CN102725661A - 抗反射膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供一种抗反射膜，其制造成本低，另外具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性和抗静电功能。一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，前述偏在层通过至少从透明基材侧，使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。

Description

抗反射膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及以防止外部光在窗、显示器等的表面发生反射为目的而设置的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)、CRT显示器、有机电致发光显示器(ELD)、等离子体显示板(PDP)、表面电场显示器(SED)、场致发射显示器(FED)等显示器的表面的抗反射膜。特别涉及设置于液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。进一步涉及设置于透射型液晶显示器(LCD)表面的抗反射膜。
背景技术
一般而言显示器不论是在室内还是室外使用，都是在外部光等入射的环境下使用。该外部光等入射光在显示器表面等发生镜面反射，由其导致的反射像与显示图像混合，从而降低屏幕显示品质。因此，必须赋予显示器表面等以抗反射功能，并且对抗反射功能的高性能化、除抗反射功能以外的功能的复合化提出了要求。
抗反射功能一般通过在透明基材上形成多层结构的防反射层而获得，所述多层结构的防反射层基于由金属氧化物等透明材料形成的高折射率层和低折射率层的重复结构而成。这些具有多层结构的防反射层可通过化学蒸镀(CVD)法、物理蒸镀(PVD)法这样的干式成膜法而形成。
使用干式成膜法形成防反射层时，具有可精密控制低折射率层、高折射率层的膜厚的优点，而由于在真空中进行成膜，因此存在有生产率低，不适于大量生产的问题。而作为防反射层的形成方法，利用能实现大面积化、连续生产、低成本化的使用涂液的湿式成膜法来生产抗反射膜受到人们的注目。
另外，这些在透明基材上设置有防反射层的抗反射膜，由于其表面比较柔软，因此为了赋予表面硬度，一般使用如下技术：设置将丙烯酸类材料固化而获得的硬涂层，在其上形成防反射层。此硬涂层因采用丙烯酸类材料而具有高的表面硬度、光泽性、透明性、耐擦伤性。
通过湿式成膜法形成防反射层时，在将这些电离放射线固化型材料固化而获得的硬涂层之上，至少涂布低折射率层而制造，与干式成膜法相比有可廉价制造的优点，广泛地进入市场。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-202389号公报
专利文献2：日本特开2005-199707号公报
专利文献3：日本特开平11-92750号公报
专利文献4：日本特开2007-121993号公报
专利文献5：日本特开2005-144849号公报
专利文献6：日本特开2006-159415号公报
专利文献7：日本特开2007-332181号公报
发明内容
发明要解决的课题
将抗反射膜设置于显示器表面，通过其抗反射功能能抑制外部光的反射，能提高亮处的对比度。
另外，由于能同时提高透光率，因此可使图像更明亮地显示。另外还可期待抑制背光源的输出等的节能效果。
在抗反射膜方面，要求开发出制造成本低的抗反射膜。另外在抗反射膜方面，要求开发出抗反射性能优异、无干涉不均的光学特性优异的抗反射膜。另外，由于抗反射膜设置于显示器表面因此要求高的耐擦伤性。另外，在抗反射膜方面，为了防止灰尘附着而要求开发出具备抗静电功能的抗反射膜。本发明的课题在于提供一种抗反射膜，其制造成本低，且具备优异的光学特性以及优异的耐擦伤性及抗静电功能。
用于解决问题的方案
为了解决上述课题，权利要求1的发明为一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，前述偏在层通过至少从透明基材侧使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
另外，权利要求2的发明为根据权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，前述抗反射膜的平行光线透光率在93％以上，且前述抗反射膜的雾度为1.0％以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且前述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角为80°以上130°以下的范围内。
另外，权利要求3的发明为根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其特征在于，前述具有氟的化合物选自具有全氟烷基的化合物或者具有氟化链烯基的化合物。
另外，权利要求4的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子。
另外，权利要求5的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。
另外，权利要求6的发明为根据权利要求1～3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为1nm以上500nm以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。
另外，权利要求7的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1nm以上1000nm以下，且前述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。
另外，权利要求8的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
另外，权利要求9的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述金属氧化物颗粒的平均粒径为1nm以上500nm以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
另外，权利要求10的发明为根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，前述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且前述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且前述导电性高分子的平均粒径为1nm以上1000nm以下，且前述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
另外，权利要求11的发明为一种抗反射膜的制造方法，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到抗反射膜的制造方法，其特征在于，顺次具备如下工序：形成偏在层的涂膜的涂布工序，在前述透明基材的至少一个面上，涂布偏在层形成涂液，形成偏在层的涂膜，上述偏在层形成涂液包含电离放射线固化型材料、导电性材料、流平材料和溶剂；对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序；对前述偏在层的涂膜照射电离放射线，形成偏在层的硬膜工序；涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液，形成低折射率层的涂膜的涂布工序；将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序；形成前述低折射率层的硬膜工序；且前述偏在层通过使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到，且前述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
另外，权利要求12的发明为根据权利要求11所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，前述偏在层形成涂液中所含的全部溶剂之中30wt％以上的溶剂为可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，且前述偏在层形成涂液中所包含溶剂的比例在25wt％以上85wt％以下的范围内。
另外，权利要求13的发明为根据权利要求11或12所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，将前述偏在层的涂膜干燥的干燥工序包含：在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥、以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥这样的二阶段连续干燥。
发明的效果
根据本发明的抗反射膜以及抗反射膜的制造方法，可提供：具备低的制造成本以及优异的光学特性、高的耐擦伤性、抗静电性能的抗反射膜。特别是能制成耐擦伤性优异的抗反射膜。
附图说明
图1所示为本发明的一个实施例的抗反射膜的剖面模式图。
图2所示为本发明的一个实施例的抗反射膜的制造工序的示意图。
具体实施方式
对本发明的抗反射膜进行说明。图1示出了本发明的抗反射膜(1)的剖面模式图。
本发明的抗反射膜(1)中，在透明基材(11)的至少一个面上从透明基材侧顺次具备偏在层(12)、低折射率层(13)。偏在层(12)包含作为粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料、作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子、流平材料，用电离放射线使电离放射线材料等固化而形成粘合基质从而可赋予抗反射膜以高的表面硬度。此处，偏在层从透明基材侧顺次形成有中间层(12a)、硬涂层(12b)、使前述导电性材料偏在的抗静电层(12c)、使流平材料偏在的流平层(12d)。而且，本发明的抗反射膜中流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
在透明基材(11)与偏在层(12)的界面形成有中间层(12a)。在中间层(12a)中混合存在有透明基材成分和偏在层的电离辐射固化型材料成分。在中间层(12a)中，在厚度方向从透明基材(11)侧朝向低折射率层(13)侧而从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率。
通过设置从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率的中间层(12a)，可防止在偏在层与透明基材的界面产生的干涉条纹的产生。另外，中间层可提高透明基材(11)与偏在层(12)间的密接性。予以说明，中间层可通过在形成偏在层时在偏在层形成用涂液中包含可溶解或者溶胀透明基材的溶剂而形成。
中间层(12a)可通过对所获得的抗反射膜，从低折射率侧以5°入射角而求出分光反射率，从而确认其存在。根据所获得的分光反射率而确认出对应于低折射率层的层厚的干涉峰(分光谱图的波形可看到多个纹波)时判断为没有形成中间层(12a)，在将背面涂黑处理而得到的外观检查中可观察到干涉条纹不均匀。而根据所获得的分光反射率而没有确认出对应于低折射率层的层厚的干涉峰时判断为形成有中间层(12a)，在基于背面涂黑处理的外观检查中完全不会发现干涉不均。
予以说明，干涉条纹、干涉不均是由光学干涉导致的色不均匀的一种，主要起因于透明基材与硬涂层的折射率差，并且在膜厚为厚时是多个光学干涉同时发生并且彩虹颜色状地观察到色不均匀的现象。色不均匀是因为由低折射率层的膜厚不均匀导致的反射色不均匀而使得面内的色差变大的现象。
硬涂层(12b)主要以电离放射线固化型材料为成分，提高抗反射膜的表面硬度，赋予耐擦伤性。硬涂层可根据偏在层表面的铅笔硬度来判断其是否形成。
另外，抗静电层(12c)通过使导电性材料偏在，赋予抗反射膜以抗静电性能。通过使导电性材料偏在，与使导电性材料分散相比可减少用量，可降低制造成本。抗静电层可根据抗反射膜的表面电阻值而判断是否形成有抗静电层。
另外，流平层(12d)在抗静电层上使流平材料偏在。流平层提高偏在层和低折射率层的密接性，防止低折射率层从偏在层剥离，赋予抗反射膜以耐擦伤性。
在本发明的抗反射膜中在偏在层(12)中形成有流平层(12d)的情况，可通过基于X射线光电子分光分析装置(XPS)的表面分析来判断是否形成有。
另外，也可通过基于X射线光电子分光分析装置(XPS)的深度方向分析(深度剖析)来判断在流平层之下有无抗静电层(12c)。
XPS是分析试样表面的化学状态的装置。对试样照射X射线(能量：hν)时，则在光电效果的作用下元素内的内壳电子被激发出来，此时的光电子的运动能量(Ek)由通式(A)表示。此处，Eb为内壳电子的能量水平(结合能)，
Figure BPA00001581291300082
为装置或试样的功函数。另外Eb为元素固有的值，因该元素的化学状态而变化。而在固体内电子在保持有能量的状态下可通过的距离充其量为数十
Figure BPA00001581291300083
XPS通过测定从试样表面排放出的光电子的Ek及其数值，可分析从试样表面到数十
Figure BPA00001581291300084
的深度为止存在的元素的种类、量、以及化学状态的装置。另外，XPS通过与离子蚀刻组合，从而可实现深度方向分析。
在偏在层(12)之上设置的低折射率层(13)赋予抗反射膜以抗反射功能。此时低折射率层(13)的膜厚(d)按照如下方式而设计：通过在该膜厚(d)乘以低折射率层的折射率(n)而获得的光学膜厚(nd)与可见光的波长的1/4相等。低折射率层(13)通过将包含低折射率层形成材料的涂液涂布于偏在层上而形成。
在偏在层形成材料中含有并偏在导电性材料并且在偏在层表面形成低折射率层时，使导电性材料偏在的抗静电层与抗静电层上的低折射率层的密接性差，于是，有时因低折射率层的剥离而导致耐擦伤性降低。本发明人等发现以下事实以至完成本发明：通过在包含电离放射线固化型材料、导电性材料的偏在层形成用涂液中进一步加入流平材料，从而可在使导电性材料偏在的抗静电层上形成流平层，提高偏在层和低折射率层的密接性，制成耐擦伤性高的抗反射膜。
