JPWO2011033976A1 - 反射防止部材、およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、支持基材の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層が、前記支持基材から遠い側より第１層および第２層であり、前記反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含み、前記第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満の反射防止部材である。本発明により、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラ抑制の特性と、低反射率および高透明性の特性とを両立した反射防止部材が提供される。

Description

本発明は、反射防止部材、および反射防止部材の製造方法に関する。

反射防止フィルムに代表される反射防止部材は、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置の最表面に配置される。反射防止部材は、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する。

耐擦傷性や耐摩耗性を向上させた反射防止部材として、以下の反射防止部材が提案されている。

多官能（メタ）アクリル系化合物：フッ素系界面活性剤＝９９．９：０．１〜９０：１０（質量比）の割合で含んだ塗膜を硬化させ、その硬化した層を最表面に有する反射防止フィルムが提案されている（特許文献１）。

基材上に、導電性無機超微粒子と放射線硬化型樹脂とを含む樹脂組成物の硬化物であるハードコート層と、中空シリカ微粒子を含む低屈折率層とを順次積層した反射防止材料が提案されている。このハードコート層を構成する樹脂組成物は、その少なくとも一つの樹脂の質量平均分子量が８０００以上１５００００以下である（特許文献２）。

また、反射防止部材の製造工程の簡略化のため、以下の製造方法が提案されている。

バインダー樹脂中に低屈折率微粒子と中ないし高屈折率微粒子とが分散されているコーティング組成物を１回塗工することで、反射防止層を形成する方法が提案されている。この方法では、低屈折率微粒子としてフッ素系化合物により処理されているシリカ微粒子を用いている。比重の差により反射防止層の上部ないし中間部に低屈折率微粒子が多く存在し、中間部ないし下部に中ないし高屈折率微粒子が多く存在する（特許文献３）。

塗料組成物を支持基材の少なくとも片面に１回だけ塗布し乾燥することで、屈折率の異なる２つの層を有する反射防止フィルムを製造する方法が提案されている。この塗料組成物は２種類以上の無機粒子と金属キレート化合物とを含み、少なくとも１種類の無機粒子がフッ素化合物により表面処理された無機粒子であることを特徴としている（特許文献４）。

また、反射防止部材を構成する層の層間界面の機能に着目したものとして、以下の反射防止部材が提案されている。

隣接する第一の透明層と第二の透明層とを有し、第一の透明層と第二の透明層の屈折率が異なり、第一の透明層と第二の透明層との接触界面が光散乱性界面である光学フィルムが提案されている。第一の透明層と第二の透明層との接触界面が光散乱性界面であることによって、干渉縞の発生が抑制され光学フィルムになる（特許文献５）。

フィルムの表面に、透明導電層、高屈折率ハードコート層および低屈折率ハードコート層をこの順に設けた反射防止フィルムが提案されている。この反射防止フィルムでは、透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さよりも、高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さを小さくし、かつ、高屈折率ハードコート層および／または低屈折率ハードコート層が、有機および／または無機ハイブリッドハードコート材により形成されている（特許文献６）。

特開２００８−１２２６０３号公報 特開２００７−２７１９５４号公報 特開２００７−２７２１３２号公報 特開２００９−０５８９５４号公報 特開２００５−１０７００５号公報 特開２００４−２５８２０９号公報

本発明の課題は、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラ抑制の特性と、低反射率および高透明性の特性とを両立した反射防止部材を提供することである。

上記課題に対し前述の従来技術は次のような状況にある。特許文献１と特許文献２の反射防止部材は、耐擦傷性を得るために２．５μｍ以上５μｍ以下のハードコート層を必要とする。また、基材上にハードコート層を含めて２回あるいは３回の塗布により複数の層を形成している。そのため、材料費、工程数の両面において、製造工程の簡略化に適した反射防止部材ではない。

特許文献１では、フッ素系界面活性剤の添加による表面エネルギーの低下と、多官能アクリレートの添加による架橋密度アップにより、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性の特性と、低反射率および高透明性の特性を両立しようとしている。しかしながら、その効果は不十分である。また、フッ素系界面活性剤が反射防止層に化学的な結合で固定されていないので、フッ素系界面活性剤が反射防止フィルムの他の面へ転写する弊害も多い。また、特許文献１では、干渉ムラ抑制に対する対策は示されていない。

特許文献２の反射防止材料の耐摩耗性は、反射防止材料の低屈折率層面を荷重１Ｋｇで１００往復させる程度ものである。これは、現在必要とされている複数回の清掃を想定した耐摩耗性に比べると劣っている。

特許文献３の反射防止層は、１回の塗工により反射防止層を形成する低屈折率層と高屈折率層とが得られている。特許文献３には、低屈折率層と高屈折率層の界面が明瞭ではなく渾然一体となっているため、明確な界面をもった反射防止層と比べて、各屈折率層間の剥離の問題は解消されると記載されている。しかし、渾然一体とした明瞭でない界面のため、反射率、透明性の低下が予想される。

特許文献４には、２つの屈折率の異なる２層の界面が明確であると記載されている。しかし、その界面の詳細な構造については記載されていない。

特許文献５と特許文献６では、反射防止部材を構成する層の層間界面の機能に着目しているが、その目的は干渉縞の防止と白味の防止である。さらに低屈折率層と高屈折率層に相当する２つの層の界面の粗さが粗い。この粗さでは干渉ムラの抑制には効果があるが、光散乱性界面であるため透明性は劣る。

上記課題を解決するために本発明の反射防止部材は以下の構成を有する。つまり、支持基材の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層が、前記支持基材から遠い側より第１層および第２層であり、
前記反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含み、
前記第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満の反射防止部材である。

本発明によれば、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラ抑制の特性と、低反射率および高透明性の特性とを両立する反射防止部材を提供できる。

