TWI502213B

TWI502213B - 抗反射構件及其製造方法

Info

Publication number: TWI502213B
Application number: TW099131542A
Authority: TW
Inventors: Yasuyuki Ishida; Yu Abe; Michiko Kai; Takashi Mimura
Original assignee: Toray Industries
Priority date: 2009-09-18
Filing date: 2010-09-17
Publication date: 2015-10-01
Also published as: JP6061444B2; CN102483469B; KR101773874B1; CN102483469A; JPWO2011033976A1; KR20120067990A; US9423531B2; TW201126196A; WO2011033976A1; US20120162774A1

Description

抗反射構件及其製造方法

本發明係關於抗反射構件及抗反射構件之製法。

抗反射薄膜所代表的抗反射構件係配置於陰極管顯示裝置(CRT)、電漿顯示面板(PDP)、液晶顯示裝置(LCD)之類的影像顯示裝置之最表面。為了防止經由外光反射的對比降低或影像映入，抗反射構件係使用光學干涉的原理來降低反射率。

作為使耐擦傷性或耐摩耗性向上的抗反射構件，已提議以下之抗反射構件。

已提議一種抗反射薄膜，其係使以多官能(甲基)丙烯酸系化合物：氟系界面活性劑=99.9：0.1～90：10(質量比)之比率含有的塗膜硬化，於最表面具有此硬化層(專利文獻1)。

已提議一種抗反射材料，其係於基材上依序積層硬塗層與低折射率層，其中硬塗層為含有導電性無機超微粒子與放射線硬化型樹脂的樹脂組成物之硬化物，低折射率層含有中空矽石微粒子。構成此硬塗層的樹脂組成物，其至少一種樹脂之質量平均分子量為8000以上150000以下(專利文獻2)。

又，已提議以下製造方法用於抗反射構件之製造步驟之簡略化。

已提議一種形成抗反射層的方法，係於黏結劑樹脂中，將低折射率微粒子與中或高折射率微粒子分散的塗布組成物作1次塗布，而形成抗反射層的方法。此方法使用經由氟系化合物處理的矽石微粒子作為低折射率微粒子。經由比重的差，抗反射層之上部或中間部存有較多低折射率微粒子，於中間部或下部則存有較多中或高折射率微粒子(專利文獻3)。

已有提議將塗料組成物於支撐基材之至少一面上僅作1次塗布並乾燥，而製造具有2層不同折射率之抗反射薄膜的方法。其特徵為此塗料組成物含有2種類以上之無機粒子與金屬螯合物化合物，至少1種類之無機粒子經由氟化合物作表面處理的無機粒子(專利文獻4)。

又，著眼於構成抗反射構件的層之層間界面之機能，已提議以下之抗反射構件。

已提議一種光學薄膜，其具有鄰接的第一透明層與第二透明層，且第一透明層與第二透明層之折射率相異，第一透明層與第二透明層之接觸界面為光散射性界面。經由第一透明層與第二透明層之接觸界面為光散射性界面，成為抑制干涉線發生的光學薄膜(專利文獻5)。

已提議一種抗反射薄膜，其於薄膜之表面上依序設置透明導電層、高折射率硬塗層及低折射率硬塗層。此抗反射薄膜，相較於透明導電層與高折射率硬塗層之界面之表面粗糙度，高折射率硬塗層與低折射率硬塗層之界面之表面粗糙度較小，且高折射率硬塗層及/或低折射率硬塗層係由有機及/或無機混雜的硬塗材所形成(專利文獻6)。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：特開2008-122603號公報

專利文獻2：特開2007-271954號公報

專利文獻3：特開2007-272132號公報

專利文獻4：特開2009-058954號公報

專利文獻5：特開2005-107005號公報

專利文獻6：特開2004-258209號公報

本發明之課題係提供一種抗反射構件，其兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性及抑制干涉不均的特性，以及低反射率及高透明性之特性。

相對於上述課題，前述之先前技術有如下之狀況。專利文獻1與專利文獻2之抗反射構件為了獲得耐擦傷性，2.5μm以上5μm以下之硬塗層為必須。又，基材上含有硬塗層而經由2次或3次之塗布而形成複數之層。因此，於材料費、步驟次數兩方面，並非於製造步驟之簡略化上適用的抗反射構件。

專利文獻1，經由氟系界面活性劑之添加而表面能量降低與經由多官能丙烯酸酯之添加而交聯密度提高，而兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性之特性，以及低反射率及高透明性之特性。然而，此效果並不充分。又，因氟系界面活性劑於抗反射層上並非以化學鍵結固定，氟系界面活性劑於轉印至抗反射薄膜之另一面的弊病亦多。又，專利文獻1並未陳示對於干涉不均抑制的對策。

專利文獻2之抗反射材料之耐摩耗性為將抗反射材料之低折射率層面以負重1Kg下作100次往返的程度者。其與假定現在一般認為係必要的複數次之清掃的耐摩耗性相比為不良。

專利文獻3之抗反射層係經由1次塗布形成抗反射層的低折射率層與高折射率層而得。專利文獻3中記載，因低折射率層與高折射率層之界面不清楚而混成一體，與具有明確界面的抗反射層相比，解決了各折射率層間之剝離之問題。然而，由於係混成一體的不清楚的界面，可預期反射率、透明性會降低。

專利文獻4中記載，2個折射率相異的2層之界面為明確。然而，關於此界面之詳細構造則未記載。

專利文獻5與專利文獻6著眼於構成抗反射構件的層之層間界面之機能，但其目的係干涉線之防止與發白之防止。此外，相當於低折射率層與高折射率層的2個層之界面之粗糙度為粗的。此粗糙度雖於干涉不均之抑制上有效果，但因係光散射性界面，故透明性差。

為了解決上述課題，本發明之抗反射構件具有以下構成。即，一種抗反射構件，其於支撐基材之至少第1面上，具有含折射率相異的2個鄰接層的抗反射層，此等折射率相異的2個鄰接層由前述支撐基材的遠側為第1層及第2層，前述抗反射層含有構成元素相異的2種類以上之粒子與1種類以上之黏結劑，前述第1層與第2層之界面上之直線距離為500nm以上之任意2點作為A1、A2時，將連結此A1與A2的線段A1A2之長度作為a，此線段A1A2於前述支撐基材之第1面上的垂直方向上，對前述第1層與第2層之界面上投影的線之長度作為b之比b/a，為大於1.10且小於1.45。

依據本發明，提供兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性及干涉不均抑制之特性，以及低反射率及高透明性之特性兩者的抗反射構件。

用以實施發明的形態

說明具體形態之前，先說明發明的機制。首先，檢討先前技術無法達成前述課題的理由。

首先，檢討密著性、耐擦傷性及耐摩耗性。於自複數層構成的塗布製品，影響密著性、耐擦傷性及耐摩耗性的因子之一為層間界面之密著力。專利文獻1與專利文獻2之抗反射構件係經由複數次塗布形成的抗反射層。因此，塗布時，液膜表面因液膜之表面張力而變的平滑，因各層間之界面變平滑，於物理的觀點，密著力會變弱。此外，各層間因無如共價鍵的化學鍵結，於化學的觀點，其密著力亦變弱。此結果一般認為於抗反射構件之表面上施予應力時，會發生層間界面之破壞。

又，專利文獻4之抗反射構件因以1次塗布形成2層，層間界面有如共價鍵之化學鍵結。因此，與專利文獻1或專利文獻2之抗反射構件相比，由化學的觀點，一般認為密著力會提升。然而，本發明者們檢驗專利文獻4之實施例後發現，以此手法所得的界面之構造較由本發明所得的界面更平滑，以物理的觀點，一般認為其密著力並不充分。再者，以此手法，為了提高耐摩耗性，於抗反射層與支撐基材之間設置了硬塗層。因抗反射層與硬塗層之間可設有不具化學鍵結的其它層間界面，亦會發生此部分之層間界面之破壞。

其次，調查關於干涉不均與透明性之兼具。干涉不均一般認為係抗反射層之厚度變化經由可目視的長周期下顯現，於干涉效果產生差異，可目視到反射色之變化。作為此抗反射層之厚度變化之原因，有由塗布步驟之液膜之搖晃造成的膜厚變化、乾燥步驟之乾燥速度不均造成的膜厚變化、及基材之厚度變化。專利文獻5之抗反射構件經由將界面作成光散射性而解決干涉效果之偏差。然而，經由成為光散射性，透明性會大幅降低。

因此，以先前技術無法達成本案之全部課題。其次，詳述本發明可解決前述課題的理由。

本發明者們，於達成兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性及干涉不均抑制之特性，以及低反射率及高透明性之特性兩者的方法，著眼於抗反射層內部之界面。而且，經由將此界面作成特定構造，發現可兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性及干涉不均之特性，以及低反射率及高透明性之特性兩者。

即，於不會影響抗反射性能或透明性的範圍內，將抗反射層中之折射率相異的2個鄰接層之界面，經由微細地組合，於物理的觀點下確保層間密著力。

又本發明之抗反射構件，經由抗反射層中之第1層與第2層產生的界面微細地組合，第1層之膜厚於面方向上變化。經由此膜厚變化，可吸收干涉效果之偏差，而抑制干涉不均。此時由於界面微細地組合的量(由界面之谷底至界面之高頂點之高度)與光的波長相比係十分地短，不會發生光散射性，對透明性不會有影響。

以下，具體描述本發明之實施形態。

[抗反射構件]

本發明之抗反射構件於支撐基材之至少一面上具有含折射率相異的2個鄰接層的抗反射機能的層，即抗反射層所形成的構件。支撐基材為塑膠薄膜之場合，一般稱為抗反射薄膜。其必要性或所要求的性能等記載於特開昭59-50401號公報。即，於支撐基材上層積折射率差為0.03以上之鄰接的2個以上之層者為較佳。折射率差為0.05以上者更佳。又，折射率差為5.0以下者較佳。此折射率差為鄰接層之間的折射率相對比較的值。相對地折射率低的層稱為低折射率層，相對地折射率高的層稱為高折射率層。而且，支撐基材的遠側為低折射率層，接近支撐基材側為高折射率層為較佳。

高折射率層，除了高折射率之機能外亦賦予耐傷性時，不稱為高折射率層，一般而言稱為高折射率硬塗層。高折射率硬塗層較佳亦具有強化支撐基材與低折射率層之接著的機能。高折射率硬塗層之強度，於1kg負重之鉛筆硬度為H以上者較佳。鉛筆硬度為2H以上更佳，3H以上為特佳。關於鉛筆硬度之上限，強度高的部分雖無問題，但現實上以9H左右為上限。

抗反射構件，於分光測定中最低反射率為0%以上1.0%以下較佳。最低反射率為0%以上0.7%以下更佳，0%以上0.6%以下特佳，0%以上0.5%以下最佳。

抗反射構件於透明性高者為所欲。透明性低時，使用作為影像顯示裝置時，因影像彩度之降低等發生畫質降低而為不佳。於抗反射構件之透明性之評價可使用霧度值。霧度為JIS K 7136(2000)所規定的透明性材料之混濁之指標。霧度越小表示透明性越高。作為抗反射構件之霧度值，2.0%以下為較佳。霧度值為1.8%以下為更佳，1.5%以下為特佳。雖然霧度值越小於透明性之點為良好，但作成0%者有困難，現實上之下限值一般認為係0.01%左右。霧度值超過2.0%時，發生影像劣化的可能性變高。

抗反射構件除了抗反射層之外，亦可設置易接著層、防濕層、抗靜電層、遮蔽層、底塗層、硬塗層、保護層等。遮蔽層係為了遮蔽電磁波或紅外線而設置。

於PDP等之各種影像顯示裝置之視認側表面上設置抗反射構件，提供抗反射性優異的影像顯示裝置。此時，將抗反射構件之支撐基材側面對影像顯示裝置側，而設置抗反射構件者為重要的。

於第1圖顯示本發明之抗反射構件之構成。抗反射構件1係於支撐基材2之至少第1面上層積含有折射率相異的鄰接的2層的抗反射層3而成。鄰接的2個層為自支撐基材遠側的第1層4、第2層5。又，於抗反射層，第1層之折射率較第2層之折射率低者為較佳。即第1層為低折射率層，第2層為高折射率層者較佳。

[抗反射層]

本發明中的抗反射層，有第1形態與第2形態。第2形態之特徵亦有第1形態之較佳特徵。又，第1形態之特徵亦有第2形態之較佳特徵。

[抗反射層之第1形態]

本發明中的抗反射層之第1形態係含有構成元素相異的2種類以上之粒子與1種類以上之黏結劑。

第1層與第2層之間之界面為具有特徵的形狀。為了說明此特徵的形狀，如第1、2圖所示定義長度a與長度b。

‧長度a、長度b之定義：

(1)將第1層與第2層之界面上之直線距離為500nm以上的2點作為A1、A2。

(2)將連結A1與A2的線段A1A2的長度作為長度a。

(3)將線段A1A2於垂直支撐基材之第1面8的方向，對第1層與第2層之界面上投影的線之長度作為長度b。

依據此抗反射層，可提供兼具密著性、耐擦傷性、耐摩耗性及干涉不均抑制之特性，以及低反射率及高透明性之特性兩者的抗反射構件。

抗反射層係長度a與長度b之比b/a係大於1.10且小於1.45。b/a之下限較佳為1.15以上。b/a之上限較佳為1.35以下。b/a之上限與下限可為任意組合。b/a成為1.10以下時，第1層與第2層之間的界面狀態成為第3圖、第4圖所示狀態，第1層與第2層間之界面之物理的密著力之提升效果變小，無法獲得耐擦傷性、耐磨耗性。b/a成為1.45以上時，經由出現光散射性，透明性會降低，且反射率變高。

存於第2層的粒子6之數量平均粒徑為25nm以下較佳。更佳為20nm以下。存於第2層的粒子之數量平均粒徑為25nm以下時，可容易地將第1層與第2層之間的界面形狀滿足b/a之比為大於1.10且小於1.45的方式。存於第2層的粒子之數量平均粒徑為小的部分雖無問題，但因受到粒子形成時之結晶核之大小的控制，現實上1nm成為下限。

存於第1層的粒子7之數量平均粒徑為30nm以上200nm以下者較佳。數量平均粒徑之下限為40nm以上更佳。數量平均粒徑之上限為150nm以下更佳。數量平均粒徑之上限與下限可為任意組合。經由將數量平均粒徑作成30nm以上，變的容易控制b/a成為大於1.10且小於1.45的方式。經由將數量平均粒徑作成200nm以下，變的容易確保透明性。

即，抗反射層含構成元素相異的2種類以上之粒子，第1層所含粒子之數量平均粒徑較第2層所含粒子之數量平均粒徑大者為較佳。更佳為第1層所含粒子與第2層所含粒子之構成元素相異，第1層所含粒子之數量平均粒徑較第2層所含粒子之數量平均粒徑更大的態樣。

