JP2014102492A - 光学フィルム及びその製造方法、偏光板ならびに液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】耐久性に優れ、透湿度を低減することのできる光学フィルムの提供。
【解決手段】熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、式（１）を満たす光学フィルム（Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値。）。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
【選択図】図１
【解決手段】熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、式（１）を満たす光学フィルム（Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値。）。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
【選択図】図１
Description
本発明は、光学フィルム及びその製造方法、偏光板ならびに液晶表示装置に関する。
近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロールエステルフィルムなどが用いられている。
また、液晶表示装置において、視野角の拡大、画像着色の改良、及びコントラストの向上のため、ポリマーフィルムを光学補償フィルム（位相差フィルム）として使用することが知られている。光学補償フィルムとして用いられるポリマーフィルムに対しては、ＶＡモードやＩＰＳモード等の液晶表示装置の液晶セルのモードに応じて、フィルムの光学特性（例えば、フィルム面内のレターデーション値Ｒｅやフィルム厚さ方向のレターデーション値Ｒｔｈなどの複屈折性）を制御して所望の光学異方性を持たせることが求められる。
また、液晶表示装置において、視野角の拡大、画像着色の改良、及びコントラストの向上のため、ポリマーフィルムを光学補償フィルム（位相差フィルム）として使用することが知られている。光学補償フィルムとして用いられるポリマーフィルムに対しては、ＶＡモードやＩＰＳモード等の液晶表示装置の液晶セルのモードに応じて、フィルムの光学特性（例えば、フィルム面内のレターデーション値Ｒｅやフィルム厚さ方向のレターデーション値Ｒｔｈなどの複屈折性）を制御して所望の光学異方性を持たせることが求められる。
最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。高温高湿の環境下に晒される液晶表示装置の問題としては、液晶表示装置の液晶セルの反りや表示ムラの発生があるが、これは偏光板およびそれを構成する光学フィルムに水分が浸透および脱着することにより、液晶表示装置の液晶セルの前面および背面の偏光板の収縮のバランスに差が生じて液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して表示ムラが生じることが原因と考えられている。このため、偏光板の保護フィルムや光学補償フィルムなどに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、環境変化で水分の浸漬および脱着を抑制する必要があり、特に偏光板の最表面の光学フィルムには、水分を通しにくい性能、すなわち透湿度の低減が求められる。
特許文献１には、透明性が高く、低吸湿性、高耐熱性、力学的強度の高い光学フィルムの提供を目的として、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
一方、基材フィルム上に、低透湿層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献２には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる低透湿層を設けたフィルムが記載されており、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に従って、６０℃、９５％相対湿度の雰囲気下で測定された透湿度が６１０〜１０００ｇ／ｍ2／ｄａｙ程度であるフィルムが開示されている。
また、特許文献３には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する低透湿層を設けたフィルムが記載されており、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に従って、６０℃、９５％相対湿度の雰囲気下で測定された透湿度が５００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下となることや、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましいとの記載はある。しかしながら、特許文献３のフィルムの透湿度は具体的には測定されておらず、同文献の記載の特に好ましい範囲にまで透湿度を調整したフィルムは開示されていなかった。
一方、基材フィルム上に、低透湿層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献２には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる低透湿層を設けたフィルムが記載されており、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に従って、６０℃、９５％相対湿度の雰囲気下で測定された透湿度が６１０〜１０００ｇ／ｍ2／ｄａｙ程度であるフィルムが開示されている。
また、特許文献３には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する低透湿層を設けたフィルムが記載されており、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に従って、６０℃、９５％相対湿度の雰囲気下で測定された透湿度が５００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下となることや、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましいとの記載はある。しかしながら、特許文献３のフィルムの透湿度は具体的には測定されておらず、同文献の記載の特に好ましい範囲にまで透湿度を調整したフィルムは開示されていなかった。
液晶表示装置は従来の室内用途だけでなく、屋外などより過酷な環境で使用されるようになっており、液晶表示装置の最表面の光学フィルムは、水分を透過させない性能が重要になっている。この問題は近年大型化が進むＴＶ用途では、液晶セルのガラスが薄手化する傾向の影響もあり、反りが大きくなりやすく、高温高湿環境経時後の黒表示ムラへの影響が懸念されている。また近年急速に広まっているタブレットＰＣやモバイル用途など中小型では薄型化・液晶表示装置内の省スペース要求が高いため、高温高湿環境経時後の黒表示ムラの問題の解決が強く望まれている。
上記のような状況に鑑みて、本発明の目的、すなわち本発明が解決しようとする課題は、耐久性に優れ、透湿度を低減することのできる光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板を提供することである。本発明の更に別の目的は、高温高湿環境経時後の黒表示ムラが改善された液晶表示装置を提供することである。
本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板を提供することである。本発明の更に別の目的は、高温高湿環境経時後の黒表示ムラが改善された液晶表示装置を提供することである。
本発明者らが鋭意検討した結果、特許文献２や３に記載のフィルムよりも透湿度を低減させることで、耐久性に優れ、透湿度を低減することのできる光学フィルムを提供でき、さらにそのような光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いることで高温高湿環境経時後の黒表示ムラが改善された液晶表示装置を提供できることを見出し、本発明に至った。
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段である本発明により解決することができる。
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段である本発明により解決することができる。
［１］ 熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、
該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［２］ ［１］に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムの透湿度が１００ｇ／ｍ2／
ｄａｙ以下であることが好ましい。
［３］ ［１］または［２］に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムが更に下記式（２）を満たすことが好ましい。
式（２） ０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８
（式（２）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［４］ ［１］〜［３］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムの透湿度が８００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましい。
［５］ ［１］〜［４］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムに含まれる前記熱可塑性樹脂が、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることが好ましい（ただし、前記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環含有重合体を含む。）。
［６］ ［１］〜［５］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムの膜厚が１５〜７０μｍであることが好ましい。
［７］ ［１］〜［６］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層の膜厚が１〜２０μｍであることが好ましい。
［８］ ［１］〜［７］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層が、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる層、または、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する層であることが好ましい。
［９］ ［１］〜［８］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層が、かご型シルセスキオキサン化合物を含有する層であることが好ましい。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムの膜厚が５〜１００μｍであることが好ましい。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムが、下記式（Ｉ）及び下記式（ＩＩ）で定義されるＲｅ及びＲｔｈが、波長５９０ｎｍにおいて下記式（ＩＩＩ）及び下記式（ＩＶ）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、ｎｘは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記光学フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記光学フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記光学フィルムの膜厚（ｎｍ）である。）
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムが、前記熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなることが好ましい。
［１３］ 熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［１４］ 熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［１５］ 偏光子と、
該偏光子の保護フィルムとして［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含むことを特徴とする偏光板。
［１６］ 液晶セルと、
該液晶セルの少なくとも一方に配置された［１５］に記載の偏光板とを含み、
前記光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［２］ ［１］に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムの透湿度が１００ｇ／ｍ2／
ｄａｙ以下であることが好ましい。
［３］ ［１］または［２］に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムが更に下記式（２）を満たすことが好ましい。
式（２） ０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８
（式（２）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［４］ ［１］〜［３］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムの透湿度が８００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましい。
［５］ ［１］〜［４］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムに含まれる前記熱可塑性樹脂が、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることが好ましい（ただし、前記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環含有重合体を含む。）。
［６］ ［１］〜［５］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムの膜厚が１５〜７０μｍであることが好ましい。
［７］ ［１］〜［６］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層の膜厚が１〜２０μｍであることが好ましい。
［８］ ［１］〜［７］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層が、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる層、または、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する層であることが好ましい。
［９］ ［１］〜［８］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記低透湿層が、かご型シルセスキオキサン化合物を含有する層であることが好ましい。
［１０］ ［１］〜［９］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムの膜厚が５〜１００μｍであることが好ましい。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記光学フィルムが、下記式（Ｉ）及び下記式（ＩＩ）で定義されるＲｅ及びＲｔｈが、波長５９０ｎｍにおいて下記式（ＩＩＩ）及び下記式（ＩＶ）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、ｎｘは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記光学フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記光学フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記光学フィルムの膜厚（ｎｍ）である。）
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の光学フィルムは、前記基材フィルムが、前記熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなることが好ましい。
［１３］ 熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［１４］ 熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
［１５］ 偏光子と、
該偏光子の保護フィルムとして［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含むことを特徴とする偏光板。
［１６］ 液晶セルと、
該液晶セルの少なくとも一方に配置された［１５］に記載の偏光板とを含み、
前記光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
本発明により、耐久性に優れ、透湿度を低減することのできる光学フィルムおよびその製造方法を提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の黒表示ムラ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。
以下において、本発明の偏光板やその製造方法、それに用いる添加剤などについて詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
更に、フィルムの「遅相軸方向」とはフィルム面内で屈折率が最大となる方向で、「進相軸方向」とはフィルム面内で遅相軸と直交する方向を意味するものとする。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
更に、フィルムの「遅相軸方向」とはフィルム面内で屈折率が最大となる方向で、「進相軸方向」とはフィルム面内で遅相軸と直交する方向を意味するものとする。
［光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムは、熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、式（１）を満たすことを特徴とする。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
上記構成により、耐久性に優れ、透湿度を低減することが出来る。
本発明の光学フィルムは、熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、式（１）を満たすことを特徴とする。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
上記構成により、耐久性に優れ、透湿度を低減することが出来る。
本発明の光学フィルムは下記式（２）を満たすことがより好ましく、下記式（３）を満たすことがさらに好ましく、下記式（４）を満たすことが特に好ましい。
式（２） ０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８
式（３） ０．０２≦Ａ／Ｂ≦０．６
式（４） ０．０４≦Ａ／Ｂ≦０．５
前記式（２）〜（４）におけるＡおよびＢの定義は、前記式（１）におけるＡおよびＢの定義と同様である。
式（２） ０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８
式（３） ０．０２≦Ａ／Ｂ≦０．６
式（４） ０．０４≦Ａ／Ｂ≦０．５
前記式（２）〜（４）におけるＡおよびＢの定義は、前記式（１）におけるＡおよびＢの定義と同様である。
また、本発明の光学フィルムの製造方法の第一の態様は、熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して基材フィルムを形成する工程と、前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
また、本発明の光学フィルムの製造方法の第二の態様は、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程と、前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
上記構成により、本発明の光学フィルムを容易に製造することができる。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
また、本発明の光学フィルムの製造方法の第二の態様は、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程と、前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
上記構成により、本発明の光学フィルムを容易に製造することができる。
以下、本発明の光学フィルムおよびその製造方法の好ましい態様について説明する。
｛光学フィルムの特性｝
（光学フィルムの膜厚）
本発明の光学フィルムの膜厚（基材フィルムに低透湿層を積層した後の総膜厚）は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７５μｍが特に好ましい。
（光学フィルムの膜厚）
本発明の光学フィルムの膜厚（基材フィルムに低透湿層を積層した後の総膜厚）は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７５μｍが特に好ましい。
（光学フィルムの透湿度）
本発明の光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
本発明の光学フィルムの透湿度は、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、１００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましく、９０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることがより好ましく、７０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であれば、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
本発明の光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
本発明の光学フィルムの透湿度は、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、１００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましく、９０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることがより好ましく、７０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であれば、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
（レターデーション）
本発明の光学フィルムは、波長５９０ｎｍで測定したＲｅ及びＲｔｈ（下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）にて定義される）が、式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、ｎｘは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記光学フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記光学フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記光学フィルムの膜厚（ｎｍ）である。）
なお、本発明の光学フィルムでは、上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）がフィルム面内の少なくとも１点において満足されればよいが、フィルム面内の任意の点で上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）が満足されることが好ましい。
本発明の光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈは、後述する前記基材フィルムのＲｅとＲｔｈの調整方法、前記低透湿層の組成や膜厚、本発明の光学フィルムの総膜厚等により調整することができる。
本発明の光学フィルムは、波長５９０ｎｍで測定したＲｅ及びＲｔｈ（下記式（Ｉ）及び（ＩＩ）にて定義される）が、式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、ｎｘは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記光学フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記光学フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記光学フィルムの膜厚（ｎｍ）である。）
なお、本発明の光学フィルムでは、上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）がフィルム面内の少なくとも１点において満足されればよいが、フィルム面内の任意の点で上記式（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）が満足されることが好ましい。
本発明の光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈは、後述する前記基材フィルムのＲｅとＲｔｈの調整方法、前記低透湿層の組成や膜厚、本発明の光学フィルムの総膜厚等により調整することができる。
｛低透湿層｝
（低透湿層の組成）
本発明の光学フィルムに用いることができる低透湿層は、本発明の光学フィルムが前記式（１）を満たすものである。本発明の光学フィルムに用いることができる低透湿層は、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含む組成物から形成されてなる層、または、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する層であることが好ましく、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含む組成物から形成されてなる層であることがより好ましい。
（低透湿層の組成）
本発明の光学フィルムに用いることができる低透湿層は、本発明の光学フィルムが前記式（１）を満たすものである。本発明の光学フィルムに用いることができる低透湿層は、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含む組成物から形成されてなる層、または、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する層であることが好ましく、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含む組成物から形成されてなる層であることがより好ましい。
前記分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物から形成されてなる層について説明する。
《分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物から形成されてなる層》
本発明において、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物から形成されてなる層は、低透湿性を付与するために、環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内にエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を含有し、必要に応じて更に、重合開始剤、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、シリコーン樹脂（好ましくは、かご型シルセスキオキサン化合物）、溶剤を含有する組成物を、支持体上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。なお、組成物または層の主成分とは、その組成物の固形分またはその層の５０質量％以上を占める成分のことを言う。
