JP2007093902A - 反射防止フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】従来のハードコート層と低屈折率層とからなる反射防止フィルムにおいて、これらの密着性は優れているとは言えず、長期に亘って使用した場合、層間剥離などの問題が発生し、結果的に反射防止性能が低下する場合がある。ハードコート層を2段階に分けて紫外線照射することで層間の密着性を上げているが、反射防止フィルムとして重要な性能の一つである最小反射率を引き上げてしまう問題があった。
【解決手段】ハードコート層の主成分に、アクリレートとメタクリレートからなるハードコート剤を透明基材上に塗布硬化することによって上記の課題を解決することができた。
【選択図】なし
【解決手段】ハードコート層の主成分に、アクリレートとメタクリレートからなるハードコート剤を透明基材上に塗布硬化することによって上記の課題を解決することができた。
【選択図】なし
Description
近年、テレビやPCにおいては、従来のブラウン管に代わってPDP(プラズマディスプレー)や液晶ディスプレイによる大画面・薄型化が進んでいる。これらのディスプレイは高画質であるため、その画面部への光や物体の映りこみが画像の見栄えに与える影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要となっている。
また、液晶や有機EL(エレクトロルミネッセンス)等の表示方式が用いられる携帯電話、PDA、電子ペーパー等のモバイル機器の表示材においても、屋外で使用されることから光や物体の映りこみの画像に対する影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要である。
反射防止の一つの方法として、表示画面の表面に反射防止フィルムを装着することが行われてきた。この反射防止フィルムは、透明基材の片面にアクリル系樹脂等の硬度が高く、かつ屈折率の高いハードコート層と、シリコーン系樹脂又はフッ素系樹脂等の屈折率が低い低屈折率層とを順次積層したものである。
しかしながら、上記のような従来のハードコート層と低屈折率層とからなる反射防止フィルムにおいて、これらの密着性は優れているとは言えず、長期に亘って使用した場合、層間剥離などの問題が発生し、結果的に反射防止性能が低下する場合がある。この問題を解決するために、特許文献1には、ハードコート層を紫外線照射によりハーフキュアした後に低屈折率層を塗布し、その後硬化させる方法が開示されている。本方法では、ハードコート層を2段階に分けて紫外線照射することで層間の密着性を上げているが、反射防止フィルムとして重要な性能の一つである最小反射率を引き上げてしまう問題があった。
特開2003-311911号公報 本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、反射防止フィルムを構成する層の密着性が高く、耐擦傷性が高く、最小反射率の低い反射防止フィルムを提供することを目的とする。
(1)請求項1の発明は、
ハードコート層と低屈折率層からなる二層反射防止フィルムであって、該ハードコート層の主成分が、アクリレートとメタクリレートからなるハードコート剤を透明基材上に塗布硬化してなることを特徴とする反射防止フィルムを要旨とする。
ハードコート層と低屈折率層からなる二層反射防止フィルムであって、該ハードコート層の主成分が、アクリレートとメタクリレートからなるハードコート剤を透明基材上に塗布硬化してなることを特徴とする反射防止フィルムを要旨とする。
本発明に使用する透明基材層は、特に限定されるものではなく、全光線透過率90%以上で、厚み10μm〜5mmの公知の透明プラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このような透明基材層としては、例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。更に具体的には、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッソ樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
本発明のハードコート層を形成する方法は、特に制限はなく、公知のスプレーコート、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート、ワイヤーバーなどの塗工法またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法により形成できる。ハードコート層の厚さは、1μm〜10μmが好ましい。また、ハードコート層の屈折率は、1.50〜1.80の範囲が好ましい。
本発明の主要素であるハードコート剤を用いて、透明基材層の上にハードコート層を形成することができる。これにより、本ハードコート剤で形成した層と、それに隣接する低屈折率層との密着性が高くなり、層間の剥離が生じ難くなる。本発明におけるアクリレートおよびメタクリレートは、モノマーでもプレポリマーであってもよい。
(2)請求項2の発明は、
前記メタクリレートの配合比が、前記アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムを要旨とする。
前記メタクリレートの配合比が、前記アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムを要旨とする。
本発明に用いるメタクリレートは、アクリレートの硬化遅延剤として作用し、ハードコート層としたときに、それに隣接する低屈折率層との密着性を向上させる。その配合比は、アクリレート100重量部に対して、メタクリレート0.5〜50重量部が適している。0.5重量部未満では遅延効果がなく、また50重量部を超えると紫外線照射等による硬化後もタックが残り、低屈折率層の塗布が困難となる。好ましくは、1〜30重量部である。
(3)請求項3の発明は、
前記メタクリレートが2〜3官能のメタクリレートであることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルムを要旨とする。
前記メタクリレートが2〜3官能のメタクリレートであることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルムを要旨とする。
