JP6329880B2 - 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、硬化性組成物、膜、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロールエステルフィルムなどが用いられている。

最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。

特許文献１には、透明性が高く、低吸湿性、高耐熱性、力学的強度の高い光学フィルムの提供を目的として、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
一方、透光性支持体上に、低透湿層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献２には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである透光性支持体上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上の不飽和二重結合基を有する化合物を有する組成物から形成されてなる低透湿層を設けたフィルムが記載されており、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に従って、６０℃、９５％相対湿度の雰囲気下で測定された透湿度が６１０〜１０００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ程度であるフィルムが開示されている。
また、特許文献３には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである透光性支持体上に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂を有する低透湿層を設けたフィルムが記載されている。

国際公開第２００９／０４７９２４号 特開２００６−８３２２５号公報 特開２００８−２３００３６号公報

液晶表示装置は従来の室内用途だけでなく、屋外などより過酷な環境で使用されるようになっており、液晶表示装置の最表面の光学フィルムは、水分を透過させない性能が重要になっている。この問題は近年大型化が進むＴＶ用途では、液晶セルのガラスが薄手化する傾向の影響もあり、反りが大きくなりやすく、高温高湿環境経時後の黒表示ムラへの影響が大きくなってきている。
高温高湿の環境下に晒される液晶表示装置の問題としては、液晶表示装置の液晶セルの反りや表示ムラの発生があるが、これは偏光板及びそれを構成する光学フィルムが吸湿、放湿する際に、液晶表示装置の液晶セルの前面及び背面の偏光板に収縮差が生じてバランスが崩れ液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して表示ムラが生じることが原因と考えられる。このため、偏光板の保護フィルムや光学補償フィルムなどに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、偏光板の最表面の光学フィルムには、水分を通しにくい性能、すなわち透湿度の低減が求められる。

また、最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。耐久性としては、液晶表示装置等を長期間保護するために、十分な硬度を有する光学フィルムが要求される。

しかしながら、従来の光学フィルムでは、透湿性を低くしようとすると、硬度が低下する場合があったため、表面の硬度が高く、透湿性が低い光学フィルムについての開発が要求されている。

上記のような状況に鑑みて、本発明の目的、すなわち本発明が解決しようとする課題は、硬度が高く、透湿性を低減することができる膜を形成することができる硬化性組成物、この硬化性組成物を硬化してなる膜、光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
また、本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することである。

本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性化合物を重合することにより得られた膜は、硬度及び透湿性の両方を満足するものであることを見出し、このような膜を有する光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いることで、耐久性が高い液晶表示装置を提供できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は下記構成である。
［１］
下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物を硬化してなる膜が支持体上に積層されてなる光学フィルム。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１１３ 、Ｒ _１１４ 、Ｒ _１１７ 及びＲ _１１８ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ _１１５ 、及びＲ _１１６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１４５ 及びＲ _１４６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ _１５１ は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ _１５５ 及びＲ _１５６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
［２］
上記支持体はセルロース系樹脂を主成分とする支持体である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］
支持体の少なくとも一方の面に、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物を塗布する工程を有する、光学フィルムの製造方法。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１１３ 、Ｒ _１１４ 、Ｒ _１１７ 及びＲ _１１８ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ _１１５ 、及びＲ _１１６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１４５ 及びＲ _１４６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ _１５１ は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ _１５５ 及びＲ _１５６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
［４］
上記硬化性組成物が、上記支持体を溶解又は膨潤させる有機溶剤を少なくとも一種含有する、［３］に記載の光学フィルムの製造方法。
［５］
上記支持体を溶解又は膨潤させる溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン、及びアセトンから選択された少なくとも１種の溶剤である、［４］に記載の光学フィルムの製造方法。
［６］
［１］又は［２］に記載の光学フィルムを有する偏光板。
［７］
［１］若しくは［２］に記載の光学フィルム、又は［６］に記載の偏光板を有する画像表示装置。 なお、本発明は上記［１］〜［７］に関するものであるが、以下その他の事項についても参考のため記載した。

＜１＞
下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１１３、Ｒ_１１４、Ｒ_１１７及びＲ_１１８は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ_１１５、及びＲ_１１６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１４５及びＲ_１４６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ_１５１は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ_１５５及びＲ_１５６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
＜２＞
＜１＞に記載の硬化性組成物を硬化してなる膜。
＜３＞
＜２＞に記載の膜が支持体上に積層されてなる光学フィルム。
＜４＞
上記支持体はセルロース系樹脂を主成分とする支持体である、＜３＞に記載の光学フィルム。
＜５＞
支持体の少なくとも一方の面に、＜１＞に記載の硬化性組成物を塗布する工程を有する、光学フィルムの製造方法。
＜６＞
上記硬化性組成物が、上記支持体を溶解又は膨潤させる有機溶剤を少なくとも一種含有する、＜５＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜７＞
上記支持体を溶解又は膨潤させる溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン、及びアセトンから選択された少なくとも１種の溶剤である、＜６＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜８＞
＜３＞又は＜４＞に記載の光学フィルムを有する偏光板。
＜９＞
＜３＞若しくは＜４＞に記載の光学フィルム、又は＜８＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。

本発明によれば、硬度が高く、透湿性を低減することができる膜を形成することができる硬化性組成物、この硬化性組成物を硬化してなる膜、光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、上記光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）より大きく（数値２）より小さい」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