本発明において、分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物から形成されてなる層は、低透湿性を付与するために、環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内にエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を含有し、必要に応じて更に、重合開始剤、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、シリコーン樹脂（好ましくは、かご型シルセスキオキサン化合物）、溶剤を含有する組成物を、支持体上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。なお、組成物または層の主成分とは、その組成物の固形分またはその層の５０質量％以上を占める成分のことを言う。
〔分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物〕
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物はバインダーとして機能する。また、環状脂肪族炭化水素基を有し、エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となると同時に低透湿性を付与することができる。
この詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、低透湿層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から水分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させると推定している。また、分子内にエチレン性不飽和二重結合基を有することで、架橋点密度を上げ、低透湿層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、低透湿層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合基の数は２以上であることがより好ましい。
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物はバインダーとして機能する。また、環状脂肪族炭化水素基を有し、エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となると同時に低透湿性を付与することができる。
この詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、低透湿層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から水分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させると推定している。また、分子内にエチレン性不飽和二重結合基を有することで、架橋点密度を上げ、低透湿層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、低透湿層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合基の数は２以上であることがより好ましい。
環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、さらに好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開昭２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開昭２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
環状脂肪族炭化水素基（連結基含む）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＶ）で表される基がより好ましく、下記一般式（Ｉ）で表される基が更に好ましい。
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。
一般式（ＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、Ｌ’’は水素原子または二価以上の連結基を表す。
一般式（Ｖ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表す。
環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルニル、トリシクロデカニル、テトラシクロドデカニル、ペンタシクロペンタデカニル、アダマンチル、ジアマンタニル等が挙げられる。
エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に２つ以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。
連結基としては、単結合、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が地置換されていてもよいアミド基、Ｎ位が置換されていてもよいカルバモイル基、エステル基、オキシカルボニル基、エーテル基等、及びこれらを組み合わせて得られる基が挙げられる。
連結基としては、単結合、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が地置換されていてもよいアミド基、Ｎ位が置換されていてもよいカルバモイル基、エステル基、オキシカルボニル基、エーテル基等、及びこれらを組み合わせて得られる基が挙げられる。
これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
以下、環状脂肪族炭化水素基を有し、エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔重合開始剤〕
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物には、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物には、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
本発明に用いられる低透湿層形成用組成物、好ましくは分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物、中の光重合開始剤の含有量は、前記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、低透湿層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
〔シリコーン樹脂〕
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物には、シリコーン樹脂（ただし、本明細書中におけるシリコーン樹脂は、Ｒ2ＳｉＯの構造単位式で現れる狭義にシリコーンに限定されるものではなく、ＲＳｉＯ1.5の構造単位式で表されるシルセスキオキサン化合物も含む）を含むことが好ましい。シリコーン樹脂としては、かご型シルセスキオキサン化合物が好ましい。すなわち、本発明における低透湿層は、かご型シルセスキオキサン化合物を含有する層であることが、より透湿度を低減する観点から好ましい。
前記シリコーン樹脂は、下記一般式（１）
［ＲＳｉＯ3/2］n（１）
（但し、Ｒはそれぞれ独立に（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、ｎは８、１０又は１２である）で表され、構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂であることがより好ましい。
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物には、シリコーン樹脂（ただし、本明細書中におけるシリコーン樹脂は、Ｒ2ＳｉＯの構造単位式で現れる狭義にシリコーンに限定されるものではなく、ＲＳｉＯ1.5の構造単位式で表されるシルセスキオキサン化合物も含む）を含むことが好ましい。シリコーン樹脂としては、かご型シルセスキオキサン化合物が好ましい。すなわち、本発明における低透湿層は、かご型シルセスキオキサン化合物を含有する層であることが、より透湿度を低減する観点から好ましい。
前記シリコーン樹脂は、下記一般式（１）
［ＲＳｉＯ3/2］n（１）
（但し、Ｒはそれぞれ独立に（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、ｎは８、１０又は１２である）で表され、構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂であることがより好ましい。
シリコーン樹脂は、前記一般式（１）で表され、構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサン（かご型（篭型）シルセスキオキサンともいう）を主成分とし、通常篭型シルセスキオキサンを６０〜９５重量％含有し、残部は非篭型のシリコーン樹脂成分であることが特に好ましい。
一般式（１）中、Ｒは（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、好ましいＲとしては下記一般式（４）で表される（メタ）アクリロイルオキシＣ１−３アルキル基を挙げることができる。
一般式（１）中、Ｒは（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、好ましいＲとしては下記一般式（４）で表される（メタ）アクリロイルオキシＣ１−３アルキル基を挙げることができる。
一般式（４）中、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ1は水素原子又はメチル基である。なお、一般式（４）はＣＨ2＝ＣＲ1−ＣＯＯ−（ＣＨ2）ｍ−としても表すことができる。好ましいＲの具体例としては、３−メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシメチル基、及び３−アクリロキシプロピル基が挙げられる。
前記一般式（１）中のｎが８、１０又は１２である篭型ポリオルガノシルセスキオキサンの具体的な構造としては、下記構造式（５）、（６）及び（７）に示す篭型構造体が挙げられる。なお、下記式中のＲは、一般式（１）におけるＲと同じである。
前記シリコーン樹脂としては、特許第４１４２３８５号、特許第４４０９３９７号、特許第５０７８２６９号、特許第４９２０５１３号、特許第４９６４７４８号、特許第５０３６０６０号、特開２０１０−９６８４８号、特開２０１１−１９４６４７号、特開２０１２−１８３８１８号、特開２０１２−１８４３７１号、特開２０１２−２１８３２２号の各公報に記載のものを用いることができ、これらの公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。
本発明で使用されるシリコーン樹脂は、ＷＯ２００４／０８５５０１Ａ１等に記載の方法で製造可能である。
即ち、シリコーン樹脂は、ＲＳｉＸ3で表されるケイ素化合物を極性溶媒及び塩基性触媒存在下で加水分解反応させると共に一部縮合させ、得られた加水分解縮合生成物を更に非極性溶媒及び塩基性触媒存在下で再縮合させて得ることができる。
ここで、Ｒは（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、Ｘは加水分解性基を示すが、好ましくは、Ｒは前記一般式（４）で表される基である。好ましいＲの具体例を示せば、３−メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシメチル基、及び３−アクリロキシプロピル基が例示される。
即ち、シリコーン樹脂は、ＲＳｉＸ3で表されるケイ素化合物を極性溶媒及び塩基性触媒存在下で加水分解反応させると共に一部縮合させ、得られた加水分解縮合生成物を更に非極性溶媒及び塩基性触媒存在下で再縮合させて得ることができる。
ここで、Ｒは（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、Ｘは加水分解性基を示すが、好ましくは、Ｒは前記一般式（４）で表される基である。好ましいＲの具体例を示せば、３−メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシメチル基、及び３−アクリロキシプロピル基が例示される。
加水分解性基Ｘは、加水分解性を有する基であれば特に限定されず、アルコキシ基、アセトキシ基、及び塩素原子等が挙げられるが、アルコキシル基であることが好ましい。アルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−及びｉ−プロポキシ基、並びに、ｎ−、ｉ−及びｔ−ブトキシ基等が挙げられる。これらの中で、メトキシ基は反応性が高いため好ましい。
ＲＳｉＸ3で表されるケイ素化合物の中で好ましい化合物を示せば、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシラン、３−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、及び、３−アクリロキシプロピルトリクロロシランが挙げられる。中でも、原料の入手が容易である３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いることが好ましい。
加水分解反応に用いられる塩基性触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、あるいはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化アンモニウム塩が例示される。これらの中でも、触媒活性が高い点からテトラメチルアンモニウムヒドロキシドが好ましく用いられる。塩基性触媒は、通常水溶液として使用される。
加水分解反応条件については、反応温度は０〜６０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。反応温度が０℃より低いと、反応速度が遅くなり加水分解性基が未反応の状態で残存してしまい反応時間を多く費やす結果となる。一方、６０℃より高いと反応速度が速すぎるために複雑な縮合反応が進行し結果として加水分解縮合生成物の高分子量化が促進される。また、反応時間は２時間以上が好ましい。反応時間が２時間に満たないと、加水分解反応が十分に進行せず加水分解性基が未反応の状態で残存してしまう状態となる。
加水分解反応は水の存在が必須であるが、これは塩基性触媒の水溶液から供給することもできるし、別途水として加えてもよい。水の量は加水分解性基を加水分解するに足る量以上、好ましくは理論量の１．０〜１．５倍量である。また、加水分解時には有機極性溶媒を用いることが必要で、有機極性溶媒としてはメタノール、エタノール、２−プロパノールなどのアルコール類、或いは他の有機極性溶媒を用いることができる。好ましくは、水と溶解性のある炭素数１〜６の低級アルコール類であり、２−プロパノールを用いることがより好ましい。非極性溶媒を用いると反応系が均一にならず加水分解反応が十分に進行せず未反応のアルコキシル基が残存してしまい好ましくない。
加水分解反応終了後は、水又は水含有反応溶媒を分離する。水又は水含有反応溶媒の分離は、減圧蒸発等の手段が採用できる。水分やその他の不純物を十分に除去するためには、非極性溶媒を添加して加水分解反応生成物を溶解させ、この溶液を食塩水等で洗浄し、その後無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥させる等の手段が採用できる。非極性溶媒を、蒸発等の手段で分離すれば、加水分解反応生成物を回収することができるが、非極性溶媒が次の反応で使用する非極性溶媒として使用可能であれば、これを分離する必要はない。
加水分解反応では加水分解と共に、加水分解物の縮合反応が生じる。縮合反応が伴う加水分解での反応生成物は、通常、数平均分子量が１４００〜５０００の無色の粘性液体となる。この加水分解縮合生成物は、反応条件により異なるが数平均分子量が１４００〜３０００のオリゴマーとなり、加水分解性基Ｘの大部分、好ましくはほぼ全部がＯＨ基に置換され、更にそのＯＨ基の大部分、好ましくは９５％以上が縮合されている。加水分解縮合生成物の構造については、複数種のかご型、はしご型、ランダム型のシルセスキオキサンであり、かご型構造をとっている化合物についても完全なかご型構造の割合は少なく、かごの一部が開いている不完全なかご型の構造が主となっている。したがって、この加水分解で得られた加水分解縮合生成物を、更に、塩基性触媒存在下、有機溶媒中で加熱することによりシロキサン結合を縮合（再縮合という）させることによりかご型構造のシルセスキオキサンを選択的に製造する。
水又は水含有反応溶媒を分離したのち、非極性溶媒及び塩基性触媒の存在下に再縮合反応を行う。再縮合反応の反応条件については、反応温度は１００〜２００℃の範囲が好ましく、さらには１１０〜１４０℃がより好ましい。また、反応温度が低すぎると再縮合反応をさせるために十分なドライビングフォースが得られず反応が進行しない。反応温度が高すぎると（メタ）アクリロイル基が自己重合反応を起こす可能性があるので、反応温度を抑制するか、重合禁止剤などを添加する必要がある。反応時間は２〜１２時間が好ましい。非極性溶媒の使用量は加水分解反応生成物を溶解するに足る量であることがよく、塩基性触媒の使用量は加水分解反応生成物に対し、０．１〜１０重量％の範囲である。
非極性溶媒としては、水と溶解性の無い又は殆どないものであればよいが、炭化水素系溶媒が好ましい。かかる、炭化水素系溶媒としてはトルエン、ベンゼン、キシレンなどの沸点の低い非極性溶媒がある。中でもトルエンを用いることが好ましい。塩基性触媒としては、加水分解反応に使用される塩基性触媒が使用でき、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、あるいはテトラメルアンモニウムヒヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化アンモニウム塩が挙げられるが、テトラアルキルアンモニウム等の非極性溶媒に可溶性の触媒が好ましい。
また、再縮合に使用する加水分解縮合生成物は水洗、脱水し濃縮したものを用いるのが好ましいが、水洗、脱水を行わなくても使用できる。この反応の際、水は存在してもよいが、積極的に加える必要はなく、塩基性触媒溶液から持ち込まれる水分程度にとどめることがよい。なお、加水分解縮合生成物の加水分解が十分に行われていない場合は、残存する加水分解性基を加水分解するに必要な理論量以上の水分が必要であるが、通常は加水分解反応が十分に行われる。再縮合反応後は、触媒を水洗し取り除き濃縮し、シルセスキオキサン混合物が得られる。
このようにして得られるシルセスキオキサンは、反応条件や加水分解縮合生成物の状態により異なるが、構成成分は、複数種かご型シルセスキオキサンが全体の７０％以上であり、残部は非篭型の縮合物である。複数種のかご型シルセスキオキサンの構成成分は一般式（５）で表されるＴ８が２０〜４０％、一般式（６）で表されるＴ１０が４０〜５０％で、残部はその他の成分で、通常一般式（７）で表されるＴ１２である。Ｔ８はシロキサン混合物を２０℃以下で放置することで針状の結晶として析出させ分離することができる。
本発明で使用するシリコーン樹脂における篭型シルセスキオキサンは、Ｔ８、Ｔ１０及びＴ１２の混合物であってもよく、これらから１種又は２種を分離又は濃縮したものであってもよい。また、本発明で使用するシリコーン樹脂は、上記製法で得られたシリコーン樹脂に限定されるものではない。
本発明で使用するシリコーン樹脂における篭型シルセスキオキサンは、Ｔ８、Ｔ１０及びＴ１２の混合物であってもよく、これらから１種又は２種を分離又は濃縮したものであってもよい。また、本発明で使用するシリコーン樹脂は、上記製法で得られたシリコーン樹脂に限定されるものではない。
本発明に用いられる低透湿層形成用組成物、好ましくは分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物、中のシリコーン樹脂の含有量は、低透湿層形成用組成物中の全固形分に対して、シリコーン樹脂１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましい。
〔分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物に含まれる溶媒〕
本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物は、溶媒を含有することができる。溶媒としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物は、溶媒を含有することができる。溶媒としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記基材フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましく、炭酸ジメチル、酢酸メチルの何れかがより好ましく、酢酸メチルが特に好ましい。
本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を主成分とする組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
（低透湿層の構成、製造方法）
前記低透湿層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。前記低透湿層の積層方法は、前記低透湿層を基材フィルムとの共流延として作成すること、または、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることが好ましく、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることがより好ましい。そのなかでも、前記低透湿層が、前記基材フィルム上に塗布により積層されてなることがより好ましい。
前記低透湿層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。前記低透湿層の積層方法は、前記低透湿層を基材フィルムとの共流延として作成すること、または、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることが好ましく、前記低透湿層を前記基材フィルム上に塗布で積層して設けることがより好ましい。そのなかでも、前記低透湿層が、前記基材フィルム上に塗布により積層されてなることがより好ましい。
（低透湿層の膜厚）
前記低透湿層の膜厚は、１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１８μｍであることがより好ましく、３〜１７μｍであることが特に好ましい。
前記低透湿層の膜厚は、１〜２０μｍであることが好ましく、２〜１８μｍであることがより好ましく、３〜１７μｍであることが特に好ましい。
本発明の光学フィルムの低透湿層は反射防止機能、防汚機能などを併せて持たせることも好ましい。
｛基材フィルム｝
前記基材フィルムは、熱可塑性樹脂を含む。以降、前記基材フィルムは熱可塑性樹脂を含む基材フィルムまたは単に基材フィルムとも称する。
前記基材フィルムは、熱可塑性樹脂を含む。以降、前記基材フィルムは熱可塑性樹脂を含む基材フィルムまたは単に基材フィルムとも称する。
＜熱可塑性樹脂＞
下記に前記基材フィルムで主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂に関し説明する。なお、前記基材フィルムの主成分とは、該基材フィルムの５０質量％以上を占める成分のことを言い、７０質量％以上を占める成分であることが好ましく、８０質量％以上を占める成分であることがより好ましい。
前記基材フィルムにおいて、最適な熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂及びこれら複数種の樹脂の混合樹脂から選ぶことができる（ただし、前記（メタ）アクリル系樹脂は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（例えば、ラクトン環含有重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体など）を含む。）。
その中でも、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることがより好ましく、ラクトン環含有重合体またはセルロースアセテートプロピオネートであることが特に好ましい。
下記に前記基材フィルムで主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂に関し説明する。なお、前記基材フィルムの主成分とは、該基材フィルムの５０質量％以上を占める成分のことを言い、７０質量％以上を占める成分であることが好ましく、８０質量％以上を占める成分であることがより好ましい。
前記基材フィルムにおいて、最適な熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂及びこれら複数種の樹脂の混合樹脂から選ぶことができる（ただし、前記（メタ）アクリル系樹脂は、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（例えば、ラクトン環含有重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体など）を含む。）。
その中でも、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル系樹脂、二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートおよびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることがより好ましく、ラクトン環含有重合体またはセルロースアセテートプロピオネートであることが特に好ましい。
なお、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂とアクリル系樹脂の両方を含む概念である。また、（メタ）アクリル系樹脂には、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
（（メタ）アクリル系重合体）
前記（メタ）アクリル系重合体の繰り返し構造単位は、特に限定されない。前記（メタ）アクリル系重合体は、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。
前記（メタ）アクリル系重合体の繰り返し構造単位は、特に限定されない。前記（メタ）アクリル系重合体は、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。
前記（メタ）アクリル系重合体は、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式（２０１）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
一般式（２０１）
ＣＨ2＝Ｃ（Ｘ）Ｒ201
ＣＨ2＝Ｃ（Ｘ）Ｒ201
（式中、Ｒ201は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキ
ル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ202基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ203基を表し、Ｒ202及びＲ203は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
ル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ202基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ203基を表し、Ｒ202及びＲ203は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
前記（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜１００質量％、より好ましくは１０〜１００質量％、更に好ましくは４０〜１００質量％、特に好ましくは５０〜１００質量％である。
前記（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜１００質量％、より好ましくは１０〜１００質量％、更に好ましくは４０〜１００質量％、特に好ましくは５０〜１００質量％である。
前記水酸基含有単量体としては、特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
前記水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
前記不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
前記不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
前記不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
前記一般式（２０１）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
前記一般式（２０１）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
前記一般式（２０１）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
