JP5723625B2 - 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム - Google Patents

Description

本発明は、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、及び塗布組成物に関する。より詳細には、１度の塗布工程で多層構造を形成することが可能で製造効率が高い塗布組成物、該塗布組成物を用いて２層以上の多層構造を有する反射防止フィルムを製造する方法、該方法で製造された反射防止フィルムに関する。

反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置において、ディスプレイの表面に配置され、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために低い反射率が要求されると共に、高い物理強度（耐擦傷性など）、透明性等も要求されている。
そのため、反射防止フィルムとしては、一般に、基材上にハードコート層や高屈折率層などの機能層と該基材より低い屈折率を有する、適切な膜厚の低屈折率層がこの順で形成されたものである。

これら反射防止フィルムは、通常、塗布法により製造されるものであるが、異なる屈折率である薄膜を複数層積層することは、少なくとも複数回の塗布工程をはじめとする成膜工程が必要であり、複数の成膜工程に付随する設備を設けなくてはならず、またそれらを稼動させる工程時間も必要であるため生産性に問題を有している。
この問題に関し、１の塗液から２以上の層を形成することができる技術が開示されている（例えば、特許文献１〜３参照）。しかしながら、反射防止フィルムを少ない塗布工程で製造できる点でこの技術は優れているが、塗布溶剤の選択肢の自由度がなく、塗布後の乾燥工程の制御が困難であり、条件の変動や乾燥の不均一性によって精密な膜厚制御によって得られる高い反射防止性能を有する反射防止フィルムを得ることが困難である。
また、反射防止フィルムにおいて、各層間の密着性、表面の耐擦傷性、特に特にケン化後の耐擦傷性の観点でも更なる改良が求められる。

特開２００６−２０６８３２号公報 特開２００７−０３８１９９号公報 特開２００７−２３８８９７号公報

本発明は、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる密着性、反射率、耐擦傷性（特にケン化後の耐擦傷性）の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。

本発明は、１度の塗布工程で２層構造を形成可能な製造効率を向上させる塗布組成物に関する技術であり、特に表面エネルギーが低く、かつ無機微粒子への結合力に優れた特定の化合物で該無機微粒子を表面被覆することよって、該表面被覆された無機微粒子の表面エネルギーを低下させ、該無機微粒子を塗布した塗布膜内で自発的に偏在させるように制御する技術である。
特に、上記のような表面エネルギーが低下した無機微粒子は、空気界面側の上層に偏在させることができ、塗布膜内で多層構造を形成することが可能である。塗布組成物中に前記表面エネルギーの低い化合物と相分離しやすい硬化性バインダーを用いることで、上層に前記無機微粒子が存在する層と下層に粒子が存在しない層を形成することができる。
本発明の課題は下記構成の構成によって達成される。

＜１＞
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマー又は下記一般式（２０）で表されるポリシロキサン化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ
一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）：ＣＦ _２ ＝ＣＦ−Ｒｆ _１ で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ _１ は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ _２ ＝ＣＦ−ＯＲｆ _１２ で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ _１２ は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ _２ ＝ＣＨ−ＯＲｆ _１３ で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ _１３ は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
一般式（２０）：
（ポリシロキサン単位）α−（ＭＡ）β−（ＭＢ）γ−（ＭＣ）δ
一般式（２０）中、α〜δは、それぞれ各構成単位の質量比率を表し、２≦α≦９９、０≦β≦７０、０≦γ≦７０、０．１≦δ≦３０の関係を満たす。
（ポリシロキサン単位）：ポリシロキサン構造を含有する構成単位を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
＜２＞
前記一般式（１）中の（ＭＢ）が、主鎖又は側鎖に下記一般式（２）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含む、＜１＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
一般式（２）

一般式（２）中、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、ｐは２〜５００の整数を表す。
＜３＞
前記（Ａ）成分が、分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方を含有する、＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜４＞
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／
４０である。
＜５＞
前記（Ａ）成分が、分子内に重合性の官能基を含有する＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜６＞
前記（Ｂ）成分が、平均粒径１〜１５０ｎｍ、かつ屈折率１．４６以下の金属酸化物微粒子である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜７＞
前記（Ｂ）成分がオルガノシラン化合物、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜８＞
前記（Ｂ）成分が、無機微粒子の表面が少なくともケイ素を構成成分とする金属酸化物粒子である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜９＞
前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーとして、分子内に少なくとも複数の不飽和二重結合を有する化合物を含有する、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１０＞
前記塗布組成物中に更に（Ｅ）成分として分子内にフッ素原子を含有する硬化性化合物を含有する＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１１＞
前記（Ａ）成分と前記（Ｅ）成分が共に含フッ素共重合体であり、それぞれの共重合体を形成する構成単位の少なくとも２種が共通している、＜１０＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１２＞
前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーと前記（Ａ）成分の化合物との混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）がゼロより大きい、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１３＞
前記塗布組成物中、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｅ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である＜１０＞又は＜１１＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１４＞
前記（Ｄ）成分が以下の少なくとも２種の混合溶剤である、＜１＞〜＜１３＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（Ｄ−１）：（Ａ）成分と（Ｃ）成分のいずれか一方との相溶性パラメーターの差が１〜１０である揮発性溶剤
（Ｄ−２）：沸点が１００℃以下の揮発性溶剤
＜１５＞
前記溶剤が更に（Ｄ−３）成分として、沸点が１００℃を超える揮発性溶剤を含有する＜１４＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
＜１６＞
＜１＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の製造方法により得られた反射防止フィルム。
＜１７＞
＜１６＞に記載の反射防止フィルムであって、
＜１＞又は＜４＞に記載の塗布組成物から形成される硬化層の膜厚が０．１〜２０μｍであり、硬化層中には、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層を有し、
該低屈折率層の膜厚が４０〜３００ｎｍである、反射防止フィルム。
＜１８＞
＜１７＞に記載の反射防止フィルムであって、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層の屈折率が１．１５〜１．４８である、反射防止フィルム。
なお、本発明は上記＜１＞〜＜１８＞に関するものであるが、参考のためその他の事項（下記１〜２３に記載した事項など）についても記載した。
１．
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）含フッ素炭化水素構造及びポリシロキサン構造から選ばれる少なくとも１種の構造と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
２．
前記（Ａ）成分が、含フッ素炭化水素構造を有する重合単位を含有する共重合体である、上記１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
３．
前記（Ａ）成分が、下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマーである、上記１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ
一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
４．
前記（Ａ）成分が、下記一般式（２０）で表されるポリシロキサン化合物である、上記１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
一般式（２０）：
（ポリシロキサン単位）α−（ＭＡ）β−（ＭＢ）γ−（ＭＣ）δ
一般式（２０）中、α〜δは、それぞれ各構成単位の質量比率を表し、２≦α≦９９、０≦β≦７０、０≦γ≦７０、０．１≦δ≦３０の関係を満たす。
（ポリシロキサン単位）：ポリシロキサン構造を含有する構成単位を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
５．
前記（Ａ）成分が、分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方を含有する、上記１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
６．
前記（Ａ）成分が、分子内に重合性の官能基を含有する上記１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
７．
前記（Ｂ）成分が、平均粒径１〜１５０ｎｍ、かつ屈折率１．４６以下の金属酸化物微粒子である、上記１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
８．
前記（Ｂ）成分がオルガノシラン化合物、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子である、上記１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
９．
前記（Ｂ）成分が、無機微粒子の表面が少なくともケイ素を構成成分とする金属酸化物粒子である、上記１〜８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１０．
前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーとして、分子内に少なくとも複数の不飽和二重結合を有する化合物を含有する、上記１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１１．
前記塗布組成物中に更に（Ｅ）成分として分子内にフッ素原子を含有する硬化性化合物を含有する上記１〜１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１２．
前記（Ａ）成分と前記（Ｅ）成分が共に含フッ素共重合体であり、それぞれの共重合体を形成する構成単位の少なくとも２種が共通している、上記１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１３．
前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーと前記（Ａ）成分の化合物との混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）がゼロより大きい、上記１〜１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１４．
前記塗布組成物中、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｅ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である上記１１又は１２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１５．
前記（Ｄ）成分が以下の少なくとも２種の混合溶剤である、上記１〜１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（Ｄ−１）：（Ａ）成分と（Ｃ）成分のいずれか一方との相溶性パラメーターの差が１〜１０である揮発性溶剤
（Ｄ−２）：沸点が１００℃以下の揮発性溶剤
１６．
前記溶剤が更に（Ｄ−３）成分として、沸点が１００℃を超える揮発性溶剤を含有する上記１５に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１７．
上記１〜１６のいずれか１項に記載の製造方法により得られた反射防止フィルム。
１８．
上記１７の反射防止フィルムであって、
上記１に記載の塗布組成物から形成される硬化層の膜厚が０．１〜２０μｍであり、硬化層中には、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層を有し、該低屈折率層の膜厚が４０〜３００ｎｍである、反射防止フィルム。
１９．
上記１８に記載の反射防止フィルムであって、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層の屈折率が１．１５〜１．４８である、反射防止フィルム。
２０．
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物。
（Ａ）含フッ素炭化水素構造及びポリシロキサン構造から選ばれる少なくとも１種の構造と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
２１．
下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマー又は下記一般式（２０）で表されるポリシロキサン化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ
一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
一般式（２０）：
（ポリシロキサン単位）α−（ＭＡ）β−（ＭＢ）γ−（ＭＣ）δ
一般式（２０）中、α〜δは、それぞれ各構成単位の質量比率を表し、２≦α≦９９、０≦β≦７０、０≦γ≦７０、０．１≦δ≦３０の関係を満たす。
（ポリシロキサン単位）：ポリシロキサン構造を含有する構成単位を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
２２．
前記一般式（１）中の（ＭＢ）が、主鎖又は側鎖に下記一般式（２）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含む、上記２１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
一般式（２）

一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、ｐは２〜５００の整数を表す。
２３．
下記（Ａ）成分と下記（Ｂ）成分とを下記（Ｄ）成分と共にあらかじめ混合した後に下記（Ｃ）成分と混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
（Ａ）含フッ素炭化水素構造及びポリシロキサン構造から選ばれる少なくとも１種の構造と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。

本発明によれば、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することが可能な塗布組成物を提供できる。また、該塗布組成物を用いることで生産性に優れた（製造工程が簡略化された）反射防止フィルムの製造方法を提供できる。更に、反射率が低く、高い耐擦傷性、特にケン化後の耐擦傷性も良好で、密着性に優れた反射防止フィルムを提供できる。

本発明は、下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合させてなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法に関する。
（Ａ）含フッ素炭化水素構造及びポリシロキサン構造から選ばれる少なくとも１種の構造と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
（Ｂ）無機微粒子
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
（Ｄ）溶剤
但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
また、本発明は前記塗布組成物にも関する。

＜含フッ素炭化水素構造又はポリシロキサン構造を有するイソシアネート化合物＞
本発明における塗布組成物は、（Ａ）成分として、「含フッ素炭化水素構造又はポリシロキサン構造を有するイソシアネート化合物」を含有する。

含フッ素炭化水素構造としては、含フッ素炭化水素を含有する基、及び含フッ素炭化水素を含有するモノマー単位（含フッ素炭化水素を含む単量体から得られる単位）などが挙げられる。
含フッ素炭化水素構造としては、含フッ素脂肪族炭化水素基、含フッ素芳香族炭化水素基、含フッ素脂肪族炭化水素を含有するモノマー単位、及び含フッ素芳香族炭化水素を含有するモノマー単位が挙げられ、含フッ素脂肪族炭化水素基又は含フッ素脂肪族炭化水素を含有するモノマー単位が好ましい。
含フッ素炭化水素構造の分子量は５００〜１０００００が好ましく、より好ましくは１０００〜８００００であり、更に好ましくは２０００〜５００００である。含フッ素炭化水素構造の分子量の調節は、含フッ素炭化水素を含有するモノマー単位の場合は、含フッ素ビニルモノマーの重合度を変えて行うことが容易であり好ましい。含フッ素ビニルモノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、ビニルエーテル類の部分又は完全フッ化物等が挙げられる。
（Ａ）成分において、含フッ素炭化水素構造は単独でも、複数種が混合されていてもよい。

ポリシロキサン構造としては、アルキル基又はアリール基で置換されたシロキサンのオリゴマー又はポリマーが好ましい。前記アルキル基としては炭素数１〜４が好ましく、該アルキル基における水素原子の一部又は全部がフッ素原子により置換されていてもよい。前記アルキル基の例としては、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基等が挙げられる。前記アリール基としては炭素数６〜２０が好ましく、該アリール基における水素原子の一部又は全部がフッ素原子により置換されていてもよい。前記アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。これらの中でもメチル基及びフェニル基が好ましく、特に好ましくはメチル基である。
ポリシロキサン構造の分子量は５００〜１０００００が好ましく、より好ましくは１０００〜５００００であり、更に好ましくは２０００〜２００００である。

（Ａ）成分である「含フッ素炭化水素構造又はポリシロキサン構造を有するイソシアネート化合物」の合成方法は特に制限はないが、好ましい第１の態様としては、分子内に複数のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ア）と、該イソシアネート化合物（ア）の少なくとも１つのイソシアネート基と反応する求核性の官能基を有する含フッ素炭化水素化合物及びポリシロキサン化合物のうち少なくとも１つを有する成分（イ）とを反応させて得ることができる。

（Ａ）成分を合成する好ましい第２の態様としては、不飽和二重結合を含有する重合性のイソシアネート化合物（ウ）と、不飽和二重結合を含有する重合性の含フッ素炭化水素化合物及びポリシロキサン化合物のうち少なくとも１つを有する成分（エ）とを反応させることによって得られる。

