JP2007248841A - 反射防止フィルム - Google Patents

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Masaaki Kumagai
正章 熊谷
Naohito Kawashiri
尚人 河尻
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Abstract

【課題】 反射防止フィルムを構成する層の密着性が高く、耐擦傷性が高く、最小反射率の低い反射防止フィルムであり、かつ防汚性を有し、近赤外線を吸収する反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】 アクリレートとメタクリレートを主成分とするハードコート剤を透明基材上に塗布して硬化させ、その上に低屈折率層を塗布して硬化させ、該透明基材裏面には近赤外線吸収層を形成する。メタクリレートとしては2〜3官能のメタクリレートを用い、2〜3官能のメタクリレートの配合比は、アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部とする。
【選択図】 なし

Description

近年、テレビやPCにおいては、従来のブラウン管に代わってプラズマディスプレイや液晶ディスプレイによる大画面・薄型化が進んでいる。これらのディスプレイは高画質であるため、その画面部への光や物体の映りこみが画像の見栄えに与える影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要となっている。
また、液晶や有機EL(エレクトロルミネッセンス)等の表示方式が用いられる携帯電話、PDA、電子ペーパー等のモバイル機器の表示材においても、屋外で使用されることから光や物体の映りこみの画像に対する影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要である。
反射防止の一つの方法として、表示画面の表面に反射防止フィルムを装着することが行われてきた。この反射防止フィルムは、透明基材の片面にアクリル系樹脂等の硬度が高く、かつ屈折率の高いハードコート層と、シリコーン系樹脂又はフッ素系樹脂等の屈折率が低い低屈折率層とを順次積層したものである。
従来から反射防止フィルムは蒸着やスパッタリングなどの乾式法により、前記多層膜を形成するが、これら乾式法では生産性が悪く製造コストが高くなる問題があった。ウェットコーティングで反射防止層を形成する湿式法では生産性が向上するが、乾式法と比較し、塗膜強度に問題があった。
上記のような従来のハードコート層と低屈折率層とからなる反射防止フィルムにおいて、これらの密着性は優れているとは言えず、長期に亘って使用した場合、層間剥離などの問題が発生し、結果的に反射防止性能が低下する場合がある。この問題を解決するために、特許文献1には、ハードコート層を紫外線照射によりハーフキュアした後に低屈折率層を塗布し、その後硬化させる方法が開示されている。本方法では、ハードコート層を2段階に分けて紫外線照射することで層間の密着性を上げているが、反射防止フィルムとして重要な性能の一つである最小反射率を引き上げてしまう問題があった。
特開2003−311911号公報 また、上記反射防止フィルムを液晶やプラズマディスプレイなどディスプレイパネルに貼り付け、使用した場合、指紋などにより汚れが蓄積し、表示機能に障害をきたす場合があった。
さらに、大型プラズマディスプレイにおいてはプラズマ放電を発生させた際に不必要な近赤外線が輻射され、テレビやエアコンなどのリモコンの誤動作を生じさせる問題があった。またネオンガス特有のオレンジ色をカットし赤色を鮮やかに発色させる必要があった。そのためネオンカット機能を付与させた近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイパネル前面板に別途貼り付ける必要があり、製造コスト上昇の原因となっていた。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、反射防止フィルムを構成する層の密着性が高く、耐擦傷性が高く、最小反射率の低い反射防止フィルムであり、かつ防汚性を有し、近赤外線を吸収する反射防止フィルムを提供することを目的とする。
(1)請求項1の発明は、
アクリレートとメタクリレートを主成分とするハードコート剤が透明基材上に塗布硬化され、その上に低屈折率層が塗布硬化され、該透明基材裏面には近赤外線吸収層が形成されてなることを特徴とする反射防止フィルムである。
本発明に使用する透明基材層は、特に限定されるものではなく、全光線透過率90%以上で、厚み10μm〜5mmの公知の透明プラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このような透明基材層としては、例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。更に具体的には、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
本発明のハードコート層を形成する方法は、特に制限はなく、公知のスプレーコート、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート、ワイヤーバーなどの塗工法またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法により形成できる。ハードコート層の厚さは、1μm〜10μmが好ましい。また、ハードコート層の屈折率は、1.50〜1.80の範囲が好ましい。
本発明の主要素であるハードコート剤を用いて、透明基材層の上にハードコート層を形成することができる。これにより、本ハードコート剤で形成した層と、それに隣接する低屈折率層との密着性が高くなり、層間の剥離が生じ難くなる。本発明におけるアクリレートおよびメタクリレートは、モノマーでもプレポリマーであってもよい。
(2)請求項2の発明は、
前記メタクリレートが2〜3官能のメタクリレートであることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムである。
(3)請求項3の発明は、
