CN102667536B - 抗反射膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及抗反射膜及其制造方法，要求开发出制造成本低的抗反射膜，进一步要求开发出抗反射性能优异、没有干涉不均的光学特性优异的抗反射膜，进一步由于设置于显示器表面因此要求高的耐擦伤性，进一步为了防止灰尘附着而要求开发出具备抗静电功能的抗反射膜。本发明的课题在于提供制造成本低并且具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性和抗静电功能的抗反射膜。一种抗反射膜，其特征在于，其为在透明基材的至少一个面将偏在层和低折射率层按照此顺序层叠而得到的抗反射膜，前述偏在层通过至少从透明基材侧将中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到。

Description

抗反射膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及以防止外部光在窗、显示器等的表面发生反射为目的而设置的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)、CRT显示器、有机电致发光显示器(ELD)、等离子体显示板(PDP)、表面电场显示器(SED)、场致发射显示器(FED)等显示器的表面的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。进一步涉及设置于透射型液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。 
背景技术
一般而言显示器不论是在室内还是室外使用，都是在外部光等入射的环境下使用。这一外部光等入射光在显示器表面等发生正反射，由其导致的反射像与显示图像混合，从而降低屏幕显示品质。因此，必须赋予显示器表面等以抗反射功能，并且对抗反射功能的高性能化、抗反射功能以外的功能的复合化提出了要求。 
抗反射功能一般通过在透明基材上形成多层结构的防反射层而获得，所述多层结构的防反射层基于由金属氧化物等透明材料形成的高折射率层和低折射率层的重复结构而成。这些具有多层结构的防反射层可通过化学蒸镀(CVD)法、物理蒸镀(PVD)法这样的干式成膜法而形成。 
在使用干式成膜法形成防反射层的情况下，具有可精密控制低折射率层、高折射率层的膜厚的优点，另一方面，由于在真空中进行成膜，因此存在生产率低、不适于大量生产这样的问题。 另一方面，作为防反射层的形成方法，利用能实现大面积化、连续生产、低成本化的使用涂液的湿式成膜法来生产抗反射膜受到人们的注目。 
另外，这些在透明基材上设置有防反射层的抗反射膜由于其表面比较柔软，因此为了赋予表面硬度，通常使用如下技术：设置将丙烯酸类材料固化而获得的硬涂层，在其上形成防反射层。此硬涂层通过采用丙烯酸类材料而具有高的表面硬度、光泽性、透明性、耐擦伤性。 
通过湿式成膜法形成防反射层的情况下，通过在将这些电离放射线固化型材料固化而获得的硬涂层之上至少涂布低折射率层而制造，与干式成膜法相比存在有可廉价制造的优点，因而广泛进入市场。 
现有技术文献 
专利文献 
专利文献1：日本特开2005-202389号公报 
专利文献2：日本特开2005-199707号公报 
专利文献3：日本特开平11-92750号公报 
专利文献4：日本特开2007-121993号公报 
专利文献5：日本特开2005-144849号公报 
专利文献6：日本特开2006-159415号公报 
专利文献7：日本特开2007-332181号公报 
发明内容
发明要解决的课题 
将抗反射膜设置于显示器表面，通过其抗反射功能可抑制外部光的反射，可提高亮处中的对比度。 
另外，由于可同时提高透射率，因此可更明亮地显示图像。另外可期待降低背光源的输出功率等的节能效果。 
在抗反射膜方面，要求开发出制造成本低的抗反射膜。另外，在抗反射膜方面，要求开发出抗反射性能优异、没有干涉不均的光学特性优异的抗反射膜。另外，由于抗反射膜设置于显示器表面，因此要求高的耐擦伤性。另外，在抗反射膜方面，为了防止灰尘附着而要求开发出具备抗静电功能的抗反射膜。本发明的课题在于提供一种抗反射膜，其制造成本低，另外具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性和抗静电功能。 
用于解决问题的方案 
为了解决上述课题，权利要求1的发明为抗反射膜，其特征在于，其为在透明基材的至少一个面按照偏在层和低折射率层的顺序层叠而得到的抗反射膜，前述偏在层通过至少从透明基材侧将中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到。 
另外，权利要求2的发明为根据权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，前述抗反射膜的平行光线透射率为93％以上，且前述抗反射膜的雾度为1.0％以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角为80°以上130°以下的范围内。 
另外，权利要求3的发明为根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其特征在于，前述流平层中所含的流平材料是从具有酰胺基的化合物、具有丙烯酰基的化合物、具有丁二烯基的化合物、具有烯烃基的化合物中选出的。 
另外，权利要求4的发明为根据权利要求1～3中任一项所述 的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料是从季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子中选出的。 
另外，权利要求5的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。 
另外，权利要求6的发明为根据权利要求1～3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且前述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。 
另外，权利要求7的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且前述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。 
另外，权利要求8的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。 
另外，权利要求9的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下， 且前述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。 
另外，权利要求10的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且前述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。 
另外，权利要求11的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。 
另外，权利要求12的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且前述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。 
另外，权利要求13的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且前述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。 
另外，权利要求14的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。 
另外，权利要求15的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且前述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。 
另外，权利要求16的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且前述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。 
另外，权利要求17的发明为抗反射膜的制造方法，其特征在于，其为在透明基材的至少一个面将偏在层和低折射率层按照此顺序层叠而得到的抗反射膜的制造方法，其顺次具备如下工序：在前述透明基材的至少一个面涂布包含电离放射线固化型材料和导电性材料和流平材料和溶剂的偏在层形成涂液而形成偏在层的涂膜的涂布工序，对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序，向前述偏在层的涂膜照射电离放射线而形成偏在层的硬膜化工序，涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液而形成低折射率层的涂膜的涂布工序，将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序，形成前述低折射率层的硬膜化工序；且前述偏在层通过将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到。 
另外，权利要求18的发明为根据权利要求17所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，前述偏在层形成涂液中所含的全部溶剂之中30wt％以上的溶剂为可溶解或溶胀透明基材的溶剂，且在前述偏在层形成涂液中以25wt％以上85wt％以下的范围内的比 例包含溶剂。 
另外，权利要求19的发明为根据权利要求17或18所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，将前述偏在层的涂膜干燥的干燥工序包含：在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥这样的二阶段连续干燥。 
发明的效果 
根据本发明的抗反射膜以及抗反射膜的制造方法，可提供具备低制造成本以及优异光学特性、高耐擦伤性、高抗静电性能的抗反射膜。特别是可制成耐擦伤性优异的抗反射膜。 
附图说明
图1所示为本发明的一个实施例的抗反射膜的剖面模式图。 
图2所示为本发明的一个实施例的抗反射膜的制造工序的示意图。 
具体实施方式
对本发明的抗反射膜进行说明。图1表示本发明的抗反射膜(1)的剖面模式图。 
在本发明的抗反射膜(1)中，在透明基材(11)的至少一个面从透明基材侧顺次具备偏在层(12)、低折射率层(13)。偏在层(12)包含作为粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料、作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子、以及流平材料；用电离放射线将电离放射线材料等固化而形成粘合基质从而可赋予抗反射膜以高的表面硬度。此处，偏在层从透明基材侧顺次形成有中间层(12a)、硬涂层(12b)、使前述导电性材料偏在而 得到的抗静电层(12c)、使流平材料偏在而得到的流平层(12d)。 
在透明基材(11)与偏在层(12)的界面形成有中间层(12a)。在中间层(12a)中混合存在有透明基材成分和偏在层的电离辐射固化型材料成分。在中间层(12a)中，在厚度方向从透明基材(11)侧朝向低折射率层(13)侧而从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率。 
通过设置从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率的中间层(12a)，从而可防止在偏在层与透明基材的界面产生的干涉条纹的产生。另外，中间层可提高透明基材(11)与偏在层(12)间的密接性。另外，中间层可通过在形成偏在层时在偏在层形成用涂液中包含可溶解或溶胀透明基材的溶剂从而形成。 
中间层(12a)可通过对所获得的抗反射膜从低折射率侧以5°入射角而求出分光反射率从而确认其存在。根据所获得的分光反射率而确认出对应于低折射率层的层厚的干涉峰(分光谱图的波形可看到多个纹波)的情况下判断为没有形成中间层(12a)，在将背面涂黑处理了的外观检查中可观察到干涉条纹不均匀。另一方面，根据所获得的分光反射率没有确认出对应于低折射率层的层厚的干涉峰的情况下判断为形成有中间层(12a)，在基于背面涂黑处理的外观检查中完全观察不到干涉不均。 
另外，干涉条纹、干涉不均是由光学干涉导致的色不均的一种，主要起因于透明基材与硬涂层的折射率差，并且在膜厚为厚的情况下是多个光学干涉同时发生并且彩虹色状地观察到色不均的现象。色不均是因为由低折射率层的膜厚不均匀导致的反射色不均而使得面内的色差变大的现象。 
硬涂层(12b)主要以电离放射线固化型材料为成分，提高抗反射膜的表面硬度，赋予耐擦伤性。硬涂层可根据偏在层表面的铅 笔硬度来判断其是否形成。 
另外，抗静电层(12c)通过使导电性材料偏在而得到，并且赋予抗反射膜以抗静电性能。通过使导电性材料偏在，与分散导电性材料相比可降低用量，可减低制造成本。关于抗静电层，根据抗反射膜的表面电阻值，可判断是否形成有抗静电层。 
另外，流平层(12d)通过在抗静电层上使流平材料偏在而得到。流平层提高偏在层和低折射率层的密接性，防止从偏在层剥离低折射率层，并赋予抗反射膜以耐擦伤性。 
关于在本发明的抗反射膜中在偏在层(12)中形成有流平层(12d)，可通过基于X射线光电子分光分析装置(XPS)的表面分析来判断其是否形成。 
另外，也可通过基于X射线光电子分光分析装置(XPS)的深度剖析(depth profiling)来判断在流平层之下有无抗静电层(12c)。 
XPS为分析试样表面的化学状态的装置。向试样照射X射线(能量：hv)时，则在光电效应的作用下元素内的中心电子(core electron)被激发出来，此时的光电子的运动能量(Ek)由通式 表示。此处，Eb为中心电子的能量级(束缚能(bingding energy))、 为装置、试样的功函数。另外Eb因元素固有的值、该元素的化学状态而变化。另一方面，在固体内电子在保持有能量的状态下可通过的距离充其量为数十 XPS是通过测定从试样表面释放出的光电子的Ek及其数值从而可分析从试样表面到数十 的深度为止存在的元素的种类、量、以及化学状态的装置。另外，XPS通过与离子蚀刻组合，从而可实现深度剖析。 
在偏在层(12)之上设置的低折射率层(13)赋予抗反射膜以抗反射功能。此时低折射率层(13)的膜厚(d)按照如下而设计：通过在该膜厚(d)乘以低折射率层的折射率(n)而获得的光学膜厚(nd)与 可见光的波长的1/4相等。低折射率层(13)通过将包含低折射率层形成材料的涂液涂布于偏在层上而形成。 
在偏在层形成材料中含有导电性材料并使其偏在、并且在偏在层表面形成低折射率层时，使导电性材料偏在而得到的抗静电层与抗静电层上的低折射率层的密接性差，其结果，有时因低折射率层的剥离而导致耐擦伤性降低。本发明人等发现以下事实以至完成本发明：通过在包含电离放射线固化型材料、导电性材料的偏在层形成用涂液中进一步加入流平材料，从而可在使导电性材料偏在而得到的抗静电层上形成流平层，提高偏在层和低折射率层的密接性，制成耐擦伤性高的抗反射膜。 
导电性材料偏在于偏在层的最表面时，低折射率层形成材料与导电性材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，因此导致抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，低折射层形成材料与导电性材料的电排斥为更强的情况下，有时也发生在涂布低折射率层形成涂液时产生缩孔等这样的不良现象。另外，在低折射率层形成材料中包含憎水材料的情况下，有时也因导电性材料与低折射率层材料中的憎水材料的电排斥而无法获得期望的防污性能。 
另外，在本发明中，通过涂布偏在层形成用涂液，可同时形成成为中间层、硬涂层、抗静电层、流平层的偏在层。因此，与在透明基材上将硬涂层及抗静电层顺次涂布、形成的情况相比，可控制制造成本。 
在偏在层(12)中，导电性材料与作为粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料相比容易向表面析出，且流平材料与导电性材料相比更容易向表面析出。因此，通过在形成偏在层时控制干燥温度、时间的条件而进行偏在化，从而可分离为中间层、硬涂层、 抗静电层、流平层，将这些层结构作为偏在层。 
中间层(12a)包含偏在层的粘合基质成分和三乙酰基纤维素成分。在中间层(12a)中，在厚度方向从透明基材(11)侧朝向低折射率层(13)侧而从透明基材(11)的折射率逐渐变化到低折射率层的粘合基质的折射率、即、硬涂层(12b)的折射率。通过设置从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率的中间层(12a)，从而可防止在偏在层与透明基材的界面产生的干涉条纹的产生。另外，中间层可提高透明基材(11)与偏在层(12)间的密接性。 
硬涂层(12b)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和导电性材料以及流平材料。主要由作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料构成，粘合基质成分较多地偏在而存在，因此可使抗反射膜具有表面硬度。 
抗静电层(12c)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和导电性材料以及流平材料。由于导电性材料偏在而较多地存在，因此可显现抗静电功能，制成具有抗静电功能的抗反射膜。 
流平层(12d)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和流平材料。主要由流平材料构成，不包含导电性材料。在导电性材料存在于偏在层的最表面的情况下，在偏在层上形成低折射率层时偏在层和低折射率层的密接力降低，因此导致抗反射膜的耐擦伤性降低。本发明的抗反射膜中，与作为导电性材料的导电性材料相比流平材料的表面张力低，因此可容易靠向最表面而形成不含作为导电性材料的导电性材料的层。 
在本发明的抗反射膜中形成低折射率层时，不受到导电性材料的影响。因此，可防止偏在层和低折射率层的密接力的降低，可赋予抗反射膜以高的表面硬度，可制成耐擦伤性优异、并且防 污性优异的抗反射膜。 
本发明的抗反射膜中，优选的是抗反射膜的平行光线透射率为93％以上，且抗反射膜的雾度为1.0％以下的范围内，且抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角为80°以上130°以下的范围内。 
在抗反射膜的平行光线透射率低于93％的情况下，或者雾度超过1.0％的情况下，有时会发生如下情况：透明感丧失，变得白浊(褪色发白)，显示器的对比度降低。另外，本发明的抗反射膜中，平行光线透射率越高越优选，雾度越低则越优选。并且，抗反射膜的平行光线透射率优选为93％以上98％以下的范围内。考虑目前可考虑的使用材料时，难以制作平行光线透射率超过98％的抗反射膜。另外，抗反射膜的雾度优选为0.05％以上0.5％以下的范围内。考虑目前可考虑的使用材料时，难以制作雾度低于0.05％的抗反射膜。 