第1層之厚度為50nm以上200nm以下者較佳。厚度之下限為70nm以上更佳，90nm以上為特佳。厚度之上限為150nm以下更佳，130nm以下特佳。第1層之厚度之上限與下限可為任意組合。第1層之厚度低於50nm時，因未獲得光之干涉效果而降低抗反射效果，影像之映入有變大的情形。又厚度超過200nm的場合，因變成未獲得光之干涉效果，影像之映入變大。

第2層之厚度為500nm以上4000nm以下者較佳。厚度之下限為550nm以上更佳，600nm以上特佳。厚度之上限為3000nm以下更佳，2000nm以下特佳。第2層之厚度之上限與下限可為任意組合。經由將第2層之厚度作成500nm以上4000nm以下，於具有耐擦傷性、耐摩耗性的同時，可進一步提升捲度、反射率、透明性。又，抗反射層本身因具有硬塗性，即使支撐基材上未設置硬塗層，於支撐基材上直接形成抗反射層，可獲得優異的耐擦傷性或耐摩耗性。

其次，為了說明抗反射層之與支撐基材側反對側之面(以下，作為抗反射層之表面)之形狀之特徵，定義如第1圖所示之長度c。

．長度c之定義：將前述之線段A1A2，於垂直支撐基材之第1面的方向，對抗反射層之表面投影的線之長度作為長度c。

於第2圖顯示長度a、長度b與長度c之長度之關係。長度c與長度b之比b/c大於1.05且小於1.40為較佳。b/c之比大於1.10且小於1.40為更佳。經由將b/c之比作成大於1.05且小於1.40，於界面之物理的觀點為了確保密著力，於維持耐擦傷性、耐摩耗性等的同時，可提升透明性與抗反射性能。

製造b/a大於1.10且小於1.45，b/c大於1.05且小於1.40的抗反射材料的方法並未特別限定，例如有下列(i)或(ii)之方法。

(i)將支撐基材運送到塗布步驟，其次，使用特定之硬化條件與材料，於支撐基材上將1層份之液膜作塗布並乾燥，接著將支撐基材自塗布步驟搬出。此進行2次，於支撐基材上形成折射率相異之2個層。

(ii)將支撐基材運送到塗布步驟，其次，使用特定之硬化條件與材料，將形成抗反射層的塗料組成物於支撐基材上僅作1次塗布並乾燥，接著將支撐基材自塗布步驟搬出。而於支撐基材上同時形成折射率相異之2個層。

此等2種方法中，以(ii)之方法為較佳。將塗料組成物僅作1次塗布，經由自發的層構造之形成而形成2個層，第1層與第2層之界面，或抗反射層之表面可以所欲粗糙度作成。其結果，可作成b/a大於1.05小於1.45、b/c大於1.05且小於1.40者。

又，作為於支撐基材上形成折射率相異的2個層之方法，亦有下述(iii)～(v)之方法，但此等方法對於製造b//a大於1.10且小於1.45、b/c大於1.05且小於1.40之抗反射材料係困難的。

(iii)將支撐基材運送至塗布步驟，其次，於支撐基材上將2層分離的塗液作塗布並乾燥，接著將支撐基材自塗布步驟搬出。因而於支撐基材上同時形成折射率相異的2個層的方法(多層同時塗布)。

(iv)將支撐基材運送至塗布步驟，其次，於支撐基材上將1層份之液膜作塗布並乾燥，接著再將1層份之液膜作塗布並乾燥，接著將支撐基材自塗布步驟搬出。因而於支撐基材上形成折射率相異的2個層的方法(連續逐次塗布)。

(v)將支撐基材運送至塗布步驟，其次，於支撐基材上將1層份之塗液作塗布，接著再將1層份之塗液作塗布，將2層部分合在一起乾燥，接著將支撐基材自塗布步驟搬出。因而於支撐基材上形成折射率相異的2個層的方法(濕對濕(wet on wet)塗布)。

上述(ii)之製造方法中，為了將第2層之厚度作成較佳範圍，抗反射層中之第1層及第2層較佳含有來自選自具有碳數4以上之氟烷基及反應性部位的化合物、具有碳數8以上之烴基及反應性部位的化合物、以及具有矽氧烷基及反應性部位的化合物組成之群之至少1種化合物的成分。以下，將具有碳數4以上之氟烷基及反應性部位的化合物作為氟化合物B、將具有碳數8以上之烴基及反應性部位的化合物作為長鏈烴化合物B、將具有矽氧烷基及反應性部位的化合物作為聚矽氧化合物B。又，將選自氟化合物B、長鏈烴化合物B及聚矽氧化合物B組成之群的化合物作為疏水性化合物B。形成抗反射層的塗料組成物經由含有疏水性化合物B，可促進自發的層構造之形成。又，第2層之厚度即使於本發明之較佳範圍，可於1次塗布、乾燥步驟形成2個層。

於本發明中的塗料組成物含有構成元素相異的2種類以上之粒子、黏結劑原料、溶劑，此外此粒子中至少1種類之粒子作成經氟化合物處理的粒子者為較佳。以下，將粒子之表面處理所用的氟化合物作為氟化合物A。使用此類塗料組成物時，可進一步促進自發的層構造之形成。其理由被推定為如以下所述。塗料組成物中之構成元素相異的2種類以上之無機粒子於塗料組成物中經由布朗運動作運動。因而，到達氣液、固液界面的粒子，由於表面自由能差，低表面能粒子被固定於大氣側，高表面能粒子被固定於支撐基材側。此結果形成自發的層構造。

抗反射層較佳為折射率相異的2個層為第1層與第2層之間經由粒子配列而有明確界面者。本發明中的明確界面係指一層與另一層可區別的狀態。可區別的界面表示使用穿透型電子顯微鏡(TEM)經由觀察斷面而可判斷的界面，依據後述方法可判斷。

自發的層構造之形成由於可在塗布面內均一發生，支撐基材之塗布塗料組成物側之面之表面粗糙度為40nm以下者為較佳。表面粗糙度為35nm以下為更佳，30nm以下為特佳。

[粒子]

本發明中的抗反射層含有構成元素相異的2種類以上之粒子。此粒子為無機粒子者較佳。其中無機粒子為經由無機化合物所形成的粒子。

作為構成元素相異的粒子之種類，以2種以上20種以下為較佳。粒子之種類以2種以上10種以下為更佳，2種以上3種以下為特佳，2種類為最佳。

其中粒子之種類依構成粒子的元素之種類決定。例如，氧化鈦(TiO₂ )與氧化鈦之氧之一部份為陰離子之經氮取代的摻雜氮的氧化鈦(TiO_2-x N_x )，因構成粒子的元素不同，而為相異種類之粒子。又，同一元素，例如，若為僅由Zn、O而成的粒子(ZnO)，其即使存有粒徑相異的複數粒子，或者Zn與O之組成比相異，此等仍為同一種類之粒子。又即使存有複數種之氧化數相異的Zn粒子，只要構成粒子的元素相同，此等仍為相同種類之粒子。又，施予表面處理的粒子之場合，以施予表面處理前之構成粒子的元素種類作判斷。

抗反射層只要具有構成元素相異的2種類以上之粒子即可並未特別限定，但第1層中主要含有的粒子與第2層中主要含有的粒子為構成元素相異者較佳。其中，「主要含有的粒子」為層中含有質量最多的粒子。例如，抗反射層含有經由氟化合物A表面處理的無機粒子與氧化鈦的情形，可為第1層及第2層各自含有兩種之粒子，但以第1層主要含有經由氟化合物A表面處理的無機粒子，第2層主要含有氧化鈦者為較佳。又，此例之情形，第1層僅含有經由氟化合物A表面處理的無機粒子、第2層僅含有氧化鈦者為特佳。

[抗反射層之第2形態]

本發明中的抗反射層之第2形態為經由第1層之厚度方向之中心位置中的SIMS將氟原子之離子強度作為F_L ，經由第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS將氟原子之離子強度作為F_H ，氟原子之離子強度比(F_L /F_H )為2以上150以下。依據此抗反射層，可提供密著性、耐藥品性、耐候性及低反射率特性優異的抗反射構件。離子強度比(F_L /F_H )較佳為2.5以上130以下，3以上100以下為更佳。經由將離子強度比(F_L /F_H )作成2以上150以下，因第2層亦與第1層有表面能相近的氟原子分布，可抑制於第2層上積層第1層時之塗布不均。又提升第2層與第1層之層間密著性、耐藥品性，進而提升耐候性、抗反射性。

離子強度比(F_L /F_H )較2小的場合，因第2層含有過剩氟原子，於界面之結合力降低，造成第1層與第2層之層間之密著性降低，而有層間密著性、耐藥品性、耐候性降低的情形。離子強度比(F_L /F_H )較150大時，雖可獲得抗反射性，但因第2層所含氟原子之量變少，會造成含許多氟原子的第1層與第2層之層間密著性降低，有層間密著性、耐藥品性、耐候性降低的情形。又，各自構成第1層及第2層之全部成分之合計作為100質量%時，使用氟化合物B作為疏水性化合物B，將由此而來的成分於各自層中含有5質量%以上50質量%以下，可控制離子強度比(F_L /F_H )為2以上150以下。

又，經由第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS將氧原子之離子強度作為O_H 時，F_H ≧O_H 者為較佳。於抗反射層中含有金屬氧化物或半金屬氧化物等粒子時，可控制F_H ≧O_H 。較佳控制方法為：使抗反射層含有經氟處理的表面處理的無機粒子與無經氟處理的表面處理的其他無機粒子之2種無機粒子，其他無機粒子為含有金屬氧化物或半金屬氧化物等之氧原子的粒子，又此2種無機粒子之含有比率作成(經氟處理的表面處理得無機粒子之含量/其他無機粒子之含量)之質量比為1/30以上1/1以下之方法。

[塗料組成物]

以下，說明形成抗反射層的塗料組成物，但本發明之抗反射構件，並未限於使用此塗料組成物的製造方法，形成高折射率層後，進一步經由將構成低折射率層用之塗料組成物塗布‧硬化的方法等亦可製造。

形成抗反射層之較佳塗料組成物係由第1層之構成成分與第2層之構成成分混合。經由將此塗料組成物於支撐基材上僅作1次塗布，於支撐基材上可形成折射率相異的第1層與第2層所構成的抗反射層。此結果成為抗反射性良好之抗反射構件。

塗料組成物含有構成元素相異的2種類以上之無機粒子者較佳。而此2種類以上之無機粒子之至少1種類之無機粒子以經氟化合物A表面處理的無機粒子者為較佳。以下，將經氟化合物A表面處理的無機粒子作為氟處理無機粒子。

[塗料組成物之黏度]

塗料組成物其黏度變化(Δη)為0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下者較佳。黏度變化(Δη)於此範圍內時，將塗料組成物於支撐基材上僅作1次塗布時，變的容易獲得折射率差大的2層所構成的抗反射層。黏度變化(Δη)較10mPa‧s大的場合，於使塗料組成物塗布乾燥的過程，伴隨有機溶劑之揮發，固體成分濃度會上昇，流動性降低的同時，因氟處理無機粒子彼此之粒子間相互作用變大，氟處理無機粒子彼此形成凝集體，而氟處理無機粒子向空氣側(最表面層)之移動變困難。此結果，不能獲得折射率差大的2個層，抗反射性會降低。黏度變化(Δη)較0.1mPa‧s小的場合，於前述過程中氟處理無機粒子彼此之粒子間相互作用之抑制，雖可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集體形成，但因過度提升流動性，而氟處理無機粒子之分離性相反地變困難。此結果，因2個層混雜存在，未能獲得折射率差大的2個層，其結果會降低抗反射性。

黏度變化(Δη)為0.1mPa‧s以上9mPa‧s以下更佳，0.1mPa‧s以上8mPa‧s以下特佳，0.1mPa‧s以上7mPa‧s以下最佳。

其中，塗料組成物之黏度變化(Δη)係剪切速度(shear rate)0.1s^-1 中的黏度η₁ 與剪切速度10s^-1 中的黏度η₂ 之黏度差(η₁ -η₂ )。又，剪切速度0.1s^-1 中的黏度η₁ 與剪切速度10s^-1 中的黏度η₂ ，可使用一般的回轉流變儀(rheometer)測定。

其中剪切速度係指對於流體所賦予的應變(strain)γ之變化速度，以下述式表示。

γ’=d γ/d t。

以回轉流變儀測量黏度的手法，已知有錐板(cone and plate)型、板板(plate and plate)型、共軸圓筒型之3種方式。塗料組成物之黏度η1與η2之測定，以不需修正測定結果的錐板型、或共軸圓筒型為適當。尤其，由必要液量少、或簡便性優異的點，以由錐板型所得的值最適當。本發明使用由錐板型所得的值。

此錐板型，因係圓錐型之回轉體(cone)與靜止的圓板(plate)組合者，圓板與圓錐之間之間隙角為δ。圓錐型之回轉體與靜止的圓盤之間，經將試料扭轉進行測定，圓錐型之回轉體以角速度Ω回轉，測定對靜止圓板作用的扭矩(torque) M。由此時之角速度Ω、剪切速度，自扭矩M之剪切應力σ由下式方式而得。

γ’=(1/δ) Ω

σ={3/(2πR³ )}M

再者，黏度η以下式表示。

η(γ’)=σ/γ’。

為了將塗料組成物之黏度變化(Δη)作成0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下，塗料組成物中之構成元素相異的2種類以上之無機粒子中的至少1種類之無機粒子為氟處理無機粒子者係重要的。再者於氟處理無機粒子所使用的氟化合物A，尤其以塗料組成物含有疏水性化合物B者為較佳。如此作成者，塗料組成物之黏度變化(Δη)可控制在0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下之範圍。

又，為了將塗料組成物之黏度變化(Δη)控制在0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下，塗料組成物含有疏水性化合物B，再者作為黏結劑原料，使用具有1分子中具有3個以上丙烯醯氧基的多官能丙烯酸酯的塗料組成物者亦佳。

[塗料組成物中所含的無機粒子]

塗料組成物含有構成元素相異的2種類以上之無機粒子者為較佳。就無機粒子之種類數而言，以2種類以上20種類以下為較佳。無機粒子之種類數為2種類以上10種類以下更佳，2種類以上3種類以下特佳，2種類最佳。其中關於種類，依構成如前述粒子的元素之種類而決定。

塗料組成物中，構成元素相異的2種類以上之無機粒子中，至少1種類之無機粒子為經氟化合物A表面處理的無機粒子，即氟處理無機粒子為較佳。此氟處理無機粒子作為第1層之構成成分為適合的。氟處理無機粒子可向空氣側(最表面層)移動而形成第1層(低折射率層)。又，使用含有氟處理無機粒子與未施予經氟化合物A表面處理的無機粒子兩者的塗料組成物，較使用構成元素之相異2種類以上之無機粒子全部為氟處理無機粒子者，因可獲得折射率差大的2個層，於抗反射性之點而言為較佳。即，本發明之塗料組成物含有1種類以上之氟處理無機粒子與1種類以上之未施予經氟化合物A表面處理的無機粒子者為更佳。