前記2〜3官能のメタクリレートの配合比が、前記アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部であることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルムである。
本発明に用いるメタクリレートは、アクリレートの硬化遅延剤として作用し、ハードコート層としたときに、それに隣接する低屈折率層との密着性を向上させる。その配合比は、アクリレート100重量部に対して、メタクリレート0.5〜50重量部が適している。0.5重量部未満では遅延効果がなく、また50重量部を超えると紫外線照射等による硬化後もタックが残り、低屈折率層の塗布が困難となる。好ましくは、1〜30重量部である。
前記の如く、メタクリレートは、アクリレートの硬化遅延剤として作用する。これは、メタクリレート中のメチル基の共役電子依存性によるものと考えられる。本発明に用いられるメタクリレートは、2あるいは3官能以下のメタクリレートであり、例えば、2官能としては、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、1.4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1.6−ヘキサンジオールジメタクレート、1.9−ノナンジオールジメタクリレート、1.10−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、3官能としては、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートが挙げられ、官能基数の多いメタクリレートほど硬化遅延の効果が大きく、特に3官能のメタクリレートを用いることにより、添加量を減らすことができ、好ましい。また、これらを単独あるいは2種以上を混合して使用しても良い。
アクリレートとしては、例えば1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、また市販されているウレタンアクリレートやメラミンアクリレートなどが挙げられ、官能基数の多いアクリレートほど表面硬度が高くなり、好ましい。これらは単独あるいは2種以上を混合して使用してもよい。
光重合開始剤には、例えば、アセトフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのカルボニル化合物、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムシ゛スルフィドなどの硫黄化合物などを用いることができる。
これらの光重合開始剤の市販品としてはIrgacure184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61(以上、チバガイギー社製);LucirinLR8728(BASF社製);Darocure1116、1173(以上、メルク社製);ユベクリルP36(UCB社製)などが挙げられる。
(4)請求項4の発明は、
前記低屈折率層がフッ素変性シリコーン樹脂からなり、水に対する接触角が90度以上、かつオレイン酸に対する接触角が50度以上であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムである。
前記低屈折率層をフッ素変性シリコーン樹脂とすることで、前記ハードコート層と屈折率差が生じ反射防止機能が発現する。さらに水に対する接触角を90度以上、かつオレイン酸に対する接触角を50度以上とすることで、ディスプレイパネルに貼り付けた際、指紋などの汚れが蓄積されず優れた防汚性を有することができる。
フッ素変性シリコーン樹脂としては特に限定されないが、パーフルオロアルキルアルコキシシランを主とするものが挙げられる。具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。
本発明の低屈折率層を形成する方法は、特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。低屈折率層の厚さは、屈折率及び目的とする最小反射率波長によって変化するが、50nm〜150nmが好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.45の範囲が好ましい。
酸素阻害を受けやすい樹脂に対しては、窒素雰囲気下にて硬化させても良い。また、必要に応じて低屈折率層を硬化させた後に紫外線照射機を用いてハードコート層を完全硬化させても良い。
(5)請求項5の発明は、
前記近赤外吸収層は近赤外線吸収色素を含有し、850nm〜1100nmの波長全域において透過率が20%以下であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムである。
近赤外線吸収層に近赤外線吸収色素を含有し、850nm〜1100nmの波長全域において透過率を20%以下とすることで、不要な近赤外線の放出を防止でき、プラズマディスプレイパネル前面板に貼り付けた際、リモコン等の誤動作を防止することができる。
近赤外線吸収層は例えばポリエステル樹脂などの透明性樹脂に近赤外線吸収色素を添加攪拌したものを基材裏面に前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。近赤外線吸収層の厚みは5〜20μmが好ましい。
本発明に使用する近赤外線吸収色素は、近赤外線を吸収し、かつ透光性を有する材料であれば特に限定されない。このような色素としては、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ポリメチン系などを用いることができる。これらは材料に特有の吸収波長を有し、単独あるいは2種以上を混合して使用することで幅広い波長域において吸収性能を付与することもできる。
(6)請求項6の発明は、
前記近赤外吸収層は550nm〜660nmの波長において最大吸収波長をもつネオンカット色素を含有し、最大吸収波長の透過率が50%以下であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムである。
前記近赤外吸収層にネオンカット色素を含有し、最大吸収波長の透過率を50%以下とすることで、プラズマディスプレイに特有のネオンガスによる不要なオレンジ色をカットし、高い赤の色純度を得ることができる。このような色素としては、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系などを単独あるいは2種以上を混合して使用することができる。
