JP2017181806A - 光学フィルム、偏光板、液晶表示装置、光学フィルムの製造方法、及び偏光板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】透湿度が低く、ヘイズが低く、透過光の視認性に優れ、重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制され、偏光子と積層して偏光板とした際の偏光子との密着性に優れ、かつ打ち抜き加工時のデラミネーションの発生が抑制された光学フィルム等。
【解決手段】セルロースアシレート含有支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、液晶表示装置、上記光学フィルムの製造方法及び上記偏光板の製造方法。
条件（１）：領域Ａは、機能性層の支持体側の界面とは反対側の表面を含み、表面から支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍ以内の領域。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、ゴム質弾性体の含有率が領域Ａの全体積に対して２．５体積％以上の領域。
【選択図】なし
【解決手段】セルロースアシレート含有支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、液晶表示装置、上記光学フィルムの製造方法及び上記偏光板の製造方法。
条件（１）：領域Ａは、機能性層の支持体側の界面とは反対側の表面を含み、表面から支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍ以内の領域。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、ゴム質弾性体の含有率が領域Ａの全体積に対して２．５体積％以上の領域。
【選択図】なし
Description
本発明は、光学フィルム、偏光板、液晶表示装置、光学フィルムの製造方法、及び偏光板の製造方法に関する。
近年、液晶表示装置は、液晶テレビ、パソコン、携帯電話、及びデジタルカメラなどの用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子と保護フィルム（偏光板保護フィルム）とを含んでなり、保護フィルムとしてはセルロースアシレートフィルムなどが用いられている。
液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる偏光板用保護フィルムなどの光学フィルムについても耐久性の向上が求められている。
光学フィルムについては、水分を透過させない性能が重要になっており、特に、セルロースアシレートフィルムは、その他の樹脂フィルム（例えばアクリル系樹脂フィルムなど）に比べて透湿度が高いため、透湿度が低い層をセルロースアシレートフィルム上に設けることにより、全体としての透湿度を低くすることが検討されている。
光学フィルムについては、水分を透過させない性能が重要になっており、特に、セルロースアシレートフィルムは、その他の樹脂フィルム（例えばアクリル系樹脂フィルムなど）に比べて透湿度が高いため、透湿度が低い層をセルロースアシレートフィルム上に設けることにより、全体としての透湿度を低くすることが検討されている。
例えば、特許文献１には、透湿度が低い偏光板保護フィルムを用いた液晶表示装置が記載されており、これにより、高温高湿環境下でのパネルの反りに基づく光ムラを低減できることが記載されている。
また、特許文献２には、透湿度に関する記載はないが、アクリル系樹脂にゴム弾性体粒子が配合されたアクリル系樹脂組成物からなるシート状のアクリル系樹脂フィルムが記載されており、紫外線硬化型接着剤を介して偏光子と積層することが記載されている。
本発明者らは、新たな構成の偏光板として、セルロースアシレートを含有する支持体上に透湿度が低い層（低透湿層）を有する光学フィルムの低透湿層と、偏光子とを、紫外線硬化型接着剤を介して積層することを検討した。そして、この検討において、低透湿層と偏光子との密着性を確保することが問題であること、特に打ち抜き加工時の偏光板の端部におけるデラミネーション（層間剥離）の発生が問題になることが分かった。
また、上記密着性及びデラミネーションの問題を解決しつつ、ヘイズが低く透過光の視認性に優れ、かつ重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制された光学フィルムが望まれる。
したがって、本発明が解決しようとする課題は、透湿度が低く、ヘイズが低く、透過光の視認性に優れ、重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制され、偏光子と積層して偏光板とした際の偏光子との密着性に優れ、かつ打ち抜き加工時のデラミネーションの発生が抑制された光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、及び液晶表示装置、並びに上記光学フィルムの製造方法及び上記偏光板の製造方法を提供することにある。
また、上記密着性及びデラミネーションの問題を解決しつつ、ヘイズが低く透過光の視認性に優れ、かつ重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制された光学フィルムが望まれる。
したがって、本発明が解決しようとする課題は、透湿度が低く、ヘイズが低く、透過光の視認性に優れ、重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制され、偏光子と積層して偏光板とした際の偏光子との密着性に優れ、かつ打ち抜き加工時のデラミネーションの発生が抑制された光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、及び液晶表示装置、並びに上記光学フィルムの製造方法及び上記偏光板の製造方法を提供することにある。
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段により解決することができる。
＜１＞
セルロースアシレートを含有する支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルム。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
＜２＞
上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記領域Ａ中の上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して３０％以下である＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
上記機能性層の厚さが３μｍ以上１５μｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
上記ゴム質弾性体が、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含有する重合体を含む＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光学フィルム。
一般式（Ｂ）
セルロースアシレートを含有する支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルム。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
＜２＞
上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記領域Ａ中の上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して３０％以下である＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
上記機能性層の厚さが３μｍ以上１５μｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
上記ゴム質弾性体が、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含有する重合体を含む＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光学フィルム。
一般式（Ｂ）
一般式（Ｂ）中、Ｒｂ１は、水素原子又はメチル基を表す。
＜５＞
上記ゴム質弾性体が、コア−シェル構造を有する粒子である＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜６＞
上記重合性基を２つ以上有する化合物が、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とを有する化合物である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜７＞
上記機能性層が低透湿層である＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜８＞
＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板であって、
上記光学フィルムの上記機能性層と、上記偏光子とが接着剤層を介して貼り合わされている偏光板。
＜９＞
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された＜８＞に記載の偏光板とを含む液晶表示装置。
＜１０＞
セルロースアシレートを含有する支持体上に、重合性基を２つ以上有する化合物を含有する第一層形成用組成物を塗布し、硬化させて、第一層を形成する工程、及び、
上記第一層上に、重合性基を２つ以上有する化合物とゴム質弾性体とを含有し、上記ゴム質弾性体の含有率が全固形分に対して２．５質量％以上である第二層形成用組成物を直接塗布し、硬化させて、膜厚３μｍ以下の第二層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法。
＜１１＞
＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学フィルムの上記機能性層と、偏光子とを紫外線硬化型接着剤により貼り合わせる工程を有する、偏光板の製造方法。
＜５＞
上記ゴム質弾性体が、コア−シェル構造を有する粒子である＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜６＞
上記重合性基を２つ以上有する化合物が、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とを有する化合物である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜７＞
上記機能性層が低透湿層である＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の光学フィルム。
＜８＞
＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板であって、
上記光学フィルムの上記機能性層と、上記偏光子とが接着剤層を介して貼り合わされている偏光板。
