KR101807889B1 - 반사 방지 필름 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제조 비용이 낮고, 우수한 광학 특성, 우수한 내찰상성 및 대전 방지 기능을 구비하는 반사 방지 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 또한, 본 발명의 해결 수단은 투명 기재의 적어도 한쪽 면에 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름이며, 상기 편재층은 적어도 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 도전성 재료를 포함하는 대전 방지층, 레벨링 재료를 포함하는 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되고, 상기 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름으로 하는 것이다.

Description

반사 방지 필름 및 그의 제조 방법{ANTI-REFLECTIVE FILM AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 창이나 디스플레이 등의 표면에 외광이 반사되는 것을 방지하는 것을 목적으로 하여 설치되는 반사 방지 필름에 관한 것이다. 특히, 액정 디스플레이(LCD), CRT 디스플레이, 유기 전계 발광 디스플레이(ELD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 표면 전계 디스플레이(SED), 전계 방출 디스플레이(FED) 등의 디스플레이의 표면에 설치되는 반사 방지 필름에 관한 것이다. 특히, 액정 디스플레이 (LCD) 표면에 설치되는 반사 방지 필름에 관한 것이다. 또한, 투과형 액정 디스플레이(LCD) 표면에 설치되는 반사 방지 필름에 관한 것이다.
일반적으로 디스플레이는 실내외에서의 사용을 불문하고, 외광 등이 입사되는 환경 하에서 사용된다. 이 외광 등의 입사광은 디스플레이 표면 등에 있어서 정반사되어, 그에 의한 반사상이 표시 화상과 혼합됨으로써 화면 표시 품질을 저하시키게 된다. 그로 인해, 디스플레이 표면 등에 반사 방지 기능을 부여하는 것은 필수이며, 반사 방지 기능의 고성능화, 반사 방지 기능 이외의 기능의 복합화가 요구되고 있다.
일반적으로 반사 방지 기능은 투명 기재 상에 금속 산화물 등의 투명 재료를 포함하는 고굴절률층과 저굴절률층의 반복 구조에 의한 다층 구조의 반사 방지층을 형성함으로써 얻어진다. 이들 다층 구조를 포함하는 반사 방지층은 화학 증착 (CVD)법이나 물리 증착(PVD)법과 같은 건식 성막법에 의해 형성할 수 있다.
건식 성막법을 이용하여 반사 방지층을 형성하는 경우에 있어서는, 저굴절률층, 고굴절률층의 막 두께를 정밀하게 제어할 수 있다고 하는 이점이 있는 한편, 성막을 진공 중에서 행하기 때문에 생산성이 낮아 대량 생산에 적합하지 않다고 하는 문제를 안고 있다. 한편, 반사 방지층의 형성 방법으로서 대면적화, 연속 생산, 저비용화가 가능한 도포액을 이용한 습식 성막법에 의한 반사 방지막의 생산이 주목받고 있다.
또한, 이들 반사 방지층이 투명 기재 상에 형성되어 있는 반사 방지 필름에 있어서는, 그 표면이 비교적 유연하기 때문에, 표면 경도를 부여하기 위하여 일반적으로 아크릴계 재료를 경화하여 얻어지는 하드 코팅층을 형성하고, 그 위에 반사 방지층을 형성한다고 하는 수법이 이용되고 있다. 이 하드 코팅층은 아크릴계 재료에 의해 높은 표면 경도, 광택성, 투명성, 내찰상성을 갖는다.
습식 성막법에 의해 반사 방지층을 형성하는 경우, 이들 전리 방사선 경화형 재료를 경화하여 얻어지는 하드 코팅층 상에 적어도 저굴절률층을 도포하여 제조되는 것이며, 건식 성막법과 비교하여 저렴하게 제조할 수 있는 장점이 있어 시장에서 널리 이용되고 있다.
일본 특허 공개 제2005-202389호 공보 일본 특허 공개 제2005-199707호 공보 일본 특허 공개 (평)11-92750호 공보 일본 특허 공개 제2007-121993호 공보 일본 특허 공개 제2005-144849호 공보 일본 특허 공개 제2006-159415호 공보 일본 특허 공개 제2007-332181호 공보
반사 방지 필름을 디스플레이 표면에 설치함으로써, 그의 반사 방지 기능에 의해 외광의 반사를 억제할 수 있고, 명소(明所)에서의 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.
또한, 동시에 투과율을 향상시킬 수 있기 때문에 화상을 보다 밝게 표시 가능하게 할 수 있다. 또한, 백라이트의 출력 등을 억제하는 에너지 절약 효과도 기대할 수 있다.
반사 방지 필름에 있어서는 제조 비용이 낮은 반사 방지 필름이 요구되고 있다. 또한, 반사 방지 필름에 있어서는 반사 방지 성능이나 간섭 불균일이 없는 광학 특성이 우수한 반사 방지 필름이 요구되고 있다. 또한, 반사 방지 필름에 있어서는 디스플레이 표면에 설치되기 때문에 높은 내찰상성이 요구되고 있다. 또한, 반사 방지 필름에 있어서는 먼지 부착 방지를 위하여 대전 방지 기능을 구비한 반사 방지 필름이 요구되고 있다. 본 발명에 있어서는, 제조 비용이 낮고, 우수한 광학 특성, 우수한 내찰상성 및 대전 방지 기능을 구비하는 반사 방지 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여 청구항 1에 관한 발명으로서는, 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름이며, 상기 편재층은 적어도 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 도전성 재료를 포함하는 대전 방지층, 레벨링 재료를 포함하는 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되고, 상기 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 2에 관한 발명으로서는, 상기 반사 방지 필름의 평행 광선 투과율이 93% 이상이고, 상기 반사 방지 필름의 헤이즈가 1.0% 이하의 범위 내이고, 상기 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 표면 저항치가 1×105Ω/cm2 이상 1×1012Ω/cm2 이하의 범위 내이고, 상기 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 순수(純水) 접촉각이 80°이상 130°이하의 범위 내인 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 3에 관한 발명으로서는, 상기 불소를 갖는 화합물이 퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물 또는 불소화 알케닐기를 갖는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 4에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료, 금속 산화물 입자, 도전성 고분자로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 5에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고, 상기 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고, 상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 6에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고, 상기 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고, 상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 7에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고, 상기 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고, 상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 8에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하고, 상기 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고, 상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 9에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물이고, 상기 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고, 상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 10에 관한 발명으로서는, 상기 도전층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고, 상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하고, 상기 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고, 상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지 필름으로 하였다.
또한, 청구항 11에 관한 발명으로서는, 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름의 제조 방법이며, 상기 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 전리 방사선 경화형 재료와 도전성 재료와 레벨링 재료와 용제를 포함하는 편재층 형성 도포액을 도포하여 편재층의 도막을 형성하는 도포 공정과, 상기 편재층의 도막에 1차 건조와 2차 건조를 실시하는 건조 공정과, 상기 편재층의 도막에 전리 방사선을 조사하여 편재층을 형성하는 경막 공정과, 저굴절률층 형성 재료와 용제를 포함하는 저굴절률층 형성 도포액을 도포하여 저굴절률층의 도막을 형성하는 도포 공정과, 상기 저굴절률층의 도막을 건조시키는 건조 공정과, 상기 저굴절률층을 형성하는 경막 공정을 순서대로 구비하고, 상기 편재층이 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되고, 상기 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법으로 하였다.
또한, 청구항 12에 관한 발명으로서는, 상기 편재층 형성 도포액에 포함되는 전체 용매 중 30중량% 이상의 용매가 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매이고, 상기 편재층 형성 도포액 중에 용매가 25중량% 이상 85중량% 이하의 범위 내의 비율로 포함되는 것을 특징으로 하는 청구항 11에 기재된 반사 방지 필름의 제조 방법으로 하였다.
또한, 청구항 13에 관한 발명으로서는, 상기 편재층의 도막을 건조시키는 건조 공정이, 건조 온도 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 1차 건조와, 건조 온도 40℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 2차 건조의 2단계의 연속되는 건조를 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 11 또는 청구항 12에 기재된 반사 방지 필름의 제조 방법으로 하였다.
본 발명의 반사 방지 필름 및 반사 방지 필름의 제조 방법에 있어서는, 낮은 제조 비용과 우수한 광학 특성, 높은 내찰상성, 대전 방지 성능을 구비하는 반사 방지 필름을 제공할 수 있었다. 특히, 내찰상성이 우수한 반사 방지 필름으로 할 수 있었다.
도 1은 본 발명의 일 실시예의 반사 방지 필름의 단면 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예의 반사 방지 필름의 제조 공정의 개략도이다.
본 발명의 반사 방지 필름에 대하여 설명한다. 도 1에 본 발명의 반사 방지 필름(1)의 단면 모식도를 도시하였다.
본 발명의 반사 방지 필름(1)에 있어서는, 투명 기재(11)의 적어도 한쪽 면에 투명 기재측으로부터 순서대로 편재층(12), 저굴절률층(13)을 순서대로 구비한다. 편재층(12)은 바인더 매트릭스(binder matrix) 형성 재료인 전리 방사선 경화형 재료와, 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자와, 레벨링 재료를 포함하고 있고, 전리 방사선 재료 등을 전리 방사선으로 경화시켜 바인더 매트릭스를 형성함으로써 반사 방지 필름에 높은 표면 경도를 부여할 수 있다. 여기서, 편재층은 투명 기재측으로부터 순서대로 중간층(12a), 하드 코팅층(12b), 상기 도전성 재료를 편재시킨 대전 방지층(12c), 레벨링 재료를 편재시킨 레벨링층(12d)의 순으로 형성되어 있다. 그리고, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함한다.
투명 기재(11)와 편재층(12)의 계면에는 중간층(12a)이 형성되어 있다. 중간층(12a)에서는 투명 기재 성분과 편재층의 전리 방사 경화형 재료 성분이 혼재되어 있다. 중간층(12a)에 있어서는, 두께 방향으로 투명 기재(11)측으로부터 저굴절률층(13)측을 향하여 투명 기재(11)의 굴절률로부터 하드 코팅층(12b)의 굴절률까지 점차 변화한다.
투명 기재(11)의 굴절률로부터 하드 코팅층(12b)의 굴절률까지 점차 변화하는 중간층(12a)을 형성함으로써, 편재층과 투명 기재의 계면에서 발생하는 간섭 줄무늬의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 중간층은 투명 기재(11)와 편재층(12) 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 중간층에 있어서는, 편재층을 형성할 때에 편재층 형성용 도포액에 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매를 포함시킴으로써 형성할 수 있다.
중간층(12a)은, 얻어지는 반사 방지 필름에 대하여 저굴절률측으로부터 5°입사각으로 분광 반사율을 구함으로써 그 존재를 확인할 수 있다. 얻어지는 분광 반사율로부터 저굴절률층의 층 두께에 대응한 간섭 피크(분광 스펙트럼의 파형에 다수의 리플(ripple)이 보임)가 확인된 경우에는 중간층(12a)은 형성되어 있지 않은 것으로 판단되고, 이면을 흑칠 처리한 외관 검사에 있어서 간섭 줄무늬 불균일이 관찰된다. 한편, 얻어지는 분광 반사율로부터 저굴절률층의 층 두께에 대응한 간섭 피크가 확인되지 않는 경우에는 중간층(12a)은 형성되어 있는 것으로 판단되고, 이면 흑칠 처리에 의한 외관 검사에 있어서 간섭 불균일이 전혀 보이지 않는다.
또한, 간섭 줄무늬, 간섭 불균일이란 광학 간섭에 의한 색 불균일의 일종인데, 주로 투명 기재와 하드 코팅층의 굴절률차에 기인하는 것이며, 막 두께가 두꺼운 경우에 복수의 광학 간섭이 동시에 발생하여 무지개빛상으로 색 불균일이 관찰되는 현상이다. 색 불균일이란 저굴절률층의 막 두께 불균일에 기인하는 반사색 불균일을 말하며, 면 내의 색 변동이 커지는 현상이다.
하드 코팅층(12b)은 주로 전리 방사선 경화형 재료를 성분으로 하고 있으며, 반사 방지 필름의 표면 경도를 향상시켜 내찰상성을 부여하고 있다. 하드 코팅층은 편재층 표면의 연필 경도로부터 형성되어 있는지의 여부를 판단할 수 있다.
또한, 대전 방지층(12c)은 도전성 재료를 편재시키고 있고, 반사 방지 필름에 대전 방지 성능을 부여하고 있다. 도전성 재료를 편재시킴으로써, 도전성 재료를 분산시키는 것보다 사용량을 저하시킬 수 있어 제조 비용을 감소시킬 수 있다. 대전 방지층에 있어서는, 반사 방지 필름의 표면 저항치로부터 대전 방지층이 형성되어 있는지의 여부를 판단할 수 있다.
또한, 레벨링층(12d)은 대전 방지층 상에 레벨링 재료를 편재시키고 있다. 레벨링층은 편재층과 저굴절률층의 밀착성을 향상시켜, 편재층으로부터 저굴절률층이 박리되는 것을 방지하고, 반사 방지 필름에 내찰상성을 부여하고 있다.
본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 편재층(12) 중에서 레벨링층(12d)이 형성되어 있는 것은, X선 광전자 분광 분석 장치(XPS)에 의한 표면 분석에 의해 형성되어 있는지의 여부를 판단할 수 있다.