−主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体−
（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
本発明では主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
本発明では主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
（１）主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体
主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降ラクトン環含有重合体とも称す）は、主鎖にラクトン環を有する（メタ）アクリル系重合体であれば特に限定されないが、好ましくは下記一般式（４０１）で示されるラクトン環構造を有する。
主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降ラクトン環含有重合体とも称す）は、主鎖にラクトン環を有する（メタ）アクリル系重合体であれば特に限定されないが、好ましくは下記一般式（４０１）で示されるラクトン環構造を有する。
一般式（４０１）：
一般式（４０１）中、Ｒ401、Ｒ402及びＲ403は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素
原子数１〜２０の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが好ましい。
原子数１〜２０の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが好ましい。
ラクトン環含有重合体の構造中における上記一般式（４０１）で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環構造の含有割合を５質量％以上とすることにより、得られた重合体の耐熱性、及び表面硬度が向上する傾向にあり、ラクトン環構造の含有割合を９０質量％以下とすることにより、得られた重合体の成形加工性が向上する傾向にある。
なお、ラクトン環構造の含有割合は下記式より算出することができる。
ラクトン環の含有割合（質量％）＝Ｂ×Ａ×ＭR／Ｍm
（式中、Ｂは、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合に用いられた単量体組成における質量含有割合であり、ＭRは生成するラクトン環構造単位の式量であり、Ｍmはラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の分子量であり、Ａはラクトン環化率である）
また、ラクトン環化率は、例えば環化反応が脱アルコール反応を伴う場合、理論重量減少量と重量減少が始まる前の１５０℃から、重合体の分解が始まる前の３００℃までの間の脱アルコール反応による重量減加熱重量減少率から算出することができる。
ラクトン環の含有割合（質量％）＝Ｂ×Ａ×ＭR／Ｍm
（式中、Ｂは、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合に用いられた単量体組成における質量含有割合であり、ＭRは生成するラクトン環構造単位の式量であり、Ｍmはラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の分子量であり、Ａはラクトン環化率である）
また、ラクトン環化率は、例えば環化反応が脱アルコール反応を伴う場合、理論重量減少量と重量減少が始まる前の１５０℃から、重合体の分解が始まる前の３００℃までの間の脱アルコール反応による重量減加熱重量減少率から算出することができる。
ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ｐ）を得た後に、得られた重合体（ｐ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
ラクトン環含有重合体の質量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内での質量減少率が、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下であるのがよい。ダイナミックＴＧの測定方法については、特開２００２−１３８１０６号公報に記載の方法を用いることができる。
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成型品の製造過程で脱アルコール反応が少なく、該アルコールを原因とした成形後の成形品中に泡や銀条（シルバーストリーク）が入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によって、ラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体は高い耐熱性を有する。
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６以下であれば、着色により透明性が損なわれるなどの不具合が生じにくいので、本発明において好ましく使用することができる。
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これを３３０℃以上とすることにより、充分な熱安定性が発揮されやすい傾向にある。熱質量分析は、上記ダイナミックＴＧの測定の装置を使用することができる。
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは５，０００ｐｐｍ以下、より好ましくは２，０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１，５００ｐｐｍ、特に好ましくは１，０００ｐｐｍである。残存揮発分の総量が５，０００ｐｐｍ以下であれば、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良が起こりにくくなるので好ましい。
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これを８５％以上とすると、透明性が向上する傾向にある。
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられ、これらの１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、本発明の製造方法の第一の態様では、（メタ）アクリル系樹脂を有機溶媒に溶解させて溶液流延を行って形成するため、（メタ）アクリル系樹脂の合成時における有機溶媒は、溶融製膜を行う場合よりも限定されず、沸点が高い有機溶媒を用いて合成してもよい。
また、本発明の製造方法の第一の態様では、（メタ）アクリル系樹脂を有機溶媒に溶解させて溶液流延を行って形成するため、（メタ）アクリル系樹脂の合成時における有機溶媒は、溶融製膜を行う場合よりも限定されず、沸点が高い有機溶媒を用いて合成してもよい。
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２´−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１´−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。
重合開始剤の量の調整により、重合体の重量平均分子量を調整することができる。
重合開始剤の量の調整により、重合体の重量平均分子量を調整することができる。
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、更に好ましくは４０質量％以下である。
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されず、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより十分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの溶剤であってもよいし、２種以上の混合溶剤であってもよい。
（２）主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体である。
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体である。
グルタル酸無水物単位を有する重合体は、下記一般式（１０１）で表されるグルタル酸無水物単位（以下、グルタル酸無水物単位と呼ぶ）を有することが好ましい。
一般式（１０１）：
一般式（１０１）中、Ｒ31、Ｒ32は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ31、Ｒ32は、特に好ましくは、同一又は相異なる、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
グルタル酸無水物単位を有する重合体は、グルタル酸無水物単位を含有する（メタ）アクリル系重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル系重合体としては、耐熱性の点から１２０℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することが好ましい。
（メタ）アクリル系重合体に対するグルタル酸無水物単位の含有量としては、５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜４５質量％である。５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上とすることにより、耐熱性向上の効果を得ることができ、さらには耐候性向上の効果を得ることもできる。
また、上記の（メタ）アクリル系共重合体は、さらに不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位を含むことが好ましい。不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位として、例えば、下記一般式（１０２）で表されるものが好ましい。
一般式（１０２）：−［ＣＨ2−Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）］−
一般式（１０２）：−［ＣＨ2−Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）］−
一般式（１０２）中、Ｒ41は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ42）は炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基、又は１個以上炭素数以下の数の水酸基もしくはハロゲンで置換された炭素数１〜６の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基を表す。
一般式（１０２）で表される繰り返し単位に対応する単量体は下記一般式（１０３）で表される。
一般式（１０３）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）
一般式（１０３）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ41）（ＣＯＯＲ42）
このような単量体の好ましい具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−へキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル及び（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、中でもメタクリル酸メチルが最も好ましく用いられる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有量は、５０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは５５〜９０質量％である。グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有する（メタ）アクリル系重合体は、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができる。
不飽和カルボン酸単位としては、例えば、下記一般式（１０４）で表されるものが好ましい。
一般式（１０４）：−［ＣＨ2−Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）］−
ここでＲ51は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
一般式（１０４）：−［ＣＨ2−Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）］−
ここでＲ51は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
不飽和カルボン酸単位を誘導する単量体の好ましい具体例としては、一般式（１０４）で表される繰り返し単位に対応する単量体である下記一般式（１０５）で表される化合物、ならびにマレイン酸、及び更には無水マレイン酸の加水分解物などが挙げられるが、熱安定性が優れる点でアクリル酸、メタクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸である。
一般式（１０５）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）
一般式（１０５）：ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ51）（ＣＯＯＨ）
これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。上記のように、グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができるものであるから、その構成単位中に不飽和カルボン酸単位を残して有していてもよい。
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸単位の含有量としては１０質量％以下が好ましく、より好ましくは５質量％以下である。１０質量％以下とすることで、無色透明性、滞留安定性の低下を防ぐことができる。
また、前記（メタ）アクリル系重合体には、本発明の効果を損なわない範囲で、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位を有していてもよい。芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の具体例としては、対応する単量体でいうと、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体；アリルグリシジルエーテル；無水マレイン酸、無水イタコン酸；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド；アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル；Ｎ−ビニルジエチルアミン、Ｎ−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン；２−イソプロペニル−オキサゾリン、２−ビニル−オキサゾリン、２−アクロイル−オキサゾリンなどを挙げることができる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の含有量としては、３５質量％以下が好ましい。
なお、芳香環を含むビニル系単量体単位（Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、ｐ−グリシジルスチレン、ｐ−アミノスチレン、２−スチリル−オキサゾリンなど）ついては、耐擦傷性、耐候性を低下させる傾向にあるため、前記の（メタ）アクリル系重合体に対する含有量としては１質量％以下にとどめるのが好ましい。
（３）主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体
主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降グルタルイミド系樹脂とも称す）は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。前記主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、少なくとも下記一般式（３０１）：
主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降グルタルイミド系樹脂とも称す）は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。前記主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、少なくとも下記一般式（３０１）：
一般式（３０１）
で表されるグルタルイミド単位（但し、式中、Ｒ301、Ｒ302、Ｒ303は独立に水素または炭素数１〜１２個の非置換のまたは置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基である。）を２０質量％以上有するグルタルイミド樹脂を含有することが好ましい。
本発明に用いられるグルタルイミド系樹脂を構成する好ましいグルタルイミド単位としては、Ｒ301、Ｒ302が水素またはメチル基であり、Ｒ303がメチル基またはシクロヘキシル基である。該グルタルイミド単位は、単一の種類でもよく、Ｒ301、Ｒ302、Ｒ303が異なる複数の種類を含んでいてもよい。
本発明に用いられる、グルタルイミド系樹脂を構成する好ましい第二の構成単位としては、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルからなる単位である。好ましいアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル構成単位としてはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等が挙げられる。また、別の好ましいイミド化可能な単位として、Ｎ−メチルメタクリルアミドや、Ｎ−エチルメタクリルアミドのような、Ｎ−アルキルメタクリルアミドが挙げられる。これら第二の構成単位は単独の種類でもよく、複数の種類を含んでいてもよい。
グルタルイミド系樹脂の、一般式（３０１）で表されるグルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド系樹脂の総繰り返し単位を基準として、２０質量％以上である。グルタルイミド単位の、好ましい含有量は、２０質量％から９５質量％であり、より好ましくは５０〜９０質量％、さらに好ましくは、６０〜８０質量％である。グルタルイミド単位がこの範囲より小さい場合、得られるフィルムの耐熱性が不足したり透明性が損なわれることがある。また、この範囲を超えると不必要に耐熱性が上がりフィルム化しにくくなる他、得られるフィルムの機械的強度は極端に脆くなり、また、透明性が損なわれることがある。
グルタルイミド系樹脂は、必要に応じ、更に、第三の構成単位が共重合されていてもかまわない。好ましい第三の構成単位の例としては、スチレン、置換スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系単量体、ブチルアクリレートなどのアクリル系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を用いることができる。これらはグルタルイミド系樹脂中に、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位と直接共重合してあっても良く、また、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位を有する樹脂に対してグラフト共重合してあってもかまわない。第３成分は、これを添加する場合は、グルタルイミド系樹脂中の含有率は、グルタルイミド系樹脂中の総繰り返し単位を基準として５モル％以上、３０モル％以下であることが好ましい。
グルタルイミド系樹脂は、米国特許３２８４４２５号、米国特許４２４６３７４号、特開平２−１５３９０４号公報等に記載されており、イミド化可能な単位を有する樹脂としてメタクリル酸メチルエステルなどを主原料として得られる樹脂を用い、該イミド化可能な単位を有する樹脂をアンモニアまたは置換アミンを用いてイミド化することにより得ることができる。グルタルイミド系樹脂を得る際に、反応副生成物としてアクリル酸やメタクリル酸、あるいはその無水物から構成される単位がグルタルイミド系樹脂中に導入される場合がある。このような構成単位、特に酸無水物の存在は、得られる本発明フィルムの全光線透過率やヘイズを低下させるため、好ましくない。アクリル酸やメタクリル酸含量として、樹脂１ｇ当たり０．５ミリ当量以下、好ましくは０．３ミリ当量以下、より好ましくは０．１ミリ当量以下とすることが望ましい。また、特開平０２−１５３９０４号公報にみられるように、主としてＮ−メチルアクリルアミドとメタクリル酸メチルエステルから成る樹脂を用いてイミド化することにより、グルタルイミド系樹脂を得ることも可能である。
また、グルタルイミド系樹脂は、１×１０4ないし５×１０5の重量平均分子量を有することが好ましい。
−（メタ）アクリル系重合体を主成分とする基材フィルムの製造方法−
以下、（メタ）アクリル系重合体を主成分とする熱可塑性樹脂を製膜する製造方法について詳しく説明する。
（メタ）アクリル系重合体を主成分として用いて基材フィルムを製膜するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機でフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
以下、（メタ）アクリル系重合体を主成分とする熱可塑性樹脂を製膜する製造方法について詳しく説明する。
（メタ）アクリル系重合体を主成分として用いて基材フィルムを製膜するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機でフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶融押出法が特に好適である。
溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、フィルム原料のガラス転移温度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、例えば、好ましくは１５０℃〜３５０℃、より好ましくは２００℃〜３００℃である。
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻き取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻き取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。
（メタ）アクリル系重合体を主成分とする基材フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。（メタ）アクリル系重合体が、前記の主鎖に環状構造を有する（メタ）アクリル系重合体である場合は、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持したフィルムを得ることができる。
延伸温度は、フィルム原料である（メタ）アクリル系重合体のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、（メタ）アクリル系重合体の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。
延伸倍率は、面積比で好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは５．０〜２０倍の範囲内であり、８〜１５倍が特に好ましい。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。逆に、延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。また、延伸倍率が５倍以上であると、靭性の向上に加えて透湿度が低下することがあり、本発明ではより好ましい。
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／ｍｉｎ、より好ましく１００〜１０，０００％／ｍｉｎの範囲内である。延伸速度が１０％／ｍｉｎ未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。逆に、延伸速度が２０，０００％／ｍｉｎを超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。
なお、（メタ）アクリル系重合体を主成分として得られる基材フィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
（メタ）アクリル系重合体を主成分として得られる基材フィルムは、その厚さが好ましくは５μｍ〜２００μｍ、より好ましくは１０μｍ〜１００μｍである。厚さが５μｍ未満であると、フィルムの強度が低下するだけでなく、他の部品に貼着して耐久性試験を行うと捲縮が大きくなることがある。逆に、厚さが２００μｍを超えると、フィルムの透明性が低下するだけでなく、透湿性が小さくなり、他の部品に貼着する際に水系接着剤を使用した場合、その溶剤である水の乾燥速度が遅くなることがある。
（セルロース系樹脂）
本発明では熱可塑性樹脂としてセルロース系樹脂を用いることができる。セルロース系樹脂とは、セルロースエステルとアクリル樹脂とを含む樹脂を表す。
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについては、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができるが、本発明で用いられるセルロースエステルは特にその記載のものに限定されるものではない。
本発明では熱可塑性樹脂としてセルロース系樹脂を用いることができる。セルロース系樹脂とは、セルロースエステルとアクリル樹脂とを含む樹脂を表す。
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについては、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができるが、本発明で用いられるセルロースエステルは特にその記載のものに限定されるものではない。
本発明で用いられるセルロースエステルは、セルロースと脂肪酸（芳香族脂肪酸を含む）とのエステルが好ましく、セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位の２位、３位及び６位にある水酸基に該脂肪酸のアシル基が置換してアシル化されたセルロースアシレートが好ましい。
例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、また、２種類以上の脂肪酸のアシル基が置換したセルロースエステルも好ましい。これらのセルロースエステルは、更に置換された基を有していてもよい。
前記水酸基に置換するアシル基としては、炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜２２のアシル基を好ましく用いることができる。アクリル樹脂との相溶性向上の観点から、炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜７のアシル基が好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおけるアシル基の総置換度（セルロースのβ−グルコース単位において水酸基にアシル基が置換している割合で、２位、３位及び６位の３つの水酸基の全てにアシル基が置換している場合には３となる）は、特に限定されないが、アシル基の総置換度が高い方がアクリル樹脂との相溶性が良好で、湿度依存性が小さくなるため好ましい。このため、アシル基の総置換度は２．００〜３．００が好ましく、２．５０〜３．００がより好ましく、２．５０〜２．９０が更に好ましい。
更に、アクリル樹脂との相溶性の観点から、炭素数３〜７のアシル基についてその置換度は、１．２０〜３．００が好ましく、１．５０〜３．００がより好ましく、２．００〜３．００が更に好ましく、２．００〜２．９０が特に好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基に置換するアシル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じた方法や、ＮＭＲ法を挙げることができる。
例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、また、２種類以上の脂肪酸のアシル基が置換したセルロースエステルも好ましい。これらのセルロースエステルは、更に置換された基を有していてもよい。