〔硬化性組成物、硬化性組成物を硬化してなる膜〕
本発明の硬化性組成物は、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物である。
本発明の膜は上記硬化性組成物を硬化してなる膜である。
本発明の光学フィルムは、支持体上に本発明の膜を積層してなる。
本発明に用いる上記化合物（モノマー）は硬化剤として働き、支持体との密着性を向上させることができる。特に支持体を溶解、あるいは膨潤させる溶剤と併用することにより支持体中に浸透した上で硬化するため密着性を向上する上で好ましい。

また、上記化合物は、炭素数が１〜３のアルキル基を有するため、疎水化および重合阻害が少なく硬度向上の効果および自由体積低減が出来るという効果が得られるものと考えられる。
炭素数が１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、メチル基又はエチル基が好ましい。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１１３、Ｒ_１１４、Ｒ_１１７及びＲ_１１８は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ_１１５、及びＲ_１１６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ_１１３、Ｒ_１１４、Ｒ_１１７及びＲ_１１８が置換基を表す場合、置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基（好ましくは炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基であり、最も好ましくはヒドロキシメチル基）、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）、下記一般式（ＩＶ）で表される置換基などが挙げられる。
これらの置換基は更に置換基で置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

上記一般式（ＩＶ）において、Ｒ_１０１は、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表し、Ｒ_１０５は、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１４５及びＲ_１４６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ_１５１は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ_１５５及びＲ_１５６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

本発明に用いる上記化合物としては、分子内にアダマンタン誘導体の骨格を有する化合物を用いることで、膜に疎水的な骨格を導入し、疎水化することで、外部から分子の取り込みを防止し、透湿度をより低下させることができる。

上記一般式（Ｉ）については、たとえば国際公開第２０１４／０２４７１７号の［００５３］に記載の方法で多価アルコールエーテルを合成した後、国際公開第２０１４／１０３６７６号の［００９７］に記載の方法で多官能アクリル酸エステルを合成することができる。合成スキームの例を以下に示す。
上記一般式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−１５０２２１号公報の［００５１］、［００５２］に記載の合成方法によりアダマンタンジオールを合成し、次に特開２００３−１８３２０４号公報の［００８８］、［００８９］に記載の合成方法によりジオールからジオンを合成し、国際公開第２０１３／１４１１２７号の［００６３］に記載の合成方法によりジオンからアルキルジ（メタ）アクリレートを合成することにより、得ることができる。

（合成例Ｐ１）

（合成例Ｐ２）

以下に上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

〔光学フィルム〕
次に、本発明の光学フィルムについて説明する。
本発明の光学フィルムは、上述の膜が支持体上に積層されてなるものである。

以下、本発明の光学フィルムに用いる支持体について説明する。
上記支持体は、透光性を有することが好ましい。透光性としては、３８０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光の透過率が９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。
また、熱可塑性樹脂を主成分としてなる支持体であることが好ましく、セルロース系樹脂を主成分とすることがより好ましい。ここで、主成分とは、支持体中の含有量が、支持体の全固形分に対して５０質量％以上の成分をいう。

＜支持体に含まれる熱可塑性樹脂＞
下記に前述の支持体で好ましく使用することのできる熱可塑性樹脂に関し説明する。
前述の支持体において、最適な熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂及びこれら複数種の樹脂の混合樹脂から選ぶことができる（ただし、前述の（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。）。
その中でも、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アシル基を有するセルロースアシレート及びこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル系樹脂、アシル基を有するセルロースアシレート及びこれら複数種の樹脂の混合樹脂であることがより好ましく、ラクトン環構造を有する重合体又はセルロースアセテートプロピオネートであることが特に好ましい。

（（メタ）アクリル系樹脂）
本発明に用いる支持体は、（メタ）アクリル系重合体を主成分とすることが好ましい。なお、本願で支持体が、（メタ）アクリル系重合体を主成分とするとは、支持体に（メタ）アクリル系重合体を５０質量％以上含有することを意味する。

なお、（メタ）アクリル系重合体には、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。

（（メタ）アクリル系重合体）
前述の（メタ）アクリル酸系重合体は、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。

前述の（メタ）アクリル酸系重合体は、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式（２０１）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。

一般式（２０１）
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｘ）Ｒ^２０１

（式中、Ｒ^２０１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^２０２基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^２０３基を表し、Ｒ^２０２及びＲ^２０３は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。）

前述の（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
前述の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜１００質量％、より好ましくは１０〜１００質量％、更に好ましくは４０〜１００質量％、特に好ましくは５０〜１００質量％である。

前述の水酸基含有単量体としては、特に限定されないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前述の水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。

前述の不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
前述の不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。

前述の一般式（２０１）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
前述の一般式（２０１）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。

（セルロース系樹脂）
本発明では熱可塑性樹脂としてセルロース系樹脂が主成分である樹脂を好ましく用いることができる。セルロース系樹脂が主成分であるとは、熱可塑性樹脂にセルロース系樹脂を５０質量％以上含有することを意味する。
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについては、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができるが、本発明で用いられるセルロースエステルは特にその記載のものに限定されるものではない。