図１は、本発明の反射防止部材の一つの態様の概略断面図である。 図２は、図１の反射防止部材の第１層と第２層との界面の形状、および反射防止層の表面の形状を示す概略図である。 図３は、本発明とは異なる反射防止部材の一つの態様の概略断面図である。 図４は、図３の反射防止部材の第１層と第２層との界面の形状、および反射防止層の表面の形状を示す概略図である。

具体的な形態を説明する前に、発明のメカニズムについて説明する。先ず、従来技術が前述の課題を達成できない理由を考察する。

先ず、密着性、耐擦傷性および耐摩耗性について考察する。複数の層から構成される塗工製品において、密着性、耐擦傷性および耐摩耗性に影響する因子のひとつに層間界面の密着力がある。特許文献１と特許文献２の反射防止部材は、複数回の塗工により反射防止層が形成されている。そのため、塗工時に液膜表面が液膜の表面張力により平滑になり、各層間の界面が平滑になるため、物理的な観点での密着力が弱くなる。さらに、各層間には共有結合のような化学結合がないため、化学的な観点での密着力も弱くなる。その結果、反射防止部材の表面に応力がかかったとき、層間界面の破壊が起こっていると考えられる。

また、特許文献４の反射防止部材は、１回の塗工で２つの層を形成しているので、層間界面に共有結合のような化学結合がある。そのため、特許文献１や特許文献２の反射防止部材に比べて、化学的な観点からの密着力は向上すると考えられる。しかしながら、本発明者らが特許文献４の実施例を追試したところ、この手法で得られる界面の構造は、本発明により得られる界面よりも平滑であり、物理的な観点での密着力は十分ではないと考えられる。さらに、この手法では耐摩耗性を高めるために反射防止層と支持基材の間にハードコート層を設けている。反射防止層とハードコート層の間には化学結合を有さない別の層間界面ができているので、この部分での層間界面の破壊も発生する。

次いで、干渉ムラと透明性の両立について考察する。干渉ムラは、反射防止層の厚み変化が目視できる長周期で現れることにより、干渉効果にズレが生じ、反射色の変化が目視されると考えられる。この反射防止層の厚み変化の原因としては、塗工工程での液膜の揺らぎに起因する膜厚変化、乾燥工程での乾燥速度むらに起因する膜厚変化、および基材の厚みばらつきがある。特許文献５の反射防止部材は、界面を光散乱性にすることにより干渉効果のズレを解決している。しかしながら、光散乱性になることにより、透明性が大幅に低下してしまう。

このように、従来技術では本願の課題のすべてを達成することはできない。次に、本発明が前述の課題を解決できる理由を述べる。

本発明者らは、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラ抑制の特性と、低反射率および高透明性の特性との両方を達成する方法として、反射防止層内部の界面に着目した。そして、その界面を特定の構造にすることによって、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラの特性と、低反射率および高透明性の特性とを両立できることを見出した。

すなわち、反射防止層中の屈折率の異なる２つの隣接する層の界面を、反射防止性能や透明性に影響が出ない範囲で微細に入り組ませることにより、物理的な観点での層間の密着力を確保した。

また本発明の反射防止部材は、反射防止層中の第１層と第２層とのなす界面が微細に入り組むことにより、第１層の膜厚が面方向で変化している。この膜厚変化により干渉効果のズレを吸収することができ、干渉ムラを抑えられる。このとき界面が微細に入り組む量（界面の谷の底から界面の山の頂点までの高さ）が光の波長に比べて十分に短いため、光散乱性が発生せず、透明性には影響を及ぼさない。

以下、本発明の実施の形態について具体的に述べる。

［反射防止部材］
本発明の反射防止部材は、支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止機能を有する層、つまり反射防止層が形成された部材である。支持基材がプラスチックフィルムの場合には一般に反射防止フィルムと呼ばれる。その必要性や要求される性能などは特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。つまり、支持基材上に屈折率差が０．０３以上の隣接する２つ以上の層が積層されていることが好ましい。屈折率差は０．０５以上がさらに好ましい。また、屈折率差は５．０以下であることが好ましい。この屈折率差とは、隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値である。相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。そして、支持基材から遠い側が低屈折率層であり、支持基材に近い側が高屈折率層であることが好ましい。

高屈折率層が、高屈折率の機能に加えて耐傷性も付与されている場合には、高屈折率層ではなく、一般に高屈折率ハードコート層と呼ぶ。高屈折率ハードコート層は、支持基材と低屈折率層との接着を強化する機能も有することが好ましい。高屈折率ハードコート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましい。鉛筆硬度は２Ｈ以上がさらに好ましく、３Ｈ以上が特に好ましい。鉛筆硬度の上限については、強度が高い分には問題はないが、現実的には９Ｈ程度が上限である。

反射防止部材は、分光測定において最低反射率が０％以上１．０％以下であることが好ましい。最低反射率は０％以上０．７％以下がさらに好ましく、０％以上０．６％以下が特に好ましく、０％以上０．５％以下が最も好ましい。

反射防止部材は透明性が高いことが望ましい。透明性が低いと画像表示装置として用いた場合、画像彩度の低下などによる画質低下が生じるために好ましくない。反射防止部材の透明性の評価にはヘイズ値を用いることができる。ヘイズはＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。反射防止部材のヘイズ値としては２．０％以下が好ましい。ヘイズ値は１．８％以下がさらに好ましく、１．５％以下が特に好ましい。ヘイズ値が小さいほど透明性の点で良好であるものの、０％とすることは困難であり、現実的な下限値は０．０１％程度と思われる。ヘイズ値が２．０％を越えると、画像劣化が生じる可能性が高くなる。

反射防止部材には、反射防止層の他に、易接着層、防湿層、帯電防止層、シールド層、下塗り層、ハードコート層、保護層などを設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。

ＰＤＰなどの各種画像表示装置の視認側表面に反射防止部材を設けることで、反射防止性に優れた画像表示装置が提供される。このとき、反射防止部材の支持基材側を画像表示装置側に向けて、反射防止部材を設けることが重要である。