또한, X선 광전자 분광 분석 장치(XPS)에 의한 깊이 방향 분석(깊이 프로파일)에 의해 레벨링층 밑의 대전 방지층(12c)의 유무를 판단할 수도 있다.
XPS는 시료 표면의 화학 상태를 분석하는 장치이다. 시료에 X선(에너지: hν)을 조사하면, 광전 효과에 의해 원소 내의 내각 전자가 방출되고, 이때의 광전자의 운동 에너지(Ek)는 일반식 (A) Ek=hν-Eb-φ로 표시된다. 여기서, Eb는 내각 전자의 에너지 레벨(속박 에너지)이고, φ는 장치나 시료의 일함수이다. 또한, Eb는 원소 고유의 값으로, 그 원소의 화학 상태에 따라 변화한다. 한편, 고체 내에서 전자가 에너지를 유지한 채로 통과할 수 있는 거리는 겨우 수십Å이다. XPS는 시료 표면으로부터 방출된 광전자의 Ek와 그 수를 측정함으로써, 시료 표면으로부터 수십Å의 깊이까지 존재하는 원소의 종류, 양 및 화학 상태의 분석이 가능한 장치이다. 또한, XPS에서는 이온 에칭과 조합함으로써 깊이 방향 분석이 가능하게 된다.
편재층(12) 상에 형성되는 저굴절률층(13)은 반사 방지 필름에 반사 방지 기능을 부여한다. 이때 저굴절률층(13)의 막 두께(d)는, 그 막 두께(d)에 저굴절률층의 굴절률(n)을 곱함으로써 얻어지는 광학 막 두께(nd)가 가시광의 파장의 1/4과 동등해지도록 설계된다. 저굴절률층(13)은 저굴절률층 형성 재료를 포함하는 도포액을 편재층 상에 도포함으로써 형성된다.
편재층 형성 재료에 도전성 재료를 함유ㆍ편재시키고, 편재층 표면에 저굴절률층을 형성하는 데 있어서는, 도전성 재료를 편재시킨 대전 방지층과 대전 방지층 상의 저굴절률층의 밀착성이 나빠, 그 결과 저굴절률층의 박리에 의해 내찰상성이 저하되는 경우가 있었다. 본 발명자들은 전리 방사선 경화형 재료, 도전성 재료를 포함하는 편재층 형성용 도포액에 레벨링 재료를 더 첨가함으로써, 도전성 재료를 편재시킨 대전 방지층 상에 레벨링층을 형성하여, 편재층과 저굴절률층의 밀착성을 향상시켜 내찰상성이 높은 반사 방지 필름으로 할 수 있는 것을 발견하고 본 발명에 이르렀다.
편재층의 최외측 표면에 도전성 재료가 편재되어 있는 경우, 저굴절률층 형성 재료와 도전성 재료가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 떨어지기 때문에, 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 또한, 저굴절률층 형성 재료와 도전성 재료의 전기적 반발이 보다 강한 경우에는, 저굴절률층 형성 도포액을 도포할 때에 크레이터링(cratering) 등이 생기는 등의 문제점이 발생하는 경우도 있다. 또한, 저굴절률층 형성 재료에 발수 재료를 포함시키는 경우에는, 도전성 재료와 저굴절률층 재료 중의 발수 재료의 전기적 반발에 의해 원하는 방오 성능이 얻어지지 않게 되는 경우도 있다.
또한 본 발명에 있어서는, 편재층 형성용 도포액을 도포함으로써 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층이 되는 편재층을 동시에 형성할 수 있다. 따라서, 투명 기재 상에 하드 코팅층 및 대전 방지층을 순차적으로 도포ㆍ형성한 경우와 비교하여 제조 비용을 억제할 수 있다.
편재층(12)에 있어서, 도전성 재료는 바인더 매트릭스 형성 재료인 전리 방사선 경화형 재료와 비교하여 표면에 석출되기 쉽고, 레벨링 재료는 도전성 재료보다 더 표면에 석출되기 쉽다. 따라서, 편재층을 형성할 때에 건조 온도, 시간의 조건을 제어하여 편재화시킴으로써, 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층으로 분리시킬 수 있고, 그들 층 구성을 편재층으로 하고 있다.
중간층(12a)은 편재층의 바인더 매트릭스 성분과 트리아세틸셀룰로오스 성분을 포함한다. 중간층(12a)에 있어서는, 두께 방향으로 투명 기재(11)측으로부터 저굴절률층(13)측을 향하여 투명 기재(11)의 굴절률로부터 저굴절률층의 바인더 매트릭스의 굴절률인 하드 코팅층(12b)의 굴절률까지 점차 변화한다. 투명 기재(11)의 굴절률로부터 하드 코팅층(12b)의 굴절률까지 점차 변화하는 중간층(12a)을 형성함으로써, 편재층과 투명 기재의 계면에서 발생하는 간섭 줄무늬의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 중간층은 투명 기재(11)와 편재층(12) 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
하드 코팅층(12b)이란, 바인더 매트릭스 성분인 전리 방사선 경화형 재료와 도전성 재료 및 레벨링 재료를 포함할 수 있다. 주로 바인더 매트릭스 성분인 전리 방사선 경화형 재료로 구성되어, 바인더 매트릭스 성분이 많이 편재하여 존재하기 때문에 반사 방지 필름에 표면 경도를 갖게 할 수 있다.
대전 방지층(12c)은, 바인더 매트릭스 성분인 전리 방사선 경화형 재료와 도전성 재료 및 레벨링 재료를 포함할 수 있다. 도전성 재료가 편재하여 많이 존재하기 때문에 대전 방지 기능을 발현하여, 대전 방지 기능을 갖는 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
레벨링층(12d)은, 바인더 매트릭스 성분인 전리 방사선 경화형 재료와 레벨링 재료를 포함할 수 있다. 주로 레벨링 재료로 구성되고, 도전성 재료는 포함되어 있지 않다. 도전성 재료가 편재층의 최외측 표면에 존재한 경우에는, 편재층 상에 저굴절률층을 형성할 때에 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 떨어지기 때문에 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 최외측 표면에는 도전성 재료인 도전성 재료보다 레벨링 재료쪽이 표면 장력이 낮기 때문에, 도전성 재료인 도전성 재료를 함유하지 않는 층을 용이하게 형성할 수 있다.
본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 저굴절률층을 형성할 때에 도전성 재료의 영향을 받지 않는다. 따라서, 편재층과 저굴절률층의 밀착력의 저하를 방지할 수 있고, 반사 방지 필름에 높은 표면 경도를 부여할 수 있어, 내찰상성이 우수하며, 방오성이 우수한 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 반사 방지 필름의 평행 광선 투과율이 93% 이상이고, 반사 방지 필름의 헤이즈가 1.0% 이하의 범위 내이고, 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 표면 저항치가 1×105Ω/cm2 이상 1×1012Ω/cm2 이하의 범위 내이고, 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 순수 접촉각이 80°이상 130°이하의 범위 내인 것이 바람직하다.
반사 방지 필름의 평행 광선 투과율이 93%를 하회하는 경우, 또는 헤이즈가 1.0%를 초과하는 경우에는 투명감이 없어지고 백탁(희부옇게)되어, 디스플레이의 콘트라스트를 저하시키게 되는 경우가 있다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 평행 광선 투과율은 높으면 높을수록 바람직하고, 헤이즈는 낮으면 낮을수록 바람직하다. 단, 반사 방지 필름의 평행 광선 투과율은 93% 이상 98% 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 현재 생각할 수 있는 사용 재료를 고려하면 평행 광선 투과율이 98%를 초과하는 반사 방지 필름을 제작하는 것은 곤란하다. 또한, 반사 방지 필름의 헤이즈는 0.05% 이상 0.5% 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 현재 생각할 수 있는 사용 재료를 고려하면 헤이즈가 0.05%를 하회하는 반사 방지 필름을 제작하는 것은 곤란하다.
또한, 표면 저항치가 1×105Ω/cm2 이상 1×1012Ω/cm2 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 반사 방지 필름 표면에서의 표면 저항치가 1×105Ω/cm2를 하회하는 반사 방지 필름을 제조하는 경우, 다량의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자가 필요하게 되어, 본 발명의 편재층의 형성이 불가능해지는 경우가 있다. 또한, 투명성(전체 광선 투과율치)이 저하되는 경우가 있다. 반사 방지 필름 표면의 표면 저항치가 1×1010Ω/cm2 내지 1×1012Ω/cm2의 상태에 있는 경우에는, 일반적으로 동적인 상태에서 먼지가 부착되지 않는 영역으로 일컬어지고 있으며, 디스플레이의 최외측 표면에 이용되는 경우에는 이 조건이 필요하게 된다. 그로 인해, 본 발명에서는 1×1012Ω/cm2 이하가 바람직한 것으로 하였다.
또한, 상기 표면 저항치의 측정 방법으로서는 JIS-K6911(1995)에 준거하여 측정할 수 있다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 순수 접촉각이 80°이상 130°이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 순수 접촉각을 80°이상으로 함으로써 저굴절률층에 우수한 방오성을 부여할 수 있다. 또한, 130°이하의 범위 내로 함으로써, 저굴절률층을 형성할 때에 편재층과 저굴절률층의 밀착이 좋아지기 때문에 높은 표면 경도를 부여할 수 있고, 내찰상성이 우수하고, 방오성이 우수한 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
또한, 순수 접촉각이 130°를 초과하는 경우에 있어서는, 저굴절률층을 형성할 때에 크레이터링이 발생하여 저굴절률층을 형성할 수 없게 될 우려가 있다. 또한, 순수 접촉각이 80°미만인 경우에는 충분한 방오성을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다.
또한, 순수 접촉각의 측정 방법으로서는 JIS R3257(1999)에 준거하여 측정할 수 있다. 구체적으로는, 접촉각계를 이용하여 건조 상태(20℃-65% RH)에서 바늘 끝에 액적을 만들고, 이것을 시료(고체)의 표면에 접촉시켜 액적을 만들어, 이 접촉각을 측정함으로써 구할 수 있다. 접촉각이란, 고체와 액체가 접촉하는 점에서의 액체 표면에 대한 접선과 고체 표면이 이루는 각이며, 액체를 포함하는 측의 각도로 정의된다. 액체로서는 증류수가 사용된다.
본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이때, 불소를 갖는 화합물은 퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물 또는 불소화 알케닐기를 갖는 화합물로부터 선택되는 것이 바람직하다. 또한, 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물의 구체예는 뒤에 기술한다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료, 금속 산화물 입자, 도전성 고분자로부터 선택되는 것이 바람직하다. 또한, 4급 암모늄염 재료, 금속 산화물 입자, 도전성 고분자로부터 선택되는 도전성 재료의 구체예는 뒤에 기술한다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함할 때에, 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고, 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다. 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q) 및 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
편재층에 이용되는 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000을 하회하는 경우에는 4급 암모늄염 재료가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 레벨링층이 형성되지 않고, 편재층의 표면에 4급 암모늄염 재료가 존재하게 된다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 4급 암모늄염 재료가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 한편, 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 100000을 초과하는 경우에는 4급 암모늄염 재료를 편재시켜 대전 방지층을 형성할 수 없게 된다. 또한, 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 100000을 초과하는 경우, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않게 된다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 100000 이하이면 바람직하지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 도전층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함할 때에, 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고, 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것으로 하는 것이 바람직하다. 금속 산화물 입자의 평균 입경 및 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
금속 산화물 입자의 평균 입경이 500nm를 상회하는 경우에는, 금속 산화물 입자가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 편재층의 표면에 금속 산화물 입자가 존재한다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 금속 산화물 입자가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 도전성 재료로서 이용되는 금속 산화물 입자의 평균 입경은 500nm 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 금속 산화물 입자의 평균 입경을 고려하면, 금속 산화물 입자의 평균 입경은 1nm 이상 500nm 이하인 것이 바람직하다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 100000 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 도전층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함할 때에, 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고, 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다. 도전성 고분자의 평균 입경 및 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
도전성 고분자의 평균 입경이 1000nm를 상회하는 경우에는 금속 산화물 입자가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 편재층의 표면에 도전성 고분자가 존재한다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 도전성 고분자가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 도전성 재료로서 이용되는 도전성 고분자의 평균 입경은 1000nm 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 도전성 고분자의 평균 입경을 고려하면, 도전성 고분자의 평균 입경은 1nm 이상 1000nm 이하인 것이 바람직하다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 100000 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 500 이상인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 도전층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함할 때에, 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고, 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다. 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q) 및 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
편재층에 이용되는 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000을 하회하는 경우에는 4급 암모늄염 재료가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 레벨링층이 형성되지 않고, 편재층의 표면에 4급 암모늄염 재료가 존재하게 된다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 4급 암모늄염 재료가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 한편, 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 100000을 초과하는 경우에는 4급 암모늄염 재료를 편재시켜 대전 방지층을 형성할 수 없게 된다. 또한, 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 100000을 초과하는 경우, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않게 된다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)은 100000 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)은 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 도전층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함할 때에, 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고, 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것으로 하는 것이 바람직하다. 금속 산화물 입자의 평균 입경 및 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
금속 산화물 입자의 평균 입경이 500nm를 상회하는 경우에는 금속 산화물 입자가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 편재층의 표면에 금속 산화물 입자가 존재한다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 금속 산화물 입자가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 도전성 재료로서 이용되는 금속 산화물 입자의 평균 입경은 500nm 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 금속 산화물 입자의 평균 입경을 고려하면, 금속 산화물 입자의 평균 입경은 1nm 이상 500nm 이하인 것이 바람직하다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)은 100000 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)은 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 도전층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고, 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함할 때에, 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고, 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것이 바람직하다. 도전성 고분자의 평균 입경 및 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)을 소정의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
도전성 고분자의 평균 입경이 1000nm를 상회하는 경우에는 금속 산화물 입자가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 편재층의 표면에 금속 산화물 입자가 존재한다. 이때, 저굴절률층 형성 재료와 4급 암모늄염 재료가 전기적 반발을 하여 편재층과 저굴절률층의 밀착력이 저하되고, 얻어지는 반사 방지 필름의 내찰상성이 저하된다. 도전성 재료로서 이용되는 도전성 고분자의 평균 입경은 1000nm 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 도전성 고분자의 평균 입경을 고려하면, 도전성 고분자의 평균 입경은 1nm 이상 1000nm 이하인 것이 바람직하다.