本発明で用いられるセルロースエステルは、セルロースと脂肪酸（芳香族脂肪酸を含む）とのエステルが好ましく、セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位の２位、３位及び６位にある水酸基にこの脂肪酸のアシル基が置換してアシル化されたセルロースアシレートが好ましい。
例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、また、２種類以上の脂肪酸のアシル基が置換したセルロースエステルも好ましい。これらのセルロースエステルは、更に置換された基を有していてもよい。
前述の水酸基に置換するアシル基としては、炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜２２のアシル基を好ましく用いることができる。炭素数２のアセチル基及び炭素数３〜７のアシル基が好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおけるアシル基の総置換度（セルロースのβ−グルコース単位において水酸基にアシル基が置換している割合で、２位、３位及び６位の３つの水酸基の全てにアシル基が置換している場合には３となる）は、特に限定されないが、アシル基の総置換度が高い方が、湿度依存性が小さくなるため好ましい。このため、アシル基の総置換度は２．００〜３．００が好ましく、２．５０〜３．００がより好ましく、２．５０〜２．９０が更に好ましい。
更に、炭素数３〜７のアシル基についてその置換度は、１．２０〜３．００が好ましく、１．５０〜３．００がより好ましく、２．００〜３．００が更に好ましく、２．００〜２．９０が特に好ましい。
本発明で用いられるセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基に置換するアシル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じた方法や、ＮＭＲ法を挙げることができる。

セルロースのβ−グルコース単位の水酸基に置換するアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基もよく、特に限定されない。また、上述の水酸基に置換するアシル基は、単一のアシル基でも二種類以上であってもよい。セルロースエステルを（メタ）アクリル樹脂と併用する場合は、前述のセルロース系樹脂が二種類以上のアシル基を有するセルロースアシレートであることが前述の支持体の透湿度を低減する観点から好ましい。
前述のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましく、プロピオニル基又はブタノイル基が更に好ましく、プロピオニル基が特に好ましい。
アシル基が二種類の置換基で置換されている場合、合成の容易さ、コスト、置換基分布の制御のし易さなどの観点から、アセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、プロピオニル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることが好ましく、より好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とブタノイル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、更に好ましくはアセチル基とプロピオニル基、アセチル基とプロピオニル基とブタノイル基が併用されることであり、特に好ましくはアセチル基とプロピオニル基が併用されることである。
上記のアシル基が置換したセルロースエステルとしては、以下のものが好ましい。
単一のアシル基で置換されたものとしてはセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースベンゾエートが好ましく、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、がより好ましくセルロースアセテート、が更に好ましい。アシル基が二種類の置換基で置換されているものとしてはセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート、が好ましくセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートがより好ましく、セルロースアセテートプロピオネートが更に好ましい。

セルロース系樹脂で用いられるセルロースエステルの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、特に、アセチル基とプロピオニル基が置換したセルロースアセテートプロピオネートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度がこの範囲であれば、セルロースエステルを含むドープ溶液の粘度が流延によりフィルム作製に適したものとすることができ、透明性及び機械的強度の高いフィルムを得ることができるので好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。

セルロースアシレート系樹脂と前述の（メタ）アクリル樹脂とを併用して用いることも好ましい。その場合における（メタ）アクリル樹脂の含有量は、光学フィルム中、２０．０〜９４．９質量％であることが好ましく、２０．０〜８４．９質量％であることがより好ましく、２０．０〜６９．９％であることが更に好ましく、３４．０〜６９．９質量％であることが更に好ましい。

セルロース系樹脂と前述の（メタ）アクリル樹脂とを併用して用いる場合において、セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂との比率（質量比）は７０：３０〜５：９５である。セルロースエステルの比率を７０質量％以下とすることで、湿度依存性が低く、高温高湿耐久性が改善され、好ましい光学特性を得ることができ、液晶表示装置の表示ムラを防止することができる。また、（メタ）アクリル樹脂の比率を９５質量％以下とすることで、耐熱性が向上し、所望の光学異方性を発現させ易い。また、機械的強度、機械的強度、面状、ハントリング適性、フィルム表面処理適性を改善できる。セルロースエステルと（メタ）アクリル樹脂との質量比は７０：３０〜５：９５であり、好ましくは７０：３０〜１５：８５であり、より好ましくは７０：３０〜３０：７０であり、更に好ましくは４９：５１〜３０：７０である。

セルロース系樹脂と併用する場合の（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂であり、本発明の効果を損なわない限り特に制限されるものではない。
前述の（メタ）アクリル酸の誘導体としては、（メタ）アクリレートを挙げることができる。例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、Ｎ−プロピルアクリレート、Ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、Ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、Ｎ−プロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、Ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの単独重合体；２−クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルアクリレート、２−クロロエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルメタクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレートの任意の水素原子をハロゲン基、水酸基及び他の有機残基で置換したものでもよい。ここで、他の有機残基は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基であることが好ましい。

前述の（メタ）アクリル樹脂の主成分としては、アルキル（メタ）アクリレートが好ましい。アルキル（メタ）アクリレートとしては、炭素数１〜１８のアルキル基と（メタ）アクリル酸とからなるアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基とメタ）アクリル酸とからなるアルキル（メタ）アクリレートがより好ましく、メチルアクリレート及びメチルメタクリレートが更に好ましく、メチルメタクリレートが特に好ましい。