図１に本発明の反射防止部材の構成を示す。反射防止部材１は、支持基材２の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる隣接する２つの層を含む反射防止層３が積層されている。隣接する２つの層は、支持基材２から遠い側より第１層４、第２層５である。なお反射防止層においては、第１層の屈折率が第２層の屈折率よりも低いことが好ましい。つまり第１層が低屈折率層であり、第２層が高屈折率層であることが好ましい。

[反射防止層]
本発明における反射防止層には、第１の形態と第２の形態がある。第２の形態の特徴は第１の形態の好ましい特徴でもある。また、第１の形態の特徴は第２の形態の好ましい特徴でもある。

[反射防止層の第１の形態]
本発明における反射防止層の第１の形態は構成元素の異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含んでいる。

第１層と第２層の間の界面は特徴的な形状を有している。この特徴的な形状を説明するため、図１、２に示すような長さａと長さｂを定義する。
・長さa、長さｂの定義：
（１） 第１層と第２層との界面上の、直線距離が５００ｎｍ以上の２点をＡ１、Ａ２とする。
（２） Ａ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さを長さａとする。
（３） 線分Ａ１Ａ２を、支持基材の第１の面８に垂直な方向に、第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さを長さｂとする。

この反射防止層によれば、密着性、耐擦傷性、耐摩耗性および干渉ムラ抑制の特性と、低反射率および高透明性の特性とを両立する反射防止部材が提供できる。

反射防止層は、長さａと長さｂの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満である。ｂ／ａの下限は１．１５以上が好ましい。ｂ／ａの上限は１．３５以下が好ましい。ｂ／ａの上限と下限とは任意に組み合わせることができる。ｂ／ａが１．１０以下になると、第１層と第２層の間の界面の状態は図３、図４に示す状態になり、第１層と第２層間の界面の物理的な密着力の向上効果が小さくなり、耐擦傷性、耐磨耗性が得られなくなる。ｂ／ａが１．４５以上になると光散乱性が出現することにより、透明性が低下し、反射率が高くなる。

第２層に存在する粒子６の数平均粒子径は２５ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは２０ｎｍ以下である。第２層に存在する粒子の数平均粒子径を２５ｎｍ以下とするで、容易に第１層と第２層との間の界面の形状を、ｂ／ａの比が１．１０より大きく１．４５未満を満たすようにできる。第２層に存在する粒子の数平均粒子径は、小さい分には問題はないが、粒子形成時の結晶核の大きさの制約を受けるため、現実的には１ｎｍが下限となる。

第１層に存在する粒子７の数平均粒子径は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。数平均粒子径の下限は４０ｎｍ以上がさらに好ましい。数平均粒子径の上限は１５０ｎｍ以下がさらに好ましい。数平均粒子径の上限と下限とは任意に組み合わせることができる。数平均粒子径を３０ｎｍ以上にすることにより、ｂ／ａが１．１０より大きく１．４５未満となるように制御しやすくなる。数平均粒子径を２００ｎｍ以下にすることにより、透明性を確保し易くなる。

つまり、反射防止層が構成元素の異なる２種類以上の粒子を含み、第１層に含まれる粒子の数平均粒子径が、第２層に含まれる粒子の数平均粒子径よりも大きいことが好ましい。より好ましくは、第１層に含まれる粒子と第２層に含まれる粒子との構成元素が異なり、第１層に含まれる粒子の数平均粒子径が、第２層に含まれる粒子の数平均粒子径よりも大きい態様である。

第１層の厚みは５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。厚みの下限は７０ｎｍ以上がさらに好ましく、９０ｎｍ以上が特に好ましい。厚みの上限は１５０ｎｍ以下がさらに好ましく、１３０ｎｍ以下が特に好ましい。第１層の厚みの上限と下限とは任意に組み合わせることができる。第１層の厚みが５０ｎｍ未満であると、光の干渉効果が得られず反射防止効果が低下するので、画像の映り込みが大きくなることがある。また厚みが２００ｎｍを超える場合も光の干渉効果が得られなくなるため画像の映り込みが大きくなることがある。

第２層の厚みは、５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下であることが好ましい。厚みの下限は５５０ｎｍ以上がさらに好ましく、６００ｎｍ以上が特に好ましい。厚みの上限は３０００ｎｍ以下がさらに好ましく、２０００ｎｍ以下が特に好ましい。第２層の厚みの上限と下限とは任意に組み合わせることができる。第２層の厚みを５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下にすることにより、耐擦傷性、耐摩耗性を有しつつ、カール、反射率、透明性をさらに向上させることができる。また、反射防止層自体がハードコート性を有するので、支持基材上にハードコート層を設けずに、支持基材上に直接反射防止層を形成しても、優れた耐擦傷性や耐摩耗性を得ることができる。

次いで、反射防止層の支持基材側とは反対側の面（以下、反射防止層の表面とする）の形状の特徴を説明するため、図１に示すような長さｃを定義する。
・長さｃの定義： 前述の線分Ａ１Ａ２を、支持基材の第１の面に垂直な方向に、反射防止層の表面へ投影した線の長さを長さｃとする。

図２に長さａ、長さｂと、長さｃの長さの関係を示す。長さｃと長さｂとの比ｂ／ｃは、１．０５より大きく１．４０未満が好ましい。ｂ／ｃの比は１．１０より大きく１．４０未満がさらに好ましい。ｂ／ｃの比を１．０５より大きく１．４０未満にすることにより、界面の物理的な観点での密着力が確保されるため、耐擦傷性、耐摩耗性等を維持しつつ、透明性と反射防止性能を向上できる。

ｂ／ａが１．１０より大きく１．４５未満であり、ｂ／ｃが１．０５より大きく１．４０未満である反射防止材料を製造する方法は特に限定されないが、例えば次の（ｉ）や（ii）の方法がある。
（ｉ） 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで特定の硬化条件と材料を使用して、支持基材上に１層分の液膜を塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。これを２回行い、支持基材上に屈折率の異なる２つの層を形成する方法。
（ii） 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで特定の硬化条件と材料を使用して、支持基材上に反射防止層を形成する塗料組成物を１回のみ塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。こうして支持基材上に屈折率の異なる２つの層を同時に形成する方法。

