JP2015014750A - 帯電防止機能付きハードコート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】帯電防止剤として4級アンモニウム塩、多官能アクリレート、光重合開始剤、溶剤から成るハードコート組成物であって、4級アンモニウム塩の分子量を1000以上300000以下の範囲内にすることによって、前記ハードコート組成物を透明基材上に塗工したハードコート層の最表面の塩素原子の存在率(X)が0.1at%以上0.3at%以下、前記ハードコート層の最表面を布地で拭く操作を行った後の塩素原子の存在率(Y)が0.1at%以上0.3at%以下、および0.95≦Y/X≦1を満たすものである。
【選択図】図1
Description
《1》一態様において、光学積層体に用いられる帯電防止機能付きハードコート層が提供される。このハードコート層は、塗布したハードコート組成物に電離放射線照射することで形成された層である。このハードコート組成物は、4級アンモニウム塩ポリマー、多官能アクリレート、光重合開始剤、溶剤を含む。そして、上述のハードコート層は、X線光電子分光分析で得られた、その最表面の塩素原子の存在率が0.1at%以上0.3at%以下の範囲にある。
《2》一実施形態において、上述のハードコート層の最表面を布地で拭く操作を行った後に、前記ハードコート層の最表面をX線光電子分光分析して得られた塩素原子の存在率が0.1at%以上0.3at%以下の範囲にある。
《3》一実施形態において、上述のハードコート層表面をX線光電子分光分析を用いて解析し得られた塩素原子の全存在率をXat%とし、前記ハードコート層の最表面を布地で拭く操作を行った後に、前記ハードコート層の最表面をX線光電子分光分析を用いて解析して得られた塩素原子の存在率をY(at%)とした場合、
0.95≦Y/X≦1 (1)
を満たす、請求項1又は2に記載の帯電防止機能付きハードコート層とした。
《4》一実施形態において、上述の4級アンモニウム塩ポリマーの重量平均分子量は、1000以上300000以下の範囲内にある。
《5》別の態様において、帯電防止機能付きハードコートフィルムが提供される。この帯電防止機能付きハードコートフィルムは、上述した帯電防止機能付きハードコート層のいずれか、透明基材を順に備える。
《6》一実施形態において、上述のハードコートフィルムは、その透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂により構成され得る。
《7》別の態様において、帯電防止機能付き反射防止フィルムが提供される。この帯電防止機能付き反射防止フィルムは、上述した帯電防止機能付きハードコートフィルムのいずれかの表面に反射防止層を設けてもよい。
Ek=hν−Eb−φ (A)
ここで、内殻電子のエネルギーレベル(束縛エネルギー)Ebは、元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。また、右辺の第3項φは、装置や試料の仕事関数である。一方、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離はせいぜい数十Åである。XPS装置を用いて、試料表面から放出された光電子の運動エネルギーEkとその数を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、量、および化学状態の分析ができる。
0.95≦Y/X≦1
Y/X<0.95の場合、長期の使用により表面抵抗値の悪化が懸念されるためである。
RxSi(OR)4−x (2)
(但し、式中R基は、アルキル基を示し、整数xは、0≦x≦3を満たす)
一般式(2)で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されない。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式(2)で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
R’zSi(OR)4−z (3)
(但し、式中R’基は、アルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、整数zは1≦z≦3を満たす)
一般式(3)で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これに限定されない。
<透明基材>
透明基材として、厚さ60μm、トリアセチルセルロースフィルム(屈折率1.49)を用意した。
<4級アンモニウム塩ポリマーの作製>
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコ内で、次の一覧に示した化合物を混合して、窒素雰囲気、70℃の条件下で4時間に亘り重合反応を行った。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
36重量部
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド
70重量部
シクロヘキシルメタクリレート
28重量部
アゾビスイソブチロニトリル
1重量部
イソプロピルアルコール
200重量部
メチルエチルケトン
80重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
この重合反応が完了した後、反応液をヘキサン中に投入し、その生成物を析出させた後乾燥させ、4級アンモニウム塩ポリマーを得た。得られた4級アンモニウム塩ポリマーの平均分子量は2100であった。
<ハードコート組成物の調製>
ハードコート組成物は、次の一覧に示した化合物を混合し、これをメチルエチルケトンで固形分50%に調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
作製した4級アンモニウム塩ポリマー(固形分比) 5重量部
ウレタンアクリレート 100重量部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート 20重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 30重量部