또한, 편재층에 이용되는 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 100000을 초과하는 경우에 있어서는, 도전성 재료와 레벨링 재료가 혼재되어 층을 형성하고, 대전 방지층 및/또는 레벨링층이 형성되지 않기 때문에, 충분한 대전 방지성을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없게 된다. 또한, 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)은 100000 이하이면 상관없지만, 시판되고 있는 레벨링 재료를 고려하면 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)은 500 이상인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서 「분자량」이란, 분자량 1000 이하의 경우에는 구조식으로부터 구해지는 분자량이고, 분자량이 1000을 초과하는 경우에는 중량 평균 분자량을 가리킨다.
또한, 본 발명에 있어서 금속 산화물 입자의 평균 입경 및 도전성 고분자의 평균 입경은 광산란법에 의해 구해진다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는 저굴절률층의 광학 막 두께가80nm 이상 200nm 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 저굴절률층의 광학 막 두께를 80nm 이상 200nm 이하의 범위 내로 함으로써, 반사 방지 필름의 표면(A)측으로부터 구해지는 분광 반사율 곡선을 500nm 근방에서 극소치를 취하는 분광 반사율 곡선으로 할 수 있어, 반사 방지성이 우수한 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
분광 반사율 곡선은 극소치를 기준으로 하여, 단파장 방향으로의 상승 커브가 장파장 방향으로의 상승 커브와 비교하여 급경사인 경향을 나타낸다. 이때, 분광 반사율 곡선의 극소치를 기준으로 하였을 때의 단파장 방향으로의 급경사의 상승 커브는, 형성되는 반사 방지 필름의 반사광의 색의 원인이 되며, 또한 편재층의 막 두께 불균일이 발생하였을 때의 색 불균일의 발생 원인이 된다. 본 발명에 있어서는, 분광 반사율 곡선의 극소치를 500nm 근방으로 함으로써 반사 색상이 작고, 단파장 방향으로의 급경사의 상승 커브에 의한 색 불균일의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서는, 반사 방지 필름의 저굴절률층 형성면(표면(A))에서의 시감 평균 반사율이 0.5% 이상 2.0% 이하의 범위 내인 것이 바람직하다.
반사 방지 필름의 저굴절률층 형성면(표면(A))에서의 시감 평균 반사율이 2.5%를 초과하는 경우에서는, 충분한 반사 방지 성능을 구비하는 반사 방지 필름으로 할 수 없다. 한편, 반사 방지 필름 표면에서의 시감 평균 반사율이 0.2%인 반사 방지 필름을 편재층의 광학 간섭에 의해 실현하는 것은 곤란하다. 또한, 편재층 표면에서의 시감 평균 반사율은 0.2% 이상 2.0% 이하의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 편재층 중의 도전성 재료로서 4급 암모늄염 재료를 이용한 경우에는, 편재층 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료의 함유량은 0.5중량% 이상 25중량% 미만인 것이 바람직하다. 편재층 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료의 함유량이 0.5중량% 미만인 경우에 있어서는, 충분한 대전 방지 성능을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 한편, 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료의 함유량이 25중량%를 초과하는 경우에 있어서는 레벨링층이 잘 형성되지 않는다. 또한, 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료는 하드 코팅성을 갖지 않기 때문에 반사 방지 필름의 경도와 내찰상성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 고비용이 된다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 편재층 중의 도전성 재료로서 금속 산화물 입자를 이용한 경우에, 편재층 중의 도전성 재료인 금속 산화물 입자의 함유량은 0.5중량% 이상 25중량% 미만인 것이 바람직하다. 편재층 중의 도전성 재료인 금속 산화물 입자의 함유량이 0.5중량% 미만인 경우에 있어서는, 충분한 대전 방지 성능을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 한편, 도전성 재료인 금속 산화물 입자의 함유량이 25중량%를 초과하는 경우에서는 레벨링층이 잘 형성되지 않는다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름에 있어서 편재층 중의 도전성 재료로서 도전성 고분자를 이용한 경우, 편재층 중의 도전성 재료인 도전성 고분자의 함유량은 0.1중량% 이상 25중량% 미만인 것이 바람직하다. 편재층 중의 도전성 재료인 도전성 고분자의 함유량이 0.1중량% 미만인 경우에 있어서는, 충분한 대전 방지 성능을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 한편, 도전성 재료인 도전성 고분자의 함유량이 25중량%를 초과하는 경우에 있어서는 레벨링층이 잘 형성되지 않는다. 또한, 도전성 재료인 도전성 고분자는 하드 코팅성을 갖지 않기 때문에 반사 방지 필름의 경도와 내찰상성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 고비용이 된다.
편재층 중의 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물, 실록산 결합을 갖는 화합물의 함유량은 0.001중량% 이상 5.00중량% 미만의 범위 내인 것이 바람직하다. 편재층 중의 레벨링 재료의 함유량이 0.001중량% 미만인 경우에 있어서는 레벨링층의 형성이 불가능하고, 도전성 재료가 편재층의 최외측 표면에 존재하게 되므로 내찰상성이 저하되고, 나아가 저굴절률층의 형성을 저해하는 경우가 있다. 한편, 레벨링 재료의 함유량이 5.00중량%를 초과하는 경우에 있어서는 아미드층이 두꺼워져 대전 방지 기능이 저하되는 경우가 있다.
본 발명의 반사 방지 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다.
본 발명의 반사 방지 필름의 제조 방법은, 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름의 제조 방법이며, 상기 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 전리 방사선 경화형 재료와 도전성 재료와 레벨링 재료와 용제를 포함하는 편재층 형성 도포액을 도포하여 편재층의 도막을 형성하는 도포 공정과, 상기 편재층의 도막에 1차 건조와 2차 건조를 실시하는 건조 공정과, 상기 편재층의 도막에 전리 방사선을 조사하여 편재층을 형성하는 경막 공정과, 저굴절률층 형성 재료와 용제를 포함하는 저굴절률층 형성 도포액을 도포하여 저굴절률층의 도막을 형성하는 도포 공정과, 상기 저굴절률층의 도막을 건조시키는 건조 공정과, 상기 저굴절률층을 형성하는 경막 공정을 순서대로 구비하고, 상기 편재층이 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서는, 편재층의 도막에 대하여 1차 건조를 실시하는 건조 공정과, 1차 건조의 건조 공정 후에 편재층의 도막에 대하여 2차 건조를 실시하는 건조 공정을 둠으로써, 편재층에 있어서 중간층, 하드 코팅층, 도전성 재료를 편재시킨 대전 방지층, 상기 레벨링 재료를 편재시킨 레벨링층의 순으로 편재시킬 수 있다.
도 2에 본 발명의 반사 방지 필름의 제조 장치의 일례의 개략도를 도시하였다.
본 발명의 반사 방지 필름의 제조 장치는, 투명 기재 상에, 전리 방사선 경화형 재료를 포함하는 바인더 매트릭스 형성 재료와, 도전성 재료와, 레벨링 재료와, 용매를 포함하는 편재층 형성용 도포액을 도포하여 도막을 형성하는 도포 공정(21)과, 상기 편재층의 도막에 1차 건조 유닛(22a)과 2차 건조를 실시하는 2차 건조 유닛(22b)의 2가지 건조 유닛(22)과, 상기 편재층의 도막에 전리 방사선을 조사하여 편재층을 경막 형성하는 전리 방사선 조사 유닛(23)을 순서대로 구비하고 있다. 권출부(31)부터 권취부(32)까지 투명 기재를 연속 반송함으로써, 투명 기재 상에 편재층이 형성된다.
다음에, 저굴절률층 형성 도포액을 편재층 상에 도포하여 저굴절률층의 도막을 형성하는 도포 공정과, 상기 저굴절률층의 도막을 건조시키는 건조 공정과, 상기 저굴절률층을 형성하는 경막 공정에 의해 저굴절률층이 형성된다. 이때, 저굴절률층을 형성하는 경막 공정에 있어서는, 저굴절률층 형성 재료로서 전리 방사선 경화형 재료를 이용하는 경우에는 전리 방사선을 조사함으로써 경막되어 저굴절률층이 형성된다. 한편, 저굴절률층 형성 재료로서 열경화형 재료를 이용하는 경우에는 가열함으로써 경막되어 저굴절률층이 형성된다. 저굴절률층을 형성함에 있어서는, 도 2에 도시한 제조 장치를 이용하여 편재층 상에 저굴절률층을 형성하여 반사 방지 필름을 제조할 수도 있다. 또한, 편재층 형성과 저굴절률층 형성의 상기 공정을 연속해서 연결함으로써 반사 방지 필름을 제조하는 것도 가능하다.
본 발명의 반사 방지 필름의 제조 방법에 있어서는, 편재층 형성용 도포액에 포함되는 전체 용매 중 30중량% 이상의 용매가 상기 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매이고, 상기 편재층 형성용 도포액 중에 용매가 25중량% 이상 85중량% 이하의 비율로 포함되는 것이 바람직하다. 투명 기재 상에, 바인더 매트릭스 형성 재료와 도전성 재료, 레벨링 재료를 포함하는 편재층 형성용 도포액에 포함되는 전체 용매 중 30중량% 이상의 범위 내에서 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매를 이용하고, 상기 편재층 형성용 도포액 중에 용매를 25중량% 이상 85중량% 이하의 비율로 포함시킴으로써, 도전성 재료, 레벨링 재료가 편재된 대전 방지층, 레벨링층을 구비하는 편재층을 형성할 수 있다.
투명 기재 상에 편재층 형성용 도포액을 도포하여 도막을 형성하고 나서 건조시킬 때까지의 공정에서, 도포액에 포함되는 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 투명 기재로 침투하고, 그에 따라 바인더 매트릭스 형성 재료 성분도 투명 기재로 침투하여 기재와 혼합되어 중간층이 형성된다. 한편, 도전성 재료, 레벨링 재료는 투명 기재로는 침투하기 어렵기 때문에, 투명 기재측과는 반대의 대전 방지층 및 레벨링층측으로 편석하여 편재층을 형성하는 것이다.
편재층 형성용 도포액에 포함되는 전체 용매 중, 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 30중량% 이상인 범위 내에서 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매를 이용함으로써, 투명 기재와 편재층 사이에 투명 기재 성분과 바인더 매트릭스 성분을 포함하는 중간층을 형성할 수 있고, 나아가 효율적으로 편재층을 형성할 수 있다. 또한, 전체 용매 중 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 30중량%를 하회하는 경우에 있어서는 편재층을 형성할 수 없게 되는 경우가 있다. 편재층의 도포액 중의 용매량을 상기 범위 내로 함으로써, 도막 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자, 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있어 편재층을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 편재층 형성용 도포액 중의 용매량이 25중량% 미만인 경우에 있어서는, 도막이 급격하게 건조되어 편재층을 형성할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 편재층 형성용 도포액 중의 용매량이 85중량%를 초과하는 경우에 있어서는, 건조 시간을 길게 할 필요가 있어 대량 생산에 부적합하게 되는 경향이 있다.
본 발명의 반사 방지 필름의 제조 방법에 있어서는, 편재층의 도막을 건조시키는 건조 공정이, 건조 온도 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 1차 건조와, 건조 온도 40℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 2차 건조의 2단계의 연속된 건조를 포함하는 것이 바람직하다. 건조 공정은, 도포 직후에 건조 온도 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내에서 1차 건조를 행하는 것이 바람직하다. 1차 건조 온도를 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내로 함으로써, 편재층의 도막 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자, 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있다.
또한, 1차 건조 시의 건조 온도가 30℃를 초과하는 경우에 있어서는, 편재층의 도막이 급격하게 건조되어 편재층을 형성할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 건조 온도가 15℃를 하회하는 경우에 있어서는, 건조 시간을 길게 할 필요가 있어 연속 생산에 부적합하게 된다.
또한, 건조 온도 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내에서 2차 건조를 행하는 것이 바람직하다. 2차 건조 온도를 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다. 또한, 건조 온도가 150℃를 초과하는 경우에 있어서는, 용제의 증발 속도가 지나치게 빠르기 때문에 편재층의 표면이 거칠어지고 헤이즈가 발생할 우려가 있다. 한편, 건조 온도가 50℃를 하회하는 경우에 있어서는, 용제가 편재층에 잔류하여 하드 코팅성을 갖지 않는 편재층이 된다.
