JP5450168B2 - 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5450168B2 JP5450168B2 JP2010046869A JP2010046869A JP5450168B2 JP 5450168 B2 JP5450168 B2 JP 5450168B2 JP 2010046869 A JP2010046869 A JP 2010046869A JP 2010046869 A JP2010046869 A JP 2010046869A JP 5450168 B2 JP5450168 B2 JP 5450168B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- layer
- refractive index
- film
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims description 76
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 213
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 137
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 132
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 65
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 65
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 54
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 claims description 49
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 39
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 35
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 22
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 22
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 19
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 16
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 9
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 426
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 96
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 92
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 70
- -1 acryl group Chemical group 0.000 description 67
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 46
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 41
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 34
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 31
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 28
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 22
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 15
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 15
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 15
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 14
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 10
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 10
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 6
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 6
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 6
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 6
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 5
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 3
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 2
- LTMQZVLXCLQPCT-UHFFFAOYSA-N 1,1,6-trimethyltetralin Chemical compound C1CCC(C)(C)C=2C1=CC(C)=CC=2 LTMQZVLXCLQPCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N dimethylmethane Natural products CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 2
- QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroacetate Chemical compound COC(=O)CCl QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010893 paper waste Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYCHBDHDMFEQMC-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CN(C)C=C(C)C(O)=O TYCHBDHDMFEQMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSGFFTXMUWEOT-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propan-1-ol Chemical compound CN(C)CCCO PYSGFFTXMUWEOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXSMMAVTEURRGG-UHFFFAOYSA-N 3-chlorohexane Chemical compound CCCC(Cl)CC BXSMMAVTEURRGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- RENMDAKOXSCIGH-UHFFFAOYSA-N Chloroacetonitrile Chemical compound ClCC#N RENMDAKOXSCIGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 206010011469 Crying Diseases 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006265 cellulose acetate-butyrate film Polymers 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- BULLHNJGPPOUOX-UHFFFAOYSA-N chloroacetone Chemical compound CC(=O)CCl BULLHNJGPPOUOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OP(O)(O)=O WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001464 poly(sodium 4-styrenesulfonate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000323 polyazulene Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000019830 sodium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N trizinc;distiborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Description
特許文献7では、比較的少ない量の帯電防止剤で帯電防止性を発現させて耐擦傷性を維持したハードコートフィルムが開示されているが、屈折率は任意に制御できないため、該フィルムを反射防止フィルムの光学干渉層へ適用するには制限がある。また、特許文献8には、導電性金属酸化物被覆層を有する微粒子を低屈折率粒子として使用する技術が開示されているが、該粒子は製造工程が複雑であり、より簡易な技術が求められていた。
また、特許文献9〜11には含フッ素ポリマーと導電性化合物を同一層内に含む光学フィルムが開示されているが、帯電防止性とその湿度依存性、及び耐擦傷性の観点でさらなる改善が求められる。
以上のように、帯電防止性、耐擦傷性、及び光学機能を同時に満たしながら、生産性の高い反射防止フィルムを製造することは困難であった。
<1>
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×10 12 Ω/□以下であって、
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有し、
前記層(A)を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を0.01〜5質量%、前記含フッ素ポリマーを0.1〜10質量%含有する帯電防止性の光学フィルム。
<2>
前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4である<1>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<3>
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基および親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマーと共重合可能な官能基およびフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体である<1>または<2>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<4>
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)が下記一般式[1]で表される<3>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
(式中、R 1 は水素原子又はメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子又は−N(R 2 )−を表し、Zは水素原子又はフッ素原子を表し、mは1〜6の整数、及びnは2〜4の整数を表す。R 2 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
<5>
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO 3 H)、ホスホノ基[−PO(OH) 2 ]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、<1>〜<4>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<6>
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、4級アンモニウム塩であることを特徴とする<5>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<7>
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、4級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、<1>〜<4>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<8>
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO 3 H)、ホスホノ基[−PO(OH) 2 ]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種である<7>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<9>
前記導電性高分子化合物は、さらに、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する<1>〜<8>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<10>
前記層(A)はハードコート層である、<1>〜<9>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<11>
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも1層有する反射防止フィルムである、<10>に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<12>
少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層は前記層(A)である、<1>〜<9>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
<13>
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が<1>〜<12>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
<14>
<1>〜<12>のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムまたは<13>に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置
本発明は、上記<1>〜<14>に関するものであるが、その他の事項(たとえば下記1〜16に記載した事項など)についても参考のために記載した。
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下である帯電防止性の光学フィルム。
2.