Irgacure184 5重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ここで、Irgacure184は既述のとおり、光重合開始剤である。
<ハードコート層の作製>
上記ハードコート組成物を透明基材上にワイヤーバーコーターにより塗布し、塗膜を形成し、20秒間に亘り室温(25℃)で乾燥した。その後、当該塗膜を、オーブンで40秒間に亘り80℃で乾燥した。この乾燥の後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量200mJ/cm2で紫外線照射をおこなうことにより、透明基材上に厚さ5μmの帯電防止機能付きハードコート層を作製した。
<低屈折率コーティング塗液>
次の一覧に示した化合物を攪拌し、混合させることで低屈折率コーティング塗液を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
多孔質シリカ微粒子分散液
(平均粒子径50nm、固形分20重量部、溶剤:メチルイソブチルケトン)
14.94重量部
EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.99重量部
Irgacure184 0.07重量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル 0.20重量部
メチルイソブチルケトン 82重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ここで、ポリエーテル変性シリコーンオイルとしては、TSF4460(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)を用いた。
<反射防止層の作製>
上記低屈折率コーティング塗液を、上述の手順に従い透明基材上に形成したハードコート層に対して、ワイヤーバーコーターにより塗布し、塗膜を形成し、20秒間に亘り室温(25℃)で乾燥をおこなった。その後、オーブンで40秒間にわたり60℃で乾燥をおこなった。乾燥後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量240mJ/cm2の紫外線照射をおこなうことにより、反射防止層を作製した。
<透明基材>
透明基材として、厚さ80μm、アクリル樹脂(屈折率1.49)を用意した。
<4級アンモニウム塩ポリマーの作製>
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコ内で、次の一覧に示した化合物を混合して、窒素雰囲気下、75℃の条件下で4時間に亘り重合反応を行った。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
36重量部
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド 70重量部
シクロヘキシルメタクリレート 28重量部
アゾビスイソブチロニトリル 0.4重量部
イソプロピルアルコール 200重量部
メチルエチルケトン 80重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
この重合反応が完了した後、反応液をヘキサン中に投入し、その生成物を析出させた後これを乾燥した。得られた4級アンモニウム塩ポリマーの平均分子量は、254000であった。
<ハードコート組成物>
ハードコート組成物は、次の一覧に示した化合物を混合し、これをアセトン、メタノール混合溶液で固形分50%に調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
作製した4級アンモニウム塩ポリマー(固形分比) 5重量部
ウレタンアクリレート 100重量部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート 20重量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 30重量部
ジフェニル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキシド 5重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ここで、ジフェニル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキシドとしては、Omnirad TPO(DKSH製)を用いた。
<ハードコート層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、ハードコート層を作製した。
<低屈折率コーティング塗液>
実施例1と同様の操作を行い、低屈折率コーティング塗液を得た。
<反射防止層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、反射防止層を作製した。
<透明基材>
透明基材は実施例1と同じものを用いた。
<4級アンモニウム塩ポリマーの作製>
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、次の一覧に示した化合物を混合して、窒素雰囲気下、55℃の条件下で3時間に亘り重合反応を行った。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
36重量部
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド 70重量部
シクロヘキシルメタクリレート 28重量部
アゾビスイソブチロニトリル 1.6重量部
イソプロピルアルコール 200重量部
メチルエチルケトン 80重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
この重合反応が完了した後、反応液をヘキサン中に投入し、その生成物を析出させた後乾燥した。得られた4級アンモニウム塩ポリマーの平均分子量は950であった。
<ハードコート組成物>