前述の（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸の誘導体１種の単重合体であっても、（メタ）アクリル酸の誘導体２種以上の共重合体であっても、これらと共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。
（メタ）アクリル酸の誘導体と共重合可能な共重合成分としては、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸類及びマレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸類等の不飽和酸類、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル類、ラクトン環単位、グルタル酸無水物単位、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド等のマレイミド類、グルタルイミド単位が挙げられる。
光学特性の観点から芳香族ビニル化合物が好ましく、特にスチレンが好ましい。

セルロースエステルとの相溶性向上の観点から、（メタ）アクリル樹脂としてはメチルメタクリレートの単独又は共重合体であることが好ましく、メチルメタクリレート由来の繰り返し単位を５０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが更に好ましく、９０質量％以上含むことが特に好ましい。更には、メチルメタクリレートと他の単量体との共重合体が好ましく、この共重合体のアクリル樹脂にはメチルメタクリレートと共重合する単量体由来の繰り返し単位が１〜５０質量％含まれることが好ましく、１〜３０質量％含まれることがより好ましく、１〜１０質量％含まれることが更に好ましい。
メチルメタクリレートと共重合可能な単量体としては、上記アルキル（メタ）アクリレートと共重合可能な単量体として例示したものに加えて、炭素数が２〜１８のアルキル基とメタクリル酸とからなるアルキルメタアクリレート、炭素数が１〜１８のアルキル基とアクリル酸とからなるアルキルアクリレートが挙げられ、これらは単独で、又は２種以上の単量体を併用して用いることができる。中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
本発明に用いることができるアクリル樹脂及び（メタ）アクリル酸の誘導体、他の共重合可能な単量体としては特開２００９−１２２６６４号、特開２００９−１３９６６１号、特開２００９−１３９７５４号、特開２００９−２９４２６２号、国際公開２００９／０５４３７６号等の各公報に記載のものも使用することができる。なお、これらは本発明を限定するものではなく、これらは単独で又は２種類以上組み合わせて使用できる。
２種類以上の（メタ）アクリル樹脂を用いる場合は、少なくとも１種類は上記の構造を有するものを用いることが好ましい。

本発明で（メタ）アクリル樹脂をセルロース系樹脂と併用する場合、重量平均分子量Ｍｗは８００００以上であることが好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８００００以上であれば、機械的強度が高く、フィルム製造時のハンドリング適性に優れる。この観点から、（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは１０００００以上であること好ましい。

本発明においてセルロース系樹脂と併用する際に用いられる（メタ）アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ８０、ＢＲ８５、ＢＲ８８、ＢＲ１０２（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。
（メタ）アクリル樹脂は２種以上を併用することもできる。

（ポリカーボネート系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリカーボネート系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。
（ポリスチレン系樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、ポリスチレン系樹脂に、適宜剥離力や、靭性を制御するべく添加剤を入れて、用いることができる。

（その他の熱可塑性樹脂）
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂は、上記の樹脂以外のその他の熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。その他の熱可塑性樹脂は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に種類は問わないが、熱力学的に相溶する熱可塑性樹脂の方が、機械強度や所望の物性を向上させる点において好ましい。

上記その他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系熱可塑性；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系熱可塑性；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系熱可塑性；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系熱可塑性；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。また、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、１００ｎｍ以下である事が好ましく、７０ｎｍ以下である事が更に好ましい。

シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを含む共重合体、具体的にはアクリロニトリル−スチレン系共重合体やポリ塩化ビニル樹脂、メタクリル酸エステル類を５０質量％以上含有する重合体を用いるとよい。それらの中でもアクリロニトリル−スチレン系共重合体を用いると、ガラス転移温度が１２０℃以上、面方向の１００μｍあたりの位相差が２０ｎｍ以下で、全光線透過率が８５％以上であるフィルムを容易に得ることが可能となる。

＜紫外線吸収剤＞
前述の支持体は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。前述の支持体を含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。

＜その他の添加剤＞
前述の支持体には、マット剤として微粒子を加えることができる。マット剤として使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものがフィルムのヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルが更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

上記マット粒子の他に、前述の支持体には、その他の種々の添加剤（例えば、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤、透湿度低減化合物など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

熱可塑性樹脂（特にセルロースエステル及びアクリル樹脂）との相溶性がよい可塑剤は、ブリードアウトが生じ難く、低ヘイズであり、光モレ、正面コントラスト、輝度に優れた液晶表示装置を実現するフィルムの作製に有効である。
前述の支持体に可塑剤を用いてもよい。可塑剤としては特に限定しないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤などが挙げられる。
好ましくはリン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、より好ましくはポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤であり、更に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤であり、特に好ましくはエチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤である。
特にポリエステルオリゴマー系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤、糖エステル系可塑剤は前述の支持体との相溶性が高く、ブリードアウト低減、低ヘイズ及び低透湿度の効果が高く、また温湿度変化や経時による可塑剤の分解及びフィルムの変質や変形が生じ難いため、本発明に好んで用いることができる。
本発明において可塑剤を用いる場合は１種のみで用いてもよいし、２種以上を混合して使用することもできる。
また、前述の高分子溶液は、前述の透湿度低減化合物を含むことがより好ましい。