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する上記1に記載の帯電防止性の光学フィルム。
3.
前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4である上記1又は2に記載の帯電防止性の光学フィルム。
4.
前記層(A)を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を0.01〜5質量%含有する、上記1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
5.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマーと共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体である上記1〜4のいずれかに記載の帯電防止性の光学フィルム。
6.
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)が下記一般式[1]で表される上記5に記載の帯電防止性の光学フィルム。
7.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO3H)、ホスホノ基[−PO(OH)2]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、上記1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
8.
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、4級アンモニウム塩であることを特徴とする上記7に記載の帯電防止性の光学フィルム。
9.
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、4級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、上記1〜6のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
10.
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO3H)、ホスホノ基[−PO(OH)2]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種である上記9に記載の帯電防止性の光学フィルム。
11.
前記導電性高分子化合物は、更に、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する上記1〜10のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
12.
前記層(A)はハードコート層である、上記1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
13.
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも1層有する反射防止フィルムである、上記12に記載の帯電防止性の光学フィルム。
14.
少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層は前記層(A)である、上記1〜11のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
15.
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が上記1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
16.
上記1〜14のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム又は上記15に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
本発明によれば、層(A)を形成するための組成物中に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーと含有させることで、含フッ素ポリマーの表面局在性を利用し、更に含フッ素ポリマーと導電性高分子化合物の親和性を利用することで、少量の導電性高分子化合物を層(A)の透明基材フィルムとは反対の表面側に密に局在させることができる。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、極性の低いフルオロ脂肪族基を有するために透明基材フィルムとは反対の表面側に局在する化合物であり、表面側に局在した含フッ素ポリマー中において、フルオロ脂肪族基は透明基材フィルムとは反対の表面側(上側)を、親水性基は透明基材フィルム側(下側)を向きやすい。一般的な有機化合物をバインダーとして用いた層内や、また、その中に微粒子を分散させた層内において、該含フッ素ポリマー中の親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物は親和性が高いために、導電性高分子化合物を表面側に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物を設計することで、より高い親和性を得ることができ、より少量の導電性高分子化合物をより高密度に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基は負又は正に荷電し得るイオン性基を有し、それと対をなすイオン性基を有す導電性高分子化合物を組み合わせることが好ましい。
導電性高分子化合物とは、媒体中に添加することで、該化合物を添加しない媒体に比べて電気抵抗値を低下し得る高分子化合物である。本発明の光学フィルムにおける層(A)に用いられる導電性化合物は高分子であるため、光学フィルムを使用する環境下での安定性や持続性に優れる。
導電性高分子化合物としてはイオン系導電性高分子やπ共役系導電性高分子が挙げられる。導電性高分子化合物は前記含フッ素ポリマーが有する親水性基と対をなして局在させるために、イオン性高分子化合物であることが好ましい。
特に、導電性高分子化合物が有する親水性基、及び含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有することが、好ましい。導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーの親和性を損なわないために、バインダーはイオン性基を有さないことが好ましい。
アニオン性基を有する導電性高分子化合物としては、脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、アルキルリン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸エステル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊カルボン酸型高分子界面活性剤類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
(a)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、の四級アンモニウム塩、
(b)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/他の(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、の四級アンモニウム塩、
(c)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(d)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(e)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル/(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩に、更にアミノ基含有ポリジメチルシロキサンを付加したポリマー、
(f)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
(g)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、等を例示することができる。
前記層(A)が後述する光学干渉層(低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、等)である場合は、該層の厚みは0.05〜0.2μmの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は0.1〜5質量%であることが好ましく、0.1〜3質量%であることが更に好ましい。
本発明の光学フィルムにおける層(A)を形成するための組成物に含有されるフルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー(「含フッ素ポリマー」、「フルオロ脂肪族基含有ポリマー」ともいう)について説明する。
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量は3,000〜100,000であることが好ましく、6,000〜80,000であることが更に好ましい。
層(A)を形成するための組成物にはバインダーが含まれる。バインダーは、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者から選ばれることが好ましい。すなわち、バインダー形成材料として重合性化合物(モノマー又はオリゴマー)やポリマーを含む組成物塗料を支持体上に塗布し、架橋反応又は重合反応させることにより層(A)を形成するのが好ましい。重合性化合物は電離放射線硬化性であることが好ましく、官能基としては、光(紫外線)、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。1分子内に2つ以上の重合性基を含有する多官能化合物であることが好ましい。