これら２つの方法のうち、（ii）の方法が好ましい。塗料組成物を１回のみ塗工して、自発的な層構造の形成により２つの層を形成することにより、第１層と第２層との界面や、反射防止層の表面を所望の粗さで作ることができる。その結果、ｂ／ａを１．０５より大きく１．４５未満とし、ｂ／ｃを１．０５より大きく１．４０未満とすることができる。

なお、支持基材上に屈折率の異なる２つの層を形成する方法としては、下記(iii)〜（v）の方法もあるが、これらの方法ではｂ／ａが１．１０より大きく１．４５未満であり、ｂ／ｃが１．０５より大きく１．４０未満である反射防止材料を製造するのは難しい。
(iii) 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで支持基材上に２層に分離した塗液を塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。こうして、支持基材上に屈折率の異なる２つの層を同時に形成する方法（多層同時塗工）。
(iv) 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで支持基材上に１層分の液膜を塗工して乾燥し、引き続きもう１層分の液膜を塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。こうして支持基材上に屈折率の異なる２つの層を形成する方法（連続逐次塗工）。
(v) 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで支持基材上に１層分の塗液を塗工し、引き続きもう１層分の塗液を塗工し、２層分まとめて乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。こうして支持基材上に屈折率の異なる２つの層を形成する方法（ウェットオンウェット塗工）。

上記（ii）の製造方法にて、第２層の厚みを好ましい範囲にするためには、反射防止層中の第１層および第２層が、炭素数４以上のフルオロアルキル基および反応性部位を有する化合物、炭素数８以上の炭化水素基および反応性部位を有する化合物、ならびにシロキサン基および反応性部位を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物に由来する成分を含むことが好ましい。以下、炭素数４以上のフルオロアルキル基および反応性部位を有する化合物をフッ素化合物Ｂと、炭素数８以上の炭化水素基および反応性部位を有する化合物を長鎖炭化水素化合物Ｂと、シロキサン基および反応性部位を有する化合物をシリコーン化合物Ｂとする。また、フッ素化合物Ｂ、長鎖炭化水素化合物Ｂおよびシリコーン化合物Ｂからなる群より選ばれる化合物を疎水性化合物Ｂとする。反射防止層を形成する塗料組成物が疎水性化合物Ｂを含むことにより、自発的な層構造の形成が促進される。また、第２層の厚みが本発明の好ましい範囲であっても、１回の塗工、乾燥工程にて２つの層を形成することができる。

本発明における塗料組成物は、構成元素の異なる２種類以上の粒子、バインダー原料、溶媒を含み、さらにその粒子のうち少なくとも１種類の粒子をフッ素化合物により処理されている粒子とすることが好ましい。以下、粒子の表面処理に用いるフッ素化合物をフッ素化合物Ａとする。このような塗料組成物を用いることで、自発的な層構造の形成がさらに促進される。この理由は以下のように推定される。塗料組成物中の構成元素の異なる２種類以上の無機粒子は、塗料組成物中をブラウン運動により運動する。そして、気液、固液界面に到達した粒子が、表面自由エネルギー差によって、低表面エネルギー粒子は大気側へ、高表面エネルギー粒子は支持基材側へ固定される。この結果、自発的に層構造を形成する。

反射防止層は、屈折率の異なる２つの層である第１層と第２層との間に、粒子の配列による明確な界面があることが好ましい。本発明における明確な界面とは、１つの層と他の層とが区別可能な状態をいう。区別可能な界面とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察することにより判断することができる界面を表し、後述する方法に従い判断することができる。

自発的な層構造の形成を塗工面内で均一に発生させるためには、支持基材の塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さは４０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さは３５ｎｍ以下がさらに好ましく、３０ｎｍ以下が特に好ましい。

［粒子］
本発明における反射防止層は、構成元素が異なる２種類以上の粒子を含む。この粒子は無機粒子であることが好ましい。ここで無機粒子とは、無機化合物により形成された粒子のことである。

構成元素が異なる粒子の種類としては２種以上２０種以下が好ましい。粒子の種類は２種以上１０種以下がさらに好ましく、２種以上３種以下が特に好ましく、２種類が最も好ましい。

ここで粒子の種類とは、粒子を構成する元素の種類によって決まる。例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２）と酸化チタンの酸素の一部をアニオンである窒素で置換した窒素ドープ酸化チタン（ＴｉＯ_２−ｘＮ_ｘ）とは、粒子を構成する元素が異なるために、異なる種類の粒子である。また、同一の元素、例えばＺｎ、Ｏのみからなる粒子（ＺｎＯ）であれば、その粒径が異なる粒子が複数存在しても、またＺｎとＯとの組成比が異なっていても、これらは同一種類の粒子である。また酸化数の異なるＺｎ粒子が複数存在しても、粒子を構成する元素が同一である限りは、これらは同一種類の粒子である。また、表面処理が施されている粒子の場合は、表面処理が施される前の粒子を構成する元素の種類で判断する。

反射防止層は、構成元素の異なる２種類以上の粒子を有していれば特に限定されないが、第１層中に主として含まれる粒子と、第２層中に主として含まれる粒子とは、構成元素が異なっていることが好ましい。ここで、「主として含まれる粒子」とは、層中の最も含有質量が多い粒子のことである。例えば、反射防止層がフッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子と酸化チタンとを含む場合、第１層および第２層のそれぞれが両方の粒子を含んでいてもよいが、第１層は主としてフッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子を含み、第２層は主として酸化チタンを含むことが好ましい。なお、この例の場合では、第１層がフッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子のみを含み、第２層が酸化チタンのみを含むことが特に好ましい。