首先，說明氟處理無機粒子。就氟處理無機粒子之構成材料而成的無機粒子而言，含有選自Si、Na、K、Ca及Mg組成之群的至少1個元素的無機粒子為較佳。更佳為含有選自矽石粒子(SiO₂ )、鹼金屬氟化物(NaF、KF等)及鹼土類金屬氟化物(CaF₂ 、MgF₂ 等)組成之群的至少1個化合物的無機粒子。由耐久性、折射率等之點，矽石粒子為特佳。又，以下，將經氟化合物A表面處理的矽石粒子作為氟處理矽石粒子。

矽石粒子係指由矽化合物或有機矽化合物之聚合(縮合)體之任一者的組成物而成的粒子，作為一般例，為由SiO₂ 等矽化合物衍生的粒子之總稱。

為氟處理無機粒子之構成材料的無機粒子之表面處理前的形狀並未特別限定，但由使用塗料組成物所得的抗反射層之折射率之觀點，球狀為較佳。此外，為氟處理無機粒子之構成材料的無機粒子為矽石粒子，矽石粒子為中空或多孔質之形狀者更佳。中空矽石粒子係於粒子內部具有空洞的矽石粒子。多孔質矽石粒子係於粒子之表面及內部具有細孔的矽石粒子。矽石粒子等無機粒子之形狀為多面體構造時，使用含此粒子的塗料組成物而得的抗反射層，層中無機粒子無間隙且有排成一列可能性，使用於影像顯示裝置時，認為不能獲得必要的透明性。又，經由使用中空矽石粒子或多孔質矽石粒子等無機粒子，會獲得降低為抗反射層之一部份的低折射率層之密度的效果。尤其作為氟處理無機粒子之構成材料的無機粒子，使用中空矽石粒子或多孔質矽石粒子時，因氟處理矽石粒子容易含於抗反射層之低折射率層而為較佳。

氟處理無機粒子之表面處理前之數量平均粒徑為1nm以上200nm以下者較佳。數量平均粒徑為20nm以上200nm以下更佳，40nm以上150nm以下特佳。無機粒子之數量平均粒徑變成小於1nm時，第1層中之空隙密度會降低、折射率會上昇，而透明度會降低。無機粒子之數量平均粒徑變成大於200nm時，低折射率層之度變厚，抗反射性能會降低。

對無機粒子之經氟化合物A的表面處理步驟可以一次階段進行，亦可多次階段進行。又，於複數階段，可使用氟化合物A，於僅一次階段，亦可使用氟化合物A。

又無機粒子之表面處理步驟較佳使用的氟化合物A可為單一化合物，亦可為複數之相異化合物。

經氟化合物A的表面處理係指將無機粒子作化學修飾，於無機粒子導入氟化合物A的步驟。

就於無機粒子直接導入氟化合物的方法而言，為同時攪拌1種類以上之於1分子中具有氟段與矽烷基醚基(含矽烷基醚基經水解的矽烷醇基)兩者的氟烷氧矽烷化合物與起始劑的方法。然而，於無機粒子直接導入氟化合物時，反應性之控制變困難，塗料化後塗布時有塗布斑等變得容易發生的情形。

又就將無機粒子作化學修飾，於無機粒子導入氟烷基的方法而言，有將無機粒子以交聯成分處理，而與氟化合物A結合的方法。就具有官能基的氟化合物A而言，可使用氟烷基醇、氟烷基環氧化物、氟烷基鹵化物、氟烷基丙烯酸酯、氟烷基甲基丙烯酸酯、氟烷基羧酸酯(含酸酐及酯類)等。

交聯成分係指分子內無氟，但具有可與氟化合物A反應的部位、可與無機粒子反應的部位至少一處的化合物。就可與無機粒子反應的部位而言，由反應性之觀點，以矽烷基醚及矽烷基醚之水解物為較佳。此等化合物一般而言稱為矽烷偶合劑，例如可使用環氧丙氧基烷氧基矽烷類、胺基烷氧基矽烷類、丙烯醯基矽烷類、甲基丙烯醯基矽烷類、乙烯基矽烷類、巰基矽烷類等。

氟處理無機粒子之更佳形態為將無機粒子以下述一般式(1)所示化合物處理，再以下述一般式(2)所示氟化合物A處理的粒子。

B-R⁴ -SiR⁵ _n (OR⁶ )_3-n 　‧‧‧一般式(1)

D-R⁷ -R^f2 　‧‧‧一般式(2)

(上述一般式中之B、D表示反應性雙鍵基，R⁴ 、R⁷ 表示由碳數1至3之伸烷基及由此等衍生的酯構造，R⁵ 、R⁶ 表示氫或碳數1至4之烷基，R^f2 表示氟烷基，n表示0至2之整數，構造中可各別具有側鏈)。

反應性雙鍵基係經由受到光或熱等能量而發生的自由基等的化學反應的官能基，就具體例而言，可舉例乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等。

就一般式(1)之具體例而言，可舉例包含丙烯醯氧基乙基三甲氧基矽烷、丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、丙烯醯氧基丁基三甲氧基矽烷、丙烯醯氧基戊基三甲氧基矽烷、丙烯醯氧基己基三甲氧基矽烷、丙烯醯氧基庚基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基乙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丁基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基己基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基庚基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷及此等化合物中之甲氧基經其他烷氧基及羥基取代的化合物等。

就一般式(2)之具體例而言，可舉例2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基丙烯酸酯、2-過氟丁基乙基丙烯酸酯、3-過氟丁基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-過氟己基乙基丙烯酸酯、3-過氟己基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-過氟辛基乙基丙烯酸酯、3-過氟辛基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-過氟癸基乙基丙烯酸酯、2-過氟-3-甲基丁基乙基丙烯酸酯、3-過氟-3-甲氧基丁基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-過氟-5-甲基己基乙基丙烯酸酯、3-過氟-5-甲基己基-2-羥基丙基丙烯酸酯、2-過氟-7-甲基辛基-2-羥基丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-戊氟丙基甲基丙烯酸酯、2-過氟丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-過氟丁基-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、2-過氟辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-過氟辛基-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、2-過氟癸基乙基甲基丙烯酸酯、2-過氟-3-甲基丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-過氟-3-甲基丁基-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、2-過氟-5-甲基己基乙基甲基丙烯酸酯、3-過氟-5-甲基己基-2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、2-過氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-過氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、四氟丙基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、十二氟庚基甲基丙烯酸酯、十六氟壬基甲基丙烯酸酯、1-三氟甲基三氟乙基甲基丙烯酸酯、六氟丁基甲基丙烯酸酯等。

經由使用分子中不具有氟烷基R^f2 的一般式(1)所表示的化合物，於簡便反應條件中，不僅可修飾無機粒子表面，亦可於無機粒子表面導入容易控制反應性的官能基。其結果為，將具有反應性雙鍵及氟烷基R^f2 的氟化合物A(一般式(2))，藉由一般式(1)所示的化合物，可使於無機粒子表面反應。

接著，說明與氟處理無機粒子同時含於塗料組成物之未施予經氟化合物A表面處理的無機粒子。未施予經氟加工物A表面處理的無機粒子較適合做為第2層(高折射率層)之構成成分。以下，此未施予經氟加工物A表面處理的無機粒子稱為其他無機粒子。

其他無機粒子並未特別限定，但金屬或半金屬之氧化物為較佳。其他無機粒子至為少一種選自Zr、Ti、Al、In、Zn、Sb、Sn、及Ce組成之群的一種金屬或半金屬之氧化物粒子為更佳。又因其他無機粒子適合使用作為第2層(高折射率層)之構成成分，經氟化合物A表面處理的無機粒子為矽石粒子之情形，較矽石粒子折射率高的無機粒子為較佳。具體而言，至少一種選自氧化鋯(ZrO₂ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鋁(Al₂ O3)、氧化銦(In₂ O₃ )、氧化鋅(ZnO)、氧化錫(SnO₂ )、氧化銻(Sb₂ O₃ )及銦錫氧化物(In₂ O₃ )組成之群之金屬氧化物或半金屬氧化物。特佳為含有銻之氧化錫(ATO)或氧化鈦(TiO₂ )。由抗反射性之點，折射率高的氧化鈦為最佳。

塗料組成物含有1種類以上之其他無機粒子者為較佳。含有其他無機粒子1種類以上5種類以下者為更佳，含1種類者為特佳。

其他無機粒子之數量平均粒徑為1nm以上150nm以下較佳。數量平均粒徑為2nm以上100nm以下更佳，2nm以上25nm以下特佳，2nm以上20nm以下最佳。其他無機粒子之數量平均粒徑小於1nm時，由於主要含有其他無機粒子而成的層中之空隙密度會降低，而透明度會有降低的情形。其他無機粒子之數量平均粒徑大於150nm時，高折射率層之厚度變過大而變的難以獲得良好的抗反射性能。

其他無機粒子之折射率為1.58以上2.80以下較佳。折射率為1.60以上2.50以下更佳。無機粒子之折射率較1.58小時，第2層之折射率會降低。無機粒子之折射率大於2.80時，第2層與支撐基材之折射率差變大，變的無法獲得良好的抗反射性能，或有發生干涉模樣而外觀惡化者。

塗料組成物中之氟處理無機粒子為氟處理矽石粒子，其他無機粒子為較矽石粒子折射率高的無機粒子的場合，將塗料組成物僅作1次塗布於支撐基材上，接著乾燥，可容易形成離支撐基材遠側上具有含氟處理矽石粒子的第1層，離支撐基材近側上具有含較矽石粒子折射率高的無機粒子的第2層的抗反射層。

[疏水性化合物B]

如前述之抗反射層，除了構成元素相異的2種類以上之無機粒子之外，含有來自疏水性化合物B的成分者為較佳。疏水性化合物B係具有疏水基的化合物，具體而言，為至少一種選自氟化合物B、長鏈烴化合物B及聚矽氧化合物B組成之群的化合物。作為疏水性化合物B，由容易抑制無機粒子彼此凝集，控制塗料組成物之黏度變化(Δη)為0.1mPa以上10mPa‧s以下的點，以氟化合物B為較佳。

塗料組成物經由含有氟化合物B等之疏水性化合物B，可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集，折射率差大的2層之厚度控制變容易，抗反射構件可表現良好的抗反射性。

疏水性化合物B係於分子中具有1種以上之反應性部位者為較佳。此反應性部位係經由熱或光等外部能量與塗料組成物中之黏結劑等其他成分反應的部位。就此種反應性部位而言，由反應性之觀點，可舉例烷氧基矽烷基及烷氧基矽烷基經水解的矽烷醇基，或羧基、羥基、環氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等。本發明中的疏水性化合物B中之反應性部位係於後述之一般式(4)為丙烯基(H₂ C=C(R¹ )-)、於一般式(5)為A。疏水性化合物B中之反應性部位之數目，不以一個為必要，可具有複數個反應性部位。尤其，由反應性、處理性之觀點，烷氧基矽烷基或矽烷醇基或丙烯醯基(甲基丙烯醯基)基為較佳。

又，使用具有反應性部位的疏水性化合物B作為疏水性化合物B的場合，疏水性化合物B可為與為了獲得氟處理無機粒子之表面處理所使用的氟化合物A相同的化合物。然而，於塗料組成物中，除了含有氟化合物A外，含有未結合粒子表面的疏水性化合物B時，因氟處理無機粒子變的容易向空氣側(最表面層)移動，可容易地形成低折射率層，故塗料組成物含有未結合於粒子表面的疏水性化合物B者為較佳。

又，疏水性化合物B，於塗料組成物中未結合粒子表面者，可經由以下分析方法確認。將塗料組成物經由桌上型超離心機(日立工機股份有限公司製：CS150NX)進行離心分離(回轉數30000rpm、分離時間30分鐘)，使無機粒子(氟處理無機粒子及其他無機粒子)沉降。將所得上清液濃縮乾固，使用溶劑DMSO-d6(太陽日酸股份有限公司製，二甲基亞碸-d6)再溶解。再溶解物使用C¹³ -NMR(日本電子公司製/核磁共振裝置JNM-GX270)測定，若可確認疏水性化合物B之存在，則可確認疏水性化合物B未與無機粒子表面結合。

[長鏈烴化合物B]

長鏈烴化合物B為具有碳數8以上之烴基及反應性部位作為疏水基的化合物。且長鏈烴化合物B為具有反應性部位者較佳。就長鏈烴化合物B而言，以具有碳數10以上30以下之烴基的長鏈烴化合物為較佳。長鏈烴化合物B更佳為具有碳數12以上30以下之烴基的長鏈烴化合物，具有碳數14以上30以下之烴基的長鏈烴化合物為特佳。碳數變多，疏水性越高，變的容易與黏結劑原料分離。

[聚矽氧化合物B]

聚矽氧化合物B為具有矽氧烷基及反應性部位作為疏水基的化合物。且聚矽氧化合物B具有反應性部位較佳。聚矽氧化合物B具有一般式(3)(-(Si(R⁸ )(R⁹ )-O)_m -)所示的聚矽氧烷基，R⁸ 及R⁹ 之碳數為3以上6以下較佳。R⁸ .及R⁹ 之碳數為4以上6以下更佳，5以上6以下特佳。

[氟化合物B]

氟化合物B為具有碳數4以上之氟烷基及反應性部位作為疏水基的化合物。氟化合物B中之氟烷基之數目並非一定要一個，氟化合物B可具有複數之氟烷基。又，本發明中所謂的氟烷基，與前述之氟化合物A之氟烷基同樣地，烷基所具有之全部氫經氟取代的取代基，為僅由氟原子與碳原子所構成的取代基，其為氟化合物B中的疏水基。

又氟化合物B所具有的氟烷基R^f1 只要為碳數4以上則可使用。氟烷基R^f1 之碳數為4以上8以下者較佳，碳數4以上7以下之直鏈狀或分枝狀之氟烷基R^f1 為更佳。氟烷基R^f1 ，由塗料組成物之乾燥時之氟處理粒子彼此粒子間相互作用之抑制之點，碳數5以上7以下為特佳，碳數6以上7以下最佳。又與分枝狀相比，直鏈狀者立體障礙小，由容易吸附氟處理無機粒子的點，直鏈狀為較佳。經由將氟烷基作成碳數4以上7以下之直鏈狀或分岐狀之氟烷基R^f1 ，粒子之分離性提高，折射率相異的2層之自發的層形成變的容易，提高抗反射性。

氟化合物B為具有反應性部位者較佳。氟化合物B中之反應性部位於後述之一般式(4)為丙烯基(H₂ C=C(R¹ )-)、於一般式(5)為A。氟化合物B中之反應性部位之數目不以一個為必要，可具有複數之反應性部位。尤其以反應性、處理性之觀點，烷氧基矽烷基或矽烷醇基、或丙烯醯基(甲基丙烯醯基)基作為反應性部位為較佳。

氟化合物B之數量平均分子量為300以上4000以下者較佳。塗料組成物含有數量平均分子量為300以上4000以下之氟化合物B時，由於氟化合物B之親和力，氟化合物B會吸附氟處理無機粒子表面，可抑制氟處理無機粒子彼此之粒子間相互作用、或凝集體之形成。其結果，防止塗料組成物之乾燥時之流動性之降低，折射率相異的2個層之自發的層形成變容易，可表現良好的抗反射性。本發明中的數量平均分子量係將四氫呋喃作為溶劑，使用分子量已知的單分散聚苯乙烯作為標準物質，經由凝膠滲透層析法(GPC)法測定而求得者。