또한, 상기 1차 건조만으로는 건조가 불충분한 경우가 있어, 1차 건조 후, 2차 건조로서 건조 온도 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내의 가열 건조로 적절한 가열 건조를 행하는 것도 겸하고 있다. 건조 공정에 있어서, 1차 건조 및 2차 건조를 상기 건조 온도에서 행함으로써 편재층(12)을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 편재층의 각 층의 분리를 행하기 위하여 1차 건조를 행하고 있고, 2차 건조에서는 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내의 가열 건조로 적절한 가열 건조를 행함으로써 용제를 제거하고 있다.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름의 제조 방법에 있어서는, 편재층의 도막을 건조시키는 건조 공정을, 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 2초 이상 60초 이하의 범위 내가 되도록 하는 것이 바람직하다.
상기 편재층의 도막을 투명 기재 상에 형성하고 나서, 투명 기재 상의 편재층 형성용 도포액을 포함하는 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간을 2초 이상 60초 이하의 범위 내로 함으로써, 도막 중의 도전성 재료 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있어, 대전 방지층 및 레벨링층을 구비하는 편재층을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 2초 미만인 경우에 있어서는, 편재층의 도막의 급격한 건조에 의해 대전 방지층 및 레벨링층을 형성할 수 없게 되는 경우가 있다. 또한, 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 60초를 초과하는 경우는, 시간이 지나치게 걸려 현실적이지 않다. 매엽(枚葉) 방식으로 편재층을 형성하는 경우에 있어서도 택트 타임이 길어져 생산성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.
더 상세하게 본 발명의 반사 방지 필름 및 반사 방지 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다.
본 발명의 반사 방지 필름에 이용되는 투명 기재로서는 여러가지 유기 고분자를 포함하는 필름 또는 시트를 사용할 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 등의 광학 부재에 통상 사용되는 기재를 들 수 있으며, 투명성이나 광의 굴절률 등의 광학 특성, 나아가 내충격성, 내열성, 내구성 등의 여러 물성을 고려하여 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀로판 등의 셀룰로오스계, 6-나일론, 6,6-나일론 등의 폴리아미드계, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 에틸렌비닐알코올 등의 유기 고분자를 포함하는 것이 이용된다. 특히, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트가 바람직하다. 그 중에서도 트리아세틸셀룰로오스는 복굴절률이 작고, 투명성이 양호하기 때문에 액정 디스플레이에 대하여 바람직하게 이용할 수 있다.
또한, 투명 기재의 두께는 25㎛ 이상 200㎛ 이하의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 40㎛ 이상 80㎛ 이하의 범위 내에 있는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 이들 유기 고분자에 공지된 첨가제, 예를 들면 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 가소제, 윤활제, 착색제, 산화 방지제, 난연제 등을 첨가함으로써 기능을 부가시킨 것도 사용할 수 있다. 또한, 투명 기재는 상기 유기 고분자로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물 또는 중합체를 포함하는 것일 수도 있고, 복수개의 층을 적층시킨 것일 수도 있다.
다음에, 편재층에 대하여 설명한다.
편재층을 형성함에 있어서는, 바인더 매트릭스 형성 재료로서 전리 방사선 경화형 재료를 포함한다. 전리 방사선 경화형 재료로서는 아크릴계 재료를 이용할 수 있다. 아크릴계 재료로서는 다가 알코올의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르와 같은 단관능 또는 다관능의 (메트)아크릴레이트 화합물, 디이소시아네이트와 다가 알코올 및 아크릴산 또는 메타크릴산의 히드록시에스테르 등으로부터 합성되는 다관능의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 이들 외에도 전리 방사선형 재료로서 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서 「(메트)아크릴레이트」란 「아크릴레이트」와 「메타크릴레이트」의 양쪽을 나타내고 있다. 예를 들면, 「우레탄(메트)아크릴레이트」는 「우레탄아크릴레이트」와 「우레탄메타크릴레이트」의 양쪽을 나타내고 있다.
단관능의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 인산 (메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 인산 (메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 페녹시(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 페녹시(메트)아크릴레이트, 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필프탈레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필헥사히드로히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라히드로히드로겐프탈레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 헥사플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-아다만탄 및 아다만탄디올로부터 유도되는 1가의 모노(메트)아크릴레이트를 갖는 아다만틸아크릴레이트 등의 아다만탄 유도체 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 2관능의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 부탄디올디(메트)아크릴레이트, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 노난디올디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-히드록시에틸이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판헥사(메트)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 이들 (메트)아크릴레이트의 일부를 알킬기나 ε-카프로락톤에 의해 치환한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.
아크릴계 재료로서 다관능 우레탄아크릴레이트를 이용할 수도 있다. 우레탄아크릴레이트는 다가 알코올, 다가 이소시아네이트 및 수산기 함유 아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어진다. 구체적으로는 교에이샤 가가꾸사 제조의 UA-306H, UA-306T, UA-306I 등, 닛본 고세이 가가꾸사 제조의 UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7640B, UV-7650B 등, 신나까무라 가가꾸사 제조의 U-4HA, U-6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A 등, 다이셀 UCB사 제조의 Ebecryl-1290, Ebecryl-1290K, Ebecryl-5129 등, 네가미 고교사 제조의 UN-3220HA, UN-3220HB, UN-3220HC, UN-3220HS 등을 들 수 있지만, 이것에 한정되지 않는다.
또한, 이들 외에도 전리 방사선형 재료로서 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등을 사용할 수 있다.
또한, 편재층의 막 두께는 광학 특성, 내찰상성, 경도 등으로부터 3㎛ 이상 20m 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 또한, 컬링의 억제 등의 가공 취급상 4㎛ 이상 7㎛ 이하의 범위 내로 하는 것이 더욱 바람직하다.
편재층 형성용 도포액에 있어서는, 용매가 첨가되어 전체 용매 중 30중량% 이상의 범위 내에서 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 이용된다.
또한 투명 기재 상에, 바인더 매트릭스 형성 재료와 4급 암모늄염 재료, 레벨링 재료를 포함하는 편재층 형성용 도포액에 포함되는 전체 용매 중, 30중량% 이상의 범위 내에서 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매를 이용함으로써, 도전성 재료 및 레벨링 재료가 편재된 편재층을 형성할 수 있다.
편재층 형성용 도포액에 포함되는 전체 용매 중, 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 30중량% 이상인 범위 내에서 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매를 이용함으로써, 투명 기재와 편재층 사이에 투명 기재 성분과 바인더 매트릭스 성분을 포함하는 중간층을 형성할 수 있고, 나아가 효율적으로 편재층을 형성할 수 있다.
또한, 전체 용매 중 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매가 30중량%를 하회하는 경우에 있어서는, 편재층을 형성할 수 없게 된다.
투명 기재로서 트리아세틸셀룰로오스 필름을 이용하였을 때의 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매로서는 디부틸에테르, 디메톡시메탄, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 프로필렌옥시드, 디옥산, 디옥솔란, 트리옥산, 테트라히드로푸란, 아니솔 및 페네톨 등의 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 및 메틸시클로헥사논 등의 일부의 케톤류, 포름산 에틸, 포름산 프로필, 포름산 n-펜틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸, 아세트산 n-펜틸 및 γ-부티로락톤 등의 에스테르류, 나아가 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 부틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브류, 그 밖에 N-메틸-2-피롤리돈, 탄산디메틸을 들 수 있다. 이것들은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
트리아세틸셀룰로오스 필름을 용해 또는 팽윤시키지 않는 용매로서는 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 톨루엔, 크실렌, 시클로헥산, 시클로헥실벤젠 등의 방향족 탄화수소류, n-헥산 등의 탄화수소류, 메틸이소부틸케톤, 메틸부틸케톤, 디아세톤알코올 등의 일부의 케톤류 등을 들 수 있다. 이것들은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
또한, 편재층 형성용 도포액 중에 용매가 25중량% 이상 85중량% 이하의 비율로 포함되는 것이 바람직하다. 편재층의 도포액 중의 용매량을 상기 범위 내로 함으로써, 도막 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자, 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있어 편재층을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 편재층 형성용 도포액 중의 용매량이 25중량% 미만인 경우에 있어서는, 도막이 급격하게 건조되어 편재층을 형성할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 편재층 형성용 도포액 중의 용매량이 85중량%를 초과하는 경우에 있어서는, 건조 시간을 길게 할 필요가 있어 대량 생산에 부적합하게 된다.
또한, 편재층의 도막을 건조시키는 공정을 용매 농도 0.2vol% 이상 10vol% 이하의 용매 분위기 하에서 행하는 것이 바람직하다. 편재층의 도막을 건조시키는 공정을 0.2vol% 이상 10vol% 이하의 용매 분위기 하에서 행함으로써, 도막 중의 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료 또는 금속 산화물 입자 또는 도전성 고분자가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있어 편재층을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 이때 건조 분위기에 이용되는 용매로서는 편재층 형성용 도포액에 포함되는 용매 중 적어도 1종류가 이용되는 것이 바람직하다. 용매 분위기 하가 0.2vol% 미만인 경우에 있어서는, 도막이 급격하게 건조되어 편재층을 형성할 수 없게 되는 경우가 있다. 한편, 용매 분위기 하가 10vol%를 초과하는 경우에 있어서는, 건조 시간을 길게 할 필요가 있어 대량 생산에 부적합하게 된다.
편재층에 포함되는 도전성 재료인 4급 암모늄염 재료로서는, 4급 암모늄염 재료를 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료를 바람직하게 이용할 수 있다. 4급 암모늄염 재료는 -N+ X-의 구조를 나타내고, 4급 암모늄 양이온(-N+)과 음이온(X-)을 구비함으로써 하드 코팅층에 도전성을 발현시킨다. 이때, X-로서는 Cl-, Br-, I-, F-, HSO4 -, SO4 2-, NO3 -, PO4 3-, HPO4 2-, H2PO4 -, SO3 -, OH- 등을 들 수 있다.
또한, 4급 암모늄염 재료로서 4급 암모늄염 재료를 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료를 이용할 수도 있다. 4급 암모늄염 재료를 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료로서는, 4급 암모늄염 재료(-N+ X-)를 관능기로서 분자 내에 포함하는 다가 알코올의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르와 같은 단관능 또는 다관능의 (메트)아크릴레이트 화합물, 디이소시아네이트와 다가 알코올 및 아크릴산 또는 메타크릴산의 히드록시에스테르 등으로부터 합성되는 다관능의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물을 이용할 수 있다. 또한, 이들 외에도 전리 방사선형 재료로서 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 편재층 중에 포함되는 4급 암모늄염 재료의 분자량이 1000 이상 100000 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 4급 암모늄염 재료의 중량 평균 분자량이 1000 이상 100000 이하인 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
또한, 4급 암모늄염 재료의 분자량이 1000을 하회하는 경우에는 4급 암모늄염 재료가 편재층 표면에 편재하기 쉬워져 편재층의 표면에 4급 암모늄염 재료가 존재한다. 따라서, 저굴절률층 형성 재료와 4급 암모늄염 재료가 전기적 반발을 하여, 편재층과 저굴절률층의 밀착성이 저하되고 내찰상성이 저하되는 경우가 있다. 한편, 4급 암모늄염 재료의 중량 평균 분자량이 100000을 초과하는 경우에, 하드 코팅층과 대전 방지층이 혼합되어 표면 저항치가 나빠진다. 4급 암모늄염 재료로서는, 구체적으로 NR-121X-9IPA(콜코트사 제조) 등을 이용할 수 있다.
도전성 재료로서 이용되는 금속 산화물 입자로서는 산화지르코늄, 안티몬 함유 산화주석(ATO), 인 함유 산화주석(PTO), 주석 함유 산화인듐, 산화알루미늄, 산화세륨, 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연, 산화주석, 안티몬 함유 산화아연 및 인듐 함유 산화아연으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물을 주성분으로 하는 도전성을 갖는 금속 산화물 입자를 이용할 수 있다.
도전성 재료로서 이용되는 도전성 고분자로서는 폴리아세틸렌, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리페닐렌설파이드, 폴리(1,6-헵타디인), 폴리비페닐렌(폴리파라페닐렌), 폴리파라피닐렌술피드, 폴리페닐아세틸렌, 폴리(2,5-티에닐렌) 및 이들의 유도체로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 이용할 수 있다.
편재층 형성 도포액에는 레벨링 재료로서 불소를 갖는 화합물이 첨가된다. 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물로서는 퍼플루오로알킬기 또는 불소화 알케닐기를 갖는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다. 퍼플루오로알킬기는 -CnF2n+1(n=자연수)의 구조를 갖고, 소수ㆍ소유기로서 기능한다. 그로 인해 강직하고 구부러지기 어렵고, 표면에 정연하게 배열하는 특징을 갖기 때문에, 소량으로 표면을 덮는 레벨링 재료로서 기능할 수 있다. 이때, 친유기와 조합함으로써 레벨링 재료로서의 효과를 더 증가시키는 것이 가능하게 된다. 또한, 퍼플루오로알케닐기는 분자 내에 C=C 결합을 갖고 있기 때문에, 표면에 배열될 때에 부피가 크기 때문에 퍼플루오로알킬기에 비하여 밀도가 저하된다. 그로 인해, 퍼플루오로기가 갖는 리코트(recoat)성 저해를 억제할 수 있다.