＜透湿度低減化合物＞
その他の添加剤のうち、透湿度低減化合物について下記に詳細に述べる。前述の支持体は、透湿度低減化合物を含むことも好ましい。支持体中の熱可塑性樹脂単独で低透湿な熱可塑性樹脂は溶剤への溶解性が低く製造プロセスで問題となる場合がある。熱可塑性樹脂と透湿度低減化合物の複合により透湿度を下げる事により、低透湿と溶解性（製造適性）の両立が可能となり、透湿度低減化合物を含むことが好ましい。

上記の透湿度低減化合物は、芳香族環を１つ以上含む構造であってもよい。芳香族環によって、疎水的な性質をフィルムに付与でき、水分の透過を抑制できる。たとえば、国際公開第２０１４／０５７９５０号の［００９８］〜［０１１４］に記載されたものなどが挙げられる。

上記の透湿度低減化合物は、前述の支持体において、前述の熱可塑性樹脂の質量に対し、１０質量％以上１００質量％以下の量で含むことが好ましい。より好ましくは１５質量％以上９０質量％以下であり、２０質量％以上８０質量％以下が更に好ましい。

（支持体の厚さ）
前述の支持体の膜厚は、５〜９０μｍが好ましく、１０〜７０μｍがより好ましく、１０〜５０μｍが特に好ましく、２０〜４０μｍがより特に好ましい。膜厚を前述の範囲に制御することで、支持体上に膜を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラを小さくすることができる。

（支持体の透湿度）
前述の支持体の透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
前述の支持体の透湿度は、１２００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、４００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、１５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。支持体の透湿度を前述の範囲に制御することで、本発明の光学フィルムを搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。

〔光学フィルムの製造方法〕
更に、本発明の光学フィルムの製造方法について、以下に説明する。
本発明の光学フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂からなる透光性支持体の少なくとも一方の面に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を含有する硬化性組成物（「膜形成用塗布組成物」ともいう）を塗布する工程を有するものである。
以下、本発明の製造方法に用いる膜形成用塗布組成物について説明する。

＜有機溶剤＞
本発明の膜形成用塗布組成物は有機溶剤を含んでいてもよい。
本発明の膜形成用塗布組成物に使用できる有機溶剤としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、流動パラフィン、ミネラルスピリットなどの鎖状脂肪族炭化水素系溶剤、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ジシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデン、シクロオクタンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、インデン、テトラヒドロナフタレンなどの脂環と芳香環とを有する炭化水素系溶剤、ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリルなどの含窒素炭化水素系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの含酸素炭化水素系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルムなどの塩素系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネートなどのカーボネート系溶剤、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチルなどのエステル系溶剤、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶剤、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノンなどケトン系溶剤等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

上記溶剤の中でも上記本発明の膜を形成する化合物を少なくとも一種含有することが好ましい。

乾燥負荷を減らす観点から前述の膜形成用塗布組成物中の最も多く含まれる溶剤の沸点としては１５０℃未満であることが好ましく、１２０℃未満であることが更に好ましく９０℃未満であることが最も好ましい。

また、本発明の膜と前述の支持体の密着性を向上させる観点から、膜を形成するための膜形成用塗布組成物に用いる溶剤は、支持体を溶解又は膨潤することのできる溶剤を少なくとも一種含有することも好ましい。

セルロース系樹脂からなる支持体、（メタ）アクリル系樹脂からなる支持体を溶解あるいは膨潤させる溶剤としては、アセトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボーネート、ジイソプロピルカーボネート、非対称の例としては、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、エチルｎ−プロピルカーボネートが挙げられる。

特に、基材がセルロース系樹脂からなる、あるいは（メタ）アクリル系樹脂からなる場合に使用する溶剤は、溶解あるいは膨潤させた結果干渉ムラの抑制能力に優れるという理由から、酢酸エチル、酢酸メチル、アセト酢酸メチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネートが好ましく、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、アセトン、シクロヘキサノンがより好ましい。

本発明の製造方法において、重合により膜を形成する化合物は、上述の膜の説明において記載した化合物と同じである。本発明において、膜形成用塗布組成物中の上記化合物（モノマー）の含有量は、組成物の全固形分に対して５０質量％以上であることが好ましい。

（重合開始剤）
本発明方法において用いる膜形成用塗布組成物は、前述の一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を重合させるために、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤を含有してもよい。こられの開始剤を用い、電離放射線の照射又は加熱により、重合を行うことができる。

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７，１２７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、本発明における化合物（モノマー）１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

（界面活性剤）
本発明方法において用いる膜形成用塗布組成物には、各種の界面活性剤を使用することが好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、膜の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できる。界面活性剤としては、公知のフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、あるいは炭化水素系界面活性剤を使用することができる。フッ素系界面活性剤の好ましい態様、及び具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。

シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

数平均分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、“ＳＴ８０ＰＡ”、“Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、“Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００”（商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前述の界面活性剤は、膜形成用塗布組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。

（膜の形成方法）
本発明の光学フィルムは、上記支持体の少なくとも一方の面に、上記膜形成用塗布組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により塗布し、電離放射線照射又は加熱により、膜形成用塗布組成物から形成される膜を硬化し、乾燥することによって形成できる。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。上記塗布方法を使用することで溶液流延法や溶融流延法では達成できないような薄膜でも、所望の低透湿性及び硬度を達成することができる。また、偏光板加工時の加工性や汎用性の観点で優れるセルロース系樹脂やアクリル系樹脂からなる各種透光性支持体を用いて、低透湿を達成することができる。
膜の形成に塗布法を用いることにより、様々な支持体を用いることができ、膜厚の調整が容易となり、薄い膜厚で優れた低透湿性を有する光学フィルムを得ることができる。これにより、偏光板保護フィルムとして加工適性に優れたセルロース系フィルムや汎用性のアクリル系支持体を使用して非常に低い透湿度を達成できる。