导电性材料偏在于偏在层的最表面时，低折射率层形成材料与导电性材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，因此导致抗反射膜的耐擦伤性降低。另外，低折射层形成材料与导电性材料的电排斥为更强时，有时也发生在涂布低折射率层形成涂液时产生缩孔等这样的不良现象。另外，在低折射率层形成材料中包含疏水材料时，有时也因导电性材料与低折射率层材料中的疏水材料的电排斥而无法获得希望的防污性能。
另外，在本发明中，通过涂布偏在层形成用涂液，可同时形成包含中间层、硬涂层、抗静电层、流平层的偏在层。因此，与在透明基材上顺次涂布并形成硬涂层及抗静电层的情况相比，可控制制造成本。
在偏在层(12)中，导电性材料与作为粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料相比容易向表面析出，且流平材料比导电性材料更容易向表面析出。因此，通过在形成偏在层时控制干燥温度、时间的条件而进行偏在化，从而可分离为中间层、硬涂层、抗静电层、流平层，将这些层结构作为偏在层。
中间层(12a)包含偏在层的粘合基质成分和三乙酰基纤维素成分。在中间层(12a)中，在厚度方向从透明基材(11)侧朝向低折射率层(13)侧而从透明基材(11)的折射率逐渐变化到低折射率层的粘合基质的折射率、即、硬涂层(12b)的折射率。通过设置从透明基材(11)的折射率逐渐变化到硬涂层(12b)的折射率的中间层(12a)，可防止在偏在层与透明基材的界面产生的干涉条纹的产生。另外，中间层可提高透明基材(11)与偏在层(12)间的密接性。
硬涂层(12b)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和导电性材料以及流平材料。主要由作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料构成，粘合基质成分较多地偏在而存在，因此可使抗反射膜具有表面硬度。
抗静电层(12c)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和导电性材料以及流平材料。由于导电性材料偏在而较多地存在，因此显现抗静电功能，可制成具有抗静电功能的抗反射膜。
流平层(12d)可以含有作为粘合基质成分的电离放射线固化型材料和流平材料。主要由流平材料构成，不包含导电性材料。在导电性材料存在于偏在层的最表面时，在偏在层上形成低折射率层时偏在层和低折射率层的密接力降低，因此导致抗反射膜的耐擦伤性降低。本发明的抗反射膜中，与作为导电性材料的导电性材料相比流平材料的表面张力低，因此可容易靠向最表面形成不含作为导电性材料的导电性材料的层。
本发明的抗反射膜中在形成低折射率层时，不受到导电性材料的影响。因此，可防止偏在层和低折射率层的密接力的降低，可赋予抗反射膜以高的表面硬度，可制成耐擦伤性优异并且防污性优异的抗反射膜。
本发明的抗反射膜中，优选的是抗反射膜的平行光线透光率为93％以上，且抗反射膜的雾度为1.0％以下的范围内，且抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角为80°以上130°以下的范围内。
在抗反射膜的平行光线透光率低于93％时或者雾度超过1.0％时，有时会发生如下情况：透明感丧失，变得白浊(褪色发白)，显示器的对比度降低。但本发明的抗反射膜中，平行光线透光率越高则越优选，雾度越低则越优选。并且，抗反射膜的平行光线透光率优选为93％以上98％以下的范围内。考虑目前可考虑的使用材料时则难以制作平行光线透光率超过98％的抗反射膜。另外，抗反射膜的雾度优选为0.05％以上0.5％以下的范围内。考虑目前可考虑的使用材料时则难以制作雾度低于0.05％的抗反射膜。
另外，表面电阻值优选为1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内。予以说明，制成抗反射膜表面上的表面电阻值低于1×105Ω/cm2的抗反射膜时，有时会需要大量的作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子，无法形成本发明的偏在层。进一步，透明性(全光线透光率值)有时会降低。抗反射膜表面的表面电阻值处于1×1010Ω/cm2～1×1012Ω/cm2的状态时，一般可认为是在动态的状态下灰尘不附着的区域，在用于显示器的最表面时需要此条件。因此，在本发明中优选为1×1012Ω/cm2以下。
予以说明，作为前述表面电阻值的测定方法，可依照JIS-K6911(1995)来测定。
另外，本发明的抗反射膜的纯水接触角优选为80°以上130°以下的范围内。通过使纯水接触角为80°以上，从而可赋予低折射率层以优异的防污性。另外，通过为130°以下的范围内，使得在形成低折射率层时偏在层和低折射率层的密接变好，因此可赋予高的表面硬度，可制成耐擦伤性优异并且防污性优异的抗反射膜。
予以说明，在纯水接触角超过130°时，在形成低折射率层时产生缩孔，可能无法形成低折射率层。另外，在纯水接触角不足80°时，有时会无法获得充分的防污性。
予以说明，作为纯水接触角的测定方法，可依照JISR3257(1999)来测定。具体可通过如下方式求出：使用接触角计，以干燥状态(20℃-65％RH)在针尖制作液滴，将其接触于试样(固体)的表面而制作液滴，测定其接触角。接触角是指固体与液体接触的点处的相对于液体表面的切线与固体表面所形成的角，由包含液体的一侧的角度定义。作为液体，使用蒸馏水。
本发明的抗反射膜的特征在于，流平层中所含的流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。此时，具有氟的化合物优选选自具有全氟烷基的化合物或者具有氟化链烯基的化合物。予以说明，作为流平材料的具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物的具体例子在之后进行记述。
另外，本发明的抗反射膜中，导电层中所含的导电性材料优选选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子。予以说明，选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子中的导电性材料的具体例子在之后进行记述。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物时季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下，且具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有氟的化合物的分子量(A)为规定的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000时季铵盐材料，易于向偏在层表面偏在而不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。而季铵盐材料的分子量(Q)超过100000时无法使季铵盐材料偏在而形成抗静电层。另外，具有氟的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，便无法形成抗静电层和/或流平层。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)为100000以下则优选，但是考虑市售的流平材料，则具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为1nm以上500nm以下，且具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有氟的化合物的分子量(A)为规定的范围内，从而可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm时金属氧化物颗粒，易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与金属氧化物颗粒发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。予以说明，在本发明的抗反射膜中，如果用作导电性材料的金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下则无碍，但是考虑到市售的金属氧化物颗粒的平均粒径时，金属氧化物颗粒的平均粒径为1nm以上500nm以下。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)为100000以下则无碍，但是考虑市售的流平材料时，则具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子、且流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物时，导电性高分子的平均粒径优选为1nm以上1000nm以下，且具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有氟的化合物的分子量(A)为规定的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在导电性高分子的平均粒径超过1000nm时金属氧化物颗粒，易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在导电性高分子。此时，低折射率层形成材料与导电性高分子发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。予以说明，在本发明的抗反射膜中，如果用作导电性材料的导电性高分子的平均粒径为1000nm以下则无碍，但是考虑市售的导电性高分子的平均粒径时，导电性高分子的平均粒径优选为1nm以上1000nm以下。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)为100000以下则无碍，但是考虑市售的流平材料时则具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料、且流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物时，季铵盐材料的分子量(Q)优选为1000以上100000以下，且具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)优选为500以上100000以下。通过使季铵盐材料的分子量(Q)以及具有氟的化合物的分子量(A)为规定的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在偏在层中使用的季铵盐材料的分子量(Q)低于1000时季铵盐材料易于向偏在层表面偏在而不形成流平层，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。而在季铵盐材料的分子量(Q)超过100000时无法使季铵盐材料偏在而形成抗静电层。另外，具有硅氧烷键的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性材料与流平材料混合存在而形成层，无法形成抗静电层和/或流平层。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为100000以下则无碍，但是考虑市售的流平材料时则具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)优选为500以上100000以下。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒、且流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为1nm以上500nm以下，且具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)优选为500以上100000以下。通过使金属氧化物颗粒的平均粒径以及具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为规定的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在金属氧化物颗粒的平均粒径超过500nm时金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与金属氧化物颗粒发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。予以说明，在本发明的抗反射膜中，如果用作导电性材料的金属氧化物颗粒的平均粒径为500nm以下则无碍，但是考虑市售的金属氧化物颗粒的平均粒径时，金属氧化物颗粒的平均粒径优选为1nm以上500nm以下。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有氟的化合物的分子量(A)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为100000以下则无碍，但是考虑市售的流平材料时则具有氟的化合物的分子量(A)优选为500以上100000以下。
另外，本发明的抗反射膜中，在导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子、且流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物时，导电性高分子的平均粒径优选为1nm以上1000nm以下，且具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)优选为500以上100000以下。通过使导电性高分子的平均粒径以及具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为规定的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
在导电性高分子的平均粒径超过1000nm时金属氧化物颗粒易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在金属氧化物颗粒。此时，低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接力降低，所获得的抗反射膜的耐擦伤性降低。如果用作导电性材料的导电性高分子的平均粒径为1000nm以下则无碍，但是考虑市售的导电性高分子的平均粒径时，导电性高分子的平均粒径优选为1nm以上1000nm以下。