氟化合物B係經由振動式黏度計之黏度η_F 為1mPa‧s以上100mPa‧s以下，且表面張力γ_F 為6mN/m以上26mN/m以下者較佳。黏度η_F 為1mPa‧s以上90mPa‧s以下更佳，1mPa‧s以上80mPa‧s以下特佳。經由振動式黏度計之黏度η_F 表示氟化合物B於25℃測定時之黏度，可經由利用音叉型振動式黏度計SV-10A測定。

又本發明中的氟化合物B之表面張力γ_F 為6mN/m以上24mN/m以下者更佳，6mN/m以上22mN/m以下特佳。表面張力γ_F 表示氟化合物B於25℃測定時之表面張力，使用全自動表面張力計，可經由懸滴法(pendant drop method)測定。

氟化合物B之經由振動式黏度計的黏度η_F 及表面張力γ_F 係與對於氟處理無機粒子表面之氟化合物B之親和力有關。氟化合物B之黏度η_F 為1mPa‧s以上100mPa‧s以下、表面張力為6mN/m以上26mN/m以下時，由於氟化合物B之親和力，氟化合物B可吸附氟處理無機粒子表面，可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集體之形成。此結果，防止塗料組成物之乾燥時之流動性降低，折射率相異的2層之自發的層形成變容易，可表現良好的抗反射性。

塗料組成物中之氟化合物B可為1種類，亦可混合2種類以上來使用。又氟化合物B可為與氟化合物A相同之化合物。又，塗料組成物中，含有經由紫外線等硬化的氟化合物B的場合，因可防止氧阻礙，經紫外線的硬化步驟之氧濃度儘可能低者為較佳，於氮氣雰圍下(氮清洗)下之硬化者為更佳。

氟化合物B之莫耳體積V_F 為200cm³ /mol以上1000cm³ /mol以下者較佳。莫耳體積V_F 為200cm³ /mol以上1000cm³ /mol以下時，氟化合物B變的容易吸附氟處理無機粒子表面，可抑制氟處理無機粒子彼此之粒子間相互作用、或凝集體之形成。此結果，防止塗料組成物乾燥時之流動性之降低，折射率相異的2層之自發的層形成變容易，可表現良好的抗反射性。

其中，莫耳體積V_F 係分子量M除以密度ρ的量，表示1mol之體積(cm³ /mol)。尤其，關於氟化合物B之莫耳體積，若算出化合物所含的基之莫耳體積，因加成性成立，可算出化合物之莫耳體積。基之莫耳體積記載於「氟試藥」2008目錄(Daikin化成品販賣股份有限公司)，基於此可算出各種氟化合物B之莫耳體積。

又本發明中的氟化合物B為選自以下之一般式(4)之單體、一般式(5)之單體、來自一般式(4)之單體的寡聚物、及來自一般式(5)之單體的寡聚物組成之群之至少1個化合物者為更佳。

H₂ C=C(R¹ )-COO-R² -R^f1 　‧‧‧一般式(4)

A-R³ -R^f1 　‧‧‧一般式(5)

(式中，R¹ 為氫原子或甲基，R^f1 為碳數4～7之直鏈狀或分枝狀之氟烷基，R² 為碳數1～10之烷基，R³ 為碳數1～10之烷基，A為反應性部位)。

又，氟化合物B具有特定氟烷基，更具有反應性部位者為較佳。具有氟烷基及反應性部位的氟化合物B，於一般式(4)之單體或來自一般式(4)之單體的寡聚物，R^f1 為氟烷基，H₂ C=C(R¹ )-為反應性部位。又，於一般式(5)之單體、或來自一般式(5)之單體的寡聚物，R^f1 為氟烷基，A為反應性部位。

就一般式(4)之單體之化合物之具體例而言，可舉例丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、丙烯酸2-過氟丁基乙酯、丙烯酸3-過氟丁基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-過氟己基乙酯、丙烯酸3-過氟己基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-過氟辛基乙酯、丙烯酸3-過氟辛基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-過氟癸基乙酯、丙烯酸2-過氟-3-甲基丁基乙酯、丙烯酸3-過氟-3-甲氧基丁基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-過氟-5-甲基己基乙酯、丙烯酸3-過氟-5-甲基己基-2-羥基丙酯、丙烯酸2-過氟-7-甲基辛基-2-羥基丙酯、丙烯酸四氟丙酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸十二氟庚酯、丙烯酸十六氟壬酯、丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸2,2,3,3,3-戊氟丙酯、甲基丙烯酸2-過氟丁基乙酯、甲基丙烯酸3-過氟丁基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-過氟辛基乙酯、甲基丙烯酸3-過氟辛基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-過氟癸基乙酯、甲基丙烯酸2-過氟-3-甲基丁基乙酯、甲基丙烯酸3-過氟-3-甲基丁基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-過氟-5-甲基己基乙酯、甲基丙烯酸3-過氟-5-甲基己基-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-過氟-7-甲基辛基乙酯、甲基丙烯酸3-過氟-7-甲基辛基乙酯、甲基丙烯酸四氟丙酯、甲基丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、甲基丙烯酸十六氟壬酯、甲基丙烯酸1-三氟甲基三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟丁酯等。

又，就來自一般式(4)之單體的寡聚物之化合物而言，可舉例使用上述一般式(4)之單體，經由自由基聚合等反應而獲得之平均聚合度2～10左右之化合物。

就一般式(5)之單體之化合物而言，可舉例十七氟癸基三甲氧基矽烷(TSL8233，Momentive Performance Materials Japan合同會社製)、十三氟辛基三甲氧基矽烷(TSL8257、omentive Performance Materials Japan合同會社製)等為首之具有氟烷基之氟烷基矽烷。

又，來自一般式(5)之單體的寡聚物之化合物係於上述氟烷基矽烷中加入規定量之水並於酸觸媒之存在下餾除副生成的醇的同時一邊反應而得的化合物。經由此反應，氟烷基矽烷之一部份水解，再者此等引起縮合反應而獲得寡聚物。水解率可依使用的水量作調節。用於水解的水量，通常相對於矽烷偶合劑，為1.5莫耳倍以上。再者所得寡聚物之平均聚合度為2～10之化合物較佳。

為了作成由振動式黏度計的黏度η_F 為1mPa‧s以上100mPa‧s以下，表面張力γ_F 為6mN/m以上26mN/m以下，及莫耳體積V_F 為200cm³ /mol以上1000cm³ /mol以下之氟化合物B，具有碳數4以上7以下之直鏈狀或分枝狀之氟烷基鏈者為宜。此外為選自前述一般式(4)之單體、一般式(5)之單體、來自一般式(4)之單體的寡聚物、及來自一般式(5)之單體的寡聚物之至少1種之化合物者較佳。作為如上述之較佳氟化合物B，可舉例2-過氟己基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-過氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基三甲氧基矽烷等。

[有機溶劑]

塗料組成物除了含有構成元素相異的2種類以上之無機粒子或疏水性化合物B，進一步含有有機溶劑者為較佳。含有有機溶劑時，抑制氟處理無機粒子之粒子間相互作用，可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集體之形成。又，因防止塗料組成物乾燥時之流動性之降低，塗布塗料組成物後之自發的層形成變容易，可表現良好的抗反射性。

有機溶劑並未特別限定，但通常，常壓下之沸點為200℃以下之溶劑為較佳。具體而言，使用水、醇類、酮類、醚類、酯類、烴類、醯胺類、氟類等。可使用此等中之1種，亦可組合2種以上使用。具體而言，例如，可舉例丙二醇單甲基醚(PGME)、環己酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲醇、異丙基醇等，尤其由無機粒子之安定性之點，以異丙基醇、丙二醇等為特佳。

就醇類而言，例如，可舉例甲醇、乙醇、異丙基醇、異丁醇、正丁醇、第三丁醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二乙二醇單乙基醚、苄基醇、苯乙醇等。作為酮類，例如，可舉例丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等。作為醚類，例如，可舉例二丁基醚、丙二醇單乙基醚乙酸鹽等。作為酯類，例如，可舉例乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯等。作為芳香族類，例如，可舉例甲苯、二甲苯等。作為醯胺類，例如，N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。

塗料組成物中之全部成分之合計為100質量%，塗料組成物含有1質量%以上30質量%以下之疏水性化合物B為較佳。疏水性化合物B之含量為2質量%以上25質量%以下者更佳，3質量%以上20質量%以下特佳。其中塗料組成物中之全部成分亦包含有機溶劑、黏結劑成分、其他各種添加劑。

塗料組成物經由含有1質量%以上30質量%以下之疏水性化合物B，疏水性化合物B會吸附於氟處理無機粒子表面，可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集體之形成。此結果防止塗料組成物乾燥時之流動性降低，折射率差大的2層之厚度控制變容易，可表現良好的抗反射性。又疏水性化合物B因將塗料組成物塗布，乾燥得過程中提供無機粒子之分散安定化，相對於亦含溶劑的全部成分的比率係重要的。因此，不是對無機粒子的比率，以對全部成分的比率，含有上述範圍之疏水性化合物B者為較佳。

[塗料組成物之黏結劑原料]

抗反射層含有1種類以上之黏結劑者為重要的。因此抗反射構件之適合的製造方法中所使用的塗料組成物含有1種類以上之黏結劑原料者為較佳。即，由塗料組成物所獲得的抗反射層中之第1層及第2層，含有來自塗料組成物中之黏結劑原料的黏結劑者為重要的。以下，塗料組成物中所含的黏結劑表示為「黏結劑原料」，抗反射層中所含的黏結劑表示「黏結劑」。惟，塗料組成物中之黏結劑原料亦有直接為抗反射層之黏結劑存在的情形。

黏結劑原料並未特別限定，但由製造性之觀點，經由熱及/或活性能量線等而硬化的黏結劑原料為較佳。黏結劑原料可為一種類，亦可混合二種類以上使用。又，由膜中保持前述氟處理無機粒子或前述氟處理無機粒子以外之無機粒子的觀點，分子中具有烷氧基矽烷或烷氧基矽烷之水解物或反應性雙鍵的黏結劑原料為較佳。又經由UV射線硬化的場合，由可防止氧阻礙而儘可能使氧濃度低者為較佳，於氮氣雰圍下硬化者為更佳。就此等黏結劑原料而言，使用多官能丙烯酸酯為較佳。就具體例而言，可使用新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯聚合物等之1分子中具有3個以上之(甲基)丙烯醯氧基的多官能丙烯酸酯及其變性聚合物。更佳為具有4或5個以上之(甲基)丙烯醯氧基的多官能丙烯酸酯及其變性聚合物。此等單體可混合1種或2種以上使用。又，作為市售的多官能丙烯酸系組成物，有三菱RAYON股份有限公司之商品名“DIABEAM”系列、長瀬產業股份有限公司之商品名“Denacol”系列、新中村股份有限公司之商品名“NK酯”系列、大日本油墨化學工業股份有限公司之商品名“UNIDIC”、東亞合成化學工業股份有限公司之“ARONIX”系列、日本油脂股份有限公司之“Blenmer”系列、日本化藥股份有限公司之商品名“KAYARAD”系列、共榮社化學股份有限公司之商品名“Litester”系列等。

[塗料組成物之其他成分]

於塗料組成物中進一步含有起始劑或硬化劑或觸媒者為較佳。為了促進為氟處理無機粒子的氟處理矽石粒子與黏結劑原料之反應、促進黏結劑間之反應，使用起始劑及觸媒。就起始劑而言，可開始或促進塗料組成物經由陰離子、陽離子、自由基反應等而聚合、縮合或交聯反應者為較佳。

起始劑、硬化劑及觸媒可使用各式各樣者。又，起始劑、硬化劑及觸媒可各自單獨使用，亦可同時使用複數之起始劑、硬化劑及觸媒。再者，亦可併用酸性觸媒或熱聚合起始劑或光聚合起始劑。就酸性觸媒之例而言，可舉例鹽酸水溶液、甲酸、乙酸等。就熱聚合起始劑之例而言，可舉例過氧化物、偶氮化合物。又，就光聚合起始劑之例而言，可舉例烷基苯酮系化合物、含硫系化合物、醯基膦氧化物系化合物、胺系化合物等。就光聚合起始劑而言，由硬化性之點，烷基苯酮系化合物為較佳。就烷基苯酮形化合物之具體例而言，可舉例2.2-二甲氧基-1.2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-N-啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-N-啉基苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁烷、1-環己基-苯基酮、2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-[4-(2-乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮等。

又，起始劑及硬化劑之含有比率，相對於塗料組成物中之100質量份之黏結劑成分，0.001質量份至30質量份為較佳。更佳為0.05質量份至20質量份，再更佳為0.1質量份至10質量份。

作為其他例，塗料組成物中視必要可進一步含有界面活性劑、增黏劑、調平劑等之添加劑。

[塗料組成物中之各成分之含量]

塗料組成物中之氟處理無機粒子與其他無機粒子之含有比率以(氟處理無機粒子之含量/其他無機粒子之含量)之質量比為1/30以上1/1以下者較佳。

將(氟處理無機粒子之含量/其他無機粒子之含量)之質量比作成1/30以上1/1以下，可使所得抗反射層之低折射率層之厚度與高折射率層之厚度比固定。因此以1次之塗布，於作成低折射率層與高折射率層之厚度的同時，可容易成為具有抗反射機能的厚度。又高折射率層之厚度厚時，賦予硬塗機能的情形亦無損抗反射機能，可以1次塗布作成必要厚度。(氟處理無機粒子之含量/其他無機粒子之含量)之質量比為1/29以上1/2以下更佳，1/26以上1/3以下特佳，1/23以上1/4以下最佳。

塗料組成物中之各成分之含量為將塗料組成物全體作為100質量%，塗料組成物中所含全部無機粒子(亦含經氟化合物A施與表面處理的無機粒子)之合計為0.2質量%以上40質量%以下，有機溶劑為40質量%以上98質量%以下，疏水性化合物B為0.5質量%以上30質量%以下，以及黏結劑、起始劑、硬化劑及觸媒等之其他成分為0.1質量%以上20質量%以下者較佳。各成分之含量為全部之無機粒子之合計為1質量%以上35質量%以下，有機溶劑為50質量%以上97質量%以下，疏水性化合物B為1質量%以上25質量%以下，及其他成分為1質量%以上15質量%以下者更佳。

特佳為構成元素相異的2種類以上之無機粒子為金屬氧化物粒子與氟處理矽石粒子，此等之合計為2質量%以上30質量%以下，有機溶劑為60質量%以上95質量%以下，疏水性化合物B為2質量%以上20質量%以下，及其他成分為2質量%以上10質量%以下。

[支撐基材]