（本発明の光学フィルムのヘイズ）
本発明の光学フィルムの全ヘイズ値は２．０％以下であることが好ましい。全ヘイズ値が２．０％以下であると、フィルムの透明性が高く、液晶表示装置のコントラスト比や輝度向上に効果がある。全ヘイズ値は、１．０％以下がより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、０．３％以下が特に好ましい。全ヘイズ値は低いほど光学的性能が優れるが原料選択や製造管理やロールフィルムのハンドリング性も考慮すると０．０１％以上であることが好ましい。
本発明の光学フィルムの内部ヘイズ値は、１．０％以下であることが好ましい。内部ヘイズ値を１．０％以下とすることで、液晶表示装置のコントラスト比を向上させ、優れた表示特性を実現することができる。内部ヘイズ値は、０．５％以下がより好ましく、０．２％以下が更に好ましく、０．１％以下が特に好ましい。原料選択や製造管理等の観点からは０．０１％以上であることが好ましい。
なおヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）で、ＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定することができる。

（支持体上に形成する膜の膜厚）
支持体上に形成する膜の膜厚は０．５〜３０μｍであることが好ましく、１〜２５μｍであることが更に好ましく、３〜２０μｍであることがより好ましく、５〜１５μｍであることが最も好ましい。３０μｍ以下であれば、カールが抑制され、支持体との密着に優れ、コストが低下できるため好ましい。また、０．５μｍ以上であれば、透湿度が低くなるため好ましい。

（光学フィルムの透湿度）
本発明の光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
本発明の光学フィルムの透湿度は、１５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、３０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、２０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが特に好ましく、１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが更に特に好ましい。透湿度が１５０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であれば、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、黒表示時の表示ムラを抑制できる。

＜光学フィルムの層構成＞
本願の光学フィルムとしては、上記膜の上に、ハードコート層や防眩層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層などの屈折率を調整した層等）帯電防止層、紫外線吸収層、光学異方性層などの各種機能層を有することも好ましい。また、透明支持体の上記膜を形成した面とは反対側に、前述の機能層を形成する構成も好ましい。複数の機能層を積層する場合、一つの機能層を上記膜上に積層し、もう一つの機能層を上記膜が積層していない面に積層することもできる。前述の機能層は１層であっても良いし、複数層設けても良い。また、前述の機能層の積層方法は特に限定されない。具体的な好ましい層構成を以下に示す。
・支持体／膜
・支持体／膜／ハードコート層あるいは防眩層／（低屈折率層）
・膜／支持体／ハードコート層あるいは防眩層／（低屈折率層）
・支持体／膜／ハードコート層あるいは防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／膜／ハードコート層あるいは防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・膜／支持体／ハードコート層あるいは防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・膜／支持体／ハードコート層あるいは防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・光学異方性層／（配向膜）／支持体／膜／（ハードコート層）／（低屈折率層）
・膜／光学異方性層／（配向膜）／支持体／（ハードコート層）／（低屈折率層）
（）は積層してもしなくても良いことを表す。
ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層としては特開２００６−１７８７０、特開２００６−３０８８１、特開２００７−２９８９７４、特開２０１１―１３６５０３、特開２０１２―１５９６９２等に記載のものを好適に用いることができるがこれに限定されるものではない。

（光学異方性層）
本発明の光学フィルムに設けることのできる光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。光学異方性層は支持体における膜が形成されていない面に形成されていることが好ましい。

光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。

面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ／４膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の３Ｄ液晶表示装置の部材として有用である。λ／４膜の光学異方性層が、基材フィルムに積層した態様として特開２０１２−０９８７２１号公報、特開２０１２−１２７９８２号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。

一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ／４膜が挙げられ、特許４８２５９３４号公報、特許４８８７４６３号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。

前述の機能層の厚みは、０．０１〜５０μｍであることがより好ましく、０．０２〜２０μｍであることが特に好ましい。

［防眩層］
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成されうる。

本発明で用いることができる防眩層はバインダー及び防眩性を付与するための透光性粒子を含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
また、ハードコート性を有する防眩層を使用することで、別にハードコート層を形成する必要がなくなる。

透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子；が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
透光性粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。

バインダーの屈折率は、内部ヘイズ、表面ヘイズを調節するという観点から、上述した粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することが好ましい。透光性粒子にあわせたバインダーとしては、例えば、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなるバインダー（硬化後の屈折率が１．５５〜１．７０）と、スチレン含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性粒子及びベンゾグアナミン粒子のいずれか一方又は両方との組み合わせが挙げられ、これらのうち、上記バインダーとスチレン含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（スチレン−アクリレート）共重合体からなる透光性粒子（屈折率が１．５４〜１．５９）との組合せが好適に例示される。

また、上述した観点より、バインダーの屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値が０．０４以下が好ましい。バインダーの屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値は好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。
ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。

透光性粒子の含有量は、防眩性等の観点から、形成された防眩層中の全固形分に対して３〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。

また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

また、本発明において、透光性粒子の凝集性を制御するために、スメクタイト型粘土に、４級アンモニウム塩をインターカレーションさせることにより得られるスメクタイト型粘土有機複合体を利用する態様も好適に例示される。スメクタイト型粘土有機複合体の含有量は、形成された防眩層の全固形分に対して、０．２〜８．０質量％が好ましく、０．３〜４．０質量％がより好ましく、０．４〜３．０質量％が更に好ましく、０．５〜２．０質量％が特に好ましい。

４級アンモニウム塩としては下記一般式（１）で表わされる４級アンモニウム塩が好ましい。
［（Ｒ^１）_３（Ｒ^２）Ｎ］^＋・Ｘ⁻ （１）
（式中、Ｒ^１及びＲ^２は同一ではなく、Ｒ^１は炭素数４〜２４の、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜１０の、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ｘ⁻は陰イオンを表す。）

一般式（１）のアンモニウムイオンとしては、例えば、トリオクチル・メチル・アンモニウムイオン、トリステアリル・エチル・アンモニウムイオン、トリオクチル・エチル・アンモニウムイオン、トリステアリル・メチル・アンモニウムイオン、トリデシル・ヘキシル・アンモニウムイオン、トリテトラデシル・プロピル・アンモニウムイオン等が挙げられ、これらのうち、トリオクチル・メチル・アンモニウムイオン及びトリステアリル・エチル・アンモニウムイオンが好適に例示される。

一般式（１）中、Ｘ⁻は、陰イオンを表す。このような陰イオンとしては、例えば、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、ＯＨ⁻、ＮＯ_３ ⁻等が挙げられ、これらのうち、Ｃｌ⁻が好適に例示される。

スメクタイト型粘土有機複合体の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明における防眩層の膜厚は、０．５μｍ〜５０μｍであることが好ましく、１〜３５μｍであることがより好ましく、１μｍ〜２５μｍであることが更に好ましい。

本発明における防眩層の中心線平均粗さ（Ｒａ_７５）は、０．１０〜０．４０μｍの範囲が好ましい。
また、上記防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

防眩層を形成する方法としては、例えば、特開平６−１６８５１号公報の請求項２２に記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報の請求項１０に記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報の請求項６に記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の重量比が減少することにより透光性粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号公報の請求項８に記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。

また、支持体中に透光性粒子を含有させ、支持体に防眩機能を付与した態様についても好ましく用いることができる。このような態様としては、特開２００９−２５８７２０号公報の請求項１や特開２００５−１０５９２６号公報の請求項１に記載される防眩機能を持ったフィルムが好適に例示される。

［高屈折率層、中屈折率層、及び低屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが好ましく、１．３５〜１．３７であることが更に好ましい。
高屈折率層、中屈折率層、及び低屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
高屈折率層、中屈折率層、及び低屈折率層としては特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９７］〜［０２１１］に記載のものを使用することができる。

これらの層は防眩層の上に形成することができ、適宜材料や厚みを調整することが好ましい。

［ハードコート層］
本発明の光学フィルムにおいては、更なるフィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けてもよい。
ハードコート層としては特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９０］〜［０１９６］に記載のものを使用することができる。

＜偏光板＞
本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムを有するものであり、偏光子と、この偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも１枚含むことが好ましい。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前述のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は、膜を積層した面でも良いし、膜を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更にこの偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を有するものであり、液晶セルと、この液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、前述の偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことが好ましい。

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の光学補償フィルムとしても用いることもできる。この場合、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、及び上述の液晶セルと偏光素子との間に少なくとも一枚の本発明の光学フィルムを光学補償フィルムとして配置した構成であることが更に好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡ及びＨＡＮモードの液晶表示装置が好ましく、ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳ及びＶＡモードの液晶表示装置がより好ましい。

＜一般的な液晶表示装置の構成＞
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて上述の液晶セルと偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、２枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の２枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、２枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。

＜液晶表示装置の種類＞
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

［実施例１］

（膜形成用塗布組成物の調製）
各成分を下記表１のように混合した後、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて５時間攪拌後、孔径５μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、各塗布組成物を得た。なお、表１において、溶剤の添加量は、固形分濃度が表１に記載の値になるように調整した。

以下、使用した化合物について説明する。

・Ｉｒｇ．９０７：光重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製）

・ＳＰ１３：下記レベリング剤

・ＭＥＫ：メチルエチルケトン

（光学フィルムの作製）
支持体としてセルロース系樹脂が主成分とするＴＧ４０ＵＬ（富士フイルム製）の上に、上記表１に示す膜形成用塗布組成物をグラビアコーターを用いて塗布した後、２５℃で１分間乾燥し、続いて８０℃で約５分間乾燥して膜厚１０μｍの膜を有する光学フィルムを得た。

［実施例２〜８、比較例１、２］
上記表１に示すように、塗布組成物の種類、又は支持体の種類を変更する以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜８、比較例１、２を作製した。
実施例７における「アクリル支持体」としては、国際公開第２０１４／０５７９５０号の［０２２５］〜［０２３０］に記載された「透光性支持体３」を用いた。
実施例８における支持体はセルロース系樹脂が主成分とするＴＧ６０（富士フイルム製）を用いた。

［光学フィルムの評価］
作製した各実施例及び比較例の光学フィルムについて膜厚を測定し、下記の物性測定と評価を行った。なお膜の膜厚は膜の積層前後の膜厚を測定し、その差から求めた。