（Ａ）成分の合成方法の好ましい第１の態様
（Ａ）成分の合成方法の好ましい第１の態様について更に詳細に説明する。

（ア）分子内に複数のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物
本発明における（Ａ）成分の好ましい合成方法の前記第１の態様における（ア）成分について説明する。前記第１の態様では、（ア）成分のイソシアネート基と（イ）成分の求核性の官能基とを反応させて（Ａ）成分を合成する。ただし、（Ａ）成分はイソシアネート基を有する必要があるため、（ア）成分の全てのイソシアネート基を反応させないようにする必要がある。

（ア）成分として用いることのできるイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタントリイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、２，５（又は６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、トリエチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリエチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネートのオリゴマー、ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのウレトジオン、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体等を用いることができる。また、これらのイソシアネート化合物を、単独、又は２種類以上組み合わせて用いてもよい。

上述の分子内に複数のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ア）の少なくとも１つのイソシアネート基とイソシアネート基と反応する求核性の官能基を有する（イ）成分とを反応させて、本発明における成分（Ａ）を合成することができる。合成の際には（ア）成分のイソシアネート基を（イ）成分の求核性の官能基の２倍当量以上にすることで効率よくイソシアネート基を導入できる。また、（イ）成分は１分子内に求核性の官能基は１個であることが合成時のゲル化抑制などの点で好ましいが、１分子内の求核性の官能基の数が２以上であることを妨げない。
好ましい第１の製造方法により合成された（Ａ）成分は、（Ａ）成分の１分子当たりのイソシアネート基は１〜３個が好ましく、１〜２個が更に好ましい。
（Ａ）成分の質量平均分子量としては５００〜１０００００が好ましく、更に好ましくは１０００〜５００００であり、最も好ましくは２０００〜３００００である。この範囲にすることで溶解性及び無機微粒子の上部偏在性を向上させることができる。

（イ）イソシアネート基と反応する求核性の官能基を有する含フッ素炭化水素化合物及びポリシロキサン化合物のうち少なくとも１つを有する成分
本発明における（Ａ）成分の好ましい合成方法の前記第１の態様における（イ）成分について説明する。
本発明における（Ａ）成分の好ましい合成方法の前記第１の態様における（イ）成分に含まれるイソシアネート基と反応する求核性の官能基としては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基等が挙げられる。
これら官能基を含有する含フッ素炭化水素としては、
（１）求核性官能基で置換された含フッ素脂肪族炭化水素、
（２）含フッ素重合体で少なくともその一つのモノマー単位に求核性官能基を有する重合体、が挙げられる。
またこれら官能基を含有するポリシロキサン化合物としては、
（３）求核性官能基で側鎖又は末端が変性されたポリシロキサン化合物、
（４）ポリシロキサン構造含有共重合体で少なくともその一つのモノマー単位に求核性官能基を有する共重合体、が挙げられる。

上記（１）の求核性官能基で置換された含フッ素脂肪族炭化水素としては、含フッ素脂肪族炭化水素のアルコール、カルボン酸、アミン、チオールなどが挙げられる。例えば、ペンタデカフルオロオクタノールＣ_７Ｆ_１５ＣＨ_２ＯＨ、ヘプタデカフルオロデシルアルコールＣ_８Ｆ１７Ｃ_２Ｈ_４ＯＨ等が挙げられる。

上記（２）の含フッ素重合体で少なくともその一つのモノマー単位に求核性官能基を有する重合体としては、含フッ素重合体で少なくともその一つのモノマー単位に求核性官能基を有する共重合体であることが好ましい。より好ましくは、含フッ素ビニルモノマーなどのモノマーを原料とする含フッ素共重合体で、少なくともその一つの共重合成分に求核性官能基を有するモノマーを用いた共重合体であり、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基を有するモノマーを用いた共重合体をより好ましく用いることができる。
これらの官能基を有するモノマーとしては、
水酸基含有モノマー：ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル等、
カルボキシル基含有モノマー：（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸のモノアルキルエステル、マレイン酸のモノアルキルエステル等、
アミノ基含有モノマー：アミノエチル（メタ）アクリレート、アミノブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記（３）の求核性官能基で側鎖又は末端が変性されたポリシロキサン化合物としては、ポリジメチルシロキサンの片末端又は両末端が変性されたものとしてはチッソ（株）製サイラプレーンシリーズや信越化学工業（株）の変性シリコーンオイル等が挙げられる。チッソ（株）製サイラプレーンシリーズで、水酸基で変性されたものとしてはＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ−ＤＡ１１、ＦＭ−ＤＡ２１、ＦＭ−ＤＡ２６、ＦＭ−４４１１、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−４４２５等、アミノ基で変性されたものとしてはＦＭ−３３１１、ＦＭ−３３２１、ＦＭ−３３２５等が挙げられる。また、信越化学工業（株）製の変性シリコーンオイルとしては、水酸基で変性されたものとしてはＸ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、アミノ基で変性されたものとしてはＫＦ−８６４、ＫＦ−８６５、ＫＦ−８６８、Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６１Ｂ、ＫＦ−８０１２、カルボキシル基で変性されたものとしてはＸ−２２−３７０１Ｅ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、メルカプト基で変性されたものとしてはＫＦ−２００１、ＫＦ−２００４、Ｘ−２２−１６７Ｂが挙げられる。

上記（４）のポリシロキサン構造含有重合体で少なくともその一つのモノマー単位に求核性官能基を有する重合体としては、ポリシロキサンの片末端又は両末端が（メタ）アクリロイル基などで変性されたマクロモノマーを原料とするポリシロキサンで少なくともその一つの重合成分に水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基を有するものを好ましく用いることができる。
ポリシロキサンマクロモノマーのなかでもポリジメチルシロキサンの片末端又は両末端が変性されたものを使用することが好ましい。チッソ（株）製サイラプレーンシリーズや信越化学工業（株）の変性シリコーンオイル等を用いることができる。（メタ）アクリロイル基で変性されたものとしてはサイラプレーンＦＭ−０７１１、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４７５等が挙げられる。これらマクロモノマーと求核性官能基を有する重合性のモノマー及びこれら成分と重合体を形成できる任意のビニルモノマーを用いて共重合体を形成できる。求核性官能基を有する重合性のモノマーについては、上述の（２）の水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基を有するモノマーを用いることができる。
また、本発明においては、ポリシリキサン構造の重合体への導入に、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものでは、例えばＶＰＳ−０５０１、１００１、ワコー純薬工業（株）社製）等のポリマー開始剤を求核性官能基を有する重合性のモノマー及びこれら成分と重合体を形成できる任意のビニルモノマーと共に用いる方法もとることができる。

本発明において、上記（ア）成分と上記（イ）成分とから（Ａ）成分を合成するための反応を促進させるために、触媒を添加することができる。該触媒としては、例えば、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸ジｎ−ブチルスズ、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、２，６，７−トリメチル−１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンなどのウレタン化触媒が挙げられる。該触媒を反応物の総量１００質量部に対して０．０１〜１質量部用いることができる。

（Ａ）成分の合成は、イソシアネート基に対して不活性な溶剤、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのグリコールエーテルエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、フルフラール等の極性溶剤の１種又は２種以上を使用して行われることが好ましい。

（Ａ）成分の合成方法の好ましい第２の態様
（Ａ）成分の合成方法の好ましい第２の態様について更に詳細に説明する。
本発明における（Ａ）成分の合成方法の好ましい第２の態様としては、不飽和二重結合を含有する重合性のイソシアネート化合物（ウ）と含フッ素炭化水素成分又はポリシロキサン成分を有する不飽和二重結合を含有する重合性の化合物（エ）とを反応させる合成方法である。

（ウ）不飽和二重結合を含有する重合性のイソシアネート化合物
本発明において（ウ）成分としては、例えば、イソシアネート基含有モノマーとしては市販のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート、アクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネートなどが挙げられ、昭和電工（株）のカレンズＭＯＩ、カレンズＡＯＩ、カレンズＭＯＩ−ＥＧなどがある。
また、前記（ア）成分の分子内に複数のイソシアネート基を有する化合物とイソシアネート基と反応する重合性不飽和基を有する化合物とを反応させて（ウ）成分を合成することもできる。イソシアネート基と反応する重合性不飽和基を持つ化合物としては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、ケイヒ酸、マレイン酸、フマル酸、２−（メタ）アクリロキシプロピルヘキサヒドロゲンフタレ−ト、２−（メタ）アクリロキシエチルヘキサヒドロゲンフタレ−ト等の不飽和脂肪族カルボン酸類、２−（メタ）アクリロキシプロピルフタレ−ト、２−（メタ）アクリロキシプロピルエチルフタレ−ト等のカルボキシル基を有する不飽和芳香族カルボン酸や、ビニルオキシエチルアミン、ビニルオキシドデシルアミン、アリルオキシプロピルアミン、２−メチルアリルオキシへキシルアミン、ビニルオキシ−（２−ヒドロキシ）ブチルアミン等のアミノ基含有モノマー等を用いることができる。これらは、単独で用いてもよいし、２種類以上組み合わせて用いてもよい。

（エ）不飽和二重結合を含有する重合性の含フッ素炭化水素化合物及びポリシロキサン化合物のうち少なくとも１つを有する成分
本発明において（ウ）の化合物と反応させて（Ａ）成分を形成するために（エ）の化合物を用いることができる。
成分（エ）としては、不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーや不飽和二重結合を有するポリシロキサン系モノマーが挙げられる。
不飽和二重結合を有する含フッ素炭化水素系のモノマーとしては、後述する一般式（１−１）及び一般式（１−２）で表される化合物などが挙げられる。
不飽和二重結合を有するポリシロキサン系モノマーとしては、ポリシロキサンの片末端又は両末端が（メタ）アクリロイル基などで変性されたマクロモノマーについては、前述の（４）で述べた化合物を用いることができる。

本発明の好ましい第２の製造方法においては、合成の際には合成時のゲル化が起こりにくくイソシアネートシアネート含率を高めやすい。本発明の好ましい第２の製造方法により合成された（Ａ）成分は、（Ａ）成分の１分子当たりのイソシアネート基は１〜２０個が好ましく、１〜１０個がより好ましく、更に好ましくは２〜１０個である。また、該（Ａ）成分の質量平均分子量としては１０００〜１０００００が好ましく、更に好ましくは２０００〜５００００が好ましく、３０００〜３００００である。

本発明における（Ａ）成分としては、合成の容易性、塗布組成物中に低屈折率硬化性材料を併用した場合に該材料との相溶性に優れるという観点から、分子内にイソシアネート基を有する含フッ素ポリマーであることが好ましく、含フッ素炭化水素構造を有する重合単位を含有する共重合体であることがより好ましい。

〔イソシアネート基を有する含フッ素ポリマー〕
イソシアネート基を有する含フッ素ポリマーは、下記一般式（１）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（１）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ

一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。

（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３で表される単量体を重合して得られる構成単位を示す。Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。

前記一般式（１）で表される含フッ素ポリマーは、ランダム共重合体でもブロック共重合体でもよい。

（ＭＣ）の構成単位は、前述の好ましい２つの合成方法の態様に基づいて合成することができる。
すなわち、好ましい１つの態様としては、（ＭＣ）の構成単位が、前記（Ａ）成分の合成における第１の態様のイソシアネート化合物（ア）と、前記（イ）成分の（２）における求核性官能基を有するモノマーとから得られる単位であり、より好ましくは前記（イ）成分の（２）における求核性官能基を有するモノマーを重合して得られるモノマー単位が有する求核性官能基と（ア）のイソシアネート基とを反応させて得られる単位である。
また、前述の好ましい第１の合成方法に従い、前記一般式（１）で表される共重合体を構成するモノマーとして前記イソシアネート基と反応する求核性の官能基を有するモノマー（イ）を用いたモノマー単位に、高分子反応により前記分子内に複数のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ア）を反応させることにより形成される構成単位であることも好ましい。（イ）成分の（２）における求核性官能基を有するモノマーのうち、好ましいモノマー成分としては、前述の分子内に水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基を有する重合性不飽和基を有するモノマーである。
また、好ましい第２の態様によれば、前述の好ましい第２の合成方法に従い、重合性官能基を有するイソシアネート化合物（ウ）の重合により形成される構成成分である。好ましい化合物としては、前述の重合性不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物が挙げられる。

（ＭＦ１）〜（ＭＦ３）における各単量体（下記一般式（１−１）〜（１−３）で表される化合物）について説明する。
・ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１：一般式（１−１）
式中、Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
一般式（１−１）の化合物としては重合反応性の観点からは、パーフルオロプロピレン又はパーフルオロブチレンが好ましく、入手性の観点からパーフルオロプロピレンであることが特に好ましい。

・ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２：一般式（１−２）
式中、Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。前記含フッ素アルキル基は置換基を有していてもよい。更に、Ｒｆ_１２は炭素−炭素間にエーテル結合を有するものであってもよい。
Ｒｆ_１２は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基であり、更に好ましくは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基である。Ｒｆ_１２の具体例としては、下記のもの等が挙げられるが、これらに限定されない。
−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３）ＣＦ_３

・ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３：一般式（１−３）
式中、Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。前記含フッ素アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒｆ_１３は、直鎖状であっても、分岐構造を有するものであってもよい。また、Ｒｆ_１３は脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環）を有していてもよい。更に、Ｒｆ_１３は炭素−炭素間にエーテル結合を有するものであってもよい。Ｒｆ_１３は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５の含フッ素アルキル基である。
Ｒｆ_１３としては、具体的には下記のもの等が挙げられるが、これらに限定されない。
（直鎖状）
−ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ_２（ＣＦ_２）ａＨ、−ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）ａＦ（ａ：２〜１２の整数）
（分岐構造）
−ＣＨ（ＣＦ_３）_２、−ＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）_２、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＦ_２）_５ＣＦ_２Ｈ
（脂環式構造）
ペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等
（その他）
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_３、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＦ_２）ｂＨ、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＦ_２）ｂＦ（ｂ：２〜１２の整数）、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ
その他、一般式（１−３）で表される上記単量体は、例えば特開２００７−２９８９７４号公報の段落［００２５］〜［００３３］に記載のものも使用することができる。