[反射防止層の第２の形態]
本発明における反射防止層の第２の形態は、第１層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度をＦ_Ｌ、第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度をＦ_Ｈとすると、フッ素原子のイオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）が２以上１５０以下である。この反射防止層によれば、密着性、耐薬品性、耐候性および低反射率の特性に優れた反射防止部材を提供できる。イオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）は２．５以上１３０以下が好ましく、３以上１００以下がさらに好ましい。イオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）を２以上１５０以下とすることにより、第２層にも第１層と表面エネルギーが近いフッ素原子が分布するため、第２層上に第１層を積層する際の塗工ムラが抑制できる。また第２層と第１層との層間密着性、耐薬品性が向上し、さらに耐候性、反射防止性が向上する。

イオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）が２より小さい場合には、第２層にフッ素原子を過剰に含むため界面での結合力が低下し、第１層と第２層の層間の密着性の低下を引き起こし、層間密着性、耐薬品性、耐候性が低下することがある。イオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）が１５０より大きい場合には、反射防止性は得られるものの、第２層に含まれるフッ素原子の量が少なくなるため、フッ素原子を多く含む第１層と第２層の層間の密着性の低下を引き起こし、層間密着性、耐薬品性、耐候性が低下することがある。なお、第１層および第２層のそれぞれを構成する全成分の合計を１００質量％とした際に、疎水性化合物Ｂとしてフッ素化合物Ｂを用い、これに由来する成分をそれぞれの層に５質量％以上５０質量％以下含めることで、イオン強度比（Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈ）を２以上１５０以下に制御できる。

また、第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによる酸素原子のイオン強度をＯ_Ｈとすると、Ｆ_Ｈ≧Ｏ_Ｈであることが好ましい。反射防止層に金属酸化物や半金属酸化物などの粒子を含むことで、Ｆ_Ｈ≧Ｏ_Ｈに制御できる。より好ましい制御方法は、反射防止層にフッ素処理により表面処理された無機粒子と、フッ素処理による表面処理がされていない他の無機粒子との２種の無機粒子を含ませ、他の無機粒子を金属酸化物や半金属酸化物などの酸素原子を含む粒子とし、さらにこの２種の無機粒子の含有比率を、（フッ素処理により表面処理された無機粒子の含有量／他の無機粒子の含有量）の質量比で１／３０以上１／１以下にする方法である。

［塗料組成物］
以下、反射防止層を形成する塗料組成物について説明するが、本発明の反射防止部材は、この塗料組成物を用いる製造方法には限定されず、高屈折率層を形成後、さらに低屈折率層を構成するための塗料組成物を塗工・硬化させる方法などによっても製造することができる。

反射防止層を形成する好ましい塗料組成物は、第１層の構成成分と、第２の構成成分とが混合されている。この塗料組成物を支持基材上に１回のみ塗工することによって、屈折率の異なる第１層と第２層とで構成された反射防止層を支持基材上に形成することができる。その結果、反射防止性の良好な反射防止部材となる。

塗料組成物は、構成元素が異なる２種類以上の無機粒子を含むことが好ましい。そしてこの２種類以上の無機粒子の少なくとも１種類の無機粒子が、フッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子であることが好ましい。以下、フッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子をフッ素処理無機粒子とする。

[塗料組成物の粘度]
塗料組成物は、その粘度変化（Δη）が０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。粘度変化（Δη）がこの範囲内であると、塗料組成物を支持基材上に１回のみ塗工することで、屈折率差の大きい２つの層で構成された反射防止層を得られ易くなる。粘度変化（Δη）が１０ｍＰａ・ｓより大きい場合、塗料組成物を塗工乾燥させる過程において、有機溶媒の揮発に伴い固形分濃度が上昇し、流動性が低下すると同時に、フッ素処理無機粒子同士の粒子間相互作用が大きくなったり、フッ素処理無機粒子同士が凝集体を形成したりして、フッ素処理無機粒子の空気側（最表面層）への移動が困難となる。その結果、屈折率差の大きい２つの層が得られず、反射防止性が低下することがある。粘度変化（Δη）が０．１ｍＰａ・ｓよりも小さい場合には、前述の過程においてフッ素処理無機粒子同士の粒子間相互作用の抑制、フッ素処理無機粒子同士の凝集体形成は抑制できるものの、流動性が向上しすぎるためにフッ素処理無機粒子の分離性が逆に困難となる。その結果、２つの層が混在するため、屈折率差の大きい２つの層が得られず、その結果反射防止性が低下することがある。

粘度変化（Δη）は０．１ｍＰａ・ｓ以上９ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上８ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましく、０．１ｍＰａ・ｓ以上７ｍＰａ・ｓ以下が最も好ましい。

ここで、塗料組成物の粘度変化（Δη）とは、せん断速度０．１ｓ^−１における粘度η_１と、せん断速度１０ｓ^−１における粘度η_２の粘度の差（η_１−η_２）である。なお、せん断速度０．１ｓ^−１における粘度η_１と、せん断速度１０ｓ^−１における粘度η_２は、一般的な回転レオメーターを用いて測定することができる。

ここでせん断速度とは、流体に対して与える歪みγの変化速度であり、下記式で表される。
γ’＝dγ／ｄｔ。

回転レオメーターにて粘度を計る手法には、コーンアンドプレート型、プレートアンドプレート型、共軸円筒型の３通りが知られている。塗料組成物の粘度であるη１とη２の測定は、測定結果の補正を必要としないコーンアンドプレート型、または共軸円筒型が適切である。特に、必要液量が少なく、また簡便性に優れている点からコーンアンドプレート型により得られる値が最も適切である。本発明では、コーンアンドプレート型による得られた値を用いる。