另外，偏在层中使用的作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)超过100000时，导电性性材料与流平材料混合存在而形成层，不形成抗静电层和/或流平层，因此无法制成具备充分的抗静电性的抗反射膜。予以说明，如果作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为100000以下则无碍，但是考虑市售的流平材料时则具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)优选为500以上。
予以说明，在本发明中“分子量”在分子量1000以下时是指由结构式求出的分子量，在分子量超过1000时是指重均分子量。
予以说明，在本发明中，金属氧化物颗粒的平均粒径以及导电性高分子的平均粒径通过光散射法求出。
另外，本发明的抗反射膜中，低折射率层的光学膜厚优选为80nm以上200nm以下的范围内。通过使低折射率层的光学膜厚为80nm以上200nm以下的范围内，可将从抗反射膜的表面(A)侧求出的分光反射率曲线制成在500nm近旁采取极小值的分光反射率曲线，可制成抗反射性优异的抗反射膜。
分光反射率曲线显示出：以极小值为基准，向短波长方向的上升曲线比向长波长方向的上升曲线较急剧的倾向。此时，将分光反射率曲线的极小值设为基准时的向短波长方向的急剧的上升曲线导致所形成的抗反射膜的反射光的色淡，另外，导致在发生偏在层的膜厚不均匀时的色不均匀的产生。在本发明中，通过将分光反射率曲线的极小值设为500nm近旁，可使反射色相变小，抑制由向短波长方向的急剧的上升曲线导致的色不均匀的产生。
另外，本发明的抗反射膜中，抗反射膜的低折射率层形成面(表面(A))的光平均反射率优选为0.5％以上2.0％以下的范围内。
在抗反射膜的低折射率层形成面(表面(A))的光平均反射率超过2.5％时，无法制成具备充分的抗反射性能的抗反射膜。而难以通过偏在层的光学干涉而实现抗反射膜表面上的光平均反射率为0.2％的抗反射膜。予以说明，进一步优选偏在层表面上的光平均反射率为0.2％以上2.0％以下的范围内。
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了季铵盐材料作为偏在层中的导电性材料时，作为偏在层中的导电性材料的季铵盐材料的含量优选为0.5wt％以上且不足25wt％。作为偏在层中的导电性材料的季铵盐材料的含量不足0.5wt％时，有时无法获得充分的抗静电性能。而作为导电性材料的季铵盐材料的含量超过25wt％时，无法巧妙地形成流平层。另外，作为导电性材料的季铵盐材料不具有硬涂性，因此抗反射膜的硬度和耐擦伤性有时会降低。另外，成本变高。
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了金属氧化物颗粒作为偏在层中的导电性材料时，作为偏在层中的导电性材料的金属氧化物颗粒的含量优选为0.5wt％以上且不足25wt％。作为偏在层中的导电性材料的金属氧化物颗粒的含量不足0.5wt％时，有时无法获得充分的抗静电性能。而作为导电性材料的金属氧化物颗粒的含量超过25wt％时，无法巧妙地形成流平层。
另外，在本发明的抗反射膜中，在使用了导电性高分子作为偏在层中的导电性材料时，作为偏在层中的导电性材料的导电性高分子的含量优选为0.1wt％以上且不足25wt％。作为偏在层中的导电性材料的导电性高分子的含量不足0.1wt％时，有时无法获得充分的抗静电性能。而作为导电性材料的导电性高分子的含量超过25wt％时，无法巧妙地形成流平层。另外，作为导电性材料的导电性高分子不具有硬涂性因此抗反射膜的硬度和耐擦伤性有时会降低。另外，成本变高。
偏在层中的作为流平材料的具有氟的化合物和具有硅氧烷键的化合物的含量优选为0.001wt％以上且不足5.00wt％的范围内。偏在层中的流平材料的含量不足0.001wt％时，无法形成流平层，导电性材料存在于偏在层的最表面，因此存在有耐擦伤性降低，进一步阻碍低折射率层的形成的情况。而流平材料的含量超过5.00wt％时，存在有酰胺层变厚，抗静电功能降低的情况。
对本发明的抗反射膜的制造方法进行说明。
本发明的抗反射膜的制造方法的特征在于，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到抗反射膜的制造方法，其顺次具备如下工序：形成偏在层的涂膜的涂布工序，在前述透明基材的至少一个面上涂布偏在层形成涂液，形成偏在层的涂膜，前述偏在层形成涂液包含电离放射线固化型材料和导电性材料和流平材料和溶剂，对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥的干燥工序，对前述偏在层的涂膜照射电离放射线，形成偏在层的硬膜工序，涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液，形成低折射率层的涂膜的涂布工序，将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序，形成前述低折射率层的硬膜工序，且前述偏在层通过使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到。
在本发明中，通过设置对偏在层的涂膜实施第一次干燥的干燥工序、以及在第一次干燥的干燥工序后对偏在层的涂膜实施第二次干燥的干燥工序，从而可在偏在层中依序偏在出：中间层、硬涂层、使导电性材料偏在的抗静电层、使前述流平材料偏在的流平层。
图2示出了本发明抗反射膜的制造装置的一个例子的示意图。
本发明的抗反射膜的制造装置顺次具备有：在透明基材上涂布包含含有电离放射线固化型材料的粘合基质形成材料、导电性材料、流平材料、溶剂的偏在层形成用涂液并且形成涂膜的涂布工序(21)，对前述偏在层的涂膜实施第一次干燥的第一次干燥单元(22a)和实施第二次干燥的第二次干燥单元(22b)这样的两个干燥单元(22)，对前述偏在层的涂膜照射电离放射线而将偏在层进行硬膜形成的电离放射线照射单元(23)。将透明基材从卷出部(31)连续运送到卷取部(32)，从而在透明基材上形成偏在层。
接着，通过将低折射率层形成涂液涂布于偏在层上而形成低折射率层的涂膜的涂布工序、将前述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序、形成前述低折射率层的硬膜工序而形成低折射率层。此时，在形成低折射率层的硬膜工序中，在使用电离放射线固化型材料作为低折射率层形成材料时通过照射电离放射线而成为硬膜从而形成低折射率层。而在使用热固型材料作为低折射率层形成材料时通过加热而成为硬膜，形成低折射率层。在形成低折射率层时，可使用图2所示的制造装置在偏在层上形成低折射率层而制造抗反射膜。予以说明，可通过连续地连接偏在层形成和低折射率层形成的前述工序，从而制造抗反射膜。
本发明的抗反射膜的制造方法中，偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中30wt％以上的溶剂为使前述透明基材溶解或者溶胀的溶剂，且优选在前述偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下的比例包含溶剂。通过在包含粘合基质形成材料和导电性材料、流平材料的偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中以30wt％以上的范围内使用可溶解或者溶胀透明基材的溶剂、且在前述偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下的比例包含溶剂，可在透明基材上形成具备通过使导电性材料、流平材料偏在的抗静电层、流平层的偏在层。
从在透明基材上涂布偏在层形成用涂液并且形成涂膜到干燥为止的工序中涂液中所含的可溶解或者溶胀透明基材的溶剂向透明基材渗透，粘合基质形成材料成分也伴随其而向透明基材渗透并且与基材混合而形成中间层。而导电性材料、流平材料难以向透明基材渗透因此向与透明基材侧相反的抗静电层及流平层侧进行偏析而形成偏在层。
以偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中可溶解或者溶胀透明基材的溶剂为30wt％以上的范围内使用可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，可在透明基材与偏在层之间形成包含透明基材成分和粘合基质成分的中间层，进一步可有效率地形成偏在层。予以说明，在全部溶剂之中可溶解或者溶胀透明基材的溶剂低于30wt％时，有时会无法形成偏在层。通过使偏在层的涂液中的溶剂量为前述范围内，可使得使涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子以及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间得到充分满足，可容易制造偏在层。
予以说明，偏在层形成用涂液中的溶剂量不足25wt％时，存在有涂膜发生急剧干燥并且不能形成偏在层的可能。而偏在层形成用涂液中的溶剂量超过85wt％时，倾向为需要延长干燥时间并且不适合大量生产。
本发明的抗反射膜的制造方法中，将偏在层的涂膜干燥的干燥工序优选包含在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥、以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥这样的二阶段连续干燥。优选干燥工序在刚涂布完后在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行第一次干燥。通过使第一次干燥温度为15℃以上30℃以下的范围内，可使得使偏在层的涂膜中作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子以及流平材料得到充分偏在而形成偏在层的时间。
予以说明，在第一次干燥时的干燥温度超过30℃时，偏在层的涂膜发生急剧干燥，而有不能形成偏在层的可能。而在干燥温度低于15℃时，需要延长干燥时间并且不适合连续生产。
另外，优选在干燥温度50℃以上150℃以下的范围内进行第二次干燥。通过使第二次干燥温度为50℃以上150℃以下的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。予以说明，在干燥温度超过150℃时，溶剂的蒸发速度过早因而存在有偏在层的表面发生皲裂，产生雾度的可能。而在干燥温度低于50℃时，溶剂残留于偏在层，成为不具有硬涂性的偏在层。
另外，有仅通过前述第一次干燥不能使干燥进行充分的情况，在第一次干燥后，作为第二次干燥，也通过干燥温度50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥。在干燥工序中，以前述干燥温度进行第一次干燥及第二次干燥，从而可容易制造偏在层12。
另外，为了进行偏在层的各层的分离而进行着第一次干燥，作为第二次干燥，以50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥，从而去除了溶剂。
予以说明，本发明的抗反射膜的制造方法中，将偏在层的涂膜干燥的干燥工序优选设定为如下：使偏在层的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间为两秒以上60秒以下的范围内。
在透明基材上形成前述偏在层的涂膜后，通过使透明基材上的由偏在层形成用涂液形成的涂膜中所含的溶剂成为10wt％以下为止的时间为两秒以上60秒以下的范围内，可使得涂膜中的导电性材料及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间得到充分满足，可容易形成具备抗静电层及流平层的偏在层。
另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间不足两秒时，有时会因偏在层的涂膜的急剧的干燥而无法形成抗静电层及流平层。予以说明，偏在层的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间超过60秒时，过于耗费时间而不现实。通过枚叶方式形成偏在层时，也由于周期时间变长且生产率降低，因此不优选。
更详细地对本发明的抗反射膜以及抗反射膜的制造方法进行说明。
作为本发明的抗反射膜中使用的透明基材，可使用由各种有机高分子形成的膜或者片。例如列举出显示器等的光学部件中通常使用的基材，考虑透明性、光的折射率等光学特性，进一步考虑耐冲击性、耐热性、耐久性等诸物性，可使用：由聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯类，三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、赛璐玢等纤维素类，6-尼龙、6，6-尼龙等聚酰胺类，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类，聚苯乙烯，聚氯乙烯，聚酰亚胺，聚乙烯醇，聚碳酸酯，乙烯-乙烯醇等有机高分子形成的基材。特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰基纤维素、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯。其中，三乙酰基纤维素的双折射率小，透明性良好，因此可优选用于液晶显示器。
予以说明，透明基材的厚度优选为25μm以上200μm以下的范围内，进一步优选为40μm以上80μm以下的范围内。
进一步，也可使用向这些有机高分子中添加公知的添加剂例如紫外线吸收剂、红外线吸收剂、增塑剂、增滑剂、着色剂、抗氧化剂、阻燃剂等而施加功能而得到的物质。另外，透明基材可以为由选自前述的有机高分子中的一种或者两种以上的混合物或聚合物形成的透明基材，也可以为层叠多个层而得到的透明基材。
接着，对偏在层进行说明。
在形成偏在层时，包含电离放射线固化型材料作为粘合基质形成材料。作为电离放射线固化型材料，可使用丙烯酸类材料。作为丙烯酸类材料，可使用：多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯那样的单官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，由二异氰酸酯与、多元醇和丙烯酸或者甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。