＜９＞
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された＜８＞に記載の偏光板とを含む液晶表示装置。
＜１０＞
セルロースアシレートを含有する支持体上に、重合性基を２つ以上有する化合物を含有する第一層形成用組成物を塗布し、硬化させて、第一層を形成する工程、及び、
上記第一層上に、重合性基を２つ以上有する化合物とゴム質弾性体とを含有し、上記ゴム質弾性体の含有率が全固形分に対して２．５質量％以上である第二層形成用組成物を直接塗布し、硬化させて、膜厚３μｍ以下の第二層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法。
＜１１＞
＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学フィルムの上記機能性層と、偏光子とを紫外線硬化型接着剤により貼り合わせる工程を有する、偏光板の製造方法。
本発明により、透湿度が低く、ヘイズが低く、透過光の視認性に優れ、重ねて保管した際及びロール形態で保管した際の張り付きの発生が抑制され、偏光子と積層して偏光板とした際の偏光子との密着性に優れ、かつ打ち抜き加工時のデラミネーションの発生が抑制された光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、及び液晶表示装置、並びに上記光学フィルムの製造方法及び上記偏光板の製造方法を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリロイル」についても同様である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリロイル」についても同様である。
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートを含有する支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルムである。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートを含有する支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルムである。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
＜セルロースアシレートを含有する支持体＞
本発明の光学フィルムはセルロースアシレートを含有する支持体（以下、単に「支持体」とも呼ぶ）を有する。
支持体に含まれるセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基にアシル基が置換したものであり、アシル基の炭素数は２〜２２が好ましい。炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基でもよく、１種類でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。更に好ましい基はアセチル基、プロピオニルで基あり、最も好ましい基はアセチル基である。
本発明の光学フィルムはセルロースアシレートを含有する支持体（以下、単に「支持体」とも呼ぶ）を有する。
支持体に含まれるセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基にアシル基が置換したものであり、アシル基の炭素数は２〜２２が好ましい。炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基でもよく、１種類でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。更に好ましい基はアセチル基、プロピオニルで基あり、最も好ましい基はアセチル基である。
セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることが更に好ましい。
セルロースの水酸基へのアシル基の置換度については、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
セルロースの水酸基へのアシル基の置換度については、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定できる。この方法は特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
セルロースアシレートの分子量分布は、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ×１５．０ｃｍを用いて評価される。溶離液は臭化リチウム１０ｍｍｏｌ／ＬのＮＭＰ溶液を用いる。多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜４．０であることがさらに好ましく、２．３〜３．４であることが最も好ましい。
セルロースアシレートの分子量分布は、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ×１５．０ｃｍを用いて評価される。溶離液は臭化リチウム１０ｍｍｏｌ／ＬのＮＭＰ溶液を用いる。多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜４．０であることがさらに好ましく、２．３〜３．４であることが最も好ましい。
支持体中のセルロースアシレートの含有率は、支持体の全質量に対して６０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜１００質量％であることがより好ましく、７５〜１００質量％であることが更に好ましい。
支持体の厚さは、２０μｍ〜１０００μｍであることが好ましく、２０μｍ〜７０μｍであることがより好ましい。
支持体は、透明性が高いことが好ましく、可視光（波長４００〜８００ｎｍ）の平均の透過率が８０％以上であるものが好ましい。
＜機能性層＞
本発明の光学フィルムは、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層を有する。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
本発明の光学フィルムは、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層を有する。
条件（１）：領域Ａは、上記機能性層の上記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から上記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、上記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、上記ゴム質弾性体の面積が上記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。
本発明の光学フィルムにおいて、支持体と機能性層とは接していてもよいし、支持体と機能性層の間に他の層を有していていもよい。
（領域Ａ）
機能性層に含まれる領域Ａについて説明する。
条件（１）に示すとおり、領域Ａは、機能性層の支持体側の界面とは反対側の表面を含むものであり、その表面から機能層の支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
また、条件（２）に示すとおり、領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを少なくとも含有し、かつ光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を観察した場合に、ゴム質弾性体の面積が領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。すなわち、下記式（Ａ１）で表される領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率が、２．５％以上である。
１００×領域Ａに含まれるゴム質弾性体の面積／領域Ａの全面積 式（Ａ１）
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、２．５％以上３０％以下であることが好ましく、１５％以上３０％以下であることが更に好ましい。
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を切り出し透過型電子顕微鏡により５万倍で１０枚測定し、この撮影画像の全面積に対する、ゴム質弾性体部の総面積を算出したものである。
機能性層に含まれる領域Ａについて説明する。
条件（１）に示すとおり、領域Ａは、機能性層の支持体側の界面とは反対側の表面を含むものであり、その表面から機能層の支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
また、条件（２）に示すとおり、領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを少なくとも含有し、かつ光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を観察した場合に、ゴム質弾性体の面積が領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。すなわち、下記式（Ａ１）で表される領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率が、２．５％以上である。
１００×領域Ａに含まれるゴム質弾性体の面積／領域Ａの全面積 式（Ａ１）
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、２．５％以上３０％以下であることが好ましく、１５％以上３０％以下であることが更に好ましい。
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を切り出し透過型電子顕微鏡により５万倍で１０枚測定し、この撮影画像の全面積に対する、ゴム質弾性体部の総面積を算出したものである。
（領域Ｂ）
機能性層は、領域Ａ以外の領域を含んでいることが好ましい。領域Ａ以外の領域を領域Ｂと呼ぶ。
領域Ｂの厚さは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることが更に好ましい。
領域Ｂは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物を含有することが好ましい。
領域Ｂはゴム質弾性体を含有していてもよいが、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を観察した場合に、下記式（Ｂ１）で表される領域Ｂ中のゴム質弾性体の面積比率は、２．５％未満であり、２％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、領域Ｂにはゴム質弾性体が存在しないことが最も好ましい。
１００×領域Ｂに含まれるゴム質弾性体の面積／領域Ｂの全面積 式（Ｂ１）
機能性層は、領域Ａ以外の領域を含んでいることが好ましい。領域Ａ以外の領域を領域Ｂと呼ぶ。