一般式（１）の（ＭＡ）は、架橋性部位（架橋反応に関与しうる反応性部位）を少なくとも１つ以上含有する構成成分を表す。本発明における塗布液を用いて形成される塗膜の強度向上の点で、（Ａ）成分である含フッ素ポリマーは、ポリマー分子内に架橋性部位を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
架橋性部位としては、例えば、反応性不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）等が挙げられる。
（ＭＡ）の架橋性基は、好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基又は開環重合反応性基であり、より好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基である。

以下に、上記一般式（１）中の（ＭＡ）で表される構成成分の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（１）における（ＭＢ）は任意の構成成分を表す。（ＭＢ）は、他の成分とともに共重合体を形成可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、溶剤への溶解性、無機微粒子との親和性、無機微粒子の分散安定性などの観点から適宜選択することができる。

（ＭＢ）を形成するための単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。

また、（ＭＢ）は、ポリシロキサン構造を含むことが好ましい。（ＭＢ）としてポリシロキサン構造を含むことにより、本発明における無機微粒子の上部偏在性を高めることができ、更に面状故障の原因となる下層に微量残存する無機微粒子を低減することができる。
すなわち、（Ａ）成分が、分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方を含有することが好ましく、より具体的には、（ＭＢ）は、主鎖又は側鎖に下記一般式（２）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含むことが好ましい。
一般式（２）

式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。
該アルキル基としては、炭素数１〜４が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基等が挙げられる。
該アリール基としては炭素数６〜２０が好ましく、置換基を有していてもよい。具体的には、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^２は、メチル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
ｐは２〜５００の整数を表し、好ましくは５〜３５０であり、より好ましくは８〜２５０である。

側鎖に一般式（２）で表されるポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えばＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２０００，７８，１９５５、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、エポキシ基、水酸基、カルボキシル、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、相対する反応性基（例えばエポキシ基、酸無水物基に対してアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）を片末端に有するポリシロキサン（例えばサイラプレーンシリーズ、チッソ株式会社製等）を高分子反応によって導入する方法や、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができる。

主鎖にポリシロキサン構造を有するポリマーは、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものでは、例えばＶＰＳ−０５０１、１００１、ワコー純薬工業（株）社製）等のポリマー型開始剤を用いる方法、重合開始剤、連鎖移動剤由来の反応性基（例えばメルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）をポリマー末端に導入した後、片末端あるいは両末端反応性基（例えばエポキシ基、イソシアネート基等）含有ポリシロキサンと反応させる方法、ヘキサメチルシクロトリシロキサン等の環状シロキサンオリゴマーをアニオン開環重合にて共重合させる方法等が挙げられる。中でもポリシロキサン部分構造を有する開始剤を利用する手法が容易であり好ましい。

一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。
（ＭＦ１）成分及び（ＭＦ２）成分のモル分率（％）ａ＋ｂを高めることで該ポリマーの表面自由エネルギーが低下し、該ポリマーによって修飾された微粒子が上部偏在し易くなるが、無機微粒子への吸着性、汎用溶剤への溶解性などの点で３０≦ａ＋ｂ≦７０が好ましい。

また、（ＭＦ３）の導入も無機微粒子の上部偏在性能に寄与する。前記のように（ＭＦ３）成分のモル分率ｃは０≦ｃ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦２０である。
ａ〜ｃの含フッ素モノマー成分のモル分率の和は、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０の範囲であることが好ましく、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦７５であることがより好ましい。

（ＭＣ）で表されるイソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成成分は、該ポリマーの無機微粒子への被覆性が十分でありかつ無機微粒子の上部偏在性に必要な含フッ素成分の量も確保できるという点で、そのモル分率は０．１≦ｆ≦５０の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．１≦ｆ≦３０、更に好ましくは０．２≦ｆ≦１０である。

（ＭＡ）で表される架橋性基を有する構成成分は、塗膜の硬度上昇の点でポリマーに導入することが好ましい。本発明では特に、（ＭＡ）成分のモル分率は０≦ｄ≦５０の範囲であることが好ましく、５≦ｄ≦４０の範囲であることが好ましく、５≦ｄ≦３０の範囲であることが特に好ましい。

（ＭＢ）で表される任意の構成成分のモル分率ｅは０≦ｅ≦５０の範囲であることが好ましく、０≦ｅ≦２０の範囲であることがより好ましく、０≦ｅ≦１０の範囲であることが更に好ましい。

本発明において、無機微粒子への親和性の点から、前記含フッ素ポリマーは、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。従って、前記（ＭＢ）として、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。極性の高い官能基としては、アルキルエーテル基、シラノール基、グリシジル基、オキセタニル基、ポリアルキレンオキシド基、カルボキシル基を有することが好ましく、更に好ましくは、アルキルエーテル基、ポリアルキレンオキシド基である。
これら官能基を有する重合単位は、モル分率として０．１〜１５％が好ましく、更に好ましくは１〜１０％である。
また、前述のように含フッ素ポリマー中には、ポリシロキサン構造を導入することが微粒子の上部偏在性及び塗膜面状改良の点で好ましい。含フッ素ポリマー中のポリシロキサン構造の含有率は全ポリマーに対する質量比で０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。

前記含フッ素ポリマーの質量平均分子量は、１０００〜１０００００が好ましく、より好ましくは２０００〜５００００であり、更に好ましくは３０００〜３００００である。

ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

以下に、本発明の（Ａ）成分である前記一般式（１）で表される含フッ素共重合体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、表１には、重合することにより一般式（１）のフッ素含有構成成分を形成する単量体（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）、及び構造単位（ＭＣ）、（ＭＡ）、（ＭＢ）の組合せとして表記する。表中ａ〜ｆは、各成分の単量体のモル比（％）を表す。表中（ＭＢ）成分でｗｔ％の記載があるものは、全重合体中の該成分の質量％を示す。表中「（ＭＢ）」の欄でＥＶＥ以外の成分については、全重合体中の該成分の含有率（質量％）を、「ｅ」の欄にＥＶＥのモル比につづいて左から順に記載した。

上記表中の略号は、以下を表す。
（ＭＦ１）成分
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン
（ＭＦ２）成分
ＦＰＶＥ：パーフルオロプロピルビニルエーテル
（ＭＦ３）成分
ＭＦ３−１：ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ

（ＭＣ）成分
ＨＥＶＥ／ＩＰＤＩ：ヒドロキシエチルビニルエーテルで共重合体形成後にイソホロンジイソシアネートの一つのイソシアネート基と反応させたもの
ＨＢＶＥ／ＩＰＤＩ：ヒドロキシブチルビニルエーテルで共重合体形成後にイソホロンジイソシアネートの一つのイソシアネート基と反応させたもの
ＨＥＶＥ／ＨＭＤＩ：ヒドロキシエチルビニルエーテルで共重合体形成後にヘキサメチレンジイソシアネートシアネートの一つのイソシアネート基と反応させたもの
ＭＯＩ：メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、（株）昭和電工製
ＡＯＩ：アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（株）昭和電工製
ＭＯＩ−ＥＧ：メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート、（株）昭和電工製

（ＭＢ）成分
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＶＰＳ―１００１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約１万、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−０７２１：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量５０００、（株）チッソ製

本発明の（Ａ）成分である分子内にイソシアネート基を有する樹脂は、以下の構造のポリシロキサン共重合体であることも好ましい。

〔ポリシロキサン重合体〕
ポリシロキサン重合体は下記一般式（２０）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（２０）：
（ポリシロキサン単位）α−（ＭＡ）β−（ＭＢ）γ−（ＭＣ）δ
一般式（２０）中、α〜δは、それぞれ各構成単位の質量比率を表し、２≦α≦９９、０≦β≦７０、０≦γ≦７０、０．１≦δ≦３０の関係を満たす値が好ましく、６０≦α≦９８、０≦β≦５０、０≦γ≦５０、０．１≦δ≦２０がより好ましく、７５≦α≦９８、１≦β≦３０、１≦γ≦３０、０．２≦δ≦１０が更に好ましい。

（ポリシロキサン単位）：ポリシロキサン構造を含有する構成単位を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
（ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。

一般式（２０）において、（ポリシロキサン単位）は、他成分と重合可能なポリシロキサン構造を含有する成分から得られた構成単位を表す。

（ＭＡ）の架橋性基は、好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基又は開環重合反応性基であり、より好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基である。（ＭＡ）の具体的構造は上述の一般式（１）の含フッ素ポリマーの頁で述べたものと同様である。
（ＭＢ）及び（ＭＣ）は上述の一般式（１）の含フッ素ポリマーの頁で述べたものと同様である。
（ＭＣ）に使用できる化合物としては分子内に不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物が好ましい。

以下に、本発明の（Ａ）成分であるポリシロキサン構造を有するイソシアネート化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、表２及び３には、反応させることにより（Ａ）成分を形成する原材料の組合せとして表記する。

上記表中の略号は、以下を表す。
ポリシロキサン成分
ＦＭ−０４２１：片末端水酸基変性ジメチルシロキサン、数平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＦＭ−０４２５：片末端水酸基変性ジメチルシロキサン、数平均分子量１００００、（株）チッソ製
ＦＭ−０４１１：片末端水酸基変性ジメチルシロキサン、数平均分子量１０００、（株）チッソ製
ＦＭ−０７２１：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、数平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＦＭ−０７２５：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、数平均分子量１００００、（株）チッソ製
ＶＰＳ−０５０１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約５０００、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−７７２１：両末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、数平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＦＭ−７２２５：両末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、数平均分子量１００００、（株）チッソ製
ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
ＨＭＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート
ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート

（ＭＣ）成分
ＡＯＩ：アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（株）昭和電工製

（ＭＢ）成分
ＭＭＡ：メチルメタアクリレート

＜塗布組成物の調製方法＞
本発明の塗布組成物を調製する際には、各成分を溶剤に溶解又は分散したものを混合することができ、（Ａ）成分のイソシアネート化合物と（Ｂ）成分の無機微粒子とを（Ｄ）成分の溶剤と共にあらかじめ混合した後に（Ｃ）成分のバインダーと混合することが好ましい。特に、（Ｃ）成分がイソシアネート基と化学反応し得る求核性の官能基（水酸基、メルカプト基、カルボキシル基等）を有する場合には、意図せぬ副反応を防止するためにこの方法を採ることが好ましい。無機微粒子が金属酸化物粒子である場合、その表面は空気中の水分などにより一部加水分解され水酸基を有することが一般的である。このような水酸基はイソシアネート基と反応することが可能であり、必要に応じて前述のウレタン化触媒の存在下で本発明の（Ａ）成分と（Ｂ）成分を混合することで反応を進めることもできる。

＜（Ｂ）成分：無機微粒子＞
本発明に用いられる（Ｂ）成分の無機微粒子は、その平均粒径が１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の無機微粒子であることが好ましく、より好ましくは平均粒径が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の無機微粒子であり、更に好ましくは１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の無機微粒子である。
無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると硬化層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径は電子顕微鏡による観察により測定することができる。

本発明の無機微粒子の組成に特に制限はなく、例えばケイ素、チタン、アルミニウム、スズ、亜鉛、アンチモンなどの酸化物又はそれらの混合物を用いることができるが、本発明における（Ａ）成分と共に塗膜内で上部偏在するためには、少なくとも粒子表面がケイ素を構成成分とする金属酸化物であることが好ましい。例えば表面が二酸化ケイ素からなるコアシェル粒子であっても、ケイ素とその他無機元素との混晶を形成していてもよい。特に低屈折率化の点からは二酸化ケイ素（シリカ）の粒子であることが好ましい。

本発明における（Ｂ）成分の無機微粒子の屈折率は、１．４６以下、より望ましくは屈折率１．１５〜１．４６、特に好ましくは１．１５〜１．４０、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１７〜１．３２が好ましい。（Ｂ）成分の無機微粒子は、硬化層の上部に偏在して、耐擦傷性の向上、屈折率の低下に寄与するため、低屈折率であることが望ましい。

（Ｂ）成分の無機微粒子は、中空構造であるのが更に好ましい。中空構造の無機微粒子の場合に屈折率は外殻の無機質のみの屈折率を表すものではなく、粒子全体の平均の値を示す。この場合、粒子内の空孔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると空隙率ｘは下記数式（ＩＩ）で表される。
（数式ＩＩ）： ｘ＝（４πａ^３／３）／（４πｂ^３／３）×１００
空隙率ｘは好ましくは１０〜６０％、より好ましくは２０〜６０％、更に好ましくは３０〜６０％である。この空隙率の範囲にすることで、低屈折率性と粒子自身の強度を好適な範囲にすることができる。

（Ｂ）成分の無機微粒子は（Ａ）成分のイソシアネート化合物と結合していることが好ましい。好ましい一つの態様によれば、前記（Ｂ）成分の無機微粒子は、前記（Ａ）成分のイソシアネート基と前記（Ｂ）成分の無機微粒子の表面ＯＨ基が化学結合し無機微粒子の表面が修飾される。また、別の好ましい態様によればイソシアネート基の分解生成物と（Ｂ）成分の無機粒子が相互作用することにより無機微粒子の表面被覆が可能となる。これら作用により無機粒子の表面自由エネルギーが低下し、微粒子を上方偏在させることが可能となる。
また、前記（Ａ）成分のイソシアネート基と前記（Ｂ）成分の無機微粒子はあらかじめ本発明における塗布組成物の調液前に、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分とを混合（反応）させておくことが好ましい。