구체적으로는, 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물로서는 불소화 알케닐기를 갖는 프터젠트 222F(네오스사 제조)나 퍼플루오로알킬기를 갖는 F470(DIC사 제조), F489(DIC사 제조)를 들 수 있다. 또한, 이 밖에도 V-8FM(오사까 유끼 가가꾸 고교사 제조) 등을 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 레벨링 재료인 불소를 갖는 화합물은 이것들에 한정되는 것은 아니다.
또한, 편재층 형성 도포액에는 레벨링 재료로서 실록산 결합을 갖는 화합물이 첨가된다. 레벨링 재료인 실록산 결합을 갖는 화합물로서는, 실록산 결합과 유기 변성부를 분자 내에 포함하는 규소계 레벨링제를 바람직하게 이용할 수 있다. 실록산 결합을 갖는 화합물은 화학식 1로 나타내는 구조를 갖고 있고, 실록산 결합 부분의 화학식 1 중의 x수나 유기 변성부를 변화시킴으로써 표면 장력을 임의로 제어할 수 있다.
Figure 112012058058722-pct00001
실록산 결합을 갖는 화합물인 화학식 1 중의 x수나 유기 변성부를 변화시키는 일례로서, 화학식 2와 같은 구조를 구비하는 실록산 결합을 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 측쇄를 부여함으로써 실록산 결합을 변성시킬 수 있다. 또한, 화학식 2의 구조에서의 R1의 일례로서는 CH3, CH2-CH3, (CH2)9CH3 등이 있다. 또한, R2의 일례로서는 폴리에테르기, 폴리에스테르기, 아르알킬기 등이 있다. 또한, 화학식 3과 같은 구조를 구비하는 실록산 결합을 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 실록산 결합은 Si-O-Si 결합을 포함하고, R3의 일례로서는 평균 1개의 폴리에테르쇄 등을 이용할 수 있다. 화학식 2 및 화학식 3 어느 것에 있어서도 표면 장력의 제어나 상용성의 조정을 임의로 행할 수 있다.
Figure 112012058058722-pct00002
Figure 112012058058722-pct00003
또한, 레벨링 재료로서 이용되는 실록산 결합을 갖는 화합물로서는, 구체적으로 빅케미 재팬사 제조의 BYK-300, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-315, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-337, BYK-341, BYK-344, BYK-345, BYK-347, BYK-348, BYK-349, BYK-370, BYK-375, BYK-377, BYK-378, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-UV3570, BYK-Silclean3700, BYK-Silclean3720을 이용할 수 있다. 또한, 모멘티브사 제조의 TSF410, TSF411, TSF4700, TSF4701, XF42-B0970, TSF4730, YF3965, TSF4421, XF42-334, XF42-B3629, XF42-A3161, TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4452, TSF4460을 이용할 수 있다. 또한, 교에이샤 가가꾸사 제조의 폴리플로우 KL400X, 폴리플로우 KL400HL, 폴리플로우 KL401, 폴리플로우 KL402, 폴리플로우 KL403, 폴리플로우 KL404를 이용할 수 있다. 또한, 레벨링 재료로서 이용되는 실록산 결합을 갖는 화합물은 이것들에 한정되는 것은 아니다.
또한, 편재층 형성용 도포액을 자외선에 의해 경화시키는 경우에 있어서는 편재층 형성용 도포액에 광중합 개시제를 첨가한다.
광중합 개시제로서는 자외선이 조사되었을 때에 라디칼을 발생하는 것이면 되며, 예를 들면 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥시드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류를 이용할 수 있다. 또한, 광중합 개시제의 첨가량은 전리 방사선 경화형 재료에 대하여 0.1중량% 이상 10중량% 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 1중량% 이상 8.5중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 편재층 형성용 도포액에는 첨가제로서 표면 조정제, 굴절률 조정제, 밀착성 향상제, 경화제 등을 첨가할 수도 있다.
이상의 재료를 조정하여 얻어지는 편재층 형성용 도포액을 습식 성막법에 의해 투명 기재 상에 도포하여, 도막을 형성하고 편재층을 형성할 수 있다. 이하에 편재층의 형성 방법을 나타낸다.
편재층 형성용 도포액은 투명 기재 상에 도포되어 도막을 형성한다. 편재층 형성용 도포액을 투명 기재 상에 도포하기 위한 도공 방법으로서는 롤 코터, 리버스 롤 코터, 그라비아 코터, 마이크로 그라비아 코터, 나이프 코터, 바 코터, 와이어 바 코터, 다이 코터, 딥 코터를 이용한 도포 방법을 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 편재층(12)은 얇은 도막이며, 균일한 막 두께의 것이 필요하기 때문에 마이크로 그라비아 코터법, 다이 코터법을 이용하는 것이 바람직하다.
다음에, 투명 기재 상에 형성된 편재층의 도막을 건조시킴으로써 도막 중의 용매는 제거된다. 이때 건조 수단으로서는 가열, 송풍, 열풍 등을 이용할 수 있다.
또한, 건조 공정은 도포 직후에 건조 온도 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내에서 1차 건조를 행하는 것이 바람직하다. 1차 건조 온도를 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내로 함으로써, 편재층의 도막 중의 도전성 재료 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있다.
또한, 건조 온도가 30℃를 초과하는 경우에 있어서는, 편재층의 도막이 급격하게 건조되어 편재층을 형성할 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 건조 온도가 15℃를 하회하는 경우에 있어서는, 건조 시간을 길게 할 필요가 있어 연속 생산에 부적합하게 된다.
또한, 건조 온도 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내에서 2차 건조를 행하는 것이 바람직하다. 2차 건조 온도를 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내로 함으로써, 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되는 편재층을 형성할 수 있다.
또한, 건조 온도가 150℃를 초과하는 경우에 있어서는, 용제의 증발 속도가 지나치게 빠르기 때문에 편재층의 표면이 거칠어지고 헤이즈가 발생할 우려가 있다. 한편, 건조 온도가 50℃를 하회하는 경우에 있어서는, 용제가 편재층에 잔류하게 되어 하드 코팅성을 갖지 않는 편재층이 된다.
또한, 상기 1차 건조만으로는 건조가 불충분한 경우가 있어, 1차 건조 후 2차 건조로서, 건조 온도 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내의 가열 건조로 적절한 가열 건조를 행하는 것도 겸하고 있다.
건조 공정에 있어서, 1차 건조 및 2차 건조를 상기 건조 온도에서 행함으로써, 편재층(12)을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 편재층의 각 층의 분리를 행하기 위하여 1차 건조를 행하고 있고, 2차 건조에서는 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내의 가열 건조로 적절한 가열 건조를 행함으로써 용제를 제거하고 있다.
또한, 투명 기재 상에 형성된 편재층 형성용 도포액을 포함하는 도막을 투명 기재 상에 형성하고 나서, 상기 투명 기재 상의 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 2초 이상 60초 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 상기 편재층의 도막을 투명 기재 상에 형성하고 나서, 투명 기재 상의 편재층 형성용 도포액을 포함하는 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간을 2초 이상 60초 이하의 범위 내로 함으로써, 도막 중의 도전성 재료 및 레벨링 재료가 편재하여 편재층을 형성할 때까지의 시간을 충분하게 할 수 있어 편재층(12)을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 2초 미만인 경우에 있어서는, 편재층의 도막의 급격한 건조에 의해 대전 방지층 및 레벨링층을 형성할 수 없게 되는 경우가 있다.
또한, 편재층의 도막 중에 포함되는 용매가 10중량% 이하가 될 때까지의 시간이 60초를 초과하는 경우에 있어서는, 시간이 지나치게 걸려 현실적이지 않다. 매엽 방식으로 편재층을 형성하는 경우에 있어서도 택트 타임이 길어져 생산성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.
다음에, 편재층 형성용 도포액을 투명 기재 상에 도포함으로써 얻어지는 도막에 대하여, 전리 방사선을 조사함으로써 편재층(12)이 형성된다.
전리 방사선으로서는 자외선, 전자선을 이용할 수 있다. 자외선 경화의 경우에는 고압 수은등, 저압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크, 크세논 아크 등의 광원을 이용할 수 있다. 또한, 전자선 경화의 경우에는 코크로프트 월턴형, 밴더그래프형, 공진 변압형, 절연 코어 변압기형, 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기로부터 방출되는 전자선을 이용할 수 있다. 전자선은 50 내지 1000KeV의 에너지를 갖는 것이 바람직하다. 100 내지 300KeV의 에너지를 갖는 전자선이 보다 바람직하다.
다음에, 저굴절률층의 형성 방법에 대하여 설명한다.
저굴절률층은, 저굴절률층 형성 재료를 포함하는 저굴절률층 형성 도포액을 편재층 표면에 도포하여 습식 성막법에 의해 형성된다. 이때 저굴절률층 막 두께(d)는, 그 막 두께(d)에 저굴절률층의 굴절률(n)을 곱함으로써 얻어지는 광학 막 두께(nd)가 가시광의 파장의 1/4과 동등하게 되도록 설계된다.
저굴절률층 형성 재료로서는 저굴절률 입자 및 바인더 매트릭스 형성 재료를 이용할 수 있다. 또한, 바인더 매트릭스 형성 재료가 낮은 굴절률을 갖는 경우에는 저굴절률 형성 재료 중에 저굴절률 입자를 포함하지 않을 수도 있다. 저굴절률층(13)에서의 바인더 매트릭스 형성 재료로서는 전리 방사선 경화형 재료, 열경화형 재료를 이용할 수 있다.
저굴절률층 형성 재료용 도포액에 포함시킬 수 있는 저굴절 입자로서는 LiF, MgF, 3NaFㆍAlF 또는 AlF(모두, 굴절률 1.40) 또는 Na3AlF6(빙정석, 굴절률 1.33) 등의 저굴절 재료를 포함하는 저굴절률 입자를 이용할 수 있다. 또한, 입자 내부에 공극을 갖는 입자를 바람직하게 이용할 수 있다. 입자 내부에 공극을 갖는 입자에 있어서는, 공극의 부분을 공기의 굴절률(≒1)로 할 수 있기 때문에, 매우 낮은 굴절률을 구비하는 저굴절률 입자로 할 수 있다. 구체적으로는, 내부에 공극을 갖는 저굴절률 실리카 입자를 이용할 수 있다.
입자 내부에 공극을 갖는 입자에 있어서는 공극의 부분을 공기의 굴절률(≒1)로 할 수 있기 때문에, 매우 낮은 굴절률을 구비하는 저굴절률 입자로 할 수 있다. 내부에 공극을 갖는 저굴절률 실리카 입자로서는, 다공질 실리카 입자나 셸(껍데기) 구조의 실리카 입자를 이용할 수 있다.
또한, 저굴절률 입자로서는 입경이 1nm 이상 100nm 이하인 것이 바람직하다. 입경이 100nm를 초과하는 경우, 레일리 산란에 의해 광이 현저하게 반사되어 저굴절률층이 백화되어, 반사 방지 필름의 투명성이 저하되는 경향이 있다. 한편, 입경이 1nm 미만인 경우, 입자의 응집에 의한 저굴절률층에서의 입자의 불균일성 등의 문제가 생긴다.
또한, 내부에 공극을 갖는 저굴절률 실리카 입자의 일례로서는, 구형의 형상을 유지한 채로 유리의 굴절률 1.45에 비하여 낮은 굴절률 1.35이고, 반경 20nm 이상 25nm 이하, 밀도(ρ1)의 구형 구조가 중심 부분에 있고, 주위를 두께 10nm 이상 15nm 이하의 다른 밀도(ρ2)의 층이 덮고 있고, (ρ1/ρ2)의 값이 0.5, 0.1, 0.0을 나타내고, 저굴절률 실리카 입자의 중심 부분은 외부의 실리카의 1/10 정도의 밀도로 되는 구조를 갖는 것을 이용할 수 있다.
또한, 바인더 매트릭스 형성 재료로서 이용되는 전리 방사선 경화형 재료로서는 아크릴계 재료를 이용할 수 있다. 아크릴계 재료로서는 다가 알코올의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르와 같은 단관능 또는 다관능의 (메트)아크릴레이트 화합물, 디이소시아네이트와 다가 알코올 및 아크릴산 또는 메타크릴산의 히드록시에스테르 등으로부터 합성되는 다관능의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 이들 외에도 전리 방사선형 재료로서 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등을 사용할 수 있다.
단관능의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 인산 (메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 인산 (메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 페녹시(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 페녹시(메트)아크릴레이트, 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 노닐페놀(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-2-히드록시프로필프탈레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필헥사히드로히드로겐프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라히드로히드로겐프탈레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 헥사플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-아다만탄 및 아다만탄디올로부터 유도되는 1가의 모노(메트)아크릴레이트를 갖는 아다만틸아크릴레이트 등의 아다만탄 유도체 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 2관능의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 부탄디올디(메트)아크릴레이트, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 노난디올디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-히드록시에틸이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판헥사(메트)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 이들 (메트)아크릴레이트의 일부를 알킬기나 ε-카프로락톤에 의해 치환한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.
아크릴계 재료 중에서도 원하는 분자량, 분자 구조를 설계할 수 있고, 형성되는 하드 코팅층의 물성의 균형을 용이하게 취하는 것이 가능하다고 하는 등의 이유로부터, 다관능 우레탄아크릴레이트를 바람직하게 이용할 수 있다. 우레탄아크릴레이트는 다가 알코올, 다가 이소시아네이트 및 수산기 함유 아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어진다.