予以说明，在本发明中“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”这两者。例如，“氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯”表示“氨基甲酸酯丙烯酸酯”和“氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯”这两者。
作为单官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟丙基邻苯二甲酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基四氢邻苯二甲酸氢酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、由2-金刚烷及金刚烷二醇衍生的具有一元的单(甲基)丙烯酸酯的金刚烷基丙烯酸酯等金刚烷衍生物单(甲基)丙烯酸酯等。
作为前述二官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。
作为前述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，这些(甲基)丙烯酸酯的一部分被烷基、ε-己内酯取代而得到的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
也可使用多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯作为丙烯酸类材料。氨基甲酸酯丙烯酸酯通过使多元醇、多异氰酸酯以及含羟基的丙烯酸酯进行反应而获得。具体可列举出共荣社化学公司制的UA-306H、UA-306T、UA-3061等，日本合成化学公司制的UV-1700B、UV-6300B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7640B、UV-7650B等，新中村化学公司制的U-4HA、U-6HA、UA-100H、U-6LPA、U-15HA、UA-32P、U-324A等，Daicel-UCB Co.，Ltd.制的Ebecryl-1290、Ebecryl-1290K、Ebecryl-5129等，根上工业公司制的UN-3220HA、UN-3220HB、UN-3220HC、UN-3220HS等，但不受此限。
另外，在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。
另外，考虑到光学特性、耐擦伤性、硬度等，偏在层的膜厚优选为3μm以上20m以下的范围内。另外，考虑到卷曲的抑制等加工处理方面进一步优选为4μm以上7μm以下的范围内。
在偏在层形成用涂液中加入溶剂，可在全部溶剂之中以30wt％以上的范围内使用可溶解或者溶胀透明基材的溶剂。
另外，在包含粘合基质形成材料和季铵盐材料、流平材料的偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中以30wt％以上的范围内使用可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，从而可在透明基材上形成使导电性材料以及流平材料偏在的偏在层。
以偏在层形成用涂液中所含的全部溶剂之中可溶解或者溶胀透明基材的溶剂为30wt％以上的范围内使用可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，可在透明基材与偏在层之间形成包含透明基材成分和粘合基质成分的中间层，进一步可有效率地形成偏在层。
予以说明，全部溶剂之中可溶解或者溶胀透明基材的溶剂低于30wt％时，不能形成偏在层。
作为使用了三乙酰基纤维素膜作为透明基材时的可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，列举出二丁基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、二噁烷、二氧戊环、三噁烷、四氢呋喃、苯甲醚以及苯乙醚等醚类，另外列举出丙酮、甲乙酮、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、以及甲基环己酮等部分酮类，另外列举出甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、以及γ-丁内酯等酯类，进一步列举出甲基溶纤剂、溶纤剂、丁基溶纤剂、溶纤剂乙酸酯等的溶纤剂类，此外列举出N-甲基-2-吡咯烷酮、碳酸二甲酯。它们可使用单独一种或组合使用两种以上。
作为不溶解或者溶胀三乙酰基纤维素膜的溶剂，列举出乙醇、异丙醇等醇类，甲苯、二甲苯、环己烷、环己基苯等芳香族烃类，正己烷等烃类，甲基异丁基酮、甲基丁基酮、二丙酮醇等部分酮类等。它们可使用单独一种或组合使用两种以上。
另外，优选在偏在层形成用涂液中以25wt％以上85wt％以下的比例包含溶剂。通过使偏在层的涂液中的溶剂量在前述范围内，可使得涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子以及流平材料偏在，能得到充分的时间形成偏在层，可容易制造偏在层。
予以说明，偏在层形成用涂液中的溶剂量不足25wt％时，存在涂膜发生急剧干燥而无法形成偏在层的可能。而在偏在层形成用涂液中的溶剂量超过85wt％时，需要延长干燥时间并且不适合大量生产。
另外，优选在溶剂浓度0.2体积％以上10体积％以下的溶剂环境下进行将偏在层的涂膜干燥的工序。在0.2体积％以上10体积％以下的溶剂环境下进行将偏在层的涂膜干燥的工序，可使得涂膜中的作为导电性材料的季铵盐材料或者金属氧化物颗粒或者导电性高分子得到充分的时间偏在而形成偏在层，可容易制造偏在层。
予以说明，此时作为干燥环境中使用的溶剂，优选使用偏在层形成用涂液中所含的溶剂之中的至少一种。在溶剂环境下不足0.2体积％时，存在有涂膜发生急剧干燥而无法形成偏在层的情况。而在溶剂环境下超过10体积％时，需要延长干燥时间并且不适合大量生产。
作为偏在层中所含的作为导电性材料的季铵盐材料，可优选使用在分子内含有季铵盐材料作为官能团的丙烯酸类材料。季铵盐材料表示-N+X-的结构，通过具备季铵阳离子(-N+)和阴离子(X-)而使硬涂层显现出导电性。此时，作为X-，可列举出Cl-、Br-、I-、F-、HSO4 -、SO4 2-、NO3 -、PO4 3-、HPO4 2-、H2PO4 -、SO3 -、OH-等。
另外，作为季铵盐材料也可使用在分子内含有季铵盐材料作为官能团的丙烯酸类材料。作为在分子内含有季铵盐材料作为官能团的丙烯酸类材料，可使用：在分子内含有季铵盐材料(-N+X-)作为官能团的多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯那样的多官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，由二异氰酸酯与、多元醇和丙烯酸或者甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用：具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。
本发明的偏在层中所含的季铵盐材料的分子量优选为1000以上100000以下的范围内。使季铵盐材料的重均分子量为1000以上100000以下的范围内从而可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
另外，季铵盐材料的分子量低于1000时，季铵盐材料易于向偏在层表面偏在，会在偏在层的表面存在季铵盐材料。因此，存在有低折射率层形成材料与季铵盐材料发生电排斥，偏在层和低折射率层的密接性降低而耐擦伤性降低的情况。而季铵盐材料的重均分子量超过100000时，硬涂层和抗静电层混合，表面电阻值变差。作为季铵盐材料，具体可使用NR-121X-9IPA(COLCOATCO.，Ltd制)等。
作为用作导电性材料的金属氧化物颗粒，可使用：以选自氧化锆、含锑氧化锡(ATO)、含磷氧化锡(PTO)、含锡氧化铟、氧化铝、氧化铈、氧化锌、含铝氧化锌、氧化锡、含锑氧化锌以及含铟氧化锌中的一种或两种以上的金属氧化物为主成分的具有导电性的金属氧化物颗粒。
作为用作导电性材料的导电性高分子，可使用：选自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1，6-庚二炔)、聚联苯(聚对苯)、聚对苯硫醚、聚苯基乙炔、聚(2，5-噻吩)以及它们的衍生物中的一种或者两种以上的混合物。
在偏在层形成涂液中加入具有氟的化合物作为流平材料。作为流平材料的具有氟的化合物，可优选使用具有全氟烷基或者氟化链烯基的化合物。全氟烷基具有-CnF2n+1(n＝自然数)的结构，作为疏水基、疏油基而起作用。因此，具有因刚性而难以弯曲，在表面整齐地排列的特征，因此可作为可用少量而将表面覆盖的流平材料来起作用。此时，通过与亲油基组合，可进一步增加作为流平材料的效果。另外，全氟链烯基在分子内具有C＝C键，因而在表面排列时体积大，因此与全氟烷基相比密度降低。因此，可抑制全氟基团所具有的重新涂布性阻碍。
具体而言，作为流平材料的具有氟的化合物，列举出具有氟化链烯基的Ftergent 222F(NEOS Corporation制)，具有全氟烷基的F470(DIC公司制)、F489(DIC公司制)。另外在此之外还可使用V-8FM(大阪有机化学工业公司制)等。予以说明，本发明的作为流平材料的具有氟的化合物不受限于它们。
另外，在偏在层形成涂液中加入具有硅氧烷键的化合物作为流平材料。作为流平材料的具有硅氧烷键的化合物，可优选使用在分子内含有硅氧烷键和有机改性部的硅类流平剂。具有硅氧烷键的化合物具有(化学式1)所示的结构，可通过改变硅氧烷键部分的(化学式1)中的n数或有机改性部而任意控制表面张力。
作为改变作为具有硅氧烷键的化合物的(化学式1)中的n数或有机改性部的一个例子，也可使用具备(化学式2)那样的结构的具有硅氧烷键的化合物。可通过赋予侧链而将硅氧烷键改性。予以说明，作为(化学式2)的结构中的R1的一个例子，具有CH3、CH2-CH3、(CH2)9CH3等。另外，作为R2的一个例子，具有聚醚基、聚酯基、芳烷基等。另外，也可使用具备(化学式3)那样的结构的具有硅氧烷键的化合物。硅氧烷键包含Si-O-Si键，作为R3的一个例子可使用平均一个聚醚链等。(化学式2)和(化学式3)中的任一个都可任意进行表面张力的控制和相容性的调整。
Figure BPA00001581291300321
另外，作为用作流平材料的具有硅氧烷键的化合物，具体可使用：BYK-Chemie Japan K.K.制BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BYK-315、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-341、BYK-344、BYK-345、BYK-347、BYK-348、BYK-349、BYK-370、BYK-375、BYK-377、BYK-378、BYK-UV3500、BYK-UV3510、BYK-UV3570、BYK-Silclean3700、BYK-Silclean3720。另外可使用：Momentive公司制TSF410、TSF411、TSF4700、TSF4701、XF42-B0970、TSF4730、YF3965、TSF4421、XF42-334、XF42-B3629、XF42-A3161、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4460。另外可使用共荣社化学公司制Poly-Flow KL400X、Poly-Flow KL400HL、Poly-FlowKL401、Poly-Flow KL402、Poly-Flow KL403、Poly-Flow KL404。予以说明，用作流平材料的具有硅氧烷键的化合物不受限于它们。
另外，在通过紫外线将偏在层形成用涂液固化时，向偏在层形成用涂液中添加光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，只要是在照射了紫外线时产生自由基的物质即可，例如可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类。另外，光聚合引发剂的添加量相对于电离放射线固化型材料优选为0.1wt％以上10wt％以下的范围内，进一步优选为1wt％以上8.5wt％以下。
另外，可向偏在层形成用涂液中加入表面调整剂、折射率调整剂、密接性提高剂、固化剂等作为添加剂。
通过湿式成膜法将调整以上的材料而获得的偏在层形成用涂液涂布于透明基材上，形成涂膜，可形成偏在层。在以下给出偏在层的形成方法。
偏在层形成用涂液涂布于透明基材上，形成涂膜。作为用于将偏在层形成用涂液涂布于透明基材上的涂布方法，可采用使用了辊涂机、逆转辊涂机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀涂布机、刮棒涂布机、丝棒涂布器、模涂机、浸渍涂布机的涂布方法。予以说明，本发明的偏在层(12)为薄的涂膜，需要制成均匀的膜厚，因此优选使用微凹版涂布法、模涂法。
接着，透明基材上形成的偏在层的涂膜通过干燥而去除涂膜中的溶剂。此时作为干燥手段，可使用加热、送风、热风等。
予以说明，优选干燥工序在刚涂布完后在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行第一次干燥。使第一次干燥温度为15℃以上30℃以下的范围内，可使得偏在层的涂膜中的导电性材料及流平材料得到充分的时间偏在而形成偏在层。
予以说明，在干燥温度超过30℃时，存在偏在层的涂膜发生急剧干燥而无法形成偏在层的可能。而在干燥温度低于15℃时，需要延长干燥时间并且不适合连续生产。
另外，优选在干燥温度50℃以上150℃以下的范围内进行第二次干燥。使第二次干燥温度为50℃以上150℃以下的范围内，可形成从透明基材侧使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠的偏在层。
予以说明，在干燥温度超过150℃时，由于溶剂的蒸发速度过早，因而存在偏在层的表面发生皲裂，产生雾度的可能。而在干燥温度低于50℃时，溶剂残留于偏在层，成为不具有硬涂性的偏在层。
另外，有仅通过前述第一次干燥不能使干燥充分的情况，第一次干燥后，作为第二次干燥，也通过干燥温度50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥。
在干燥工序中，以前述干燥温度进行第一次干燥及第二次干燥，可容易制造偏在层(12)。