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。シランカップリング剤のなかでも、重合性の官能基を有するものが好ましく、エポキシ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが好ましく、最も好ましくはアクリロイル基である。これら官能基導入により、無機微粒子の上部偏在層の塗膜強度が向上できる。
本発明においては、特に、（Ｂ）成分がオルガノシラン化合物、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子であることが好ましい。

（Ｂ）成分の無機微粒子と前記（Ａ）成分の比率
前記（Ａ）成分の（Ｂ）成分に対する量は、（Ａ）成分が架橋性官能基を有さない場合には、１０〜１５０質量％が好ましく、１５〜１００質量％がより好ましい。（Ａ）成分が架橋性官能基を有する場合には、１０〜２００質量％が好ましく、１５〜１５０質量％がより好ましく、更に好ましくは５０〜１５０質量％である。この範囲にすることで、粒子の上部偏在性、塗膜強度の観点で好ましい。

＜（Ｃ）成分：分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー＞
本発明の塗布組成物は、（Ｃ）成分として分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダーを含有する。（Ｃ）成分の好ましい一例としては、熱又は電離放射線により架橋する反応性基を有するモノマー又はオリゴマーが好ましく、２官能基以上を有する多官能モノマーや多官能オリゴマーを有する樹脂成分がより好ましく、３官能基以上を有する多官能モノマーや多官能オリゴマーを有する樹脂成分が更に好ましい。

前記（Ｃ）成分としては、前記（Ａ）成分より表面自由エネルギーが大きいことが好ましい。３０ｍＮ／ｍ以上の表面自由エネルギーを有する硬化層を形成可能な樹脂であることが好ましく、３５〜８０ｍＮ／ｍの範囲がより好ましく、４０〜６０ｍＮ／ｍの範囲が特に好ましい。また、前記（Ａ）成分と前記（Ｃ）成分の表面自由エネルギーの差が、５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、１０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。この範囲とすることにより、本発明の塗布組成物を用いた場合に層分離構造がより形成し易くなる。硬化後の表面自由エネルギーが高すぎても、低すぎても、反射率の低下、ムラなどが発生することがある。表面自由エネルギーは、強度、塗布性の観点から、上記の好ましい下限以上とすることが好ましい。

前記（Ｂ）成分の無機微粒子が前記（Ａ）成分のイソシアネート化合物によって、表面を覆われ、塗膜の最表面に偏在するためには、前記（Ａ）成分と前記（Ｃ）成分の分離性が大きい方が好ましい。
前記（Ａ）成分と前記（Ｃ）成分の分離性は熱力学的及び動力学的考察によって予測することができる。例えば、フローリー・ハギンスの格子理論で分離性の指標である混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）を求めると、重合度、体積分率（φ：文献では組成分率とも呼ばれる）、及び相互作用パラメーター（χ）の関数として予測することが知られている（たとえば、Ｂａｔｅｓの「Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｈａｓｅ Ｂｅｈａｖｉｏｒ」、Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２５１ ｐｐ．８９８−９０５、１９９１、又は、ストローブルの「高分子の物理」シュプリンガー・フェアラーク東京、１９９８、参照）。
ΔＧはゼロより大きいと、２成分は分離する方向に進み、ゼロより小さいとと、２成分は混合する方向に進むことを意味している。本発明において、前記（Ｂ）成分が前記（Ａ）成分によって、表面を覆われ、塗膜の最表面に偏在するためには、前記（Ａ）成分と前記（Ｃ）成分のΔＧはゼロより大きいことがより好ましく、より分離を促進させ、層界面の乱れを軽減させるという観点で、ΔＧは０．０１以上が更に好ましい。

前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーが有する官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
耐擦傷性向上の観点から（Ｃ）成分の硬化性バインダーとしては、分子内に少なくとも複数の不飽和二重結合を有する化合物を含有することが好ましい。

光重合性官能基を有する硬化性バインダーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。

更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレート又はメタクリレート」、「アクリル酸又はメタクリル酸」、「アクリロイル又はメタクリロイル」を表す。

モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。

本発明の塗布組成物においては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との含有量は、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が、１度の塗布工程で、屈折率の異なる２層以上を形成させ、かつハードコート性を付与する観点から１／１９９〜６０／４０であり、好ましくは１／１９９〜５０／５０、より好ましくは１／９９〜１０／９０である。
本発明の塗布組成物に用いられる前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と後述する前記（Ｅ）成分の質量比は、
［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｅ）成分］／［（Ｃ）成分］＝１／１９９〜６０／４０が好ましく、１／１９９〜５０／５０がより好ましく、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｅ）成分］／［（Ｃ）成分］＝１／９９〜１０／９０が更に好ましい。

＜（Ｄ）成分：溶剤＞
本発明に用いられる（Ｄ）溶剤としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は１種類でも良いし、２種類以上を混合して用いても良い。
（Ｄ）成分としては、以下の少なくとも２種の混合溶剤であることが好ましい。
（Ｄ−１）：（Ａ）成分と（Ｃ）成分のいずれか一方との相溶性パラメーターの差が１〜１０である揮発性溶剤
（Ｄ−２）：沸点が１００℃以下の揮発性溶剤
更に、（Ｄ−３）：沸点が１００℃を超える揮発性溶剤を含有することがより好ましい。

特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量（沸点が１００℃以下の溶剤１００質量部に対して沸点が１００℃以上の溶剤１〜５０質量部、より好ましくは２〜４０質量部、特に好ましくは３〜３０質量部）含有させることが好ましい。２種の溶媒の沸点の差が２５℃以上であることが好ましく、３５℃以上が特に好ましく、５０℃以上が更に好ましい。沸点の異なる有機溶剤を少なくとも２種併用することで、無機微粒子の上部偏在、バインダーの分離がし易くなる。更に前記（Ａ）成分又は前記（Ｃ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤を少量（沸点が１００℃以下の溶剤１００質量部に対して１〜５０質量部、より好ましくは２〜４０質量部、特に好ましくは３〜３０質量部）含有させることが好ましい。溶解性の悪い溶剤を添加することで、バインダーの分離性が促進される。

沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）
などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）、炭酸ジメチル（９０．３℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、メチルエチルケトン、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中ではメチルエチルケトンが特に好ましい。

沸点が１００℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。

本発明においては、（Ａ）成分と（Ｃ）成分のいずれか一方とのＳＰ値（溶解性パラメータ）の差が１〜１０である揮発性溶剤を用いることが好ましい。
（Ａ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤としては、溶解性パラメータの絶対値が２０以上３０以下の溶剤が好ましく、より好ましくは２１以上２７以下、更に好ましくは２２以上２６以下の溶剤である。例えば、プロピレングリコールモノエチルエーテル（溶解性パラメータ＝２３．０５）、酢酸エチル（溶解性パラメータ＝２３．６５）、メタノール（溶解性パラメータ＝２８．１７）、エタノール（溶解性パラメータ＝２５．７３）、２−ブタノール（溶解性パラメータ＝２２．７３）、などがある。好ましくはプロピレングリコールモノエチルエーテルである。
塗布組成物を塗布し、乾燥が進んでいく過程において、溶解性パラメータの絶対値が２０以上の溶剤は前記（Ａ）成分との相溶性が低くなる傾向が強く、層分離性を高めるために溶解性パラメータ差が１．０以上の溶剤を用いることが適している。また塗布組成物の調液の際に、溶解性パラメータの絶対値が３０以上の溶剤は前記（Ａ）成分を溶解しにくい傾向が高いため溶解性パラメータ差が１０以下の溶剤を用いることが適している。

また、前記（Ｃ）成分と溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤としては、溶解性パラメータの絶対値が１０以上２０以下の溶剤が好ましく、より好ましくは１２以上１８以下の溶剤である。
これら溶剤として、例えば、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタン（溶解性パラメータ＝１４．５４）トリフルオロメチルベンゼン（溶解性パラメータ＝１６．７６）、パーフルオロヘプチルエチルアセテート（溶解性パラメータ＝１４．７９）、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキシルエチルアセテート（溶解性パラメータ＝１６．７２）、トリフルオロ酢酸メチル（溶解性パラメータ＝１５．７３）などがある。好ましくは１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタンである。溶解性パラメータ差が１．０以上１０以下の溶剤を併用することにより、適度な層分離性を保ちつつ必要最低限の溶解性を満足することが容易である。

（溶解性パラメータ）
溶解性パラメータとはどれだけ溶媒などに溶けやすいかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同様の概念で、この溶解性パラメーターが大きい程、極性が大きいことを表す。本発明で利用する前記（Ａ）成分は、好ましくは含フッ素ポリマーであり、Ｆｅｄｏｒの推算法で計算した溶解性パラメーターは例えば１９以下となる。前項に記載した前記（Ｃ）成分のＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物の溶解性パラメーター２１．４である。上記でいうＳＰ値は例えばＦｅｄｏｒの推算法（ＳＰ値基礎・応用と計算方法 ｐ．６６：山本秀樹著：情報機構（２００５．３．３１発行）で計算した値である。

本発明の塗布組成物中の（Ｄ）成分である有機溶剤の配合割合は、塗布組成物の固形分濃度が２〜７０質量％になるように添加するのが好ましく、３〜６０質量％になるように添加するのがより好ましく、５〜５０質量％になるように添加するのが特に好ましい。固形分濃度が低すぎると乾燥に時間がかかる、乾燥起因の膜厚ムラが出易いなどの懸念があり、固形分濃度が高すぎると粒子の偏在が十分に起こらない、塗布量が少なくなり、塗布ムラが出易いなどの懸念がある。

＜（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物＞
本発明の塗布組成物には、（Ｅ）成分として、フッ素原子を含有する硬化性化合物を含有することが好ましい。（Ｅ）成分を含有することにより、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の上部偏在性が向上し面状故障の低減と共に、上部偏在層の低屈折率化の効果を有する。本発明における反射防止フィルムの耐擦傷性を向上させるためにも、（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物が上方偏在することによって最表層の硬度やスリップ性を上げることが好ましい。
（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物は、ポリマー、モノマーどちらであっても良いが、含フッ素ポリマーの場合には、含フッ素部位と架橋反応に関与しうる官能基を有する部位とを有する分子量１０００以上のポリマーであることが好ましい。一方、含フッ素モノマーを用いた場合には、多官能フッ素モノマーの重合性基が、アクリロイル基、メタアクリロイル基及び、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２から選ばれるいずれかの基を有することが好ましい。
また、（Ｅ）成分として含フッ素ポリマー、及び含フッ素モノマーを混合して用いることもできる。以下、それぞれについて詳述する。

〔含フッ素ポリマー〕
（Ｅ）成分として用いることができる含フッ素ポリマーは、下記一般式（３）で表される構造を有することが好ましい。
一般式（３）：
（ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ
一般式３中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０の関係を満たす値を表す。

（ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
（ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
（ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
（ＭＢ）：任意の構成単位を表す。

（ＭＦ１）〜（ＭＦ３）については、前述の一般式（１）の含フッ素ポリマーで述べたものと同様であり、好ましい構造等も同様である。

（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物は、架橋性部位を有する繰り返し単位を含むことが必須であり、該架橋性部位が、水酸基、加水分解可能な基を有するシリル基、反応性不飽和二重結合を有する基、開環重合反応性基、活性水素原子を有する基、求核剤によって置換され得る基、及び酸無水物の少なくともいずれかであることがより好ましい。
一般式（３）の（ＭＡ）は、架橋性部位（架橋反応に関与しうる反応性部位）を少なくとも１つ以上含有する構成成分を表す。
架橋性部位としては、例えば、水酸基又は加水分解可能な基を有するシリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、反応性不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β―ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、酸無水物、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。

（ＭＡ）の架橋性基は、好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基又は開環重合反応性基であり、より好ましくは反応性不飽和二重結合を有する基である。（ＭＡ）で表される構成成分の好ましい具体例は前述の一般式（１）におけるＭＡ−１〜ＭＡ−２３である。これら以外の（ＭＡ）で表される構成成分の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（３）における（ＭＢ）は任意の構成単位を表す。（ＭＢ）は、（ＭＦ１）、（ＭＦ２）で表される構成単位を形成する単量体及び（ＭＡ）で表される構成単位を形成する単量体と共重合可能な単量体から得られる構成単位であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができる。

（ＭＢ）を形成するための単量体としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。

（ＭＢ）は、ポリシロキサン構造を有する構成成分を含むことが好ましい。（ＭＢ）としてポリシロキサン構造を含むことにより、塗膜中で上部偏在しやすくなり、得られる膜の低反射化、面状改良などの効果を有する。またポリシロキサン構造を有するため積層体の滑り性、防汚性を向上させることができる。
前記（Ａ）成分と前記（Ｅ）成分が共に含フッ素共重合体であり、それぞれの共重合体を形成する構成単位の少なくとも２種が共通していることが好ましい。特に、（Ａ）成分が前記一般式（１）で表される含フッ素ポリマーである場合には、構造の類似している（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｅ）成分の各成分が共に上部偏在しやすくなる。この効果を顕著に発揮するためには、一般式（１）の化合物と一般式（３）の化合物が、それぞれ共重合体を形成する構成単位の少なくとも２種類が共通していることが好ましく、更に好ましくは３種類が共通していることである。
ポリシロキサン構造の導入方法は、一般式（１）の化合物で述べた方法と同様の方法を用いることができる。

一般式（１）中、ａ〜ｅは、それぞれ各構成成分のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、５≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０の関係を満たす値を表す。
低屈折率化のためには（ＭＦ１）成分及び（ＭＦ２）成分のモル分率（％）ａ＋ｂを高めることが望まれるが、重合反応性の点で一般的な溶液系ラジカル重合反応では５０〜７０％程度の導入が限界でありこれ以上は一般に困難である。本発明においては、ａ＋ｂの下限は４０以上であることが好ましく、４５以上であることがより好ましい。