또한, 전리 방사선 경화형 재료 외에 열가소성 수지 등을 첨가할 수도 있다. 열가소성 수지로서는 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 아세트산 비닐 및 그의 공중합체, 염화비닐 및 그의 공중합체, 염화비닐리덴 및 그의 공중합체 등의 비닐계 수지, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄 등의 아세탈 수지, 아크릴 수지 및 그의 공중합체, 메타크릴 수지 및 그의 공중합체 등의 아크릴계 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 선상 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지 등을 사용할 수 있는 열가소성 수지를 첨가함으로써 제조되는 필름의 컬링을 억제할 수 있다.
또한, 저굴절률층 형성 재료로는 반사 방지 필름 표면에 지문 등의 오염물이 부착되기 어렵게 하는 것, 부착된 오염물을 닦아내기 쉽게 하는 것을 목적으로 하여 발수 재료로 할 수 있다. 발수 재료로서 실리콘계 재료, 유기 규소 화합물, UV 경화형 발수제를 이용할 수 있다. 실리콘계 재료로서는 알킬아르알킬 변성 실리콘 오일, 알킬 변성 실리콘 오일, 폴리에테르 변성 실리콘 오일, 알킬폴리에테르 변성 실리콘 오일을 이용할 수도 있다. 나아가 불소를 함유하지 않고, (메트)아크릴기를 갖지 않는 유기 규소 화합물을 이용할 수도 있다. 구체적으로는 알킬알콕시실란 화합물, 실란실록산 화합물, 폴리에스테르기를 함유하는 실란 화합물, 폴리에테르기를 갖는 실란 화합물, 실록산 화합물을 이용할 수도 있다. 또한, UV 경화형 발수제로서 BYK-350이나 BYK-3500(빅케미ㆍ재팬 가부시끼가이샤 제조), F470(DIC 가부시끼가이샤 제조) 등을 이용할 수 있다.
또한, 바인더 매트릭스 형성 재료로서 열경화형 재료인 규소알콕시드의 가수분해물을 이용할 수 있다. 구체적으로는 화학식 (A) RxSi(OR)4-x(단, 식 중 R은 알킬기를 나타내고, x는 0≤x≤3을 만족하는 정수임)로 표시되는 규소알콕시드의 가수분해물을 이용할 수 있다.
화학식 (A)로 표시되는 규소알콕시드로서는, 예를 들면 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-iso-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라펜타에톡시실란, 테트라펜타-iso-프로폭시실란, 테트라펜타-n-프록시실란, 테트라펜타-n-부톡시실란, 테트라펜타-sec-부톡시실란, 테트라펜타-tert-부톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸프로폭시실란, 디메틸부톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 헥실트리메톡시실란 등을 이용할 수 있다. 규소알콕시드의 가수분해물은 화학식 (B)로 표시되는 금속알콕시드를 원료로서 얻어지는 것이면 되며, 예를 들면 염산으로 가수분해함으로써 얻어지는 것이다.
바인더 매트릭스 형성 재료로서 열경화형 재료인 규소알콕시드의 가수분해물을 이용하는 경우에는, 발수 재료로서 불소 화합물인 화학식 (B) R'zSi(OR)4-z(단, 식 중 R'는 알킬기, 플루오로알킬기 또는 플루오로알킬렌옥시드기를 갖는 비반응성 관능기를 나타내고, z는 1≤z≤3을 만족하는 정수임)로 표시되는 규소알콕시드의 가수분해물을 더 함유시킬 수 있다. 화학식 (B)로 표시되는 규소알콕시드의 가수분해물을 이용함으로써, 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에 방오성을 부여할 수 있다. 또한, 저굴절률층의 굴절률을 더 저하시킬 수 있다. 화학식 (C)로 표시되는 규소알콕시드로서는, 예를 들면 옥타데실트리메톡시실란, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
저굴절률층 형성용 도포액에 포함되는 용매로서는 톨루엔, 크실렌, 시클로헥산, 시클로헥실벤젠 등의 방향족 탄화수소류, n-헥산 등의 탄화수소류, 디부틸에테르, 디메톡시메탄, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 프로필렌옥시드, 디옥산, 디옥솔란, 트리옥산, 테트라히드로푸란, 아니솔 및 페네톨 등의 에테르류, 메틸이소부틸케톤, 메틸부틸케톤, 아세톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 및 메틸시클로헥사논 등의 케톤류, 포름산 에틸, 포름산 프로필, 포름산 n-펜틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸, 아세트산 n-펜틸 및 γ-부티로락톤 등의 에스테르류, 나아가 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 부틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브류, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 물 등 중에서 도공 적정 등을 고려하여 적절하게 선택된다.
또한, 바인더 매트릭스 형성 재료로서 이용되는 전리 방사선 경화형 재료를 이용하고 자외선에 의해 경화시키는 경우에 있어서는, 저굴절률층 형성용 도포액에 광중합 개시제를 첨가한다.
광중합 개시제로서는 자외선이 조사되었을 때에 라디칼을 발생하는 것이면 되며, 예를 들면 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥시드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류를 이용할 수 있다. 또한, 광중합 개시제의 첨가량은 전리 방사선 경화형 재료에 대하여 0.1중량% 이상 10중량% 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 1중량% 이상 8.5중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 저굴절률층 형성용 도포액에는 첨가제로서 표면 조정제, 굴절률 조정제, 밀착성 향상제, 경화제 등을 첨가할 수도 있다.
이상의 재료를 조정하여 얻어지는 저굴절률층 형성용 도포액을 습식 성막법에 의해 편재층(12) 상에 도포하여 저굴절률층의 도막을 형성하여 저굴절률층(13)을 형성할 수 있다. 이하에 저굴절률층의 형성 방법을 나타낸다.
저굴절률층 형성용 도포액은 편재층(12) 상에 도포되어 저굴절률층의 도막을 형성한다. 저굴절률층 형성용 도포액을 편재층 상에 도포하기 위한 도공 방법으로서는 롤 코터, 리버스 롤 코터, 그라비아 코터, 마이크로 그라비아 코터, 나이프 코터, 바 코터, 와이어 바 코터, 다이 코터, 딥 코터를 이용한 도포 방법을 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 저굴절률층(13)은 얇은 도막이며, 균일한 막 두께의 것이 필요하기 때문에 마이크로 그라비아 코터법을 이용하는 것이 바람직하다.
다음에, 편재층(12) 상에 형성된 저굴절률층의 도막을 건조시킴으로써 도막 중의 용매는 제거된다. 이때 건조 수단으로서는 가열, 송풍, 열풍 등을 이용할 수 있다. 또한, 건조 온도로서는 50℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내의 적절한 가열 건조를 행하는 것이 바람직하다.
다음에, 바인더 매트릭스 형성 재료로서 전리 방사선 경화형 재료를 이용한 경우에는, 저굴절률층 형성용 도포액을 편재층 상에 도포함으로써 얻어지는 저굴절률층의 도막에 대하여 전리 방사선을 조사함으로써 저굴절률층(13)이 형성된다.
전리 방사선으로서는 자외선, 전자선을 이용할 수 있다. 자외선 경화의 경우에는 고압 수은등, 저압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크, 크세논 아크 등의 광원을 이용할 수 있다. 또한, 전자선 경화의 경우에는 코크로프트 월턴형, 밴더그래프형, 공진 변압형, 절연 코어 변압기형, 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기로부터 방출되는 전자선을 이용할 수 있다. 전자선은 50 내지 1000KeV의 에너지를 갖는 것이 바람직하다. 100 내지 300KeV의 에너지를 갖는 전자선이 보다 바람직하다.
본 발명의 반사 방지 필름은 롤ㆍ투ㆍ롤 방식에 의해 연속 형성된다. 도 2에 도시한 바와 같이, 권취되어 있는 웹 형태의 투명 기재를 권출부(31)부터 권취부(32)까지 연속 주행시키고, 이때 투명 기재를 도포 유닛(21), 건조 유닛(22), 전리 방사선 조사 유닛(23)에 통과시킴으로써 투명 기재 상에 편재층이 연속 형성된다. 그 후, 저굴절률층을 마찬가지로 하여 유닛에 통과시킴으로써 편재층 상에 저굴절률층이 형성되고, 반사 방지 필름을 제조할 수 있다.
<실시예>
우선은, 본 실시예에서 얻어지는 반사 방지 필름에 대한 평가 방법에 대하여 나타낸다.
「시감 평균 반사율의 측정」
얻어지는 반사 방지 필름의 저굴절률층 형성면과 반대측의 면을 흑색 무광택 스프레이에 의해 흑색으로 도포하였다. 도포 후, 자동 분광 광도계(히따찌 세이사꾸쇼사 제조, U-4000)를 이용하여 측정한 저굴절률층 형성면에 대하여 C광원, 2도 시야의 조건 하에서의 입사각 5°에서의 분광 반사율을 측정하였다. 얻어지는 분광 반사율로부터 평균 시감 반사율(Y%)을 산출하였다. 또한, 비시감도는 명소에서 본 표준 비시감도를 이용하였다.
「헤이즈(H), 평행 광선 투과율의 측정」
얻어지는 반사 방지 필름에 대하여, 사상성(寫像性) 측정기(닛본 덴쇼꾸 고교사 제조, NDH-2000)를 사용하여 헤이즈(H), 평행 광선 투과율을 측정하였다.
「표면 저항치의 측정」
얻어지는 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에 대하여 JIS-K6911(1995)에 준거하여 고저항 저항률계(다이아 인스트루먼츠사 제조, 하이레스터 MCP-HT260)로 측정을 행하였다.
「접촉각의 측정」
얻어지는 반사 방지 필름의 편재층 표면 및 저굴절률층 표면에 대하여, 접촉각계(교와 가이멘 가가꾸사 제조 CA-X형)를 이용하여 건조 상태(20℃-65% RH)에서 바늘 끝에 직경 1.8mm의 액적을 만들고, 이것을 시료(고체)의 표면에 접촉시켜 액적을 만들었다. 접촉각이란, 고체와 액체가 접촉하는 점에서의 액체 표면에 대한 접선과 고체 표면이 이루는 각이며, 액체를 포함하는 측의 각도로 정의하였다. 액체로서는 증류수를 사용하였다. 또한, 상기 순수 접촉각의 측정 방법으로서는 JIS-R3257에 준거하여 측정하였다.
「연필 경도의 측정」
JIS K5600-5-4(1999)에 준거하여, 500g 하중에서 각 반사 방지 필름의 편재층 표면의 연필 경도를 측정하였다.
「색 불균일, 간섭 줄무늬의 평가」
얻어지는 반사 방지 필름에 대하여, 저굴절률층 표면에 형광등을 비쳐 반사광을 확인함으로써 색 불균일의 확인, 간섭 불균일의 확인을 행하였다.
육안으로 확인한 평가는, 이하의 기준으로 행하였다.
○ 표시: 색 불균일 및 간섭 줄무늬가 양호함
× 표시: 색 불균일 및 간섭 줄무늬가 양호하지 않음
「내찰상성(스틸울(SW))의 평가」
얻어지는 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에 대하여, 학진형 마찰 견뢰도 시험기(color fastness rubbing tester)(테스터 산교 가부시끼가이샤 제조, AB-301)를 이용하고, 광학 적층체의 저굴절률층 표면에 500g/cm2의 하중을 가한 스틸울(닛본 스틸울사 제조, 본스타 #0000)을 이용하여 10왕복 문지르고, 문지른 흔적이나 흠집 등에 의한 외관의 변화를 육안으로 평가하였다.
육안으로 확인한 평가는, 이하의 기준으로 행하였다.
○ 표시: 흠집을 확인할 수 없음
× 표시: 흠집을 확인할 수 있음
「연필 경도의 측정」
얻어지는 반사 방지 필름의 편재층 표면에 대하여, JIS K5600-5-4(1999)에 준거한 연필 경도 시험을 행하여 연필 경도를 구하였다.
이하의 판단 기준에 의해 편재층에서의 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 판정을 행하였다.
「편재층에서의 중간층의 확인」
「시감 평균 반사율의 측정」의 항에서 구한 분광 반사율로부터 중간층 유무의 확인을 행하였다. 구체적으로는, 얻어지는 분광 반사율 곡선에 있어서 편재층의 막 두께에 대응한 간섭 피크가 확인되지 않는 경우를 중간층 있음으로 판단하고, 편재층의 막 두께에 대응한 간섭 피크가 확인되는 경우를 중간층 없음으로 판단하였다.
○ 표시: 중간층 있음(간섭 피크 없음)
× 표시: 중간층 없음(간섭 피크 있음)
「편재층에서의 하드 코팅층의 확인」
「연필 경도의 측정」의 항에서 구한 편재층 표면의 연필 경도로부터, 편재층 표면의 연필 경도가 H 이상인 경우를 하드 코팅층 있음, H 미만인 경우를 하드 코팅층 없음으로 판단하였다.
