CN102950846A - 硬涂薄膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)，且具有加工适应性，并且透射清晰度优异，适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JIS K 7374：2007测定，以针对5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。

Description

硬涂薄膜
技术领域
本发明涉及硬涂薄膜，更具体涉及铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件的硬涂薄膜。
背景技术
硬涂薄膜主要用于显示器表面，但是近年越来越广泛用于触摸面板等移动设备。触摸面板用的显示器要求与一般的显示器不同的要求性能。特别是，由于时常携带并且接触于硬涂表面而操作，因此强烈期望提高表面硬度。提高表面硬度的技术正在比以前更多地被研究。例如在专利文献1、2的技术中，在硬涂层的底层设置缓冲层或低硬度的硬涂层而实现高的铅笔硬度。但是，由于该技术中为多层结构，因此干涉条纹等外观缺点的产生、制造成本的提高令人担忧。另外，虽然仅通过使硬涂层变厚也可获得高的铅笔硬度，但是在此情况下产生弯曲性降低、裁剪加工适应性和/或冲压加工适应性降低的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平11-300873号公报
专利文献2：日本特开2007-219013号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明在这样的状况下被开发，其目的在于提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。
用于解决问题的方案
本发明人等为了实现前述目的而反复进行了深入研究，结果获得了下述的见解。硬涂薄膜的铅笔硬度依照JIS K5600-5-4根据铅笔刮擦硬度试验机而测定。在此情况下，在玻璃等的硬质材料面上，将硬涂薄膜按照其基材侧相接的方式载置，一边对铅笔刮擦部件施加规定的载荷，一边使该部件成为倾斜45度，以1mm/秒左右的速度进行刮擦硬涂层面的操作。
此时有下述发现，硬质材料面与硬涂薄膜的基材面密接并且该薄膜没有挠曲时，前述刮擦部件的载荷施加于硬涂层两面上，铅笔硬度降低，另一方面，硬涂薄膜不密接于硬质材料面而具有挠曲时，则铅笔硬度提高。
本发明人等基于前述见解而进一步推进了研究，结果有下述发现，在透明基材薄膜的一个面上，使特定的组成的硬涂层形成材料固化，形成表面的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下的具有规定的厚度的硬涂层，并且将透明基材薄膜的该硬涂层侧的相反侧的表面的算术平均粗糙度Ra设定为特定的范围，从而可获得具有高的透射像清晰度、且铅笔硬度为3H以上的硬涂薄膜。
本发明基于这些见解而完成。
即，本发明提供如下发明：
[1]一种硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JIS K 7374：2007测定，以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示；
[2]根据上述[1]项所述的硬涂薄膜，其中，3～6官能单体为(甲基)丙烯酸酯类单体；
[3]根据上述[1]或[2]项所述的硬涂薄膜，其中，依照JIS K7136测定的雾度值为2％以下；
[4]根据上述[1]～[3]项中任一项所述的硬涂薄膜，其用作触摸面板用部件；以及
[5]根据上述[4]项所述的硬涂薄膜，其中，触摸面板为电阻膜式触摸面板。
发明的效果
根据本发明可提供一种硬涂薄膜，其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。
具体实施方式
本发明的硬涂薄膜的特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，前述硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，透射像清晰度为450以上，其依照JIS K 7374：2007测定，以针对5种狭缝(狭缝宽度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)的基于透射法的像清晰度的合计值表示。
[透明基材薄膜]
本发明的硬涂薄膜中使用的透明基材薄膜没有特别限制，可从以往作为光学用硬涂薄膜的基材而公知的塑料薄膜之中适当选择而使用。作为这样的塑料薄膜，例如可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯薄膜，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、赛璐玢、二乙酰纤维素薄膜、三乙酰纤维素薄膜、醋酸丁酸纤维素薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、氟树脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸类树脂薄膜、降冰片烯类树脂薄膜、环烯烃树脂薄膜等塑料薄膜。