（１）透湿度（４０℃９０％相対湿度での透湿度）
透湿度の測定法は、各実施例及び比較例の光学フィルム試料を直径７０ｍｍの円に裁断後、４０℃、相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の方法に従い透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ^２）を算出した。すなわち、透湿度の単位としては「ｇ／ｍ^２／ｄａｙ」である。

（２）鉛筆硬度
ＪＩＳ Ｋ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。実施例及び比較例の光学フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳＳ６００６に規定するＦ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にて、以下の通りの判定で評価し、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなった鉛筆の硬度のうち最も硬いものを光学フィルムの鉛筆硬度とした。
ＯＫ：ｎ＝１０の評価において５０％以上が傷なし
ＮＧ：ｎ＝１０の評価において５０％以上が傷あり

［パネルの評価］
＜偏光板の作製＞
１）フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）と上記で作製した実施例１〜８、比較例１、２の光学フィルムを、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。

２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光子を作製した。

３）貼り合わせ
上記の鹸化後の光学フィルム（各光学フィルムの膜を積層していない面を偏光子と接するように配置する）、前述の２）で作製した偏光子、鹸化後のセルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、７０℃で１０分以上熱乾燥して、偏光板を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルムの長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロールアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。

＜ＩＰＳパネルへの実装＞
ＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）の上下の偏光板を剥し、上記で作製した偏光板をＺＲＤ４０が液晶セル側になるようにして貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。

以上のようにして、実施例１〜８、比較例１、２の光学フィルムを用いて作製した液晶表示装置について、高温高湿環境経時後の黒表示ムラを評価した。結果は上記表１に併せて示す。

（高温高湿環境経時後の黒表示ムラ）
液晶表示装置を６０℃、相対湿度９０％で４８時間経過させた後、２５℃、相対湿度１０％の環境下で２４時間調湿した後で点灯をさせ、黒表示時の色ムラの程度を目視で観測し、以下の基準により４段階で評価した。
４段階評価のうちＡ、Ｂが許容範囲内で、Ｃ、Ｄは許容範囲外である。また、Ａ、Ｂが好ましく、Ａがより好ましい。
Ａ：色ムラは観測されなかった。
Ｂ：表示面の半分未満の面積で弱い色ムラが観測された。
Ｃ：表示面の半分以上の面積で弱い色ムラ、又は半分以下の面積で強い色ムラが観測された。
Ｄ：表示面の半分以上の面積で強い色ムラが観測された。

上記より、本発明の膜を支持体上に塗設した光学フィルムは、硬度が高く、優れた低透湿性を実現できた。また、前述の光学フィルムを用いて実装したパネルは高温高湿環境経時後の黒表示ムラが少なく良好な表示性能が得られることがわかる。

偏光板の作製において、ＺＲＤ４０の代わりにＷＶＢＺ４Ａ６（富士フイルム（株）製）を用いて実施例１〜８および比較例１、２の光学フィルムを用いて同様に偏光板を作製した。
この偏光板をＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）の代わりに、ＶＡモードの液晶テレビ（ＬＣＤ−４０ＭＺＷ１００、三菱（株）製）を用い、ＷＶＢＺ４Ａ６が液晶セル側になるように、上記と同様に貼り合わせた。このようにして作製した実施例１〜８、比較例１、２の光学フィルムを有するＶＡモードの液晶テレビについても前述のように、高温高湿環境経時後の黒表示ムラを評価したところ、結果はＩＰＳモード液晶セルの場合と同じ結果だった。

Claims (7)

1. 下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物を硬化してなる膜が支持体上に積層されてなる光学フィルム。
   

   

   上記一般式（Ｉ）において、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１１１、及びＲ_１１２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１１３、Ｒ_１１４、Ｒ_１１７及びＲ_１１８は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ_１１５、及びＲ_１１６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
   

   

   上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ_１４１、及びＲ_１４２の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ_１４５及びＲ_１４６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
   

   

   上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ_１５１は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ_１５５及びＲ_１５６は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
2. 前記支持体はセルロース系樹脂を主成分とする支持体である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 支持体の少なくとも一方の面に、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含む硬化性組成物を塗布する工程を有する、光学フィルムの製造方法。
   

   

   上記一般式（Ｉ）において、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１１１ 、及びＲ _１１２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１１３ 、Ｒ _１１４ 、Ｒ _１１７ 及びＲ _１１８ は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ _１１５ 、及びＲ _１１６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
   

   

   上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数が１〜３のアルキル基を表す。但し、Ｒ _１４１ 、及びＲ _１４２ の少なくとも一方は、炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ _１４５ 及びＲ _１４６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
   

   

   上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ _１５１ は、炭素数が１〜３のアルキル基を表す。Ｒ _１５５ 及びＲ _１５６ は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
4. 前記硬化性組成物が、前記支持体を溶解又は膨潤させる有機溶剤を少なくとも一種含有する、請求項３に記載の光学フィルムの製造方法。
5. 前記支持体を溶解又は膨潤させる溶剤が、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、シクロヘキサノン、及びアセトンから選択された少なくとも１種の溶剤である、請求項４に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 請求項１又は２に記載の光学フィルムを有する偏光板。
7. 請求項１若しくは２に記載の光学フィルム、又は請求項６に記載の偏光板を有する画像表示装置。