○ 표시: 하드 코팅층 있음(연필 경도 H 이상)
× 표시: 하드 코팅층 없음(연필 경도 H 미만)
「편재층에서의 대전 방지층의 확인」
「표면 저항치의 측정」의 항에서 구한 표면 저항치로부터 대전 방지층 유무의 확인을 행하였다. 표면 저항치가 표면 저항치 1×1012Ω/cm2 이하인 경우를 대전 방지층 있음으로 판단하고, 편표면 저항치가 표면 저항치 1×1012Ω/cm2보다 큰 경우를 대전 방지층 없음으로 판단하였다.
○ 표시: 대전 방지층 있음(표면 저항치 1×1012Ω/cm2 이하)
× 표시: 대전 방지층 없음(표면 저항치 1×1012Ω/cm2보다 큼)
또한, 편재층 형성용 도포액에 도전성 재료를 첨가하지 않은 반사 방지 필름에 대해서는 「편재층에서의 대전 방지층의 확인」을 행하지 않았다.
「편재층에서의 레벨링층의 확인」
레벨링층의 존재는 편재층 표면의 접촉각 및 X선 광전자 분광 분석 장치에 의해 확인하였다. 편재층 표면의 접촉각의 측정 방법은 「접촉각의 측정」에서 나타낸 바와 같다. X선 광전자 분광 분석 장치(JPS-90MXV micro(닛본 덴시 제조))를 이용하여 편재층 표면의 표면 분석을 행함으로써 판단하였다. 접촉각이 60°이상이고, XPS 측정에 있어서 레벨링층 특유의 원소가 검출되고, 도전성 재료 특유의 원소가 미검출된 것을 레벨링층 있음으로 판단하고, 접촉각이 60°미만 및/또는 XPS에 의한 표면 분석에 있어서 염소가 검출되는 것을 레벨링층 없음으로 판단하였다. 또한, 원자량비로 0.1원자% 이하의 것은 미검출로 하였다. 또한, 측정 시의 X선 강도는 100W(10kV, 10mA)로 하였다.
○ 표시: 레벨링층 있음(접촉각 65°이상, 레벨링 재료 특유 원소 검출, 도전성 재료 특유 원소 미검출)
× 표시: 레벨링층 없음(상기 이외)
또한, 레벨링 재료 특유의 원소는 이하와 같다.
ㆍ불소를 갖는 화합물 : F
ㆍ실록산 결합을 갖는 화합물 : Si
또한, 도전성 재료 특유의 원소는 이하와 같다.
ㆍ4급 암모늄염 재료 : Cl
ㆍ금속 산화물 입자(안티몬 함유 산화주석) : Sn
ㆍ금속 산화물 입자(인 함유 산화주석) : Sn
ㆍ도전성 고분자(폴리티오펜) : S
ㆍ도전성 고분자(폴리아닐린) : N
다음에, 본 실시예에서 제작한 반사 방지 필름의 제작 방법에 대하여 나타낸다.
(A) 레벨링 재료: 불소를 갖는 화합물×도전성 재료: 4급 암모늄염 재료
이하에, 레벨링 재료로서 불소를 갖는 화합물, 도전성 재료로서 4급 암모늄염 재료를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 A1 내지 A13의 (조정예)를 나타낸다.
(합성예 1)
교반 날개, 환류 냉각관, 드라이 에어 도입관, 온도계를 구비한 4구 플라스크에,
ㆍ옥틸폴리에틸렌글리콜폴리프로필렌글리콜메타크릴레이트(상품명: 「브렘머 50POEP-800B」 닛본 유시사 제조) 18.0g
ㆍ메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄클로라이드 35.0g
ㆍ시클로헥실메타크릴레이트 14.0g
ㆍ아조비스이소부티로니트릴 0.3g
ㆍ이소프로필알코올 100.0g
ㆍ메틸에틸케톤 40.0g
을 투입하고, 질소 분위기 하에 65℃에서 3시간 중합하였다. 중합 종료 후, 반응액을 헥산 중에 투입하고, 생성물을 석출시킨 후 건조시켰다. 얻어진 4급 암모늄염 재료의 중량 평균 분자량은 18500이었다.
<조정예 A1>
(편재층 형성 도포액 A1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액(調液)하여 편재층 형성 도포액 A1로 하였다.
<조정예 A2>
(편재층 형성 도포액 A2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍNR-121X-9IPA 20중량부
ㆍF-470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A2로 하였다.
<조정예 A3>
(편재층 형성용 도포액 A3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍF489 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A3으로 하였다.
<조정예 A4>
(편재층 형성 도포액 A4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍ프터젠트 222F 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A4로 하였다.
<조정예 A5>
(편재층 형성 도포액 A5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ라이트에스테르 DQ100(분자량 208) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A5로 하였다.
<조정예 A6>
(편재층 형성 도포액 A6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍp-스티렌술폰산 암모늄염 단독중합체(분자량 12만) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A6으로 하였다.
<조정예 A7>
(편재층 형성 도포액 A7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 0.01중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A7로 하였다.
<조정예 A8>
(편재층 형성 도포액 A8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 0.01중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A8로 하였다.
<조정예 A9>
(편재층 형성 도포액 A9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A9로 하였다.
<조정예 A10>
(편재층 형성 도포액 A10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A10으로 하였다.
<조정예 A11>
(편재층 형성 도포액 A11)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A11로 하였다.
<조정예 A12>
(편재층 형성 도포액 A12)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A12로 하였다.
<조정예 A13>
(편재층 형성 도포액 A13)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 A13으로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 A의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 A)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12) 2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 A로 하였다.
[실시예 A1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 A1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로(乾燥爐) 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 A를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 A1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 A2] 내지 [실시예 A11]
[실시예 A2] 내지 [실시예 A11]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 A1 대신에 편재층 형성 도포액 A2 내지 A11을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 A2] 내지 [실시예 A11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 A12] 내지 [실시예 A14]
[실시예 A12]에 있어서는 편재층 형성 도포액 A1을 이용하고 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 A12]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 A13]에 있어서는 편재층 형성 도포액 A1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 A13]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 A14]에 있어서는 편재층 형성 도포액 A1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 A14]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 A15], [실시예 A16]
[실시예 A15], [실시예 A16]에 있어서는 편재층 형성 도포액 A1 대신에 편재층 형성 도포액 A12, A13을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 A15], [실시예 A16]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 1에 [실시예 A1] 내지 [실시예 A16]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00004
얻어진 [실시예 A1] 내지 [실시예 A16]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 2에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00005
(B) 레벨링 재료: 불소를 갖는 화합물×도전성 재료: 금속 산화물 입자
이하에, 레벨링 재료로서 불소를 갖는 화합물, 도전성 재료로서 금속 산화물 입자를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 B1 내지 B12의 (조정예)를 나타낸다.
<조정예 B1>
(편재층 형성 도포액 B1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B1로 하였다.
<조정예 B2>
(편재층 형성 도포액 B2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ인 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B2로 하였다.
<조정예 B3>
(편재층 형성 도포액 B3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF489 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B3으로 하였다.
<조정예 B4>
(편재층 형성 도포액 B4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ프터젠트 222F 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B4로 하였다.
<조정예 B5>
(편재층 형성 도포액 B5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)0.01중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B5로 하였다.
<조정예 B6>
(편재층 형성 도포액 B6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액) (고형분)100중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B6으로 하였다.
<조정예 B7>
(편재층 형성 도포액 B7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 1000nm/이소프로필알코올 분산액) (고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B7로 하였다.
<조정예 B8>
(편재층 형성 도포액 B8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B8로 하였다.
<조정예 B9>
(편재층 형성 도포액 B9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B9로 하였다.
<조정예 B10>
(편재층 형성 도포액 B10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B10으로 하였다.
<조정예 B11>
(편재층 형성 도포액 B11)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B11로 하였다.
<조정예 B12>
(편재층 형성 도포액 B12)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 B12로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 B의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 B)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12)
2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 B로 하였다.
[실시예 B1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 B1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 B를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 B1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 B2] 내지 [실시예 B10]
[실시예 B2] 내지 [실시예 B10]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 B1 대신에 편재층 형성 도포액 B2 내지 B10을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 B1]과 마찬가지로 하여 [실시예 B2] 내지 [실시예 B10]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 B11] 내지 [실시예 B13]
[실시예 B11]에 있어서는 편재층 형성 도포액 B1을 이용하고, 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 B1]과 마찬가지로 하여 [실시예 B11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 B12]에 있어서는 편재층 형성 도포액 B1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 B1]과 마찬가지로 하여 [실시예 B12]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 B13]에 있어서는 편재층 형성 도포액 B1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 B1]과 마찬가지로 하여 [실시예 B13]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 B14], [실시예 B15]
[실시예 B14], [실시예 B15]에 있어서는 편재층 형성 도포액 B1 대신에 편재층 형성 도포액 B11, B12를 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 B1]과 마찬가지로 하여 [실시예 B14], [실시예 B15]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 3에 [실시예 B1] 내지 [실시예 B15]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00006
얻어진 [실시예 B1] 내지 [실시예 B15]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 4에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00007
(C) 레벨링 재료: 불소를 갖는 화합물×도전성 재료: 도전성 고분자
이하에, 레벨링 재료로서 불소를 갖는 화합물, 도전성 재료로서 도전성 고분자를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 C1 내지 C10의 (조정예)를 나타낸다.
<조정예 C1>
(편재층 형성 도포액 C1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C1로 하였다.
<조정예 C2>
(편재층 형성 도포액 C2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 300nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C2로 하였다.
<조정예 C3>
(편재층 형성 도포액 C3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF489 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C3으로 하였다.
<조정예 C4>
(편재층 형성 도포액 C4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ프터젠트 222F 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C4로 하였다.
<조정예 C5>
(편재층 형성 도포액 C5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)0.01중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C5로 하였다.
<조정예 C6>
(편재층 형성 도포액 C6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C6으로 하였다.
<조정예 C7>
(편재층 형성 도포액 C7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C7로 하였다.
<조정예 C8>
(편재층 형성 도포액 C8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍF470 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C8로 하였다.
<조정예 C9>
(편재층 형성 도포액 C9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C9로 하였다.
<조정예 C10>
(편재층 형성 도포액 C10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 C10으로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 C의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 C)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12) 2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 C로 하였다.
[실시예 C1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 C1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 C를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 C1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 C2] 내지 [실시예 C8]
[실시예 C2] 내지 [실시예 C8]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 C1 대신에 편재층 형성 도포액 C2 내지 C8을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 C1]과 마찬가지로 하여 [실시예 C2] 내지 [실시예 C8]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 C9] 내지 [실시예 C11]
[실시예 C9]에 있어서는 편재층 형성 도포액 C1을 이용하고, 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 C1]과 마찬가지로 하여 [실시예 C9]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 C10]에 있어서는 편재층 형성 도포액 C1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 C1]과 마찬가지로 하여 [실시예 C10]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 C11]에 있어서는 편재층 형성 도포액 C1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 C1]과 마찬가지로 하여 [실시예 C11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 C12], [실시예 C13]
[실시예 C12], [실시예 C13]에 있어서는 편재층 형성 도포액 C1 대신에 편재층 형성 도포액 C9, C10을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 C1]과 마찬가지로 하여 [실시예 C12], [실시예 C13]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 5에 [실시예 C1] 내지 [실시예 C13]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00008
얻어진 [실시예 C1] 내지 [실시예 C13]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 6에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00009
(D) 레벨링 재료: 실록산 결합을 갖는 화합물×도전성 재료: 4급 암모늄염 재료
이하에, 레벨링 재료로서 실록산 결합을 갖는 화합물, 도전성 재료로서 4급 암모늄염 재료를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 D1 내지 D12의 (조정예)를 나타낸다.
(합성예 1)
교반 날개, 환류 냉각관, 드라이 에어 도입관, 온도계를 구비한 4구 플라스크에,
ㆍ옥틸폴리에틸렌글리콜폴리프로필렌글리콜메타크릴레이트(상품명: 「브렘머 50POEP-800B」 닛본 유시사 제조) 18.0g
ㆍ메타크릴로일옥시에틸트리메틸암모늄클로라이드 35.0g
ㆍ시클로헥실메타크릴레이트 14.0g
ㆍ아조비스이소부티로니트릴 0.3g
ㆍ이소프로필알코올 100.0g
ㆍ메틸에틸케톤 40.0g
을 투입하고, 질소 분위기 하에 65℃에서 3시간 중합하였다. 중합 종료 후, 반응액을 헥산 중에 투입하고, 생성물을 석출시킨 후 건조시켰다. 얻어진 4급 암모늄염 재료의 중량 평균 분자량은 18500이었다.
<조정예 D1>
(편재층 형성 도포액 D1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D1로 하였다.
<조정예 D2>
(편재층 형성 도포액 D2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍNR-121X-9IPA 20중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D2로 하였다.
<조정예 D3>
(편재층 형성 도포액 D3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍBYK-Silclean3700 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D3으로 하였다.
<조정예 D4>
(편재층 형성 도포액 D4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ라이트에스테르 DQ100(분자량 208) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D4로 하였다.
<조정예 D5>
(편재층 형성 도포액 D5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍp-스티렌술폰산암모늄염 단독 중합체(분자량 12만) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D5로 하였다.
<조정예 D6>
(편재층 형성 도포액 D6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 0.01중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D6으로 하였다.
<조정예 D7>
(편재층 형성 도포액 D7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 100중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D7로 하였다.
<조정예 D8>
(편재층 형성 도포액 D8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D8로 하였다.
<조정예 D9>
(편재층 형성 도포액 D9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D9로 하였다.