这些塑料薄膜可以着色，也可没有着色，根据用途来适当选择即可。例如用作液晶显示体的保护用途的情况下，优选无色透明的薄膜。
这些塑料薄膜的厚度没有特别限制，可根据情况适当选定，通常为15～300μm的范围，优选为30～200μm的范围。另外，关于该塑料薄膜，出于提高其与设置于其表面的层的密接性的目的，可根据希望通过氧化法、凹凸化法等对一面或两面实施表面处理。作为上述氧化法，例如列举出电晕放电处理、等离子体处理、铬酸处理(湿式)、热风处理、臭氧·紫外线照射处理等，另外，作为凹凸化法，例如列举出喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理法可根据塑料薄膜的种类来适当选择，一般从效果以及操作性等的方面考虑优选使用电晕放电处理法。另外，也可在硬涂层形成面上设置底漆层。
[硬涂层形成材料]
本发明的硬涂薄膜中，在前述的透明基材薄膜的一个面上设置有使硬涂层形成材料固化而成的硬涂层。
该硬涂层形成材料包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒作为必需成分。
(3～6官能单体)
在本发明中，3～6官能单体是指在分子内具有3～6个烯属不饱和基团，通过照射活性能量射线而交联、固化的单体化合物，优选使用(甲基)丙烯酸酯类单体。
又，活性能量射线是指电磁波或带电粒子线之中具有能量量子(energy quantum)的射线，即，是指紫外线或电子射线等。
另外，(甲基)丙烯酸酯类单体是指丙烯酸酯类单体以及甲基丙烯酸酯类单体这两者。以下，类似用语也同样。
作为3～6官能(甲基)丙烯酸酯类单体，例如列举出三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(3-丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(3-甲基丙烯酰氧基丙基)异氰脲酸酯等三[(甲基)丙烯酰氧基烷基]异氰脲酸酯，以及三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯。它们可单独使用1种，也可组合使用两种以上。它们之中优选3～4官能(甲基)丙烯酸酯类单体。
(有机修饰硅石颗粒)
该硬涂层形成材料中，用作必需成分的有机修饰硅石颗粒是指用具有聚合性不饱和基团的有机化合物进行了表面修饰的硅石颗粒。
上述用具有聚合性不饱和基团的有机化合物进行了表面修饰的硅石颗粒例如可通过如下来获得，即，使平均粒径通常为0.5～500nm左右、优选为平均粒径1～100nm的硅石颗粒表面的硅烷醇基与含聚合性不饱和基团的有机化合物进行反应而获得，该含聚合性不饱和基团的有机化合物具有作为可与该硅烷醇基反应的官能团的(甲基)丙烯酰基。
作为前述具有可与硅烷醇基反应的官能团的含聚合性不饱和基团的有机化合物，例如优选使用由通式(1)表示的化合物等，
式中，R1为氢原子或甲基，R2为卤素原子或以下所示的基团，
-OCH2CH2OH、-OH、-O(CH2)3-Si(OCH3)3。
作为这样的化合物，例如可使用丙烯酸、丙烯酰氯、丙烯酸-2-异氰酸酯基乙酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2，3-亚氨基丙酯、丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等以及对应这些丙烯酸衍生物的甲基丙烯酸衍生物。这些丙烯酸衍生物、甲基丙烯酸衍生物可单独使用，也可组合使用两种以上。
作为包含这样的在硅石颗粒上结合具有聚合性不饱和基团的有机化合物而成的化合物的活性能量射线感应型组合物，例如上市有JSR Corporation制的商品名“Opstar Z7530”、“OpstarZ7524”、“Opstar TU4086”等。
在本发明中，用该具有聚合性不饱和基团的有机化合物进行了表面修饰的硅石颗粒，作为无机成分需要以35～65质量％的比例在该硬涂层形成材料的固形物中含有，优选以38～62质量％的比例含有。如果前述有机修饰硅石颗粒的含量处于上述范围，那么可将硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra保持在0.008μm以下，并且有助于该硬涂层的铅笔硬度增大。
又，用该具有聚合性不饱和基团的有机化合物进行了表面修饰的硅石颗粒的一次平均粒径可通过库尔特粒度仪法(Coultercounter method)测定。该有机修饰硅石颗粒通过照射活性能量射线，与前述的3～6官能单体一同交联、固化。
((甲基)丙烯酸酯类预聚物)
该硬涂层形成材料中，在不损害本发明的效果的范围，可与前述的3～6官能单体以及有机修饰硅石颗粒一同含有(甲基)丙烯酸酯类预聚物。
作为该(甲基)丙烯酸酯类预聚物，例如列举出聚酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等。此处，作为聚酯丙烯酸酯类预聚物，例如可通过用(甲基)丙烯酸将由多元羧酸与多元醇的缩合而获得的在两末端具有羟基的聚酯低聚物的羟基进行酯化从而获得，或者，可通过用(甲基)丙烯酸将在多元羧酸中加成环氧烷烃而获得的低聚物的末端的羟基进行酯化从而获得。
环氧丙烯酸酯类预聚物例如可通过使(甲基)丙烯酸与较低分子量的双酚型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂的环氧乙烷进行反应而酯化从而获得。聚氨酯丙烯酸酯类预聚物例如可通过用(甲基)丙烯酸对聚氨酯低聚物进行酯化而获得，该聚氨酯低聚物由聚醚多元醇、聚酯多元醇与多异氰酸酯的反应获得。进一步，多元醇丙烯酸酯类预聚物可通过用(甲基)丙烯酸对聚醚多元醇的羟基进行酯化而获得。这些预聚物可使用1种，也可组合使用两种以上。
(光聚合引发剂)
该硬涂层形成材料中，可根据希望含有光聚合引发剂。作为该光聚合引发剂，例如列举出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2(羟基-2-丙基)酮、二苯甲酮、对苯基二苯甲酮、4，4’-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、苯偶酰二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲基氨基苯甲酸酯等。
它们可使用1种，也可组合使用两种以上，另外，其含量相对于全活性能量射线固化型化合物的固形物100质量份通常在0.2～10质量份的范围选择。
(硬涂层形成材料的制备)
该硬涂层形成材料可通过如下制备：根据需要，向适当的溶剂中分别以规定比例加入前述的3～6官能单体、有机修饰硅石颗粒、以及根据希望而使用的(甲基)丙烯酸酯类预聚物、光聚合引发剂、以及各种添加成分例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、抗静电剂、光稳定剂、流平剂、消泡剂等，进行溶解或分散，从而制备。
作为此时使用的溶剂，例如列举出己烷、庚烷等脂肪族烃，甲苯、二甲苯等芳香族烃，二氯甲烷、二氯乙烷等卤代烃，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、异佛尔酮、环己酮等酮，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯，乙基溶纤剂等溶纤剂类溶剂，丙二醇单甲醚等醚类溶剂等。
通过这样操作而制备出的硬涂层形成材料的浓度、粘度只要是可涂布的浓度、粘度即可，没有特别限制，可根据情况适当选定。
[硬涂层的形成]
在前述的透明基材薄膜的一个面上，使用历来公知的方法例如刮棒涂布法、刮刀涂布法、辊涂法、刮板涂布法、模涂法、凹版涂布法等将前述硬涂层形成材料涂布而形成涂膜，进行干燥，然后对其照射活性能量射线使该涂膜固化，从而形成硬涂层。
作为活性能量射线，例如列举出紫外线、电子射线等。上述紫外线由高压水银灯、无电极灯、金属卤化物灯、氙气灯等获得，照射量通常为100～500mJ/cm2，另一方面电子射线通过电子射线加速器等而获得，照射量通常为150～350kV。在该活性能量射线之中，特别优选紫外线。又，使用电子射线的情况下，可无需添加光聚合引发剂，获得固化膜。
[硬涂层的性状]
通过这样操作而形成的硬涂层的厚度需要处于7～14μm的范围。该厚度不足7μm时，无法获得充分的铅笔硬度，另一方面超过14μm时，则产生弯曲性降低、裁剪加工适应性和/或冲压加工适应性降低的问题。更优选的厚度为8～13μm。
另外，硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra需要为0.008μm以下。该Ra超过0.008μm时，则无法使后述的透射像清晰度为450以上，清晰感受损害。
[硬涂薄膜的性状]
在透明基材薄膜的一个面上具有如前述那样操作而形成的硬涂层的本发明的硬涂薄膜具有以下所示的性状。前述基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra需要处于0.01～0.05μm的范围。该Ra不足0.01μm时，铅笔刮擦试验中，无法缓和作用于硬涂层表面的力，铅笔硬度降低，另一方面超过0.05μm时，则后述的透射像清晰度不足450，无法获得清晰感。又，该Ra的调整也可通过在透明基材薄膜直接设置凹凸而进行，或者也可与前述的硬涂层的形成同样地操作、形成表面的Ra处于前述范围的那样的涂膜层(硬涂层)而进行。
进一步，依照JIS K 7374：2007测定的、针对5种狭缝(狭缝宽度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)的基于透射法而得到的像清晰度的合计值所表示的透射像清晰度需要为450以上。此透射鲜像明度不足450时，无法获得充分的清晰感，用于各种显示器装置、触摸面板等电子设备的情况下，可视性变得不充分。
另外，从前述可视性的观点考虑，依照JIS K 7136测定的雾度值优选为2％以下。
本发明的硬涂薄膜中，依照JIS K 5600-5-4，利用铅笔刮擦硬度试验机，以刮擦速度1mm/秒测定的硬涂层的铅笔硬度可为3H以上。
[硬涂薄膜的用途]
具有前述的性状的本发明的硬涂薄膜用作各种显示器装置、触摸面板等电子设备用部件，但是特别适于用作触摸面板用部件。
作为触摸面板，有电阻膜式、电容式、电磁感应式、红外线式等，都可适用本发明的硬涂薄膜，但是它们之中特别优选将本发明的硬涂薄膜适用于电阻膜式触摸面板。
实施例
下面，通过实施例进一步详细说明本发明，但本发明不受这些例子的任何限定。
又，各例中的诸特性按照下述的方法而求出。
(1)表面的算术平均粗糙度Ra
按照JIS B 0601-1994使用接触式表面粗糙度计[MitutoyoCorporation制，“SV3000S4”]测定。
(2)膜厚
按照JIS K 7130，利用厚度计[Nikon Corporation制，MH-15”]进行了测定。
(3)全光线透射率
按照JIS K 7361-1(1997)，使用雾度计[日本电色公司制，“NDH-2000”]测定。
(4)雾度值
按照JIS K 7136(2000)，使用雾度计[日本电色公司制，“NDH-2000”]测定。
(5)铅笔硬度
按照JIS K 5600-5-4，使用铅笔刮擦硬度试验机[安田精机制作所公司制，“No.553-M”]测定。刮擦速度为1mm/秒。
(6)耐擦伤性
使用钢丝绒#0000，以200g/cm2(1.96N/cm2)载荷而擦50mm、往复5次，其后通过目视确认出损伤的有无。○：没有损伤，×：有损伤。
(7)透射像清晰度
依照JIS K 7374：2007测定的、针对5种狭缝(狭缝宽度：0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)的基于透射法的像清晰度的合计值通过使用图像清晰度试验机[Suga Test InstrumentsCo.，Ltd.制，“ICM-1T”]而算出，并作为透射像清晰度。合计值为450以上的情况下，清晰感充分、为合格。
(8)裁剪加工适应性
使用连续自动切断机[获野精机制作所公司制，制品名“PN1-600”]将硬涂薄膜直线状裁剪，确认出硬涂层有无破裂。○：没有破裂，×：有破裂。
制备例1硬涂涂布液1的制备
用丙二醇单甲醚将有机修饰硅石颗粒与多官能丙烯酸酯的混合物[JSR Corporation制，“Opstar Z7530”、浓度73质量％、无机成分60％、加入光聚合引发剂]100质量份、流平剂[BYK-ChemieJapan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.1质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液1(固形物中的无机成分60.0质量％)。
制备例2硬涂涂布液2的制备
用丙二醇单甲醚将有机修饰硅石颗粒与多官能丙烯酸酯的混合物[JSR Corporation制，“Opstar Z7530”、浓度73质量％、无机成分60％、加入光聚合引发剂]100质量份、多官能丙烯酸酯(季戊四醇三丙烯酸酯、浓度100％)34质量份、光聚合引发剂(1-羟基环己基苯基酮)1.8质量份、流平剂[BYK-Chemie Japan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.1质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液2(固形物中的无机成分40.9质量％)。
制备例3硬涂涂布液3的制备
用丙二醇单甲醚将有机修饰硅石颗粒与多官能丙烯酸酯的混合物[JSR Corporation制，“Opstar Z7530”、浓度73质量％、无机成分60％、加入光聚合引发剂]100质量份、多官能丙烯酸酯(季戊四醇三丙烯酸酯、浓度100％)111质量份、光聚合引发剂(1-羟基环己基苯基酮)5.8质量份、流平剂[BYK-Chemie Japan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.2质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液3(固形物中的无机成分23.8质量％)。
制备例4硬涂涂布液4的制备
用丙二醇单甲醚将多官能丙烯酸酯与聚氨酯丙烯酸酯的混合物[荒川化学工业公司制，“Beamset 575CB”、浓度100％、无机成分0％、加入光聚合引发剂]100质量份、流平剂[BYK-ChemieJapan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.1质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液4(固形物中的无机成分0％)。
制备例5硬涂涂布液5的制备
用丙二醇单甲醚将有机修饰硅石颗粒与多官能丙烯酸酯的混合物[JSR Corporation制，“Opstar Z7530”、浓度73质量％、无机成分60％、加入光聚合引发剂]100质量份、硅石珠[MomentivePerformance Materials Inc.制，制品名“Tospearl145”、平均粒径4.5μm、浓度100％]0.15质量份、流平剂[BYK-Chemie Japan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.1质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液5(固形物中的无机成分60.2质量％)。
制备例6硬涂涂布液6的制备
用丙二醇单甲醚将聚氨酯丙烯酸酯与多官能丙烯酸酯的混合物[荒川化学工业公司制，“Beamset 575CB”、浓度100％、加入光聚合引发剂]100质量份、分散有硅石颗粒的紫外线固化型树脂[大日精化工业公司制，制品名“Seikabeam EXF-01L(BS)”、硅石颗粒含量10质量％、平均粒径4.7μm、浓度100％、加入光聚合引发剂]2质量份、流平剂[BYK-Chemie Japan K.K.制，“BYK-300”、浓度52质量％]0.1质量份的混合物稀释，制备了浓度40质量％的硬涂涂布液6(固形物中的无机成分0.2质量％)。
实施例1
在带有两面易粘接层的PET薄膜[Mitsubishi Plastics，Inc.制，“PET188O321”、膜厚1188μm]上，使用迈耶棒(mayer bar)#16按照干燥后的膜厚为8μm的方式涂布硬涂涂布液1，在80℃干燥1分钟，然后照射紫外线(光量：200mJ/cm2)，固化而形成硬涂层，获得了实施例1的硬涂薄膜。
实施例2
在实施例1中，使用了硬涂涂布液2，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了实施例2的硬涂薄膜。
实施例3
使用迈尔棒#24按照干燥后的膜厚为13μm的方式涂布，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了实施例3的硬涂薄膜。
实施例4
使用了带有两面易粘接层的PET薄膜[Mitsubishi Plastics，Inc.制，“PET125O321”、膜厚1125μm]，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了实施例4的硬涂薄膜。
实施例5
在实施例1中，在硬涂薄膜1的硬涂层侧的相反侧的面上，使用迈耶棒#8按照干燥后的膜厚为3.5μm的方式涂布硬涂涂布液5，在80℃干燥1分钟，然后照射紫外线(光量：200mJ/cm2)，固化而形成硬涂层，获得了实施例5的硬涂薄膜。
比较例1
使用了硬涂涂布液3，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了比较例1的硬涂薄膜。
比较例2
使用了带有两面易粘接层的PET薄膜[东洋纺织公司制，“PET188A4300”、膜厚188μm]，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了比较例2的硬涂薄膜。
比较例3
在实施例1中，在硬涂薄膜1的硬涂层侧的相反侧的面上，使用迈耶棒#10按照干燥后的膜厚为5.0μm的方式涂布硬涂涂布液6，在80℃干燥1分钟，然后照射紫外线(光量：200mJ/cm2)，固化而形成硬涂层，获得了比较例3的硬涂薄膜。
比较例4
使用了硬涂涂布液4，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了比较例4的硬涂薄膜。
比较例5
使用硬涂涂布液4，使用迈耶棒#24按照干燥后的膜厚为13μm的方式涂布，除此以外，与实施例1同样地操作，获得了比较例5的硬涂薄膜。
对由前述的实施例1～5和比较例1～5获得的各硬涂薄膜的诸特性进行了评价。将其结果与硬涂薄膜制作条件一同示于表1。
表1
Figure BSA00000763408300161
从表1可知，本发明的硬涂薄膜(实施例1～5)的全光线透射率都超过90％、且雾度值不足2％，并且铅笔硬度为3H以上，耐擦伤性合格，透射像清晰度也超过450、为合格。进一步裁剪加工适应性也良好。
与此相对，比较例1～5的硬涂薄膜的铅笔硬度及/或透射像清晰度比实施例的铅笔硬度及/或透射像清晰度差。并且比较例5没有裁剪加工适应性。
产业上的可利用性
本发明的硬涂薄膜的铅笔硬度高(3H以上)、且具有加工适应性、并且透射像清晰度优异、适于用作各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件，特别适于用作电阻膜式触摸面板的部件。

Claims (7)

1.一种硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7～14μm的硬涂层，该硬涂层通过使包含3～6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成，该硬涂层形成材料中，在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35～65质量％，其中，(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度为450以上，其依照JISK 7374：2007测定，以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。
2.根据权利要求1所述的硬涂薄膜，其中，3～6官能单体为(甲基)丙烯酸酯类单体。
3.根据权利要求1或2所述的硬涂薄膜，其中，依照JIS K7136测定的雾度值为2％以下。
4.根据权利要求1或2所述的硬涂薄膜，其用作触摸面板用部件。
5.根据权利要求3所述的硬涂薄膜，其用作触摸面板用部件。
6.根据权利要求4所述的硬涂薄膜，其中，触摸面板为电阻膜式触摸面板。
7.根据权利要求5所述的硬涂薄膜，其中，触摸面板为电阻膜式触摸面板。
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