前記水酸基に置換するアシル基としては、炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜２２のアシル基を好ましく用いることができる。アクリル樹脂との相溶性向上の観点から、炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜７のアシル基が好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおけるアシル基の総置換度（セルロースのβ−グルコース単位において水酸基にアシル基が置換している割合で、２位、３位及び６位の３つの水酸基の全てにアシル基が置換している場合には３となる）は、特に限定されないが、アシル基の総置換度が高い方がアクリル樹脂との相溶性が良好で、湿度依存性が小さくなるため好ましい。このため、アシル基の総置換度は２．００〜３．００が好ましく、２．５０〜３．００がより好ましく、２．５０〜２．９０が更に好ましい。
更に、アクリル樹脂との相溶性の観点から、炭素数３〜７のアシル基についてその置換度は、１．２０〜３．００が好ましく、１．５０〜３．００がより好ましく、２．００〜３．００が更に好ましく、２．００〜２．９０が特に好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基に置換するアシル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じた方法や、ＮＭＲ法を挙げることができる。
セルロースのβ−グルコース単位の水酸基に置換するアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基もよく、特に限定されない。また、該水酸基に置換するアシル基は、単一のアシル基でも二種類以上であってもよいが、前記セルロース系樹脂が二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートであることが前記基材フィルムの透湿度を低減する観点から好ましい。
前記アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましく、プロピオニル基又はブタノイル基が更に好ましく、プロピオニル基が特に好ましい。
合成の容易さ、コスト、置換基分布の制御のし易さなどの観点から、アセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、プロピオニル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることが好ましく、より好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、更に好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、特に好ましくはアセチル基とプロピオニル基が併用されることである。
上記のアシル基が置換したセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースベンゾエートなどが挙げられ、なかでもセルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートが好ましく、セルロースアセテートプロピオネートがより好ましい。
前記アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましく、プロピオニル基又はブタノイル基が更に好ましく、プロピオニル基が特に好ましい。
合成の容易さ、コスト、置換基分布の制御のし易さなどの観点から、アセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、プロピオニル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることが好ましく、より好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、更に好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、特に好ましくはアセチル基とプロピオニル基が併用されることである。
上記のアシル基が置換したセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、セルロースベンゾエートなどが挙げられ、なかでもセルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートが好ましく、セルロースアセテートプロピオネートがより好ましい。
セルロース系樹脂で用いられるセルロースエステルの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、特に、アセチル基とプロピオニル基が置換したセルロースアセテートプロピオネートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度がこの範囲であれば、セルロースエステルを含むドープ溶液の粘度が流延によりフィルム作製に適したものとすることができ、またアクリル樹脂との相溶性が高く、透明性及び機械的強度の高いフィルムを得ることができるので好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
セルロースアシレート系樹脂と前記アクリル樹脂とを併用して用いることも好ましい。その場合におけるアクリル樹脂の含有量は、光学フィルム中、２０．０〜９４．９質量％であることが好ましく、２０．０〜８４．９質量％であることがより好ましく、２０．０〜６９．９％であることが更に好ましく、３４．０〜６９．９質量％であることが更に好ましい。
セルロース系樹脂と前記アクリル樹脂とを併用して用いる場合において、セルローエステルとアクリル樹脂との比率（質量比）は７０：３０〜５：９５である。セルロースエステルの比率を７０質量％以下とすることで、湿度依存性が低く、高温高湿耐久性が改善され、好ましい光学特性を得ることができ、液晶表示装置の表示ムラを防止することができる。また、アクリル樹脂の比率を９５質量％以下とすることで、耐熱性が向上し、所望の光学異方性を発現させ易い。また、機械的強度、機械的強度、面状、ハントリング適性、フィルム表面処理適性を改善できる。セルロールエステルとアクリル樹脂との質量比は７０：３０〜５：９５であり、好ましくは７０：３０〜１５：８５であり、より好ましくは７０：３０〜３０：７０であり、更に好ましくは４９：５１〜３０：７０である。
アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂であり、本発明の効果を損なわない限り特に制限されるものではない。
前記（メタ）アクリル酸の誘導体としては、（メタ）アクリレートを挙げることができる。例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、Ｎ−プロピルアクリレート、Ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、Ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、Ｎ−プロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、Ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体；２−クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルアクリレート、２−クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの任意の水素原子をハロゲン基、水酸基及び他の有機残基で置換したものでもよい。ここで、他の有機残基は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基であることが好ましい。
前記（メタ）アクリル酸の誘導体としては、（メタ）アクリレートを挙げることができる。例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、Ｎ−プロピルアクリレート、Ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、Ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、Ｎ−プロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、Ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体；２−クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルアクリレート、２−クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの任意の水素原子をハロゲン基、水酸基及び他の有機残基で置換したものでもよい。ここで、他の有機残基は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基であることが好ましい。
アクリル樹脂の主成分としては、アルキル（メタ）アクリレートが好ましい。アルキル（メタ）アクリレートとしては、炭素数１〜１８のアルキル基と（メタ）アクリル酸とからなるアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基とメタ）アクリル酸とからなるアルキル（メタ）アクリレートがより好ましく、メチルアクリレート及びメチルメタクリレートが更に好ましく、メチルメタクリレートが特に好ましい。
アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸の誘導体１種の単重合体であっても、（メタ）アクリル酸の誘導体２種以上の共重合体であっても、これらと共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。
（メタ）アクリル酸の誘導体と共重合可能な共重合成分としては、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸類及びマレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸類等の不飽和酸類、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル類、ラクトン環単位、グルタル酸無水物単位、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等のマレイミド類、グルタルイミド単位が挙げられる。
光学特性の観点から芳香族ビニル化合物が好ましく、特にスチレンが好ましい。
（メタ）アクリル酸の誘導体と共重合可能な共重合成分としては、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸類及びマレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸類等の不飽和酸類、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル類、ラクトン環単位、グルタル酸無水物単位、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等のマレイミド類、グルタルイミド単位が挙げられる。
光学特性の観点から芳香族ビニル化合物が好ましく、特にスチレンが好ましい。
セルロースエステルとの相溶性向上の観点から、アクリル樹脂としてはメチルメタクリレートの単独又は共重合体であることが好ましく、メチルメタクリレート由来の繰り返し単位を５０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが更に好ましく、９０質量％以上含むことが特に好ましい。更には、メチルメタクリレートと他の単量体との共重合体が好ましく、該共重合体のアクリル樹脂にはメチルメタクリレートと共重合する単量体由来の繰り返し単位が１〜５０質量％含まれることが好ましく、１〜３０質量％含まれることがより好ましく、１〜１０質量％含まれることが更に好ましい。
メチルメタクリレートと共重合可能な単量体としては、上記アルキル（メタ）アクリレートと共重合可能な単量体として例示したものに加えて、炭素数が２〜１８のアルキル基とメタクリル酸とからなるアルキルメタアクリレート、炭素数が１〜１８のアルキル基とアクリル酸とからなるアルキルアクリレートが挙げられ、これらは単独で、又は２種以上の単量体を併用して用いることができる。中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
本発明に用いることができるアクリル樹脂及び（メタ）アクリル酸の誘導体、他の共重合可能な単量体としては特開２００９−１２２６６４号、特開２００９−１３９６６１号、特開２００９−１３９７５４号、特開２００９−２９４２６２号、国際公開２００９／０５４３７６号等の各公報に記載のものも使用することができる。なお、これらは本発明を限定するものではなく、これらは単独で又は２種類以上組み合わせて使用できる。
２種類以上のアクリル樹脂を用いる場合は、少なくとも１種類は上記の構造を有するものを用いることが好ましい。
メチルメタクリレートと共重合可能な単量体としては、上記アルキル（メタ）アクリレートと共重合可能な単量体として例示したものに加えて、炭素数が２〜１８のアルキル基とメタクリル酸とからなるアルキルメタアクリレート、炭素数が１〜１８のアルキル基とアクリル酸とからなるアルキルアクリレートが挙げられ、これらは単独で、又は２種以上の単量体を併用して用いることができる。中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
本発明に用いることができるアクリル樹脂及び（メタ）アクリル酸の誘導体、他の共重合可能な単量体としては特開２００９−１２２６６４号、特開２００９−１３９６６１号、特開２００９−１３９７５４号、特開２００９−２９４２６２号、国際公開２００９／０５４３７６号等の各公報に記載のものも使用することができる。なお、これらは本発明を限定するものではなく、これらは単独で又は２種類以上組み合わせて使用できる。
２種類以上のアクリル樹脂を用いる場合は、少なくとも１種類は上記の構造を有するものを用いることが好ましい。
本発明で用いるアクリル樹脂の質量平均分子量Ｍｗは８００００以上であることが好ましい。アクリル樹脂の質量平均分子量Ｍｗが８００００以上であれば、機械的強度が高く、フィルム製造時のハンドリング適性に優れる。この観点から、アクリル樹脂の質量平均分子量Ｍｗは１０００００以上であること好ましい。また、セルロースエステルとの相溶性向上の観点からは、アクリル樹脂の質量平均分子量Ｍｗは３００００００以下であることが好ましく、２００００００以下であることがより好ましい。
本発明に用いられるアクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ８０、ＢＲ８５、ＢＲ８８、ＢＲ１０２（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。
アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。
アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。
（ポリカーボネート系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリカーボネート系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。
（ポリスチレン系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリスチレン系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリカーボネート系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。
（ポリスチレン系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリスチレン系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。
（環状ポリオレフィン系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、環状ポリオレフィン系樹脂を用いることができる。ここで、環状ポリオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン構造を有する重合体樹脂を表す。
本発明に用いる環状オレフィン構造を有する重合体樹脂の例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。
本発明に好ましい重合体は下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体環状ポリオレフィン系樹脂及び必要に応じ、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィン系樹脂である。また、一般式（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体も好適に使用することができる。
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、環状ポリオレフィン系樹脂を用いることができる。ここで、環状ポリオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン構造を有する重合体樹脂を表す。
本発明に用いる環状オレフィン構造を有する重合体樹脂の例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。
本発明に好ましい重合体は下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体環状ポリオレフィン系樹脂及び必要に応じ、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィン系樹脂である。また、一般式（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体も好適に使用することができる。
式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ3、Ｙ1〜Ｙ3は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−（ＣＨ2）nＣＯＯＲ11、−（ＣＨ2）nＯＣＯＲ12、−（ＣＨ2）nＮＣＯ、−（ＣＨ2）nＮＯ2、−（ＣＨ2）nＣＮ、−（ＣＨ2）nＣＯＮＲ13Ｒ14、−（ＣＨ2）nＮＲ13Ｒ14、−（ＣＨ2）nＯＺ、−（ＣＨ2）nＷ、又はＸ1とＹ1あるいはＸ2とＹ2あるいはＸ3とＹ3から構成された（−ＣＯ）2Ｏ、（−ＣＯ）2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ16 pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子、−ＯＣＯＲ16又は−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
ノルボルネン系重合体水素化物は、特開平１−２４０５１７号、特開平７−１９６７３６号、特開昭６０−２６０２４号、特開昭６２−１９８０１号、特開２００３−１１５９７６７号あるいは特開２００４−３０９９７９号等に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合あるいはメタセシス開環重合したのち水素添加することにより作られる。本発明に用いるノルボルネン系重合体において、Ｒ5〜Ｒ6は水素原子又は−ＣＨ3が好ましく、Ｘ3、及びＹ3は水素原子、Ｃｌ、−ＣＯＯＣＨ3が好ましく、その他の基は適宜選択される。このノルボルネン系樹脂は、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）ＧあるいはアートンＦという商品名で発売されており、また日本ゼオン（株）からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０あるいはゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。
ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号、特表２００２−５０４１８４号、米国公開特許２００４２２９１５７Ａ１号あるいはＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合する事によって得られる。また、必要に応じ、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン；ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合することもできる。このノルボルネン系付加（共）重合体は、三井化学（株）よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。ポリプラスチック（株）よりＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などのペレットが発売されている。更に、Ｆｅｒｒａｎｉａ社よりＡｐｐｅａｒ３０００が発売されている。
本発明においては、環状ポリオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に制限はないが、例えば２００〜４００℃というような高いＴｇの環状ポリオレフィン系樹脂も用いることができる。
（その他の熱可塑性樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、上記の前記基材フィルムの主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂以外のその他の熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。その他の熱可塑性樹脂は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に種類は問わないが、前記基材フィルムの主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂と熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂の方が、機械強度や所望の物性を向上させる点において好ましい。
前記その他の樹脂は、前記基材フィルム中に０〜３０質量％含まれることが好ましく、０〜２０質量％含まれることがより好ましく、０〜１５質量％含まれることが特に好ましい。
また、前記基材フィルムの主成分として（メタ）アクリル系樹脂を用いる場合は、前記その他の樹脂は、前記基材フィルム中に０〜３０質量％含まれることが好ましく、１〜２０質量％含まれることがより好ましく、５〜１５質量％含まれることが特に好ましい。
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、上記の前記基材フィルムの主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂以外のその他の熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。その他の熱可塑性樹脂は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に種類は問わないが、前記基材フィルムの主成分として好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂と熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂の方が、機械強度や所望の物性を向上させる点において好ましい。
前記その他の樹脂は、前記基材フィルム中に０〜３０質量％含まれることが好ましく、０〜２０質量％含まれることがより好ましく、０〜１５質量％含まれることが特に好ましい。
また、前記基材フィルムの主成分として（メタ）アクリル系樹脂を用いる場合は、前記その他の樹脂は、前記基材フィルム中に０〜３０質量％含まれることが好ましく、１〜２０質量％含まれることがより好ましく、５〜１５質量％含まれることが特に好ましい。
上記その他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系熱可塑性；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系熱可塑性；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系熱可塑性；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系熱可塑性；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。ゴム質重合体は、表面に本発明に用いることができるラクトン環重合体と相溶し得る組成のグラフ卜部を有するのが好ましく、また、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、１００ｎｍ以下である事が好ましく、７０ｎｍ以下である事が更に好ましい。
シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを含む共重合体、具体的にはアクリロニトリル−スチレン系共重合体やポリ塩化ビニル樹脂、メタクリル酸エステル類を５０質量％以上含有する重合体を用いるとよい。それらの中でもアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いると、ガラス転移温度が１２０℃以上、面方向の１００μｍあたりの位相差が２０ｎｍ以下で、全光線透過率が８５％以上であるフィルムを容易に得ることが可能となる。
前記基材フィルムの主成分として（メタ）アクリル系樹脂を用いる場合は、前記その他の樹脂として、前記シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを含む共重合体を含むことが好ましい。
前記基材フィルムの主成分として（メタ）アクリル系樹脂を用いる場合は、前記その他の樹脂として、前記シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを含む共重合体を含むことが好ましい。
＜透湿度低減化合物＞
前記基材フィルムは、透湿度低減化合物を含むことも好ましい。ポリマー単独で低透湿なポリマーは溶剤への溶解性が低く製造プロセスでの問題が多い。ポリマーと透湿度低減化合物の複合による透湿度を下げる事により、低透湿と溶解性（製造適性）の両立が可能となり、透湿度低減化合物を含むことが好ましい。
前記基材フィルムは、透湿度低減化合物を含むことも好ましい。ポリマー単独で低透湿なポリマーは溶剤への溶解性が低く製造プロセスでの問題が多い。ポリマーと透湿度低減化合物の複合による透湿度を下げる事により、低透湿と溶解性（製造適性）の両立が可能となり、透湿度低減化合物を含むことが好ましい。
上記の透湿度低減化合物は、芳香族環を１つ以上含む構造であってもよい。芳香族環によって、疎水的な性質をフィルムに付与でき、水分の透過、脱着を抑制できる。
前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、下記一般式（Ａ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125がそれぞれ独立に表す置換基としては、好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、t-オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクタデシル基）、炭素原子数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントラニル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｔ−ブトキシ基）、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフトキシ基）、炭素原子数２〜２０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基などが挙げられる。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125がそれぞれ独立に表す置換基としては、特に好ましくは、ヒドロキシル基、アルコキシ基であり、より特に好ましくはヒドロキシル基または炭素数１〜５のアルコキシ基であり、さらにより特に好ましくはヒドロキシル基またはメトキシ基である。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125中、Ｒ113，Ｒ114，Ｒ123およびＲ124のうち少なくとも１つが置換基であることが好ましく、１つまたは２つが置換基であることがより好ましく、２つが置換基であることが特に好ましい。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125中、ヒドロキシル基をＲ124に有する
ことが透湿度を低減しやすく、フィルムに添加したときにフィルムのＲｔｈ上昇を抑制しやすい観点から好ましい。さらに同様の観点から、Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124