また、（ＭＦ３）の導入も低屈折率化に寄与する。前記のように（ＭＦ３）成分のモル分率ｃは０≦ｃ≦５０であり、好ましくは５≦ｃ≦２０である。
ａ〜ｃの含フッ素モノマー成分のモル分率の和は、４０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦９０の範囲であることが好ましく、５０≦ａ＋ｂ＋ｃ≦７５であることがより好ましい。

（ＭＡ）で表される重合体単位の割合が少なすぎると硬化膜の強度が弱くなる。本発明では特に、（ＭＡ）成分のモル分率は５≦ｄ≦４０の範囲であることが好ましく、１５≦ｄ≦３０の範囲であることが特に好ましい。

（ＭＢ）で表される任意の構成成分のモル分率ｅは０≦ｅ≦５０の範囲であることが好ましく、０≦ｅ≦２０の範囲であることがより好ましく、０≦ｅ≦１０の範囲であることが更に好ましい。

本発明において、塗布面状改良、膜の耐擦傷性改良の点から、前記（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物は、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。従って、前記（ＭＢ）として、分子内に極性の高い官能基を有することが好ましい。極性の高い官能基としては、水酸基、アルキルエーテル基、シラノール基、グリシジル基、オキサタニル基、ポリアルキレンオキシド基、カルボキシル基を有することが好ましく、更に好ましくは、水酸基、アルキルエーテル基、ポリアルキレンオキシド基である。
これら官能基を有する重合単位は、モル分率として０．１〜１５％が好ましく、更に好ましくは１〜１０％である。
また、前述のように含フッ素ポリマー中には、ポリシロキサン構造を導入することが塗膜面状及び耐擦傷性の点で好ましい。含フッ素ポリマー中のポリシロキサン構造の含有率は全ポリマーに対する質量比で０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。

前記含フッ素ポリマーの数平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは５，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。

以下に、前記一般式（３）で表される共重合体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記表４には、重合することにより一般式（３）のフッ素含有構成単位を形成する単量体（ＭＦ１）、（ＭＦ２）、（ＭＦ３）、及び構成成分（ＭＡ）、及び（ＭＢ）の組合せとして表記する。表中ａ〜ｅは、各成分の単量体のモル比（％）を表す。表中（ＭＢ）成分でｗｔ％の記載があるものは、全重合体中の該成分の質量％を示す。表４中「（ＭＢ）」の欄でＥＶＥ以外の成分については、全重合体中の該成分の含有率（質量％：ｗｔ％）を、「ｅ」の欄にＥＶＥのモル比につづいて左から順に記載した。

上記表中の略号は、以下を表す。
（ＭＦ１）成分
ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン
（ＭＦ２）成分
ＦＰＶＥ：パーフルオロプロピルビニルエーテル
（ＭＦ３）成分
ＭＦ３−１：ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ

（ＭＢ）成分
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＶＰＳ―１００１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約１万、（株）和光純薬工業製
ＦＭ−０７２１：メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量５０００、（株）チッソ製
ＦＭ−０７２５：片末端メタクリロイル変性ジメチルシロキサン、平均分子量１００００、（株）チッソ製
ＶＰＳ−０５０１：アゾ基含有ポリジメチルシロキサン、ポリシロキサン部の分子量約５０００、（株）和光純薬工業製

なお、前記含フッ素ポリマー中、加水分解可能な基を有するシリル基（加水分解性シリル基）を架橋性基として含有する場合には、ゾルゲル反応の触媒として公知の酸あるいは塩基触媒を配合することができる。これらの硬化触媒の添加量は、触媒の種類、硬化反応性部位の違いによって任意であるが、一般的には塗布組成物全固形分に対して０．１〜１５質量％程度が好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％程度である。

また、前記含フッ素ポリマーが架橋性基として水酸基を含む場合、本発明における組成物には、この含フッ素ポリマー中の水酸基と反応し得る化合物（硬化剤）を含有することが好ましい。
この硬化剤は水酸基と反応する部位を２個以上有することが好ましく、４個以上有することが更に好ましい。

硬化剤の構造は、水酸基と反応しうる官能基を前記個数有するものであれば特に限定はなく、例えばポリイソシアネート類、イソシアネート化合物の部分縮合物、多量体や、多価アルコール、低分子量ポリエステル皮膜などとの付加物、イソシアネート基をフェノールなどのブロック化剤でブロックしたブロックポリイソシアネート化合物、アミノプラスト類、多塩基酸又はその無水物などを挙げることができる。

硬化剤は、保存時の安定性と架橋反応の活性の両立の観点、及び形成される膜の強度の観点から、酸性条件下で水酸基含有化合物と架橋反応するアミノプラスト類が好ましい。アミノプラスト類は、含フッ素ポリマー中に存在する水酸基と反応可能なアミノ基、すなわちヒドロキシアルキルアミノ基若しくはアルコキシアルキルアミノ基、又は窒素原子に隣接し、かつアルコキシ基で置換された炭素原子を含有する化合物である。具体的には、例えばメラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物等を挙げることができる。

上記メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているもので、具体的にはメラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができる。特に、メラミンとホルムアルデヒドを塩基性条件下で反応して得られるメチロール化メラミン及びアルコキシ化メチルメラミン、並びにその誘導体が好ましく、特に保存安定性からアルコキシ化メチルメラミンが特に好ましい。またメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンについて特に制約はなく、例えば「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されているような方法で得られる、各種樹脂の使用も可能である。

また上記尿素化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、更には環状尿素構造であるグリコールウリル骨格や２−イミダゾリジノン骨格を有する化合物も好ましい。前記尿素誘導体等のアミノ化合物についても前記「ユリア・メラミン樹脂」等に記載の各種樹脂の使用が可能である。

硬化剤として好適に用いられる化合物としては、含フッ素ポリマーとの相溶性の点から、特にメラミン化合物又はグリコールウリル化合物が好ましく、その中でも反応性の観点から、硬化剤が分子中に窒素原子を含有し、かつ該窒素原子に隣接するアルコキシ基で置換された炭素原子を２個以上含有する化合物であることが好ましい。特に好ましい化合物は下記一般式Ｈ−１又はＨ−２で表される構造を有する化合物、及びそれらの部分縮合体である。

式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基又は水酸基を表す。
含フッ素ポリマーに対するアミノプラストの添加量としては、含フッ素ポリマー１００質量部当たり、１〜５０質量部であることが好ましく、３〜４０質量部であることが好ましく、５〜３０質量部であることが更に好ましい。１質量部以上であれば、薄膜としての耐久性を十分に発揮することができ、５０質量部以下であれば低屈折率を維持できるので好ましい。

水酸基含有含フッ素ポリマーと前記硬化剤の反応には、硬化触媒を使用することが好ましい。この系では酸により硬化が促進される為、硬化触媒として酸性物質を使用することが望ましいが、通常の酸を添加すると塗布液中でも架橋反応が進行してしまい、故障（ムラ、ハジキなど）の原因となる。従って、熱硬化系で保存安定性と硬化活性を両立するために、加熱により酸を発生する化合物や、光により酸を発生する化合物を硬化触媒として添加することがより好ましい。具体的な化合物は、特開２００７−２９８９７４号公報、段落［０２２０］〜［０２３０］に記載されている。

〔含フッ素モノマー〕
（Ｅ）成分として用いることができる含フッ素モノマーは、主に複数のフッ素原子と炭素原子からなる（但し、一部に酸素原子及び／又は水素原子を含んでも良い）、実質的に重合に関与しない原子団（以下、「含フッ素コア部」とも言う）と、エステル結合やエーテル結合などの連結基を介してラジカル重合、イオン重合、又は縮合重合性などの重合性を有する化合物であって、２つ以上の重合性基を有していることが好ましい。

含フッ素モノマーは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（重合性含フッ素化合物）が好ましい。
一般式（Ｉ） ： Ｒｆ｛−（Ｌ）_ｍ−Ｙ｝_ｎ
（式中Ｒｆは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び水素原子のうち少なくとも一方を含んでも良い、鎖状又は環状のｎ価の基を表し、ｎは２以上の整数を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性基を表す。）

上記一般式（Ｉ）において、Ｙは重合性基を表す。Ｙは、ラジカル重合性、イオン重合性、又は縮合重合性の基であることが好ましく、重合性不飽和基又は開環重合性基であることがより好ましく、重合性不飽和基が更に好ましい。具体的には、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２から選ばれるものが更に好ましい。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカル重合性又はカチオン重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましく、特に好ましいのはラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２であり、最も好ましいのは（メタ）アクリロイル基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２である。

なお、重合性含フッ素化合物は重合性基を架橋性基とする架橋剤であってもよい。
架橋性基としては例えば、水酸基又は加水分解可能な基を有するシリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、反応性不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルオキシ基等）、開環重合反応性基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β―ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、酸無水物、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。

Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、及びこれらを２種以上組み合わせて得られる二価の連結基が好ましい。ただし、前記Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることがより好ましい。

ここで、架橋間分子量の計算値とは、重合性含フッ素化合物の重合性基が全て重合した重合体において、合わせて３個以上炭素原子及び／又はケイ素原子及び／又は酸素原子が置換した炭素原子を（ａ）、合わせて３個以上炭素原子及び／又は酸素原子が置換したケイ素原子を（ｂ）とするときに、（ａ）と（ａ）、（ｂ）と（ｂ）、又は（ａ）と（ｂ）で挟まれた原子団の原子量の合計をいう。架橋間分子量を大きくすると、含フッ素モノマー中のフッ素含量を高めることができ、低反射率化、導電性や防汚性能を向上させることが出来るが、一方、塗布膜の強度及び硬度が低下し、塗布膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性が不足してしまう。一方、架橋間分子量を小さくすると、分子間架橋密度があがり、膜強度が向上するが、フッ素量低下し、反射率が上昇してしまうため、架橋密度とフッ素含率の観点から、含フッ素多官能モノマーの重合性基を全て重合させたとき、架橋間分子量の計算値が２０００以下であることが好ましい。また１０００より小さい事が更に好ましく、５０より大きく８００よりも小さいことが最も好ましい。また、重合性フッ素含有化合物は分子内に合わせて３個以上酸素原子及び／又は炭素原子及び／又はケイ素原子で置換された炭素原子を有する（ただし、カルボニルの酸素原子は除く）ことが好ましい。上記炭素原子を含有する事で硬化時に緻密な架橋網目構造を構築することができ、塗膜の硬度が上がる傾向にある。

一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物のより好ましい態様は下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）及び（Ｉ−３）で表されるものである。

式中、Ｒｆ_１は、酸素原子、実質的に炭素原子とフッ素原子のみから構成される基、又は炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成される基であって、ｄ価の有機基を表す。Ｒｆ_２は、酸素原子、実質的に炭素原子とフッ素原子のみから構成される基、又は炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成される基であって、ｅ価の有機基を表す。Ｌｆは−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ−（いずれも炭素原子側で酸素原子と結合）を表し、Ｌ及びＹは上記一般式（Ｉ）におけるＬ及びＹと同義であり、ｄ，ｅはそれぞれ独立に２以上の整数を表し、ｆは１以上の整数を表す。

Ｒｆ_１及びＲｆ_２の炭素数は好ましくは０〜３０であり、より好ましくは０〜１０である。

上記記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）又は（Ｉ−３）で表される化合物の更に好ましい態様は、下記一般式（Ｉ−１’）、（Ｉ−２’）及び（Ｉ−３’）で表されるものである。

式中、Ｒｆ_１’は、酸素原子、実質的に炭素原子とフッ素原子のみから構成される基、又は炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成される基であって、ｄ’価の有機基を表す。Ｒｆ_２’は、酸素原子、実質的に炭素原子とフッ素原子のみから構成される基、又は炭素原子とフッ素原子と酸素原子のみから構成される基であって、ｅ’価の有機基を表す。Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜５のアルキル基）、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基）のいずれかを表す。ｄ’、ｅ’はそれぞれ独立に２又は３の整数を表し、ｆ’は１〜４の整数を表す。

Ｒｆ_１’及びＲｆ_２’の炭素数は好ましくは０〜３０であり、より好ましくは０〜１０である。

以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明の一般式（Ｉ）で表される重合フッ素含有化合物の製造方法は特に限定されないが、例えば以下のような公知の方法の組み合わせにより製造することができる。なお、以下の説明において、既出の記号については特に記載のない限り前記のものと同義である。
工程１：Ｒｈ（ＣＯ_２Ｒ_１）ａ又はＲｈ（ＣＨ_２ＯＣＯＲ_２）ａで表される化合物を米国特許第５，０９３，４３２号明細書や国際公開第００／５６６９４号に記載の液相フッ素化反応及び引き続くメタノールとの反応により、メチルエステルＲｆ（ＣＯ_２ＣＨ_３）ａを得る工程。
（式中、Ｒ_１はメチル基やエチル基のような低級アルキル基を表し、Ｒ_２はアルキル基、好ましくは含フッ素アルキル基、より好ましくはペルフルオロアルキル基を表し、Ｒｈは液相フッ素化反応によりＲｆとなり得る基を表す。）

工程２：Ｒｆ（ＣＯ_２ＣＨ_３）ａで表される化合物を水素化リチウムアルミニウムや水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で還元してアルコールＲｆ（ＣＨ_２ＯＨ）ａを得る工程。
工程３：Ｒｆ（ＣＨ_２ＯＨ）ａで表される化合物に、エチレンカーボネート又はエチレンオキシド、及びグリシジルアルコールから選ばれる１種類以上をブロック状又はランダム状に付加させてＲｆ（ＣＨ_２Ｏ−Ｌ−Ｈ）ａを得る工程。なお、ｂ＝ｃ＝０の場合、本工程は必要ない。