除了將抗反射構件直接設於CRT影像顯示面或透鏡表面的情形之外，抗反射構件具有支撐基材者為重要的。其中，支撐基材係指被直接塗布塗料組成物的構件。就支撐基材而言，可單獨使用玻璃板或塑膠薄膜等，亦可使用於玻璃板或塑膠薄膜上設置抗反射層以外之各種機能層者，或可使用於玻璃板或塑膠薄膜上施與各種處理者。就支撐基材之構件而言，塑膠薄膜亦較玻璃板為較佳。就塑膠薄膜之材料之例而言，有纖維素酯(例如，三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、硝基纖維素)、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚-1,4-環己烷對苯二甲酸二甲酯、聚伸乙基-1,2-二苯氧基乙烷-4,4’-二羧酸酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯)、聚苯乙烯(例如，間規聚苯乙烯)、聚烯烴(例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚碸、聚醚碸、聚芳香酯、聚醚醯亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯及聚醚酮等。此等中尤以三乙醯基纖維素、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯及聚萘二甲酸乙二酯為較佳。

各種機能層係指易接著層、硬塗層、抗靜電層等之抗反射層以外之機能層。各種處理係指藥品處理、機械的處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高周波處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混酸處理及臭氧氧化處理等。

本發明之較佳態樣係於欠缺耐擦傷性的塑膠薄膜上，經由設置將塗料組成物作1次塗布的步驟，除了可賦與支撐基材抗反射性之外亦可賦與耐擦傷性。不需如向來技術的方式於支撐基材上設置硬塗層而使用具有硬塗層的薄膜作為支撐基材，亦可使用耐擦傷性差的材料作為抗反射構件之支撐基材。

支撐基材之塗布塗料組成物側之面之表面粗度為40nm以下者較佳。表面粗度為35nm以下更佳，30nm以下特佳。其中將具有抗反射層以外之機能層的玻璃板或塑膠薄膜作為支撐基材，於機能層上將塗料組成物塗布的情形，塗布塗料組成物側之面之表面粗度並非機能層之表面之表面粗度，而為積層機能層側之玻璃板或塑膠薄膜之表面粗度。又，將施與各種處理的玻璃板或塑膠薄膜作為支撐基材，於施與處理面上塗布塗料組成物的情形，塗布塗料組成物側之面之表面粗度為施與處理側之玻璃板或塑膠薄膜之表面粗度。

具有機能層的玻璃板或塑膠薄膜作為支撐基材使用的情形，作為於支撐基材塗布塗料組成物側之面，可為玻璃板或塑膠薄膜之表面，亦可為機能層之表面，並未特別限定。惟，為了賦與抗反射構件硬塗性，使用具有硬塗層的玻璃板或塑膠薄膜作為支撐基材的場合，於硬塗層之表面塗布塗料組成物。為了提升抗反射層與支撐基材之接著性，使用具有易接著層的玻璃板或塑膠薄膜作為支撐基材的場合，於易接著層之表面塗布塗料組成物。

支撐基材之光透過率為80%以上100%以下較佳。光透過率為86%以上100%以下更佳。光透過率係指照射光之際透過試料的光之比率，為基於JIS K 7361-1(1997)所測定的值。抗反射構件之光透過率值越大越好，值小時霧度值會上昇，產生影像劣化的可能性變高。霧度為透明材料之濁度指標，係基於JIS K 7136(2000)測定的值。霧度越小表示透明性越高。其中，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜上設有各種機能層的支撐基材時，光線透過率為設有各種機能層的狀態之值。又，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜施與各種處理的支撐基材之場合，光線透過率為施與各種處理的狀態之值。

支撐基材之霧度為0.01%以上2.0%以下較佳。霧度為0.05%以上1.0%以下更佳。其中，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜上設有各種機能層的支撐基材時，霧度為設有各種機能層的狀態之值。又，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜施與各種處理的支撐基材之場合，霧度為施與各種處理的狀態之值。

支撐基材之折射率為1.4～1.7者較佳。折射率為光由空氣中進入物質中時，於此界面下進行方向之變化角度的比率，係基於JIS K 7142(1996)所測定的值。其中，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜設有各種機能層的支撐基材實，折射率並非玻璃板部分、塑膠薄膜部分或機能層部分之各別折射率，而是支撐基材全體之平均值。支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜上施與各種處理的支撐基材之場合，折射率為施與各種處理的狀態之支撐基材全體之平均值。

支撐基材亦可含紅外線吸收劑或紫外線吸收劑。紅外線吸收劑之含量，於支撐基材全部成分100質量%中為0.01質量%以上20質量%以上者較佳。更佳為0.05質量%以上10質量%以上。作為滑動劑，於透明支持體可含有惰性無機化合物之粒子。惰性無機化合物之例包含SiO₂ 、TiO₂ 、BaSO₄ 、CaCO₃ 、滑石及高嶺土。再者，於支撐基材可實施表面處理。其中，支撐基材為於玻璃板或塑膠薄膜設有各種機能層的支撐基材時，紅外線吸收劑或紫外線吸收劑可含於塑膠薄膜中，亦可含於機能層部分。

[抗反射構件之製造方法]

使用特定之硬化條件與材料，依下列(i)或(ii)任一者之方法可形成本發明之抗反射構件。其中由界面之形狀、基質之連續性之觀點，(ii)之方法為較佳。

(i)將支撐基材搬入塗布步驟，其次使用特定之硬化條件與材料，於支撐基材上塗布1層份之液膜並乾燥，其次將支撐基材自塗布步驟搬出。此程序進行2次，於支撐基材上形成折射率相異的2個層的方法。

(ii)將支撐基材搬入塗布步驟，其次使用特定之硬化條件與材料，於支撐基材上僅作1次塗布形成抗反射層的塗料組成物並乾燥，其次將支撐基材自塗布步驟搬出。如此於支撐基材上同時形成折射率相異的2個層的方法。

(i)之方法中的特定硬化條件與材料係將先經塗布的層(第2層)之表面，經由使後來塗布的第1層膨潤，形成目的之凹凸構造。

以(ii)之方法，將塗料組成物於支撐基材上經由浸漬塗布法、氣動刮刀塗布法、簾塗法、輥塗布法、金屬棒材塗布法、照相凹版塗布法等之塗布方法，具有1次塗布的步驟(塗布步驟)者為重要的。接著經由將經塗布的塗料組成物加熱等而進行乾燥的步驟(乾燥步驟)，可獲得抗反射構件。

依據(ii)之製造方法，經將塗料組成物於支撐基材上僅作1次之塗布的步驟，於支撐基材上可同時形成折射率相異的2個層。

其中，以使用含有氟處理無機粒子、其他無機粒子及疏水性化合物B的塗料組成物的情形場合為例，說明同時形成折射率相異的2個層而成的抗反射層的推定機制。

首先塗料組成物中，氟處理無機粒子與親和性高的疏水性化合物B會選擇性吸附於氟處理無機粒子表面，而氟處理無機粒子與其他無機粒子保持均一地分散的狀態。即使將此塗料組成物塗布於支撐基材上後，經塗布的塗料組成物同樣地保持氟處理無機粒子與其他無機粒子為均一分散的狀態。而於乾燥步驟，氟處理無機粒子會移行至能量上安定的空氣側(最表面)，於最表層形成由氟處理無機粒子而成的第1層(低折射率層)。然而，於此狀態，陰乾燥途中存有許多未揮發溶劑，亦同時進行揮發。於此揮發過程，暫時形成的低折射率層被一次破壞。然而，由於共存的低揮發性之疏水性化合物B之存在，即使溶劑少的狀態，氟處理無機粒子彼此不會凝集而容易移動。之後，經一次破壞的低折射率層再度配列，再次形成均一的低折射率層。而近支撐基材側形成含有許多其他無機粒子的第2層(高折射率層)。

又即使不含疏水性化合物B的場合，經由將塗料組成物之黏度變化(Δη)作成0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下，可抑制氟處理無機粒子彼此之凝集，推定會發生與含有疏水性化合物B的場合同樣之現象。

為了獲得如上述之抗反射層，除了自所得抗反射層中完全除去溶劑之外，由所謂無缺陷的使2個之二層分離的觀點，於乾燥步驟加熱者亦為較佳。乾燥步驟分成(A)升溫至材料全體乾燥的溫度的材料預熱期間、(B)至塗液不動之恒率乾燥期間、(C)減率乾燥期間。由(A)材料預熱期間至(B)恒率乾燥期間，伴隨溶劑之蒸發形成折射率相異的2個層。為了確保形成2個層的無機粒子之移動上充分的時間，風速低、儘可能低溫下乾燥者為較佳。

此乾燥初期(A)材料預熱期間或(B)恒率乾燥期間中的風速為0.1m/s以上10m/s以下較佳。風速為0.5m/s以上5m/s以下更佳。乾燥後期中的(C)減率乾燥期間，由減少殘存溶劑的點，風速為1m/s以上15m/s以下較佳，溫度為100℃以上200℃以下較佳。就加熱溫度而言，可由使用的溶劑之沸點及聚合物之玻璃轉移溫度等決定，並未特別限定。於乾燥步驟中的加熱方式可舉例熱風噴射、紅外線、微波、誘導加熱等。其中，於乾燥初期(A)材料預熱期間或(B)恒率乾燥期間，由風速、溫度之點，相對塗布面為平行送風的熱風乾燥為較佳。又於乾燥後期(C)減率乾燥期間，由泛用性、乾燥速度之點，相對塗布面為垂直送風的熱風乾燥為較佳。

再者，對乾燥步驟後形成的支撐基材上之2層，經由照射熱或能量線，亦可進行另外的硬化(硬化步驟)。於硬化步驟，以熱硬化的場合，雰圍氣溫度為由室溫至200℃者較佳。為了促進溶劑之蒸發、及含矽烷醇的樹脂之硬化，雰圍氣溫度為100℃以上200℃以下更佳，130℃以上200℃以下特佳。經由作成100℃以上，殘存的溶劑量減少，於非常短的時間，含矽烷醇等的樹脂之硬化會進行。

又，經由能量線硬化的場合，由泛用性之點，以電子線(EB線)或紫外線(UV線)為較佳。又經由紫外線硬化的場合，由可防止氧阻害的觀點，氧濃度儘可能低者為較佳，氮氣雰圍下(氮氣清洗)硬化者更佳。氧濃度高的場合，最表面之硬化被阻礙，硬化變的不充分，有耐擦傷性、耐鹼性變的不充分的情形。又，就照射紫外線之際所使用的紫外線燈之種類而言，例如，可舉例放電燈方式、閃光方式、雷射方式、無電極燈方式等。使用放電燈方式的高壓水銀燈使紫外線硬化的場合，紫外線之照度為100mW/cm² 以上3000mW/cm² 以下者。紫外線之照度為200mW/cm² 以上2000mW/cm² 以下較佳，300mW/cm² 以上1500mW/cm² 以下更佳。紫外線之積算光量為100mJ/cm² 以上3000mJ/cm² 以下。積算光量為200mJ/cm² 以上2000mJ/cm² 以下較佳，300mJ/cm² 以上1500mJ/cm² 以下更佳。其中，紫外線照度係指每單位面積受到的照射強度下依燈輸出功率、發光光譜效率、發光燈泡的直徑、反射鏡之設計及與被照射物之光源距離而變化。然而，照度並未依搬送速度而變化。又，紫外線積算光量係指每單位面積受到的照射能量下，其到達其表面的光子之總量。積算光量與通過光源下的照射速度成反比例，與照射次數及燈泡燈數成比例。硬化經由熱進行的場合，亦可同時進行乾燥步驟與硬化步驟。

[實施例]

其次，基於實施例說明本發明，但本發明未必限定於此等例。又，以下之高折射率層成分係指如前述之第2層成分，低折射率層成分係指如前述之第1層成分。

＜製造例1＞

[易接著層用塗料組成物1-1]

混合下述材料，獲得易接著層用塗料組成物1-1。

‧水性丙烯酸樹脂　30.0質量份

(NIKASOLA A08 NIPPON CARBIDE INDUSTRIES(股)製20質量%)

‧膠體矽石粒子分散物　6.0質量份

(Snowtex OL日產化學工業(股)20質量%數量平均粒徑40nm)

‧界面活性劑　0.1質量份

(OLFINE EXP4051F日信化學工業(股)製)

‧水　100質量份。

[易接著層用塗料組成物1-2]

混合下述材料，獲得易接著層用塗料組成物1-2。

‧水性丙烯酸樹脂　30.0質量份

(NIKASOLA A08 NIPPON CARBIDE INDUSTRIES(股)製20質量%)

‧　膠體矽石粒子分散物　1.5質量份

(Sphaerica 140日揮觸媒化成(股)40質量%數量平均粒徑140nm)

‧　界面活性劑　0.1質量份

(OLFINE EXP4051F日信化學工業(股)製)

‧　水　100質量份。

[易接著層用塗料組成物1-3]

混合下述材料，獲得易接著層用塗料組成物1-3。

‧　水性丙烯酸樹脂　30.0質量份

(NIKASOLA A08 NIPPON CARBIDE INDUSTRIES(股)製20質量%)

‧　膠體矽石粒子分散物　3.0質量份

(Sphaerica 140日揮觸媒化成(股)40質量% 數量平均粒徑140nm)

‧　界面活性劑　0.1質量份

(OLFINE EXP4051F日信化學工業(股)製)

‧　水　100質量份。

[易接著層用塗料組成物1-4]

混合下述材料，獲得易接著層用塗料組成物1-4。

‧　水性丙烯酸樹脂　30.0質量份

(NIKASOLA A08 NIPPON CARBIDE INDUSTRIES(股)製20質量%)

‧　膠體矽石粒子分散物　3.0質量份

(Seahoster KEP30W日本觸媒(股)製20質量%數量平均粒徑300nm)

‧界面活性劑　0.1質量份

(OLFINE EXP4051F日信化學工業(股)製)

‧水　100質量份。

[易接著層用塗料組成物1-5]

混合下述材料，獲得易接著層用塗料組成物1-5。

‧水性丙烯酸樹脂　30.0質量份

(NIKASOLA A08 NIPPON CARBIDE INDUSTRIES(股)製　20質量%)

‧膠體矽石粒子分散物　10.0質量份

(Seahoster KEP30W日本觸媒(股)製　20質量%數量平均粒徑300nm)

‧界面活性劑　0.1質量份

(OLFINE EXP4051F日信化學工業(股)製)

‧水　100質量份。

[硬塗層用塗料組成物1-1]

混合下述材料，獲得硬塗層用塗料組成物1-1。

‧新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)　30.0質量份

‧IRGACURE 907(商品名，Ciba Speciality Chemicals公司製)　1.5質量份

‧甲基異丁基酮　73.5質量份。

[硬塗層用塗料組成物1-2]

混合下述材料，獲得硬塗層用塗料組成物1-2。

‧新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)　30.0質量份

‧膠體矽石粒子分散物　20質量份

(ELCOM　TO-1025SIV日揮觸媒化成(股)　30質量%數量平均粒徑：120nm)

‧IRGACURE 907(商品名，Ciba Speciality　Chemicals公司製)　1.5質量份

‧甲基異丁基酮　73.5質量份。

[高折射率層成分(A-8)]