另外，表面电阻值优选为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内。另外，制成抗反射膜表面的表面电阻值低于1×105Ω/cm2的抗反射膜的情况下，需要大量的作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子，有时会无法形成本发明的偏在层。进一步，透明性(全光线透射率值)有时会降低。抗反射膜表面的表面电阻值处于1×1010Ω/cm2～1×1012Ω/cm2的状态的情况下，一般可认为是在动态的状态下灰尘不附着的区域，在用于显示器的最表面的情况下需要此条件。因此，在本发明中优选为1×1012Ω/cm2以下。 
另外，作为前述表面电阻值的测定方法，可依照JIS-K6911(1995)来测定。 
另外，本发明的抗反射膜的纯水接触角优选为80°以上130°以下的范围内。通过使纯水接触角为80°以上，可赋予低折射率层优异的防污性。另外，通过为130°以下的范围内，使得在形成低折射率层时偏在层和低折射率层的密接变好，因此可赋予高的表面硬度，可制成耐擦伤性优异并且防污性优异的抗反射膜。 
另外，在纯水接触角超过130°的情况下，有时会在形成低折射率层时产生缩孔、无法形成低折射率层。另外，在纯水接触角不足80°的情况下，有时无法获得充分的防污性。 
另外，作为纯水接触角的测定方法，可依照JISR3257(1999)来测定。具体可通过如下求出：使用接触角计，以干燥状态(20℃-65％RH)在针尖制作液滴，将其接触于试样(固体)的表面而制作液滴，测定此接触角。接触角是指，固体与液体接触的点处的相对于液体表面的切线与固体表面所形成的角，由包含液体的侧的角度定义。作为液体，使用蒸馏水。 
另外，本发明的抗反射膜中，流平层中所含的流平材料优选是从具有酰胺基的化合物、具有丙烯酰基的化合物、具有丁二烯基的化合物、具有烯烃基的化合物中选出的。另外，从具有酰胺基的化合物、具有丙烯酰基的化合物、具有丁二烯基的化合物、具有烯烃基的化合物中选出的的流平材料的具体例子在之后进行记述。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料优选是从季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子中选出的。另外，从季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子中选出的的导电性材料的具体例子在之后进行记述。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化 合物时，季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下，且具有酰胺基的化合物的分子量(A)优选为100000以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有酰胺基的化合物的分子量(A)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000的情况下季铵盐材料易于向偏在层表面偏在而不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另一方面，季铵盐材料的分子量(Q)超过100000的情况下不能使季铵盐材料偏在而形成抗静电层。另外，具有酰胺基的化合物的分子量(A)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为500nm以下，且具有酰胺基的化合物的分子量(A)优选为100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有酰胺基的化合物的分子量(A)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm的情况下金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，具有酰胺基的化合物的分子量(A)超过100000 的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子、且流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物时，导电性高分子的平均粒径优选为1000nm以下，且具有酰胺基的化合物的分子量(A)优选为100000以下。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有酰胺基的化合物的分子量(A)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
导电性高分子的平均粒径超过500nm的情况下导电性高分子易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与导电性高分子发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，具有酰胺基的化合物的分子量(A)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物时，季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下，且前述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)优选为100000以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000的情况下季铵盐材料易于向偏在层表面偏在并且不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐 材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另一方面，季铵盐材料的分子量(Q)超过100000的情况下便不能使季铵盐材料偏在而形成抗静电层。另外，具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)超过100000的情况下，在最表层导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为500nm以下，且具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)优选为100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm的情况下金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。因此，在最表层不形成流平层，低折射率层形成材料与金属氧化物颗粒发生电排斥，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。进一步使获得的抗反射膜的雾度提高。另外，具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子、且流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物时，导电性高分子的平均粒径优选为1000nm以下，且具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)优选为100000以下的范围内。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬 涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
导电性高分子的平均粒径超过500nm的情况下导电性高分子易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与导电性高分子发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物时，季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下的范围内，且作为流平材料的具有丁二烯基的化合物的分子量(C)优选为100000以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000的情况下季铵盐材料易于向偏在层表面偏在并且不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另一方面，季铵盐材料的分子量(Q)超过100000的情况下难以使季铵盐材料偏在而形成抗静电层，所获得的抗反射膜便不能获得充分的抗静电性能。另外，具有丁二烯基的化合物的分子量(C)超过100000的情况下，季铵盐材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包 含金属氧化物颗粒，且流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为500nm以下，且具有丁二烯基的化合物的分子量(C)优选为100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm的情况下金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。因此，在最表层不形成流平层，低折射率层形成材料与金属氧化物颗粒发生电排斥，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。进一步使获得的抗反射膜的雾度提高。另外，具有丁二烯基的化合物的分子量(C)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此便不能制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。 
另外，本发明的抗反射膜中，优选的是导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且具有丁二烯基的化合物的分子量(C)优选为100000以下的范围内。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
导电性高分子的平均粒径超过500nm的情况下导电性高分子易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与导电性高分子发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，具有丁二烯基的化合物的分子量(C)超过100000的 情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物时，季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下，且作为流平材料的具有烯烃基的化合物的分子量(D)除以前述季铵盐材料的分子量(Q)而得到的值(D/Q)优选为0.5以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有烯烃基的化合物的分子量(D)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000的情况下季铵盐材料易于向偏在层表面偏在并且不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另一方面，季铵盐材料的分子量(Q)超过100000的情况下难以使季铵盐材料偏在而形成抗静电层，所获得的抗反射膜便不能获得充分的抗静电性能。另外，具有烯烃基的化合物的分子量(D)超过100000的情况下，季铵盐材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为500nm以下，且具有烯烃基的化合物的分子量(D)优选为100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有烯烃基的化合物的分子量(D)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm的情况下金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。因此，在最表层不形成流平层，低折射率层形成材料与金属氧化物颗粒发生电排斥，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。进一步使获得的抗反射膜的雾度提高。另外，具有烯烃基的化合物的分子量(D)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子、且流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物时，导电性高分子的平均粒径优选为1000nm以下，且具有烯烃基的化合物的分子量(D)优选为100000以下。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有烯烃基的化合物的分子量(D)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
导电性高分子的平均粒径超过500nm的情况下导电性高分子易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与导电性高分子发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，导致所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，具有丁二烯基的化合物的分子量(D)超过100000的情况下，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。 
另外，在本发明中“分子量”在分子量1000以下的情况下是指由结构式求出的分子量，在超过分子量为1000的情况下是指重均分子量。 
另外，在本发明的抗反射膜中用作流平材料的具有酰胺基的化合物的分子量(A)优选为100000以下，但考虑市售的具有酰胺 基的化合物的分子量时，具有酰胺基的化合物的分子量(A)优选为40以上100000以下。 
另外，在本发明的抗反射膜中，用作流平材料的具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)优选为100000以下，但考虑市售的具有丙烯酰基的化合物的分子量时，具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)优选为1000以上100000以下。 
另外，在本发明的抗反射膜中，用作流平材料的具有丁二烯基的化合物的分子量(C)优选为100000以下，但考虑市售的具有丁二烯基的化合物的分子量时，具有丁二烯基的化合物的分子量(C)优选为1000以上100000以下。 
另外，在本发明的抗反射膜中，用作流平材料的具有烯烃基的化合物的分子量(D)优选为100000以下，但考虑市售的具有烯烃基的化合物的分子量时，具有烯烃基的化合物的分子量(D)优选为1000以上100000以下。 
另外，在本发明中，金属氧化物颗粒的平均粒径以及导电性高分子的平均粒径通过光散射法求出。 
另外，在本发明的抗反射膜中，用作导电性材料的金属氧化物颗粒的平均粒径虽然优选为500nm以下，但考虑市售的金属氧化物颗粒的平均粒径时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为1nm以上500nm以下。 
另外，在本发明的抗反射膜中，用作导电性材料的导电性高分子的平均粒径虽然优选为500nm以下，但考虑市售的金属氧化物颗粒的平均粒径时，导电性高分子的平均粒径优选为1nm以上500nm以下。 
另外，本发明的抗反射膜中，低折射率层的光学膜厚优选为80nm以上200nm以下的范围内。通过使低折射率层的光学膜厚为 80nm以上200nm以下的范围内，可将在抗反射膜的表面(A)侧求出的分光反射率曲线制成在500nm近旁采取极小值的分光反射率曲线，可制成抗反射性优异的抗反射膜。 
在分光反射率曲线中，以极小值为基准，向短波长方向的上升曲线与向长波长方向的上升曲线相比显示出急剧的倾向。此时，分光反射率曲线的以极小值为基准时的向短波长方向的急剧的上升曲线导致所形成的抗反射膜的反射光的色淡(色味)，另外导致在发生偏在层的膜厚不均匀时的色不均的产生。本发明中，通过将分光反射率曲线的极小值设为500nm附近，从而使反射色相小，可抑制由向短波长方向的急剧的上升曲线导致的色不均的产生。 
另外，本发明的抗反射膜中，抗反射膜的低折射率层形成面(表面(A))处的光平均反射率优选为0.5％以上2.0％以下的范围内。 
抗反射膜的低折射率层形成面(表面(A))处的光平均反射率超过2.5％的情况下，无法制成具备充分的抗反射性能的抗反射膜。另一方面，难以通过偏在层的光学干涉而实现抗反射膜表面的光平均反射率为0.2％的抗反射膜。另外，进一步优选偏在层表面的光平均反射率为0.2％以上2.0％以下的范围内。 
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了季铵盐材料作为偏在层中的导电性材料的情况下，偏在层中的作为导电性材料的季铵盐材料的含量优选为0.5wt％以上且不足25wt％。偏在层中的作为导电性材料的季铵盐材料的含量不足0.5wt％的情况下，有时便无法获得充分的抗静电性能。另一方面，作为导电性材料的季铵盐材料的含量超过25wt％的情况下，无法很好地形成流平层。另外，由于作为导电性材料的季铵盐材料不具有硬涂性，因此抗反射膜的硬度和耐擦伤性有时会降低。另外，成本变高。 
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了金属氧化物颗粒作 为偏在层中的导电性材料的情况下，作为偏在层中的导电性材料的金属氧化物颗粒的含量优选为0.5wt％以上且不足25wt％。作为偏在层中的导电性材料的金属氧化物颗粒的含量不足0.5wt％的情况下，有时便无法获得充分的抗静电性能。另一方面，作为导电性材料的金属氧化物颗粒的含量超过25wt％的情况下，无法很好地形成流平层。 
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了导电性高分子作为偏在层中的导电性材料的情况下，作为偏在层中的导电性材料的导电性高分子的含量优选为0.1wt％以上且不足25wt％。作为偏在层中的导电性材料的导电性高分子的含量不足0.1wt％的情况下，有时便无法获得充分的抗静电性能。另一方面，作为导电性材料的导电性高分子的含量超过25wt％的情况下，无法很好地形成流平层。另外，由于作为导电性材料的导电性高分子不具有硬涂性，因此抗反射膜的硬度和耐擦伤性有时会降低。另外成本变高。 
另外，在使用具有酰胺基的化合物作为流平材料的情况下，作为偏在层中的流平材料的具有酰胺基的化合物的含量优选为0.05wt％以上且不足25wt％的范围内。偏在层中的具有酰胺基的化合物的含量不足0.05wt％的情况下，无法形成流平层，导电性材料存在于偏在层的最表面，因此存在有降低耐擦伤性、进一步阻碍低折射率层的形成的情况。另一方面，具有酰胺基的化合物的含量超过25wt％的情况下，存在有酰胺层变厚、抗静电功能降低的情况。 
另外，在使用具有丙烯酰基的化合物、具有丁二烯基的化合物、具有烯烃基的化合物等除了具有酰胺基的化合物以外的化合物作为流平材料的情况下，偏在层中的流平材料的含量优选为0.001wt％以上且不足5.00wt％的范围内。偏在层中的流平材料的 含量不足0.001wt％的情况下，无法形成流平层，导电性材料存在于偏在层的最表面，因此存在有降低耐擦伤性、进一步阻碍低折射率层的形成的情况。另一方面，流平材料的含量超过5.00wt％的情况下，存在有酰胺层变厚、抗静电功能降低的情况。 