工程４：Ｒｆ（ＣＨ_２Ｏ−Ｌ−Ｈ）ａで表される化合物に重合性基を導入して一般式（Ｉ）で表される化合物Ｒｆ（ＣＨ_２Ｏ−Ｌ−Ｙ）ａを得る工程。
ここで、Ｙが−ＣＯＣ（Ｒ_０）＝ＣＨ_２の場合、重合性基導入反応としては、アルコールＲｆ（ＣＨ_２Ｏ−Ｌ−Ｈ）ａと酸ハライドＸＣＯＣ（Ｒ_０）＝ＣＨ_２（Ｘはハロゲン原子を表し、好ましくは塩素原子を表す。）とのエステル化反応やカルボン酸ＨＯＣＯＣ（Ｒ_０）＝ＣＨ_２との脱水縮合を利用することができる。また、Ｙがその他の重合性基の場合、Ｒｆ（ＣＨ_２Ｏ−Ｌ−Ｈ）ａと対応するハライド化合物との求核置換反応等を利用することができる。

含フッ素モノマーとして好ましいものの具体例を以下に示す。ただし、これらに限定されるものではない。
また、フッ素含有モノマーは、塗布面状改良、膜の耐擦傷性改良の点から、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２３〕から〔００２７〕に記載のＸ−２〜４、Ｘ−６、Ｘ−８〜１４、Ｘ−２１〜３２に加えて以下の化合物（Ｘ−３３）も好ましく用いることができる。

また、下記化合物も好ましく用いることができる。

また、含フッ素モノマーは、他のバインダーや非含フッ素モノマーとの相溶性の観点で、下記一般式（ＩＩ）で表される、エーテル結合を介してフッ素で置換されたアルキル鎖の繰り返し単位を有するモノマーを用いることができる。

一般式（ＩＩ） ： Ｙ−（ＣＦ_２−ＣＦＸ−Ｏ）_ｎ２−Ｙ
（式中Ｘは−Ｆ又は−ＣＦ_３を表し、ｎ２は１〜２０の整数を表し、Ｙは重合性基を表す。）

Ｙの好ましい範囲、及び具体例は前記一般式（Ｉ）におけるＹと同様である。
以下に一般式（ＩＩ）で表される多官能フッ素含有モノマーの具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

ＦＰ−１ ： ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ）_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２
ＦＰ−２ ： ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ）_４ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２
ＦＰ−３ ： ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ）_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２
ＦＰ−４ ： ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）Ｆ−Ｏ）_４ＣＨ_２ＯＣＯＣ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２
ＦＰ−５ ： ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯＣＨ_２（ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）Ｆ−Ｏ）_８ＣＨ_２ＯＣＯＣ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２

また、含フッ素モノマーは、架橋構造を形成でき、硬化した皮膜の強度や硬度が高い点から、下記多官能含フッ素含有（メタ）アクリル酸エステルも好ましく用いることができる。具体例としては、例えば１，３−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２−ジフルオロプロパン、１，４−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３−テトラフルオロブタン、１，５−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタン、１，６−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサン、１，７−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロヘプタン、１，８−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロオクタン、１，９−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロノナン、１，１０−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロデカン、１，１１−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０−オクタデカフルオロウンデカン、１，１２−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１−エイコサフルオロドデカン、１，８−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，７−ジヒドロキシ４，４，５，５−テトラフルオロオクタン、１，７−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，８−ジヒドロキシ４，４，５，５−テトラフルオロオクタン、２，７−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−１，８−ジヒドロキシ４，４，５，５−テトラフルオロオクタン、１，１０−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，９−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，９−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−２，１０−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、２，９−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−１，１０−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，７，８−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−４，４，５，５−テトラフルオロデカン、１，２，８，９−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−４，４，５，５，６，６−ヘキサフルオロノナン、１，２，９，１０−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，１０，１１−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−デカフルオロウンデカン、１，２，１１，１２−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ｝−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ドデカフルオロドデカン、１，１０−ビス（α−フルオロアクリロイルオキシ）−２，９−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，９−ビス（α−フルオロアクリロイルオキシ）−２，１０−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、２，９−ビス（α−フルオロアクリロイルオキシ）−１，１０−ジヒドロキシ４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，９，１０−テトラキス（α−フルオロアクリロイルオキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン、１，２，１１，１２−テトラキス（α−フルオロアクリロイルオキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ドデカフルオロドデカン等が挙げられる。

これらのフッ素多官能（メタ）アクリル酸エステルは、公知の方法により製造することができる。例えば相当する含フッ素エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との開環反応や、相当する含フッ素多価アルコール又は前記開環反応で中間体として得られる水酸基（ヒドロキシル基）を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸クロライドとのエステル化反応により製造される。

（含フッ素モノマーのフッ素含有率）
含フッ素モノマーのフッ素含有率は、前記（Ｃ）成分と相分離し、上方偏在させるために表面エネルギーを低下させる観点から、含フッ素モノマーの分子量の２５．０質量％以上であることが好ましい。更に好ましくは、４５．０〜８０．０質量％であり、最も好ましくは５０．０〜８０．０質量％である。一方、８０．０質量％を超える場合には硬化皮膜中のフッ素原子含有量が高いが、皮膜の強度及び硬度が低下し、皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性が不足してしまう。

本発明の（Ｅ）フッ素原子を含有する硬化性化合物としては、膜面状の安定性からは、含フッ素ポリマーが好ましい。また、塗布組成物の溶解性向上、密着性向上の点からは、含フッ素硬化性モノマーが好ましい。含フッ素ポリマーと含フッ素硬化性モノマーを併用することは、これら性能を高いレベルで両立することができるため特に好ましい。

［反射防止フィルムの構造］
本発明の反射防止フィルムは前記方法により得られた反射防止フィルムである。
本発明の塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、塗膜から溶剤を揮発させ乾燥する工程、塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有することによって、実質的に二層の層構造を有する硬化膜が得られる。これらの分離して形成される二層は、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層とそれ以外の構成成分が存在している高屈折率層とから構成されている。本発明において、前記低屈折率層が前記（Ｂ）成分と前記（Ａ）成分由来の成分を主成分として構成され、前記高屈折率層が前記（Ｃ）成分由来の成分を主成分として構成されていることが好ましい。本発明において、前記低屈折率層には、（Ａ）及び（Ｂ）成分が本発明の塗布組成物から形成される塗膜全層の平均密度の１．５倍以上の濃度で存在していることが好ましく、更に好ましくは２．０倍以上、最も好ましくは３．０〜２００倍である。また、前記低屈折率層には、（Ｂ）成分は、２０〜９０体積％の密度で存在することが好ましく、更に好ましくは３０〜８０体積％以上、最も好ましくは４０〜７０体積％である。
前記組成物を塗布して得られる硬化膜の屈折率の異なる多層構造とは、前記（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層と、それ以外の構成成分が存在している高屈折率層の少なくとも二層で構成された構造のことであり、実質性能を落とさない範囲で、該２層の界面近傍で、構成成分が混合した層（前記（Ａ）成分由来の成分と前記（Ｃ）成分由来の成分が混合している層、また前記（Ｂ）成分と前記（Ｃ）成分由来の成分が混合している層、前記（Ａ）成分由来の成分と前記（Ｂ）成分と前記（Ｃ）成分由来の成分が混合している層等）があってもよい。
本発明の（Ｅ）成分に由来する成分は、（Ｂ）成分と（Ａ）成分が偏在して構成された層に存在することが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの硬化膜の多層構造は、例えば、得られたフィルムの断面ＴＥＭ、又は、Ｃ６０スパッタリングＥＳＣＡで観察することにより確認することができる。断面ＴＥＭからは前記（Ｂ）成分の膜内分布状態を観察することができ、また、Ｃ６０スパッタリングＥＳＣＡにて、深さ（膜厚）方向のフッ素原子、又は珪素原子の強度比を解析することで、（Ａ）、（Ｃ）、（Ｅ）成分に由来する成分の膜厚方向の組成物分布を知ることができる。
例えば、断面ＴＥＭにより、前記（Ｂ）成分が空気界面側に多く存在していることが観察でき、Ｃ６０スパッタリングＥＳＣＡでは、空気界面側にフッ素、又は珪素原子が多く存在する層が存在し、空気界面側の表面から膜厚が１０ｎｍ〜１００ｎｍの深さからフッ素、又は珪素原子が減少し、３００ｎｍ以降はフッ素、又は珪素原子が実質検出されない領域の存在などが観察される。
本発明の塗布組成物を塗布し、乾燥させていったときに、前記（Ａ）成分由来の成分と混合自由エネルギーがゼロ以上の前記（Ｃ）成分は相分離を起こし、分離が開始される。このとき表面エネルギーの低いフッ素成分、又はシリコーン成分を有するため、前記（Ａ）成分由来の成分は疎水界面（空気界面）に偏在し、前記（Ａ）成分由来の成分に被覆されている前記（Ｂ）成分も同時に上方偏在することで実質的に前記（Ｂ）成分と前記（Ａ）成分由来の成分が偏在している層が形成できる。前記（Ｂ）成分と前記（Ａ）成分由来の成分は共に低屈折率材料であるので、上層（空気界面側）に低屈折率層を形成することができる。同時に、前記（Ｃ）成分は下層（基材界面側）に偏在することになるので、実質的に前記（Ｃ）成分由来の成分が主成分として構成された層が形成することができる。前記（Ｃ）成分由来の成分は前記（Ｂ）成分と前記（Ａ）成分由来の成分に比べ、高屈折率材料であるために、高屈折率層が形成でき、屈折率差が生じることにより、反射防止能を得ることができる。

また粒子を上方偏在させることにより、耐擦傷性を向上するとともに、使用量は少量で良いためにコスト面でも優れていると言える。また、前記（Ａ）成分のイソシアネート基と前記（Ｂ）成分無機粒子の表面ＯＨ基からウレタン結合を形成しうるため、一般的な粒子修飾剤であるシランカップリング剤等と比較し、偏光板加工時に行うケン化の後の耐擦傷性が優れている。
また、前記（Ａ）成分同様表面エネルギーの低い前記（Ｅ）成分を用いると、前記（Ｅ）成分は上部偏在し、実質的に前記（Ｂ）成分と前記（Ａ）成分由来の成分と前記（Ｅ）成分由来の成分が偏在している層が形成できる。前記（Ｅ）成分は硬化性のフッ素ポリマー若しくはモノマーであるために、耐擦傷性に優れ、更に面状改良効果も示す。

本発明の塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、塗膜から溶剤を揮発させ乾燥する工程、塗膜を硬化し硬化層を形成する工程によって作製した低屈折率層の膜厚とは、塗膜の断面のＴＥＭ写真において、（Ｂ）成分である無機微粒子が本発明の塗布組成物から形成される塗膜全層の平均密度の１．５倍以上の濃度で存在している領域のことで、４０〜３００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがより好ましく、６０〜１５０ｎｍであることが更に好ましい。

本発明の塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、塗膜から溶剤を揮発させ乾燥する工程、塗膜を硬化し硬化層を形成する工程によって作製した前記（Ｃ）成分を主成分とする高屈折率層の膜厚は断面ＴＥＭにより求められた全体の膜厚から前記低屈折率層の膜厚を差し引いた値として算出し、１００〜２００００ｎｍであることが好ましく、３００〜１００００ｎｍであることがより好ましく、５００〜８０００ｎｍであることが更に好ましい。膜厚は鏡面反射率測定で計測した反射率を元にした光学フィッティングや断面ＴＥＭ観察により求められたものである。前記（Ｃ）成分を主成分とする高屈折率層はハードコート性能を付与することが好ましい。例えば、前記（Ｃ）成分として多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの前記（Ｂ）成分が偏在している低屈折率層の屈折率は１．１５〜１．４８であることが好ましく、１．２０〜１．４５であることがより好ましく、１．３０〜１．４０の範囲であることが更に好ましい。屈折率が高すぎると反射防止能が低下する原因となり、また、低すぎると耐擦傷性が低下する原因となる。

本発明の反射防止フィルムの前記（Ｃ）成分由来の成分を主成分とする高屈折率層の屈折率は１．４８〜１．８０であることが好ましく、１．４８〜１．７０であることがより好ましく、１．５０〜１．６０の範囲であることが更に好ましい。

塗布組成物を基材上に塗布する際に、上記多層構造を有する層の屈折率、膜厚を最適となるよう設計することはもちろんであるが、反射率を更に低下させるための中間屈折率層、ゴミ付きを防止するための帯電防止機能層、物理的強度を付与するためのハードコート層、防眩性を付与するための防眩層等を目的に応じて設けることができる。

本発明の製造方法を用いて反射防止フィルムを作製する場合は、基材を透明フィルム基材として本発明の塗布組成物を塗布すれば良い。その場合、光学特性、物理特性等が良好な好ましい態様としては、〔フィルム基材／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／下塗り層／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／導電性層／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／干渉ムラ防止層／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／光拡散層／高屈折率層／低屈折率層〕、〔フィルム基材／密着性層／高屈折率層／低屈折率層〕の構成が例示できる。

〔基材〕
本発明に用いることができる基材としては種々の層を積層可能なものであればどのようなものでも良いが、連続搬送による高生産性の観点からフィルム基材が好ましい。
フィルム基材は、可視光の光線透過率に優れ（好ましくは光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（好ましくはヘイズ値１％以下）であれば特に制限はない。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。更に、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルム等も挙げられる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。

フィルム基材の厚さ、巾については適宜に決定し得る。フィルム基材の厚さとしては、一般には強度や取り扱い性等の作業性、薄層性等の点を考慮し、１０〜５００μｍ程度である。特に２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。フィルム基材の巾としては、１００〜５０００ｍｍのものが好適に用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることが更に好ましい。更に、フィルム基材の屈折率としては特に制限されず、通常１．３０〜１．８０程度、特に１．４０〜１．７０であることが好ましい。