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開2008−262187号公報の段落番号〔0194〕〜〔0200〕に記載されており、本発明においても同様である。
(帯電防止性の光学フィルムの製造方法)
本発明の帯電防止性の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず層(A)を形成するための塗布用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許第2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、層(A)、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。好ましい態様としては、層(A)がハードコート層である態様、該ハードコート層上に該ハードコート層よりも屈折率の小さい層を有する反射防止フィルムの態様、及び透明基材フィルム上に少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層が前記層(A)である態様が挙げられる。透明基材フィルム上に少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムは、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムとすることができる。
反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、特開平8−110401号公報、特開平10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
・支持体/ハードコート層、
・支持体/低屈折率層、
・支持体/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/防眩層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
構成(1):中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.64であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが105.0nm〜115.0nmであり、低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成(2):中屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.65であり、中屈折率層の厚さが55.0nm〜65.0nmであり、高屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.70〜1.74であり、高屈折率層の厚さが90.0nm〜100.0nmであり、低屈折率層の波長550nmにおける屈折率が1.33〜1.38であり、低屈折率層の厚さが85.0nm〜95.0nmである反射防止フィルム。
式(II) λ/2×0.66<n2d2<λ/2×0.72
式(III) λ/4×0.84<n3d3<λ/4×0.92
ΔE={(L*−L*’)2+(a*−a*’)2+(b*−b*’)2}1/2≦3 (L*’、a*’、b*’は設計膜厚時の反射光の色味)
[透明基材フィルム]
本発明における透明基材フィルム(透明支持体ともいう)としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることが更に好ましい。
透明支持体については、特開2009−98658号公報の段落[0163]〜[0169]に記載されており、本発明においても同様である。
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開2009−98658号公報の段落[0178]〜[0189]に記載されており、本発明においても同様である。
高屈折率層の屈折率は、前記のように1.70〜1.74であることが好ましく、1.71〜1.73であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.60〜1.64であることが好ましく、1.61〜1.63であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
上記高屈折率層は、無機微粒子、3官能以上の重合性基を有する硬化性化合物(以下、「バインダー」と称する場合もある)、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び/又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ti、Zr、In、Zn、Sn、Al及びSbから選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、層(A)に導入する導電性高分子化合物によって発現される帯電防止性を補助するために、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Sb、In、Snのうちの少なくとも1種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、リンドープ酸化錫(PTO)、アンチモン酸亜鉛(AZO)、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、1〜120nmであることが好ましく、更に好ましくは1〜60nm、2〜40nmが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は10〜120nmである。好ましくは20〜100nmであり、更に好ましくは30〜90nm、特に好ましくは30〜80nmである。 無機微粒子を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層及び中屈折率層を形成できる。
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式(I)、式(II)の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
本発明における低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.47であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム(中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層)の場合の低屈折率層の屈折率は1.33〜1.38であることが望ましく、更に望ましくは1.35〜1.37が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が95゜以上であることが好ましい。更に好ましくは102゜以上である。特に、接触角が105°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が102°以上で、かつ、表面自由エネルギーが25dyne/cm以下であることがより好ましく、23dyne/cm以下であることが特に好ましく、20dyne/cm以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が105°以上で、かつ、表面自由エネルギーが20dyne/cm以下である。
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射(例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。)や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が1体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が0.5体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が0.1体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が0.05体積%以下、最も好ましくは0.02体積%以下である。
導電性層形成用硬化性組成物に用いられる有機溶媒は、前述のように、導電性無機酸化物粒子を分散させる分散媒として用いられる。有機溶媒の配合量は、導電性無機酸化物粒子100質量部に対し、好ましくは、20〜4,000質量部、更に好ましくは、100〜1,000質量部である。溶媒量が20質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、4,000質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の光学フィルムであることを特徴とする。
構成(4)透明支持体:トリセルロースアセテートフィルム(屈折率:1.49、膜厚80μm)ハードコート層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤(屈折率1.49、膜厚10μm)中屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.635、膜厚60nm、)高屈折率層:重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤(屈折率:1.72、膜厚95nm)低屈折率層:重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー(フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物)、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤(屈折率:1.36、膜厚90nm)
(塗布液HC−1の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−1)とした。HC−1に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−1)の含率は0.1質量%であった。導電性ポリマー及びフルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量(Mw)は、GPC分析を行い、ポリスチレン換算して求めた。