領域Ｂの厚さは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることが更に好ましい。
領域Ｂは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物を含有することが好ましい。
領域Ｂはゴム質弾性体を含有していてもよいが、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を観察した場合に、下記式（Ｂ１）で表される領域Ｂ中のゴム質弾性体の面積比率は、２．５％未満であり、２％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、領域Ｂにはゴム質弾性体が存在しないことが最も好ましい。
１００×領域Ｂに含まれるゴム質弾性体の面積／領域Ｂの全面積 式（Ｂ１）
機能性層の厚さは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることが更に好ましい。
機能性層（領域Ａ及び領域Ｂの少なくともいずれか）は、必要に応じて更に、無機フィラー、紫外線吸収剤、界面活性剤を含有してもよい。
機能性層は、低透湿層であることが好ましい。
本明細書において、「低透湿層」とは、透湿度が、日本工業規格（ＪＩＳ） Ｚ−０２０８（１９７６）の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後、２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを意味するものとする。低透湿層の透湿度は、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。また、光学フィルムの「透湿性が低い（低透湿性）」とは、透湿度が５００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上である支持体に対して低透湿層を形成し、光学フィルムの透湿度を前述と同様に評価した場合に２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを意味するものとする。光学フィルムの透湿度は、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましい。
本明細書において、「低透湿層」とは、透湿度が、日本工業規格（ＪＩＳ） Ｚ−０２０８（１９７６）の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後、２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを意味するものとする。低透湿層の透湿度は、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。また、光学フィルムの「透湿性が低い（低透湿性）」とは、透湿度が５００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上である支持体に対して低透湿層を形成し、光学フィルムの透湿度を前述と同様に評価した場合に２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを意味するものとする。光学フィルムの透湿度は、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましい。
図を用いて、本発明の光学フィルムについてより具体的に説明する。
図１は、本発明の光学フィルムの一例の光学フィルム表面に垂直な方向の断面を示す模式図である。図１の光学フィルム１０は、セルロースアシレートを含有する支持体１と、機能性層２とを有している。機能性層２は、符号Ａで示した領域Ａと符号Ｂで示した領域Ｂとを有している。
領域Ａは、ゴム質弾性体３と図示しない重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とを含有している。
領域Ａの厚みは機能性層２の支持体１側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から支持体１側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍである（表面から図１に示された一点鎖線までの厚さｔａの領域であり、ｔａ＝０．２μｍである）。
領域Ａは、ゴム質弾性体３の面積が領域Ａの全面積に対して２．５％以上の領域である。
なお、図１においては、便宜上領域Ａと領域Ｂの境界線を一点鎖線で示しているが、実際には領域Ａと領域Ｂとの界面は存在しない場合もある。
領域Ａの機能性層２の支持体１側の界面とは反対側の表面がゴム質弾性体３によって形成された凹凸を有する場合は、その凹凸における最も高い（機能性層２の支持体１側の界面から最も遠い）点を基準として厚さｔａを定義するものとする。図１においては、領域Ｂの厚さはｔｂであり、機能性層全体の厚さはｔａ＋ｔｂである。
図１は、本発明の光学フィルムの一例の光学フィルム表面に垂直な方向の断面を示す模式図である。図１の光学フィルム１０は、セルロースアシレートを含有する支持体１と、機能性層２とを有している。機能性層２は、符号Ａで示した領域Ａと符号Ｂで示した領域Ｂとを有している。
領域Ａは、ゴム質弾性体３と図示しない重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とを含有している。
領域Ａの厚みは機能性層２の支持体１側の界面とは反対側の表面を含み、上記表面から支持体１側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍである（表面から図１に示された一点鎖線までの厚さｔａの領域であり、ｔａ＝０．２μｍである）。
領域Ａは、ゴム質弾性体３の面積が領域Ａの全面積に対して２．５％以上の領域である。
なお、図１においては、便宜上領域Ａと領域Ｂの境界線を一点鎖線で示しているが、実際には領域Ａと領域Ｂとの界面は存在しない場合もある。
領域Ａの機能性層２の支持体１側の界面とは反対側の表面がゴム質弾性体３によって形成された凹凸を有する場合は、その凹凸における最も高い（機能性層２の支持体１側の界面から最も遠い）点を基準として厚さｔａを定義するものとする。図１においては、領域Ｂの厚さはｔｂであり、機能性層全体の厚さはｔａ＋ｔｂである。
（ゴム質弾性体）
ゴム質弾性体としては、芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有するゴム質弾性体であることが好ましい。
「芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合」とは、炭素−炭素二重結合のうち、芳香環に含まれるものを除いたものである。ゴム質弾性体としては、重合体であることが好ましく、主鎖に芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有することがより好ましく、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含有することがさらに好ましい。
一般式（Ｂ）
ゴム質弾性体としては、芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有するゴム質弾性体であることが好ましい。
「芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合」とは、炭素−炭素二重結合のうち、芳香環に含まれるものを除いたものである。ゴム質弾性体としては、重合体であることが好ましく、主鎖に芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有することがより好ましく、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含有することがさらに好ましい。
一般式（Ｂ）
一般式（Ｂ）中、Ｒｂ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒｂ１は水素原子であることが好ましい。
Ｒｂ１は水素原子であることが好ましい。
ゴム質弾性体は、コア−シェル粒子又はゴム質重合体であることが好ましい。
後述するように、本発明では、溶液製膜法を用いて光学フィルムを製造することが好ましいが、領域Ａを形成する組成物に含有されるゴム質弾性体が、芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有することにより、溶液への溶解性及び分散性が優れたものとなり、得られる光学フィルムのヘイズ（特に内部ヘイズ）を低下させることができる。
後述するように、本発明では、溶液製膜法を用いて光学フィルムを製造することが好ましいが、領域Ａを形成する組成物に含有されるゴム質弾性体が、芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有することにより、溶液への溶解性及び分散性が優れたものとなり、得られる光学フィルムのヘイズ（特に内部ヘイズ）を低下させることができる。
＜コア−シェル粒子＞
本発明では、ゴム質弾性体としてコア−シェル構造を有する粒子（コア−シェル粒子）を用いることができる。コア−シェル粒子は、種々のポリマーの２種類（コアと１つのシェル）または３種類以上（コアと、２つ以上のシェル）の交互層を有する。コア−シェル粒子は、個々の層が、異なるガラス転移温度（Ｔｇ）のポリマーから構成されていることが好ましい。
ガラス転移温度の低いポリマーを、コアとなるゴム相と称し、ガラス転移温度の高いポリマーを、シェルとなる硬質相（ｈａｒｄ ｐｈａｓｅ）と称することとする。
コア−シェル粒子は、例えば、エマルション重合により製造することができる。コア−シェル粒子の形とサイズが、ブレンド中に変化しないように、１種以上の層を製造時に化学的に架橋させてもよい。
架橋型のコア−シェル粒子を用いることにより、製膜時に粒子径が変化することがないため、光学フィルム中に存在するコア−シェル粒子の粒子径制御が行いやすくなる。
本発明では、ゴム質弾性体としてコア−シェル構造を有する粒子（コア−シェル粒子）を用いることができる。コア−シェル粒子は、種々のポリマーの２種類（コアと１つのシェル）または３種類以上（コアと、２つ以上のシェル）の交互層を有する。コア−シェル粒子は、個々の層が、異なるガラス転移温度（Ｔｇ）のポリマーから構成されていることが好ましい。
ガラス転移温度の低いポリマーを、コアとなるゴム相と称し、ガラス転移温度の高いポリマーを、シェルとなる硬質相（ｈａｒｄ ｐｈａｓｅ）と称することとする。
コア−シェル粒子は、例えば、エマルション重合により製造することができる。コア−シェル粒子の形とサイズが、ブレンド中に変化しないように、１種以上の層を製造時に化学的に架橋させてもよい。
架橋型のコア−シェル粒子を用いることにより、製膜時に粒子径が変化することがないため、光学フィルム中に存在するコア−シェル粒子の粒子径制御が行いやすくなる。
（ゴム相）
架橋したゴム相に使用できる未架橋のベース材料は、そのガラス転移温度が好ましくは０℃未満、より好ましくは−２０℃未満、特に好ましくは−４０℃未満のポリマーである。
架橋したゴム相に使用できる未架橋のベース材料は、そのガラス転移温度が好ましくは０℃未満、より好ましくは−２０℃未満、特に好ましくは−４０℃未満のポリマーである。