基材の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることが更に好ましい。

〔反射防止フィルムの製造方法〕
本発明の反射防止フィルムは、塗布組成物を塗布する工程、乾燥する工程、硬化する工程により製造することが可能であり、上述のようにフィルム基材を用いることで連続的に塗布、乾燥、硬化工程を行うことができ、高い生産性を実現できる。この際、得られる積層体はフィルム状の積層体、即ち反射防止フィルムが作製される。以下に各々の工程について説明する。なお、本発明の製造方法は前記工程以外にその他の工程を有していてもよい。

（塗布工程）
本発明の製造方法における塗布方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が高い生産性、塗膜の均一性の観点で好ましく用いられる。

［スロットダイを用いて支持体上に押し出す工程］
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ^２以下）で好ましく用いることができるダイコーターについては例えば特開２００７−２９３３１３号公報などを参照することができ、本発明においても同様である。

（乾燥工程）
本発明の製造方法において、本発明の塗布組成物を基材上に塗布した後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送する。その際の乾燥ゾーンの温度としては０℃〜１４０℃が好ましく、１０℃〜１２０℃が更に好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温に、後半は比較的高温にする等の調整をすることも好適である。但し、塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下とすることは必須である。これらの好ましい乾燥条件以外に乾燥工程の制約はなく、通常の塗布後乾燥に使用できる方法を用いることができる。

（硬化方法）
本発明において、塗布乾燥された積層体を紫外線照射及び／又は熱により硬化することができる。ここで紫外線照射による硬化とは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等、また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等の光源を用いて乾燥した膜に紫外線を照射して膜を硬化させることをいう。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、更に好ましくは、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは、１５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２である。
紫外線による硬化の場合、各層を１層ずつ照射してもよいし、積層後照射しても良い。紫外線照射の際に表面の硬化を促進させる目的で、窒素ガス等のパージをして酸素濃度を低下させることもできる。硬化させる環境の酸素濃度は５％以下が好ましい。本発明の反射防止フィルムのように最表層が低屈折率層を形成する場合には、酸素濃度は０．１％以下が好ましく、０．０５％以下がより好ましく、０．０２％以下が最も好ましい。
本発明の製造方法によって得られた積層体は粒子含有層を有することが好ましい。また、該積層体は反射防止機能を有することが好ましい。

〔ハードコート層〕
本発明の反射防止フィルムは、物理的強度を付与するために基材の一方の面にハードコート層を設けることができる。

ハードコート層の膜厚は、十分な耐久性又は耐衝撃性の付与、カール、生産性、コストの観点から、０．５μｍ〜５０μｍ程度とするのが一般的である。好ましい膜厚としては１μｍ〜３０μｍであり、更に好ましくは２μｍ〜２０μｍであり、最も好ましくは３μｍ〜１５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましく、最も好ましくは５Ｈ以上である。
更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層の屈折率は、光学設計、反射率、色味、ムラ、コストの点から、屈折率が１．４８〜１．７５の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４９〜１．６５であり、更に好ましくは１．５０〜１．５５である。

ハードコート層の表面散乱にて防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズ（全ヘイズ値から内部ヘイズ値を引いた値。内部ヘイズ値はフィルム表面の凹凸をフィルム表面と同じ屈折率の物質により無くすことで測定可能である。）が０．１％〜２０％が好ましく、０．２％〜５％がより好ましく、０．２％〜２％であることが特に好ましい。表面ヘイズが大きすぎると明室コントラストが悪化し、小さすぎると映り込みが悪化する。

また、ハードコート層に透光性粒子を含有して内部散乱を付与する場合、内部ヘイズは目的により好ましい範囲が異なるが、内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値は０％〜６０％であることが好ましく、１％〜４０％であることがより好ましく、１０％〜３５％であることが特に好ましい。内部ヘイズが大きすぎると正面コントラストが低下し、白茶け感が増す。小さすぎると使用できる素材の組合せが限定され、防眩性その他の特性値の合わせこみが困難となり、また、高コストとなる。一方、正面コントラストを重視する場合は、０％〜３０％が好ましく、更に好ましくは１％〜２０％であり、最も好ましくは１％〜１０％である。

また、ハードコート層の表面凹凸形状については、中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．３０μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０１〜０．２０μｍであり、更に好ましくは０．０１〜０．１２μｍである。Ｒａが大きいと表面散乱起因の白ボケ感が出たり、ハードコート層上に形成する層の均一性が得難いなどの問題が起こる場合がある。

〔導電性層〕
本発明の反射防止フィルムにおいては、帯電防止の目的で導電性層を設けることができ、それにより反射防止フィルム表面でのゴミつきを防止することができる。導電性層は各層と別の単独層として設けても良いし、積層した層のいずれかが導電性層を兼ねるような兼用層として設けることも可能である。

導電性層の膜厚は、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．０３μｍ〜７μｍがより好ましく、０．０５μｍ〜５μｍが最も好ましい。導電性層の表面抵抗ＳＲ（Ω/sq）は、ｌｏｇＳＲとして、５〜１２であることが好ましく、５〜１１がより好ましく、６〜１０であることが最も好ましい。導電性層の表面抵抗は公知の測定法で測定することができ、例えば四探針法により測定可能である。

〔干渉ムラ防止層〕
本発明の反射防止フィルムにおいては、干渉ムラ防止の目的で干渉ムラ防止層を設けることができ、それにより反射防止フィルム表面での干渉ムラを防止することができる。干渉ムラは基材と基材上に塗布した層（例えばハードコート層）の屈折率差によって反射光が干渉し、膜厚ムラに対応して色味変化してしまうことであり、これを防止するために基材と基材上に塗布した層の間に屈折率を連続的に変化させることで、干渉ムラを防止する方法がある（特開２００３−２０５５６３号公報、特開２００３−１３１００７号公報等参照）。このような干渉ムラ防止層を基材層の上に設けても良い。

〔偏光板用保護フィルム〕
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合は、偏光板を作成するにあたり、反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いるために、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することが好ましい。

反射防止フィルムにおけるフィルム基材としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、ハードコート層、中屈折率層、表層２層など）を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に上記の各層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法、の２つが考えられるが、（１）はハードコート層を塗設するべき面まで親水化されるため、支持体とハードコート層との密着性の確保が困難となる場合があり、（２）の手法が好ましい。

〔鹸化処理〕
（１）浸漬法
アルカリ液の中に上記のような反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃ である。
上記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。

鹸化処理することにより、透明支持体の反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に低屈折率層を有する表面までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる反射防止層の受けるダメージの指標として、反射防止構造層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち反射防止フィルムの貼り合わせ面の、水に対する接触角を用いた場合、特に支持体がトリアセチルセルロースであれば、２０度〜５０度、好ましくは３０度〜５０度、より好ましくは４０度〜５０度を上記接触角とするのが好ましい。５０度以下であると偏光膜との接着性に優れるため好ましい。一方、２０度以上であると反射防止層の受けるダメージが小さく物理強度や耐光性を損なわないため好ましい。

（２）アルカリ液塗布法
上述の浸漬法における反射防止膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、この時、反射防止フィルムの貼り合わせ面の水に対する接触角が、１０〜５０度となるように鹸化処理を行なうことが好ましい。また、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。

上記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、例えばロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。更に、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。

〔偏光板〕
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の表側及び裏側の少なくとも一方を保護する保護フィルムとして前記反射防止フィルムを有する。本発明の偏光板は好ましくは前記偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムとを有する積層板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記反射防止フィルムである態様である。
偏光板は、偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、反射防止フィルムを有する。反射防止フィルムの透明支持体がポリビニルアルコールからなる接着剤層を介して偏光膜に接着しており、もう一方の偏光膜の保護フィルムが接着剤層を介して偏光膜の反射防止フィルムが接着している主面と反対側の主面と接着している。もう一方の保護フィルムの偏光膜と接着している主面と反対側の主面には粘着剤層を有している。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右及び斜め方向の視野角を非常に広げることができる偏光板を作製できる。

［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムを有する画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）等が挙げられる。中でも、本発明の反射防止フィルムは、液晶パネル画面の表面フィルムとして使用することが好ましい。本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を有する画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）のような画像表示装置が挙げられる。本発明の画像表示装置においては、本発明の反射防止フィルムを有する偏光板を、液晶表示装置の液晶セルのガラスに直接又は他の層を介して接着して用いる。

本発明に係る反射防止フィルムを用いた偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
また、透過型又は半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、更に視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、ＯＬＥＤ用表面保護板として表面及び内部からの反射光を低減するのに用いることができる。

以下本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限りは、「部」及び「％」は質量基準の値である。

＜実施例１＞
（下塗り層付き基材の作成）
［下塗り層用塗布液（Ｓｕｂ−１）の調製］
各成分を下記表５に示す組成で混合し、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）／ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）／シクロヘキサノン＝４５／４５／１０（質量比）の溶剤で固形分濃度が４０質量％になるように調整し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して下塗り層用塗布液を調製した。

上記で使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＣＡ−２０：部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート［日本化薬（株）製］
・シリカゾル：ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ溶剤使用の固形分濃度３０％分散液、平均粒子サイズ約１５ｎｍのシリカ微粒子、屈折率１．４５［日産化学工業（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］；

［下塗り層の形成］
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製）上に、下塗り層用塗布液（Ｓｕｂ−１）を、ダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が６μｍになるように下塗り層を形成した。このようにして得られた下塗り層付きトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−１）を以降の塗布組成物の評価に用いる基材とした。

［中空シリカ粒子分散液 Ｓ−１の調製］
中空シリカ微粒子ゾルＡ（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径４５ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子屈折率１．３０）５００質量部に、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１０質量部及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部、メチルエチルケトン５００質量部加えて混合した後に、イオン交換水３質量部を加えた。この混合液を６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加して分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度２１．７％（シリカ濃度２０％）の重合性官能基を有するオルガノシラン化合物で表面修飾した中空シリカ粒子分散液Ｓ−１を得た。

［中空シリカ粒子分散液 Ｓ−２の調製］
中空シリカ微粒子ゾルＡ（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径４５ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子屈折率１．３０）に、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、シリカ濃度２０％の中空シリカ粒子分散液Ｓ−２を得た。

［中空シリカ粒子分散液 Ｓ−３の調製］
中空シリカ粒子分散液Ｓ−１の調製において、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランの代わりに５０質量部のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランに変更したこと以外は分散液Ｓ−１と同様にして中空シリカ粒子分散液Ｓ−３を調製した。

［１液２層用塗布組成物の作製］
（Ａ）成分としてＩＰＦ−１を２．０質量部をＭＥＫ溶剤で固形分３０質量％とした。（Ｂ）成分のＭＥＫ−ＳＴ−Ｌを２．０質量部（固形分量として）と該（Ａ）成分とを混合し、ＭＥＫ／ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）／シクロヘキサンの８０／１０／１０（質量比）の溶剤で希釈し、固形分濃度が５質量％溶液とし、２５℃で２４時間放置した。その後に（Ｃ）成分であるＤＰＨＡを６０質量部と光重合開始剤としてイルガキュア１２７を２．０質量部混合し、同じ溶媒組成で固形分濃度が１３％になるように調節し、本発明の塗布組成物（Ｃｏｍｐ−１）とした。

（Ｃｏｍｐ−１）と同様にして各成分を下記表６のように混合し、固形分１３質量％の塗布組成物を作製した。下記表６における各成分の添加量は、「質量部」を表す。（Ｂ）成分の無機微粒子の添加量は溶剤を除く固形分の質量部である。

上記で使用した化合物を以下に示す。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック（株））
ＰＥ−３ＡＲｆ：トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール（共栄社化学（製））
イルガキュア−１２７：光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）
製］
ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ：平均粒子サイズ約４５ｎｍのシリカ分散液、溶媒ＭＥＫ（日産化学工業（株）製）シリカ粒子の屈折率＝１．４５
比較用Ａ−１：含フッ素炭化水素構造及びポリシロキサン構造を含まないイソシアネート基を有する化合物（（ＩＰＦ−２）において、ＨＦＰモノマーに由来する構造単位を含まないポリマー、質量平均分子量２．５万）

［積層体の形成］
前述の基材ＴＡＣ−１の下塗り層の上に、前記塗布組成物Ｃｏｍｐ−１をダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．１％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が１．６μｍになるように積層体１０１を形成した。前記表のその他の塗布組成物（Ｃｏｍｐ−２〜Ｃｏｍｐ−２７）についても同様にして積層体１０２〜１２７を作成した。この際に、後述の反射率の測定で反射率の極小波長が５２０〜５６０nmの範囲になるように塗設量を１０％刻みでプラスマイナス４０％の範囲で調節した。

また、比較用の積層体として、基材ＴＡＣ−１の上にハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）を、ダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．１％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が１．６μｍになるようにハードコート層を形成した。その上に低屈折率層用塗布液Ｌｎ−１をダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．１％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が９５ｎｍになるように比較用積層体１２８を形成した。また、比較用積層体１２８において、低屈折率層用塗布液をＬｎ−２に変更した試料１２９を作製した。

［積層体の評価］
得られた積層体（反射防止フィルム）について、以下の項目の評価及び測定を行った。

［粒子の偏在性］
硬化後の反射防止フィルム試料を厚み方向に垂直に切削し、断面を透過型電子顕微鏡で観察して、断面画像を幅方向５μｍに渡り観察し、無機微粒子の存在状態を以下の５段階評価した。
◎ ：無機微粒子含有層が上部に偏在しその厚みムラが５％未満である。
○ ：無機微粒子含有層が上部に偏在しその厚みムラが５％以上１０％未満である。
△ ：無機微粒子含有層が上部に偏在しその厚みムラが１０％以上３０％未満であり、一部の無機粒子は下層にも存在している。
× ：無機微粒子含有層の厚みムラが３０％以上であるか、無機微粒子の偏在層と下層の界面が不明瞭である。
××：無機微粒子含有層の厚みムラが５０％以上であるか、無機微粒子の偏在層が実質形成されていない。