前記の如く、メタクリレートは、アクリレートの硬化遅延剤として作用する。これは、メタクリレート中のメチル基の共役電子依存性によるものと考えられる。本発明に用いられるメタクリレートは、2あるいは3官能以下のメタクリレートであり、例えば、2官能としては、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、1.4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1.6−ヘキサンジオールジメタクレート、1.9−ノナンジオールジメタクリレート、1.10−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、3官能としては、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートが挙げられ、官能基数の多いメタクリレートほど硬化遅延の効果が大きく、特に3官能のメタクリレートを用いることにより、添加量を減らすことができ、好ましい。また、これらを単独あるいは2種以上を混合して使用しても良い。
アクリレートとしては、例えば1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、また市販されているウレタンアクリレートやメラミンアクリレートなどが挙げられ、官能基数の多いアクリレートほど表面硬度が高くなり、好ましい。これらは単独あるいは2種以上を混合して使用してもよい。
光重合開始剤には、例えば、アセトフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのカルボニル化合物、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムシ゛スルフィドなどの硫黄化合物などを用いることができる。
光重合開始剤には、例えば、アセトフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのカルボニル化合物、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムシ゛スルフィドなどの硫黄化合物などを用いることができる。
これらの光重合開始剤の市販品としてはIrgacure184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61(以上、チバガイギー社製);LucirinLR8728(BASF社製);Darocure1116、1173(以上、メルク社製);ユベクリルP36(UCB社製)などが挙げられる。
本発明の反射防止フィルム用コート剤には、必要に応じて、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛、塩基性炭酸鉛、珪砂、クレー、タルク、シリカ化合物、二酸化チタン等の無機充填剤の他、シラン系やチタネート系などのカップリング剤、殺菌剤、防腐剤、可塑剤、流動調整剤、増粘剤、pH調整剤、界面活性剤、レベリング調整剤、消泡剤、着色顔料、防錆顔料等の配合材料を添加してもよい。また、耐光性向上を目的に酸化防止剤や紫外線吸収剤を添加しても良い。
その他配合材料として帯電防止剤、イオン性液体、導電性高分子、導電性微粒子等を添加し帯電防止機能を付与することができる。また、金属酸化物を屈折率調整剤としても利用することもできる。
帯電防止剤としては、ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミド、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソルビタンエステル、脂肪酸グリセリンエステル、アルキルポリエチレンイミン等を挙げることができる。また、カチオン系の帯電防止剤として、アルキルアミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩、アルキルイミダゾリン誘導体等を挙げることができる。また、エチレンオキサイドを骨格に持つアクリレート化合物やリチウムイオン等の金属イオンを混合するイオン伝導型の帯電防止剤も用いることができる。
イオン性液体としては、カチオン成分側のイミダゾリウム塩系、ピリジウム塩系等の芳香族系、脂肪族四級アンモニウム塩系等と、アニオン成分側のBF4 −、PF6 −等の無機イオン系から、CF3SO2 −、(CF3SO2)2N−等のフッ素含有有機陰イオン系の組み合わせから自由に選択でき、用いることができる。
導電性高分子として、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ3、4−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体を使用することができる。
導電性微粒子としてアンチモンドープ型酸化錫(ATO)、錫ドープ型酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ型酸化亜鉛、アンチモン副酸化物等も使用することができる。
金属酸化物として、例えば、SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、ZnO、Sb2O5等が挙げられる。金属酸化物を添加することによりハードコート層の屈折率を調整でき、かつ層間の密着性、耐擦傷性を一層増すことができる。添加量は反射防止フィルム用コート剤100重量部に対し、金属酸化物の配合量が0.01〜70重量部、好ましくは10〜50重量部である。
反射防止フィルム用ハードコート剤の粘度は、塗布性、レベリング性ならびに塗布方法などから、1〜50000mPa・s/20℃の範囲で使用でき、前記の配合材料の選択ならびに配合比率のほか、適宜溶剤あるいは重合反応を阻害しない各種添加物を添加して、塗布液の粘度を調整することができる。
本発明の反射防止フィルム用ハードコート剤を構成する溶媒としては、例えば、有機溶媒であるメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサン等のケトン系溶剤、キシレン等の芳香族系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート等のグリコールエーテルエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、等のアミド系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶剤を用いることができる。
また、粘度調整剤として単官能メタクリレートであるメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウリルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレート、n−ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレートなどを添加してもよい。