およびＲ125中、ヒドロキシル基をＲ124に有し、かつ、Ｒ114またはＲ123に置換基を有することがより好ましく、ヒドロキシル基をＲ124に有し、かつ、Ｒ123に置換基を有することが特に好ましい。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125がそれぞれ独立に表す置換基としては、特に好ましくは、ヒドロキシル基、アルコキシ基であり、より特に好ましくはヒドロキシル基または炭素数１〜５のアルコキシ基であり、さらにより特に好ましくはヒドロキシル基またはメトキシ基である。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125中、Ｒ113，Ｒ114，Ｒ123およびＲ124のうち少なくとも１つが置換基であることが好ましく、１つまたは２つが置換基であることがより好ましく、２つが置換基であることが特に好ましい。
Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124およびＲ125中、ヒドロキシル基をＲ124に有する
ことが透湿度を低減しやすく、フィルムに添加したときにフィルムのＲｔｈ上昇を抑制しやすい観点から好ましい。さらに同様の観点から、Ｒ113，Ｒ114，Ｒ115，Ｒ123，Ｒ124
およびＲ125中、ヒドロキシル基をＲ124に有し、かつ、Ｒ114またはＲ123に置換基を有することがより好ましく、ヒドロキシル基をＲ124に有し、かつ、Ｒ123に置換基を有することが特に好ましい。
以下に前記一般式（Ａ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、下記一般式（Ｂ）で表される化合物を好ましく用いることができる。
一般式（Ｂ）
一般式（Ｂ）
一般式（Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。さらに、一般式（Ｂ）中、のＲ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基である。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
これらの置換基は更に置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
また、一般式（Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基であり、より好ましくはアミノ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。また、これらの基は置換基によって置換されていてもよい。この場合の置換基として、上述の置換基Ｔが適用でき、好ましい範囲も同様である。
以下に前記一般式（Ｂ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
前記基材フィルムが含む透湿度低減化合物として、ノボラック系化合物も好ましく用いることができる。
本発明に用いられるノボラック型フェノール樹脂としては特に限定しないが、一般に酸性物質を触媒として、フェノール類とアルデヒド類を反応させたものが好ましく用いられる。ノボラック型フェノール樹脂の原料となるフェノール類としては特に限定しないが、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−クミルフェノール等のアルキルフェノール、フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール、ｐ−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の１価フェノール置換体、および１−ナフトール、２−ナフトール等の１価のフェノール類、レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類などが挙げられる。これらを単独または２種類以上組み合わせて使用することができるが、通常、フェノール、クレゾールが多く用いられる。
本発明に用いられるノボラック型フェノール樹脂としては特に限定しないが、一般に酸性物質を触媒として、フェノール類とアルデヒド類を反応させたものが好ましく用いられる。ノボラック型フェノール樹脂の原料となるフェノール類としては特に限定しないが、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール、イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−クミルフェノール等のアルキルフェノール、フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール、ｐ−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の１価フェノール置換体、および１−ナフトール、２−ナフトール等の１価のフェノール類、レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類などが挙げられる。これらを単独または２種類以上組み合わせて使用することができるが、通常、フェノール、クレゾールが多く用いられる。
上記の透湿度低減化合物は、前記基材フィルムにおいて、前記熱可塑性樹脂の質量に対し、１０質量％以上１００質量％以下の量で含むことが好ましい。より好ましくは１５質量％以上９０質量％以下であり、２０質量％以上８０質量％以下が更に好ましい。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出できる。
＜紫外線吸収剤＞
前記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。前記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
その中でも、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。
前記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。前記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
その中でも、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。
＜その他の添加剤＞
（マット剤微粒子）
前記基材フィルムには、マット剤として微粒子を加えることができる。マット剤として使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものがフィルムのヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上が更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
（マット剤微粒子）
前記基材フィルムには、マット剤として微粒子を加えることができる。マット剤として使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものがフィルムのヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上が更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次粒子の平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下が更に好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次粒子、２次粒子の粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次粒子の平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
本発明において２次粒子での平均粒子径が小さな粒子を有する光学フィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースエステル又はアクリル樹脂溶液に加えて撹拌溶解し、更にメインのフィルム作製用の高分子溶液（ドープ液）と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量の熱可塑性樹脂を加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
最終的なドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。マット剤の添加量としては、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂等のドープ溶液に使用する熱可塑性樹脂の全量に対して、０．００１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上０．２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい。また、光学フィルムが多層から形成される場合、内層への添加はせず、表層側のみに添加することが好ましく、この場合は、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂等のドープ溶液に使用する熱可塑性樹脂の全量に対して、表層のマット剤の添加量としては０．００１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上０．２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい。
最終的なドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。マット剤の添加量としては、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂等のドープ溶液に使用する熱可塑性樹脂の全量に対して、０．００１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上０．２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい。また、光学フィルムが多層から形成される場合、内層への添加はせず、表層側のみに添加することが好ましく、この場合は、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂等のドープ溶液に使用する熱可塑性樹脂の全量に対して、表層のマット剤の添加量としては０．００１質量％以上０．４質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上０．２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下が更に好ましい。
分散に使用される溶剤としては低級アルコール類が好ましく、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、光学フィルムの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
（その他の添加剤）
上記マット粒子の他に、前記基材フィルムには、その他の種々の添加剤（例えば、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
上記マット粒子の他に、前記基材フィルムには、その他の種々の添加剤（例えば、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
熱可塑性樹脂（特にセルロースエステル及びアクリル樹脂）との相溶性がよい可塑剤は、ブリードアウトが生じ難く、低ヘイズであり、光モレ、正面コントラスト、輝度に優れた液晶表示装置を実現するフィルムの作製に有効である。
前記基材フィルムに可塑剤を用いてもよい。可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤などが挙げられる。
好ましくはリン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、より好ましくはポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、更に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤であり、特に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤である。
特にポリエステルオリゴマー系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤は前記基材フィルムとの相溶性が高く、ブリードアウト低減、低ヘイズ及び透湿度低減の効果が高く、また温湿度変化や経時による可塑剤の分解及びフィルムの変質や変形が生じ難いため、本発明に好んで用いることができる。
本発明においては、可塑剤は１種のみで用いてもよいし、２種以上を混合して使用することもできる。
前記基材フィルムに可塑剤を用いてもよい。可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤などが挙げられる。
好ましくはリン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、より好ましくはポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、更に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤であり、特に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤である。
特にポリエステルオリゴマー系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤は前記基材フィルムとの相溶性が高く、ブリードアウト低減、低ヘイズ及び透湿度低減の効果が高く、また温湿度変化や経時による可塑剤の分解及びフィルムの変質や変形が生じ難いため、本発明に好んで用いることができる。
本発明においては、可塑剤は１種のみで用いてもよいし、２種以上を混合して使用することもできる。
また前記基材フィルムには、ゴム状粒子を含有してもよい。たとえば、軟質アクリル系樹脂、アクリルゴム、および、ゴム−アクリル系グラフト型コアシェルポリマーなどアクリル粒子、またはスチレン−エラストマー共重合体があげられる。さらに、特公昭６０−１７４０６、特公平３−３９０９５号公報等に記載の、耐衝撃性、耐応力白化性が改善する添加剤も好ましく用いられる。
前記基材フィルムにおいては、これらの添加剤を添加する場合、添加剤の総量は、基材フィルムに対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることが好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験（１８０度折り曲げ時の割れ評価など）が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材ポリマーと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験（１８０度折り曲げ時の割れ評価など）が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材ポリマーと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましい。
＜基材フィルムの特性＞
（レターデーション）
前記基材フィルムは、波長５９０ｎｍで測定したＲｅ及びＲｔｈ（下記式（Ｉ’）及び（ＩＩ’）にて定義される）が、式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ’） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ’） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ’）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ’） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ’）〜（ＩＶ’）中、ｎｘは前記基材フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記基材フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記基材フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記基材フィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
なお、前記基材フィルムでは、上記式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）がフィルム面内の少なくとも１点において満足されればよいが、フィルム面内の任意の点で上記式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）が満足されることが好ましい。
（レターデーション）
前記基材フィルムは、波長５９０ｎｍで測定したＲｅ及びＲｔｈ（下記式（Ｉ’）及び（ＩＩ’）にて定義される）が、式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ’） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ’） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ’）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ’） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ’）〜（ＩＶ’）中、ｎｘは前記基材フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記基材フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記基材フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記基材フィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
なお、前記基材フィルムでは、上記式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）がフィルム面内の少なくとも１点において満足されればよいが、フィルム面内の任意の点で上記式（ＩＩＩ’）及び（ＩＶ’）が満足されることが好ましい。
本明細書中において、波長λｎｍでのＲｅ、Ｒｔｈ及びＮｚは次のようにして測定できる。
ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより算出する。ここで平均屈折率の仮定値は熱可塑性ハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィン熱可塑性（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
前記基材フィルムの測定では、前記基材フィルムに用いられる前記熱可塑性樹脂がセルロースエステルの場合は、前記基材フィルムの平均屈折率を１．４８としてレターデーションの測定を行う。
ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより算出する。ここで平均屈折率の仮定値は熱可塑性ハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィン熱可塑性（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
前記基材フィルムの測定では、前記基材フィルムに用いられる前記熱可塑性樹脂がセルロースエステルの場合は、前記基材フィルムの平均屈折率を１．４８としてレターデーションの測定を行う。
上記のＲｅ、Ｒｔｈは、前記基材フィルムに用いられる前記熱可塑性樹脂の種類（前記基材フィルムに用いられる前記熱可塑性樹脂がセルロースエステルの場合は、セルロースエステルの置換度）、前記熱可塑性樹脂と添加剤の量、レターデーション発現剤の添加、フィルムの膜厚、フィルムの延伸方向と延伸率等により調整することができる。
（基材フィルムの厚さ）
前記基材フィルムの膜厚は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍが特に好ましく、２０〜６０μｍがより特に好ましい。膜厚を前記の範囲に制御することで低透湿層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラ小さくすることができる。
前記基材フィルムの膜厚は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍが特に好ましく、２０〜６０μｍがより特に好ましい。膜厚を前記の範囲に制御することで低透湿層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラ小さくすることができる。
（基材フィルムの透湿度）
前記基材フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
前記基材フィルムの透湿度は、８００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましく、４００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましく、１５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが更に特に好ましい。基材
フィルムの透湿度を前記範囲に制御することで、低透湿層を積層した光学フィルム（本発明の光学フィルム）を搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
前記基材フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
前記基材フィルムの透湿度は、８００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが好ましく、４００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが特に好ましく、１５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが更に特に好ましい。基材
フィルムの透湿度を前記範囲に制御することで、低透湿層を積層した光学フィルム（本発明の光学フィルム）を搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。
（基材フィルムの酸素透過係数）
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
前記基材フィルムの酸素透過係数は、１００ｃｃ・ｍｍ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましく、３０ｃｃ・ｍｍ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がより好ましい。
尚、基材フィルムの酸素透過係数は以下の方法によって測定することができる。
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
前記基材フィルムの酸素透過係数は、１００ｃｃ・ｍｍ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましく、３０ｃｃ・ｍｍ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がより好ましい。
尚、基材フィルムの酸素透過係数は以下の方法によって測定することができる。
−酸素透過係数の測定方法−
フィルムの酸素透過量測定は、酸素電極（オービスフェア・ラボラトリーズ社製ＭＯＤＥＬ３６００、ＰＦＡ）に薄く塗布したシリコングリスを介して直径１．５ｃｍに裁断した試験片を貼り付け、定常状態での酸素還元電流出力値より、酸素透過量を求めることができる。
出力電流値の酸素透過量への換算は、透過量既知のサンプルを用いて検量線を作成することにより求めることができる。測定は、２５℃、相対湿度５０％環境下で行う。
フィルムの酸素透過量測定は、酸素電極（オービスフェア・ラボラトリーズ社製ＭＯＤＥＬ３６００、ＰＦＡ）に薄く塗布したシリコングリスを介して直径１．５ｃｍに裁断した試験片を貼り付け、定常状態での酸素還元電流出力値より、酸素透過量を求めることができる。
出力電流値の酸素透過量への換算は、透過量既知のサンプルを用いて検量線を作成することにより求めることができる。測定は、２５℃、相対湿度５０％環境下で行う。
（基材フィルムのヘイズ）
前記基材フィルムは、全ヘイズ値が２．００％以下であることが好ましい。全ヘイズ値が２．００％以下であると、フィルムの透明性が高く、液晶表示装置のコントラスト比や輝度向上に効果がある。全ヘイズ値は、１．００％以下がより好ましく、０．５０％以下であることが更に好ましく、０．３０％以下が特に好ましく、０．２０％以下が最も好ましい。全ヘイズ値は低いほど光学的性能が優れるが原料選択や製造管理やロールフィルムのハンドリング性も考慮すると０．０１％以上であることが好ましい。
前記基材フィルムの内部ヘイズ値は、１．００％以下であることが好ましい。内部ヘイズ値を１．００％以下とすることで、液晶表示装置のコントラスト比を向上させ、優れた表示特性を実現することができる。内部ヘイズ値は、０．５０％以下がより好ましく、０．２０％以下が更に好ましく、０．１０％以下が特に好ましく、０．０５％以下が最も好ましい。原料選択や製造管理等の観点からは０．０１％以上であることが好ましい。
前記基材フィルムとしては、特に、全ヘイズ値が０．３０％以下であり、内部ヘイズ値が０．１０％以下であることが好ましい。
全ヘイズ値及び内部ヘイズ値は、フィルム材料の種類や添加量、添加剤の選択（特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量）や、更にはフィルム製造条件（延伸時の温度や延伸倍率など）により調整することができる。
なおヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）で、ＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定することができる。
前記基材フィルムは、全ヘイズ値が２．００％以下であることが好ましい。全ヘイズ値が２．００％以下であると、フィルムの透明性が高く、液晶表示装置のコントラスト比や輝度向上に効果がある。全ヘイズ値は、１．００％以下がより好ましく、０．５０％以下であることが更に好ましく、０．３０％以下が特に好ましく、０．２０％以下が最も好ましい。全ヘイズ値は低いほど光学的性能が優れるが原料選択や製造管理やロールフィルムのハンドリング性も考慮すると０．０１％以上であることが好ましい。
前記基材フィルムの内部ヘイズ値は、１．００％以下であることが好ましい。内部ヘイズ値を１．００％以下とすることで、液晶表示装置のコントラスト比を向上させ、優れた表示特性を実現することができる。内部ヘイズ値は、０．５０％以下がより好ましく、０．２０％以下が更に好ましく、０．１０％以下が特に好ましく、０．０５％以下が最も好ましい。原料選択や製造管理等の観点からは０．０１％以上であることが好ましい。
前記基材フィルムとしては、特に、全ヘイズ値が０．３０％以下であり、内部ヘイズ値が０．１０％以下であることが好ましい。
全ヘイズ値及び内部ヘイズ値は、フィルム材料の種類や添加量、添加剤の選択（特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量）や、更にはフィルム製造条件（延伸時の温度や延伸倍率など）により調整することができる。
なおヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）で、ＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定することができる。
（基材フィルムの弾性率）
前記基材フィルムの弾性率は、幅方向（ＴＤ方向）で１８００〜７０００ＭＰａであることが好ましい。
本発明において、ＴＤ方向の弾性率が上記範囲とすることにより、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラやフィルム作製時の搬送性、端部スリット性や破断のし難さ等の製造適性の観点で好ましい。ＴＤ弾性率が小さすぎると高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラが発生し易くなり、また製造適性に問題が生じ、大きすぎるとフィルム加工性に劣る為、ＴＤ方向の弾性率は、１８００〜５０００ＭＰａがより好ましく、１８００〜４０００ＭＰａであることが更に好ましい。
また、前記基材フィルムの、搬送方向の（ＭＤ方向）の弾性率は、１８００〜４０００ＭＰａが好ましく、１８００〜３０００ＭＰａであることがより好ましい。
ここで、フィルムの搬送方向（長手方向）とは、フィルム作製時の搬送方向（ＭＤ方向）であり、幅方向とはフィルム作製時の搬送方向に対して垂直な方向（ＴＤ方向）である。