ゴム相のガラス転移温度は、個々に測定できないことが多いが、関連するモノマー組成物のエマルションポリマーを製造し、単離し、次いでガラス転移温度の測定により決定することができる。ゴム相のガラス転移温度を測定する別の方法は、新規ポリマーブレンドの動的機械的特性と、マトリックスポリマー単独の動的機械的特性を測定するものである。動的損失曲線（ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｌｏｓｓ ｆａｃｔｏｒ ｃｕｒｖｅｓ）の最大値は、ガラス転移温度の尺度として考えることができる。
コア−シェル粒子に存在するゴム相は、粒子の全体積を基準として、１０〜９０体積％であることが好ましく、２０〜７０体積％であることがより好ましく、３０〜６０体積％であることが更に好ましい。
コア−シェル粒子に存在する硬質相は、粒子の全体積を基準として、９０〜１０体積％であることが好ましく、８０〜３０体積％であることがより好ましく、７０〜４０体積％であることが更に好ましい。
コア−シェル粒子の製造方法は公知であり、その詳細は、例えば、米国特許出願第ＵＳ−Ａ−３，８３３，６８２号、同第３，７８７，５２２号、ドイツ特許出願第ＤＥ−Ａ−２ １１６ ６５３号、同第２２ ５３ ６８９号、同第４１ ３２ ４９７号、同第４１ ３１ ７３８号、同第４０ ４０ ９８６号、米国特許出願第ＵＳ−Ａ−３，１２５，１９０４号及びドイツ特許出願第ＤＥ−Ａ−３３ ００ ５２６に記載されている。
コア−シェル粒子のゴム相として使用するポリマーは、ホモポリマーまたは、２種以上のモノマーから構成されるコポリマー類であってもよい。
ゴム相として使用できるホモポリマー類またはコポリマー類は、以下のモノマー類：
共役ジエンモノマー類（例えば、ブタジエン、イソプレン及びクロロプレン）、モノエチレン性不飽和モノマー類、例えば、アルキル及びアリールアクリレート類（但し、アルキル基は線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、アルキル及びアリールメタクリレート類（但し、アルキル基は、線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、置換アルキル及びアリールメタクリレート及びアクリレート類（但し、置換基は、線状、環式若しくは置換アルキル基または置換アリール基であってもよい）、アクリロニトリル及び置換アクリロニトリル類（例えば、メタクリロニトリル、α−メチレングルタロニトリル、α−エチルアクリロニトリル、α−フェニルアクリロニトリル）、アルキル−及びアリールアクリルアミド類及び置換アルキル−及びアリールアクリルアミド類、ビニルエステル及び置換ビニルエステル類、ビニルエーテル類及び置換ビニルエーテル類、ビニルアミド類及び置換ビニルアミド類、ビニルケトン類及び置換ビニルケトン類、ハロゲン化ビニル類及び置換ハロゲン化ビニル類、例えば、オレフィン性ゴムを製造するのに使用するような１つ以上の二重結合を有するオレフィン類、特に、エチレン、プロピレン、ブチレン及び１，４−ヘキサジエン、並びにビニル芳香族化合物類（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ハロスチレン類及びｔｅｒｔ−ブチルスチレン類）から誘導することができる。
共役ジエンモノマー類（例えば、ブタジエン、イソプレン及びクロロプレン）、モノエチレン性不飽和モノマー類、例えば、アルキル及びアリールアクリレート類（但し、アルキル基は線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、アルキル及びアリールメタクリレート類（但し、アルキル基は、線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、置換アルキル及びアリールメタクリレート及びアクリレート類（但し、置換基は、線状、環式若しくは置換アルキル基または置換アリール基であってもよい）、アクリロニトリル及び置換アクリロニトリル類（例えば、メタクリロニトリル、α−メチレングルタロニトリル、α−エチルアクリロニトリル、α−フェニルアクリロニトリル）、アルキル−及びアリールアクリルアミド類及び置換アルキル−及びアリールアクリルアミド類、ビニルエステル及び置換ビニルエステル類、ビニルエーテル類及び置換ビニルエーテル類、ビニルアミド類及び置換ビニルアミド類、ビニルケトン類及び置換ビニルケトン類、ハロゲン化ビニル類及び置換ハロゲン化ビニル類、例えば、オレフィン性ゴムを製造するのに使用するような１つ以上の二重結合を有するオレフィン類、特に、エチレン、プロピレン、ブチレン及び１，４−ヘキサジエン、並びにビニル芳香族化合物類（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ハロスチレン類及びｔｅｒｔ−ブチルスチレン類）から誘導することができる。
また、下記一般式（Ｃ）で表されるオルガノポリシロキサン類をベースとするゴム相も、コア−シェル粒子の作製に使用することができる。
一般式（Ｃ）
上記一般式（Ｃ）中、Ｒは、１〜１０個の炭素原子を有する同一または異なるアルキル若しくはアルケニル基、アリール基または置換炭化水素基である。なお、上記アルキル及びアルケニル基は、線状、分岐または環式であってもよい。ｎは２以上の自然数を表す。
フッ素化モノエチレン性不飽和化合物、例えば、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロペン、クロロトリフルオロエチレン及びパーフルオロ（アルキルビニル）エーテル類などをベースとするゴム相を使用することも可能である。
ゴム相は架橋していてもよく、この使用のために、ドイツ特許出願第ＤＥ−Ａ−１ １１６ ６５３号、米国特許出願第ＵＳ−Ａ−３，７８７，５２２号及び欧州特許出願第ＥＰ−Ａ−０ ４３６ ０８０号に記載されているような、多官能性不飽和化合物から製造することもできる。これらの出版物には、グラフト性モノマー（ｇｒａｆｔｉｎｇ−ｏｎ ｍｏｎｏｍｅｒ）の使用も記載されている。これらの化合物は、所望により、この下にある相に対してさらにシェルを化学的に架橋するのに使用することができる。
本発明において、ゴム質弾性体としてコア−シェル粒子を用いる場合、コアを構成するゴム相は芳香環を構成しない炭素−炭素二重結合を有する化合物からなるものであることが好ましいが、特に、ゴム質弾性体のゴム相がブタジエンに由来する繰り返し単位を有するコア−シェル粒子であることが好ましい。
（硬質相）
コア−シェル粒子の硬質相で使用することができるポリマーは、ホモまたはコポリマー類である。コポリマー類は、２種以上のモノマーから構成されていてもよい。ホモポリマー及びコポリマーとしては、ガラス転移温度が５０℃以上であることが好ましい。
コア−シェル粒子の硬質相で使用することができるポリマーは、ホモまたはコポリマー類である。コポリマー類は、２種以上のモノマーから構成されていてもよい。ホモポリマー及びコポリマーとしては、ガラス転移温度が５０℃以上であることが好ましい。
硬質相として使用できるホモポリマー及びコポリマー類は、以下のモノマー類：
モノエチレン性不飽和化合物類、例えば、アルキル及びアリールアクリレート類（但し、アルキル基は線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、アルキル及びアリールメタクリレート類（但し、アルキル基は、線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、置換アルキル及びアリールメタクリレート及びアクリレート類（但し、置換基は、線状、環式若しくは置換アルキル基または置換アリール基であってもよい）、アクリロニトリル及び置換アクリロニトリル類（例えば、メタクリロニトリル、α−メチレングルタロニトリル、α−エチルアクリロニトリル、α−フェニルアクリロニトリル）、アルキル−及びアリールアクリルアミド類、ビニルエステル及び置換ビニルエステル類、ビニルエーテル類及び置換ビニルエーテル類、ビニルアミド類及び置換ビニルアミド類、ビニルケトン類及び置換ビニルケトン類、ハロゲン化ビニル類及び置換ハロゲン化ビニル類、オレフィン類（例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン）、環式オレフィン類（例えば、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−ビニルノルボルネン）、フッ素化モノエチレン性不飽和化合物類、例えば、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロペン、クロロトリフルオロエチレン及びパーフルオロ（アルキルビニル）エーテル類並びに下記一般式（Ｄ）で表されるビニル芳香族化合物から誘導されていてもよい。
モノエチレン性不飽和化合物類、例えば、アルキル及びアリールアクリレート類（但し、アルキル基は線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、アルキル及びアリールメタクリレート類（但し、アルキル基は、線状、環式若しくは分岐であってもよく、アリール基は、それ自体置換基を有していてもよい）、置換アルキル及びアリールメタクリレート及びアクリレート類（但し、置換基は、線状、環式若しくは置換アルキル基または置換アリール基であってもよい）、アクリロニトリル及び置換アクリロニトリル類（例えば、メタクリロニトリル、α−メチレングルタロニトリル、α−エチルアクリロニトリル、α−フェニルアクリロニトリル）、アルキル−及びアリールアクリルアミド類、ビニルエステル及び置換ビニルエステル類、ビニルエーテル類及び置換ビニルエーテル類、ビニルアミド類及び置換ビニルアミド類、ビニルケトン類及び置換ビニルケトン類、ハロゲン化ビニル類及び置換ハロゲン化ビニル類、オレフィン類（例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン）、環式オレフィン類（例えば、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−ビニルノルボルネン）、フッ素化モノエチレン性不飽和化合物類、例えば、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロペン、クロロトリフルオロエチレン及びパーフルオロ（アルキルビニル）エーテル類並びに下記一般式（Ｄ）で表されるビニル芳香族化合物から誘導されていてもよい。
一般式（Ｄ）
上記一般式（Ｄ）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一または異なっていてもよく、水素原子、または、線状、分岐若しくは環式アルキル基、または置換若しくは非置換アリール基であり、Ａｒは、追加の置換基、例えば、アルキル若しくはハロゲン基などを有していてもよい、炭素数６〜１８の芳香族基である。
硬質相は、架橋していてもよく、ドイツ特許出願第ＤＥ−Ａ−２ １１６ ６５３号及び米国特許出願第ＵＳ−Ａ−３，７８７，５２２号及び欧州特許出願第ＥＰ−Ａ−０ ４３６ ０８０号に記載されているような多官能性の不飽和化合物から製造してもよい。これらの出版物には、グラフト性モノマーの使用も記載されている。これらの化合物は、所望により、この下にある相に対してさらにシェルを化学的に架橋するのに使用することができる。