另外，为了进行偏在层的各层的分离而进行着第一次干燥，作为第二次干燥，以50℃以上150℃以下的范围内的加热干燥进行适度的加热干燥从而去除了溶剂。
另外，在透明基材上形成由透明基材上已形成的偏在层形成用涂液所形成的涂膜后，前述透明基材上的偏在层的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间优选为两秒以上60秒以下的范围内，在透明基材上形成前述偏在层的涂膜后，通过使透明基材上的由偏在层形成用涂液形成的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间为两秒以上60秒以下的范围内，从而可使得涂膜中的导电性材料及流平材料偏在而形成偏在层为止的时间得到充分满足，可容易形成偏在层(12)。
另外，偏在层的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间不足两秒时，有时会因偏在层的涂膜的急剧的干燥而无法形成抗静电层及流平层。
予以说明，偏在层的涂膜中所含的溶剂到10wt％以下为止的时间超过60秒时，过于耗费时间而不现实。通过枚叶方式形成偏在层时，也由于周期时间变长并且生产率降低，因此不优选。
接着，对将偏在层形成用涂液涂布于透明基材上而获得的涂膜照射电离放射线，从而形成偏在层(12)。
作为电离放射线，可使用紫外线、电子射线。紫外线固化时，可利用高压水银灯、低压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧、氙弧等光源。另外，在电子射线固化时，可利用从考克饶夫特-瓦尔顿型(Cockroft-walton type)、范德格拉夫型(van de Graafftype)、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、地那米(Dynamitron)型、高频率型等的各种电子射线加速器排放出的电子射线。电子射线优选具有50～1000KeV的能量。更优选为具有100～300KeV的能量的电子射线。
接着，对低折射率层的形成方法进行记述。
低折射率层通过将包含低折射率层形成材料的低折射率层形成涂液涂布于偏在层表面，利用湿式成膜法形成。此时低折射率层膜厚(d)按照如下方式而设计：通过该膜厚(d)乘以低折射率层的折射率(n)而获得的光学膜厚(nd)与可见光的波长的1/4相等。
作为低折射率层形成材料，可使用低折射率颗粒以及粘合基质形成材料。予以说明，在粘合基质形成材料具有低的折射率时也可在低折射率形成材料中不包含低折射率颗粒。作为低折射率层(13)中的粘合基质形成材料可使用电离放射线固化型材料、热固型材料。
作为可以包含于低折射率层形成材料用涂液的低折射颗粒，可使用：由LiF、MgF、3NaF·AlF或者AlF(任一个的折射率都是1.40)，或者Na3AlF6(冰晶石、折射率1.33)等低折射材料形成的低折射率颗粒。另外，可优选使用在颗粒内部具有孔隙的颗粒。关于在颗粒内部具有孔隙的颗粒，由于可将孔隙的部分作为空气的折射率(≒1)，因此可制成具备非常低的折射率的低折射率颗粒。具体可使用在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒。
关于在颗粒内部具有孔隙的颗粒，由于可将孔隙的部分作为空气的折射率(≈1)，因此可制成具备非常低的折射率的低折射率颗粒。作为在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒，可使用多孔质硅石颗粒、壳(shell)结构的硅石颗粒。
另外，作为低折射率颗粒，粒径优选为1nm以上100nm以下。粒径超过100nm时，存在有如下倾向：光通过瑞利散射被显著反射，低折射率层发生白化而抗反射膜的透明性降低。而粒径不足1nm时，产生由颗粒的凝集导致的低折射率层中的颗粒的不均匀性等问题。
另外，作为在内部具有孔隙的低折射率硅石颗粒的一个例子，可使用具有如下结构的颗粒：在保持有球状的形状的状态下，折射率为1.35，低于玻璃的折射率1.45，半径20nm以上25nm以下，密度(ρ1)的球状结构处于中心部分，厚度10nm以上15nm以下的不同的密度(ρ2)的层覆盖在周围，(ρ1/ρ2)的值表示0.5、0.1、0.0，低折射率硅石颗粒的中心部分为外部的硅石的1/10左右的密度。
另外，作为用作粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料，可使用丙烯酸类材料。作为丙烯酸类材料，可使用：多元醇的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯那样的单官能或者多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物、由二异氰酸酯与多元醇和丙烯酸或者甲基丙烯酸的羟基酯等合成的那样的多官能的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。另外在它们之外，作为电离放射线型材料，还可使用具有丙烯酸酯类的官能团的聚醚树脂、聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇-聚烯树脂等。
作为单官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟丙基邻苯二甲酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸氢酯、2-(甲基)丙烯酰氧基丙基四氢邻苯二甲酸氢酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟丙酯、由2-金刚烷及金刚烷二醇衍生的具有一元的单(甲基)丙烯酸酯的金刚烷基丙烯酸酯等金刚烷衍生物单(甲基)丙烯酸酯等。
作为前述二官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。
作为前述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如列举出：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，这些(甲基)丙烯酸酯的一部分被烷基、ε-己内酯取代而得到的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
出于可设计所希望的分子量和分子结构，可容易取得所形成的硬涂层的物性的平衡这样的理由，丙烯酸类材料之中可优选使用多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯。氨基甲酸酯丙烯酸酯通过使多元醇、多异氰酸酯以及含羟基的丙烯酸酯进行反应而获得。
另外，除了电离放射线固化型材料之外还可加入热塑性树脂等。关于热塑性树脂，通过加入乙酰基纤维素、硝基纤维素、乙酰基丁基纤维素、乙基纤维素、甲基纤维素等纤维素衍生物，乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯类树脂，聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂，丙烯酸类树脂及其共聚物、甲基丙烯酸类树脂及其共聚物等丙烯酸类树脂，聚苯乙烯树脂、聚酰胺树脂、线状聚酯树脂、聚碳酸酯树脂等可使用的热塑性树脂，从而可抑制所制造的膜的卷曲。
另外，在低折射率层形成材料中，可以以使指纹等污迹难以附着在抗反射膜表面、容易擦去附着了的污迹为目的而加入疏水材料。作为疏水材料可使用硅氧烷类材料、有机硅化合物、UV固化型憎水剂。作为硅氧烷类材料，可使用烷基芳烷基改性硅油、烷基改性硅油、聚醚改性硅油、烷基聚醚改性硅油。进一步也可使用不含氟也不具有(甲基)丙烯酰基的有机硅化合物。具体也可使用烷基烷氧基硅烷化合物、硅烷硅氧烷化合物、含有聚酯基的硅烷化合物、具有聚醚基的硅烷化合物、硅氧烷化合物。另外，作为UV固化型憎水剂，可使用BYK-350、BYK-3500(BYK Japan KK制)、F470(DIC株式会社制)等。
另外，作为粘合基质形成材料，可使用作为热固型材料的硅醇盐的水解物。具体可使用通式(A)RxSi(OR)4-x(并且，式中R表示烷基，x为满足0≤x≤3的整数)所示的硅醇盐的水解物。
作为由通式(A)表示的硅醇盐，例如可使用：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四五乙氧基硅烷、四五异丙氧基硅烷、四五正丙氧基硅烷、四五正丁氧基硅烷、四五仲丁氧基硅烷、四五叔丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基甲氧基硅烷、二甲基丙氧基硅烷、二甲基丁氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷等。硅醇盐的水解物只要是可以以通式(B)所示的金属醇盐作为原料而获得的物质即可，例如通过利用盐酸进行水解而获得的物质。
在使用作为热固型材料的硅醇盐的水解物作为粘合基质形成材料时，可进一步含有作为氟化合物的通式(B)R’zSi(OR)4-z(并且，式中R’表示具有烷基、氟烷基或氟环氧烷基的非反应性官能团，z为满足1≤z≤3的整数)所示的硅醇盐的水解物以作为疏水材料。使用由通式(B)表示的硅醇盐的水解物，可赋予抗反射膜的低折射率层表面以防污性。可进一步降低低折射率层的折射率。作为通式(C)所示的硅醇盐，例如列举出十八烷基三甲氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟辛基三甲氧基硅烷等。
作为低折射率层形成用涂液中所含的溶剂，考虑涂布适当性等从如下物质之中适宜选择：甲苯、二甲苯、环己烷、环己基苯等芳香族烃类，正己烷等烃类，二丁基醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、二噁烷、二氧戊环、三噁烷、四氢呋喃、苯甲醚以及苯乙醚等醚类，另外，甲基异丁基酮、甲基丁基酮、丙酮、甲乙酮、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、以及甲基环己酮等酮类，另外甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、以及γ-丁内酯等酯类，以及，甲基溶纤剂、溶纤剂、丁基溶纤剂、溶纤剂乙酸酯等的溶纤剂类，甲醇、乙醇、异丙醇等醇类，水等。
另外，使用用作粘合基质形成材料的电离放射线固化型材料，通过紫外线进行固化时，向低折射率层形成用涂液添加光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，如果是在照射了紫外线时产生自由基的物质即可，例如可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类。另外，光聚合引发剂的添加量相对于电离放射线固化型材料优选为0.1wt％以上10wt％以下的范围内，进一步优选为1wt％以上8.5wt％以下。
另外，也可向低折射率层形成用涂液中加入表面调整剂、折射率调整剂、密接性提高剂、固化剂等作为添加剂。
通过湿式成膜法将调整以上的材料而获得的低折射率层形成用涂液涂布于偏在层(12)上，形成低折射率层的涂膜，可形成低折射率层(13)。在以下给出低折射率层的形成方法。
低折射率层形成用涂液涂布于偏在层(12)上，形成低折射率层的涂膜。作为用于将低折射率层形成用涂液涂布于偏在层上的涂布方法，可采用使用了辊涂机、逆向辊涂机、凹版涂布机、微凹版涂布机、刮刀涂布机、刮棒涂布机、丝棒涂布器、模涂机、浸渍涂布机的涂布方法。予以说明，本发明的低折射率层(13)为薄的涂膜，需要制成均匀的膜厚，因此优选使用微凹版涂布法。
接着，偏在层(12)上形成的低折射率层的涂膜通过干燥而去除涂膜中的溶剂。此时作为干燥手段，可使用加热、送风、热风等。予以说明，关于干燥温度，优选在50℃以上150℃以下的范围内进行适度的加热干燥。
接着，在使用了电离放射线固化型材料作为粘合基质形成材料时，对通过将低折射率层形成用涂液涂布于偏在层上而获得的低折射率层的涂膜照射电离放射线，从而形成低折射率层(13)。
作为电离放射线，可使用紫外线、电子射线。紫外线固化时，可利用高压水银灯、低压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧、氙弧等光源。另外，在电子射线固化时可利用从考克饶夫特-瓦尔顿型(Cockroft-walton type)、范德格拉夫型(van de Graafftype)、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、地那米(Dynamitron)型、高频率型等的各种电子射线加速器排放出的电子射线。电子射线优选具有50～1000KeV的能量。更优选为具有100～300KeV的能量的电子射线。
本发明的抗反射膜通过辊对辊方式而连续形成。如图2所示，将卷取的网状的透明基材从卷出部(31)连续运行到卷取部(32)，此时，使透明基材通过涂布单元(21)、干燥单元(22)、电离放射线照射单元(23)，从而在透明基材上连续形成偏在层。其后，使低折射率层同样地通过单元，从而可在偏在层上形成低折射率层，制造抗反射膜。
实施例
首先给出对由本实施例获得的抗反射膜的评价方法。
“光平均反射率的测定”
对所获得的抗反射膜的与低折射率层形成面侧为相反侧的面进行黑色消光并通过喷雾而涂布为黑色。涂布后，使用自动分光光度计(日立制作所公司制，U-4000)对要测定的低折射率层形成面测定了在C光源、两度视野的条件下的入射角5°时的分光反射率。根据所获得的分光反射率算出了光平均反射率(Y％)。另外，相对发光度使用了亮处视标准相对发光度。
“雾度(H)、平行光线透光率的测定”
对于所获得的抗反射膜，使用图像清晰度测定器(日本电色工业公司制，NDH-2000)测定了雾度(H)、平行光线透光率。
“表面电阻值的测定”
对于所获得的抗反射膜的低折射率层表面，依照JIS-K6911(1995)利用高电阻电阻率计(DIA INSTRUMENTS CO.，LTD.制，High resistivity meter MCP-HT260)进行了测定。
“接触角的测定”
对于所获得的抗反射膜的偏在层表面以及低折射率层表面，使用接触角计(协和界面科学公司制CA-X型)，在干燥状态(20℃-65％RH)下在针尖制作直径1.8mm的液滴，将它们接触于试样(固体)的表面而制作出液滴。接触角是指，固体与液体接触的点处的相对于液体表面的切线与固体表面所形成的角，由包含液体的一侧的角度定义。作为液体，使用了蒸馏水。另外，作为前述纯水接触角的测定方法，依照JI S-R3257进行了测定。