フィルムの弾性率は、前記基材フィルム材料の熱可塑性樹脂の種類や添加量、添加剤の選択（特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量）や、更にはフィルム製造条件（延伸倍率など）により調整することができる。
弾性率は、例えば、東洋ボールドウィン（株）製万能引っ張り試験機“ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ”を用い、２３℃、相対湿度７０％雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定して求めることができる。
前記基材フィルムの弾性率は、幅方向（ＴＤ方向）で１８００〜７０００ＭＰａであることが好ましい。
本発明において、ＴＤ方向の弾性率が上記範囲とすることにより、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラやフィルム作製時の搬送性、端部スリット性や破断のし難さ等の製造適性の観点で好ましい。ＴＤ弾性率が小さすぎると高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラが発生し易くなり、また製造適性に問題が生じ、大きすぎるとフィルム加工性に劣る為、ＴＤ方向の弾性率は、１８００〜５０００ＭＰａがより好ましく、１８００〜４０００ＭＰａであることが更に好ましい。
また、前記基材フィルムの、搬送方向の（ＭＤ方向）の弾性率は、１８００〜４０００ＭＰａが好ましく、１８００〜３０００ＭＰａであることがより好ましい。
ここで、フィルムの搬送方向（長手方向）とは、フィルム作製時の搬送方向（ＭＤ方向）であり、幅方向とはフィルム作製時の搬送方向に対して垂直な方向（ＴＤ方向）である。
フィルムの弾性率は、前記基材フィルム材料の熱可塑性樹脂の種類や添加量、添加剤の選択（特に、マット剤粒子の粒径、屈折率、添加量）や、更にはフィルム製造条件（延伸倍率など）により調整することができる。
弾性率は、例えば、東洋ボールドウィン（株）製万能引っ張り試験機“ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ”を用い、２３℃、相対湿度７０％雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定して求めることができる。
（基材フィルムのガラス転移温度Ｔｇ）
前記基材フィルムのガラス転移温度Ｔｇは製造適性と耐熱性の観点より、１００℃以上２００℃以下が好ましく、更に１００℃以上１５０℃以下が好ましい。
ガラス転移温度は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めることができる。
また、ガラス転移温度の測定は、以下の動的粘弾性測定装置を用いて求めることもできる。フィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で２時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置（バイブロン：ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）製））で、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２５０℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とする。
前記基材フィルムのガラス転移温度Ｔｇは製造適性と耐熱性の観点より、１００℃以上２００℃以下が好ましく、更に１００℃以上１５０℃以下が好ましい。
ガラス転移温度は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めることができる。
また、ガラス転移温度の測定は、以下の動的粘弾性測定装置を用いて求めることもできる。フィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で２時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置（バイブロン：ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）製））で、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２５０℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とする。
（基材フィルムのヌープ硬度）
最表面に用いる偏光板保護膜では、表面硬度が高いことが好ましく、その場合、基材フィルムの特性としては、ヌープ硬度が高い事が好ましい。ヌープ硬度は、１００Ｎ／ｍｍ2以上が好ましく、１５０Ｎ／ｍｍ2以上が更に好ましく用いられる。
尚、基材フィルムのヌープ硬度は以下の方法によって測定することができる。
最表面に用いる偏光板保護膜では、表面硬度が高いことが好ましく、その場合、基材フィルムの特性としては、ヌープ硬度が高い事が好ましい。ヌープ硬度は、１００Ｎ／ｍｍ2以上が好ましく、１５０Ｎ／ｍｍ2以上が更に好ましく用いられる。
尚、基材フィルムのヌープ硬度は以下の方法によって測定することができる。
−表面硬度（ヌープ硬度）測定−
フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用い、圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置したヌープ圧子により、ガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間１０ｓｅｃ、クリープ時間５ｓｅｃ、除荷時間１０ｓｅｃ、最大荷重１００ｍＮの条件で測定することができる。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係より硬度を算出し、この５点の平均値を表面硬度とする。
フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用い、圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置したヌープ圧子により、ガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間１０ｓｅｃ、クリープ時間５ｓｅｃ、除荷時間１０ｓｅｃ、最大荷重１００ｍＮの条件で測定することができる。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係より硬度を算出し、この５点の平均値を表面硬度とする。
（基材フィルムの平衡含水率）
前記基材フィルムの含水率（平衡含水率）は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、相対湿度８０％における含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０〜２．５質量％であることがより好ましく、０〜１．５質量％であることが更に好ましい。平衡含水率が４質量％以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定法は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出できる。
前記基材フィルムの含水率（平衡含水率）は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、相対湿度８０％における含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０〜２．５質量％であることがより好ましく、０〜１．５質量％であることが更に好ましい。平衡含水率が４質量％以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の黒表示時の表示ムラを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定法は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出できる。
（基材フィルムの寸度変化）
前記基材フィルムの寸度安定性は、６０℃、相対湿度９０％の条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び８０℃、ＤＲＹ環境（相対湿度５％以下）の条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０．５％以下であることが好ましい。より好ましくは０．３％以下であり、更に好ましくは０．１５％以下である。
前記基材フィルムの寸度安定性は、６０℃、相対湿度９０％の条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び８０℃、ＤＲＹ環境（相対湿度５％以下）の条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０．５％以下であることが好ましい。より好ましくは０．３％以下であり、更に好ましくは０．１５％以下である。
（基材フィルムの光弾性係数）
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして使用した場合には、偏光子の収縮による応力などにより複屈折（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、基材フィルムの弾性率は、３０Ｂｒ以下であることが好ましく、−３〜１２Ｂｒであることがより好ましく、０〜１１Ｂｒであることが更に好ましい。
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして使用した場合には、偏光子の収縮による応力などにより複屈折（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が変化する場合がある。このような応力に伴う複屈折の変化は光弾性係数として測定できるが、基材フィルムの弾性率は、３０Ｂｒ以下であることが好ましく、−３〜１２Ｂｒであることがより好ましく、０〜１１Ｂｒであることが更に好ましい。
＜基材フィルムの製造方法＞
前記基材フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して高分子膜（前記基材フィルム）を形成する工程、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、前記基材フィルムは、前記熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなること、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることが好ましい。
また、前記高分子溶液は、前記透湿度低減化合物を含むことがより好ましい。
尚、基材フィルムが（メタ）アクリル重合体を主成分とする基材フィルムの場合の好ましい製造方法は前記の通りである。
さらに、前記基材フィルムの製造方法は、前記基材フィルム（または高分子膜）を少なくともフィルムの搬送方向および幅方向のいずれかに延伸する工程を含むことが好ましく、前記基材フィルム（または高分子膜）の搬送方向と直交する幅方向に前記基材フィルム（または高分子膜）を延伸する工程とを含むことがより好ましい。
前記基材フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して高分子膜（前記基材フィルム）を形成する工程、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、前記基材フィルムは、前記熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなること、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることが好ましい。
また、前記高分子溶液は、前記透湿度低減化合物を含むことがより好ましい。
尚、基材フィルムが（メタ）アクリル重合体を主成分とする基材フィルムの場合の好ましい製造方法は前記の通りである。
さらに、前記基材フィルムの製造方法は、前記基材フィルム（または高分子膜）を少なくともフィルムの搬送方向および幅方向のいずれかに延伸する工程を含むことが好ましく、前記基材フィルム（または高分子膜）の搬送方向と直交する幅方向に前記基材フィルム（または高分子膜）を延伸する工程とを含むことがより好ましい。
前記高分子膜の製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から流延法による溶液製膜が好ましい。
前記基材フィルムの作製方法は溶液流延法を使用してもよいし、溶融流延法を使用してもよい。
溶液流延法の場合、前記熱可塑性樹脂及び溶媒を含む高分子溶液（ドープ）を支持体上に流延することで前記高分子膜が形成される。
溶液流延法の場合、前記熱可塑性樹脂及び溶媒を含む高分子溶液（ドープ）を支持体上に流延することで前記高分子膜が形成される。
（ドープ形成に用いる溶媒）
ドープを形成するのに用いる溶媒は、前記熱可塑性樹脂を溶解するものであれば、制限なく用いることができる。
本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
ドープを形成するのに用いる溶媒は、前記熱可塑性樹脂を溶解するものであれば、制限なく用いることができる。
本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
ドープを作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、前記熱可塑性樹脂が溶解し流延、製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは有機溶媒全体量中少なくとも５０質量％使用することが必要である。本発明で塩素系有機溶剤と併用される他の有機溶媒について以下に記す。即ち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテル及びアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノール等が挙げられる。
また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。更に炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが含まれる。
その他の溶媒としては、例えば特開２００７−１４０４９７号公報に記載の溶媒を用いることができる。
その他の溶媒としては、例えば特開２００７−１４０４９７号公報に記載の溶媒を用いることができる。
（ドープの調製）
ドープは、０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。本発明に用いることができるドープの調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にジクロロメタン）とアルコール（特にメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノール）を用いることが好ましい。
前記熱可塑性樹脂の合計量は、得られる高分子溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。
前記熱可塑性樹脂の量は、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０〜４０℃）で前記熱可塑性樹脂と有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、前記熱可塑性樹脂と有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、更に好ましくは８０〜１１０℃である。
ドープは、０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。本発明に用いることができるドープの調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にジクロロメタン）とアルコール（特にメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノール）を用いることが好ましい。
前記熱可塑性樹脂の合計量は、得られる高分子溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。
前記熱可塑性樹脂の量は、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０〜４０℃）で前記熱可塑性樹脂と有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、前記熱可塑性樹脂と有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、更に好ましくは８０〜１１０℃である。
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
（基材フィルムの製造−溶液製膜方法−）
次に、上記で得られたドープを用いて前記基材フィルムを製造する方法を説明する。
図１はフィルム製造ライン２０を示す概略図である。ただし、本発明は、図１に示すようなフィルム製造ラインに限定されるものではない。フィルム製造ライン２０には、ストックタンク２１、濾過装置３０、流延ダイ３１、回転ローラ３２、３３に掛け渡された流延バンド３４及びテンタ（以下、テンターとも言う）式乾燥機３５などが備えられている。更に耳切装置４０、乾燥室４１、冷却室４２及び巻取室４３などが配されている。
次に、上記で得られたドープを用いて前記基材フィルムを製造する方法を説明する。
図１はフィルム製造ライン２０を示す概略図である。ただし、本発明は、図１に示すようなフィルム製造ラインに限定されるものではない。フィルム製造ライン２０には、ストックタンク２１、濾過装置３０、流延ダイ３１、回転ローラ３２、３３に掛け渡された流延バンド３４及びテンタ（以下、テンターとも言う）式乾燥機３５などが備えられている。更に耳切装置４０、乾燥室４１、冷却室４２及び巻取室４３などが配されている。
ストックタンク２１には、モータ６０で回転する攪拌機６１が取り付けられている。そして、ストックタンク２１は、ポンプ６２及び濾過装置３０を介して流延ダイ３１と接続している。
流延ダイ３１の幅は、特に限定されるものではないが、最終製品となるフィルムの幅の１．１倍〜２．０倍であることが好ましい。
流延ダイ３１の下方には、回転ローラ３２、３３に掛け渡された流延バンド３４が設けられている。回転ローラ３２、３３は図示しない駆動装置により回転し、この回転に伴い流延バンド３４は無端で走行する。
また、流延バンド３４の表面温度を所定の値にするために、回転ローラ３２、３３に伝熱媒体循環装置６３が取り付けられていることが好ましい。流延バンド３４は、その表面温度が−２０℃〜４０℃に調整可能なものであることが好ましい。
流延バンド３４の幅は特に限定されるものではないが、ドープ２２の流延幅の１．１倍〜２．０倍の範囲のものを用いることが好ましい。また、長さは２０ｍ〜２００ｍ、膜厚は０．５ｍｍ〜２．５ｍｍであり、表面粗さは０．０５μｍ以下となるように研磨されていることが好ましい。流延バンド３４は、ステンレス製であることが好ましく、十分な耐腐食性と強度とを有するようにＳＵＳ３１６製であることがより好ましい。また、流延バンド３４の全体の膜厚ムラは０．５％以下のものを用いることが好ましい。
なお、回転ローラ３２、３３を直接支持体として用いることも可能である。
なお、回転ローラ３２、３３を直接支持体として用いることも可能である。
流延ダイ３１、流延バンド３４などは流延室６４に収められている。流延室６４には、その内部温度を所定の値に保つための温調設備６５と、揮発している有機溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）６６とが設けられている。そして、凝縮液化した有機溶媒を回収するための回収装置６７が流延室６４の外部に設けられている。また、流延ダイ３１から流延バンド３４にかけて形成される流延ビードの背面部を圧力制御するための減圧チャンバ６８が配されていることが好ましく、本実施形態においてもこれを使用している。
流延膜６９中の溶媒を蒸発させるため送風口７０、７１、７２が流延バンド３４の周面近くに設けられている。
渡り部８０には、送風機８１が備えられ、テンタ式乾燥機３５の下流の耳切装置４０には、切り取られたフィルム８２の側端部（耳と称される）の屑を細かく切断処理するためのクラッシャ９０が接続されている。
乾燥室４１には、多数のローラ９１が備えられており、蒸発して発生した溶媒ガスを吸着回収するための吸着回収装置９２が取り付けられている。冷却室４２の下流には、フィルム８２の帯電圧を所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように調整するための強制除電装置（除電バー）９３が設けられている。更に、本実施形態においては、フィルム８２の両縁にエンボス加工でナーリングを付与するためのナーリング付与ローラ９４が強制除電装置９３の下流に適宜設けられる。また、巻取室４３の内部には、フィルム８２を巻き取るための巻取ローラ９５と、その巻き取り時のテンションを制御するためのプレスローラ９６とが備えられている。
次に、以上のようなフィルム製造ライン２０を使用してフィルム８２を製造する方法の一例を以下に説明する。
ドープ２２は、攪拌機６１の回転により常に均一化されている。ドープ２２には、この攪拌の際にもレターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を混合させることもできる。
ドープ２２は、攪拌機６１の回転により常に均一化されている。ドープ２２には、この攪拌の際にもレターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を混合させることもできる。
ドープ２２は、ポンプ６２により濾過装置３０に送られてここで濾過された後に、流延ダイ３１から流延バンド３４上に流延される。
流延ダイ３１から流延バンド３４にかけては流延ビードが形成され、流延バンド３４上には流延膜６９が形成される。流延時のドープ２２の温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。
流延ダイ３１からドープ２２は流延ビードを形成して、流延バンド３４上に流延される。
流延膜６９は流延バンド３４の移動に伴い移動する。
流延ダイ３１から流延バンド３４にかけては流延ビードが形成され、流延バンド３４上には流延膜６９が形成される。流延時のドープ２２の温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。
流延ダイ３１からドープ２２は流延ビードを形成して、流延バンド３４上に流延される。
流延膜６９は流延バンド３４の移動に伴い移動する。
次に、流延膜６９は送風口７３が上部に配置されている箇所まで連続的に搬送される。送風口７３のノズルから乾燥風が流延膜６９に向けて送風される。
流延膜６９は、乾燥により溶媒が蒸発した結果、自己支持性を有するものとなった後に、湿潤フィルム７４として剥取ローラ７５で支持されながら流延バンド３４から剥ぎ取られる。剥ぎ取り時の残留溶媒量は、固形分基準で２０質量％〜２５０質量％であることが好ましい。
その後に多数のローラが設けられている渡り部８０を搬送させて、テンタ式乾燥機３５に湿潤フィルム７４を送り込む。渡り部８０では、送風機８１から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フィルム７４の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。
その後に多数のローラが設けられている渡り部８０を搬送させて、テンタ式乾燥機３５に湿潤フィルム７４を送り込む。渡り部８０では、送風機８１から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フィルム７４の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。
湿潤フィルム７４は、搬送方向（ＭＤ方向）および直交する幅方向（ＴＤ方向）のいずれかに延伸することが好ましい。搬送方向や幅方向への延伸により、透湿度を低減することができる。また、支持体での乾燥時及び剥ぎ取り時に発生したムラを軽減しフィルム面内で良好な面状を得ることが出来る。長手方向および幅方向への延伸倍率は、１０％以上が好ましく、２０％以上がより好ましく、３０％以上が更に好ましい。さらに、高倍率延伸（５０％以上）により透湿度を下げることが出来る。
テンタ式乾燥機３５に送られている湿潤フィルム７４は、その両端部がクリップで把持されて搬送されながら乾燥される。幅方向への延伸は、この際、テンタ式乾燥機３５を用いて行うことができる。
なお、テンタ式乾燥機３５の内部を温度ゾーンに区画分割して、その区画毎に乾燥条件を適宜調整することが好ましい。
このように、渡り部８０及び／又はテンタ式乾燥機３５で湿潤フィルム７４を幅方向に延伸することができる。
また、搬送方向への延伸を行ってもよく、渡り部８０で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フィルム７４に搬送方向にドローテンションを付与させて行うことができる。
ここで、渡り部８０及び／又はテンタ式乾燥機３５において、湿潤フィルム７４を未延伸のまま乾燥し、フィルム中の残留溶剤量が３．０％質量以下、好ましくは１．０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、更に好ましくは０．３質量％以下、特に好ましくは０．２質量％以下である乾燥フィルムとした後に、延伸を行ってもよい。
なお、乾燥フィルムを延伸する場合、未延伸のまま乾燥フィルムを作製して一度巻き取った後、更に延伸を行ってもよい。
延伸に用いる高分子膜は乾燥フィルムでも湿潤フィルムでもよいが、湿潤フィルムであることがより好ましい。
テンタ式乾燥機３５に送られている湿潤フィルム７４は、その両端部がクリップで把持されて搬送されながら乾燥される。幅方向への延伸は、この際、テンタ式乾燥機３５を用いて行うことができる。
なお、テンタ式乾燥機３５の内部を温度ゾーンに区画分割して、その区画毎に乾燥条件を適宜調整することが好ましい。
このように、渡り部８０及び／又はテンタ式乾燥機３５で湿潤フィルム７４を幅方向に延伸することができる。
また、搬送方向への延伸を行ってもよく、渡り部８０で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フィルム７４に搬送方向にドローテンションを付与させて行うことができる。
ここで、渡り部８０及び／又はテンタ式乾燥機３５において、湿潤フィルム７４を未延伸のまま乾燥し、フィルム中の残留溶剤量が３．０％質量以下、好ましくは１．０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、更に好ましくは０．３質量％以下、特に好ましくは０．２質量％以下である乾燥フィルムとした後に、延伸を行ってもよい。
なお、乾燥フィルムを延伸する場合、未延伸のまま乾燥フィルムを作製して一度巻き取った後、更に延伸を行ってもよい。
延伸に用いる高分子膜は乾燥フィルムでも湿潤フィルムでもよいが、湿潤フィルムであることがより好ましい。
幅方向の延伸倍率は１．１〜５．０倍であることが好ましく、１．３〜５．０倍であることが好ましく、１．３〜５．０倍であることが特に好ましい。搬送方向の延伸倍率は１．０〜５．０倍であることが好ましい。なお、搬送方向には意図的にドローテンションをかけて延伸しない場合でも搬送によるテンションがかかるため、結果的に１．０１〜１．１倍程度の倍率で延伸されたフィルムが得られることもある。
延伸時の温度は、乾燥後の未延伸の高分子膜のガラス転移温度Ｔｇに対してＴｇ±３０℃の温度範囲とすることが好ましい。ここで、乾燥後の未延伸の高分子膜のガラス転移温度とは、前記熱可塑性樹脂のガラス転移温度である。この温度範囲で延伸は、フィルムのハンドリング適性がよく、高分子膜を破断させることなく所望の光学フィルムを作製することができる。（Ｔｇ−３０℃）以上で延伸することにより、フィルムの破断を防ぎ、フィルム内でのＲｔｈのばらつきを抑えることができる。また（Ｔｇ＋３０℃）以下で延伸することで、フィルムの自重により延伸を防ぎ、フィルム内でのＲｔｈのばらつきを抑えることができる。また、フィルム内の相分離による全ヘイズ、内部ヘイズの増加を抑えることができる。
このように延伸処理は湿潤フィルム７４を製膜後、渡り部８０及びテンタ式乾燥機３５を経る乾燥工程で行ってもよいし、湿潤フィルム７４を乾燥後巻き取った後に行ってもよい。
流延条件は、未延伸でフィルムを作製した場合に、フィルムの膜厚が１０〜２００μｍとなるような条件で行うことが好ましく、２０〜１５０μｍがより好ましく、３０〜１２０μｍが更に好ましく、４０〜１００μｍとなるような条件とすることが最も好ましい。
この範囲にあると、延伸後のフィルムの膜厚を小さくでき、湿度変化時、高温時及び高温高湿環境経時後のレターデーション変化が小さくなり、更に使用する樹脂が少なく安価なフィルムが製造できるので好ましい。
流延条件は、未延伸でフィルムを作製した場合に、フィルムの膜厚が１０〜２００μｍとなるような条件で行うことが好ましく、２０〜１５０μｍがより好ましく、３０〜１２０μｍが更に好ましく、４０〜１００μｍとなるような条件とすることが最も好ましい。
この範囲にあると、延伸後のフィルムの膜厚を小さくでき、湿度変化時、高温時及び高温高湿環境経時後のレターデーション変化が小さくなり、更に使用する樹脂が少なく安価なフィルムが製造できるので好ましい。