<조정예 D10>
(편재층 형성 도포액 D10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D10으로 하였다.
<조정예 D11>
(편재층 형성 도포액 D11)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ합성예 1에서 제작한 4급 암모늄염 재료(분자량 18500) 10중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D11로 하였다.
<조정예 D12>
(편재층 형성 도포액 D12)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 D12로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 D의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 D)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12) 2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 D로 하였다.
[실시예 D1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 D1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 D를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 D1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 D2] 내지 [실시예 D10]
[실시예 D2] 내지 [실시예 D10]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 D1 대신에 편재층 형성 도포액 D2 내지 D10을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 D1]과 마찬가지로 하여 [실시예 D2] 내지 [실시예 D10]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 D11] 내지 [실시예 D13]
[실시예 D11]에 있어서는 편재층 형성 도포액 D1을 이용하고, 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 D1]과 마찬가지로 하여 [실시예 D11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 D12]에 있어서는 편재층 형성 도포액 D1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 A1]과 마찬가지로 하여 [실시예 D12]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 D13]에 있어서는 편재층 형성 도포액 D1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 D1]과 마찬가지로 하여 [실시예 D13]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 D14], [실시예 D15]
[실시예 D14], [실시예 D15]에 있어서는 편재층 형성 도포액 D1 대신에 편재층 형성 도포액 D11, D12를 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 D1]과 마찬가지로 하여 [실시예 D14], [실시예 D15]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 7에 [실시예 D1] 내지 [실시예 D15]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00010
얻어진 [실시예 D1] 내지 [실시예 D15]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 8에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00011
(E) 레벨링 재료: 실록산 결합을 갖는 화합물×도전성 재료: 금속 산화물 입자
이하에, 레벨링 재료로서 아실옥산 결합을 갖는 화합물, 도전성 재료로서 금속 산화물 입자를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 E1 내지 E11의 (조정예)를 나타낸다.
<조정예 E1>
(편재층 형성 도포액 E1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E1로 하였다.
<조정예 E2>
(편재층 형성 도포액 E2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ인 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E2로 하였다.
<조정예 E3>
(편재층 형성 도포액 E3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-Silclean3700 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E3으로 하였다.
<조정예 E4>
(편재층 형성 도포액 E4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)0.01중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E4로 하였다.
<조정예 E5>
(편재층 형성 도포액 E5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)100중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E5로 하였다.
<조정예 E6>
(편재층 형성 도포액 E6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 1000nm/이소프로필알코올 분산액) (고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E6으로 하였다.
<조정예 E7>
(편재층 형성 도포액 E7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E7로 하였다.
<조정예 E8>
(편재층 형성 도포액 E8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E8로 하였다.
<조정예 E9>
(편재층 형성 도포액 E9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E9로 하였다.
<조정예 E10>
(편재층 형성 도포액 E10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ안티몬 함유 산화주석(평균 입경 50nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E10으로 하였다.
<조정예 E11>
(편재층 형성 도포액 E11)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 E11로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 E의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 E)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12) 2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 E로 하였다.
[실시예 E1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 E1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 E를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 E1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 E2] 내지 [실시예 E9]
[실시예 E2] 내지 [실시예 E9]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 E1 대신에 편재층 형성 도포액 E2 내지 E9를 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 E1]과 마찬가지로 하여 [실시예 E2] 내지 [실시예 E9]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 E10] 내지 [실시예 E12]
[실시예 E10]에 있어서는 편재층 형성 도포액 E1을 이용하고, 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 E1]과 마찬가지로 하여 [실시예 E10]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 E11]에 있어서는 편재층 형성 도포액 E1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 E1]과 마찬가지로 하여 [실시예 E11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 E12]에 있어서는 편재층 형성 도포액 E1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 E1]과 마찬가지로 하여 [실시예 E12]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 E13], [실시예 E14]
[실시예 E13], [실시예 E14]에 있어서는 편재층 형성 도포액 E1 대신에 편재층 형성 도포액 E13, E14를 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 E1]과 마찬가지로 하여 [실시예 E13], [실시예 E14]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 9에 [실시예 E1] 내지 [실시예 E14]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00012
얻어진 [실시예 E1] 내지 [실시예 E14]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 10에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00013
(F) 레벨링 재료: 실록산 결합을 갖는 화합물×도전성 재료: 4급 암모늄염
이하에, 레벨링 재료로서 실록산 결합을 갖는 화합물, 도전성 재료로서 도전성 고분자를 이용한 경우의 실시예에 대하여 나타낸다.
이하에 편재층 형성 도포액 F1 내지 F10의 (조정예)를 나타낸다.
<조정예 F1>
(편재층 형성 도포액 F1)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F1로 하였다.
<조정예 F2>
(편재층 형성 도포액 F2)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리아닐린(평균 입경 75nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F2로 하였다.
<조정예 F3>
(편재층 형성 도포액 F3)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 300nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F3으로 하였다.
<조정예 F4>
(편재층 형성 도포액 F4)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-Silclean3700 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F4로 하였다.
<조정예 F5>
(편재층 형성 도포액 F5)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)0.01중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F5로 하였다.
<조정예 F6>
(편재층 형성 도포액 F6)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F6으로 하였다.
<조정예 F7>
(편재층 형성 도포액 F7)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 20중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F7로 하였다.
<조정예 F8>
(편재층 형성 도포액 F8)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍBYK-330 0.1중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 90중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F8로 하였다.
<조정예 F9>
(편재층 형성 도포액 F9)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ폴리티오펜(평균 입경 100nm/이소프로필알코올 분산액)
(고형분)5중량부
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F9로 하였다.
<조정예 F10>
(편재층 형성 도포액 F10)
우레탄아크릴레이트(교에이샤 가가꾸사 제조 UA-306T) 100중량부에 대하여,
ㆍ디펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50중량부
ㆍ펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 50중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 10중량부
를 준비하고, 이것들을 메틸에틸케톤을 이용하여 고형분이 50중량%가 되도록 조액하여 편재층 형성 도포액 F10으로 하였다.
이하에 저굴절률층 형성 도포액 F의 (조정예)를 나타낸다.
(저굴절률층 형성 도포액 F)
ㆍ다공질 실리카 미립자의 분산액(평균 입경 50nm/고형분 20중량%/메틸이소부틸케톤 분산액) (고형분)2.5중량부
ㆍEO 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(닛본 가야꾸사 제조 DPEA-12) 2.5중량부
ㆍ광중합 개시제(시바 재팬사 제조 이르가큐어 184) 0.1중량부
를 준비하고, 이것들을 이소프로필알코올을 이용하여 고형분이 5중량%가 되도록 조액하여 저굴절률층 형성 도포액 F로 하였다.
[실시예 F1]
(편재층의 형성)
트리아세틸셀룰로오스 필름(후지 필름사 제조: 막 두께 80㎛)의 한쪽 면에 편재층 형성 도포액 F1을 도포하고, 1차 건조로서 25℃에서 10초간 건조로 내에서 건조시키고, 연속해서 2차 건조로서 80℃에서 50초간 건조로 내에서 건조하여 건조시킨 후, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 300mJ/m2로 자외선 조사를 행함으로써 건조막 두께 5㎛의 투명한 편재층을 형성하였다.
(저굴절률층의 형성)
형성한 편재층 상에 저굴절률층 형성 도포액 F를 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하였다. 제1 건조 온도 25℃로 25초 행한 후, 제2 건조 온도 80℃로 50초 행한 후에, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사 제조, 광원 H 밸브)를 이용하여 조사선량 192mJ/m2로 자외선 조사를 행하여 경막시켜 저굴절률층을 형성하여, [실시예 F1]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 F2] 내지 [실시예 F8]
[실시예 F2] 내지 [실시예 F8]에 있어서는 편재층 형성용 도포액 F1 대신에 편재층 형성 도포액 F2 내지 F8을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 F1]과 마찬가지로 하여 [실시예 F2] 내지 [실시예 F8]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 F9] 내지 [실시예 F11]
[실시예 F9]에 있어서는 편재층 형성 도포액 F1을 이용하고, 제1 건조 온도를 50℃, 제2 건조 온도를 60℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 F1]과 마찬가지로 하여 [실시예 F9]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 F10]에 있어서는 편재층 형성 도포액 F1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 25℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 F1]과 마찬가지로 하여 [실시예 F10]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 F11]에 있어서는 편재층 형성 도포액 F1을 이용하고, 1차 건조 온도 및 2차 건조 온도를 모두 80℃로 하여 편재층을 형성하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 F1]과 마찬가지로 하여 [실시예 F11]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
[실시예 F12], [실시예 F13]
[실시예 F12], [실시예 F13]에 있어서는 편재층 형성 도포액 F1 대신에 편재층 형성 도포액 F9, F10을 이용하고, 그 밖의 제조 조건은 [실시예 F1]과 마찬가지로 하여 [실시예 F12], [실시예 F13]의 반사 방지 필름을 제작하였다.
표 11에 [실시예 F1] 내지 [실시예 F13]에서의 제조 조건을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00014
얻어진 [실시예 F1] 내지 [실시예 F13]의 반사 방지 필름에 대하여 상술한 바와 같이 평가를 행하고, 편재층 중의 각 층의 형성 상태를 확인하였다. 표 12에 평가 결과 등을 정리한 것을 나타낸다.
Figure 112012058058722-pct00015
실시예의 결과, 편재층을 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층으로 구성되는 반사 방지 필름으로 함으로써, 낮은 제조 비용과 우수한 광학 특성, 높은 내찰상성, 대전 방지 성능을 구비하는 반사 방지 필름을 제공할 수 있었다.
1: 반사 방지 필름
11: 투명 기재
12: 편재층
12a: 중간층
12b: 하드 코팅층
12c: 대전 방지층
12d: 레벨링층
13: 저굴절률층
21: 도포 유닛
22: 건조 유닛
22a: 1차 건조 유닛
22b: 2차 건조 유닛
23: 전리 방사선 조사 유닛
31: 권출부
32: 권취부

Claims (13)

  1. 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름이며,
    상기 편재층은 적어도 투명 기재측으로부터 중간층, 하드 코팅층, 도전성 재료를 포함하는 대전 방지층, 레벨링 재료를 포함하는 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되고,
    상기 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반사 방지 필름의 평행 광선 투과율이 93% 이상이고,
    상기 반사 방지 필름의 헤이즈가 1.0% 이하의 범위 내이고,
    상기 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 표면 저항치가 1×105Ω/cm2 이상 1×1012Ω/cm2 이하의 범위 내이고,
    상기 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에서의 순수(純水) 접촉각이 80°이상 130°이하의 범위 내인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 불소를 갖는 화합물이 퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물 또는 불소화 알케닐기를 갖는 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료, 금속 산화물 입자, 도전성 고분자로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고,
    상기 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고,
    상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고,
    상기 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고,
    상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 불소를 갖는 화합물을 포함하고,
    상기 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고,
    상기 불소를 갖는 화합물의 분자량(A)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 4급 암모늄염 재료를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하고,
    상기 4급 암모늄염 재료의 분자량(Q)이 1000 이상 100000 이하이고,
    상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 금속 산화물 입자를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물이고,
    상기 금속 산화물 입자의 평균 입경이 1nm 이상 500nm 이하이고,
    상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 대전 방지층에 포함되는 도전성 재료가 도전성 고분자를 포함하고,
    상기 레벨링층에 포함되는 레벨링 재료가 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하고,
    상기 도전성 고분자의 평균 입경이 1nm 이상 1000nm 이하이고,
    상기 실록산 결합을 갖는 화합물의 분자량(B)이 500 이상 100000 이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
  11. 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 편재층과 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 반사 방지 필름의 제조 방법이며,
    상기 투명 기재의 적어도 한쪽 면에, 전리 방사선 경화형 재료와 도전성 재료와 레벨링 재료와 용제를 포함하는 편재층 형성 도포액을 도포하여 편재층의 도막을 형성하는 도포 공정과,
    상기 편재층의 도막에 1차 건조와 2차 건조를 실시하는 건조 공정과,
    상기 편재층의 도막에 전리 방사선을 조사하여 편재층을 형성하는 경막 공정과,
    저굴절률층 형성 재료와 용제를 포함하는 저굴절률층 형성 도포액을 도포하여 저굴절률층의 도막을 형성하는 도포 공정과,
    상기 저굴절률층의 도막을 건조시키는 건조 공정과,
    상기 저굴절률층의 도막에 전리 방사선을 조사하거나 상기 저굴절률층의 도막을 가열하여 상기 저굴절률층을 형성하는 경막 공정을 순서대로 구비하고,
    상기 편재층이 중간층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 레벨링층의 순으로 편재하여 적층되고,
    상기 레벨링 재료가 적어도 불소를 갖는 화합물 또는 실록산 결합을 갖는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 편재층 형성 도포액에 포함되는 전체 용매 중 30중량% 이상의 용매가 투명 기재를 용해 또는 팽윤시키는 용매이고,
    상기 편재층 형성 도포액 중에 용매가 25중량% 이상 85중량% 이하의 범위 내의 비율로 포함되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 편재층의 도막을 건조시키는 건조 공정이,
    건조 온도 15℃ 이상 30℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 1차 건조와, 건조 온도 40℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내에서 행해지는 2차 건조의 2단계의 연속되는 건조를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름의 제조 방법.
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