本発明の反射防止フィルム用コート剤には、必要に応じて、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂などの有機化合物、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛、塩基性炭酸鉛、珪砂、クレー、タルク、シリカ化合物、二酸化チタン等の無機化合物の他、シラン系やチタネート系などのカップリング剤、殺菌剤、防腐剤、可塑剤、流動調整剤、増粘剤、pH調整剤、界面活性剤、レベリング調整剤、消泡剤、着色顔料、防錆顔料等の配合材料を添加してもよい。また、耐光性向上を目的に酸化防止剤や紫外線吸収剤を添加しても良い。
その他配合材料として帯電防止剤、イオン性液体、導電性高分子、導電性微粒子等を添加し帯電防止機能を付与することができる。また、金属酸化物を屈折率調整剤としても利用することもできる。
帯電防止剤としては、ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミド、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソルビタンエステル、脂肪酸グリセリンエステル、アルキルポリエチレンイミン等を挙げることができる。また、カチオン系の帯電防止剤として、アルキルアミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩、アルキルイミダゾリン誘導体等を挙げることができる。また、エチレンオキサイドを骨格に持つアクリレート化合物やリチウムイオン等の金属イオンを混合するイオン伝導型の帯電防止剤も用いることができる。
イオン性液体としては、カチオン成分側のイミダゾリウム塩系、ピリジウム塩系等の芳香族系、脂肪族四級アンモニウム塩系等と、アニオン成分側のBF 、PF 等の無機イオン系から、CFSO 、(CFSO)2N等のフッ素含有有機陰イオン系の組み合わせから自由に選択でき、用いることができる。
導電性高分子として、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ3、4−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体を使用することができる。
導電性微粒子としてアンチモンドープ型酸化錫(ATO)、錫ドープ型酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ型酸化亜鉛、アンチモン副酸化物等も使用することができる。
金属酸化物として、例えば、SiO、TiO、ZrO、HfO、ZnO、Sb等が挙げられる。金属酸化物を添加することによりハードコート層の屈折率を調整でき、かつ層間の密着性、耐擦傷性を一層増すことができる。添加量は反射防止フィルム用コート剤100重量部に対し、金属酸化物の配合量が0.01〜70重量部、好ましくは10〜50重量部である。
反射防止フィルム用ハードコート剤の粘度は、塗布性、レベリング性ならびに塗布方法などから、1〜50000mPa・s/20℃の範囲で使用でき、前記の配合材料の選択ならびに配合比率のほか、適宜溶剤あるいは重合反応を阻害しない各種添加物を添加して、塗布液の粘度を調整することができる。
本発明の反射防止フィルム用ハードコート剤を構成する溶媒としては、例えば、有機溶媒であるメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサン等のケトン系溶剤、キシレン等の芳香族系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート等のグリコールエーテルエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、等のアミド系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶剤を用いることができる。
また、粘度調整剤として単官能メタクリレートであるメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウリルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレート、n−ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレートなどを添加してもよい。
前記ハードコート剤を硬化させるには、紫外線照射機を用いて500mW/cm〜3000mW/cmの照射強度で、仕事量が50〜400mJ/cmの紫外線処理を行う。照射硬度500mW/cm、仕事量50mJ/cm以下の紫外線処理では低屈折率層塗工後の反射率を引き上げてしまい、また照射強度3000mW/cm、仕事量400mJ/cmの紫外線処理では低屈折率層との密着性が悪く、耐擦傷性や表面硬度が低くなる問題が発生する。
また、前記反射防止フィルムの裏面、即ち、近赤外線吸収層の上に粘着層を設けてもよい。粘着層は、反射防止フィルムの透明性を維持しながら、反射防止フィルムとディスプレイ等の表面とを密着させることができる粘着剤又は接着剤から成るものであればよく、例えば、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂等の粘着剤、熱可塑型、熱硬化型、UV硬化型などの接着剤から成るものを使用できる。特に、光学特性上、耐光性、耐候性、耐熱性、透明性から、アクリル系樹脂が好適である。アクリル系樹脂を構成するモノマーには、例えばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸アルキルエステルや、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸エチル、またこれらに酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルエーテル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル基含有化合物を共重合しても良い。更に、粘着層の密着耐久性能を良好にし、アウトガスの発生を抑制するためには、粘着剤の主剤がアクリル系樹脂で重量平均分子量が50万以上、かつ多分散度は5以下であることがよい。