湿潤フィルム７４は、テンタ式乾燥機３５で所定の残留溶媒量まで乾燥された後、フィルム８２として下流側に送り出される。フィルム８２の両側端部は、耳切装置４０によりその両縁が切断される。切断された側端部は、図示しないカッターブロワによりクラッシャ９０に送られる。クラッシャ９０により、フィルム側端部は粉砕されてチップとなる。このチップはドープ調製用に再利用されるので、この方法はコストの点において有効である。なお、このフィルム両側端部の切断工程については省略することもできるが、前記流延工程から前記フィルムを巻き取る工程までのいずれかで行うことが好ましい。
両側端部を切断除去されたフィルム８２は、乾燥室４１に送られ、更に乾燥される。乾燥室４１内の温度は、特に限定されるものではないが、５０℃〜１６０℃の範囲であることが好ましい。乾燥室４１においては、フィルム８２は、ローラ９１に巻き掛けられながら搬送されており、ここで蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置９２により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室４１の内部に乾燥風として再度送風される。なお、乾燥室４１は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。
フィルム８２は、冷却室４２で略室温まで冷却される。なお、乾燥室４１と冷却室４２との間に調湿室（図示しない）を設けてもよく、この調湿室でフィルム８２に対して、所望の湿度及び温度に調整された空気を吹き付けられることが好ましい。これにより、フィルム８２のカールの発生や巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制することができる。
また、強制除電装置（除電バー）９３により、フィルム８２が搬送されている間の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）とされる。更に、ナーリング付与ローラ９４を設けて、フィルム８２の両縁にエンボス加工でナーリングを付与することが好ましい。
最後に、フィルム８２を巻取室４３内の巻取ローラ９５で巻き取る。この際には、プレスローラ９６で所望のテンションを付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフィルム８２は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、フィルム８２の幅が６００ｍｍ以上であることが好ましく、１１００ｍｍ以上２９００ｍｍ以下であることがより好ましく、１８００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下が更に好ましい。
本発明で用いることができる溶液製膜方法において、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時積層共流延又は逐次積層共流延させることもできる。更に両共流延を組み合わせてもよい。同時積層共流延を行う際には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いてもよいし、マルチマニホールド型流延ダイを用いてもよい。共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さと支持体側の層の厚さとの少なくともいずれか一方が、フィルム全体の膜厚の０．５％〜３０％であることが好ましい。更に、同時積層共流延を行う場合には、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープが低粘度ドープにより包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行なう場合には、ダイスリットから支持体にかけて形成される流延ビードのうち、外界と接するドープが内部のドープよりもアルコールの組成比が大きいことが好ましい。
流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。
また、上記では、本発明の光学フィルムの製造方法の一例を、ドープをバンド上に流延させた例で説明したが、ドープをドラム上に流延させてもよい。
また、上記では、本発明の光学フィルムの製造方法の一例を、ドープをバンド上に流延させた例で説明したが、ドープをドラム上に流延させてもよい。
（表面処理）
基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと低透湿層やそれ以外の層（例えば、偏光子、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと低透湿層やそれ以外の層（例えば、偏光子、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
｛機能層｝
また本発明の光学フィルムは前記低透湿層を有するが、さらに、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層などが挙げられる。
前記機能層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。前記機能層の積層方法は特に限定されないが、低透湿層を積層後の本発明の光学フィルム上に、さらに他の機能層を塗設して設けることが好ましい。
機能層は低透湿層に積層してもよいし、低透湿層を積層していない面に積層してもよい。複数の機能層を積層する場合一つの機能層を低透湿層上に積層し、もう一つの機能層を低透湿層が積層していない面に積層することもできる。
また本発明の光学フィルムは前記低透湿層を有するが、さらに、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層などが挙げられる。
前記機能層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。前記機能層の積層方法は特に限定されないが、低透湿層を積層後の本発明の光学フィルム上に、さらに他の機能層を塗設して設けることが好ましい。
機能層は低透湿層に積層してもよいし、低透湿層を積層していない面に積層してもよい。複数の機能層を積層する場合一つの機能層を低透湿層上に積層し、もう一つの機能層を低透湿層が積層していない面に積層することもできる。
前記機能層の厚みは、０．０１〜１００μｍであることがより好ましく、０．０２〜５０μｍであることが特に好ましい。
＜光学フィルムの層構成＞
基材フィルムの一方の面上に低透湿層を有する本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムであり且つ、液晶表示装置の表面フィルムであることが好ましい。
基材フィルムの一方の面上に低透湿層を有する本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムであり且つ、液晶表示装置の表面フィルムであることが好ましい。
（ハードコート層）
本発明の光学フィルムが液晶表示装置の表面フィルムの場合、さらに本発明の光学フィルムにはハードコート層が積層されていることが好ましく、本発明の光学フィルムがハードコート層を有する場合はさらに反射防止層や防汚層が積層されていてもよい。この場合の好ましい層構成を以下に示す。
ハードコート層や反射防止層は公知のものを用いることができ、電離放射線硬化型のものであることが好ましい。
本発明の光学フィルムが液晶表示装置の表面フィルムの場合、さらに本発明の光学フィルムにはハードコート層が積層されていることが好ましく、本発明の光学フィルムがハードコート層を有する場合はさらに反射防止層や防汚層が積層されていてもよい。この場合の好ましい層構成を以下に示す。
ハードコート層や反射防止層は公知のものを用いることができ、電離放射線硬化型のものであることが好ましい。
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層／反射防止層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層／防汚層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層／反射防止層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層／防汚層
（光学異方性層）
基材フィルムの一方の面上に低透湿層を有する本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であってもよいし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であってもよい。
基材フィルムの一方の面上に低透湿層を有する本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であってもよいし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であってもよい。
前記のように本発明の光学フィルムは液晶表示装置用のハードコート層が積層された表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムがハードコート層と光学異方性層の両方を有する場合、光学異方性層は基材フィルムを介してハードコート層が積層されていない面に形成されていることが好ましい。
本発明の光学フィルムがこのような態様を有する場合、低透湿層は、基材フィルムに対してはハードコート層と同じ側に積層されていてもよいし、ハードコート層と反対側に設けられてもよいし、基材フィルムの両面に積層されていてもよい。
低透湿層が基材フィルムに対してハードコート層と同じ側に積層されている場合の好ましい層構成は、前記のハードコート層を積層する場合の好ましい層構成を用いることができる。
一方、低透湿層が基材フィルムに対して光学異方性層と同じ側に積層されている場合、低透湿層は基材フィルムと光学異方性層の間に積層されていてもよいし、基材フィルム、光学異方性層、低透湿層の順に積層されていてもよい。
本発明の光学フィルムがこのような態様を有する場合、低透湿層は、基材フィルムに対してはハードコート層と同じ側に積層されていてもよいし、ハードコート層と反対側に設けられてもよいし、基材フィルムの両面に積層されていてもよい。
低透湿層が基材フィルムに対してハードコート層と同じ側に積層されている場合の好ましい層構成は、前記のハードコート層を積層する場合の好ましい層構成を用いることができる。
一方、低透湿層が基材フィルムに対して光学異方性層と同じ側に積層されている場合、低透湿層は基材フィルムと光学異方性層の間に積層されていてもよいし、基材フィルム、光学異方性層、低透湿層の順に積層されていてもよい。
光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。
面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ／４膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の３Ｄ液晶表示装置の部材として有用である。λ／４膜の学異方性層とハードコート層が、基材フィルムを介して反対の面に積層した態様として特開２０１２−０９８７２１号公報、特開２０１２−１２７９８２号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。
一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ／４膜が挙げられ、特許４８２５９３４号公報、特許４８８７４６３号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の光学補償フィルムとしても用いることもできる。この場合、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、及び該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の本発明の光学フィルムを光学補償フィルムとして配置した構成であることが更に好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡ及びＨＡＮモードの液晶表示装置が好ましく、ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳ及びＶＡモードの液晶表示装置がより好ましい。
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも１枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は低透湿層積層した面でもよいし、低透湿層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも１枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は低透湿層積層した面でもよいし、低透湿層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、前記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、前記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
（一般的な液晶表示装置の構成）
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、２枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の２枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、２枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、２枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
（液晶表示装置の種類）
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。
［製造例１］
＜基材フィルム１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、固形分濃度２２質量％のセルロースアセテート溶液（ドープＡ）を調製した。
［セルロースアセテート溶液（ドープＡ）の組成］
アセチル置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製） ０．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製） ０．２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
＜基材フィルム１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、固形分濃度２２質量％のセルロースアセテート溶液（ドープＡ）を調製した。
［セルロースアセテート溶液（ドープＡ）の組成］
アセチル置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製） ０．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製） ０．２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム１の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム１のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．４ｎｍであり、Ｒｔｈ＝２５ｎｍであった。
得られた基材フィルム１の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム１のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．４ｎｍであり、Ｒｔｈ＝２５ｎｍであった。
［製造例２］
＜基材フィルム２の作製＞
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記製造例１で調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、渡り部で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより搬送方向の延伸を行い、温度１７０℃で搬送方向（ＭＤ）に２０％およびテンターで搬送方向の直交方向（ＴＤ方向）に５０％延伸し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム２の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム２のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝２．１ｎｍであり、Ｒｔｈ＝３５ｎｍであった。
＜基材フィルム２の作製＞
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記製造例１で調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、渡り部で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより搬送方向の延伸を行い、温度１７０℃で搬送方向（ＭＤ）に２０％およびテンターで搬送方向の直交方向（ＴＤ方向）に５０％延伸し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム２の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム２のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝２．１ｎｍであり、Ｒｔｈ＝３５ｎｍであった。
［製造例３］
＜基材フィルム３の作製＞
まず、基材フィルム３で使用したセルロースエステル、アクリル樹脂および紫外線吸収剤について説明する。
＜基材フィルム３の作製＞
まず、基材フィルム３で使用したセルロースエステル、アクリル樹脂および紫外線吸収剤について説明する。
（セルロースエステル）
アシル基総置換度２．７５、アセチル置換度０．１９、プロピオニル置換度２．５６、分子量２０００００のセルロースエステルを使用した。
このセルロースエステルは、以下のように合成した。
セルロースに触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の量を調整することでアセチル基及びプロピオニル基の置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。更にこのセルロースエステルの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した（以降セルロースエステルＣＥ−１とする）。
アシル基総置換度２．７５、アセチル置換度０．１９、プロピオニル置換度２．５６、分子量２０００００のセルロースエステルを使用した。
このセルロースエステルは、以下のように合成した。
セルロースに触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の量を調整することでアセチル基及びプロピオニル基の置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。更にこのセルロースエステルの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した（以降セルロースエステルＣＥ−１とする）。
（アクリル樹脂）
下記に記載のアクリル樹脂を使用した。このアクリル樹脂は市販品で入手可能である。・ダイヤナールＢＲ８８（商品名）、三菱レイヨン（株）製、質量平均分子量１５０００００（以降アクリル樹脂ＡＣ−１とする）。
下記に記載のアクリル樹脂を使用した。このアクリル樹脂は市販品で入手可能である。・ダイヤナールＢＲ８８（商品名）、三菱レイヨン（株）製、質量平均分子量１５０００００（以降アクリル樹脂ＡＣ−１とする）。
（紫外線吸収剤）
下記に記載の紫外線吸収剤を使用した。
・ＵＶ剤１：チヌビン３２８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
下記に記載の紫外線吸収剤を使用した。
・ＵＶ剤１：チヌビン３２８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
（ドープ調製）
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。
（ドープ組成）
セルロースエステルＣＥ−１ ３０質量部
アクリル樹脂ＡＣ−１ ７０質量部
（セルロースエステルとアクリル樹脂は合計１００質量部）
紫外線吸収剤 ＵＶ剤１ ２質量部
ジクロロメタン ３１９質量部
エタノール ４３質量部
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。
（ドープ組成）
セルロースエステルＣＥ−１ ３０質量部
アクリル樹脂ＡＣ−１ ７０質量部
（セルロースエステルとアクリル樹脂は合計１００質量部）
紫外線吸収剤 ＵＶ剤１ ２質量部
ジクロロメタン ３１９質量部
エタノール ４３質量部
ドープの固形分濃度（セルロースエステル、アクリル樹脂、紫外線吸収剤の合計濃度）は２２質量％であった。
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム３の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム３のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．５ｎｍであり、Ｒｔｈ＝１０ｎｍであった。
得られた基材フィルム３の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム３のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．５ｎｍであり、Ｒｔｈ＝１０ｎｍであった。
［製造例４］
＜基材フィルム４の作製＞
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記製造例３で調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、渡り部で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより搬送方向の延伸を行い、温度１７０℃で搬送方向（ＭＤ）に２０％およびテンターで搬送方向の直交方向（ＴＤ方向）に５０％延伸し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム４の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム４のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．１ｎｍであり、Ｒｔｈ＝１８ｎｍであった。
＜基材フィルム４の作製＞
図１に示したようなバンド流延装置を用い、前記製造例３で調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、渡り部で下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより搬送方向の延伸を行い、温度１７０℃で搬送方向（ＭＤ）に２０％およびテンターで搬送方向の直交方向（ＴＤ方向）に５０％延伸し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
得られた基材フィルム４の厚さは４０μｍで、透湿度は下記表１に記載の通りであった。また、得られた基材フィルム４のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．１ｎｍであり、Ｒｔｈ＝１８ｎｍであった。
［製造例５］
＜基材フィルム５の作製＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇおよび重合溶媒としてトルエン１００００ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてｔ−アミルパーオキシイソノナノエート１０．０ｇを添加するとともに、ｔ−アミルパーオキシイソノナノエート２０．０ｇとトルエン１００ｇとからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、約１０５〜１１０℃の環流下で溶液重合を進行させ、さらに４時間の熟成を行った。重合反応率は９６．６％、得られた重合体におけるＭＨＭＡの含有率（質量比）は２０．０％であった。
＜基材フィルム５の作製＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇおよび重合溶媒としてトルエン１００００ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてｔ−アミルパーオキシイソノナノエート１０．０ｇを添加するとともに、ｔ−アミルパーオキシイソノナノエート２０．０ｇとトルエン１００ｇとからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、約１０５〜１１０℃の環流下で溶液重合を進行させ、さらに４時間の熟成を行った。重合反応率は９６．６％、得られた重合体におけるＭＨＭＡの含有率（質量比）は２０．０％であった。
次に、得られた重合溶液に、環化触媒として１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学工業製、Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８）を加え、約８０〜１００℃の環流下において５時間、環化縮合反応を進行させた。
次に、得られた重合溶液を、バレル温度２６０℃、回転速度１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個およびフォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応および脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットＡを得た。このペレットＡを構成する樹脂のラクトン環化率は９６．９％、ラクトン環構造の含有割合は２８．２質量％、重量平均分子量は１４８０００、メルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ７１２０に準拠し、試験温度を２４０℃、荷重を１０ｋｇとして求めた。以降の製造例においても同じ）は１１．０ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３０℃であった。
次に、得られた主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットＡとＡＳ樹脂（東洋スチレン製、アクリロニトリル−スチレン共重合体、商品名：トーヨーＡＳ ＡＳ２０）を、ペレットＡ／ＡＳ樹脂＝９０／１０の質量比で単軸押出機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、ガラス転移温度が１２７℃の透明なペレットＢを得た。
上記で作製した樹脂組成物のペレットＢを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約１６０μｍの樹脂フィルムを作製した。
次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に２．０倍、横方向に２．０倍に二軸延伸することにより（延伸倍率は面積比で４倍）、透明プラスチックフィルム基材を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムである基材フィルム５の厚さは４０μｍ、透湿度は下記表１に記載の通り、全光線透過率は９２％、ヘイズは０．３％、ガラス転移温度は１２７℃であった。また、得られた基材フィルム５のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝０．８ｎｍであり、Ｒｔｈ＝１．２ｎｍであった。
［製造例６］
＜基材フィルム６の作製＞
上記製造例５で作製した樹脂組成物のペレットＢを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約５００μｍの樹脂フィルムを作製した。
＜基材フィルム６の作製＞
上記製造例５で作製した樹脂組成物のペレットＢを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約５００μｍの樹脂フィルムを作製した。
次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に３．４倍、横方向に３．６倍に二軸延伸することにより（延伸倍率は面積比で１２．２倍）、透明プラスチックフィルム基材を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムである基材フィルム６の厚さは４０μｍ、透湿度は下記表１に記載の通り、全光線透過率は９２％、ヘイズは０．３％、ガラス転移温度は１２７℃であった。また、得られた基材フィルム６のＲｅおよびＲｔｈの値を後述の方法で測定したところ、Ｒｅ＝０．８ｎｍであり、Ｒｔｈ＝２．０ｎｍであった。
［製造例７］
〔低透湿層形成用組成物の調製〕
下記に示すように調製した。