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 759質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製、固形分濃度30質量%)
600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1、Mw=23,000) 1質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1、Mw=15,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
上記ハードコート層塗布液(HC−1)において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー(CP−1)の含率を0.5質量%とする以外はHC−1の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−2)を調製した。
(塗布液HC−3の調製)
上記ハードコート層塗布液(HC−1)において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー(CP−1)の含率を3.0質量%とする以外はHC−1の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−3)を調製した。
ポリ(4−スチレンスルホン酸ナトリウム)水溶液に、塩酸を添加してナトリウム塩を遊離酸にし、透析により過剰な塩酸及び塩化ナトリウムを除去した。その後減圧乾燥によりポリスチレンスルホン酸を得た。これを導電性ポリマー(CP−2)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−4)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 752質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−2、Mw=39,000) 8質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−2、Mw=25,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−5)とした。HC−5に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−3)の含率は0.6質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−5)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−3、Mw=41,000) 6質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−3、Mw=19,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−6)とした。HC−6に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−4)の含率は0.6質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−6)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−4、Mw=31,000) 6質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−4、Mw=13,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−7)とした。HC−7に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー(CP−1)の含率は0.5質量%であった。
<ハードコート層塗布液(HC−7)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 754質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 5質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−5、Mw=29,000)10質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−8)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−8)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 760質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−9)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−9)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 755質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 5質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−10)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−10)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 752質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−2) 8質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液(HC−11)とした。
<ハードコート層塗布液(HC−11)の組成>
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製) 610質量部
シリカゾル(MIBK−ST、日産化学工業(株)製) 600質量部
光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 50質量部
導電性ポリマー(CP−1) 150質量部
メチルエチルケトン 480質量部
シクロヘキサノン 100質量部
上記ハードコート層塗布液(HC−5)において、フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−3)の代わりに、下記の親水性基を有さないフルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−6、Mw=20,000)を用いる以外はHC−5の調製と同様にして、ハードコート層塗布液(HC−12)を調製した。
(塗布液Mn−1の調製)
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(デソライトZ7404[屈折率1.72、固形分濃度:60質量%、酸化ジルコニウム微粒子含量:70質量%(対固形分)、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径:約20nm、溶剤組成:メチルイソブチルケトン/メチルエチルケトン=9/1、JSR(株)製])5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.5質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液(Mn−1)を調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)5.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)1.28質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.05質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.12質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1)0.1質量部、メチルエチルケトン66.6質量部、メチルイソブチルケトン7.7質量部及びシクロヘキサノン19.1質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液(Mn−2)を調製した。
(塗布液Hn−1の調製)
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.5質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−1)を調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.1質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.2質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1)0.2質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−2)を調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)15.5質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)0.4質量部、上記導電性ポリマー(CP−1)0.2質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−3)を調製した。
ZrO2微粒子含有ハードコート剤(上記デソライトZ7404)14.2質量部に、上記導電性ポリマー(CP−1)1.3質量部、メチルエチルケトン61.9質量部、メチルイソブチルケトン3.4質量部、シクロヘキサノン1.1質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液(Hn−4)を調製した。