对本发明的抗反射膜的制造方法进行说明。 
本发明的抗反射膜的制造方法的特征在于，其为在透明基材的至少一个面将偏在层和低折射率层按照此顺序层叠而得到的抗反射膜的制造方法，所述方法顺次具备如下工序：在前述透明基材的至少一个面涂布包含电离放射线固化型材料和导电性材料和流平材料和溶剂的偏在层形成涂液、形成偏在层的涂膜的涂布工序，对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序，向前述偏在层的涂膜照射电离放射线、形成偏在层的硬膜化工序，涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液、形成低折射率层的涂膜的涂布工序，将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序，形成前述低折射率层的硬膜化工序，且前述偏在层通过将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到。 
本发明中，通过设置对偏在层的涂膜实施第一次干燥的干燥工序、以及在第一次干燥的干燥工序之后对偏在层的涂膜实施第二次干燥的干燥工序，从而可在偏在层中依序偏在出：中间层、硬涂层、使导电性材料偏在而得到的抗静电层、使前述流平材料偏在而得到的流平层。 
图2表示了本发明的抗反射膜的制造装置的一个例子的示意图。 
本发明的抗反射膜的制造装置顺次具备有：在透明基材上涂布包含含有电离放射线固化型材料的粘合基质形成材料、导电性 材料、流平材料、溶剂的偏在层形成用涂液并形成涂膜的涂布单元(21)，对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥的第一次干燥单元(22a)和实施第二次干燥的第二次干燥单元(22b)的2个干燥单元(22)，向前述偏在层的涂膜照射电离放射线而将偏在层进行硬膜形成的电离放射线照射单元(23)。将透明基材从卷出部(31)连续运送到卷取部(32)，从而在透明基材上形成偏在层。 
接着，通过将低折射率层形成涂液涂布于偏在层上形成低折射率层的涂膜的涂布工序、将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序、形成前述低折射率层的硬膜化工序而形成低折射率层。此时，形成低折射率层的硬膜化工序中，在使用电离放射线固化型材料作为低折射率层形成材料的情况下通过照射电离放射线而硬膜化并且形成低折射率层。另一方面，在使用热固型材料作为低折射率层形成材料的情况下通过加热而硬膜化，形成低折射率层。形成低折射率层时，可使用图2所示的制造装置在偏在层上形成低折射率层而制造抗反射膜。另外，也可通过连续地连接偏在层形成和低折射率层形成的前述工序，从而制造抗反射膜。 
本发明的抗反射膜的制造方法中，优选的是偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中30wt％以上的溶剂为可溶解或溶胀前述透明基材的溶剂，且在前述偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下的比例包含溶剂。在透明基材上在包含粘合基质形成材料和导电性材料、流平材料的偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中以30wt％以上的范围内使用可溶解或溶胀透明基材的溶剂、且在前述偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下的比例包含溶剂，从而可形成具备通过使导电性材料、流平材料偏在而得到的抗静电层、流平层的偏在层。 
在从在透明基材上涂布偏在层形成用涂液并形成涂膜到干燥 为止的工序中，涂液中所含的可溶解或溶胀透明基材的溶剂向透明基材渗透，粘合基质形成材料成分伴随其也向透明基材渗透并且与基材混合从而形成中间层。另一方面，由于导电性材料、流平材料难以向透明基材渗透，因此向与透明基材侧相反的抗静电层及流平层侧偏析并且形成偏在层。 
以偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中可溶解或溶胀透明基材的溶剂为30wt％以上的范围内而使用可溶解或溶胀透明基材的溶剂，从而可在透明基材与偏在层之间形成包含透明基材成分和粘合基质成分的中间层，进一步可有效率地形成偏在层。另外，全溶剂之中可溶解或溶胀透明基材的溶剂低于30wt％的情况下，有时会无法形成偏在层。通过使偏在层的涂液中的溶剂量为前述范围内，从而可使得涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子以及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分，可容易制造偏在层。 
另外，偏在层形成用涂液中的溶剂量不足25wt％的情况下，存在有涂膜发生急剧干燥而不能形成偏在层的可能。另一方面，偏在层形成用涂液中的溶剂量超过85wt％的情况下，倾向为需要延长干燥时间并且不适合大量生产。 
本发明的抗反射膜的制造方法中，将偏在层的涂膜干燥的干燥工序优选包含在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥这样的二阶段连续干燥。优选干燥工序在刚涂布完后在干燥温度20℃以上30℃以下的范围内进行第一次干燥。通过使第一次干燥温度为20℃以上30℃以下的范围内，从而可使偏在层的涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子以及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分。 
另外，在干燥温度超过30℃的情况下，存在有偏在层的涂膜发生急剧干燥而不能形成偏在层的可能。另一方面，干燥温度低于20℃的情况下，需要延长干燥时间并且不适合连续生产。 
另外，优选在干燥温度50℃以上150℃以下的范围内进行第二次干燥。通过使第二次干燥温度为50℃以上150℃以下的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。另外，干燥温度超过150℃的情况下，由于溶剂的蒸发速度过早因而存在偏在层的表面发生皲裂、产生雾度的可能。另一方面，干燥温度低于50℃的情况下，溶剂便残留于偏在层，成为不具有硬涂性的偏在层。 
另外，存在有仅通过前述第一次干燥不能使干燥进行充分的情况，在第一次干燥后，作为第二次干燥，也通过干燥温度50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥。干燥工序中，通过以前述干燥温度进行第一次干燥及第二次干燥，从而可容易制造偏在层(12)。 
另外，为了进行偏在层的各层的分离而进行第一次干燥，通过50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥作为第二次干燥而去除了溶剂。 
另外，本发明的抗反射膜的制造方法中，将偏在层的涂膜干燥的干燥工序优选设定为如下：使偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间为2秒以上60秒以下的范围内。 
在透明基材上形成前述偏在层的涂膜后，通过使透明基材上的由偏在层形成用涂液形成的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间为2秒以上60秒以下的范围内，从而可使涂膜中的导电性材料及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分，可容易形成具备抗静电层及流平层的偏在层。 
另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂为10wt％以下为止的时间不足2秒的情况下，有时会因偏在层的涂膜的急剧的干燥而导致无法形成抗静电层及流平层。另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间超过60秒的情况下，过于耗费时间而不现实。通过枚叶(裁成规定尺寸型)方式形成偏在层的情况下，也由于周期时间变长并且生产率降低，因此不优选。 
更详细地对本发明的抗反射膜以及抗反射膜的制造方法进行说明。 
作为本发明的抗反射膜中使用的透明基材，可使用由各种有机高分子形成的膜或者片。例如列举出显示器等光学部件中通常使用的基材，考虑透明性、光的折射率等光学特性，进一步考虑耐冲击性、耐热性、耐久性等各种物性，可使用：由聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类，三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、赛璐玢等纤维素类，6-尼龙、6，6-尼龙等聚酰胺类，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类，聚苯乙烯，聚氯乙烯，聚酰亚胺，聚乙烯醇，聚碳酸酯，乙烯-乙烯醇等有机高分子形成的基材。特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰基纤维素、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯。其中，三乙酰基纤维素的双折射率小，透明性良好，因此可优选用于液晶显示器。 
另外，透明基材的厚度优选在25μm以上200μm以下的范围内，进一步优选在40μm以上80μm以下的范围内。 
进一步，也可使用通过向这些有机高分子中添加公知的添加剂例如紫外线吸收剂、红外线吸收剂、增塑剂、增滑剂、着色剂、抗氧化剂、阻燃剂等而施加功能而得到的物质。另外，透明基材可以为由选自前述的有机高分子中的一种或者两种以上的混合物 或聚合物形成的透明基材，也可以为层叠多个层而得到的透明基材。 
接着对偏在层进行说明。 
在形成偏在层时，包含电离放射线固化型材料作为粘合基质形成材料。作为电离放射线固化型材料，可使用丙烯酸类材料。作为丙烯酸类材料，可使用：多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯这样的单官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，由二异氰酸酯与、多元醇和丙烯酸或甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂(polythiol-polyene resin)等。 
另外，在本发明中“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”这两者。例如，“氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯”表示“氨基甲酸酯丙烯酸酯”和“氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯”这两者。 
作为单官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性苯氧基 (甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟丙基邻苯二甲酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基四氢邻苯二甲酸氢酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙基酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、由2-金刚烷以及金刚烷二醇衍生的具有一元的单(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸金刚烷酯等的单(甲基)丙烯酸金刚烷酯衍生物等。 
作为前述2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。 
作为前述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯等三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基) 丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，这些(甲基)丙烯酸酯的一部分被烷基、ε-己内酯取代而得到的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。 
也可使用多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯作为丙烯酸类材料。氨基甲酸酯丙烯酸酯通过使多元醇、多异氰酸酯以及含羟基的丙烯酸酯进行反应而获得。具体可列举出：共荣社化学公司制的UA-306H、UA-306T、UA-3061等，日本合成化学公司制的UV-1700B、UV-6300B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7640B、UV-7650B等，新中村化学公司制的U-4HA、U-6HA、UA-100H、U-6LPA、U-15HA、UA-32P、U-324A等，Daicel-UCB Co.，Ltd.制的Ebecryl-1290、Ebecryl-1290K、Ebecryl-5129等，根上工业公司制的UN-3220HA、UN-3220HB、UN-3220HC、UN-3220HS等，但是不受此限。 
另外，在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。 
另外，考虑到光学特性、耐擦伤性、硬度等，偏在层的膜厚优选在3μm以上20m以下的范围内。另外，考虑到卷曲的抑制等加工处理方面，进一步优选在4μm以上7μm以下的范围内。 
向偏在层形成用涂液中加入溶剂，可在全部溶剂之中30wt％以上的范围内使用可溶解或溶胀透明基材的溶剂。 
另外，在透明基材上在包含粘合基质形成材料和季铵盐材料、流平材料的偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中以30wt％以上的范围内使用可溶解或溶胀透明基材的溶剂，从而可形成使导电性材料以及流平材料偏在而得到的偏在层。 
以偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中可溶解或溶胀透明基材的溶剂为30wt％以上的范围内而使用可溶解或溶胀透明基材的溶剂，从而可在透明基材与偏在层之间形成包含透明基材成分和粘合基质成分的中间层，进一步可有效率地形成偏在层。 
另外，全部溶剂之中可溶解或溶胀透明基材的溶剂低于30wt％的情况下，不能形成偏在层。 
作为使用了三乙酰基纤维素膜作为透明基材时的可溶解或溶胀透明基材的溶剂，列举出二丁基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、二噁烷、二氧戊环、三噁烷、四氢呋喃、苯甲醚以及苯乙醚等醚类，另外列举出丙酮、甲乙酮、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、以及甲基环己酮等部分酮类，另外列举出甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、以及γ-丁内酯等酯类，进一步列举出甲基溶纤剂、溶纤剂、丁基溶纤剂、溶纤剂乙酸酯等溶纤剂类，此外列举出N-甲基-2-吡咯烷酮、碳酸二甲酯。它们可使用单独一种或组合使用两种以上。 
作为不将三乙酰基纤维素膜溶解或者溶胀的溶剂，列举出：乙醇、异丙醇等醇类，甲苯、二甲苯、环己烷、环己基苯等芳香族烃类，正己烷等烃类，甲基异丁基酮、甲基丁基酮、二丙酮醇等部分酮类等。它们可使用单独一种或组合使用两种以上。 
另外，优选在偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下 的比例包含溶剂。通过使偏在层的涂液中的溶剂量为前述范围内，从而可使涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子以及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分，可容易制造偏在层。 
另外，偏在层形成用涂液中的溶剂量不足25wt％的情况下，存在涂膜发生急剧干燥而不能形成偏在层的可能。另一方面，偏在层形成用涂液中的溶剂量超过85wt％的情况下，需要延长干燥时间并且不适合大量生产。 
另外，优选在溶剂浓度0.2体积％以上10体积％以下的溶剂氛围下进行将偏在层的涂膜干燥的工序。通过在0.2体积％以上10体积％以下的溶剂氛围下进行将偏在层的涂膜干燥的工序，从而可使涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或金属氧化物颗粒或导电性高分子偏在而形成偏在层为止的时间变得充分，可容易地制造偏在层。 
另外，作为此时干燥氛围中使用的溶剂，优选使用偏在层形成用涂液中所含的溶剂之中的至少一种。溶剂氛围下不足0.2体积％的情况下，存在有涂膜发生急剧干燥而不能形成偏在层的情况。另一方面，溶剂氛围下超过10体积％的情况下，需要延长干燥时间并且不适合大量生产。 
偏在层中所含的作为导电性材料的季铵盐材料可优选使用在分子内含有季铵盐材料作为官能团的丙烯酸类材料。季铵盐材料表示-N+X-的结构，通过具备季铵阳离子(-N+)和阴离子(X-)而在硬涂层中显现导电性。此时，作为X-，可列举出Cl-、Br-、I-、F-、HSO4 -、SO4 2-、NO3 -、PO4 3-、HPO4 2-、H2PO4 -、SO3 -、OH-等。 
另外，作为季铵盐材料，也可使用在分子内含有季铵盐材料作为官能团的丙烯酸类材料。在分子内含有季铵盐材料作为官能 团的丙烯酸类材料可使用：在分子内含有季铵盐材料(-N+X-)作为官能团的多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯这样的单官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，由二异氰酸酯与、多元醇和丙烯酸或甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。 
本发明的偏在层中所含的季铵盐材料的分子量优选在1000以上100000以下的范围内。通过将季铵盐材料的重均分子量设在1000以上100000以下的范围内从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
另外，季铵盐材料的分子量低于1000的情况下季铵盐材料易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。因此，存在有低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接性降低而耐擦伤性降低的情况。另一方面，季铵盐材料的重均分子量超过100000的情况下硬涂层和抗静电层便混合，表面电阻值变差。作为季铵盐材料，具体可使用NR-121X-9IPA(COLCOAT CO.，Ltd制)等。 
作为用作导电性材料的金属氧化物颗粒，可使用：以选自氧化锆、含锑氧化锡(ATO)、含磷氧化锡(PTO)、含锡氧化铟、氧化铝、氧化铈、氧化锌、含铝氧化锌、氧化锡、含锑氧化锌以及含铟氧化锌中的一种或两种以上的金属氧化物为主成分的具有导电性的金属氧化物颗粒。 