〔低透湿層形成用組成物の調製〕
下記に示すように調製した。
（低透湿層形成用組成物Ｂ−１の組成）
Ａ−ＤＣＰ（１００％） ９７．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
Ａ−ＤＣＰ（１００％） ９７．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
［製造例８］
（低透湿層形成用組成物Ｂ−２の組成）
ＰＥＴ３０（１００％） ９７．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
（低透湿層形成用組成物Ｂ−２の組成）
ＰＥＴ３０（１００％） ９７．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
使用した材料を以下に示す。
・Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア９０７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・レベリング剤
・Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア９０７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・レベリング剤
・ＳＰ−１３：
［製造例９］
（低透湿層形成用組成物Ｂ−３の組成）
・塩素含有重合体：Ｒ２０４
｛旭化成ライフ＆リビング（株）製「サランレジンＲ２０４」｝ １２．０ｇ
・テトラヒドロフラン ６２．０ｇ
・トルエン １３．０ｇ
・メチルエチルケトン １３．０ｇ
（低透湿層形成用組成物Ｂ−３の組成）
・塩素含有重合体：Ｒ２０４
｛旭化成ライフ＆リビング（株）製「サランレジンＲ２０４」｝ １２．０ｇ
・テトラヒドロフラン ６２．０ｇ
・トルエン １３．０ｇ
・メチルエチルケトン １３．０ｇ
［製造例１０］
（低透湿層形成用組成物Ｂ−４の組成）
Ａ−ＤＣＰ（１００％） ９７．０ｇ
かご型シルセスキオキサンＳ−１（下記） ４０．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
上述のＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
（低透湿層形成用組成物Ｂ−４の組成）
Ａ−ＤＣＰ（１００％） ９７．０ｇ
かご型シルセスキオキサンＳ−１（下記） ４０．０ｇ
イルガキュア９０７（１００％） ３．０ｇ
上述のＳＰ−１３ ０．０４ｇ
ＭＥＫ ８１．８ｇ
かご型シルセスキオキサンＳ−１としては、特開２０１０−９６８４８号公報の実施例１記載の混合物を使用した。
より具体的には、まず、撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた反応容器に、溶媒として２−プロパノール（ＩＰＡ）４０ｍｌと塩基性触媒として５％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡＨ水溶液）を装入した。滴下ロートにＩＰＡ１５ｍｌと３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製ＳＺ−６３００）１２．６９ｇを入れ、反応容器を撹拌しながら、室温でＭＴＭＳのＩＰＡ溶液を３０分かけて滴下した。ＭＴＭＳ滴下終了後、加熱することなく２時間撹拌した。２時間撹拌後溶媒を減圧下で溶媒を除去し、トルエン５０ｍｌで溶解した。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することで加水分解縮合生成物（シルセスキオキサン）を８．６ｇ得た。このシルセスキオキサンは種々の有機溶媒に可溶な無色の粘性液体であった。
より具体的には、まず、撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた反応容器に、溶媒として２−プロパノール（ＩＰＡ）４０ｍｌと塩基性触媒として５％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡＨ水溶液）を装入した。滴下ロートにＩＰＡ１５ｍｌと３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製ＳＺ−６３００）１２．６９ｇを入れ、反応容器を撹拌しながら、室温でＭＴＭＳのＩＰＡ溶液を３０分かけて滴下した。ＭＴＭＳ滴下終了後、加熱することなく２時間撹拌した。２時間撹拌後溶媒を減圧下で溶媒を除去し、トルエン５０ｍｌで溶解した。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することで加水分解縮合生成物（シルセスキオキサン）を８．６ｇ得た。このシルセスキオキサンは種々の有機溶媒に可溶な無色の粘性液体であった。
次に、撹拌機、ディンスターク、冷却管を備えた反応容器に上記で得られたシルセスキオキサン２０．６５ｇとトルエン８２ｍｌと１０％ＴＭＡＨ水溶液３．０ｇを入れ、徐々に加熱し水を留去した。さらに１３０℃まで加熱しトルエンを還流温度で再縮合反応を行った。このときの反応溶液の温度は１０８℃であった。トルエン還流後２時間撹拌した後、反応を終了とした。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することで目的物であるかご型シルセスキオキサン（混合物）を１８．７７ｇ得た。得られたかご型シルセスキオキサンは種々の有機溶媒に可溶な無色の粘性液体であった。
再縮合反応後の反応物の液体クロマトグラフィー分離後の質量分析を行ったところ上記構造式（５）、（６）および（７）の分子構造にアンモニウムイオンが付いた分子イオンが確認され、構成比率はＴ８：Ｔ１０：Ｔ１２およびその他が約２：４：１：３であり、かご型構造を主たる成分とする混合物であることが確認できた。
［製造例１１〜１３］
（低透湿層形成用組成物Ｂ−５〜Ｂ−７の組成）
低透湿層形成用組成物の調製において、かご型シルセスキオキサンを下記記載に変更した以外は製造例１０と同様にして、低透湿層形成用組成物Ｂ−５〜Ｂ−７を調製した。
（低透湿層形成用組成物Ｂ−５〜Ｂ−７の組成）
低透湿層形成用組成物の調製において、かご型シルセスキオキサンを下記記載に変更した以外は製造例１０と同様にして、低透湿層形成用組成物Ｂ−５〜Ｂ−７を調製した。
製造例１１：かご型シルセスキオキサンＳ−２（特開２０１２−２１８３２２号公報実施例１記載の（６））
製造例１２：かご型シルセスキオキサンＳ−３（特開２０１２−１８３８１８号公報の実施例１構造式（４）に記載の以下の構造の化合物）
製造例１３：かご型シルセスキオキサンＳ−４（特許第４１４２３８５号公報の合成例１に記載のメタクリロイル基を有した篭型シリル化ポリフェニルシルセスキオキサン）
［比較例１］
＜光学フィルム１０１の作製＞
基材フィルムとしてフジタックＴＤ４０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ４０μｍ）をロール形態から巻き出して、上記低透湿層形成用組成物Ｂ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は５μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルム１０１を比較例１の光学フィルムとした。
＜光学フィルム１０１の作製＞
基材フィルムとしてフジタックＴＤ４０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ４０μｍ）をロール形態から巻き出して、上記低透湿層形成用組成物Ｂ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は５μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルム１０１を比較例１の光学フィルムとした。
［比較例２および実施例１〜１１］
＜光学フィルム１０２〜１１３の作製＞
光学フィルム１０１の作製において、基材フィルムと低透湿層形成用組成物、低透湿層の膜厚を表に記載のようにした以外は光学フィルム１０１と同様にして、光学フィルム１０２〜１１３を作製した。
＜光学フィルム１０２〜１１３の作製＞
光学フィルム１０１の作製において、基材フィルムと低透湿層形成用組成物、低透湿層の膜厚を表に記載のようにした以外は光学フィルム１０１と同様にして、光学フィルム１０２〜１１３を作製した。
［実施例１２］
＜光学フィルム１１４の作製＞
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタックＴＤ４０、富士フィルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ４０μｍ）を、透明保護フィルムとしてロール形態で引き出し、搬送速度３０ｍ／分の条件下で、上記低透湿層形成用組成物Ｂ−３を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分乾燥し、搬送しながら、２５℃６５％の雰囲気のゾーンを１分間通過させた後、３，０００ｍを巻き取った。この時の低透湿層の膜厚は２．０μｍであった。
得られた光学フィルム１１４を実施例１２の光学フィルムとした。
＜光学フィルム１１４の作製＞
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタックＴＤ４０、富士フィルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ４０μｍ）を、透明保護フィルムとしてロール形態で引き出し、搬送速度３０ｍ／分の条件下で、上記低透湿層形成用組成物Ｂ−３を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分乾燥し、搬送しながら、２５℃６５％の雰囲気のゾーンを１分間通過させた後、３，０００ｍを巻き取った。この時の低透湿層の膜厚は２．０μｍであった。
得られた光学フィルム１１４を実施例１２の光学フィルムとした。
［光学フィルムの評価］
作製した各実施例および比較例の光学フィルムについて膜厚を測定し、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表１に示す。
なお低透湿層の膜厚は低透湿層の積層前後の膜厚を測定し、その差から求めた。
作製した各実施例および比較例の光学フィルムについて膜厚を測定し、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表１に示す。
なお低透湿層の膜厚は低透湿層の積層前後の膜厚を測定し、その差から求めた。
（１）透湿度（４０℃９０％相対湿度での透湿度）
透湿度の測定法は、各実施例および比較例の光学フィルム試料７０ｍｍφを４０℃、相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿した後、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従った透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ2）を算出した。
透湿度の測定法は、各実施例および比較例の光学フィルム試料７０ｍｍφを４０℃、相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿した後、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従った透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ2）を算出した。
（２）Ｒｅ、Ｒｔｈ
サンプルフィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向及び遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定して、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出した。
サンプルフィルムを２５℃、相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向及び遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定して、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出した。
［パネルの評価］
＜偏光板の作製＞
１）フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）と光学フィルム１０１、１０３および１１４を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
＜偏光板の作製＞
１）フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）と光学フィルム１０１、１０３および１１４を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光子を作製した。
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光子を作製した。
３）貼り合わせ
（偏光板１０１、１０３、１１４の作製）
上記の鹸化後の光学フィルム１０１、１０３および１１４（各光学フィルムの低透湿層を積層していない面を偏光子と接するように配置する）、前記で作製した偏光子、鹸化後のセルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥して、偏光板１０１、１０３、１１４を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０１、１０３および１１４の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
得られた偏光板１０１、１０３および１１４をそれぞれ比較例１、実施例１および実施例１２の偏光板とした。
（偏光板１０１、１０３、１１４の作製）
上記の鹸化後の光学フィルム１０１、１０３および１１４（各光学フィルムの低透湿層を積層していない面を偏光子と接するように配置する）、前記で作製した偏光子、鹸化後のセルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥して、偏光板１０１、１０３、１１４を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０１、１０３および１１４の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
得られた偏光板１０１、１０３および１１４をそれぞれ比較例１、実施例１および実施例１２の偏光板とした。
（偏光板１０２、１０４〜１１３の作製）
前記で作製した偏光子の片面に対して、アクリル接着剤を用いて、作製した光学フィルム１０２、１０４〜１１３の低透湿層を積層していない面を、光学フィルム１０２、１０４〜１１３低透湿層を積層していない面にコロナ処理を施したのち、貼合した。前記で作製した偏光子のもう片側にポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記鹸化した市販のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０を貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板１０２、１０４〜１１３を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０２、１０４〜１１３の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
得られた偏光板１０２、１０４〜１１３をそれぞれ比較例２および実施例２〜１１の偏光板とした。
前記で作製した偏光子の片面に対して、アクリル接着剤を用いて、作製した光学フィルム１０２、１０４〜１１３の低透湿層を積層していない面を、光学フィルム１０２、１０４〜１１３低透湿層を積層していない面にコロナ処理を施したのち、貼合した。前記で作製した偏光子のもう片側にポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記鹸化した市販のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０を貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板１０２、１０４〜１１３を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０２、１０４〜１１３の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
得られた偏光板１０２、１０４〜１１３をそれぞれ比較例２および実施例２〜１１の偏光板とした。
＜ＩＰＳパネルへの実装＞
ＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）の上下の偏光板を剥し、上記各実施例および比較例の偏光板をＺＲＤ４０が液晶セル側になるようにして貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
得られた液晶表示装置を、各実施例および比較例の液晶表示装置とした。
なお、ＩＰＳパネルへの実装時における、各実施例および比較例の偏光板の構成を下記表２に記載した。
ＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）の上下の偏光板を剥し、上記各実施例および比較例の偏光板をＺＲＤ４０が液晶セル側になるようにして貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
得られた液晶表示装置を、各実施例および比較例の液晶表示装置とした。
なお、ＩＰＳパネルへの実装時における、各実施例および比較例の偏光板の構成を下記表２に記載した。
以上のようにして作製した液晶表示装置の高温高湿環境経時後の黒表示ムラを評価した。結果は下記表１に示す。
（高温高湿環境経時後の黒表示ムラ）
液晶表示装置を６０℃、相対湿度９０％で２４時間経過させた後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿した後で点灯をさせ、黒表示時の色ムラの程度を目視で観測し、以下の基準により６段階で評価した。
６段階評価のうちＡ〜Ｅが許容範囲内で、Ｆは許容範囲外であった。
Ａ：色ムラは観測されなかった。
Ｂ：表示面の１／８以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｃ：表示面の１／８を超えて１／４以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｄ：表示面の１／４を超えて１／２以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｅ：表示面の１／２を超える面積で弱い色ムラ又は１／４を超えて１／２以下の面積で強い色ムラが観測された。
Ｆ：表示面の１／２を超える面積で強い色ムラが観測された。
液晶表示装置を６０℃、相対湿度９０％で２４時間経過させた後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿した後で点灯をさせ、黒表示時の色ムラの程度を目視で観測し、以下の基準により６段階で評価した。
６段階評価のうちＡ〜Ｅが許容範囲内で、Ｆは許容範囲外であった。
Ａ：色ムラは観測されなかった。
Ｂ：表示面の１／８以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｃ：表示面の１／８を超えて１／４以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｄ：表示面の１／４を超えて１／２以下の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｅ：表示面の１／２を超える面積で弱い色ムラ又は１／４を超えて１／２以下の面積で強い色ムラが観測された。
Ｆ：表示面の１／２を超える面積で強い色ムラが観測された。
上記表１より、作製した実施例１〜１２の光学フィルムおよび偏光板を４２インチパネルに実装した結果、本発明の光学フィルムを用いた場合、パネルの高温高湿環境経時後の黒表示ムラが低減することが確認できた。
なお、実施例９〜１２の偏光板については、視認側にフィルム１１１〜１１４を使用し、セル側にＺＲＤ４０を用いた。
なお、実施例９〜１２の偏光板については、視認側にフィルム１１１〜１１４を使用し、セル側にＺＲＤ４０を用いた。
２０ フィルム製造ライン
２１ ストックタンク
２２ ドープ
３０ 濾過装置
３１ 流延ダイ
３２ 回転ローラ
３３ 回転ローラ
３４ 流延バンド
３５ テンタ式乾燥機
４０ 耳切装置
４１ 乾燥室
４２ 冷却室
４３ 巻取室
６０ モータ
６１ 攪拌機
６２ ポンプ
６３ 伝熱媒体循環装置
６４ 流延室
６５ 温調設備
６６ 凝縮器（コンデンサ）
６７ 回収装置
６８ 減圧チャンバ
６９ 流延膜
７０ 送風口
７１ 送風口
７２ 送風口
７３ 送風口
７４ 湿潤フィルム
７５ 剥取ローラ
８０ 渡り部
８１ 送風機
８２ フィルム
９０ クラッシャ
９１ ローラ
９２ 吸着回収装置
９３ 強制除電装置（除電バー）
９４ ナーリング付与ローラ
９５ 巻取ローラ
９６ プレスローラ
２１ ストックタンク
２２ ドープ
３０ 濾過装置
３１ 流延ダイ
３２ 回転ローラ
３３ 回転ローラ
３４ 流延バンド
３５ テンタ式乾燥機
４０ 耳切装置
４１ 乾燥室
４２ 冷却室
４３ 巻取室
６０ モータ
６１ 攪拌機
６２ ポンプ
６３ 伝熱媒体循環装置
６４ 流延室
６５ 温調設備
６６ 凝縮器（コンデンサ）
６７ 回収装置
６８ 減圧チャンバ
６９ 流延膜
７０ 送風口
７１ 送風口
７２ 送風口
７３ 送風口
７４ 湿潤フィルム
７５ 剥取ローラ
８０ 渡り部
８１ 送風機
８２ フィルム
９０ クラッシャ
９１ ローラ
９２ 吸着回収装置
９３ 強制除電装置（除電バー）
９４ ナーリング付与ローラ
９５ 巻取ローラ
９６ プレスローラ
Claims (16)
- 熱可塑性樹脂を含む基材フィルムと、
該基材フィルム上に積層された低透湿層とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。） - 前記光学フィルムの透湿度が１００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルムが更に下記式（２）を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
式（２） ０．０１≦Ａ／Ｂ≦０．８
（式（２）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。） - 前記基材フィルムの透湿度が８００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記基材フィルムに含まれる前記熱可塑性樹脂が、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、セルロース系樹脂およびこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。（但しセルロース系樹脂とは、セルロースエステルとアクリル樹脂とを含む樹脂を表す。）
- 前記基材フィルムの膜厚が５〜１００μｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記低透湿層の膜厚が１〜２０μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記低透湿層が、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる層、または、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する層であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記低透湿層が、かご型シルセスキオキサン化合物を含有する層であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルムの膜厚が５〜１００μｍであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルムが、下記式（Ｉ）及び下記式（ＩＩ）で定義されるＲｅ及びＲｔｈが、波長５９０ｎｍにおいて下記式（ＩＩＩ）及び下記式（ＩＶ）を満たすことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。
式（Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ＩＩ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（ＩＩＩ）｜Ｒｅ｜≦５０ｎｍ
式（ＩＶ） ｜Ｒｔｈ｜≦３００ｎｍ
（式（Ｉ）〜（ＩＶ）中、ｎｘは前記光学フィルムのフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは前記光学フィルムのフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは前記光学フィルムの膜厚方向の屈折率であり、ｄは前記光学フィルムの膜厚（ｎｍ）である。） - 前記基材フィルムが、前記熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 熱可塑性樹脂および溶媒を含む高分子溶液を支持体上に流延して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。） - 熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程と、
前記基材フィルム上に低透湿層を塗布で積層する工程とを含む、基材フィルム上に積層された低透湿層を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの透湿度が２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
下記式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
式（１） Ａ／Ｂ≦０．９
（式（１）中、Ａは前記熱可塑性樹脂を含む基材フィルムに前記低透湿層を積層した光学フィルムの透湿度を表し、Ｂは前記基材フィルムの透湿度を表す。ただし、透湿度は、ＪＩＳ ０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。） - 偏光子と、
該偏光子の保護フィルムとして請求項１〜１２のいずれか一項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含むことを特徴とする偏光板。 - 液晶セルと、
該液晶セルの少なくとも一方に配置された請求項１５に記載の偏光板とを含み、
前記光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013184468A JP2014102492A (ja) | 2012-10-04 | 2013-09-05 | 光学フィルム及びその製造方法、偏光板ならびに液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012222404 | 2012-10-04 | ||
| JP2012222404 | 2012-10-04 | ||
| JP2012233295 | 2012-10-22 | ||
| JP2012233295 | 2012-10-22 | ||
| JP2013184468A JP2014102492A (ja) | 2012-10-04 | 2013-09-05 | 光学フィルム及びその製造方法、偏光板ならびに液晶表示装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014102492A true JP2014102492A (ja) | 2014-06-05 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2014102492A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016068357A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | フィルム製造方法 |
| JP2017068223A (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 住友化学株式会社 | 偏光板用保護フィルム |
| WO2018124769A1 (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-05 | 주식회사 동진쎄미켐 | 코팅 조성물 및 이로부터 제조되는 필름 |
| JP2018205464A (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 株式会社サンリッツ | 偏光板および画像表示装置 |
-
2013
- 2013-09-05 JP JP2013184468A patent/JP2014102492A/ja active Pending
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