混合下述材料，獲得高折射率層成分(A-8)。

‧二氧化鈦粒子分散物　72質量份

(ELCOM日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%、數量平均粒徑8nm)

‧黏結劑原料A　18質量份

(EBCRYL8210：Daycel　Cytec(股)固體成分　100質量%)

‧2-丙醇　1質量份

‧乙二醇單丁基醚　9質量份。

[高折射率層成分(A-15)]

除將二氧化鈦粒子分散物變換為下述二氧化鋯粒子分散物之外，混合與高折射率層成分(A-8)相同的材料，獲得高折射率層成分(A-15)。

‧二氧化鋯粒子分散物

(ELCOM日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%、數量平均粒徑15nm)。

[高折射率層成分(A-25)]

除將二氧化鈦粒子分散物變換為下述ATO粒子分散物之外，混合與高折射率層成分(A-8)相同的材料而獲得高折射率層成分(A-15)。

‧ATO粒子分散物

(Lioduras東洋油墨(股)製：固體成分30質量%、數量平均粒徑25nm)。

[高折射率層成分(B-8)]

除將黏結劑原料A變換為下述材料之外，混合與高折射率層成分(A-8)相同的材料，獲得高折射率層成分(B-8)。

‧黏結劑原料B

(EBCRYL4858：Daycel Cytec(股)固體成分100質量%)。

[高折射率層成分(B-15)]

除將黏結劑原料A變換為下述材料之外，混合與高折射率層成分(A-15)相同的材料，獲得高折射率層成分(B-15)。

‧黏結劑原料B

(EBCRYL4858：Daycel Cytec(股)固體成分100質量%)。

[高折射率層成分(X)]

混合下述材料，獲得高折射率層成分(X)。

‧Opstar TU4005(JSR(股))　1.0質量份

‧2-丙醇　1.0質量份

‧乙二醇單丁基醚　0.11質量份。

[低折射率層成分(1-a)]

於15g之中空矽石Slaria(日揮觸媒化成(股)製中空矽石：固體成分濃度20質量%、數量平均粒徑60nm)，混合1.37g甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷與0.17g之10質量%甲酸水溶液，於70℃攪拌1小時。其次，加入1.38g之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F及0.057g之2,2-偶氮雙異丁腈後，於90℃加熱攪拌60分鐘。之後，加入異丙基醇稀釋，作成14質量%之固體成分之低折射率層成分(1-a)。

[低折射率層成分(1-b)]

除將中空矽石變換為Slaria(日揮觸媒化成(股)製中空矽石：固體成分濃度20質量%、數量平均粒徑40nm)以外，混合與低折射率層成分(1-a)相同的材料，獲得低折射率層成分(1-b)。

[低折射率層成分(1-c)之調整]

除將中空矽石變換為Oscar(日揮觸媒化成(股)製膠體矽石：固體成分濃度20質量%、數量平均粒徑120nm)以外，混合與低折射率層成分(1-a)相同的材料，獲得低折射率層成分(1-c)。

[低折射率層成分(1-d)之調整]

於中空矽石Slaria(日揮觸媒化成(股)製中空矽石：固體成分濃度20質量%、數量平均粒徑60nm) 15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得14質量%之固體成分之低折射率層成分(1-d)。

[抗反射層用塗料組成物1-1]

混合下述材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-1。

‧低折射率層成分(1-a)　13質量份

‧高折射率層成分(A-8)　38質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮　0.7質量份

‧疏水性化合物B-1　5.1質量份

(H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F數量平均分子量518)

‧2-丙醇　43.2質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-2]

除將高折射率層成分(A-8)變換為高折射率層成分(A-15)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-1相同的材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-2。

[抗反射層用塗料組成物1-3]

除將低折射率層成分(1-a)變換為低折射率層成分(1-b)，高折射率層成分(A-8)變換為高折射率層成分(B-15)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-1相同的材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-3。

[抗反射層用塗料組成物1-4]

除將低折射率層成分(1-a)變換為低折射率層成分(1-b)、高折射率層成分(A-8)變換為高折射率層成分(B-8)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-1相同的材料，獲得抗反射層用塗料組成物4。

[抗反射層用塗料組成物1-5]

混合下述材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-5。

‧　低折射率層成分(1-a)　13質量份

‧　高折射率層成分(B-8)　29質量份

‧　2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮0.55質量份

‧　疏水性化合物B-1　3.8質量份

(H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F　數量平均分子量518)

‧　2-丙醇　53.6質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-6]

混合下述材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-6。

‧　低折射率層成分(1-a)　13質量份

‧　高折射率層成分(A-8)　21質量份

2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮0.40質量份

‧　疏水性化合物B-1　2.7質量份

(H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F　數量平均分子量518)

‧　2-丙醇　62.9質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-7]

混合下述材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-7。

‧　低折射率層成分(1-a)　6質量份

‧　高折射率層成分(A-8)　65質量份

‧　2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮1.2質量份

‧　疏水性化合物B-1　20質量份

(H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F數量平均分子量518)

‧2-丙醇　7.8質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-8]

混合下述材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-8。

‧低折射率層成分(1-a)　5.5質量份

‧高折射率層成分(B-8)　85質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮1.65質量份

‧疏水性化合物B-1　30質量份

(H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F數量平均分子量518)。

[抗反射層用塗料組成物1-9]

混合下述材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-9。

‧低折射率層成分(1-a)　13質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮　0.10質量份

‧黏結劑原料A　1質量份

(EBCRYL8210：Daycel Cytec(股)固體成分100質量%)

‧2-丙醇　85.9質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-10]

混合下述材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-10。

‧高折射率層成分(A-25)　50質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮0.9質量份

‧2-丙醇　49質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-11]

混合下述材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-11。

‧高折射率層成分(A-8)　38質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮0.36質量份

.2-丙醇　61.6質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-13]

混合下述材料獲得抗反射層用塗料組成物1-13。

‧低折射率層成分(1-b)　13質量份

‧高折射率層成分(x)　9質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮　0.90質量份

‧2-丙醇　77.9質量份。

[抗反射層用塗料組成物1-14]

除將低折射率層成分(1-b)變更為低折射率層成分(1-c)、高折射率層成分(B-15)變更為高折射率層成分(B-8)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-3相同的材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-14。

[抗反射層用塗料組成物1-15]

除將低折射率層成分(1-a)變換為低折射率層成分(1-d)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-1相同的材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-15。

[抗反射層用塗料組成物1-16]

除將高折射率層成分(A-8)變換為高折射率層成分(A-25)、低折射率層成分(1-a)變換為低折射率層成分(1-b)以外，混合與抗反射層用塗料組成物1-1相同的材料，獲得抗反射層用塗料組成物1-16。

[抗反射層用塗料組成物1-17]

混合下述材料而獲得抗反射層用塗料組成物1-17。

‧低折射率層成分(1-a)　13質量份

‧2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮　0.1質量份

‧黏結劑原料A　0.5質量份

(EBCRYL8210：Daycel Cytec(股)固體成分100質量%)

‧黏結劑原料C　0.5質量份

(LIGHT-ACRYLATE THF-A：共榮社化學(股)固體成分100質量%)

‧2-丙醇　85.9質量份。

[抗反射構件之作成方法]

以下，顯示抗反射構件之作成方法。各樣品之構成整理於表1-3。

[支撐基材1-1]

於PET樹脂薄膜上塗布易接著性塗料的PET樹脂薄膜(Toray(股)製Lumirror U46)作為支撐基材1-1。

[支撐基材1-1U]

於PET樹脂薄膜(Toray(股)製Lumirror T60)施予電暈處理。將易接著層用塗料組成物1-1使用棒塗布器(＃2)塗布於電暈處理面上。塗布後，進行下述所示第一階段的乾燥，其次進行第二階段的乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　100℃

熱風風速　2m/s

風向　相對於塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　150℃

熱風風速　5m/s

風向　相對於塗布面為垂直

乾燥時間　1.5分鐘

將作成的支撐基材作為具有易接著層的支撐基材1-1U。

[支撐基材1-2U～1-5U]

除將易接著層用塗料組成物1-1變更為另一易接著層用塗料組成物以外，與支撐基材1-1U同樣地作成支撐基材。使用的易接著層用塗料組成物與作成的支撐基材之組合如以下所示。

‧支撐基材1-2U：易接著層用塗料組成物1-2

‧支撐基材1-3U：易接著層用塗料組成物1-3

‧支撐基材1-4U：易接著層用塗料組成物1-4

‧支撐基材1-5U：易接著層用塗料組成物1-5。

[支撐基材1-1H]

於PET樹脂薄膜(Toray(股)製Lumirror T60)施予電暈處理。使用棒塗布器(#16)將硬塗層用塗料組成物1-1塗布於電暈處理面。塗布後，進行第一階段的乾燥，其次進行第二階階的乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　70℃

熱風風速　2m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　130℃

熱風風速　5m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　1.5分鐘

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye　Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量500mJ/cm² 之紫外線於氧濃度0.1體積%之下照射而使硬化。作成的支撐基材作為具有硬塗層的支撐基材1-1H。

[支撐基材1-2H]

除將硬塗層用塗料組成物1-1變更為硬塗層用塗料組成物1-2以外，與支撐基材1-1H同樣地作成支撐基材。作成的支撐基材為支撐基材1-2H。

[實施例1-1(抗反射構件)]

於支撐基材1-1之塗布易接著層用塗料組成物的面上，使用棒塗布器(＃10)塗布抗反射層用塗料組成物1-1。塗布後，進行下述所示第一階段的乾燥，接著進行第二階段的乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　35℃

熱風風速　1.5m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　130℃

熱風風速　7m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　2分鐘

又，熱風之風速係使用來自動靜壓管的測定值。

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye　Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射而使硬化。以此作成方法作為作成方法1-1。作成的抗反射構件作為實施例1-1。

[實施例1-2～1-6，1-9，1-11～1-14，比較例1-3～1-7(抗反射構件)]

除將支撐基材1-1變更為另一支撐基材、將抗反射層用塗料組成物1-1變更為另一抗反射層用塗料組成物以外，與實施例1-1同樣地作成抗反射構件。又，使用非易接著層用塗料組成物的硬塗層用塗料組成物所塗布的支撐基材時，於經塗布硬塗層用塗料組成物的面上塗布抗反射層用塗料組成物。使用的支撐基材與抗反射層用塗料組成物、及作成的抗反射構件之組合如下。

‧實施例1-2：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-2

‧實施例1-3：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-3

‧實施例1-4：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-4

‧實施例1-5：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-5

‧實施例1-6：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-6

‧實施例1-9：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-16

‧實施例1-11：支撐基材1-1U、抗反射層用塗料組成物1-1

‧實施例1-12：支撐基材1-2U、抗反射層用塗料組成物1-1

‧實施例1-13：支撐基材1-3U、抗反射層用塗料組成物1-1

‧實施例1-14：支撐基材1-4U、抗反射層用塗料組成物1-1

‧比較例1-3：支撐基材1-1H、抗反射層用塗料組成物1-13

‧比較例1-4：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-14

‧比較例1-5：支撐基材1-1、抗反射層用塗料組成物1-15

‧比較例1-6：支撐基材1-5U、抗反射層用塗料組成物1-1

‧比較例1-7：支撐基材1-2H、抗反射層用塗料組成物1-1。

[實施例1-7、1-8(抗反射構件)]

除將抗反射層用塗料組成物1-1變更為另一抗反射層用塗料組成物、將塗布的棒塗布器(＃10)變更為另一棒塗布器以外，與實施例1-1同樣地作成抗反射構件。使用的抗反射層用塗料組成物與棒塗布器、及作成的抗反射構件之組合如下。

‧實施例1-7：抗反射層用塗料組成物1-7、棒塗布器(＃18)

‧實施例1-8：抗反射層用塗料組成物1-8、棒塗布器(＃24)。

[比較例1-1(抗反射構件)]

於支撐基材1-1之塗布易接著性塗料的面上，使用棒塗布器(＃18)將抗反射層用塗料組成物1-10塗布。塗布後，進行下述所示的第一階段之乾燥，接著進行第二階段之乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　70℃

熱風風速　3m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　130℃

熱風風速　7m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　1.5分鐘

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射而使硬化。

其次，於硬化的抗反射層用塗料組成物1-10之面上，使用棒塗布器(#10)將抗反射層用塗料組成物1-9塗布。塗布後，於相同乾燥裝置，以下述條件進行乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　35℃

熱風風速　1.5m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　130℃

熱風風速　7m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　2分鐘

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射而使硬化。將此作成方法作為作成方法1-2。作成的抗反射構件作為比較例1-1。

[比較例1-2(抗反射構件)]

除將第1次之塗布時所使用的抗反射層用塗料組成物由抗反射層用塗料組成物1-10變更為抗反射層用塗料組成物1-11，將塗布的棒塗布器由(＃18)變更為(＃10)以外，與比較例1-1同樣地作成抗反射構件。作成的抗反射構件作為比較例1-2。

[實施例1-10(抗反射構件)]

支撐基材1-1之塗布易接著性塗料的面上，使用棒塗布器(＃18)將抗反射層用塗料組成物1-10塗布。塗布後，進行如下述所示的第一階段之乾燥，接著進行第二階段之乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　70℃

熱風風速　3m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1.5分鐘

‧第二階段

熱風溫度　130℃

熱風風速　7m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　1.5分鐘

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度300W/cm² 、積算光量400mJ/cm² 之紫外線於氧存在下照射而使硬化。

其次，於硬化的抗反射層用塗料組成物1-10之面上，使用將棒塗布器(#10)抗反射層用塗料組成物1-17作塗布。塗布後，於相同乾燥裝置，進行下述條件乾燥。

‧第一階段

熱風溫度　35℃

熱風風速　1m/s

風向　相對塗布面為平行

乾燥時間　1分鐘

‧第二階段

熱風溫度　150℃

熱風風速　7m/s

風向　相對塗布面為垂直

乾燥時間　3分鐘

乾燥後，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye　Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射而使硬化。此作成方法作為作成方法1-3。作成的抗反射構件作為實施例1-10。

[抗反射構件之評價]

於製作的抗反射構件實施如下所示的性能評價。所得結果示於表1-4～1-6。除了特別指明的場合，測定係於各實施例‧比較例之1個樣品變換場所進行3次測定，使用其平均值。

[支撐基材之表面粗度Ra(nm)]

表面粗度Ra係使用表面粗度計(SURFCORDER ET4000A：小坂研究所(股)製)，基於JIS-B-0601：2001，以下述測定條件進行測定。表面粗度計使用小坂研究所(股)製之SURFCORDER ET4000A。測定係於支撐基材之塗布抗反射層用塗料組成物側面進行。

＜測定條件＞

測定速度：0.1mm/S

評價長度：10mm

截斷值λc：0.1mm

濾波器：高斯濾波器(Gaussian filter)低頻衰減(low cut)。

[抗反射層中之第1層與第2層之厚度]