“铅笔硬度的测定”
依照JIS K5600-5-4(1999)，以500g载荷测定了各抗反射膜的偏在层表面的铅笔硬度。
“色不均匀、干涉条纹的评价”
对于所获得的抗反射膜，将荧光灯映入低折射率层表面，通过确认反射光而进行了色不均匀的确认、干涉不均的确认。
利用目视而确认的评价按照以下的规准进行。
圆记号：色不均匀及干涉条纹良好。
×记号：色不均匀及干涉条纹不好。
“耐擦伤性(钢棉(SW)的评价”
对于所获得的抗反射膜的低折射率层表面，使用学振型摩擦坚牢度试验机(TESTER SANGYO CO.，LTD.制，AB-301)，对光学层叠体的低折射率层表面使用施加了500g/cm2的载荷的钢棉(NihonSteelWool CO.，LTD.制，Bonstar #0000)，擦10个来回，通过目视来评价因擦拭痕迹、创伤等而导致的外观的变化。
利用目视而确认的评价按照以下的规准进行。
圆记号：无法确认损伤。
×记号：可确认损伤。
“铅笔硬度的测定”
对于所获得的抗反射膜的偏在层表面，依照JISK5600-5-4(1999)进行铅笔硬度试验，求出了铅笔硬度。
根据以下的判断基准进行了偏在层中的中间层、硬涂层、抗静电层、流平层的判定。
“偏在层中的中间层的确认”
根据在“光平均反射率的测定”这一项中求出的分光反射率，进行了有无中间层的确认。具体而言，在所获得的分光反射率曲线中没有确认出对应于偏在层的膜厚的干涉峰的情况判断为有中间层，确认出对应于偏在层的膜厚的干涉峰的情况判断为没有中间层。
圆记号：有中间层(没有干涉峰)
×记号：没有中间层(有干涉峰)
“偏在层中的硬涂层的确认”
根据在“铅笔硬度的测定”这一项中求出的偏在层表面的铅笔硬度，偏在层表面的铅笔硬度为H以上的情况判断为有硬涂层，不足H的情况判断为没有硬涂层。
圆记号：有硬涂层(铅笔硬度H以上)
×记号：没有硬涂层(铅笔硬度不足H)
“偏在层中的抗静电层的确认”
根据在“表面电阻值的测定”这一项中求出的表面电阻值，进行了有无抗静电层的确认。表面电阻值为表面电阻值1×1012Ω/cm2以下的情况判断为有抗静电层，偏表面电阻值大于表面电阻值1×1012Ω/cm2的情况判断为没有抗静电层。
圆记号：有抗静电层(表面电阻值1×1012Ω/cm2以下)
×记号：没有抗静电层(表面电阻值大于1×1012Ω/cm2)
予以说明，对于没有向偏在层形成用涂液中加入导电性材料的抗反射膜，没有进行“偏在层中的抗静电层的确认”。
“偏在层中的流平层的确认”
流平层的存在通过偏在层表面的接触角以及X射线光电子分光分析装置来确认。偏在层表面的接触角的测定方法如“接触角的测定”所示那样。通过使用X射线光电子分光分析装置(JPS-90MXVmicro(日本电子制))，进行偏在层表面的表面分析从而判断。接触角为60°以上、并且在XPS测定中检测出流平层特有的元素且没有检测出导电性材料特有的元素的情况判断为有流平层，接触角不足60°和/或在基于XPS的表面分析中检测出氯的情况判断为没有流平层。另外，按照原子量比为0.1atomic％以下的情况为没有检测出。予以说明，测定时的X射线强度为100W(10kV、10mA)。
圆记号：有流平层(接触角65°以上，且检测出流平材料特有元素、且没有检测出导电性材料特有元素)
×记号：没有流平层(上述以外)
予以说明，流平材料特有的元素如下。
具有氟的化合物：F
具有硅氧烷键的化合物：Si
予以说明，导电性材料特有的元素如下。
季铵盐材料：Cl
金属氧化物颗粒(含锑氧化锡)：Sn
金属氧化物颗粒(含磷氧化锡)：Sn
导电性高分子(聚噻吩)：S
导电性高分子(聚苯胺)：N
接着给出由本实施例制作的抗反射膜的制作方法。
(A)流平材料：具有氟的化合物×导电性材料：季铵盐材料
以下，给出使用了具有氟的化合物作为流平材料、使用了季铵盐材料作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液A1～A13的(调整例)。
(合成例1)
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名：“Blemmer 50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0g、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0g、环己基甲基丙烯酸酯14.0g、偶氮二异丁腈0.3g、异丙醇100.0g、甲乙酮40.0g，在65℃氮气环境下聚合3小时。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。
<调整例A1>
(偏在层形成涂液A1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A1。
<调整例A2>
(偏在层形成涂液A2)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、NR-121X-9IPA为20重量份、F-470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A2。
<调整例A3>
(偏在层形成涂液A3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、F489为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A3。
<调整例A4>
(偏在层形成涂液A4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、Ftergent 222F为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A4。
<调整例A5>
(偏在层形成涂液A5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、LIGHT ESTER DQ100(分子量208)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A5。
<调整例A6>
(偏在层形成涂液A6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A6。
<调整例A7>
(偏在层形成涂液A7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)0.01重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A7。
<调整例A8>
(偏在层形成涂液A8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)0.01重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A8。
<调整例A9>
(偏在层形成涂液A9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A9。
<调整例A10>
(偏在层形成涂液A10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A10。
<调整例A11>
(偏在层形成涂液A11)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A1。
<调整例A12>
(偏在层形成涂液A12)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A12。
<调整例A13>
(偏在层形成涂液A13)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液A13。
以下示出低折射率层形成涂液A的(调整例)。
(低折射率层形成涂液A)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液A。
[实施例A1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液A1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射通过从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液A按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例A1]的抗反射膜。
[实施例A2]～[实施例A11]
[实施例A2]～[实施例A11]中，使用偏在层形成涂液A2～A11来替代偏在层形成用涂液A1，其它的制造条件与[实施例A1]同样，从而制作出[实施例A2]～[实施例11]的抗反射膜。
[实施例A12]～[实施例A14]
[实施例A12]中，使用偏在层形成涂液A1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A12]的抗反射膜。
[实施例A13]中，使用偏在层形成涂液A1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A13]的抗反射膜。
[实施例A14]中，使用偏在层形成涂液A1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例A14]的抗反射膜。
[实施例A15]、[实施例A16]
[实施例A15]、[实施例A16]中，使用偏在层形成涂液A12、A13来替代偏在层形成涂液A1，其它的制造条件与[实施例A1]同样，从而制作出[实施例A15]、[实施例A16]的抗反射膜。
(表1)汇总示出[实施例A1]～[实施例A16]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300521
对于所获得的[实施例A1]～[实施例A16]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表2)汇总示出评价结果等。
Figure BPA00001581291300541
(B)流平材料：具有氟的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒
以下，给出使用了具有氟的化合物作为流平材料、使用了金属氧化物颗粒作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液B1～B12的(调整例)。
<调整例B1>
(偏在层形成涂液B1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B1。
<调整例B2>
(偏在层形成涂液B2)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B2。
(偏在层形成涂液B3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F489为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B3。
<调整例B4>
(偏在层形成涂液B4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、Ftergent 222F为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba JapanK.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B4。
<调整例B5>
(偏在层形成涂液B5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B5。
<调整例B6>
(偏在层形成涂液B6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B6。
<调整例B7>
(偏在层形成涂液B7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B7。
<调整例B8>
(偏在层形成涂液B8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B1。
<调整例B9>
(偏在层形成涂液B9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B9。
<调整例B10>
(偏在层形成涂液B10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B10。
<调整例B11>
(偏在层形成涂液B11)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B1。
<调整例B12>
(偏在层形成涂液B12)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液B12。
以下示出低折射率层形成涂液B的(调整例)。
(低折射率层形成涂液B)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液B。
[实施例B1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液B1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从形成了而干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液B按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例B1]的抗反射膜。
[实施例B2]～[实施例B10]
[实施例B2]～[实施例B10]中，使用偏在层形成涂液B2～B10来替代偏在层形成用涂液B1，其它的制造条件与[实施例B1]同样，从而制作出[实施例B2]～[实施例B10]的抗反射膜。
[实施例B11]～[实施例B13]
[实施例B11]中，使用偏在层形成涂液B1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B11]的抗反射膜。
[实施例B12]中，使用偏在层形成涂液B1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B12]的抗反射膜。
[实施例B13]中，使用偏在层形成涂液B1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例B1]同样，制作出[实施例B13]的抗反射膜。