粘着層には、必要に応じて、架橋剤、触媒、酸化防止剤、着色顔料、ガラスビーズ、フィラー、難燃剤、抗菌剤、光安定剤、着色剤、流動性改良剤、滑剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、架橋助剤等を配合することができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。架橋剤としては、要求特性に支障を来すものでなければ特に制限無く用いることができる。例えば、ポリイソシアネート、キレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アマイド樹脂などが挙げられる。また、粘着層に、赤外吸収剤、UV吸収剤等を添加して人体に悪影響を及ぼすと思われる有害光をカットする仕組みを入れ込んでも良い。
粘着層を形成する方法は特に制限されないが、マイヤーバー、アプリケーター、刷毛、スプレー、ローラー、グラビアコーター、ダイコーター、リップコーター、コンマコーター、ナイフコーター、リバースコ−ター、スピンコート、ノズルコーター、ディップコート、バーコート、ブレードコートなどを用いる塗工方法が例示される。乾燥方法には特に制限はなく、熱風乾燥、赤外線や減圧法を利用したものが挙げられる。乾燥条件としては粘着層の硬化形態、膜厚や選択した溶剤にもよるが、60〜180℃程度でよい。粘着層の膜厚は特に限定されないが、0.1μm〜50μmが好ましく、10μm〜50μmが特に好ましい。
粘着層の上には、さらに、粘着層を保護するための離型フィルムを貼り付けてもよい。離型フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメチルアクリレート、紙、布、ガラス、セラミック、金属板、アクリル板、オレフィン樹脂、PPS樹脂、TACフィルム、アクリル樹脂フィルム、またはこれらに離型処理を施したもの等が使用できる。離型フィルムの厚さは、特に限定されないが、500μm未満が好ましく、1μm〜100μmが一層好ましく、10μm〜50μmが特に好ましい。
以下、本発明について実施例、比較例を挙げてより詳細に説明するが、具体例を示すものであって特にこれらに限定するものではない。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−DPH 固形分100%)100重量部に対し、エチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名1G 固形分100%)5重量部、MEK165重量部を混合し攪拌した。開始剤としてIrgacure184(チバスペシャリティーケミカル株式会社製)を5重量部加え、ハードコート剤を得た。次いで、厚み100μmのPETフィルム(ポリエチレンテレフタレート:東レ株式会社製 商品名ルミラーU34)に、硬化後の膜厚が3μmとなるように、ハードコート剤を塗布し、紫外線照射機を用い紫外線処理を行い、第1層を得た。次に、後述するフッ素変性シリコーン樹脂溶液を硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ反射防止フィルムを得た。フッ素変性シリコーン樹脂溶液は次の手順で作製した。トリフルオロプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社製 商品名KBM7103)12g、テトラエトキシシラン(信越化学工業株式会社製 KBE04)3gを混合し、20℃に冷却、次に、0.25Nの酢酸2gを添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液にイソプロピルアルコール(IPA)35g、メチルエチルケトン(MEK)100gを添加し、固形分10%のフッ素変性シリコーン樹脂溶液を作製した。
さらに、ポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製 商品名バイロンRV200)100重量部に対し、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名イーエクスカラーIR−14)7重量部、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名イーエクスカラーIR−12)5重量部、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名TX−EX−910B)3重量部、近赤外線吸収色素(株式会社林原生物化学研究所 商品名NK−3508)3重量部、ネオンカット色素(旭電化工業製 商品名アデカアークルズTY−102)3重量部、MEK100重量部を混合攪拌し、コート剤を得た。前記反射防止フィルム裏面に硬化後の膜厚が7μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ反射防止フィルムを得た。
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート5重量部の代わりに、トリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名TMPT 固形分100%)5重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート5重量部の代わりに、45重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
前記実施例2において、トリメチロールプロパントリメタクリレート5重量部の代わりに、45重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例1
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート5重量部の代わりに、エチレングリコールジメタクリレート0.3重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例2
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート5重量部の代わりに、エチレングリコールジメタクリレート55重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例3