前記ハードコート剤を硬化させるには、紫外線照射機を用いて500mW/cm2〜3000mW/cm2の照射強度で、仕事量が50〜400mJ/cm2の紫外線処理を行う。照射硬度500mW/cm2、仕事量50mJ/cm2以下の紫外線処理では低屈折率層塗工後の反射率を引き上げてしまい、また照射強度3000mW/cm2、仕事量400mJ/cm2の紫外線処理では低屈折率層との密着性が悪く、耐擦傷性や表面硬度が低くなる問題が発生する。
本発明における低屈折率層の材料は特に制限されないが、例えば、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ポーラスシリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子を添加して屈折率を1.50以下にした樹脂等が挙げられる。なかでも、シロキサン系縮合物を主骨格とするシリコーン樹脂が好ましい。低屈折率層の厚みは、反射防止フィルムに入射した可視光のうち、低屈折率層の表面で反射した反射光の位相と、ハードコート層と低屈折率層との境界で反射した反射光の位相とが反対となるように設定することが望ましい。それにより、低屈折率層の表面で反射した反射光と、ハードコート層と低屈折率層との境界で反射した反射光とを相互に打ち消し合わせ、反射を効率良く防止することができる。低屈折率層の具体的な厚みは、例えば、50〜150nmが望ましい。尚、酸素阻害を受けやすい樹脂に対しては、窒素雰囲気下にて硬化させても良い。また、必要に応じて低屈折率層を硬化させた後に紫外線照射機を用いてハードコート層を完全硬化させても良い。
また、前記反射防止フィルムの裏面に粘着層を設けてもよい。粘着層は、反射防止フィルムの透明性を維持しながら、反射防止フィルムとディスプレイ等の表面とを密着させることができる粘着剤又は接着剤から成るものであればよく、例えば、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂等の粘着剤、熱可塑型、熱硬化型、UV硬化型などの接着剤から成るものを使用できる。特に、光学特性上、耐光性、耐候性、耐熱性、透明性から、アクリル系樹脂が好適である。アクリル系樹脂を構成するモノマーには、例えばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸アルキルエステルや、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸エチル、またこれらに酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルエーテル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル基含有化合物を共重合しても良い。更に、粘着層の密着耐久性能を良好にし、アウトガスの発生を抑制するためには、粘着剤の主剤がアクリル系樹脂で重量平均分子量が50万以上、かつ多分散度は5以下であることがよい。
粘着層には、必要に応じて、架橋剤、触媒、酸化防止剤、着色顔料、ガラスビーズ、フィラー、難燃剤、抗菌剤、光安定剤、着色剤、流動性改良剤、滑剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、架橋助剤等を配合することができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。架橋剤としては、要求特性に支障を来すものでなければ特に制限無く用いることができる。例えば、ポリイソシアネート、キレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アマイド樹脂などが挙げられる。また、粘着層に、赤外吸収剤、UV吸収剤等を添加して人体に悪影響を及ぼすと思われる有害光をカットする仕組みを入れ込んでも良い。
粘着層を形成する方法は特に制限されないが、マイヤーバー、アプリケーター、刷毛、スプレー、ローラー、グラビアコーター、ダイコーター、リップコーター、コンマコーター、ナイフコーター、リバースコ−ター、スピンコート、ノズルコーター、ディップコート、バーコート、ブレードコートなどを用いる塗工方法が例示される。乾燥方法には特に制限はなく、熱風乾燥、赤外線や減圧法を利用したものが挙げられる。乾燥条件としては粘着層の硬化形態、膜厚や選択した溶剤にもよるが、60〜180℃程度でよい。粘着層の膜厚は特に限定されないが、0.1μm〜50μmが好ましく、10μm〜5
0μmが特に好ましい。
0μmが特に好ましい。
粘着層の上には、さらに、粘着層を保護するための離型フィルムを貼り付けてもよい。離型フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメチルアクリレート、紙、布、ガラス、セラミック、金属板、アクリル板、オレフィン樹脂、PPS樹脂、TACフィルム、アクリル樹脂フィルム、またはこれらに離型処理を施したもの等が使用できる。離型フィルムの厚さは、特に限定されないが、500μm未満が好ましく、1μm〜100μmが一層好ましく、10μm〜50μmが特に好ましい。
以下、本発明について実施例、比較例を挙げてより詳細に説明するが、具体例を示すものであって特にこれらに限定するものではない。
(1)低屈折率層用シリコーン樹脂溶液の作製
ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製50%メタノール溶液)4g、メチルトリエトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製)10gを混合し、20℃に冷却した。次に、1Nの塩酸4gを1時間かけて徐々に添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液に酢酸7g、イソプロピルアルコール(IPA)25g、メチルエチルケトン(MEK)70gを添加し、固形分10%のシリコーン樹脂溶液を作製した。
(2)反射防止フィルムの製造
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−DPH 固形分100%)100重量部に対し、エチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名1G 固形分100%)20重量部MEK165重量部を混合し攪拌した。開始剤としてIrgacure184(チバスペシャリティーケミカル株式会社製)を5重量部加え、ハードコート剤を得た。次いで、厚み100μmのPETフィルム(ポリエチレンテレフタレート:東レ株式会社製 商品名ルミラーU34)に、硬化後の膜厚が3μmとなるように、ハードコート剤を塗布し、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、第1層(a)を得た。次に、上記で作製したシリコーン樹脂溶液を硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ反射防止フィルム(1)を得た。
ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製50%メタノール溶液)4g、メチルトリエトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製)10gを混合し、20℃に冷却した。次に、1Nの塩酸4gを1時間かけて徐々に添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液に酢酸7g、イソプロピルアルコール(IPA)25g、メチルエチルケトン(MEK)70gを添加し、固形分10%のシリコーン樹脂溶液を作製した。
(2)反射防止フィルムの製造
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−DPH 固形分100%)100重量部に対し、エチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名1G 固形分100%)20重量部MEK165重量部を混合し攪拌した。開始剤としてIrgacure184(チバスペシャリティーケミカル株式会社製)を5重量部加え、ハードコート剤を得た。次いで、厚み100μmのPETフィルム(ポリエチレンテレフタレート:東レ株式会社製 商品名ルミラーU34)に、硬化後の膜厚が3μmとなるように、ハードコート剤を塗布し、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、第1層(a)を得た。次に、上記で作製したシリコーン樹脂溶液を硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ反射防止フィルム(1)を得た。
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりに、トリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名TMPT 固形分100%)10重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(2)を得た。
前記実施例2において、トリメチロールプロパントリメタクリレートの代わりに、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名TMPT−9EO 固形分100%)を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(3)を得た。
前記実施例2において、A−DPH100重量部の代わりに、アクリルウレタンモノマー(根上工業株式会社製 商品名UN−3320HA 固形分100%)100重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(4)を得た。
前記実施例2において、A−DPH100重量部の代わりに、アクリルメラミンモノマー(三井化学製 商品名オレスターXRA−1165 固形分100%)100重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(5)を得た。
前記実施例2において、A−DPH100重量部の代わりに、ペンタエリストールトリアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−TMM−3 固形分100%)を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(6)を得た。
前記実施例2において、さらにジルコニアスラリー(シーアイ化成株式会社製 固形分15%)を133重量部添加した以外は同様に実施して、反射防止フィルム(7)を得た。
前記実施例2において、さらにATOスラリー(石原産業株式会社製 商品名SNS−10M 固形分30%(MEK分散液))を100重量部添加した以外は同様に実施して、反射防止フィルム(8)を得た。
前記実施例3において、さらにコロイダルシリカスラリー(日産化学株式会社製 商品名MEK−ST 固形分30%)をA−DPHに対して33重量部添加した以外は同様に実施して、反射防止フィルム(9)を得た。
比較例1
前期実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりに、メチルメタクリレート(共栄社化学株式会社製 商品名ライトエステルM 固形分100%)30重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(10)を得た。
前期実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりに、メチルメタクリレート(共栄社化学株式会社製 商品名ライトエステルM 固形分100%)30重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(10)を得た。
比較例2
前記比較例1において、メチルメタクリレートを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(11)を得た。
前記比較例1において、メチルメタクリレートを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(11)を得た。
比較例3
前記実施例5において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(12)を得た。
前記実施例5において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(12)を得た。
比較例4
前記実施例7において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(13)を得た。
前記実施例7において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(13)を得た。
比較例5
前記実施例6において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(14)を得た。
前記実施例6において、TMPTを添加しなかった以外は同様に実施して、反射防止フィルム(14)を得た。