実施例1と同様の操作を行い、ハードコート層を作製した。
<ハードコート層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、ハードコート層を作製した。
<低屈折率コーティング塗液>
実施例1と同様の操作を行い、低屈折率コーティング塗液を得た。
<反射防止層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、反射防止層を作製することを試みたが、作製したハードコート層の作製過程でハードコート組成物を用いて形成した塗膜が白濁したため、低屈折率層を形成することができなかった。
<透明基材>
透明基材は実施例1と同じものを用いた。
<4級アンモニウム塩ポリマーの作製>
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、次の一覧に示した化合物を混合して、窒素雰囲気下、80℃の条件下で4時間に亘り重合反応を行った。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
36重量部
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド 70重量部
シクロヘキシルメタクリレート 28重量部
アゾビスイソブチロニトリル 0.4重量部
イソプロピルアルコール 200重量部
メチルエチルケトン 80重量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
この重合反応が完了した後、反応液をヘキサン中に投入し、その生成物を析出させた後乾燥した。得られた4級アンモニウム塩ポリマーの平均分子量は328000であった。
<ハードコート組成物>
実施例1と同様の操作を行い、ハードコート層を作製した。
<ハードコート層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、ハードコート層を作製した。
<低屈折率コーティング塗液>
実施例1と同様の操作を行い、低屈折率コーティング塗液を得た。
<反射防止層の作製>
実施例1と同様の操作を行い、反射防止層を作製した。
実施例および比較例に係る反射防止フィルム等を以下に示すように評価した。
測定対象とするフィルムの各々において、低屈折率層を形成する前段階の透明基材上にハードコート層を設けたハードコート(図1を参照)につき、所定条件下で、塩素原子の存在率、表面抵抗値を測定した。
塩素原子の存在は、X線光電子分光分析装置により確認した。X線光電子分光分析装置(Quantum2000(ULVAC PHI製))を用い、ハードコート層表面について測定した。なお、測定の際のX線強度は100W(10kV、10mA)とし、検出量が0.1at%未満の場合、不検出とした。
測定対象とする反射防止フィルムについて、表面抵抗値の測定を、JIS K6911に準拠して行った。
測定対象とする反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計(日立製作所社製、U−4100)を用い測定した低屈折率層形成面についてC光源、2度視野の条件下での入射角5°における分光反射率を測定した。得られた分光反射率から平均視感反射率を算出した。
比較例1では、初期状態、拭き操作後の状態、加熱操作・拭き操作後の状態に応じて、ハードコート層における塩素原子の存在率および表面抵抗値は変化した。これは、4級アンモニウム塩ポリマーの分子量が950であり、その分子量が小さいためにハードコート層表面側に4級アンモニウム塩ポリマーが過剰に偏在した状態で当該層の形成が成され、拭き操作によって、その偏在した4級アンモニウム塩ポリマーの成分が除去されてしまったことに起因すると考えられる。また、ハードコート層表面に4級アンモニウム塩ポリマーが過剰に偏在したことにより、低屈折率層の作製時に塗膜が白濁したため、低屈折率層を形成することができなかった。
2:帯電防止機能付き反射防止フィルム
11:透明基材
12:帯電防止機能付きハードコート
21:低屈折率層
Claims (7)
- 光学積層体に用いられる帯電防止機能付きハードコート層であって、
当該ハードコート層は、塗布したハードコート組成物に電離放射線照射することで形成された層であり、当該ハードコート組成物は、4級アンモニウム塩ポリマー、多官能アクリレート、光重合開始剤、および溶剤を含み、
X線光電子分光分析して得られた、前記ハードコート層の最表面の塩素原子の存在率は、0.1at%以上0.3at%以下の範囲にある、帯電防止機能付きハードコート層。 - 前記ハードコート層の最表面を布地で拭く操作を行った後に、前記ハードコート層の最表面をX線光電子分光分析して得られた塩素原子の存在率が0.1at%以上0.3at%以下の範囲にある、請求項1記載の帯電防止機能付きハードコート層。
- X線光電子分光分析して得られた前記ハードコート層表面の塩素原子の全存在率Xat%が、前記ハードコート層の最表面を布地で拭く操作を行った後に、前記ハードコート層の最表面をX線光電子分光解析して得られた塩素原子の存在率をYat%とした場合、
0.95≦Y/X≦1 (1)
を満たす、請求項1又は2に記載の帯電防止機能付きハードコート層。 - 前記4級アンモニウム塩ポリマーの重量平均分子量が1000以上300000以下の範囲内である、請求項1から3までのいずれかに記載の帯電防止機能付きハードコート層。
- 請求項1から4までのいずれかに記載の帯電防止機能付きハードコート層、透明基材を順に備える、帯電防止機能付きハードコートフィルム。
- 上記透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂により構成される、請求項5に記載の帯電防止機能付きハードコートフィルム。
- 請求項5又は請求項6に記載の帯電防止機能付きハードコートフィルム表面に反射防止層を設けた、帯電防止機能付き反射防止フィルム。
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---|---|---|---|---|
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