前記実施例1において、エチレングリコールジメタクリレート5重量部の代わりに、メチルメタクリレート(共栄社化学株式会社製 商品名ライトエステルM 固形分100%)10重量部を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例4
前記実施例1において、フッ素変性シリコーン樹脂溶液の代わりに、後述するシリコーン樹脂溶液を用いた以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。シリコーン樹脂溶液は次の手順で作製した。ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製50%メタノール溶液)4g、メチルトリエトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製)10gを混合し、20℃に冷却、次に、1Nの塩酸4gを添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液に酢酸7g、イソプロピルアルコール(IPA)25g、メチルエチルケトン(MEK)70gを添加し、固形分10%のシリコーン樹脂溶液を作製した。
比較例5
前記比較例1において、近赤外線吸収層を形成しないこと以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例6
前記比較例2において、近赤外線吸収層を形成しないこと以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例7
前記比較例3において、近赤外線吸収層を形成しないこと以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。
比較例8
前記比較例4において、近赤外線吸収層を形成しないこと以外は同様に実施して、反射防止フィルムを得た。

表1、2に結果を示す。
Figure 2007248841

Figure 2007248841
試験・評価方法
(1)全光線透過率(Tt)の測定
JIS K 7361−1(2000年版)3.2の規定に基づいて行った。測定装置は、株式会社東洋精機製作所製のヘーズガードIIを用いた。
(2)ヘーズ値(Hz)の測定
JIS K 7136(2000年版)の規定に基づいて行った。測定装置は、株式会社東洋精機製作所製のヘーズガードIIを用いた。
(3)鉛筆硬度の測定
JIS K 5600−5−4(1999年版)の規定に基づいて行った。測定装置は、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆引掻塗膜硬さ試験機(形式P)を用いた。
(4)耐擦傷性の測定
反射防止フィルムの表面を、200gの荷重をかけた日本スチールウール株式会社製のスチールウール#0000にて摩擦して傷の度合いを目視により評価した。傷の本数が3本以下のものを◎、4本〜8本のものを○、9本〜15本のものを△、それ以上のものを×とした。
(5)最小反射率の測定
作製した反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで均一に研磨し、マーカーの黒色で塗りつぶしたサンプルを作製し、350〜780nmの5°、−5°分光反射スペクトルを日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計を用いて測定し、反射率スペクトルより最小反射率を読み取った。反射スペクトルに振幅がある場合はその中心を最小反射率とした。
(6)上記分光光度計を用いて、850nm〜1100nmの近赤外線波長領域における透過率の最大値を記録した。
(7)上記分光光度計を用いて、550nm〜650nmの波長領域における最大吸収波長部の透過率を記録した。
(8)接触角の測定
反射防止フィルムの表面に、イオン交換水およびオレイン酸(キシダ化学株式会社製)を滴下し、接触角を測定する。測定装置は、協和界面科学株式会社製接触角計CA−X型を用いた。

Claims (6)

  1. アクリレートとメタクリレートを主成分とするハードコート剤が透明基材上に塗布硬化され、その上に低屈折率層が塗布硬化され、該透明基材裏面には近赤外線吸収層が形成されてなることを特徴とする反射防止フィルム。
  2. 前記メタクリレートが2〜3官能のメタクリレートであることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
  3. 前記2〜3官能のメタクリレートの配合比が、前記アクリレート100重量部に対して0.5〜50重量部であることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルム。
  4. 前記低屈折率層がフッ素変性シリコーン樹脂からなり、水に対する接触角が90度以上、かつオレイン酸に対する接触角が50度以上であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
  5. 前記近赤外線吸収層は近赤外線吸収色素を含有し、850nm〜1100nmの波長全域において透過率が20%以下であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
  6. 前記近赤外線吸収層は550nm〜650nmの波長において最大吸収波長をもつネオンカット色素を含有し、最大吸収波長部の透過率が50%以下であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012078541A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法
JP2012141459A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Fujifilm Corp ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置
KR101351625B1 (ko) 2010-12-31 2014-01-15 제일모직주식회사 반사 방지 필름
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