作为用作导电性材料的导电性高分子，可使用选自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1，6-庚二炔)、聚联苯、 (聚对苯)、聚对苯硫醚、聚苯基乙炔、聚(2，5-噻吩)以及它们的衍生物中的一种或者两种以上的混合物。 
向偏在层形成用涂液中加入具有酰胺基的化合物作为流平材料，在偏在层中形成流平层。作为具有酰胺基的化合物，可使用在1分子内具有一个以上的酰胺基的化合物。具体列举出乙酰胺，(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二辛基(甲基)丙烯酰胺、N-单丁基(甲基)丙烯酰胺、N-(2-羟乙基)丙烯酰胺、N-(2-羟乙基)甲基丙烯酰胺基(甲基)丙烯酰基吗啉等丙烯酸类化合物，N-乙烯基甲酰胺，N，N-二烯丙基甲酰胺，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基-ε-己内酰胺，聚酰胺等。其中，作为流平材料的具有酰胺基的化合物中，优选使用除了酰胺基之外还具有一个以上的聚合性基团的化合物。 
用作流平材料的具有丙烯酰基的化合物是指在分子内含有丙烯酰基的丙烯酸类流平剂。具有丙烯酰基的化合物具有(化学式1)所示的结构，活性度低并且重新涂布性好。此时，作为R1，可列举出H、CH3、CnH2n-1(n＝自然数)等。另外，作为R2可导入烷基、聚酯基、聚醚基、盐、反应性基团等。 
作为用作流平材料的具有丙烯酰基的化合物，具体列举出 BYK0-350、BYK-352、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-392、BYK-394等。 
作为用作流平材料的具有丁二烯基的化合物，可优选使用在分子内含有丁二烯基的丁二烯类流平剂。具有丁二烯基的化合物的活性度低并且重新涂布性好。此时，可将烯烃基、聚酯基、聚醚基、盐、反应性基团等导入分子内。 
作为用作流平材料的具有丁二烯基的化合物，具体列举出FLOWLEN AC-1190、FLOWLEN AC-1190HF、FLOWLEN AC-2000、FLOWLEN AC-2000HF等。 
作为用作流平材料的具有烯烃基的化合物，可优选使用在分子内含有烯烃基的烯烃类流平剂。具有烯烃基的化合物的活性度低并且重新涂布性好。此时，可将聚酯基、聚醚基、盐、反应性基团等导入分子内。 
作为用作流平材料的具有烯烃基的化合物，具体列举出FLOWLEN AC-2200HF等。 
另外，通过紫外线将偏在层形成用涂液固化的情况下，向偏在层形成用涂液添加光聚合引发剂。 
作为光聚合引发剂，如果是在照射了紫外线时产生自由基的物质即可，例如可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类。另外，光聚合引发剂的添加量相对于电离放射线固化型材料优选在0.1wt％以上10wt％以下的范围内，进一步优选为1wt％以上8.5wt％以下。 
另外，也可向偏在层形成用涂液中加入表面调整剂、折射率调整剂、密接性提高剂、固化剂等作为添加剂。 
可通过湿式成膜法将调整以上的材料而获得的偏在层形成用涂液涂布于透明基材上，形成涂膜，形成偏在层。在以下给出偏 在层的形成方法。 
将偏在层形成用涂液涂布于透明基材上，形成涂膜。作为用于将偏在层形成用涂液涂布于透明基材上的涂布方法，可使用：使用了辊涂机、逆向辊涂机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀涂布机、刮棒涂布机、丝棒涂布机、模涂布机、浸渍涂布机的涂布方法。另外，本发明的偏在层(12)为薄的涂膜，需要制成均匀的膜厚，因此优选使用微凹版涂布法、模涂法。 
接着，透明基材上形成的偏在层的涂膜通过干燥去除涂膜中的溶剂。此时作为干燥手段，可使用加热、送风、热风等。 
另外，优选干燥工序在刚涂布完后在干燥温度20℃以上30℃以下的范围内进行第一次干燥。通过使第一次干燥温度在20℃以上30℃以下的范围内，从而可使偏在层的涂膜中的导电性材料及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分。 
另外，在干燥温度超过30℃的情况下，存在有偏在层的涂膜发生急剧干燥而不能形成偏在层的可能。另一方面，干燥温度低于20℃的情况下，需要延长干燥时间并且不适合连续生产。 
另外，优选在干燥温度50℃以上150℃以下的范围内进行第二次干燥。通过使第二次干燥温度为50℃以上150℃以下的范围内，从而可形成从透明基材侧将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。 
另外，干燥温度超过150℃的情况下，由于溶剂的蒸发速度过早因而存在偏在层的表面发生皲裂、产生雾度的可能。另一方面，干燥温度低于50℃的情况下，溶剂便残留于偏在层，成为不具有硬涂性的偏在层。 
另外，存在有仅通过前述第一次干燥不能使干燥进行充分的情况，第一次干燥后，作为第二次干燥，也通过干燥温度50℃以 上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥。 
干燥工序中，通过以前述干燥温度进行第一次干燥及第二次干燥，可容易制造偏在层(12)。 
另外，为了进行偏在层的各层的分离而进行第一次干燥，在第二次干燥中通过50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥从而去除了溶剂。 
另外，在透明基材上形成出由透明基材上已形成的偏在层形成用涂液所生成的涂膜后，前述透明基材上的偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间优选为2秒以上60秒以下的范围内；在透明基材上形成前述偏在层的涂膜后，通过使透明基材上的由偏在层形成用涂液形成的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间为2秒以上60秒以下的范围内，从而可使涂膜中的导电性材料及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间变得充分，可容易形成偏在层(12)。 
另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间不足2秒的情况下，有时会因偏在层的涂膜的急剧干燥而导致无法形成抗静电层及流平层。 
另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间超过60秒的情况下，过于耗费时间而不现实。通过枚叶方式形成偏在层的情况下，也由于周期时间变长并且生产率降低，因此不优选。 
接着，通过对将偏在层形成用涂液涂布于透明基材上而获得的涂膜照射电离放射线，从而形成偏在层(12)。 
作为电离放射线，可使用紫外线、电子射线。紫外线固化的情况下，可利用：高压水银灯、低压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧、氙弧等光源。另外，在电子射线固化的情况 下，可利用从考克饶夫特-瓦尔顿型(Cockroft-walton type)、茫德格喇夫型(van de Graaff type)、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、地那米(Dynamitron)型、高频率型等的各种电子射线加速器排放出的电子射线。电子射线优选具有50～1000KeV的能量。更优选具有100～300KeV的能量的电子射线。 
接着对低折射率层的形成方法进行记述。 
低折射率层通过将包含低折射率层形成材料的低折射率层形成涂液涂布于偏在层表面，利用湿式成膜法形成。此时低折射率层膜厚(d)按照如下方式而设计：通过在该膜厚(d)上乘以低折射率层的折射率(n)而获得的光学膜厚(nd)与可见光的波长的1/4相等。 
作为低折射率层形成材料，可使用低折射率颗粒以及粘合基质形成材料。另外，粘合基质形成材料具有低的折射率的情况下也可在低折射率形成材料中不包含低折射率颗粒。作为低折射率层(13)中的粘合基质形成材料，可使用电离放射线固化型材料、热固型材料。 
作为可以包含于低折射率层形成材料用涂液的低折射颗粒，可使用由LiF、MgF、3NaF·AlF或者AlF(任意一个的折射率都是1.40)、或者Na3AlF6(冰晶石、折射率1.33)等低折射材料形成的低折射率颗粒。另外，可优选使用在颗粒内部具有孔隙的颗粒。关于在颗粒内部具有孔隙的颗粒，由于可将孔隙的部分作为空气的折射率(≈1)，因此可制成具备非常低的折射率的低折射率颗粒。具体可使用在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒。 
关于在颗粒内部具有孔隙的颗粒，由于可将孔隙的部分作为空气的折射率(≈1)，因此可制成具备非常低的折射率的低折射率颗粒。作为在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒，可使用多孔质硅石颗粒、壳结构的硅石颗粒。 
另外，作为低折射率颗粒，粒径优选为1nm以上100nm以下。粒径超过100nm的情况下，存在如下倾向：光通过瑞利散射被显著反射，低折射率层发生白化而抗反射膜的透明性降低。另一方面，粒径不足1nm的情况下，产生由颗粒的凝集导致的低折射率层中的颗粒的不均匀性等问题。 
另外，作为在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒的一个例子，可使用具有如下结构的颗粒：保持着球状形状，折射率为低于玻璃的折射率1.45的1.35，半径20nm以上25nm以下，密度(ρ1)的球状的结构处于中心部分，厚度10nm以上15nm以下不同的密度(ρ2)的层覆盖在周围，并且(ρ1/ρ2)的值为0.5、0.1、0.0，低折射率硅石颗粒的中心部分为外部的硅石的1/10左右的密度。 
另外，作为用作粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料，可使用丙烯酸类材料。作为丙烯酸类材料，可使用：多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯这样的单官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，由二异氰酸酯与、多元醇和丙烯酸或甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。 
作为单官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯 酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟丙基邻苯二甲酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基四氢邻苯二甲酸氢酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙基酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、由2-金刚烷以及金刚烷二醇衍生的具有一元的单(甲基)丙烯酸酯的金刚烷基丙烯酸酯等金刚烷衍生物单(甲基)丙烯酸酯等。 
作为前述2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。 
作为前述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出： 三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯等三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，这些(甲基)丙烯酸酯的一部分被烷基、ε-己内酯取代而得到的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。 
丙烯酸类材料之中，出于可设计所希望的分子量、分子结构并且可容易取得所形成的硬涂层的物性的平衡这样的理由，可优选使用多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯。氨基甲酸酯丙烯酸酯通过使多元醇、多异氰酸酯以及含羟基的丙烯酸酯进行反应而获得。 
另外，也可在电离放射线固化型材料之外还加入热塑性树脂等。作为热塑性树脂，通过加入乙酰基纤维素、硝基纤维素、乙酰基丁基纤维素、乙基纤维素、甲基纤维素等纤维素衍生物，乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯基类树脂，聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂，丙烯酸类树脂及其共聚物、甲基丙烯酸类树脂及其共聚物等丙烯酸类树脂，聚苯乙烯树脂，聚酰胺树脂，线状聚酯树脂，聚碳酸酯树脂等可使用的热塑性树脂，从而可抑制所制造的膜的卷曲。 
另外，在低折射率层形成材料中，可以以不易使指纹等污迹 附着在抗反射膜表面、容易擦去所附着的污迹为目的，加入憎水材料。作为憎水材料可使用(聚)硅氧烷类材料、有机硅化合物、UV固化型憎水剂。作为(聚)硅氧烷类材料，也可使用烷基芳烷基改性硅油、烷基改性硅油、聚醚改性硅油、烷基聚醚改性硅油。进一步也可使用不含氟并且不具有(甲基)丙烯酰基的有机硅化合物。具体也可使用烷基烷氧基硅烷化合物、硅烷硅氧烷化合物、含有聚酯基的硅烷化合物、具有聚醚基的硅烷化合物、硅氧烷化合物。另外，作为UV固化型憎水剂，可使用BYK-350、BYK-3500(BYK-Chemie Japan K.K.制)、F470(DIC株式会社制)等。 
另外，作为粘合基质形成材料，可使用作为热固型材料的硅醇盐的水解物。具体可使用通式(A)RxSi(OR)4-x(并且，式中R表示烷基，x为满足0≤x≤3的整数)所示的硅醇盐的水解物。 
作为由通式(A)表示的硅醇盐，例如可使用：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四五乙氧基硅烷、四五异丙氧基硅烷、四五正丙氧基硅烷、四五正丁氧基硅烷、四五仲丁氧基硅烷、四五叔丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基甲氧基硅烷、二甲基丙氧基硅烷、二甲基丁氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷等。硅醇盐的水解物如果是可以以通式(B)所示的金属醇盐作为原料而获得的物质即可，例如通过利用盐酸进行水解而获得的水解物。 
使用热固型材料即硅醇盐的水解物作为粘合基质形成材料的情况下，可进一步含有作为氟化合物的通式(B)R’zSi(OR)4-z(并且，式中R’表示具有烷基、氟烷基或氟环氧烷基的非反应性官能团，z 为满足1≤z≤3的整数)所示的硅醇盐的水解物以作为憎水材料。使用由通式(B)表示的硅醇盐的水解物，从而可赋予抗反射膜的低折射率层表面以防污性。此外，可进一步降低低折射率层的折射率。作为通式(B)所示的硅醇盐，例如列举出十八烷基三甲氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟辛基三甲氧基硅烷等。 
作为低折射率层形成用涂液中所含的溶剂，考虑涂布适当性等从如下物质之中适宜选择：甲苯、二甲苯、环己烷、环己基苯等芳香族烃类，正己烷等烃类，二丁基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、二噁烷、二氧戊环、三噁烷、四氢呋喃、苯甲醚以及苯乙醚等醚类，另外，甲基异丁基酮、甲基丁基酮、丙酮、甲乙酮、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、以及甲基环己酮等酮类，另外甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、以及γ-丁内酯等酯类，进一步，甲基溶纤剂、溶纤剂、丁基溶纤剂、溶纤剂乙酸酯等溶纤剂类，甲醇、乙醇、异丙醇等醇类，水等。 
另外，在使用用作粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料、通过紫外线进行固化的情况下，向低折射率层形成用涂液添加光聚合引发剂。 
作为光聚合引发剂，如果是在照射了紫外线时产生自由基的物质即可，例如可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类。另外，光聚合引发剂的添加量相对于电离放射线固化型材料优选为0.1wt％以上10wt％以下的范围内，进一步优选为1wt％以上8.5wt％以下。 
另外，在低折射率层形成用涂液中，也可加入表面调整剂、折射率调整剂、密接性提高剂、固化剂等作为添加剂。 
可通过湿式成膜法将调整以上的材料而获得的低折射率层形成用涂液涂布于偏在层(12)上，形成低折射率层的涂膜，形成低折射率层(13)。在以下给出低折射率层的形成方法。 
将低折射率层形成用涂液涂布于偏在层(12)上，形成低折射率层的涂膜。作为用于将低折射率层形成用涂液涂布于偏在层上的涂布方法，可使用使用了辊涂机、逆转辊涂机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀涂布机、刮棒涂布机、丝棒涂布机、模涂布机、浸渍涂布机的涂布方法。另外，本发明的低折射率层(13)为薄的涂膜，需要制成均匀的膜厚，因此优选使用微凹版涂布法。 
接着，偏在层(12)上形成的低折射率层的涂膜通过干燥而去除涂膜中的溶剂。此时作为干燥手段，可使用加热、送风、热风等。另外，关于干燥温度，优选在50℃以上150℃以下的范围内进行适度的加热干燥。 
接着，在使用了电离放射线固化型材料作为粘合基质形成材料的情况下，通过对将低折射率层形成用涂液涂布于偏在层上而获得的低折射率层的涂膜照射电离放射线，从而形成低折射率层(13)。 
作为电离放射线，可使用紫外线、电子射线。紫外线固化的情况下，可利用高压水银灯、低压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧、氙弧等光源。另外，在电子射线固化的情况下，可利用从考克饶夫特-瓦尔顿型、茫德格喇夫型、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、地那米型、高频率型等的各种电子射线加速器排放出的电子射线。电子射线优选具有50～1000KeV的能量。更优选为具有100～300KeV的能量的电子射线。 
本发明的抗反射膜通过辊对辊(roll-to-roll)方式而连续形成。如图2所示，将卷取的网状的透明基材从卷出部(31)连续运行到卷 取部(32)，此时，使透明基材通过涂布单元(21)、干燥单元(22)、电离放射线照射单元(23)，从而在透明基材上连续形成偏在层。其后，使低折射率层同样地通过单元，从而可在偏在层上形成低折射率层，制造抗反射膜。 
实施例 
首先给出对由本实施例获得的抗反射膜的评价方法。 
“光平均反射率的测定” 
对所获得的抗反射膜的与低折射率层形成面侧为相反侧的面进行黑色消光并且通过喷雾而涂布为黑色。涂布后，使用自动分光光度计(日立制作所公司制，U-4000)，对要测定的低折射率层形成面，测定了在C光源、2度视野的条件下的入射角5°时的分光反射率。根据所获得的分光反射率而算出了光平均反射率(Y％)。另外，相对发光度使用了亮处视觉标准相对发光度。 
“雾度(H)、平行光线透射率的测定” 
对于获得的抗反射膜，使用图像清晰度测定器(日本电色工业公司制，NDH-2000)而测定了雾度(H)、平行光线透射率。 
“表面电阻值的测定” 
对于获得的抗反射膜的低折射率层表面，依照JIS-K6911(1995)利用高电阻电阻率计(DIA INSTRUMENTS CO.，LTD.制，Highresistivity meter MCP-HT260)进行了测定。 
“接触角的测定” 