このコーンアンドプレート型は、円錐型の回転体（コーン）と静止した円板（プレート）が組み合わされたもので、円板と円錐の間の間隙角がδとなっている。円錐型の回転体と静止した円盤の間で試料をねじることにより測定を行い、円錐型の回転体を角速度Ωで回転させ、静止円板に作用するトルクＭを測定する。このときの角速度Ωからせん断速度が、トルクＭからせん断応力σが次の式のように得られる。
γ’＝（１／δ）Ω
σ＝｛３／（２πＲ^３）｝Ｍ
さらに、粘度ηは次の式で表わされる。
η（γ’）＝σ／γ’。

塗料組成物の粘度変化（Δη）を０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下とするためには、塗料組成物中の構成元素が異なる２種類以上の無機粒子における少なくとも１種類の無機粒子が、フッ素処理無機粒子であることが重要である。さらにフッ素処理無機粒子に用いられたフッ素化合物Ａとは別に、塗料組成物が疎水性化合物Ｂを含むことが好ましい。このようにすることで、塗料組成物の粘度変化（Δη）を０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下の範囲に制御することができる。

また、塗料組成物の粘度変化（Δη）を０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下に制御するためには、塗料組成物が疎水性化合物Ｂを含み、さらにバインダー原料として１分子中に３個以上のアクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートを有する塗料組成物を使用することも好ましい。

[塗料組成物中に含まれる無機粒子]
塗料組成物は、構成元素が異なる２種類以上の無機粒子を含むことが好ましい。無機粒子の種類数としては２種類以上２０種類以下が好ましい。無機粒子の種類数は２種類以上１０種類以下がさらに好ましく、２種類以上３種類以下が特に好ましく、２種類が最も好ましい。ここで種類については、前述の通り粒子を構成する元素の種類によって決まる。

塗料組成物中の、構成元素の異なる２種類以上の無機粒子のうち、少なくとも１種類の無機粒子が、フッ素化合物Ａにより表面処理された無機粒子、つまりフッ素処理無機粒子であることが好ましい。このフッ素処理無機粒子が第１層の構成成分として好適である。フッ素処理無機粒子は、空気側（最表面層）へ移動して第１層（低屈折率層）を形成することができる。なお、構成元素の異なる２種類以上の無機粒子の全てがフッ素処理無機粒子であるよりも、フッ素処理無機粒子と、フッ素化合物Ａによる表面処理が施されていない無機粒子の両方を含む塗料組成物を用いる方が、屈折率差の大きい２つの層を得ることができるために、反射防止性の点で好ましい。つまり、本発明の塗料組成物は、１種類以上のフッ素処理無機粒子と、１種類以上のフッ素化合物Ａによる表面処理が施されていない無機粒子とを含むことがさらに好ましい。

先ず、フッ素処理無機粒子について説明する。フッ素処理無機粒子の構成材料となる無機粒子としては、Ｓｉ，Ｎａ，Ｋ，ＣａおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも１つの元素を含む無機粒子が好ましい。さらに好ましくは、シリカ粒子（ＳｉＯ_２）、アルカリ金属フッ化物（ＮａＦ，ＫＦなど）およびアルカリ土類金属フッ化物（ＣａＦ_２、ＭｇＦ_２など）からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物を含む無機粒子である。耐久性、屈折率などの点からシリカ粒子が特に好ましい。なお、以下、フッ素化合物Ａにより表面処理されたシリカ粒子をフッ素処理シリカ粒子とする。

シリカ粒子とは、ケイ素化合物または有機珪素化合物の重合（縮合）体のいずれの組成物から成る粒子を指し、一般例として、ＳｉＯ_２などのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。

フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子の、表面処理される前の形状は特に限定されるものではないが、塗料組成物を用いて得られる反射防止層の屈折率の観点から、球状が好ましい。さらに、フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子がシリカ粒子であり、シリカ粒子が中空や多孔質の形状であることがより好ましい。中空シリカ粒子とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子である。多孔質シリカ粒子とは、粒子の表面および内部に細孔を有するシリカ粒子である。シリカ粒子などの無機粒子の形状が多面体構造であると、この粒子を含む塗料組成物を用いて得られた反射防止層は、層中で無機粒子が隙間無く並ぶ可能性があり、画像表示装置に使用する際に必要な透明性が得られないことが考えられる。また、中空シリカ粒子や多孔質シリカ粒子などの無機粒子を用いることにより、反射防止層の一部である低屈折率層の密度を下げる効果が得られる。特にフッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子として、中空シリカ粒子や多孔質シリカ粒子を用いると、フッ素処理シリカ粒子が反射防止層の低屈折率層に含まれ易いので好ましい。

フッ素処理無機粒子の、表面処理される前の数平均粒子径は１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。数平均粒子径は２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下がさらに好ましく、４０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が特に好ましい。無機粒子の数平均粒子径が１ｎｍよりも小さくなると、第１層中の空隙密度が低下し、屈折率が上昇したり透明度が低下することがある。無機粒子の数平均粒子径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の厚さが厚くなり、反射防止性能が低下することがある。

無機粒子に対するフッ素化合物Ａによる表面処理工程は、一段階で行われてもよく、多段階で行われてもよい。また、複数の段階でフッ素化合物Ａを用いても良いし、一つの段階のみでフッ素化合物Ａを用いても良い。

また無機粒子の表面処理工程にて好ましく用いられるフッ素化合物Ａは、単一化合物でもよく、複数の異なる化合物を用いてもよい。

フッ素化合物Ａによる表面処理とは、無機粒子を化学的に修飾し、無機粒子にフッ素化合物Ａを導入する工程をさす。

無機粒子に直接フッ素化合物を導入する方法としては、１分子中にフッ素セグメントとシリルエーテル基（シリルエーテル基が加水分解されたシラノール基を含む）との両方を持つフルオロアルコキシシラン化合物を１種類以上と、開始剤とを共に撹拌する方法がある。しかし無機粒子に直接フッ素化合物を導入する場合、反応性の制御が困難になったり、塗料化後塗工時に塗工斑等が発生しやすくなったりする場合がある。