[实施例B14]、[实施例B15]
[实施例B14]、[实施例B15]中，使用偏在层形成涂液B11、B12来替代偏在层形成涂液B1，其它的制造条件与[实施例B1]同样，从而制作出[实施例B14]、[实施例B15]的抗反射膜。
(表3)汇总示出[实施例B1]～[实施例B15]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300611
对于所获得的[实施例B1]～[实施例B15]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表4)汇总示出评价结果等。
Figure BPA00001581291300631
(C)流平材料：具有氟的化合物×导电性材料：导电性高分子
以下，给出使用了具有氟的化合物作为流平材料、使用了导电性高分子作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液C1～C10的(调整例)。
<调整例C1>
(偏在层形成涂液C1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C1。
<调整例C2>
(偏在层形成涂液C2)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径300nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C2。
<调整例C3>
(偏在层形成涂液C3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F489为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C3。
<调整例C4>
(偏在层形成涂液C4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、Ftergent 222F为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C4。
<调整例C5>
(偏在层形成涂液C5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C5。
<调整例C6>
(偏在层形成涂液C6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C6。
<调整例C7>
(偏在层形成涂液C7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C7。
<调整例C8>
(偏在层形成涂液C8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、F470为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C8。
<调整例C9>
(偏在层形成涂液C9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C9。
<调整例C10>
(偏在层形成涂液C10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液C10。
以下示出低折射率层形成涂液C的(调整例)。
(低折射率层形成涂液C)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液C。
[实施例C1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液C1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液C按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例C1]的抗反射膜。
[实施例C2]～[实施例C8]
[实施例C2]～[实施例C8]中，使用偏在层形成涂液C2～C8来替代偏在层形成用涂液C1，其它的制造条件与[实施例C1]同样，从而制作出[实施例C2]～[实施例C8]的抗反射膜。
[实施例C9]～[实施例C11]
[实施例C9]中，使用偏在层形成涂液C1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C9]的抗反射膜。
[实施例C10]中，使用偏在层形成涂液C1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C10]的抗反射膜。
[实施例C11]中，使用偏在层形成涂液C1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例C1]同样，制作出[实施例C 11]的抗反射膜。
[实施例C12]、[实施例C13]
[实施例C12]、[实施例C13]中，使用偏在层形成涂液C9、C10来替代偏在层形成涂液C1，其它的制造条件与[实施例C1]同样，从而制作出[实施例C12]、[实施例C13]的抗反射膜。
(表5)汇总示出[实施例C1]～[实施例C13]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300691
对于所获得的[实施例C1]～[实施例C13]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表6)汇总示出评价结果等。
Figure BPA00001581291300711
(D)流平材料：具有硅氧烷键的化合物×导电性材料：季铵盐材料
以下，给出使用了具有硅氧烷键的化合物作为流平材料、使用了季铵盐材料作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液D1～D12的(调整例)。
(合成例1)
向具备有搅拌翼、回流冷凝管、干空气导入管、温度计的四口烧瓶中，加入辛基聚乙二醇聚丙二醇甲基丙烯酸酯(商品名：“Blemmer 50POEP-800B”日本油脂公司制)18.0g、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵35.0g、环己基甲基丙烯酸酯14.0g、偶氮二异丁腈0.3g、异丙醇100.0g、甲乙酮40.0g，在氮气环境下在65℃进行了3小时聚合。聚合结束后，将反应液投入于己烷中，析出产物后干燥。所获得的季铵盐材料的重均分子量为18500。
<调整例D1>
(偏在层形成涂液D1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D1。
<调整例D2>
(偏在层形成涂液D2)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、NR-121X-9IPA的20重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D2。
<调整例D3>
(偏在层形成涂液D3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、BYK-Silclean3700为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D3。
<调整例D4>
(偏在层形成涂液D4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、LIGHT ESTER DQ100(分子量208)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D4。
<调整例D5>
(偏在层形成涂液D5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、对苯乙烯磺酸铵盐均聚物(分子量12万)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D5。
<调整例D6>
(偏在层形成涂液D6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)0.01重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D6。
<调整例D7>
(偏在层形成涂液D7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)100重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D7。
<调整例D8>
(偏在层形成涂液D8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D8。
<调整例D9>
(偏在层形成涂液D9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D9。
<调整例D10>
(偏在层形成涂液D10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D10。
<调整例D11>
(偏在层形成涂液D11)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、由合成例1制作的季铵盐材料(分子量18500)10重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D11。
<调整例D12>
(偏在层形成涂液D12)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液D12。
以下示出低折射率层形成涂液D的(调整例)。
(低折射率层形成涂液D)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液D。
[实施例D1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液D1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液D按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例D1]的抗反射膜。
[实施例D2]～[实施例D10]
[实施例D2]～[实施例D10]中，使用偏在层形成涂液D2～D10来替代偏在层形成用涂液D1，其它的制造条件与[实施例D1]同样，从而制作出[实施例D2]～[实施例D10]的抗反射膜。
[实施例D11]～[实施例D13]
[实施例D11]中，使用偏在层形成涂液D1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D11]的抗反射膜。
[实施例D12]中，使用偏在层形成涂液D1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例A1]同样，制作出[实施例D12]的抗反射膜。
[实施例D13]中，使用偏在层形成涂液D1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例D1]同样，制作出[实施例D13]的抗反射膜。
[实施例D14]、[实施例D15]
[实施例D14]、[实施例D15]中，使用偏在层形成涂液D11、D12来替代偏在层形成涂液D1，其它的制造条件与[实施例D1]同样，从而制作出[实施例D14]、[实施例D15]的抗反射膜。
(表7)汇总示出[实施例D1]～[实施例D15]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300781
对于所获得的[实施例D1]～[实施例D15]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表8)汇总示出评价结果等。
(E)流平材料：具有硅氧烷键的化合物×导电性材料：金属氧化物颗粒
以下，给出使用了具有硅氧烷键的化合物作为流平材料、使用了金属氧化物颗粒作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液E1～E11的(调整例)。
<调整例E1>
(偏在层形成涂液E1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E1。
<调整例E2>
(偏在层形成涂液E1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含磷氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E1。
<调整例E3>
(偏在层形成涂液E3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-Silclean3700为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(CibaJapan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E3。
<调整例E4>
(偏在层形成涂液E4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E4。
<调整例E5>
(偏在层形成涂液E5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)100重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E5。
<调整例E6>
(偏在层形成涂液E6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径1000nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E6。
<调整例E7>
(偏在层形成涂液E7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E7。
<调整例E8>
(偏在层形成涂液E8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E8。
<调整例E9>
(偏在层形成涂液E9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E9。
<调整例E10>