抗反射層中之第1層與第2層之厚度使用穿透型電子顯微鏡(TEM)測定。抗反射層之斷面之超薄切片經由TEM以20萬倍之倍率攝影。由攝影的影像，使用影像處理軟體「EasyAccess」讀取各層厚度。合計測定30個處所之厚度，其平均值作為層之厚度。

[抗反射層中之第1層與第2層之折射率]

抗反射層中之第1層與第2層之折射率使用反射分光膜厚計測定。反射分光膜厚計使用大塚電子(股)製之FE-3000。經由反射分光膜厚計，於300～800nm之範圍測定反射率。之後使用此裝置所附屬的軟體「FE-Analysis」，依大塚電子(股)製[膜厚測定裝置綜合目錄P6(非線形最小二乘法)]記載之方法，求得550nm中的折射率。

此時，使用下述Cauchy之分散式作為折射率之波長分散之近似式，由最小二乘法(曲線配適法(Curve Fitting method))計算光學常數(C₁ 、C₂ 、C₃ )，測定550nm中的折射率。

‧n=(C₃ /λ⁴ )+(C₂ /λ² )+C₁

n表示折射率，λ表示波長，C₁ 、C₂ 、C₃ 表示光學常數。

[第1層與第2層所形成的界面]

抗反射層中之第1層與第2層所形成的界面之有無係使用穿透型電子顯微鏡(TEM)判斷。將抗反射層之超薄切片，經由TEM，以20萬倍之倍率攝影。經攝影的影像，使用影像處理軟體「EasyAccess」，將白平衡以最明部與最暗部收納到8bit色調曲線的方式調整。另以可明確區別2種類粒子的方式調整對比。

此時1個層與其他層之間可描繪出明確境界的場合，可見到明確界面。

‧可描繪出明確境界的場合：A

‧無法描繪出明確境界的場合：C。

[a、b、c之長度]

接續前述之「第1層與第2層所形成的界面」，使用穿透型電子顯微鏡(TEM)，進行以下作業，測量a、b、c之長度。

第1層與第2層所形成的界面上，以直線距離為500nm以上的方式決定2點A1、A2，求得連結此2點的直線之長度a。

其次，以目標(object)檢測模式，經由閾值之調節檢測第1層與第2層之界面，沿此2點A1、A2之間之界面計測長度b。

再者，拉出與通過A1的支撐基材之第1面正交的輔助線。大氣與第1層所形成的界面與此補助線之交點作為C1。同樣地，拉出與通過A2的支撐基材之第1面正交的輔助線。大氣與第1層所形成的界面與此輔助線之交點作為C2。沿此2點C1、C2之間之第1層與大氣形成的界面的長度c，與上述同樣地計測。

由測定的a、b、c長度，求得b/a、b/c。

[存在於第2層之粒子之數量平均粒徑]

存在於第2層之粒子之數量平均粒徑使用穿透型電子顯微鏡(TEM)測定。於前述之「第1層與第2層所形成的界面」區別的第2層部分，經由TEM以50萬倍觀察。使用影像處理軟體「EasyAccess」，測定觀察的畫面內存在的100個粒子之粒徑dp。畫面內無存在100個粒子的情形，以相同條件觀察其他處所，測量合計100個粒子之粒徑dp。其中，粒徑dp係粒子之最大徑，即粒子之長徑。內部具有空洞的粒子之場合亦同樣地測定粒子之最大徑。將100個粒子之粒徑dp之平均值作為第2層存在的粒子之數量平均粒徑。

[表面張力γ_F (mN/m)]

疏水性化合物B之表面張力γ_F 使用自動接觸角計測定。自動接觸角計使用協和界面科學(股)製之DM-501。25℃之環境下由Teflon(註冊商標)製之注射器將液體化合物押出，於注射器先端形成的液滴之形狀以附屬之多機能統合解析軟體「FAMAS」解析，算出表面張力。解析之際，依據「FAMAS使用說明書」記載之方法解析。算出上必要的化合物之密度於25℃環境下使用密度比重計測定。密度比重計係使用京都電子工業(股)製之DA-130N。

[由振動式黏度計之黏度η_F (mPa/s)]

由疏水性化合物B之振動式黏度計之黏度η_F 使用音叉型振動式黏度計測定。音叉型振動式黏度計係使用A&D(股)製之SV-10。循環水外罩通水之25℃環境下，依據「振動式黏度計使用說明書」記載之方法測量黏度η_F 。

[莫耳體積V_F (cm³ /mol)]

使用疏水性化合物B中之氟化合物B的場合之莫耳體積V_F ，基之莫耳體積基於「氟試藥」2008目錄(Daikin化成品販賣(股))而算出。

[數量平均分子量]

疏水性化合物B之數量平均分子量係於四氫呋喃溶劑，使用分子量已知之單分散聚苯乙烯作為標準物質，使用凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography)測定。凝膠滲透層析法係使用島津製作所(股)製之GC-2010。數量平均分子量M_n 係將分子量M_i 之分子數作為N_i 之際，定義為M_n =ΣM_i N_i /ΣN_i 。

[黏度變化Δη]

抗反射層用塗料組成物之剪切黏度η₁ 及η₂ 使用回轉流變儀測定。回轉流變儀係使用TA Instruments Japan(股)製之AR1000。測定用幾何學係使用直徑40mm、角度2°之錐板。

測定係於測定溫度25℃，以階梯狀使剪切速度變化的穩定流測定。具體而言，於剪切速度100s^-1 下預備剪切(30秒)後，由剪切速度1000s^-1 至0.01s^-1 為止，進行以對數間隔計16點(含1000s^-1 、10s^-1 、0.1s^-1 、0.01s^-1 4點的16點)之測定。由此資料，求得剪切速度0.1s^-1 中的黏度η₁ (mPa‧s)、及10s^-1 中的黏度η₂ (mPa‧s)。因而求得黏度η₁ 與黏度η₂ 之差的黏度變化Δη(=η₁ -η₂ )。

[由SIMS之離子強度]

SIMS之離子強度使用美國PHI公司製二次離子質量分析裝置PHI6300測定。一次離子CS以離子能3keV、一次離子電流150nA，於300μm×600μm之區域掃描。於其中央9%之面積區域，於抗反射構件之第1層之表面至支撐基材作分析，測定二次離子強度(counts)。

厚度方向中的二次離子強度之算出，必須算出濺射速度，但此濺射速度依材料而異。因此，經由TEM(穿透型電子顯微鏡、日立製作所(股)製H-9500)測量預定各層之厚度，由第1層之表面至支撐基材為止濺射所需時間算出濺射速度。而作成橫軸測定位置(濺射深度)與二次離子強度之圖，由此圖讀取厚度方向之中心位置中的二次離子強度。

如此，由第1層之厚度方向之中心位置中的SIMS的氟原子離子強度F_L 、第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS的氟原子離子強度F_H 、第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS，算出氧原子之離子強度O_H 。

[耐擦傷性]

於抗反射層之表面，垂直掛上成為250g/cm² 荷重的鋼毛(＃0000)，以1cm之長度，重覆10次往返。計數目視的傷痕個數。以下述基準分類，3點以上為合格。

5點：0個

4點：1個以上且低於5個

3點：5個以上且低於10個

2點：10個以上且低於20個

1點：20個以上。

[耐摩耗性]

本光製作所製橡皮擦摩耗試驗機之先端(先端部面積1cm² )上設置白織物(興和(股)製)，施加500g之荷重而於抗反射層表面以5cm之長度使反復5000次。計數目視的傷痕數。以下述基準分類，3點以上為合格。

5點：無傷痕

4點：1～10個傷痕

3點：11～20個傷痕

2點：21個以上傷痕

1點：試驗部分之抗反射層全面剝離。

[透明性]

基於JIS K 7136(2000)，使用日本電色工業(股)製霧度測量器，測量霧度。抗反射構件由抗反射層側使光透過的方式置於裝置中進行測定。若霧度值低於2%則透明性為合格。

[耐藥品性]

將1質量%之NaOH溶液滴下抗反射層之表面。經過15分鐘後，使用網紗進行擦拭作業。經由觀察擦拭後之表面狀態，以目視判定表面侵害。

無液滴痕跡者評價A、痕跡可確認者評價C。於一個樣品變換處所的3處所評價，採用最多的評價結果。若為A則耐藥品性為合格。

[密著性]

於抗反射層之表面上置入1mm² 之橫切100個。常態下(23℃、相對濕度65%)，於其上貼附Nichiban(股)公司製玻璃紙帶(cellophane tape)，使用橡膠輥，以荷重19.6N往返3次，加壓。然後，於90度方向剝離，由殘存個數評價。若為AA或A者，密著性為合格。

‧100個殘存：AA

‧80個以上99個以下殘存：A

‧50個以上79個以下殘存：B

‧49個以下殘存：C。

[耐候性]

使用紫外線劣化促進試驗機EYE Super UV試驗機SUV-W131(岩崎電氣(股)製)，以下述條件進行強制紫外線照射試驗。照射後評價抗反射層之密著性。

「紫外線照射條件」

照度：100mW/cm² 、溫度：60℃、相對濕度：50% RH、照射時間：50小時

密著性依據JIS K5600-5-6(1999)進行附著性(橫切法)而評價。密著性之評價結果作為抗反射層之劣化指標。若為A或B者，耐候性為合格。

‧　無剝離(無劣化)：A

‧　一部分剝離(低度劣化)：B

‧　全面剝離(劣有化)：C。

[抗反射性能]

使用島津製作所(股)製之分光光度計UV-3100，測量400nm至800nm之波長範圍之反射率。最低反射率(底部反射率)若低於0.8%，抗反射性能為合格。

[干涉不均]

支撐基材之未形成抗反射層側之面，將消光且黑之噴霧塗料均勻地塗布。將此試料之抗反射層側，由斜方向以附有三波長螢光燈(FL20SS.EX-N/18(松下電器產業(股)製)之電氣燈架)照射。目視評價此時所見干涉線。以下述基準分類，3點以上為合格。

5點：無干涉不均，清澈地顯示

3點：可確認干涉不均，但使用上無間題的程度

1點：可確認干涉不均，使用上成為問題的程度。

抗反射構件之評價結果整理於表1-4～1-6。各評價項目全部合格之抗反射構件為無問題可使用的抗反射構件。

如表1-6所示全部之實施例抗反射構件於全部項目皆合格。

實施例1-6之抗反射構件，其第2層之厚度較較佳範圍的厚度薄，耐擦傷性與耐摩耗性稍差，但為無問題且可使用的抗反射構件。

實施例1-8之抗反射構件，其第2層之厚度較較佳範圍厚度厚，透明性、抗反射性能稍差，但為無問題且可使用的抗反射構件。

實施例1-9之抗反射構件，其第2層存在的粒子之數量平均粒徑較較佳範圍大，耐摩耗性與干涉不均稍差，但為無問題且可使用的抗反射構件。

與較佳製造方法相異之方法所製造的實施例1-10之抗反射構件，氟原子之離子強度比(FL/FH)與b/c之值選離本發明之較佳範圍，耐擦傷性、耐磨耗性、干涉不均稍差，但為無問題且可使用的抗反射構件。

比較例1-1至1-3，因b/a為1.1以下，任一者皆耐摩耗性、密著性、耐藥品性、耐候性差。再者，比較例1-1與1-2，其中因B/A為小，干涉不均差。

因比較例1-4之b/a為1.45以上，故抗反射性能差。

因比較例1-5至1-7任一者皆於抗反射層之中無法形成2個層，故抗反射性能、透明性差。

＜製造例2＞

[高折射率層成分(2-a)]

將6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分濃度40質量%之高折射率層成分(2-a)。

[高折射率層成分(2-b)]

將6質量份之含有銻的氧化錫粒子的Opstar TU4005(JSR公司製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥株(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分濃度40質量%之高折射率層成分(2-b)。

[高折射率層成分(2-c)]

將6質量份之含有氧化鋯粒子的TYZ67-H01(東洋油墨(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分40質量%之高折射率層成分(2-c)。

[高折射率層成分(2-d)]

將6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分濃度60質量%之高折射率層成分(2-d)。

[高折射率層成分(2-e)]

將6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分濃度3.5質量%之高折射率層成分(2-e)。

[高折射率層成分(2-f)]

將6質量份之含有氧化銻的氧化錫Opstar TU4005(JSR公司製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)混合，獲得固體成分濃度40質量%之高折射率層成分(2-f)。

[低折射率層成分(2-a)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。接著，加入1.38g之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F與0.057g之2,2-偶氮雙異丁腈後，於90℃加熱攪拌60分鐘。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(2-a)。

[低折射率層成分(2-b)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(2-b)。

[低折射率層成分(2-c)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(2-c)。

[低折射率層成分(2-d)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。接著，加入1.38g之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F及0.057g之2,2-偶氮雙異丁腈後，於90℃加熱攪拌60分鐘。之後加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度3.5質量%之低折射率層成分(2-d)。

[抗反射層用塗料組成物2-1]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，獲得抗反射層用塗料組成物2-1。

[抗反射層用塗料組成物2-2]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-c)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為10質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，獲得抗反射層用塗料組成物2-2。

[抗反射層用塗料組成物2-3]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-b)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，獲得抗反射層用塗料組成物2-3。

[抗反射層用塗料組成物2-4]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為40質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-4。

[抗反射層用塗料組成物2-5]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₆ F，作為抗反射層用塗料組成物2-5。

[抗反射層用塗料組成物2-6]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₆ F，獲得抗反射層用塗料組成物2-6。

[抗反射層用塗料組成物2-7]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₄ F，作為抗反射層用塗料組成物2-7。

[抗反射層用塗料組成物2-8]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₄ F，作為抗反射層用塗料組成物2-8。

[抗反射層用塗料組成物2-9]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B的H₂ C=CH-COO-CH₂ CF₂ CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-9。

[抗反射層用塗料組成物2-10]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B的CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OCH₃ )₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-10。

[抗反射層用塗料組成物2-11]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為25質量%的方式添加為氟化合物B的CF₃ (CF₂ )₅ CH₂ CH₂ Si(OCH₃ )₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-11。

[抗反射層用塗料組成物2-12]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為5質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之9量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物2-12。

[抗反射層用塗料組成物2-13]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為10質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之7量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物2-13。

[抗反射層用塗料組成物2-14]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為15質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F之6量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物2-14。

[抗反射層用塗料組成物2-15]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之3量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物2-15。

[抗反射層用塗料組成物2-16]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之HO-CH₂ -CF₂ CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-16。

[抗反射層用塗料組成物2-17]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之HO-CH₂ -CF₃ ，作為抗反射層用2-17塗料組成物。

[抗反射層用塗料組成物2-18]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之H₂ C=CH-COO-CH₂ -CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-18。

[抗反射層用塗料組成物2-19]

於低折射率層成分(2-b)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-19。

[抗反射層用塗料組成物2-20]

於低折射率層成分(2-c)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-20。

[抗反射層用塗料組成物2-21]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-d)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-21。

[抗反射層用塗料組成物2-22]

於低折射率層成分(2-d)與高折射率層成分(2-e)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為1質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-22。