また無機粒子を化学的に修飾して、無機粒子にフルオロアルキル基を導入する方法としては、無機粒子を架橋成分にて処理し、フッ素化合物Ａとつなぎ合わせる方法がある。官能基を有したフッ素化合物Ａとしては、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート（酸無水物およびエステル類を含む）、などを用いることができる。

架橋成分とは、分子内にフッ素は無いが、フッ素化合物Ａと反応可能な部位と、無機粒子と反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指す。無機粒子と反応可能な部位としては反応性の観点からシリルエーテルおよびシリルエーテルの加水分解物であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などを用いることができる。

フッ素処理無機粒子のより好ましい形態は、無機粒子を下記一般式（１）で示される化合物で処理し、さらに下記一般式（２）で示されるフッ素化合物Ａで処理した粒子である。
Ｂ−Ｒ^４−ＳｉＲ^５ _ｎ（ＯＲ^６）_３−ｎ ・・・一般式（１）
Ｄ−Ｒ^７−Ｒ^ｆ２ ・・・一般式（２）
（上記一般式中のＢ、Ｄは反応性二重結合基を示し、Ｒ^４、Ｒ^７は炭素数１から３のアルキレン基およびそれらから導出されるエステル構造を示し、Ｒ^５、Ｒ^６は水素または炭素数が１から４のアルキル基を示し、Ｒ^ｆ２はフルオロアルキル基を示し、ｎは０から２の整数を示し、それぞれ側鎖を構造中に持ってもよい。）。

反応性二重結合基とは、光または熱などのエネルギーをうけて発生したラジカルなどにより化学反応する官能基であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。

一般式（１）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランおよびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基および水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。

一般式（２）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。

分子中にフルオロアルキル基Ｒ^ｆ２を有さない一般式（１）で表される化合物を用いることにより、簡便な反応条件で、無機粒子表面を修飾することができるばかりではなく、無機粒子表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することができる。その結果、反応性二重結合およびフルオロアルキル基Ｒ^ｆ２を有するフッ素化合物Ａ（一般式（２））を、一般式（１）で示される化合物を介して、無機粒子表面で反応させることができる。

続いて、フッ素処理無機粒子とともに塗料組成物に含まれる、フッ素化合物Ａによる表面処理が施されていない無機粒子について説明する。フッ素加工物Ａによる表面処理が施されていない無機粒子は、第２層（高屈折率層）の構成成分として好適に用いられる。以下、このフッ素加工物Ａによる表面処理が施されていない無機粒子を他の無機粒子とする。

他の無機粒子は、特に限定されないが、金属や半金属の酸化物であることが好ましい。他の無機粒子は、Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｓｎ，およびＣｅよりなる群から選ばれる少なくとも一つの金属や半金属の酸化物粒子であることがさらに好ましい。また他の無機粒子は第２層（高屈折率層）の構成成分として好適に用いられるので、フッ素化合物Ａによる表面処理がされた無機粒子がシリカ粒子の場合は、シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子が好ましい。具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_３）およびインジウムスズ酸化物（Ｉｎ_２Ｏ_３）からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属酸化物や半金属酸化物である。特に好ましくはアンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）や酸化チタン（ＴｉＯ_２）である。反射防止性の点から屈折率が高い酸化チタンが最も好ましい。

塗料組成物は、他の無機粒子を１種類以上含むことが好ましい。他の無機粒子を１種類以上５種類以下含むことがさらに好ましく、１種類含むことが特に好ましい。

他の無機粒子の数平均粒子径は１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましい。数平均粒子径は２ｎｍ以上１００ｎｍ以下がさらに好ましく、２ｎｍ以上２５ｎｍ以下が特に好ましく、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下が最も好ましい。他の無機粒子の数平均粒子径が１ｎｍよりも小さくなると、他の無機粒子を主として含むこととなる層中の空隙密度が低下することにより透明度が低下することがある。他の無機粒子の数平均粒子径が１５０ｎｍよりも大きくなると、高屈折率層の厚さが大きくなりすぎて良好な反射防止性能が得られにくくなる。

他の無機粒子の屈折率は１．５８以上２．８０以下が好ましい。屈折率は１．６０以上２．５０以下がさらに好ましい。無機粒子の屈折率が１．５８よりも小さくなると、第２層の屈折率が低下することがある。無機粒子の屈折率が２．８０よりも大きくなると、第２層と支持基材との屈折率差が大きくなり、良好な反射防止性能が得られなくなることがあり、また干渉模様が発生し外観が悪化することがある。

塗料組成物中のフッ素処理無機粒子がフッ素処理シリカ粒子であり、他の無機粒子がシリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子である場合、支持基材上にこの塗料組成物を１回のみ塗工して続いて乾燥することで、支持基材から遠い側にフッ素処理シリカ粒子を含んだ第１層を有し、支持基材に近い側にシリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子を含んだ第２層を有する反射防止層を容易に形成することができる。

[疎水性化合物Ｂ]
前述のように反射防止層は、構成元素の異なる２種類以上の無機粒子に加えて、疎水性化合物Ｂに由来する成分を含むことが好ましい。疎水性化合物Ｂとは、疎水基を有する化合物であり、具体的にはフッ素化合物Ｂ、長鎖炭化水素化合物Ｂおよびシリコーン化合物Ｂからなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物である。疎水性化合物Ｂとしては、無機粒子同士の凝集を抑制して、塗料組成物の粘度変化（Δη）を０．１ｍＰａ以上１０ｍＰａ・ｓ以下に制御しやすい点から、フッ素化合物Ｂが好ましい。

塗料組成物が、フッ素化合物Ｂ等の疎水性化合物Ｂを含むことにより、フッ素処理無機粒子同士の凝集を抑制することができ、屈折率差の大きな２層の厚み制御が容易となり、反射防止部材が良好な反射防止性を発現することができる。