(偏在层形成涂液E10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、含锑氧化锡(平均粒径50nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E10。
<调整例E11>
(偏在层形成涂液E11)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液E11。
以下示出低折射率层形成涂液E的(调整例)。
(低折射率层形成涂液E)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液E。
[实施例E1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液E1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液E按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例E1]的抗反射膜。
[实施例E2]～[实施例E9]
[实施例E2]～[实施例9]中，使用偏在层形成涂液E2～E9来替代偏在层形成用涂液E1，其它的制造条件与[实施例E1]同样，从而制作出[实施例E2]～[实施例E9]的抗反射膜。
[实施例E10]～[实施例E12]
[实施例E10]中，使用偏在层形成涂液E1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E10]的抗反射膜。
[实施例E11]中，使用偏在层形成涂液E1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E11]的抗反射膜。
[实施例E12]中，使用偏在层形成涂液E1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例E1]同样，制作出[实施例E12]的抗反射膜。
[实施例E13]、[实施例E14]
[实施例E13]、[实施例E14]中，使用偏在层形成涂液E13、E14来替代偏在层形成涂液E1，其它的制造条件与[实施例E1]同样，从而制作出[实施例E13]、[实施例E14]的抗反射膜。
(表9)汇总示出[实施例E1]～[实施例E14]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300861
对于所获得的[实施例E1]～[实施例E14]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表10)汇总示出评价结果等。
(F)流平材料：具有硅氧烷键的化合物×导电性材料：季铵盐
以下，给出使用了具有硅氧烷键的化合物作为流平材料、使用了导电性高分子作为导电性材料时的实施例。
以下示出偏在层形成涂液F1～F10的(调整例)。
<调整例F1>
(偏在层形成涂液F1)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F1。
<调整例F2>
(偏在层形成涂液F2)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚苯胺(平均粒径75nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F2。
<调整例F3>
(偏在层形成涂液F3)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径300nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F3。
<调整例F4>
(偏在层形成涂液F4)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-Silclean3700为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F4。
<调整例F5>
(偏在层形成涂液F5)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)0.01重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F5。
<调整例F6>
(偏在层形成涂液F6)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F1。
<调整例F7>
(偏在层形成涂液F7)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为20wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F7。
<调整例F8>
(偏在层形成涂液F8)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、BYK-330为0.1重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为90wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F8。
<调整例F9>
(偏在层形成涂液F9)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、聚噻吩(平均粒径100nm/异丙醇分散液)(固体成分)5重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F9。
<调整例F10>
(偏在层形成涂液F10)
准备氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学公司制UA-306T)100重量份、二季戊四醇三丙烯酸酯50重量份、季戊四醇四丙烯酸酯50重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)10重量份，使用甲乙酮将它们按照固体成分为50wt％的方式进行调液，制成了偏在层形成涂液F10。
以下示出低折射率层形成涂液F的(调整例)。
(低折射率层形成涂液F)
准备多孔质硅石微粒的分散液(平均粒径50nm/固体成分20wt％/甲基异丁基酮分散液)(固体成分)2.5重量份、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制DPEA-12)2.5重量份、光聚合引发剂(Ciba Japan K.K.制IRGACURE 184)0.1重量份，使用异丙醇将它们按照固体成分为5wt％的方式进行调液，制成了低折射率层形成涂液F。
[实施例F1]
(偏在层的形成)
在三乙酰基纤维素膜(Fujifilm Corporation制：膜厚80μm)的单面涂布偏在层形成涂液F1，在25℃在干燥炉内干燥10秒作为第一次干燥，连续地在80℃在干燥炉内干燥50秒作为第二次干燥，干燥后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量300mJ/m2进行紫外线照射从而形成了干燥膜厚5μm的透明的偏在层。
(低折射率层的形成)
将低折射率层形成涂液F按照干燥后的膜厚为100nm的方式涂布在所形成的偏在层上。第一次干燥以温度25℃进行了25秒后，第二次干燥以温度80℃进行了50秒后，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan K.K.制，光源H Bulb)以照射线量192mJ/m2进行紫外线照射而硬膜化从而形成低折射率层，制作出[实施例F1]的抗反射膜。
[实施例F2]～[实施例F8]
[实施例F2]～[实施例F8]中，使用偏在层形成涂液F2～F8来替代偏在层形成用涂液F1，其它的制造条件与[实施例F1]同样，从而制作出[实施例F2]～[实施例F8]的抗反射膜。
[实施例F9]～[实施例F11]
[实施例F9]中，使用偏在层形成涂液F1，使第一次干燥温度为50℃、使第二次干燥温度为60℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F9]的抗反射膜。
[实施例F10]中，使用偏在层形成涂液F1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为25℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F10]的抗反射膜。
[实施例F11]中，使用偏在层形成涂液F1，使第一次干燥温度及第二次干燥温度都为80℃而形成偏在层，其它的制造条件与[实施例F1]同样，制作出[实施例F11]的抗反射膜。
[实施例F12]、[实施例F13]
[实施例F12]、[实施例F13]中，使用偏在层形成涂液F9、F10来替代偏在层形成涂液F1，其它的制造条件与[实施例F1]同样，从而制作出[实施例F12]、[实施例F13]的抗反射膜。
(表11)汇总示出[实施例F1]～[实施例F13]中的制造条件。
Figure BPA00001581291300941
对于所获得的[实施例F1]～[实施例F13]的抗反射膜，如前面所述那样进行评价，另外确认出偏在层中的各层的形成状态。(表12)汇总示出评价结果等。
Figure BPA00001581291300961
实施例的结果可知，通过制成由中间层、硬涂层、抗静电层、流平层构成偏在层的抗反射膜，可提供具备低的制造成本以及优异的光学特性、高的耐擦伤性、抗静电性能的抗反射膜。
符号说明

Claims (13)

1.一种抗反射膜，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到的抗反射膜，其特征在于，所述偏在层通过至少从透明基材侧，使中间层、硬涂层、包含导电性材料的抗静电层、包含流平材料的流平层依序偏在而层叠得到，且所述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，所述抗反射膜的平行光线透光率在93％以上，且所述抗反射膜的雾度在1.0％以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的表面电阻值在1×105Ω/cm2以上1×1012Ω/cm2以下的范围内，且所述抗反射膜的低折射率层表面的纯水接触角在80°以上130°以下的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的抗反射膜，其特征在于，所述具有氟的化合物选自具有全氟烷基的化合物或者具有氟化链烯基的化合物。
4.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料选自季铵盐材料、金属氧化物颗粒、导电性高分子。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)在1000以上100000以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)在500以上100000以下。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为1nm以上500nm以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。
7.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有氟的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1nm以上1000nm以下，且所述具有氟的化合物的分子量(A)为500以上100000以下。
8.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含季铵盐材料，且所述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且所述季铵盐材料的分子量(Q)为1000以上100000以下，且所述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
9.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含金属氧化物颗粒，且所述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且所述金属氧化物颗粒的平均粒径为1nm以上500nm以下，且所述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
10.根据权利要求1～4中任一项所述的抗反射膜，其特征在于，所述导电层中所含的导电性材料包含导电性高分子，且所述流平层中所含的流平材料包含具有硅氧烷键的化合物，且所述导电性高分子的平均粒径为1nm以上1000nm以下，且所述具有硅氧烷键的化合物的分子量(B)为500以上100000以下。
11.一种抗反射膜的制造方法，其为在透明基材的至少一个面上，按照偏在层和低折射率层的顺序将二者层叠而得到抗反射膜的制造方法，其特征在于，顺次具备如下工序：
形成偏在层的涂膜的涂布工序，在所述透明基材的至少一个面上涂布偏在层形成涂液，形成偏在层的涂膜，上述偏在层形成涂液包含电离放射线固化型材料和导电性材料和流平材料和溶剂；
干燥工序，对所述偏在层的涂膜实施第一次干燥和第二次干燥；
硬膜工序，对所述偏在层的涂膜照射电离放射线，形成偏在层；
涂布包含低折射率层形成材料和溶剂的低折射率层形成涂液，形成低折射率层的涂膜的涂布工序；
将所述低折射率层的涂膜干燥的干燥工序；
形成所述低折射率层的硬膜工序，
且所述偏在层通过使中间层、硬涂层、抗静电层、流平层依序偏在而层叠得到，且所述流平材料至少包含具有氟的化合物或者具有硅氧烷键的化合物。
12.根据权利要求11所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，所述偏在层形成涂液中所含的全部溶剂之中，30wt％以上的溶剂为可溶解或者溶胀透明基材的溶剂，且所述偏在层形成涂液中所包含溶剂的比例在25wt％以上85wt％以下的范围内。
13.根据权利要求11或12所述的抗反射膜的制造方法，其特征在于，将所述偏在层的涂膜干燥的干燥工序包含两个阶段的连续干燥：在干燥温度15℃以上30℃以下的范围内进行的第一次干燥，以及在干燥温度40℃以上150℃以下的范围内进行的第二次干燥。
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