硬質相用の未架橋ベース材料であるポリマーは、好ましくは５０℃以上、より好ましくは８０℃以上、特に好ましくは１００℃以上のガラス転移温度を有する。
硬質相用の未架橋ベース材料であるポリマーは、好ましくは５０℃以上、より好ましくは８０℃以上、特に好ましくは１００℃以上のガラス転移温度を有する。
ゴム質弾性体としては、市販のコア−シェル粒子、例えば、日本特許第１７５１４号または同第１２９２６６号に記載の、例えば、カネエースＭ７３２（株式会社カネカ製）、ＴＡＫＥＤＡ Ｃｈｅｍ． Ｉｎｄｕｓｔｉｒｅｓ．のＳｔａｐｈｙｌｏｉｄグレード、Ｋｎａｅ ＡＣＥ−Ｂ製品カタログに記載のＫＡＮＥＫＡのＫａｎｅ−Ａｃｅグレード、Ｍｅｔａｂｌｅｎ製品カタログに記載のＭＥＴＡＢＬＥＮ Ｃｏｍｐａｎｙ ＢＶのＭｅｔａｂｌｅｎ Ｃ、Ｍｅｔａｂｌｅｎ Ｗ及びＭｅｔａｂｌｅｎ Ｅグレード、例えば、Ｇａｃｈｔｅｒ／Ｍｕｌｌｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ ［Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ］、Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ、Ｍｕｎｉｃｈ （１９８３）頁ＸＸＩＸ以下参照またはＰＡＲＡＬＯＩＤ ＢＴＡ７３３カタログ、Ｒｏｈｍ ａｎｄ ＨａａｓのＩｍｐａｃｔ Ｍｏｄｉｆｉｅｒｓ ｆｏｒＣｌｅａｒ Ｐａｃｋａｇｉｎｇ （１９８７）または、Ｒｏｈｍ ａｎｄ ＨａａｓのＰＡＲＡＬＯＩＤ ＢＴＡ−ＩＩＩ Ｎ２ ＢＴＡ−７０２ ＢＴＡ ７１５カタログ（１９８９）に記載のＧＥ ＰＬＡＳＴＩＣＳ製のＢｌｅｎｄｅｘグレードまたはＲＯＨＭ ａｎｄ ＨＡＡＳ製のＰａｒａｌｏｉｄグレードを用いることができる。
なお、コア−シェル粒子の形態としては、ブタジエンをコアとし、スチレン及びメチルメタクリレートの少なくとも一方（より好ましくはスチレン比率が１０モル％以上、さらに好ましくは３０モル％以上）をシェルとするコア−シェル粒子（ＭＢＳ）を用いることが好ましい。
また、ゴム質弾性体として、市販の重合体粒子を用いることもでき、例えば、アサプレンＴ４３９（旭化成ケミカルズ株式会社製）、クインタック３４５０（日本ゼオン株式会社製）などが挙げられる。
ゴム質弾性体の平均粒子径は２００ｎｍ以下であることが好ましい。
なお、コア−シェル粒子の形態としては、ブタジエンをコアとし、スチレン及びメチルメタクリレートの少なくとも一方（より好ましくはスチレン比率が１０モル％以上、さらに好ましくは３０モル％以上）をシェルとするコア−シェル粒子（ＭＢＳ）を用いることが好ましい。
また、ゴム質弾性体として、市販の重合体粒子を用いることもでき、例えば、アサプレンＴ４３９（旭化成ケミカルズ株式会社製）、クインタック３４５０（日本ゼオン株式会社製）などが挙げられる。
ゴム質弾性体の平均粒子径は２００ｎｍ以下であることが好ましい。
（重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物）
重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は、重合性基を２つ以上有する化合物を硬化して得られる。すなわち、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は硬化性化合物である。硬化性化合物とは、何らかのエネルギー付与により反応を生起し、硬化する化合物であれば特に制限はないが、特に、熱、紫外線（ＵＶ）又は放射線によって硬化する化合物であることが好ましい。
重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は、１種類の硬化性化合物のみの硬化物であってもよいし、２種類以上の硬化性化合物の硬化物であってもよい。
重合性基としては、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましく、具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基、スチリル基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、より好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は、重合性基を２つ以上有する化合物を硬化して得られる。すなわち、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は硬化性化合物である。硬化性化合物とは、何らかのエネルギー付与により反応を生起し、硬化する化合物であれば特に制限はないが、特に、熱、紫外線（ＵＶ）又は放射線によって硬化する化合物であることが好ましい。
重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物は、１種類の硬化性化合物のみの硬化物であってもよいし、２種類以上の硬化性化合物の硬化物であってもよい。
重合性基としては、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましく、具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基、スチリル基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、より好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
重合性基を２つ以上有する化合物としては、（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
光学フィルムの透湿度をより低くするという観点から、重合性基を２つ以上有する化合物は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、又は、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物であることが好ましく、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物であることがより好ましい。
〔環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とを有する化合物〕
環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、さらに好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、さらに好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルナン基、トリシクロデカン基、テトラシクロドデカン基、ペンタシクロペンタデカン基、アダマンタン基、ジアマンタン基等が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基（連結基含む）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＶ）で表される基がより好ましく、下記一般式（Ｉ）で表される基が更に好ましい。
一般式（Ｉ）中、Ｌ１及びＬ２は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。
一般式（ＩＩ）中、Ｌ１及びＬ２は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ１及びＬ２は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
一般式（ＩＶ）中、Ｌ１及びＬ２は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表し、Ｌ３は水素原子、単結合又は２価以上の連結基を表す。
一般式（Ｖ）中、Ｌ１及びＬ２は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３についての２価以上の連結基としては、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が置換されていてもよいアミド結合、Ｎ位が置換されていてもよいウレタン結合、エステル結合、オキシカルボニル基、エーテル結合等、及びこれらの２以上を組み合わせて得られる基が挙げられる。
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３についての２価以上の連結基としては、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が置換されていてもよいアミド結合、Ｎ位が置換されていてもよいウレタン結合、エステル結合、オキシカルボニル基、エーテル結合等、及びこれらの２以上を組み合わせて得られる基が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する基を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。
これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
以下、環状脂肪族炭化水素基を有しエチレン性不飽和二重結合を有する基を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物において、分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物において、分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は下記一般式（ＶＩ）で表されることが好ましい。
一般式（ＶＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９はそれぞれ独立に一価の置換基を表し、ｊ、ｋ、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０〜４の整数を表し、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一方はエチレン性不飽和二重結合を有する一価の有機基を表す。
分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物として上記一般式（ＶＩ）の好ましい態様は下記一般式（ＶＩＩ）で表される。
一般式（ＶＩＩ）
一般式（ＶＩＩ）
一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立に０〜５の整数を表す。
（ヘイズ）
本発明の光学フィルムのヘイズは２．００％未満である。この場合のヘイズは全ヘイズ（表面ヘイズと内部ヘイズとの合算）である。２．００％未満とすることで、たとえば本発明の光学フィルムを偏光板に加工した際に、透過光による散乱が抑えられるなどの観点から好ましい。また、ヘイズは１．００％未満がより好ましく、０．６０％未満がより好ましい。ヘイズは、たとえばスガ試験機（株）製ヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”を用いＪＩＳ Ｋ−７３１６（２０００）に従って測定することができる。
