化性組成物を得た。この硬化性組成物中の全固形分
濃度を、製造例２と同様に測定したところ３０重量％で
あった。

【００８２】（比較例２）製造例２で調製したアンチモ
ン含有酸化錫ゾル（Ａ−１）の代わりに、比較製造例１
で調製したアンチモン含有酸化錫ゾル（Ａ−４）を加え
たこと以外は実施例１と同様にして、均一な溶液の硬化
性組成物を得た。この硬化性組成物中の全固形分濃度
を、製造例２と同様に測定したところ３重量％であっ
た。

【００８３】（比較例３）ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（Ｃ−１）の代わりにペンタエリスリト
ールトリアクリレート（Ｃ−２）を加えたこと以外は比
較例２と同様にして、均一な溶液の硬化性組成物を得
た。この硬化性組成物中の全固形分濃度を、製造例２と
同様に測定したところ３重量％であった。

【００８４】ここで、比較例１は、硬化性組成物中のＭ
ＥＫが３３０重量部である点において、比較例２及び３
は、（Ｂ）成分の代わりに（Ｆ）成分を含む点におい
て、本発明の組成物と異なる。

【００８５】以下、本発明の反射防止膜の製造例を実施
例８〜１７及び比較例４〜８に示す。 （実施例８）実施例１で調製した硬化性組成物をワイヤ
ーバーコータ（＃３）を用いて、片面易接着ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムＡ４１００（東洋
紡績（株）製、膜厚１８８μｍ）の易接着処理面、又は
未処理面に塗工し、オーブン中、８０℃で１分間乾燥
し、塗膜を形成した。次いで、空気下、高圧水銀ランプ
を用いて、０．９Ｊ／ｃｍ^２ の光照射条件でこの塗膜
を紫外線硬化させることにより、高屈折率層を形成し
た。この硬化物層の膜厚を触針式表面形状測定器により
測定したところ、膜厚は８０ｎｍであった。さらに高屈
折率層上に製造例７にて調製した低屈折率硬化性組成物
１をワイヤーバーコータ（＃６）を用いて塗工し、１２
０℃で１時間、熱硬化させることにより低屈折率層を形
成させた。この硬化物層の膜厚を反射率測定により概算
したところ約１００ｎｍであった。このようにして高屈
折率層（約８０ｎｍ）と低屈折率層（約１００ｎｍ）か
らなる反射防止膜を得た。結果を表４に示す。

【００８６】

【表４】

【００８７】（実施例９〜１７）表４に示すように、低
屈折率層を形成するために、製造例７又は８で調製した
低屈折率硬化性組成物１又は２を用い、また、高屈折率
層を形成するために、実施例１〜７で調製した高屈折率
硬化性組成物を用いた以外は、実施例８と同様にして、
実施例９〜１７の反射防止膜を得た。また、高屈折率層
及び低屈折率層の膜厚を実施例８と同様に求めた。結果
を表４に示す。

【００８８】（比較例４〜８）表４に示すように、低屈
折率層を形成するために、製造例７又は８で調製した低
屈折率硬化性組成物１又は２を用い、また、高屈折率層
を形成するために、比較例１〜３で調製した高屈折率硬
化性組成物を用いた以外は、実施例８と同様にして、比
較例４〜８の反射防止膜を得た。また、高屈折率層及び
低屈折率層の膜厚を実施例８と同様に求めた。結果を表
４に示す。なお、比較例４及び５については、高屈折率
層の塗布ムラが激しく均一な膜が形成できず、膜厚が測
定できなかった。

【００８９】（試験例）実施例８〜１７及び比較例４〜
８で得られた反射防止膜におけるＱＵＶ前後の反射率、
ヘイズ、表面抵抗を下記に示す測定法により測定した。
また、得られた反射防止膜の塗膜外観を以下の基準で評
価した。得られた結果を表４に示す。なお、比較例４及
び５については、均一な低屈折率層及び高屈折率層が形
成されなかったので、反射率とヘイズを測定しなかっ
た。

【００９０】（１）反射率 ＰＥＴ未処理面に製膜した反射防止膜の反射率を顕微反
射分光膜厚計ＦＴＭ−１０００（大塚電子社製）を用い
て測定した。さらに、反射防止膜に対してＱＵＶ促進耐
候試験機（Ｑ−Ｐａｎｅｌ社製）を用いて１５０時間紫
外線を照射した後、同様に反射率を評価した。