比較例6
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりにポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−400 固形分100%)20重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(15)を得た。
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりにポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−400 固形分100%)20重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(15)を得た。
比較例7
前記比較例2において、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行う代わりに、紫外線照射機を用いて700mW/cm2の照射強度で仕事量が150mJ/cm2の紫外線処理を行ってハーフキュアさせた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(16)を得た。
表1および表2に結果を示す。
前記比較例2において、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行う代わりに、紫外線照射機を用いて700mW/cm2の照射強度で仕事量が150mJ/cm2の紫外線処理を行ってハーフキュアさせた以外は同様に実施して、反射防止フィルム(16)を得た。
表1および表2に結果を示す。
試験・評価方法
(1)全光線透過率(Tt)の測定
JIS K 7361−1(2000年版)3.2の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(2)ヘイズ値(Hz)の測定
JIS K 7136(2000年版)の規定に基づいて行った。具体的には、入射する平行光のうち、前方散乱によって、入射光から0.44rad(2.5°)以上それた透過光の百分率を測定した。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(3)鉛筆硬度の測定
JIS K 5600−5−4(1999年版)の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆引掻塗膜硬さ試験機(形式P)を用いた
(4)耐擦傷性の測定
反射防止フィルムの表面を、200gの荷重をかけた日本スチールウール株式会社製のスチールウール#0000にて摩擦して傷の度合いを目視により評価した。傷の本数が3本以下のものを◎、4本〜8本のものを○、9本〜15本のものを△、それ以上のものを×とした。
(5)最小反射率の測定
作製した反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで均一に研磨し、マーカーの黒色で塗りつぶしたサンプルを作製し、350〜780nmの5°、−5°分光反射スペクトルを日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計を用いて測定し、反射率スペクトルより最小反射率を読み取った。反射スペクトルに振幅がある場合はその中心を最小反射率とした。
(1)全光線透過率(Tt)の測定
JIS K 7361−1(2000年版)3.2の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(2)ヘイズ値(Hz)の測定
JIS K 7136(2000年版)の規定に基づいて行った。具体的には、入射する平行光のうち、前方散乱によって、入射光から0.44rad(2.5°)以上それた透過光の百分率を測定した。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(3)鉛筆硬度の測定
JIS K 5600−5−4(1999年版)の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆引掻塗膜硬さ試験機(形式P)を用いた
(4)耐擦傷性の測定
反射防止フィルムの表面を、200gの荷重をかけた日本スチールウール株式会社製のスチールウール#0000にて摩擦して傷の度合いを目視により評価した。傷の本数が3本以下のものを◎、4本〜8本のものを○、9本〜15本のものを△、それ以上のものを×とした。
(5)最小反射率の測定
作製した反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで均一に研磨し、マーカーの黒色で塗りつぶしたサンプルを作製し、350〜780nmの5°、−5°分光反射スペクトルを日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計を用いて測定し、反射率スペクトルより最小反射率を読み取った。反射スペクトルに振幅がある場合はその中心を最小反射率とした。
表1、2の結果から明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、紫外線照射による複数の硬化工程を必要とせず、密着性や耐擦傷性に優れ、しかも最小反射率の低いものとなる。
Claims (3)
- ハードコート層と低屈折率層からなる二層反射防止フィルムであって、該ハードコート層の主成分が、アクリレートとメタクリレートからなるハードコート剤を透明基材上に塗布硬化してなることを特徴とする反射防止フィルム。
- 前記メタクリレートの配合比が、前記アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
- 前記メタクリレートが2〜3官能のメタクリレートであることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルム。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008191544A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置 |
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-
2005
- 2005-09-28 JP JP2005282017A patent/JP2007093902A/ja active Pending
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