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
中空シリカ粒子微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業(株)製CS60−IPA、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン30質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.51質量部を加え混合した後に、イオン交換水9質量部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力30Torrで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度18.2質量%の分散液Sを得た。得られた分散液のIPA残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ0.5%以下であった。
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−1)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−1)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 7質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
各成分を下記のように混合し、MEKに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−2)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−2)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 4.3質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 1.2質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−1) 1.5質量部
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−3)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−3)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 4.5質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−2) 1.5質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー(FP−2) 2.0質量部
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−4)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−4)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 5.8質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 1.2質量部
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−5)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−5)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 5.5質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−2) 1.5質量部
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分5質量%の低屈折率層塗布液(Ln−6)を作製した。
<低屈折率層塗布液(Ln−6)の組成>
パーフルオロオレフィン共重合体(1) 15質量部
DPHA(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製) 1質量部
ディフェンサMCF−323(フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製) 5質量部
含フッ素重合性化合物M−1 20質量部
中空シリカ粒子分散液S(固形分濃度18.2質量%) 50質量部
イルガキュア127(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) 3質量部
導電性ポリマー(CP−1) 6質量部
上記のように調製した塗布液を用いて、下記のように各層を形成した。表1に示す通りに各層を積層して、実施例1〜15、比較例1〜11のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを作製した。
層厚80μmの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ12μmのハードコート層を形成した。
上記作製したハードコート層の上に、前記中屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量240mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ60nmの中屈折率層を形成した。
上記作製した中屈折率層の上に、前記高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度300mW/cm2、照射量240mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ110nmの高屈折率層を形成した。
上記作製したハードコート層、又は、高屈折率層の上に、前記低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。90℃で30秒間乾燥し、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ90nmの低屈折率層を形成した。
上記各層用の導電性化合物を含む塗布液を、上記各層と同じ膜厚になるようにガラス板上に塗布して、紫外線照射して各層を形成した。ガラス板より各層を剥離して、ガラス板側表面及び反対側表面のESCA測定(島津製作所(株)製ESCA−3400、真空度1×10−5Pa、X線源;ターゲットMg、電圧12kV、電流20mA)を行い、最表面から深さ10nm程度までに含まれる元素を調べた。ガラス板側のN/C又はS/Cをa、反対側のN/C又はS/Cをbとして、a/bを求めた。
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表3に示す。
25℃、60%RH条件下に試料を2時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数(logSR)で示す。
反射防止フィルムの透明支持体側をCRT(KV−25DS65、ソニー(株)製)の表面に貼り付け、0.5μm以上の埃及びティッシュペーパー屑を、1ft3(立法フィート)当たり100〜200万個有する部屋(25℃、60%RH)で24時間使用した。反射防止フィルム100cm2当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が50個未満の場合を◎、50〜199個の場合を○、200〜500個の場合を△、500個より多い場合を×として評価した。
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。評価環境条件:25℃、60%RH こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
◎ :非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ :非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× :注意深く見なくても、傷が見える。
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプターARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角5度の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出した。平均反射率が1%より小さいものを◎、1〜3%のものを○、3%より大きいものを×とした。
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製)と、同様にして鹸化処理した実施例及び及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
VA型液晶表示装置(LC−37GS10、シャープ(株)製)に設けられている偏光板及び及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
Claims (14)
- 透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層(A)を有し、該導電性高分子化合物は、該層(A)内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が1×1012Ω/□以下であって、
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有し、