本発明の光学フィルムのヘイズは２．００％未満である。この場合のヘイズは全ヘイズ（表面ヘイズと内部ヘイズとの合算）である。２．００％未満とすることで、たとえば本発明の光学フィルムを偏光板に加工した際に、透過光による散乱が抑えられるなどの観点から好ましい。また、ヘイズは１．００％未満がより好ましく、０．６０％未満がより好ましい。ヘイズは、たとえばスガ試験機（株）製ヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”を用いＪＩＳ Ｋ−７３１６（２０００）に従って測定することができる。
［光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法は、セルロースアシレートを含有する支持体上に、機能性層を塗布により形成しても良いし、機能層を転写して形成しても良いし、支持体と機能性層を共流延により形成しても良く、その他公知の方法を用い製造することができる。このなかでも、セルロースアシレートを含有する支持体上に、機能性層を塗布により形成することが好ましい。この際、機能性層を１回の塗布で設けても良いし、複数回の塗布により設けても良く、塗布により設けた層上に更に層を転写することで設けても良い。なかでも複数回の塗布により機能性層を設けることが好ましい。
セルロースアシレートを含有する支持体上に、重合性基を２つ以上有する化合物を含有する第一層形成用組成物を塗布し、硬化させて、第一層を形成する工程、及び、上記第一層上に、重合性基を２つ以上有する化合物とゴム質弾性体とを含有し、上記ゴム質弾性体の含有率が全固形分に対して２．５質量％以上である第二層形成用組成物を直接塗布し、硬化させて、膜厚３μｍ以下の第二層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法である。
本発明の光学フィルムの製造方法は、セルロースアシレートを含有する支持体上に、機能性層を塗布により形成しても良いし、機能層を転写して形成しても良いし、支持体と機能性層を共流延により形成しても良く、その他公知の方法を用い製造することができる。このなかでも、セルロースアシレートを含有する支持体上に、機能性層を塗布により形成することが好ましい。この際、機能性層を１回の塗布で設けても良いし、複数回の塗布により設けても良く、塗布により設けた層上に更に層を転写することで設けても良い。なかでも複数回の塗布により機能性層を設けることが好ましい。
セルロースアシレートを含有する支持体上に、重合性基を２つ以上有する化合物を含有する第一層形成用組成物を塗布し、硬化させて、第一層を形成する工程、及び、上記第一層上に、重合性基を２つ以上有する化合物とゴム質弾性体とを含有し、上記ゴム質弾性体の含有率が全固形分に対して２．５質量％以上である第二層形成用組成物を直接塗布し、硬化させて、膜厚３μｍ以下の第二層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法である。
光学フィルムの製造方法において、セルロースアシレートを含有する支持体、重合性基を２つ以上有する化合物、及びゴム質弾性体は、それぞれ前述のものと同様である。
上記光学フィルムの製造方法により得られた第一層と第二層とを合わせた層が前述の機能性層に対応する。
上記光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムにおいて、第一層と第二層との界面は存在しない場合もある。
第二層形成用組成物中のゴム質弾性体の含有率は、第二層形成用組成物の全固形分に対して、２．５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましい。
第二層形成用組成物中の重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物の含有率は、第二層形成用組成物の全固形分に対して、５０質量％以上９７．５質量％以下であることが好ましく、６５質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。
第一層形成用組成物中の重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物の含有率は、第一層形成用組成物の全固形分に対して、５０質量％以上９８．５質量％以下であることが好ましい。
第一層形成用組成物はゴム質弾性体を含有していてもよいが、第一層形成用組成物中のゴム質弾性体の含有率は第一層形成用組成物の全固形分に対して２．５質量％未満であり、２質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましく、第一層形成用組成物はゴム質弾性体を含有しないことが最も好ましい。
第二層の厚さは０．１μｍ以上３μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上１μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが更に好ましい。
第一層の厚さは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることが更に好ましい。
上記光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムにおいて、第一層と第二層との界面は存在しない場合もある。
第二層形成用組成物中のゴム質弾性体の含有率は、第二層形成用組成物の全固形分に対して、２．５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましい。
第二層形成用組成物中の重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物の含有率は、第二層形成用組成物の全固形分に対して、５０質量％以上９７．５質量％以下であることが好ましく、６５質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。
第一層形成用組成物中の重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物の含有率は、第一層形成用組成物の全固形分に対して、５０質量％以上９８．５質量％以下であることが好ましい。
第一層形成用組成物はゴム質弾性体を含有していてもよいが、第一層形成用組成物中のゴム質弾性体の含有率は第一層形成用組成物の全固形分に対して２．５質量％未満であり、２質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがより好ましく、第一層形成用組成物はゴム質弾性体を含有しないことが最も好ましい。
第二層の厚さは０．１μｍ以上３μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上１μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが更に好ましい。
第一層の厚さは３μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることが更に好ましい。
第一層形成用組成物及び第二層形成用組成物は、それぞれ更に重合開始剤及び溶剤を含有することが好ましい。
＜重合開始剤＞
重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
第一層形成用組成物及び第二層形成用組成物中の重合開始剤の含有率は、それぞれの組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
＜溶剤＞
溶剤としては、各種有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
溶剤としては、各種有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭｉＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
第一層形成用組成物及び第二層形成用組成物の固形分の濃度はそれぞれ独立に、１〜５０質量％であることが好ましく、１〜４０質量％であることがより好ましく、１〜３０質量％であることが更に好ましい。
第一層形成用組成物及び第二層形成用組成物の塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
第一層形成用組成物及び第二層形成用組成物は、それぞれ塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱乾燥されることが好ましい。その際の温度は２５℃〜１４０℃が好ましい。
溶剤の乾燥の後に、電離放射線照射により各層を硬化させることが好ましい。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して塗膜を硬化するのが好ましい。紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムとして用いることが好ましい。
［偏光板］
本発明の偏光板は、上記光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板であって、上記光学フィルムの機能性層と、偏光子とが接着剤層を介して貼り合わされている偏光板である。
接着剤層を形成するための接着剤としては、特に限定されないが、製造の効率化の観点から、紫外線硬化型接着剤であることが好ましい。
紫外線硬化型接着剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、特開２０１５−４０２８３号公報、特開２０１５−１８７７４４号公報、特開２０１５−１１０９４号公報などに記載の紫外線硬化型接着剤を用いることができる。
本発明の偏光板は、上記光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板であって、上記光学フィルムの機能性層と、偏光子とが接着剤層を介して貼り合わされている偏光板である。
接着剤層を形成するための接着剤としては、特に限定されないが、製造の効率化の観点から、紫外線硬化型接着剤であることが好ましい。
紫外線硬化型接着剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、特開２０１５−４０２８３号公報、特開２０１５−１８７７４４号公報、特開２０１５−１１０９４号公報などに記載の紫外線硬化型接着剤を用いることができる。
本発明の偏光板において、偏光子の本発明の光学フィルムと貼り合わされている面とは反対側の面は、別の本発明の光学フィルムと貼り合わされていてもよいし、本発明の光学フィルム以外の保護フィルムと貼り合わされていてもよい。
本発明の偏光板について図を用いて具体的に説明する。
図２は、本発明の偏光板の一例の模式図である。
図２の偏光板２０は、光学フィルム１０の機能性層２と偏光子５とが、接着剤層４を介して貼り合わされている。また、偏光子５の光学フィルム１０と張り合合わされている面とは反対の面は、接着剤層４を介して、保護フィルム６と貼り合わされている。保護フィルム６は、本発明の光学フィルムであってもよいし、その他のフィルムであってもよい。
図２は、本発明の偏光板の一例の模式図である。
図２の偏光板２０は、光学フィルム１０の機能性層２と偏光子５とが、接着剤層４を介して貼り合わされている。また、偏光子５の光学フィルム１０と張り合合わされている面とは反対の面は、接着剤層４を介して、保護フィルム６と貼り合わされている。保護フィルム６は、本発明の光学フィルムであってもよいし、その他のフィルムであってもよい。
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された本発明の偏光板とを含むものであり、耐久性の観点から上記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表面側（偏光子の液晶セルから遠い側）に配置されたものであることが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された本発明の偏光板とを含むものであり、耐久性の観点から上記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表面側（偏光子の液晶セルから遠い側）に配置されたものであることが好ましい。
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて上記液晶セルと上記偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
本発明では、様々な表示モードの液晶セルを用いることができ、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）などが挙げられる。
本発明では、様々な表示モードの液晶セルを用いることができ、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）などが挙げられる。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。
＜光学フィルムの作製＞
下記表１及び表２に記載の組成にて各成分を混合し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、塗布組成物を調製した。
下記表１及び表２において、固形分とは、塗布組成物中の溶剤を除いた全成分を示す。
下記表１及び表２に記載の組成にて各成分を混合し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、塗布組成物を調製した。
下記表１及び表２において、固形分とは、塗布組成物中の溶剤を除いた全成分を示す。
・カネエースＭ７３２（株式会社カネカ製）：ブタジエンをコアとし、メチルメタクリレートをシェルとするコア−シェル粒子（ＭＢＳ粒子）スチレン比率１５モル％、平均粒子径７０ｎｍ
・アサプレンＴ４３９（旭化成ケミカルズ株式会社製）：スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）スチレン比率４５モル％、重量平均分子量６４０００、平均粒子径１００ｎｍ
・クインタック３４５０（日本ゼオン株式会社製）：スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）スチレン比率１９モル％、重量平均分子量１９２０００、平均粒子径１５０ｎｍ
・ＡＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成株式会社製アロニックスＭ４００）
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亞合成株式会社製アロニックスＭ３０５）
・Ｉｒｇ１２７：２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７）
・アサプレンＴ４３９（旭化成ケミカルズ株式会社製）：スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）スチレン比率４５モル％、重量平均分子量６４０００、平均粒子径１００ｎｍ
・クインタック３４５０（日本ゼオン株式会社製）：スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）スチレン比率１９モル％、重量平均分子量１９２０００、平均粒子径１５０ｎｍ
・ＡＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成株式会社製アロニックスＭ４００）
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亞合成株式会社製アロニックスＭ３０５）
・Ｉｒｇ１２７：２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７）
支持体としてフジタックＴＧ６０（富士フイルム（株）製 厚み６０μｍのセルロースアシレートフィルム）をロール形態から巻き出して、下記表３に示した塗布組成物を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で、支持体上に塗布した。その後、支持体の温度を温度２５℃として１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を硬化させ、第一層を形成した。さらに第一層上に直接、下記表３に示した塗布組成物を上記と同様に塗布した。その後支持体の温度を温度２５℃として硬化（照度４００ｍＷ／ｃｍ２、３００ｍＪ／ｃｍ２）させ、第二層を形成した。その後、得られた積層体を巻き取り、支持体上に第一層及び第二層を有する光学フィルムを得た。ただし、比較例２では第二層を設けなかった。
なお、実施例の光学フィルムにおいては、第一層と第二層を合わせた層が機能性層（低透湿層）である。
なお、実施例の光学フィルムにおいては、第一層と第二層を合わせた層が機能性層（低透湿層）である。
（偏光子の作製）
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上のポリビニルアルコールからなる厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に５６．５℃で浸漬した。
引き続き、８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向された偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色およびホウ酸処理の工程で行ない、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上のポリビニルアルコールからなる厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に５６．５℃で浸漬した。
引き続き、８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向された偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色およびホウ酸処理の工程で行ない、トータルの延伸倍率は５．３倍であった。
（紫外線硬化型接着剤の調製）
下記のように紫外線硬化型接着剤Ａｄ１〜Ａｄ３を調製した。
Ａｄ１：特開２０１５−４０２８３号公報の実施例２と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
Ａｄ２：特開２０１５−１８７７４４号公報の実施例１と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
Ａｄ３：特開２０１５−１１０９４号公報の実施例１と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
下記のように紫外線硬化型接着剤Ａｄ１〜Ａｄ３を調製した。
Ａｄ１：特開２０１５−４０２８３号公報の実施例２と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
Ａｄ２：特開２０１５−１８７７４４号公報の実施例１と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
Ａｄ３：特開２０１５−１１０９４号公報の実施例１と同様に紫外線硬化型接着剤を調製した。
（環状オレフィン系樹脂フィルムの作製）
環状オレフィン系樹脂であるＪＳＲ（株）製の「アートン Ｇ７８１０」をメチレンクロライドに２０質量％の固形分濃度で溶解させ、乾燥膜厚が５０μｍになるようにガラス基板上に塗布し、その後、はぎ取り、１２０℃で３０分乾燥させ、環状オレフィン系樹脂フィルム（５０μｍ）を得た。
環状オレフィン系樹脂であるＪＳＲ（株）製の「アートン Ｇ７８１０」をメチレンクロライドに２０質量％の固形分濃度で溶解させ、乾燥膜厚が５０μｍになるようにガラス基板上に塗布し、その後、はぎ取り、１２０℃で３０分乾燥させ、環状オレフィン系樹脂フィルム（５０μｍ）を得た。
（貼り合わせ）
上記で作製した各光学フィルムの第二層（比較例２では第一層）に、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製ＶＥ１Ａ−Ａを用いて４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ放電照射を施し、紫外線硬化型接着剤を使用し、上記偏光子の片面に貼り合わせた。偏光子のもう一方の面には、同様にコロナ処理された環状オレフィン系樹脂フィルムを貼り合せた。
上記で作製した各光学フィルムの第二層（比較例２では第一層）に、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製ＶＥ１Ａ−Ａを用いて４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ放電照射を施し、紫外線硬化型接着剤を使用し、上記偏光子の片面に貼り合わせた。偏光子のもう一方の面には、同様にコロナ処理された環状オレフィン系樹脂フィルムを貼り合せた。
（ゴム質弾性体の面積比率の測定方法）
光学フィルムの機能性層の表面から機能性層のセルロースアシレートフィルム支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域を領域Ａとし、それ以外の領域を領域Ｂとした。
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を切り出し透過型電子顕微鏡により５万倍で１０枚測定し、この撮影画像の全面積に対する、ゴム粒子（ゴム質弾性体）部の総面積を算出した。
光学フィルムの機能性層の表面から機能性層のセルロースアシレートフィルム支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域を領域Ａとし、それ以外の領域を領域Ｂとした。
領域Ａ中のゴム質弾性体の面積比率は、光学フィルムの表面に垂直な方向の断面を切り出し透過型電子顕微鏡により５万倍で１０枚測定し、この撮影画像の全面積に対する、ゴム粒子（ゴム質弾性体）部の総面積を算出した。
＜光学フィルムの評価＞
得られた光学フィルム及びそれを用いた偏光板について、透湿度、偏光子剥離力、デラミネーション、ヘイズ、張り付き、及び水滴状ムラを下記方法で評価した。
得られた光学フィルム及びそれを用いた偏光板について、透湿度、偏光子剥離力、デラミネーション、ヘイズ、張り付き、及び水滴状ムラを下記方法で評価した。
（透湿度）
直径７０ｍｍに切り出した光学フィルム試料を４０℃、相対湿度９０％で２４時間調湿し、ＪＩＳ Ｚ−０２０８（１９７６）記載の方法により測定した。
直径７０ｍｍに切り出した光学フィルム試料を４０℃、相対湿度９０％で２４時間調湿し、ＪＩＳ Ｚ−０２０８（１９７６）記載の方法により測定した。
（偏光子剥離力）
ＪＩＳ規格：ＪＩＳ Ｚ−０２３７（２００９）に従い、２５ｍｍ幅にスリットした偏光板試料の端面のフィルムと偏光子との間にカッターで深さ６０μｍ、長さ２５ｍｍの切れ込みを入れ、この切れ込みを入れた部分の光学フィルムと偏光子を把持して光学フィルムを偏光子から光学フィルム表面に垂直な方向に剥離し、その際の剥離力を引っ張り試験機にて算出した。
ＪＩＳ規格：ＪＩＳ Ｚ−０２３７（２００９）に従い、２５ｍｍ幅にスリットした偏光板試料の端面のフィルムと偏光子との間にカッターで深さ６０μｍ、長さ２５ｍｍの切れ込みを入れ、この切れ込みを入れた部分の光学フィルムと偏光子を把持して光学フィルムを偏光子から光学フィルム表面に垂直な方向に剥離し、その際の剥離力を引っ張り試験機にて算出した。
（デラミネーション）
作製した偏光板を８０℃の恒温槽（エスペック（株）製）に２４時間入れた後、温度２５℃、相対湿度６０％の部屋で調湿を１時間行った後に、４ｃｍ×４ｃｍのトムソン刃（（株）ナカヤマ製）による打ち抜き器によって５枚打ち抜きを行った。
打ち抜いた４ｃｍ×４ｃｍの偏光板試料について、その各辺の剥がれ具合を、以下の基準に基づいて点数化した。
０．００点：剥がれ、クラックの発生がない。
０．２５点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の２５％以下。
０．５０点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の２５％超から５０％以下。
０．７５点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の５０％超から７５％以下。
１．００点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の７５％超。
５枚の偏光板試料のすべての辺の点数を合計し、以下のように評価した。
Ａ：合計点数が０．００〜５．００点
Ｂ：合計点数が５．００点より大きい
作製した偏光板を８０℃の恒温槽（エスペック（株）製）に２４時間入れた後、温度２５℃、相対湿度６０％の部屋で調湿を１時間行った後に、４ｃｍ×４ｃｍのトムソン刃（（株）ナカヤマ製）による打ち抜き器によって５枚打ち抜きを行った。
打ち抜いた４ｃｍ×４ｃｍの偏光板試料について、その各辺の剥がれ具合を、以下の基準に基づいて点数化した。
０．００点：剥がれ、クラックの発生がない。
０．２５点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の２５％以下。
０．５０点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の２５％超から５０％以下。
０．７５点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の５０％超から７５％以下。
１．００点：剥がれ、クラックの発生がしている領域が、一辺の７５％超。
５枚の偏光板試料のすべての辺の点数を合計し、以下のように評価した。
Ａ：合計点数が０．００〜５．００点
Ｂ：合計点数が５．００点より大きい
（張り付き）
１０ｃｍ×１０ｃｍの光学フィルムを２枚、１枚目の第二層（比較例２は第一層）と２枚目の支持体が接触するように積層し、５ｋｇ重の荷重を掛けた状態で９０℃で２時間経時後の光学フィルム同士の接着面積を積層状態での面内の透過率分布により測定した。光学フィルム同士が接着している部分の透過率は、接着していない場合に比べて上昇することから、上記試験の結果より張り付き面積を算出した。
Ａ：貼りつき面積３０％未満
Ｂ：貼りつき面積３０％以上
１０ｃｍ×１０ｃｍの光学フィルムを２枚、１枚目の第二層（比較例２は第一層）と２枚目の支持体が接触するように積層し、５ｋｇ重の荷重を掛けた状態で９０℃で２時間経時後の光学フィルム同士の接着面積を積層状態での面内の透過率分布により測定した。光学フィルム同士が接着している部分の透過率は、接着していない場合に比べて上昇することから、上記試験の結果より張り付き面積を算出した。
Ａ：貼りつき面積３０％未満
Ｂ：貼りつき面積３０％以上
（ヘイズ）
ヘイズの測定は、切り出した光学フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％にて、スガ試験機（株）製ヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”を用いＪＩＳ Ｋ−７３１６（２０００）に従って測定した。
ヘイズの測定は、切り出した光学フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％にて、スガ試験機（株）製ヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”を用いＪＩＳ Ｋ−７３１６（２０００）に従って測定した。
（水滴状ムラ）
偏光板試料のセルロースアシレートフィルム支持体上に水を湿らせた脱脂綿を配置し水が乾かないように上からカバーをした後、３日間２５℃で放置する。経時後、脱脂綿を取り外し水をふき取った後２５℃、相対湿度６０％で１時間放置した後、白色光源上で別途用意した偏光板（サンリッツ製、スーパーハイコントラスト）を用い、クロスニコル状態で偏光板の色味を観察する。
Ａ：脱脂綿部分に明確な色変化がない場合
Ｂ：脱脂綿部分に明確な色変化が観察される場合
偏光板試料のセルロースアシレートフィルム支持体上に水を湿らせた脱脂綿を配置し水が乾かないように上からカバーをした後、３日間２５℃で放置する。経時後、脱脂綿を取り外し水をふき取った後２５℃、相対湿度６０％で１時間放置した後、白色光源上で別途用意した偏光板（サンリッツ製、スーパーハイコントラスト）を用い、クロスニコル状態で偏光板の色味を観察する。
Ａ：脱脂綿部分に明確な色変化がない場合
Ｂ：脱脂綿部分に明確な色変化が観察される場合
（透過光の視認性）
液晶表示装置（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）を用い、この液晶表示装置に組み込まれていた視認側偏光板を、各実施例および比較例の光学フィルムを用いて作製した各偏光板に替えた。この際、各実施例および比較例の光学フィルム側が視認側となるように配置した。
液晶表示装置にてカラーバーや格子線を表示させ、視認性を目視で確認した。
Ａ：透過光に散乱の影響は感じられず問題ない。
Ｂ：透過光の散乱がわずかに感じられるが問題ない。
Ｃ：透過光が散乱され視認性に若干劣るが問題ない。
Ｄ：透過光が散乱され視認性に劣る。
液晶表示装置（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）を用い、この液晶表示装置に組み込まれていた視認側偏光板を、各実施例および比較例の光学フィルムを用いて作製した各偏光板に替えた。この際、各実施例および比較例の光学フィルム側が視認側となるように配置した。
液晶表示装置にてカラーバーや格子線を表示させ、視認性を目視で確認した。
Ａ：透過光に散乱の影響は感じられず問題ない。
Ｂ：透過光の散乱がわずかに感じられるが問題ない。
Ｃ：透過光が散乱され視認性に若干劣るが問題ない。
Ｄ：透過光が散乱され視認性に劣る。
１；セルロースアシレートを含有する支持体
２；機能性層
３；ゴム質弾性体
４：接着剤層
５：偏光子
６：保護フィルム
１０：光学フィルム
２０：偏光板
Ａ；領域Ａ
Ｂ；領域Ｂ
２；機能性層
３；ゴム質弾性体
４：接着剤層
５：偏光子
６：保護フィルム
１０：光学フィルム
２０：偏光板
Ａ；領域Ａ
Ｂ；領域Ｂ
Claims (11)
- セルロースアシレートを含有する支持体と、下記条件（１）及び（２）を満たす領域Ａを含む機能性層とを有し、ヘイズが２．００％未満である光学フィルム。
条件（１）：領域Ａは、前記機能性層の前記支持体側の界面とは反対側の表面を含み、前記表面から前記支持体側の界面に向かって膜厚方向に０．２μｍの領域である。
条件（２）：領域Ａは、重合性基を２つ以上有する化合物の硬化物とゴム質弾性体とを含有し、前記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、前記ゴム質弾性体の面積が前記領域Ａの全面積に対して２．５％以上である。 - 前記光学フィルムの表面に垂直な方向の断面において、前記領域Ａ中の前記ゴム質弾性体の面積が前記領域Ａの全面積に対して３０％以下である請求項１に記載の光学フィルム。
- 前記機能性層の厚さが３μｍ以上１５μｍ以下である請求項１又は２に記載の光学フィルム。
- 前記ゴム質弾性体が、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含有する重合体を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
一般式（Ｂ）
一般式（Ｂ）中、Ｒｂ１は、水素原子又はメチル基を表す。 - 前記ゴム質弾性体が、コア−シェル構造を有する粒子である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
- 前記重合性基を２つ以上有する化合物が、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基とを有する化合物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
- 前記機能性層が低透湿層である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
- 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板であって、
前記光学フィルムの前記機能性層と、前記偏光子とが接着剤層を介して貼り合わされている偏光板。 - 液晶セルと、前記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された請求項８に記載の偏光板とを含む液晶表示装置。
- セルロースアシレートを含有する支持体上に、重合性基を２つ以上有する化合物を含有する第一層形成用組成物を塗布し、硬化させて、第一層を形成する工程、及び、
前記第一層上に、重合性基を２つ以上有する化合物とゴム質弾性体とを含有し、前記ゴム質弾性体の含有率が全固形分に対して２．５質量％以上である第二層形成用組成物を直接塗布し、硬化させて、膜厚３μｍ以下の第二層を形成する工程を有する、光学フィルムの製造方法。 - 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムの前記機能性層と、偏光子とを紫外線硬化型接着剤により貼り合わせる工程を有する、偏光板の製造方法。
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2016
- 2016-03-30 JP JP2016069295A patent/JP2017181806A/ja not_active Abandoned
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