［積分反射率］
反射防止フィルム試料の裏面（支持体側）をサンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分反射率の算術平均値を用いた。
反射防止フィルム試料の積分反射率は３．０％以下であることが好ましい。

［スチールウール耐擦傷性］
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
・評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
・こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール｛（株）日本スチールウール製、Ｎｏ．００００｝を巻いて、動かないようバンド固定した。その上で下記条件の往復こすり運動を与えた。
・移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、
・荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
・こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△：弱い傷が見える。
△×：中程度の傷が見える。
×：一目見ただけで分かる傷がある。
耐擦傷性は○△レベル以上が実用上の価値が高い。

［密着性］
反射防止フィルム試料を温度２５℃、６０ＲＨ％の条件で２時間調湿した。各試料の低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
◎：１００升において剥がれが全く認められなかった。
○：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
△：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
×：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。

［膜厚の算出方法］
硬化後の反射防止フィルム試料を厚み方向に垂直に切削し、断面を透過型電子顕微鏡で観察して、断面画像を幅方向５μｍに渡り観察し、（Ｂ）成分である無機微粒子が本発明の塗布組成物から形成される塗膜全層の平均密度の１．５倍以上の濃度で存在している領域を算出した。また、前記（Ｃ）成分由来の成分を主成分とする高屈折率層の膜厚は断面ＴＥＭにより求められた全体の膜厚から前記低屈折率層の膜厚を差し引いた値として算出した。ただし、低屈折率層がない場合は硬化膜の膜厚を高屈折率層の膜厚として表記している。
低屈折率層と高屈折率層の屈折率は光学フィッティング（最小二乗法）により算出した。

［混合自由エネルギーの算出方法］
（Ａ）成分と（Ｃ）成分の混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）は、混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ、ΔＨ；エンタルピー、ΔＳ＝エントロピー、Ｔ；絶対温度）をフローリー・ハギンスの格子理論で求めた。（Ａ）成分と（Ｃ）成分の重合度、体積分率（φ：文献では組成分率とも呼ばれる）、及び（Ａ）成分と（Ｃ）成分の相互作用パラメーター（χ）を使用し、算出した。

以上の結果を表７に示す。

上記の表７から分かるように、試料１０１〜１０６では、１回の塗布で微粒子含有層が上部に偏在し組成の異なる２層が同時に形成できているため、生産効率が高く、逐次塗布試料１２８と比較すると、粒子の偏在性が同等で、積分反射率３．０％以下及び耐擦傷性○△以上であり、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。また、試料１０１〜１０６では、（Ａ）成分にイソシアネート基含有化合物を使用しているため、試料１０７と比較すると、粒子の偏在性が○以上で、積分反射率３．０％以下及び耐擦傷性○△以上であり、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。
また、試料１０１〜１０６では本発明の（Ａ）成分に含フッ素炭化水素及びポリシロキサン構造から選ばれる化合物を用いることで、（Ａ）成分の表面エネルギーが低くでき、粒子の偏在性が○以上で、積分反射率３．０％以下及び耐擦傷性○△以上であり、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。（試料１０８との比較、試料１０８は屈折率界面がなく、均一層になっており、反射率が実質低下していない）。
試料１０９〜１１１、１１３〜１１５で中空シリカ粒子とイソシアネート基含有化合物（Ａ）を導入することで、低屈折率材料である中空シリカの偏在性を○以上にできたため、積分反射率１．７％以下及び耐擦傷性○△以上、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。（試料１０１、１０２、１０４、１１２との比較）。
試料１１６〜１１８、１２０〜１２１では、本発明の（Ｅ）成分を併用することで、偏在性を◎、積分反射率１．７％以下及び耐擦傷性○、更に密着性は◎の優れた結果が得られ、更に面状の改良効果も認められた（試料１１２との比較）。
試料１２２〜１２４の本発明の（Ａ）成分との混合自由エネルギーがゼロ以上の本発明の（Ｃ）成分は、化合物Ａとのバインダーの分離性が良化し、偏在性を○以上、反射率積分反射率１．７％以下及び耐擦傷性○△以上、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。
試料１２５〜１２７のＭＥＫ、ＰＧＭＥ、シクロヘキサノンの溶剤を併用すると、（Ａ）成分とのＳＰ値の差が（４．５程度）の貧溶媒が相分離性を良化させ（ＰＧＭＥ）、相分離してから無機微粒子の移動が終了するまでの時間を沸点が１００℃より高い溶剤で稼ぎ（シクロヘキサノン）、（Ａ）成分とともに無機微粒子（Ｂ）が相分離する濃度までは面状欠陥故障等を減少させるために沸点が１００℃以下の溶剤で速乾させる（ＭＥＫ）ことができるので、偏在性を○以上、反射率積分反射率１．７％以下及び耐擦傷性○△以上、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた。

＜実施例２＞
各成分を表８のように混合し、下記表に記載の溶剤で希釈し固形分１３質量％の低屈折層用塗布液を作製した。下記表８における各成分の添加量は、「質量部」を表す。

上記で使用した化合物を以下に示す。
・Ｕ−４ＨＡ：ウレタンアクリレート（ＮＫ オリゴ Ｕ−４ＨＡ 新中村化学工業（株））

［積層体の形成］
前述の基材ＴＡＣ−１の下塗り層の上に、前記表の塗布組成物Ｃｏｍｐ−２０１をダイコーターで、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．１％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が１．６μｍになるように積層体２０１を形成した。前記表のその他の塗布組成物（Ｃｏｍｐ−２０２〜Ｃｏｍｐ−２０５）についても同様にして積層体２０２〜２０５を作成した。この際に、反射率の測定で反射率の極小波長が５２０〜５６０の範囲になるように塗設量を１０％刻みでプラスマイナス４０％の範囲で調節した。
また、比較用の積層体として、基材ＴＡＣ−１の上にハードコート層用塗布液（ＨＣ−２０１）を、硬化後の膜厚が１．５μｍになるようにハードコート層を形成した。その上に低屈折率層用塗布液Ｌｎ−２０１をダイコーターで、硬化後の膜厚が９５ｎｍになるように比較用積層体２０６を形成した。硬化条件等は実施例１の試料１２８に準じて作製した。
得られた反射防止フィルムを実施例１に準じた評価を行った結果を下記表９に示す。

上記の表９から分かるように、試料２０１〜２０４では、本発明の（Ａ）成分にシリコーン化合物を用いても、試料番号１０４同様に、偏在性を○以上、反射率積分反射率１．７％以下及び耐擦傷性○△以上、更に密着性は○以上の優れた結果が得られた（試料２０５との比較）。

＜実施例３＞
各成分を表１０のように混合し、表１０に記載の溶剤で希釈し固形分２５質量％の低屈折層用塗布液を作製した。表１０における各成分の添加量は、「質量部」を表す。

［積層体の形成］
前述の基材ＴＡＣ−１の下塗り層の上に、表５の塗布組成物Ｃｏｍｐ−３０１をダイコーターで、塗布・溶剤乾燥、紫外線照射により塗布層を硬化させ、硬化後の膜厚が３．１μｍになるように積層体３０１を形成した。表５のその他の塗布組成物（Ｃｏｍｐ−３０２〜Ｃｏｍｐ−３０３）も同様にして積層体３０２〜３０３を作成した。この際に、反射率の測定で反射率の極小波長が５２０〜５６０の範囲になるように塗設量を１０％刻みでプラスマイナス４０％の範囲で調節した。

このようにして得られた反射防止積層体は、以下の鹸化処理の前後で実施例１に準じた評価を行った。

［鹸化処理］
反射防止フィルム試料をラミネートフィルムなどで保護することなく、以下の鹸化処理を行った。
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．００５モル／Ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを、上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬して水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬して希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で３分乾燥させた。このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。

このようにして得られた反射防止フィルム試料に対して、実施例１に準じた評価を行った結果を下記表１１に示す。

上記の表１１から分かるように、本発明の試料３０１及び３０２は、鹸化処理前後で耐擦傷性の変化が認められないが、比較例の含フッ素脂肪族基を有するシランカップリング剤で処理した無機微粒子を用いた試料３０３は鹸化処理により耐殺傷性が悪化していることが分かる。本発明の構成は無機微粒子の表面との結合性に優れるため、このような結果になっているものと推定している。

これらの実施例及び比較例の結果から、本発明の塗布組成物は無機微粒子を上部に偏在させることができるため、無機粒子含有層と無機粒子を含まない層とを１回の塗布工程で形成することができ、生産性が高いことが分かる。また、得られた積層体は低反射で、耐擦傷性、密着性に優れ、更にケン化後の耐擦傷性に優れた反射防止フィルムである。

Claims (18)

1. 下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
   （Ａ）下記一般式（１）で表される含フッ素ポリマー又は下記一般式（２０）で表されるポリシロキサン化合物
   （Ｂ）無機微粒子
   （Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
   （Ｄ）溶剤
   但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である。
   一般式（１）：
   （ＭＦ１）ａ−（ＭＦ２）ｂ−（ＭＦ３）ｃ−（ＭＡ）ｄ−（ＭＢ）ｅ−（ＭＣ）ｆ
   一般式（１）中、ａ〜ｆは、それぞれ各構成単位のモル分率を表し、０≦ａ≦７０、０≦ｂ≦７０、３０≦ａ＋ｂ≦７０、０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦５０、０≦ｅ≦５０、０．１≦ｆ≦５０の関係を満たす値を表す。
   （ＭＦ１）：ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒｆ_１で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基を表す。
   （ＭＦ２）：ＣＦ_２＝ＣＦ−ＯＲｆ_１２で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１２は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
   （ＭＦ３）：ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＲｆ_１３で表される単量体から重合される構成単位を示す。Ｒｆ_１３は炭素数１〜３０の含フッ素アルキル基を表す。
   （ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
   （ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
   （ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
   一般式（２０）：
   （ポリシロキサン単位）α−（ＭＡ）β−（ＭＢ）γ−（ＭＣ）δ
   一般式（２０）中、α〜δは、それぞれ各構成単位の質量比率を表し、２≦α≦９９、０≦β≦７０、０≦γ≦７０、０．１≦δ≦３０の関係を満たす。
   （ポリシロキサン単位）：ポリシロキサン構造を含有する構成単位を表す。
   （ＭＡ）：架橋性基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
   （ＭＢ）：任意の構成単位を表す。
   （ＭＣ）：イソシアネート基を少なくとも１つ以上有する構成単位を表す。
2. 前記一般式（１）中の（ＭＢ）が、主鎖又は側鎖に下記一般式（２）で表されるポリシロキサン繰り返し単位を含む、請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
   一般式（２）
   

   

   
   一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表し、ｐは２〜５００の整数を表す。
3. 前記（Ａ）成分が、分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方を含有する、請求項１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
4. 下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。
   （Ａ）分子内に含フッ素炭化水素単位及びポリシロキサン単位の両方と、少なくとも１つのイソシアネート基とを有する化合物
   （Ｂ）無機微粒子
   （Ｃ）分子内にフッ素原子を含有しない硬化性バインダー
   （Ｄ）溶剤
   但し、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／
   ４０である。
5. 前記（Ａ）成分が、分子内に重合性の官能基を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
6. 前記（Ｂ）成分が、平均粒径１〜１５０ｎｍ、かつ屈折率１．４６以下の金属酸化物微粒子である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
7. 前記（Ｂ）成分がオルガノシラン化合物、その部分加水分解物、及びその縮合物から選ばれる少なくとも一種で表面処理された無機微粒子である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
8. 前記（Ｂ）成分が、無機微粒子の表面が少なくともケイ素を構成成分とする金属酸化物粒子である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
9. 前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーとして、分子内に少なくとも複数の不飽和二重結合を有する化合物を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
10. 前記塗布組成物中に更に（Ｅ）成分として分子内にフッ素原子を含有する硬化性化合物を含有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
11. 前記（Ａ）成分と前記（Ｅ）成分が共に含フッ素共重合体であり、それぞれの共重合体を形成する構成単位の少なくとも２種が共通している、請求項１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
12. 前記（Ｃ）成分の硬化性バインダーと前記（Ａ）成分の化合物との混合自由エネルギー（ΔＧ＝ΔＨ−Ｔ・ΔＳ）がゼロより大きい、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
13. 前記塗布組成物中、［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｅ）成分］／［（Ｃ）成分］の質量比率が１／１９９〜６０／４０である請求項１０又は１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
14. 前記（Ｄ）成分が以下の少なくとも２種の混合溶剤である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
    （Ｄ−１）：（Ａ）成分と（Ｃ）成分のいずれか一方との相溶性パラメーターの差が１〜１０である揮発性溶剤
    （Ｄ−２）：沸点が１００℃以下の揮発性溶剤
15. 前記溶剤が更に（Ｄ−３）成分として、沸点が１００℃を超える揮発性溶剤を含有する請求項１４に記載の反射防止フィルムの製造方法。
16. 請求項１〜１５のいずれか１項に記載の製造方法により得られた反射防止フィルム。
17. 請求項１６に記載の反射防止フィルムであって、
    請求項１又は４に記載の塗布組成物から形成される硬化層の膜厚が０．１〜２０μｍであり、硬化層中には、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層を有し、
    該低屈折率層の膜厚が４０〜３００ｎｍである、反射防止フィルム。
18. 請求項１７に記載の反射防止フィルムであって、（Ｂ）成分が空気界面側に偏在した低屈折率層の屈折率が１．１５〜１．４８である、反射防止フィルム。