对于获得的抗反射膜的偏在层表面以及低折射率层表面，使用接触角计(协和界面科学公司制CA-X型)，从而在干燥状态(20℃-65％RH)下在针尖制作直径1.8mm的液滴，将它们接触于试样(固体)的表面而制作出液滴。接触角是指固体与液体接触的点处的相对于液体表面的切线与固体表面所形成的角，用包含液体的侧的 角度来定义。作为液体，使用了蒸馏水。另外，作为前述纯水接触角的测定方法，依照JIS-R3257进行了测定。 
“铅笔硬度的测定” 
依照JIS K 5600-5-4(1999)，以500g载荷而测定了各抗反射膜的偏在层表面的铅笔硬度。 
“色不均、干涉条纹的评价” 
对于所获得的抗反射膜，将荧光灯映入低折射率层表面，通过确认反射光而进行了色不均的确认、干涉不均的确认。 
利用目视而确认的评价按照以下的规准进行。 
圆记号：色不均及干涉条纹良好。 
×记号：色不均及干涉条纹不良好。 
“耐擦伤性(钢棉(SW)的评价” 
对于获得的抗反射膜的低折射率层表面，使用学振型摩擦坚牢度试验机(TESTER SANGYO CO.，LTD.制，AB-301)，对光学层叠体的低折射率层表面使用施加了500g/cm2的载荷的钢棉(NihonSteelWool CO.，LTD.制，Bonstar#0000)，擦10个往复，通过目视来评价因擦拭痕迹、创伤等导致的外观的变化。 
利用目视而确认的评价按照以下的规准进行。 
圆记号：无法确认损伤。 
×记号：可确认损伤。 
“铅笔硬度的测定” 
对于获得的抗反射膜的偏在层表面，依照JIS K 5600-5-4(1999)进行铅笔硬度试验，求出了铅笔硬度。 
根据以下的判断基准进行了偏在层中的中间层、硬涂层、抗静电层、流平层的判定。 
“偏在层中的中间层的确认” 
根据在“光平均反射率的测定”的项中求出的分光反射率，进行了有无中间层的确认。具体而言，在所获得的分光反射率曲线中没有确认出对应于偏在层的膜厚的干涉峰的情况判断为有中间层，确认出对应于偏在层的膜厚的干涉峰的情况判断为没有中间层。 
圆记号：有中间层(没有干涉峰) 
×记号：没有中间层(有干涉峰) 
“偏在层中的硬涂层的确认” 
根据在“铅笔硬度的测定”的项中求出的偏在层表面的铅笔硬度，偏在层表面的铅笔硬度为H以上的情况判断为有硬涂层，不足H的情况判断为没有硬涂层。 
圆记号：有硬涂层(铅笔硬度为H以上) 
×记号：没有硬涂层(铅笔硬度不足H) 
“偏在层中的抗静电层的确认” 
根据在“表面电阻值的测定”的项中求出的表面电阻值，进行了有无抗静电层的确认。表面电阻值为表面电阻值1×1010Ω/cm2以下的情况判断为有抗静电层，偏表面电阻值大于表面电阻值1×1010Ω/cm2的情况判断为没有抗静电层。 
圆记号：有抗静电层(表面电阻值为1×1010Ω/cm2以下) 
×记号：没有抗静电层(表面电阻值大于1×1010Ω/cm2) 
另外，对于没有向偏在层形成用涂液加入导电性材料的抗反射膜，没有进行“偏在层中的抗静电层的确认”。 
“偏在层中的流平层的确认” 
关于流平层的存在，通过偏在层表面的接触角以及X射线光电子分光分析装置来确认。偏在层表面的接触角的测定方法如“接触角的测定”所表示的那样。使用X射线光电子分光分析装置 (JPS-90mXVmicro(日本电子制))，进行偏在层表面的表面分析从而判断。接触角为60°以上且在XPS测定中没有检测出导电性材料特有的元素的情况判断为有流平层，接触角不足60°和/或在基于XPS的表面分析中检测出氯的情况判断为没有流平层。另外，按照原子量比为0.1atomic％以下的情况为没有检测。另外，测定时的X射线强度为100W(10kV、10mA)。 
圆记号：有流平层(接触角65°以上，且没有检测出导电性材料特有元素) 
×记号：没有流平层(上述以外) 
另外，对于不向偏在层形成用涂液加入流平材料的抗反射膜，没有进行“偏在层中的流平层的确认”。 
另外，导电性材料特有的元素如下。 
季铵盐材料：Cl 
金属氧化物颗粒(含锑氧化锡)：Sn 
金属氧化物颗粒(含磷氧化锡)：Sn 
导电性高分子(聚噻吩)：S 
导电性高分子(聚苯胺)：N 
接着给出由本实施例制作的抗反射膜的制作方法。 
(A)流平材料：具有酰胺基的化合物×导电性材料：季铵盐材料 
以下，给出使用了具有酰胺基的化合物作为流平材料、使用了季铵盐材料作为导电性材料的情况下的实施例。 
在以下表示偏在层形成涂液A1～A13的(调整例)。 
(合成例1) 
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名： “Blemmer50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0g、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0g、环己基甲基丙烯酸酯14.0g、偶氮二异丁腈0.3g、异丙醇100.0g、甲乙酮40.0g，在氮气气氛下在65℃聚合3小时。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。 
＜调整例A1＞ 
(偏在层形成涂液A1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt%的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A1。 
＜调整例A2＞ 
(偏在层形成涂液A2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备NR-121X-9IPA(COLCOAT CO.,Ltd制/异丙醇分散液)(固体成分)20重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt%的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A2。 
＜调整例A3＞ 
(偏在层形成用涂液A3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、 
N，N-二烯丙基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A3。 
<调整例A4> 
(偏在层形成涂液A4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含有季铵盐的LIGHT ESTER DQ100(共荣社化学公司制，分子量208)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A4。 
<调整例A5> 
(偏在层形成涂液A5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A5。 
<调整例A6> 
(偏在层形成涂液A6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、聚酰胺分子量10000)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量 份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A6。 
<调整例A7> 
(偏在层形成涂液A7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)0.01重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A7。 
<调整例A8> 
(偏在层形成涂液A8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)100重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A8。 
<调整例A9> 
(偏在层形成涂液A9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为 50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A9。 
<调整例A10> 
(偏在层形成涂液A10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A10。 
<调整例A11> 
(偏在层形成涂液A11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A11。 
<调整例A12> 
(硬涂层形成涂液A12) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A12。 
<调整例A13> 
(偏在层形成涂液A13) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液A13。 
在以下示出低折射率层形成涂液A的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液A) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液A。 
[实施例A1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液A1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液A按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置 (Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例A1]的抗反射膜。 
[实施例A2]～[实施例A11] 
在[实施例A2]～[实施例A11]中，使用偏在层形成涂液A2～A11来替代偏在层形成用涂液A1，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A2]～[实施例11]的抗反射膜。 
[实施例A12]～[实施例A14] 
在[实施例A12]中，使用偏在层形成涂液A1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A12]的抗反射膜。 
在[实施例A13]中，使用偏在层形成涂液A1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A13]的抗反射膜。 
在[实施例A14]中，使用偏在层形成涂液A1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A14]的抗反射膜。 
[实施例A15]、[实施例A16] 
在[实施例A15]、[实施例A16]中，使用偏在层形成涂液A12、A13来替代偏在层形成涂液A1，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A15]、[实施例A16]的抗反射膜。 
(表1)汇总示出[实施例A1]～[实施例A16]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例A1]～[实施例A16]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表2)汇总示出评价结果等。 
(B)流平材料：具有酰胺基的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒 
以下给出使用了具有酰胺基的化合物作为流平材料、使用了金属氧化物颗粒作为导电性材料的情况下的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液B1～B11的(调整例)。 
<调整例B1> 
(偏在层形成涂液B1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B1。 
<调整例B2> 
(偏在层形成涂液B2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B2。 
<调整例B3> 
(偏在层形成涂液B3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N，N-二烯丙基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯 50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B3。 
<调整例B4> 
(偏在层形成涂液B4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B4。 
<调整例B5> 
(偏在层形成涂液B5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B5。 
<调整例B6> 
(偏在层形成涂液B6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体 成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B6。 
<调整例B7> 
(偏在层形成涂液B7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B7。 
<调整例B8> 
(偏在层形成涂液B8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液而制成偏在层形成涂液B8。 
<调整例B9> 
(偏在层形成涂液B9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们固体成分按照90wt％的方式进行调液而制成偏在层形成涂液B9。 
<调整例B10> 
(偏在层形成涂液B10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B10。 
<调整例B11> 
(偏在层形成涂液B11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液B11。 
在以下示出低折射率层形成涂液B的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液B) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液B。 
[实施例B1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液B1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为 第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液B按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例B1]的抗反射膜。 
[实施例B2]～[实施例B9] 
在[实施例B2]～[实施例B9]中，使用偏在层形成涂液B2～B9来替代偏在层形成用涂液B1，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B2]～[实施例B9]的抗反射膜。 
[实施例B10]～[实施例B12] 
在[实施例B10]中，使用偏在层形成涂液B1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B10]的抗反射膜。 
在[实施例B11]中，使用偏在层形成涂液B1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B11]的抗反射膜。 
在[实施例B12]中，使用偏在层形成涂液B1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B12]的抗反射膜。 
[实施例B13]、[实施例B14] 
在[实施例B13]、[实施例B14]中，使用偏在层形成涂液B10、B11来替代偏在层形成涂液B1，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B13]、[实施例B14]的抗反射膜。 
(表3)汇总示出[实施例B1]～[实施例B14]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例B1]～[实施例B14]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表4)汇总示出评价结果等。 
(C)流平材料：具有酰胺基的化合物×导电性材料：导电性高分子 
以下给出使用了作为流平材料的具有酰胺基的化合物以及作为导电性材料的导电性高分子时的实施例。 
以下示出偏在层形成涂液C1～C9的(调整例)。 
<调整例C1> 
(偏在层形成涂液C1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C1。 
<调整例C2> 
(偏在层形成涂液C2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径300nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C2。 
<调整例C3> 
(偏在层形成涂液C3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N，N-二烯丙基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50 重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液而制成偏在层形成涂液C3。 
<调整例C4> 
(偏在层形成涂液C4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba JapanK.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C4。 
<调整例C5> 
(偏在层形成涂液C5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C5。 
<调整例C6> 
(偏在层形成涂液C6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C6。 
<调整例C7> 
(偏在层形成涂液C7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、N-乙烯基甲酰胺10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba JapanK.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C7。 
<调整例C8> 
(偏在层形成涂液C8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C8。 
<调整例C9> 
(偏在层形成涂液C9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C9。 
在以下示出低折射率层形成涂液C的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液C) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液C。 