前記層(A)を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を0.01〜5質量%、前記含フッ素ポリマーを0.1〜10質量%含有する帯電防止性の光学フィルム。 - 前記層(A)内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をa、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をbとしたとき、a/bが0〜0.4である請求項1に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基および親水性基を含有するモノマー(1)と、該モノマーと共重合可能な官能基およびフルオロ脂肪族基を含有するモノマー(2)との共重合体である請求項1または2に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO3H)、ホスホノ基[−PO(OH)2]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、4級アンモニウム塩であることを特徴とする請求項5に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、4級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO3H)、ホスホノ基[−PO(OH)2]及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項7に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記導電性高分子化合物は、さらに、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する請求項1〜8のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記層(A)はハードコート層である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも1層有する反射防止フィルムである、請求項10に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 少なくとも1層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか1層は前記層(A)である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
- 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が請求項1〜12のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の帯電防止性の光学フィルムまたは請求項13に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046869A JP5450168B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046869A JP5450168B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011180523A JP2011180523A (ja) | 2011-09-15 |
JP5450168B2 true JP5450168B2 (ja) | 2014-03-26 |
Family
ID=44692039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010046869A Active JP5450168B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5450168B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5742637B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-07-01 | 日立化成株式会社 | 透明導電フィルム用樹脂組成物及び透明導電フィルム |
JP5933353B2 (ja) * | 2012-06-08 | 2016-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5145938B2 (ja) * | 2005-09-16 | 2013-02-20 | 大日本印刷株式会社 | 帯電防止防眩フィルム |
JP4705836B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-06-22 | 大日精化工業株式会社 | 光学用保護フィルム |
JP4990005B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-08-01 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP4672600B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2011-04-20 | 大日精化工業株式会社 | 帯電防止フィルムおよび帯電防止層形成用塗料 |
JP2008165205A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、それを用いた偏光板およびディスプレイ装置 |
-
2010
- 2010-03-03 JP JP2010046869A patent/JP5450168B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011180523A (ja) | 2011-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5690866B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5114438B2 (ja) | 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置 | |
JP5656431B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び低屈折率層形成用塗布組成物 | |
KR101725585B1 (ko) | 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
US8187704B2 (en) | Optical film, polarizing plate and image display device | |
US9523795B2 (en) | Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate and image display device | |
JP5933353B2 (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP4990005B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2005186568A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2012078541A (ja) | 光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法 | |
JP2007045142A (ja) | 防眩性フィルム、反射防止フィルム、その製造方法、該フィルムを用いた偏光板および該偏光板を用いた液晶表示装置 | |
WO2005116694A1 (ja) | 光学フイルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 | |
JP5764451B2 (ja) | 帯電防止性ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2007133384A (ja) | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2011039332A (ja) | 光学フィルム、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
US7862886B2 (en) | Optical film, antireflection film, processes for producing the same, and polarizing plate and display employing the same | |
US20120077046A1 (en) | Composition for forming hardcoat layer, optical film, method of producing optical film, polarizing plate and image display device | |
JP5723625B2 (ja) | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム | |
JP2005070435A (ja) | 防眩性反射防止膜の製造方法 | |
JP4878778B2 (ja) | 導電性ハードコートフィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2012072275A (ja) | ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2007057612A (ja) | 防眩性反射防止フィルム及びその製造方法、該防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板、並びに該偏光板を用いた液晶表示装置及び液晶表示装置 | |
JP5732415B2 (ja) | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 | |
JP4856880B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5450168B2 (ja) | 帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120620 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5450168 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |