JP2013037323A - ハードコートフィルム - Google Patents

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Abstract

【課題】層構成が簡単で鉛筆硬度が高く(3H以上)、かつ加工適性を有すると共に、透過鮮明度に優れ、各種のディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器の部材として好適なハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】透明基材フィルムの一方の面に、3〜6官能モノマーと、固形分中に有機修飾シリカ微粒子を無機成分として35〜65質量%の割合で含むハードコート層形成材料を硬化させてなる、厚さ7〜14μmのハードコート層を有するハードコートフィルムであって、(1)前記ハードコート層表面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.008μm以下であること、(2)前記透明基材フィルムのハードコート層とは反対側の面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.01〜0.05μmであること、(3)JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の合計値で表される透過鮮明度が450以上であること、を特徴とするハードコートフィルムである。
【選択図】なし

Description

本発明はハードコートフィルムに関し、さらに詳しくは、鉛筆硬度が高く(3H以上)、かつ加工適性を有すると共に、透過鮮明度に優れ、各種のディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器の部材として好適なハードコートフィルムに関するものである。
ハードコートフィルムは、主にディスプレイ表面に用いられてきたが、近年ではタッチパネルなどのモバイル機器に広く用いられるようになっている。タッチパネル用のディスプレイは、一般のディスプレイとは異なる要求性能が求められる。特に、常時携帯し、ハードコート表面に触れて操作するため、表面硬度向上が強く要望される。表面硬度を向上する技術は以前より多く検討されている。例えば特許文献1、2の手法では、ハードコート層の下地に緩衝層又は低硬度のハードコート層を設けることで高い鉛筆硬度を実現している。しかしながら、この手法では多層構造になるため、干渉縞など外観欠点の発生や製造コスト向上が懸念される。また、単にハードコート層を厚くすることで高い鉛筆硬度を得ることも可能だが、この場合屈曲性の低下や、裁断加工適性や打ち抜き加工適性が低下する問題が生じる。
特開平11−300873号公報 特開2007−219013号公報
本発明は、このような状況下になされたもので、層構成が簡単で鉛筆硬度が高く(3H以上)、かつ加工適性を有すると共に、透過鮮明度に優れ、各種のディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器の部材として好適なハードコートフィルムを提供することを目的とするものである。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の知見を得た。
ハードコートフィルムの鉛筆硬度は、JIS K 5600−5−4に準拠して、鉛筆引っかき硬度試験機により測定される。この場合、ガラスなどの硬質材料面に、ハードコートフィルムを、その基材側が接するように載置し、鉛筆引っかき部材に所定の荷重をかけながら、該部材を斜め45度にして、1mm/秒程度の速度でハードコート層面を引っかく操作を行う。
この際、硬質材料面とハードコートフィルムの基材面とが密着し、該フィルムにたわみがないと、前記引っかき部材の荷重がハードコート層面にもろにかかり、鉛筆硬度が低下し、一方、ハードコートフィルムが硬質材料面に密着せずにたわみがあると、鉛筆硬度が上昇することを見出した。
本発明者らは、前記知見に基づいてさらに研究を進めた結果、透明基材フィルムの一方の面に、特定の組成のハードコート層形成材料を硬化させて、表面の算術平均粗さRaが0.008μm以下の所定の厚さを有するハードコート層を形成すると共に、透明基材フィルムの該ハードコート層とは反対側の表面の算術平均粗さRaを特定の範囲に設定することにより、高い透過鮮明度を有し、かつ鉛筆硬度が3H以上のハードコートフィルムが得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
[1]透明基材フィルムの一方の面に、3〜6官能モノマーと、固形分中に有機修飾シリカ微粒子を無機成分として35〜65質量%の割合で含むハードコート層形成材料を硬化させてなる、厚さ7〜14μmのハードコート層を有するハードコートフィルムであって、
(1)前記ハードコート層表面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.008μm以下であること、
(2)前記透明基材フィルムのハードコート層とは反対側の面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.01〜0.05μmであること、
(3)JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の合計値で表される透過鮮明度が450以上であること、
を特徴とするハードコートフィルム、
[2]3〜6官能モノマーが、(メタ)アクリレート系モノマーである上記[1]項に記載のハードコートフィルム、
[3]JIS K 7136に準拠して測定されるヘイズ値が2%以下である上記[1]又は[2]項に記載のハードコートフィルム、
[4]タッチパネル用部材として用いられる上記[1]〜[3]項のいずれかに記載のハードコートフィルム、及び
[5]タッチパネルが抵抗膜方式である上記[4]項に記載のハードコートフィルム、
を提供するものである。
本発明によれば、層構成が簡単で鉛筆硬度が高く(3H以上)、かつ加工適性を有すると共に、透過鮮明度に優れ、各種のディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器の部材として好適なハードコートフィルムを提供することができる。
本発明のハードコートフィルムは、透明基材フィルムの一方の面に、3〜6官能モノマーと、固形分中に有機修飾シリカ微粒子を無機成分として35〜65質量%の割合で含むハードコート層形成材料を硬化させてなる、厚さ7〜14μmのハードコート層を有するハードコートフィルムであって、ハードコート層表面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.008μm以下であり、前記ハードコート層とは反対側の面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.01〜0.05μmであり、JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の合計値で表される透過鮮明度が450以上であることを特徴とする。
[透明基材フィルム]
本発明のハードコートフィルムにおいて用いられる透明基材フィルムについては特に制限はなく、従来光学用ハードコートフィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等のプラスチックフィルムを挙げることができる。
これらのプラスチックフィルムは、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。例えば液晶表示体の保護用として用いる場合には、無色透明のフィルムが好適である。
これらのプラスチックフィルムの厚さは特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常15〜300μm、好ましくは30〜200μmの範囲である。また、このプラスチックフィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理(湿式)、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法はプラスチックフィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。また、ハードコート層形成面にはプライマー層を設けることもできる。
[ハードコート層形成材料]
本発明のハードコートフィルムにおいては、前述した透明基材フィルムの一方の面に、ハードコート層形成材料を硬化させてなるハードコート層が設けられる。
当該ハードコート層形成材料は、必須成分として3〜6官能モノマーと、有機修飾シリカ微粒子を含む。
(3〜6官能モノマー)
本発明において、3〜6官能モノマーとは、分子内に3〜6個のエチレン性不飽和基を有し、活性エネルギー線の照射により架橋、硬化するモノマー化合物を指し、(メタ)アクリレート系モノマーが好ましく用いられる。
なお、活性エネルギー線とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを指す。
また、(メタ)アクリレート系モノマーとはアクリレート系モノマー及びメタクリレート系モノマーの両方を指す。以下、類似用語も同様である。
3〜6官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えばトリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(3−アクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(3−メタクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレートなどのトリス[(メタ)アクリロイルオキシアルキル]イソシアヌレート、さらにはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリレートが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中で、3〜4官能(メタ)アクリレート系モノマーが好ましい。
(有機修飾シリカ微粒子)
当該ハードコート層形成材料において、必須成分として用いられる有機修飾シリカ微粒子は、重合性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子をいう。
上記重合性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子は、例えば、通常、平均粒径0.5〜500nm程度、好ましくは平均粒径1〜100nmのシリカ微粒子表面のシラノール基に、該シラノール基と反応し得る官能基である(メタ)アクリロイル基を有する重合性不飽和基含有有機化合物を反応させることにより、得ることができる。
前記シラノール基と反応し得る官能基を有する重合性不飽和基含有有機化合物としては、例えば一般式(I)
Figure 2013037323
(式中、R1は水素原子又はメチル基、R2はハロゲン原子又は
Figure 2013037323
で示される基である。)
で表される化合物などが好ましく用いられる。
このような化合物としては、例えばアクリル酸、アクリル酸クロリド、アクリル酸2−イソシアナートエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2,3−イミノプロピル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランなど及びこれらのアクリル酸誘導体に対応するメタクリル酸誘導体を用いることができる。これらのアクリル酸誘導体やメタクリル酸誘導体は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
このようなシリカ微粒子に重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる化合物を含む活性エネルギー線感応型組成物として、例えばJSR(株)製、商品名「オプスターZ7530」、「オプスターZ7524」、「オプスターTU4086」などが上市されている。
本発明においては、この重合性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子は、無機成分として当該ハードコート層形成材料の固形分中に35〜65質量%の割合で含むことを要し、38〜62質量%の割合で含むことが好ましい。前記有機修飾シリカ微粒子の含有量が上記範囲にあれば、ハードコート層表面の算術平均粗さRaを0.008μm以下に保持し得ると共に、該ハードコート層の鉛筆硬度増大に寄与する。
なお、この重合性不飽和基を有する有機化合物で表面修飾されたシリカ微粒子における一次平均粒径は、コールター・カウンター法によって測定することができる。この有機修飾シリカ微粒子は、活性エネルギー線の照射により、前述した3〜6官能モノマーと共に、架橋、硬化する。
((メタ)アクリレート系プレポリマー)
当該ハードコート層形成材料においては、本発明の効果が損なわれない範囲で、前述した3〜6官能モノマー及び有機修飾シリカ微粒子と共に、(メタ)アクリレート系プレポリマーを含有することができる。
この(メタ)アクリレート系プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらのプレポリマーは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(光重合開始剤)
当該ハードコート層形成材料には、所望により光重合開始剤を含有させることができる。この光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミノ安息香酸エステルなどが挙げられる。
これらは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その含有量は、全活性エネルギー線硬化型化合物の固形分100質量部に対して、通常0.2〜10質量部の範囲で選ばれる。
(ハードコート層形成材料の調製)
当該ハードコート層形成材料は、必要に応じ、適当な溶媒中に、前述した3〜6官能モノマーと、有機修飾シリカ微粒子、及び所望により用いられる(メタ)アクリレート系プレポリマーや光重合開始剤、さらには各種添加成分、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶媒としては、例えばヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。
このようにして調製されたハードコート層形成材料の濃度、粘度としては、コーティング可能なものであればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
[ハードコート層の形成]
前述した透明基材フィルムの一方の面に、前記ハードコート層形成材料を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層が形成される。
活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線などが挙げられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどで得られ、照射量は、通常100〜500mJ/cm2であり、一方電子線は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常150〜350kVである。この活性エネルギー線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、光重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
[ハードコート層の性状]
このようにして形成されたハードコート層は、厚さが7〜14μmの範囲にあることを要する。この厚さが7μm未満では、充分な鉛筆硬度が得られず、一方14μmを超えると、屈曲性の低下や、裁断加工適性や打ち抜き加工適性が低下する問題が生じる。より好ましい厚さは8〜13μmである。
また、ハードコート層表面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaは、0.008μm以下であることを要する。このRaが0.008μmを超えると、後述の透過鮮明度を450以上にすることができず、クリア感が損なわれる。
[ハードコートフィルムの性状]
透明基材フィルムの一方の面に、前記のようにして形成されたハードコート層を有する本発明のハードコートフィルムは、以下に示す性状を有する。
前記基材フィルムのハードコート層とは反対側の面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaは、0.01〜0.05μmの範囲にあることを要する。このRaが0.01μm未満では、鉛筆引っかき試験において、ハードコート層表面に作用する力を緩和することができず、鉛筆硬度が低下し、一方0.05μmを超えると、後述の透過鮮明度が450未満となり、クリア感が得られない。なお、該Raの調整は、透明基材フィルムに直接凹凸を設けることにより行ってもよく、あるいは前述したハードコート層の形成と同様にして、表面のRaが前記範囲にあるような塗膜層(ハードコート層)を形成することにより行ってもよい。
さらに、JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の透過率の合計値で表される透過鮮明度が450以上であることを要する。この透過鮮明度が450未満であると、充分なクリア感が得られず、各種ディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器に用いた場合、視認性が不充分となる。
また、前記視認性の観点から、JIS K 7136に準拠して測定されるヘイズ値は、2%以下であることが好ましい。
本発明のハードコートフィルムにおいては、JIS K 5600−5−4に準拠して、鉛筆引っかき硬度試験機により、引っかき速度1mm/秒で測定されるハードコート層の鉛筆硬度を3H以上とすることができる。
[ハードコートフィルムの用途]
前述した性状を有する本発明のハードコートフィルムは、各種ディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器用部材として用いられるが、特にタッチパネル用部材として好適に用いられる。
タッチパネルとしては、抵抗膜方式、静電容量方式、電磁誘導方式、赤外線方式などがあり、いずれも本発明のハードコートフィルムを適用することができるが、これらの中で、抵抗膜方式に、本発明のハードコートフィルムを適用することが特に望ましい。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例における諸特性は下記の方法に従って求めた。
(1)表面の算術平均粗さRa
JIS B 0601−1994に準じて接触式表面粗さ計[ミツトヨ社製、「SV3000S4」]を用いて測定した。
(2)膜厚
JIS K 7130に準じて、厚み計[ニコン社製、「MH−15」]により測定した。
(3)全光線透過率
JIS K 7361−1(1997)に準じて、ヘイズメーター[日本電色社製、「NDH−2000」]を用いて測定した。
(4)ヘイズ値
JIS K 7136(2000)に準じて、ヘイズメーター[日本電色社製、「NDH−2000」]を用いて測定した。
(5)鉛筆硬度
JIS K 5600−5−4に準じて、鉛筆引っかき硬度試験機[安田精機製作所社製、「No.553−M」]を用いて測定した。引っかき速度は、1mm/秒とした。
(6)耐擦傷性
スチールウール#0000を用いて、200g/cm2(1.96N/cm2)荷重で50mm、5往復擦り、その後目視で傷の有無を確認した。○:傷なし、×:傷あり。
(7)透過鮮明度
JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の透過率の合計値を写像性試験機[スガ試験機社製、「ICM−1T」]を用いて算出した。合計値が450以上の場合、クリア感が十分であり合格とした。
(8)裁断加工適性
ハードコートフィルムを連続自動切断機[荻野精機製作所社製、製品名「PN1−600」]を用いて直線状に裁断し、ハードコート層の割れの有無を確認した。○:割れなし、×:割れあり。
調製例1 ハードコート塗工液1の調製
有機修飾シリカ微粒子と多官能アクリレートの混合物[JSR社製、「オプスターZ7530」、濃度73質量%、無機成分60質量%、光重合開始剤入り]100質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.1質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液1(固形分中の無機成分60.0質量%)を調製した。
調製例2 ハードコート塗工液2の調製
有機修飾シリカ微粒子と多官能アクリレートの混合物[JSR社製、「オプスターZ7530」、濃度73質量%、無機成分60質量%、光重合開始剤入り]100質量部、多官能アクリレート(ペンタエリスリトールトリアクリレート、濃度100%)34質量部、光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)1.8質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.1質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液2(固形分中の無機成分40.9質量%)を調製した。
調製例3 ハードコート塗工液3の調製
有機修飾シリカ微粒子と多官能アクリレートの混合物[JSR社製、「オプスターZ7530」、濃度73質量%、無機成分60質量%、光重合開始剤入り]100質量部、多官能アクリレート(ペンタエリスリトールトリアクリレート、濃度100%)111質量部、光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェンルケトン)5.8質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.2質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液3(固形分中の無機成分23.8質量%)を調製した。
調製例4 ハードコート塗工液4の調製
多官能アクリレートとウレタンアクリレートの混合物[荒川化学工業社製、「ビームセット575CB」、濃度100%、無機成分0%、光重合開始剤入り]100質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.1質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液4(固形分中の無機成分0%)を調製した。
調製例5 ハードコート塗工液5の調製
有機修飾シリカ微粒子と多官能アクリレートの混合物[JSR社製、「オプスターZ7530」、濃度73質量%、無機成分60質量%、光重合開始剤入り]100質量部、シリカビーズ[モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、製品名「トスパール145」、平均粒径4.5μm、濃度100%]0.15質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.1質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液5(固形分中の無機成分60.2質量%)を調製した。
調製例6 ハードコート塗工液6の調製
ウレタンアクリレートと多官能アクリレートの混合物[荒川化学工業社製、「ビームセット575CB」、濃度100%、光重合開始剤入り]100質量部、シリカ粒子分散紫外線硬化型樹脂[大日精化工業社製、製品名「セイカビームEXF−01L(BS)」、シリカ粒子含有量10質量%、平均粒径4.7μm、濃度100%、光重合開始剤入り]2質量部、レベリング剤[ビックケミージャパン社製、「BYK−300」、濃度52質量%]0.1質量部の混合物を、プロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して濃度40質量%のハードコート塗工液6(固形分中の無機成分0.2質量%)を調製した。
実施例1
両面易接着層付きPETフィルム[三菱樹脂社製、「PET188O321」、膜厚1188μm]に、マイヤーバー#16を用いて乾燥後の膜厚が8μmになるようにハードコート塗工液1を塗布し、80℃、1分間乾燥後、紫外線を照射(光量:200mJ/cm2)し、硬化させてハードコート層を形成し、実施例1のハードコートフィルムを得た。
実施例2
実施例1において、ハードコート塗工液2を使用した以外は、実施例1と同様にして実施例2のハードコートフィルムを得た。
実施例3
マイヤーバー#24を用いて乾燥後の膜厚が13μmになるように塗布した以外は、実施例1と同様にして実施例3のハードコートフィルムを得た。
実施例4
両面易接着層付きPETフィルム[三菱樹脂社製、「PET125O321」、膜厚1125μm]を使用した以外は、実施例1と同様にして実施例4のハードコートフィルムを得た。
実施例5
実施例1において、ハードコートフィルム1のハードコート層とは反対側の面に、マイヤーバー#8を用いて乾燥後の膜厚が3.5μmになるようにハードコート塗工液5を塗布し、80℃、1分間乾燥後、紫外線を照射(光量:200mJ/cm2)し、硬化させてハードコート層を形成し、実施例5のハードコートフィルムを得た。
比較例1
ハードコート塗工液3を使用した以外は、実施例1と同様にして比較例1のハードコートフィルムを得た。
比較例2
両面易接着層付きPETフィルム[東洋紡績社製、「PET188A4300」、膜厚188μm]を使用した以外は、実施例1と同様にして比較例2のハードコートフィルムを得た。
比較例3
実施例1において、ハードコートフィルム1のハードコート層とは反対側の面に、マイヤーバー#10を用いて乾燥後の膜厚が5.0μmになるようにハードコート塗工液6を塗布し、80℃、1分間乾燥後、紫外線を照射(光量:200mJ/cm2)し、硬化させてハードコート層を形成し、比較例3のハードコートフィルムを得た。
比較例4
ハードコート塗工液4を使用した以外は、実施例1と同様にして比較例4のハードコートフィルムを得た。
比較例5
ハードコート塗工液4を使用し、マイヤーバー#24を用いて乾燥後の膜厚が13μmになるように塗布した以外は、実施例1と同様にして比較例5のハードコートフィルムを得た。
前記の実施例1〜5及び比較例1〜5で得られた各ハードコートフィルムについて諸特性を評価した。その結果を、ハードコートフィルム作製条件と共に第1表に示す。
Figure 2013037323
第1表から分かるように、本発明のハードコートフィルム(実施例1〜5)は、いずれも全光線透過率が90%を超え、かつヘイズ値が2%未満であると共に、鉛筆硬度が3H以上、耐擦傷性は合格であり、透過鮮明度も450を超え合格である。さらに裁断加工適性も良好である。
これに対して、比較例1〜5のハードコートフィルムは、鉛筆硬度及び/又は透過鮮明度が、実施例のものに比べて劣っている。さらに比較例5は裁断加工適性がない。
本発明のハードコートフィルムは、鉛筆硬度が高く(3H以上)、かつ加工適性を有すると共に、透過鮮明度に優れ、各種のディスプレイ装置やタッチパネルなどの電子機器の部材として好適に用いられるが、特に抵抗膜方式タッチパネルの部材として好適に用いられる。

Claims (5)

  1. 透明基材フィルムの一方の面に、3〜6官能モノマーと、固形分中に有機修飾シリカ微粒子を無機成分として35〜65質量%の割合で含むハードコート層形成材料を硬化させてなる、厚さ7〜14μmのハードコート層を有するハードコートフィルムであって、
    (1)前記ハードコート層表面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.008μm以下であること、
    (2)前記透明基材フィルムのハードコート層とは反対側の面のJIS B 0601−1994に準拠して測定される算術平均粗さRaが0.01〜0.05μmであること、
    (3)JIS K 7374:2007に準拠して測定される、5種類のスリット(スリット幅:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及び2mm)の合計値で表される透過鮮明度が450以上であること、
    を特徴とするハードコートフィルム。
  2. 3〜6官能モノマーが、(メタ)アクリレート系モノマーである請求項1に記載のハードコートフィルム。
  3. JIS K 7136に準拠して測定されるヘイズ値が2%以下である請求項1又は2に記載のハードコートフィルム。
  4. タッチパネル用部材として用いられる請求項1〜3のいずれかに記載のハードコートフィルム。
  5. タッチパネルが抵抗膜方式である請求項4に記載のハードコートフィルム。
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