[实施例C1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液C1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射，从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液C按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射，而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例C1]的抗反射膜。 
[实施例C2]～[实施例C7] 
在[实施例C2]～[实施例C7]中，使用偏在层形成涂液C2～C7来替代偏在层形成用涂液C1，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C2]～[实施例C7]的抗反射膜。 
[实施例C8]～[实施例C10] 
在[实施例C8]中，使用偏在层形成涂液C1，将第一干燥温度设为50℃，将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C8]的抗反射膜。 
在[实施例C9]中，使用偏在层形成涂液C1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C9]的抗反射膜。 
在[实施例C10]中，使用偏在层形成涂液C1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C10]的抗反射膜。 
[实施例C11]、[实施例C12] 
在[实施例C11]、[实施例C12]中，使用偏在层形成涂液C8、C9来替代偏在层形成涂液C1，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C11]、[实施例C12]的抗反射膜。 
(表5)汇总示出[实施例C1]～[实施例C12]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例C1]～[实施例C12]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表6)汇总示出评价结果等。 
(D)流平材料：具有丙烯酰基的化合物×导电性材料：季铵盐材料 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丙烯酰基的化合物以及作为导电性材料的季铵盐材料时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液D1～D12的(调整例)。 
(合成例1) 
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名：“Blemmer50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0g、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0g、环己基甲基丙烯酸酯14.0g、偶氮二异丁腈0.3g、异丙醇100.0g、甲乙酮40.0g，在氮气气氛下在65℃进行了3小时聚合。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。 
<调整例D1> 
(偏在层形成涂液D1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D1。 
<调整例D2> 
(偏在层形成涂液D2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备NR-121X-9IPA(COLCOAT CO.，Ltd制/异丙醇分散液)(固体成分)20重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1 重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D2。 
<调整例D3> 
(偏在层形成涂液D3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、BYK-394(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D3。 
<调整例D4> 
(偏在层形成涂液D4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含有季铵盐的LIGHT ESTER DQ100(共荣社化学公司制，重均分子量208)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D4。 
<调整例D5> 
(偏在层形成涂液D5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙 烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D5。 
<调整例D6> 
(偏在层形成涂液D6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)0.01重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D6。 
<调整例D7> 
(偏在层形成涂液D7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)100重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D7。 
<调整例D8> 
(偏在层形成涂液D8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚 合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D1。 
<调整例D9> 
(偏在层形成涂液D9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D9。 
<调整例D10> 
(偏在层形成涂液D10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D10。 
<调整例D11> 
(偏在层形成涂液D11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50 重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液10。 
<调整例D12> 
(偏在层形成涂液D12) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液D12。 
在以下示出低折射率层形成涂液D的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液D) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液D。 
[实施例D1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液D1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射，从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液D按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例D1]的抗反射膜。 
[实施例D2]～[实施例D10] 
在[实施例D2]～[实施例D10]中，使用偏在层形成涂液D2～D10来替代偏在层形成用涂液D1，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D2]～[实施例D10]的抗反射膜。 
[实施例D11]～[实施例D13] 
在[实施例D11]中，使用偏在层形成涂液D1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D11]的抗反射膜。 
在[实施例D12]中，使用偏在层形成涂液D1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D12]的抗反射膜。 
在[实施例D13]中，使用偏在层形成涂液D1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D13]的抗反射膜。 
[实施例D14]、[实施例D15] 
在[实施例D14]、[实施例D15]中，使用偏在层形成涂液D11、D12来替代偏在层形成涂液D1，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D14]、[实施例D15]的抗反射膜。 
(表7)汇总示出[实施例D1]～[实施例D15]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例D1]～[实施例D15]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表8)汇总示出评价结果等。 
(E)流平材料：具有丙烯酰基的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丙烯酰基的化合物以及作为导电性材料的的金属氧化物颗粒时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液E1～E11的(调整例)。 
<调整例E1> 
(偏在层形成涂液E1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E1。 
<调整例E2> 
(偏在层形成涂液E2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E2。 
<调整例E3> 
(偏在层形成涂液E3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-394(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E3。 
<调整例E4> 
(偏在层形成涂液E4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E4。 
<调整例E5> 
(偏在层形成涂液E5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E5。 
<调整例E6> 
(偏在层形成涂液E6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E6。 
<调整例E7> 
(偏在层形成涂液E7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E7。 
<调整例E8> 
(偏在层形成涂液E8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液19。 
<调整例E9> 
(偏在层形成涂液E9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液20。 
<调整例E10> 
(偏在层形成涂液E10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E10。 
<调整例E11> 
(偏在层形成涂液E11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液E11。 
以下表示低折射率层形成涂液E(调整例)。 
(低折射率层形成涂液E) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分 20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液E。 
[实施例E1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液E1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液E按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例E1]的抗反射膜。 
[实施例E2]～[实施例E9] 
在[实施例E2]～[实施例E9]中，使用偏在层形成涂液E2～E9来替代偏在层形成用涂液E1，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E2]～[实施例E9]的抗反射膜。 
[实施例E10]～[实施例E12] 
在[实施例E10]中，使用偏在层形成涂液E1，将第一干燥温 度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E10]的抗反射膜。 
在[实施例E11]中，使用偏在层形成涂液E1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E11]的抗反射膜。 
在[实施例E12]中，使用偏在层形成涂液E1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E12]的抗反射膜。 
[实施例E13]、[实施例E14] 
在[实施例E13]、[实施例E14]中，使用偏在层形成涂液E10、E11来替代偏在层形成涂液E1，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E13]、[实施例E14]的抗反射膜。 
(表9)汇总示出[实施例E1]～[实施例E14]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例E1]～[实施例E14]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表10)汇总示出评价结果等。 
(F)流平材料：具有丙烯酰基的化合物×导电性材料：季铵盐 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丙烯酰基的化合物以及作为导电性材料的导电性高分子时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液F1～F10的(调整例)。 
<调整例F1> 
(偏在层形成涂液F1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F1。 
<调整例F2> 
(偏在层形成涂液F2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚苯胺(平均粒径75nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F2。 
<调整例F3> 
(偏在层形成涂液F3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径300nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重 量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F3。 
<调整例F4> 
(偏在层形成涂液F4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-394(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F4。 
<调整例F5> 
(偏在层形成涂液F5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F5。 
<调整例F6> 
(偏在层形成涂液F6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F6。 
<调整例F7> 
(偏在层形成涂液F7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F7。 
<调整例F8> 
(偏在层形成涂液F8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-350(BYK-Chemie Japan K.K.制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F8。 
<调整例F9> 
(硬涂层形成涂液F9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F9。 
<调整例F10> 
(偏在层形成涂液F10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液F10。 
在以下示出低折射率层形成涂液F的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液F) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液F。 
[实施例F1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液F1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成 了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液F按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射，而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例F1]的抗反射膜。 
[实施例F2]～[实施例F8] 
在[实施例F2]～[实施例F8]中，使用偏在层形成涂液F2～F8来替代偏在层形成用涂液F1，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F2]～[实施例F8]的抗反射膜。 
[实施例F9]～[实施例F11] 
在[实施例F9]中，使用偏在层形成涂液F1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F9]的抗反射膜。 
在[实施例F10]中，使用偏在层形成涂液F1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F10]的抗反射膜。 
在[实施例F11]中，使用偏在层形成涂液F1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F11]的抗反射膜。 
[实施例F12]、[实施例F13] 
在[实施例F12]、[实施例F13]中，使用偏在层形成涂液F9、F10来替代偏在层形成涂液F1，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F12]、[实施例F13]的抗反射膜。 
(表11)汇总示出[实施例F1]～[实施例F13]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例F1]～[实施例F13]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表12)汇总示出评价结果等。 
(G)流平材料：具有丁二烯基的化合物×导电性材料：季铵盐材料 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丁二烯基的化合物以及作为导电性材料的季铵盐材料时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液G1～G11的(调整例)。 
(合成例1) 
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名：“Blemmer50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0g、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0g、环己基甲基丙烯酸酯14.0g、偶氮二异丁腈0.3g、异丙醇100.0g、甲乙酮40.0g，在氮气气氛下在65℃进行了3小时聚合。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后进行干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。 
<调整例G1> 
(偏在层形成涂液G1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G1。 
<调整例G2> 
(偏在层形成涂液G2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备NR-121X-9IPA(COLCOAT CO.，Ltd制/异丙醇分散 液)(固体成分)20重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G2。 
<调整例G3> 
(偏在层形成涂液C3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含有季铵盐的LIGHT ESTER DQ100(共荣社化学公司制，分子量208)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液C3。 
<调整例G4> 
(偏在层形成涂液G4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G4。 
<调整例G5> 
(偏在层形成涂液G5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)0.01重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G5。 
<调整例G6> 
(偏在层形成涂液G6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)100重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G6。 
<调整例G7> 
(偏在层形成涂液G7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G7。 
<调整例G8> 
(偏在层形成涂液G8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G8。 
<调整例G9> 
(偏在层形成涂液G9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G9。 
<调整例G10> 
(偏在层形成涂液G10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G10。 
<调整例G11> 
(偏在层形成涂液G11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G11。 
以下表示低折射率层形成涂液G的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液G) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液G。 
[实施例G1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液G1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液G按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量 192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例G1]的抗反射膜。 
[实施例G2]～[实施例G9] 
在[实施例G2]～[实施例G9]中，使用偏在层形成涂液G2～G9来替代偏在层形成用涂液G1，其它的制造条件与[实施例G1]同样，制作出[实施例G2]～[实施例G9]的抗反射膜。 
[实施例G10]～[实施例G12] 
在[实施例G10]中，使用偏在层形成涂液G1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例G1]同样，制作出[实施例G10]的抗反射膜。 
在[实施例G11]中，使用偏在层形成涂液G1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例G1]同样，制作出[实施例G11]的抗反射膜。 
在[实施例G12]中，使用偏在层形成涂液G1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例G1]同样，制作出[实施例G12]的抗反射膜。 
[实施例G13]、[实施例G14] 
在[实施例G13]、[实施例G14]中，使用偏在层形成涂液G10、G11来替代偏在层形成涂液G1，其它的制造条件与[实施例G1]同样，制作出[实施例G13]、[实施例G14]的抗反射膜。 
(表13)汇总示出[实施例G1]～[实施例G14]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例G1]～[实施例G14]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表14)汇总示出评价结果等。 
(H)流平材料：具有丁二烯基的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丁二烯基的化合物以及作为导电性材料的金属氧化物颗粒时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液H1～H10的(调整例)。 
<调整例H1> 
(偏在层形成涂液H1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H1。 
<调整例H2> 
(偏在层形成涂液H2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H2。 
<调整例H3> 
(偏在层形成涂液H3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成 分)0.01重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H3。 
<调整例H4> 
(偏在层形成涂液H4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H4。 
<调整例H5> 
(偏在层形成涂液H5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H5。 
<调整例H6> 
(偏在层形成涂液H6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5 重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H6。 
<调整例H7> 
(偏在层形成涂液H7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H7。 
<调整例H8> 
(偏在层形成涂液H8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H8。 
<调整例H9> 
(偏在层形成涂液H9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5 重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液H9。 
<调整例H10> 
(偏在层形成涂液H10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液G11。 
在以下示出低折射率层形成涂液H的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液H) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液H。 
[实施例H1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液H1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液H按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例H1]的抗反射膜。 
[实施例H2]～[实施例H8] 
在[实施例H2]～[实施例H8]中，使用偏在层形成涂液H2～H8来替代偏在层形成用涂液H1，其它的制造条件与[实施例H1]同样，制作出[实施例H2]～[实施例H8]的抗反射膜。 
[实施例H9]～[实施例H11] 
在[实施例H9]中，使用偏在层形成涂液H1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例H1]同样，制作出[实施例H9]的抗反射膜。 
在[实施例H10]中，使用偏在层形成涂液H1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例H1]同样，制作出[实施例H10]的抗反射膜。 
在[实施例H11]中，使用偏在层形成涂液H1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例H1]同样，制作出[实施例H11]的抗反射膜。 
[实施例H12]、[实施例H13] 
在[实施例H12]、[实施例H13]中，使用偏在层形成涂液H9、H10来替代偏在层形成涂液H1，其它的制造条件与[实施例H1]同样，制作出[实施例H12]、[实施例H13]的抗反射膜。 
(表15)汇总示出[实施例H1]～[实施例H13]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例H1]～[实施例H13]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表16)汇总示出评价结果等。 
(I)流平材料：具有丁二烯基的化合物×导电性材料：季铵盐 
以下，给出使用了作为流平材料的具有丁二烯基的化合物以及作为导电性材料的导电性高分子时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液I1～I9的(调整例)。 
<调整例I1> 
(偏在层形成涂液I1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I1。 
<调整例I2> 
(偏在层形成涂液I2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚苯胺(平均粒径75nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I2。 
<调整例I3> 
(偏在层形成涂液I3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径1500nm/异丙醇分散液)(固体成分)5 重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I3。 
<调整例I4> 
(偏在层形成涂液I4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)0.01重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I5。 
<调整例I5> 
(偏在层形成涂液I5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I5。 
<调整例I6> 
(偏在层形成涂液I6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I6。 
<调整例I7> 
(偏在层形成涂液I7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2000(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I7。 
<调整例I8> 
(偏在层形成涂液I8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I8。 
<调整例I9> 
(偏在层形成涂液I9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液I9。 
在以下示出低折射率层形成涂液I的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液I) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液I。 
[实施例I1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液I1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液I按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出 [实施例I 1]的抗反射膜。 
[实施例I2]～[实施例I7] 
在[实施例I2]～[实施例I7]中，使用偏在层形成涂液I2～I7来替代偏在层形成用涂液I1，其它的制造条件与[实施例I1]同样，制作出[实施例I2]～[实施例I7]的抗反射膜。 
[实施例I8]～[实施例I10] 
在[实施例I8]中，使用偏在层形成涂液I1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例I1]同样，制作出[实施例I8]的抗反射膜。 
在[实施例I9]中，使用偏在层形成涂液I1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例I1]同样，制作出[实施例I9]的抗反射膜。 
在[实施例I10]中，使用偏在层形成涂液I1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例I1]同样，制作出[实施例I10]的抗反射膜。 
[实施例I11]、[实施例I12] 
在[实施例I11]、[实施例I12]中，使用偏在层形成涂液I8、I9来替代偏在层形成涂液I1，其它的制造条件与[实施例I1]同样，制作出[实施例I11]、[实施例I12]的抗反射膜。 
(表17)汇总示出[实施例I1]～[实施例I12]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例I1]～[实施例I12]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表18)汇总示出评价结果等。 
(J)流平材料：具有烯烃基的化合物×导电性材料：季铵盐材料 
以下，给出使用了具有烯烃基的化合物作为流平材料、使用了季铵盐材料作为导电性材料的情况下的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液J1～J11的(调整例)。 
(合成例1) 
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名：“Blemmer50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0I、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0I、环己基甲基丙烯酸酯14.0I、偶氮二异丁腈0.3I、异丙醇100.0I、甲乙酮40.0I，在氮气气氛下在65℃进行了3小时聚合。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。 
＜调整例J1＞ 
(偏在层形成涂液J1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J1。 
＜调整例J2＞ 
(偏在层形成涂液J2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备NR-121X-9IPA(COLCOAT CO.,Ltd制/异丙醇分散液)(固体成分)20重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司 
制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J2。 
<调整例J3> 
(偏在层形成涂液J3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含有季铵盐的LIGHT ESTER DQ100(共荣社化学公司制，分子量208)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J3。 
<调整例J4> 
(偏在层形成涂液J4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J4。 
<调整例J5> 
(偏在层形成涂液J5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)0.01 重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J5。 
<调整例J6> 
(偏在层形成涂液J6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)100重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J6。 
<调整例J7> 
(偏在层形成涂液J7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J7。 
<调整例J8> 
(偏在层形成涂液J8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J8。 
<调整例J9> 
(偏在层形成涂液J9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J9。 
<调整例J10> 
(偏在层形成涂液J10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备由合成例1制作的季铵盐材料(重均分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J10。 