[抗反射層用塗料組成物2-23]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為44質量%的方式添加為丙烯酸酯單體之三羥甲基丙烷EO變性三丙烯酸酯[CH₂ =CHCO-(OCH₂ H₄ )_n -OCH₂ ]₃ -CCH₂ CH₃ ，作為抗反射層用塗料組成物2-23。

[抗反射層用塗料組成物2-24]

除不含有氟化合物B之外，與抗反射層用塗料組成物2-1同樣地作成，作為抗反射層用塗料組成物2-24。

[抗反射層用塗料組成物2-25]

於低折射率層成分(2-d)與高折射率層成分(2-e)各自以質量比10：1的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為1質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物2-25。

[抗反射層用塗料組成物2-26]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-f)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，作為抗反射層用塗料組成物2-26。

[抗反射層用塗料組成物2-27]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為聚矽氧化合物B之PC-4131(大日本油墨化學工業(股)製)，作為抗反射層用塗料組成物2-27。

[抗反射層用塗料組成物2-28]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量成為20質量%的方式添加為長鏈烴化合物B之正癸基三甲氧基矽烷(Z-6210、Toray‧Dow Corning(股)製)，作為抗反射層用塗料組成物2-28。

[抗反射層用塗料組成物2-29]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量各自成為2.5質量%與2.5質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F與為聚矽氧化合物A之PC-4131，作為抗反射層用塗料組成物2-29。

[抗反射層用塗料組成物2-30]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以含量各自成為2.5質量%與2.5質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F與為長鏈烴化合物B之n-辛基三三乙氧基矽烷(Z-6341、Toray‧Dow Corning(股)製)，作為抗反射層用塗料組成物2-30。

[抗反射層用塗料組成物2-31]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，作為抗反射層用塗料組成物2-31。

[抗反射層用塗料組成物2-32]

於低折射率層成分(2-a)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，作為抗反射層用塗料組成物2-32。

[抗反射層用塗料組成物2-33]

於低折射率層成分(2-b)與高折射率層成分(2-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，作為抗反射層用塗料組成物2-33。

[參考實施例2-1～2-24，參考比較例2-1～2-9(抗反射構件)]

使用U46(Toray薄膜加工(股)製)於PET薄膜上形成易接著性層者作為支撐基材。於此支撐基材之易接著層面上，使用棒塗布器(＃10)塗布表2-5、2-6記載之抗反射層用塗料組成物。塗布後，於100℃乾燥2分鐘，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線於氧濃度0.1體積%之下照射，製作抗反射構件。

[抗反射構件之評價]

經由與前述製造例1相同的方法，進行評價。

使用黏度變化(Δη)為0.1mPa‧s以上10mPa‧s以下之抗反射層用塗料組成物的參考實施例2-1～2-24之抗反射構件，於抗反射層中形成界面明確的折射率相異的2層，抗反射性、耐擦傷性、透明性優異。

使用黏度變化(Δη)低於0.1mPa‧s之抗反射層用塗料組成物的參考比較例2-1之抗反射構件，抗反射性、透明性差，未看到第1層與第2層之明確界面。

使用黏度變化(Δη)大於10mPa‧s的抗反射層用塗料組成物的參考比較例2-2、2-3、2-6～2-9之抗反射構件，抗反射性、透明性差，未看見第1層與第2層之明確界面。

使用不含有氟處理無機粒子的抗反射層用塗料組成物的參考比較例2-4、2-5、2-9之抗反射構件，抗反射性、透明性差，未看到第1層與第2層之明確界面。

＜製造例3＞

[高折射率層成分(3-a)]

混合6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分濃度40質量%之高折射率層成分(3-a)。

[高折射率層成分(3-b)]

混合6質量份之含有銻之氧化錫粒子的Opstar TU4005(JSR公司製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分濃度40質量%之高折射率層成分(3-b)。

[高折射率層成分(3-c)]

混合6質量份之含有氧化鋯粒子之TYZ67-H01(東洋油墨(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分40質量%之高折射率層成分(3-c)。

[高折射率層成分(3-d)]

混合6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分濃度60質量%之高折射率層成分(3-d)。

[高折射率層成分(3-e)]

混合6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分濃度3.5質量%之高折射率層成分(3-e)。

[高折射率層成分(3-f)]

混合6質量份之含有氧化鈦粒子的ELCOM TO1019TIC(日揮觸媒化成(股)製：固體成分30質量%)與1質量份之多官能丙烯酸酯KAYARAd DPHA(日本化藥(股)製：固體成分100質量%)，獲得固體成分濃度35質量%之高折射率層成分(3-f)。

[低折射率層成分(3-a)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。接著，加入H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F 1.38g及2,2-偶氮雙異丁腈0.057g後，於90℃加熱攪拌60分鐘。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(3-a)。

[低折射率層成分(3-b)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(3-b)。

[低折射率層成分(3-c)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度14質量%之低折射率層成分(3-c)。

[低折射率層成分(3-d)]

於中空矽石Slaria 4110(日揮觸媒化成(股)製：固體成分濃度20質量%)15g混合甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷1.37g與10質量%甲酸水溶液0.17g，於70℃攪拌1小時。接著，加入H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F 1.38g及2,2-偶氮雙異丁腈0.057g後，於90℃加熱攪拌60分鐘。之後，加入異丙基醇稀釋，獲得固體成分濃度3.5質量%之低折射率層成分(3-d)。

[抗反射層用塗料組成物3-1]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-1。

[抗反射層用塗料組成物3-2]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-c)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為10質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-2。

[抗反射層用塗料組成物3-3]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-b)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-3。

[抗反射層用塗料組成物3-4]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為40質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-4。

[抗反射層用塗料組成物3-5]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為50質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₆ F，作為抗反射層用塗料組成物3-5。

[抗反射層用塗料組成物3-6]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₆ F，作為抗反射層用塗料組成物3-6。

[抗反射層用塗料組成物3-7]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₄ F，作為抗反射層用塗料組成物3-7。

[抗反射層用塗料組成物3-8]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₄ F，作為抗反射層用塗料組成物3-8。

[抗反射層用塗料組成物3-9]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為40質量%的方式添加為氟化合物之H₂ C=CH-COO-CH₂ CF₂ CF₃ 。

[抗反射層用塗料組成物3-10]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OCH₃ )₃ ，作為抗反射層用塗料組成物3-10。

[抗反射層用塗料組成物3-11]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為25質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₅ CH₂ CH₂ Si(OCH₃ )₃ ，作為抗反射層用塗料組成物3-11。

[抗反射層用塗料組成物3-12]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之9量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物3-12。

[抗反射層用塗料組成物3-13]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為10質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之7量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物3-13。

[抗反射層用塗料組成物3-14]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為15質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之5量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物3-14。

[抗反射層用塗料組成物3-15]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物B之CF₃ (CF₂ )₇ CH₂ CH₂ Si(OH)₃ 之3量體寡聚物，作為抗反射層用塗料組成物3-15。

[抗反射層用塗料組成物3-16]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之HO-CH₂ -CF₂ CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物3-16。

[抗反射層用塗料組成物3-17]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之HO-CH₂ -CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物3-17。

[抗反射層用塗料組成物3-18]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，再以相對於塗料組成物全體，含量成為20質量%的方式添加為氟化合物之H₂ C=CH-COO-CH₂ -CF₃ ，作為抗反射層用塗料組成物3-18。

[抗反射層用塗料組成物3-19]

於低折射率層成分(3-b)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-19。

[抗反射層用塗料組成物3-20]

於低折射率層成分(3-c)與高折射率層成分(3-a)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-20。

[抗反射層用塗料組成物3-21]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-d)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-21。

[抗反射層用塗料組成物3-22]

於低折射率層成分(3-d)與高折射率層成分(3-e)各自以質量比1：1的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為5質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-22。

[抗反射層用塗料組成物3-23]

除了將為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F替代為丙烯酸酯單體之三羥甲基丙烷EO變性三丙烯酸酯[CH₂ =CHCO-(OCH₂ H₄ )_n -OCH₂ ]₃ -CCH₂ CH₃ 、相對於塗料組成物全體，含量成為30質量%的的方式添加以外，與塗料組成物3-1相同組成而作成，作為抗反射層用塗料組成物。

[抗反射層用塗料組成物3-24]

除不含氟化合物以外，與抗反射層用塗料組成物3-1同樣地作成，作為抗反射層用塗料組成物3-24。

[抗反射層用塗料組成物3-25]

於低折射率層成分(3-d)與高折射率層成分(3-e)各自以質量比10：1的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於塗料組成物全體，含量成為5質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為抗反射層用塗料組成物3-25。

[抗反射層用塗料組成物3-26]

於低折射率層成分(3-a)與高折射率層成分(3-f)各自以質量比1：7的方式混合的溶液100質量份中，加入3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮，作為抗反射層用塗料組成物3-26。

[抗反射層用塗料組成物3-27]

於高折射率層成分(3-a)100質量份中添加3質量份之2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮。再以相對於高折射率層全體，含量成為33質量%的方式添加為氟化合物B之H₂ C=CH-COO-CH₂ -(CF₂ )₈ F，作為高折射率層成分(3-a-2)。又，作為低折射率層成分，使用低折射率層成分(3-a)。

此高折射率層成分(3-a-2)與低折射率成分(3-a)之組合為了方便將稱作抗反射用塗料組成物3-27。

[參考實施例3-1～3-18、參考比較例3-1～3-8(抗反射構件)]

使用於PET樹脂薄膜上塗布易接著性塗料的U46(Toray薄膜加工(股)製)作為支撐基材。於此支撐基材之塗布易接著塗料的面上，使用棒塗布器(＃10)將表3-2記載之抗反射層用塗料組成物塗布。塗布後，於100℃乾燥2分鐘，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射，製作抗反射構件。此抗反射構件之製作方法作為作製方法3-1。

[參考實施例3-19(抗反射構件)]

使用於PET樹脂薄膜上塗布易接著性塗料的U46(Toray薄膜加工(股)製)作為支撐基材。於此支撐基材之塗布易接著塗料的面上，使用棒塗布器(＃4)將高折射率塗料(3-a-2)塗布。塗布後，於100℃乾燥1分鐘，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射。硬化的高折射率塗料(3-a-2)之表面上使用棒塗布器(＃6)將低折射率塗料(3-a)塗布。塗布後，於100℃乾燥1分鐘，使用160W/cm之高壓水銀燈(Eye Graphics(股)製)，將照度600W/cm² 、積算光量800mJ/cm² 之紫外線，於氧濃度0.1體積%之下照射，製作抗反射構件。此抗反射構件之製作方法作為製作方法3-2。

離子強度比F_L /F_H 為2以上150以下之參考實施例3-1～3-19之抗反射構件，於抗反射層中形成界面明確的折射率相異的2層，抗反射性、耐候性、密著性、耐藥品性、透明性、抗反射性為優異。

離子強度比F_L /F_H 低於2之參考比較例3-1～3-6之抗反射構件，抗反射性、透明性、密著性、耐候性、耐藥品性差，未見2層之明確界面。

離子強度比F_L /F_H 大於150之參考比較例3-7、3-8之抗反射構件，抗反射性、透明性、密著性、耐候性、耐藥品性差，未見2層之明確界面。

使用不含有來自水性化合物B的成分的抗反射層用塗料組成物的參考比較例3-6～3-8之抗反射構件，抗反射性、透明性、密著性、耐候性、耐藥品性差，未見2層之明確界面。

1．．．抗反射構件

2．．．支撐基材

3．．．抗反射層

4．．．低折射率層

5．．．高折射率硬塗層

6．．．存在於第2層的粒子

7．．．存在於第1層的粒子

8．．．支撐基材之第1面

A1及A2．．．第1層與第2層之界面上之直線距離為500nm以上之任意2點

C1及C2．．．大氣與第1層所形成的界面與補助線之交點

長度a．．．線段A1A2之長度

長度b．．．線段A1A2於與支撐基材之第1面垂直的方向對該第1層與第2層之界面上投影的線之長度

長度c．．．線段A1A2於垂直支撐基材之第1面的方向，對抗反射層之表面投影的線之長度作為長度c

第1圖為本發明之抗反射構件之一態樣之概略剖面圖。

第2圖為顯示第1圖之抗反射構件之第1層與第2層之界面之形狀、及抗反射層之表面之形狀的概略圖。

第3圖為與本發明相異的抗反射構件之一態樣之概略剖面圖。

第4圖為顯示第3圖之抗反射構件之第1層與第2層之界面之形狀、及抗反射層之表面之形狀的概略圖。

1．．．抗反射構件

2．．．支撐基材

3．．．抗反射層

4．．．低折射率層

5．．．高折射率硬塗層

6．．．存於第2層的粒子

7．．．存於第1層的粒子

C1及C2．．．大氣與第1層所形成的界面與補助線之交點

Claims

一種抗反射構件，其為於支撐基材之至少第1面上具有含有折射率相異的2個鄰接層的抗反射層，此等折射率相異的2個鄰接層自該支撐基材遠側起為第1層及第2層，該抗反射層含有構成元素相異的2種類以上之粒子與1種類以上之黏結劑，該第1層與第2層之界面上之直線距離為500nm以上之任意2點為A1、A2時，連結此A1與A2的線段A1A2之長度a，與將此線段A1A2於與該支撐基材之第1面垂直的方向對該第1層與第2層之界面上投影的線之長度b之比b/a，係大於1.10且小於1.45。
如申請專利範圍第1項之抗反射構件，其中該第2層之厚度為500nm以上4000nm以下。
如申請專利範圍第1項之抗反射構件，其中該第2層中存在的粒子之數量平均粒徑為25nm以下。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之抗反射構件，其中該長度b，與將該線段A1A2於與該支撐基材之第1面垂直的方向對該抗反射層之與該支撐基材側反對側之面投影的線之長度c之比b/c，係大於1.05且小於1.40。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之抗反射構件，其中該第1層及第2層包含來自選自以下組成之群之至少一種化合物的成分：具有碳數4以上之氟烷基及反應性部位的化合物、具有碳數8以上之烴基及反應性部位的化合物、及具有矽氧烷基及反應性部位的化合物。
如申請專利範圍第5項之抗反射構件，其中該具有碳數4以上之氟烷基及反應性部位的化合物之數量平均分子量為300以上4000以下。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之抗反射構件，其中經由該第1層之厚度方向之中心位置中的SIMS的氟原子之離子強度F_L 與經由該第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS的氟原子之離子強度F_H 之比F_L /F_H ，係2以上150以下。
如申請專利範圍第7項之抗反射構件，其中經由該第2層之厚度方向之中心位置中的SIMS的氧原子之離子強度O_H 與該F_H 之關係為F_H ≧O_H 。
一種抗反射構件之製造方法，其係製造如申請專利範圍第1至8項中任一項之抗反射構件的方法，係於該支撐基材之至少第1面上，僅塗布1次塗料組成物，而形成包含折射率相異的2個鄰接層的抗反射層。
如申請專利範圍第9項之抗反射構件之製造方法，其中支撐基材之第1面之JIS-B-0601(2001年版)所規定的表面粗糙度為40nm以下。