【００９１】（２）ヘイズ ＰＥＴ未処理面に製膜した反射防止膜のヘイズをカラー
＆ヘイズメーター(スガ試験機製 Ｕ−３４１０型)を用
いて測定した。さらに、反射防止膜に対してＱＵＶ促進
耐候試験機（Ｑ−Ｐａｎｅｌ社製）を用いて１５０時間
紫外線を照射した後、同様にヘイズを評価した。

【００９２】（３）表面抵抗 ＰＥＴ未処理面に製膜した反射防止膜の表面抵抗（Ω／
□）を、ハイレジスタンスメーター（ヒューレット・パ
ッカード社製 ＨＰ４３３９）を用い、主電極径２６ｍ
ｍΦ、印加電圧１００Ｖの条件で測定した。さらに、反
射防止膜に対してＱＵＶ促進耐候試験機（Ｑ−Ｐａｎｅ
ｌ社製）を用いて１５０時間紫外線を照射した後、同様
に表面抵抗を評価した。

【００９３】（４）塗膜外観 ＰＥＴ易接着処理面上に製膜した反射防止膜の塗膜外観
を以下の基準から目視にて評価した。 評価○：反射防止膜の色ムラ、塗布ムラは全く観察され
なかった。 評価△：反射防止膜の色ムラ、塗布ムラが若干、観察さ
れた。 評価×：反射防止膜の著しい、色ムラ、塗布ムラが観察
された。 なお、評価△以上の塗膜外観であれば、実用上許容範囲
であり、評価○の塗膜外観であれば、実用上の視認性が
著しく向上することからさらに好ましいといえる。

【００９４】

【発明の効果】本発明によれば、塗布性に優れるととも
に、硬化させた場合に、帯電防止性、及び透明性等に優
れた硬化物が得られる反射防止膜用硬化性組成物を提供
できる。また、本発明によれば、このような反射防止膜
用硬化性組成物を硬化して得られる硬化物を反射防止膜
に適用した場合、塗膜外観に優れるとともに、優れた帯
電防止性、及び透明性を示す反射防止膜を提供すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態による反射防止膜の断面図
である。

【符号の説明】

１０ 反射防止膜 １２ 基材 １６ 高屈折率層 １８ 低屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 昭 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA13 AB17 DA34 2K009 AA02 AA05 AA15 CC03 CC09 CC14 CC24 CC26 CC42 DD02 EE03 4F100 AA17B AA17C AA28B AA28C AA29B AA29C AH02B AH02C AH10B AH10C AK01B AK01C AK23B AK23C AK25B AK25C AK42A AR00B AR00C AT00A BA03 BA07 CA30B CA30C GB90 JA20B JA20C JG01 JG01B JG01C JM01B JM01C JN06 JN06B JN06C JN18 JN18B JN18C JN21 YY00B YY00C 4J027 AA08 BA19 BA24 BA27 CA12 CA20 CA33 CC03 CC05 CD08

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分からなることを
   特徴とする反射防止膜用硬化性組成物。 （Ａ）導電性金属酸化物粉末１００重量部 （Ｂ）水酸基含有重合体５〜５０重量部 （Ｃ）分子内に少なくとも２個以上の（メタ）アクリロ
   イル基を有する（メタ）アクリレート化合物５〜５０重
   量部 （Ｄ）光重合開始剤０．１〜１０重量部 （Ｅ）有機溶剤２，０００〜１０，０００重量部
2. 【請求項２】 前記（Ａ）成分が、アンチモン含有酸化
   錫又はインジウム含有酸化錫であることを特徴とする請
   求項１に記載の反射防止膜用硬化性組成物。
3. 【請求項３】 前記（Ａ）成分が、表面処理されている
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射防
   止膜用硬化性組成物。
4. 【請求項４】 前記（Ｂ）成分が、ブチラール樹脂であ
   ることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一
   項に記載の反射防止膜用硬化性組成物。
5. 【請求項５】 前記（Ｂ）成分が、側鎖に（メタ）アク
   リロイル基を有するブチラール樹脂であることを特徴と
   する請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の反射
   防止膜用硬化性組成物。
6. 【請求項６】 基材と、 前記基材の上にあって、請求項１から請求項５のいずれ
   か一項に記載の反射防止膜用硬化性組成物を硬化させた
   硬化物からなる、膜厚が０.０５〜０．５μｍである高
   屈折率層と、 前記高屈折率層の上にあって、膜厚が０.０５〜１μｍ
   である低屈折率層とを含む反射防止膜。