<调整例J11> 
(偏在层形成涂液J11) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液J10。 
在以下示出低折射率层形成涂液J的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液J) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液J。 
[实施例J1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液J1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液J按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出 [实施例J1]的抗反射膜。 
[实施例J2]～[实施例J9] 
在[实施例J2]～[实施例J9]中，使用偏在层形成涂液J2～J9来替代偏在层形成用涂液J1，其它的制造条件与[实施例J1]同样，制作出[实施例J2]～[实施例J9]的抗反射膜。 
[实施例J10]～[实施例J12] 
在[实施例J10]中，使用偏在层形成涂液J1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例J1]同样，制作出[实施例J10]的抗反射膜。 
在[实施例J11]中，使用偏在层形成涂液J1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例J1]同样，制作出[实施例J11]的抗反射膜。 
在[实施例J12]中，使用偏在层形成涂液J1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例J1]同样，制作出[实施例J12]的抗反射膜。 
[实施例J13]、[实施例J14] 
在[实施例J13]、[实施例J14]中，使用偏在层形成涂液J10、J11来替代偏在层形成涂液J1，其它的制造条件与[实施例J1]同样，制作出[实施例J13]、[实施例J14]的抗反射膜。 
(表19)汇总示出[实施例J1]～[实施例J14]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例J1]～[实施例J14]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表20)汇总示出评价结果等。 
(K)流平材料：具有烯烃基的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒 
以下，给出使用了作为流平材料的具有烯烃基的化合物以及作为导电性材料的金属氧化物颗粒时的实施例。 
在以下示出偏在层形成涂液K1～K10的(调整例)。 
<调整例K1> 
(偏在层形成涂液K1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K1。 
<调整例K2> 
(偏在层形成涂液K2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K2。 
<调整例K3> 
(偏在层形成涂液K3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K3。 
<调整例K4> 
(偏在层形成涂液K4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K4。 
<调整例K5> 
(偏在层形成涂液K5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K5。 
<调整例K6> 
(偏在层形成涂液K6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K6。 
<调整例K7> 
(偏在层形成涂液K7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K7。 
<调整例K8> 
(偏在层形成涂液K8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K8。 
<调整例K9> 
(偏在层形成涂液K9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K9。 
<调整例K10> 
(偏在层形成涂液K10) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液K10。 
在以下示出低折射率层形成涂液K的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液K) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液K。 
[实施例K1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的 单面涂布偏在层形成涂液K1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液K按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源K Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例K1]的抗反射膜。 
[实施例K2]～[实施例K8] 
在[实施例K2]～[实施例K8]中，使用偏在层形成涂液K2～K8来替代偏在层形成用涂液K1，其它的制造条件与[实施例K1]同样，制作出[实施例K2]～[实施例K8]的抗反射膜。 
[实施例K9]～[实施例K11] 
在[实施例K9]中，使用偏在层形成涂液K1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例K1]同样，制作出[实施例K9]的抗反射膜。 
在[实施例K10]中，使用偏在层形成涂液K1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例K1]同样，制作出[实施例K10]的抗反射膜。 
在[实施例K11]中，使用偏在层形成涂液K1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例K1]同样，制作出[实施例K11]的抗反射膜。 
[实施例K12]、[实施例K13] 
在[实施例K12]、[实施例K13]中，使用偏在层形成涂液K9、K10来替代偏在层形成涂液K1，其它的制造条件与[实施例K1]同样，制作出[实施例K12]、[实施例K13]的抗反射膜。 
(表21)汇总示出[实施例K1]～[实施例K13]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例K1]～[实施例K13]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表22)汇总示出评价结果等。 
(L)流平材料：具有烯烃基的化合物×导电性材料：季铵盐 
以下，给出使用了作为流平材料的具有烯烃基的化合物以及作为导电性材料的导电性高分子时的实施例。 
以下表示偏在层形成涂液L1～L9的(调整例)。 
<调整例L1> 
(偏在层形成涂液L1) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液18。 
<调整例L2> 
(偏在层形成涂液L2) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚苯胺(平均粒径75nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L2。 
<调整例L3> 
(偏在层形成涂液L3) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径300nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重 量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L3。 
<调整例L4> 
(偏在层形成涂液L4) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L4。 
<调整例L5> 
(偏在层形成涂液L5) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L5。 
<调整例L6> 
(偏在层形成涂液L6) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L6。 
<调整例L7> 
(偏在层形成涂液L7) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、FLOWLEN AC2200HF(共荣社化学公司制)0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L7。 
<调整例L8> 
(偏在层形成涂液L8) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、准备聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L8。 
<调整例L9> 
(偏在层形成涂液L9) 
相对氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重 量份、准备二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成偏在层形成涂液L9。 
在以下示出低折射率层形成涂液L的(调整例)。 
(低折射率层形成涂液L) 
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制Irgacure 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成低折射率层形成涂液L。 
[实施例L1] 
(偏在层的形成) 
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液L1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。 
(低折射率层的形成) 
在形成的偏在层上，将低折射率层形成涂液L按照干燥后的膜厚为100nm的方式进行了涂布。第一干燥以温度25℃进行了25秒后，第二干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems JapanKK.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出 [实施例L1]的抗反射膜。 
[实施例L2]～[实施例L7] 
在[实施例L2]～[实施例L7]中，使用偏在层形成涂液L2～L7来替代偏在层形成用涂液L1，其它的制造条件与[实施例L1]同样，制作出[实施例L2]～[实施例L7]的抗反射膜。 
[实施例L8]～[实施例L10] 
在[实施例L8]中，使用偏在层形成涂液L1，将第一干燥温度设为50℃、将第二干燥温度设为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例L1]同样，制作出[实施例L8]的抗反射膜。 
在[实施例L9]中，使用偏在层形成涂液L1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例L1]同样，制作出[实施例L9]的抗反射膜。 
在[实施例L10]中，使用偏在层形成涂液L1，将第一次干燥温度及第二次干燥温度都设为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例L1]同样，制作出[实施例L10]的抗反射膜。 
[实施例L11]、[实施例L12] 
在[实施例L11]、[实施例L12]中，使用偏在层形成涂液L8、L9来替代偏在层形成涂液L1，其它的制造条件与[实施例L1]同样，制作出[实施例L11]、[实施例L12]的抗反射膜。 
(表23)汇总示出[实施例L1]～[实施例L12]中的制造条件。 
对于所获得的[实施例L1]～[实施例L12]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外，确认出偏在层中的各层的形成状态。(表24)汇总示出评价结果等。 
根据实施例的结果可知，通过将偏在层设为由中间层、硬涂层、抗静电层、流平层构成的抗反射膜范围内，可提供具备低的制造成本、优异的光学特性、高的耐擦伤性和抗静电性能的抗反射膜。 
附图说明 
1抗反射膜 
11透明基材 
12偏在层 
12a中间层 
12b硬涂层 
12c抗静电层 
12d流平层 
13低折射率层 
21涂布单元 
22干燥单元 
22a第一次干燥单元 
22b第二次干燥单元 
23电离放射线照射单元 
31卷出部 
32卷取部 

Claims (19)

1.一种抗反射膜，其特征在于，其为在透明基材的至少一个面按照偏在层和低折射率层的顺序层叠而得到的抗反射膜，所述偏在层通过至少从透明基材侧将中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到。
2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，所述抗反射膜的平行光线透射率为93％以上，且所述抗反射膜的雾度在1.0％以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值在1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角在80°以上130°以下的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其特征在于，所述流平层中所含的流平材料是从具有酰胺基的化合物、具有丙烯酰基的化合物、具有丁二烯基的化合物、具有烯烃基的化合物中选出的。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料是从季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子中选出的。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且所述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且所述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有酰胺基的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且所述具有酰胺基的化合物的分子量(A)为100000以下。
8.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且所述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。
9.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且所述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。
10.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丙烯酰基的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且所述具有丙烯酰基的化合物的分子量(B)为100000以下。
11.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且所述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。
12.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且所述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。
13.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有丁二烯基的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且所述具有丁二烯基的化合物的分子量(C)为100000以下。
14.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且所述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。
15.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下，且所述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。
16.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有烯烃基的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1000nm以下，且所述具有烯烃基的化合物的分子量(D)为100000以下。
17.一种抗反射膜的制造方法，其特征在于，其为在透明基材的至少一个面按照偏在层和低折射率层的顺序层叠而得到的抗反射膜的制造方法，
所述抗反射膜的制造方法顺次具备如下工序：
形成偏在层的涂膜的涂布工序，在所述透明基材的至少一个面涂布偏在层形成涂液，该溶液包含电离放射线固化型材料和导电性材料和流平材料和溶剂，
对所述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序，
向所述偏在层的涂膜照射电离放射线，形成偏在层的硬膜化工序，
涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液，形成低折射率层的涂膜的涂布工序，
将所述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序，
形成所述低折射率层的硬膜化工序；且
所述偏在层通过将中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到。
18.根据权利要求17所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，所述偏在层形成涂液中所含的全部溶剂之中30wt％以上的溶剂为可溶解或溶胀透明基材的溶剂，且在所述偏在层形成涂液中以25wt％以上85wt％以下的范围内的比例包含溶剂。
19.根据权利要求17或18所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，将所述偏在层的涂膜干燥的干燥工序包含：在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥、以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥这样的二阶段连续干燥。
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