疎水性化合物Ｂは、分子中に、１種以上の反応性部位を有することが好ましい。この反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより、塗料組成物中のバインダーなど他の成分と反応する部位をさす。このような反応性部位としては、反応性の観点から、アルコキシシリル基およびアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。本発明における疎水性化合物Ｂ中の反応性部位とは、後述の一般式（４）においてはアクリル基（Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^１）−）、一般式（５）においてはＡである。疎水性化合物Ｂ中の反応性部位の数は、一つである必要はなく、複数の反応性部位を有してもよい。特に反応性、ハンドリング性の観点から、アルコキシシリル基あるいはシラノール基や、アクリロイル（メタクリロイル）基が好ましい。

また、疎水性化合物Ｂとして反応性部位を有する疎水性化合物Ｂを使用する場合には、疎水性化合物Ｂは、フッ素処理無機粒子を得るための表面処理に用いられるフッ素化合物Ａと同一の化合物であってもよい。しかし、塗料組成物中に、フッ素化合物Ａとは別に、粒子表面に結合していない疎水性化合物Ｂを含むことで、フッ素処理無機粒子が空気側（最表面層）へ移動し易くなり、容易に低屈折率層を形成することができるため、粒子の表面に結合していない疎水性化合物Ｂを含むことが好ましい。

なお、疎水性化合物Ｂが、塗料組成物中で粒子の表面に結合していない事は、次の分析方法により確認することができる。塗料組成物を卓上超遠心機（日立工機株式会社製：ＣＳ１５０ＮＸ）により遠心分離を行い（回転数３００００ｒｐｍ、分離時間３０分）、無機粒子（フッ素処理無機粒子およびその他の無機粒子）を沈降させる。得られた上澄み液を濃縮乾固し、溶媒としてＤＭＳＯ−ｄ６（太陽日酸株式会社製、ジメチルスルホキシド−ｄ６）を用いて再溶解する。再溶解したものをＣ^１３−ＮＭＲ（日本電子社製／核磁気共鳴装置ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用いて測定し、疎水性化合物Ｂの存在を確認できれば、疎水性化合物Ｂが無機粒子表面と結合していないことが確認できる。

[長鎖炭化水素化合物Ｂ]
長鎖炭化水素化合物Ｂは、疎水基として炭素数８以上の炭化水素基および反応性部位を有する化合物である。そして長鎖炭化水素化合物Ｂは、反応性部位を有することが好ましい。長鎖炭化水素化合物Ｂとしては、炭素数１０以上３０以下の炭化水素基を有する長鎖炭化水素化合物が好ましい。長鎖炭化水素化合物Ｂは炭素数１２以上３０以下の炭化水素基を有する長鎖炭化水素化合物がさらに好ましく、炭素数１４以上３０以下の炭化水素基を有する長鎖炭化水素化合物が特に好ましい。炭素数が多くなるほど疎水性が高くなり、バインダー原料と分離しやすくなる。

[シリコーン化合物Ｂ]
シリコーン化合物Ｂは、疎水基としてシロキサン基および反応性部位を有する化合物である。そしてシリコーン化合物Ｂは、反応性部位を有することが好ましい。シリコーン化合物Ｂは、一般式（３）（−（Ｓｉ（Ｒ^８）（Ｒ^９）−Ｏ）_ｍ−）で示されるポリシロキサン基を有し、Ｒ^８およびＲ^９の炭素数が３以上６以下であることが好ましい。Ｒ^８およびＲ^９の炭素数は４以上６以下がさらに好ましく、５以上６以下が特に好ましい。

[フッ素化合物Ｂ]
フッ素化合物Ｂは、疎水基として炭素数４以上のフルオロアルキル基および反応性部位を有する化合物である。フッ素化合物Ｂ中のフルオロアルキル基の数は必ずしも一つである必要はなく、フッ素化合物Ｂは複数のフルオロアルキル基を有してもよい。なお、本発明でいうフルオロアルキル基とは、前述のフッ素化合物Ａのフルオロアルキル基と同様に、アルキル基が持つ全ての水素がフッ素に置き換わった置換基であり、フッ素原子と炭素原子のみから構成される置換基であり、これがフッ素化合物Ｂにおける疎水基である。

またフッ素化合物Ｂが有するフルオロアルキル基Ｒ^ｆ１は、炭素数４以上であれば使用可能である。フルオロアルキル基Ｒ^ｆ１の炭素数は４以上８以下が好ましく、炭素数４以上７以下の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Ｒ^ｆ１がさらに好ましい。フルオロアルキル基Ｒ^ｆ１は、塗料組成物の乾燥時のフッ素処理粒子同士の粒子間相互作用の抑制の点から、炭素数５以上７以下が特に好ましく、炭素数６以上７以下が最も好ましい。また分岐状に比べ直鎖状の方が立体障害が小さく、フッ素処理無機粒子に吸着し易い点から、直鎖状が好ましい。フルオロアルキル基を、炭素数４以上７以下の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Ｒ^ｆ１とすることにより、粒子の分離性が高まり、屈折率の異なる２層の自発的な層形成が容易になり、反射防止性が向上する。

フッ素化合物Ｂは、反応性部位を有することが好ましい。フッ素化合物Ｂ中の反応性部位とは、後述の一般式（４）においてはアクリル基（Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^１）−）、一般式（５）においてはＡである。フッ素化合物Ｂ中の反応性部位の数は、一つである必要はなく、複数の反応性部位を有してもよい。特に反応性、ハンドリング性の観点から、反応性部位としてはアルコキシシリル基あるいはシラノール基や、アクリロイル（メタクリロイル）基が好ましい。

フッ素化合物Ｂの数平均分子量は３００以上４０００以下であることが好ましい。塗料組成物が、数平均分子量が３００以上４０００以下のフッ素化合物Ｂを含む場合は、フッ素化合物Ｂの親和力により、フッ素化合物Ｂがフッ素処理無機粒子表面に吸着し、フッ素処理無機粒子同士の粒子間相互作用、または凝集体の形成を抑制できる。その結果、塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止し、屈折率の異なる２つの層の自発的な層形成が容易となり、良好な反射防止性を発現することができる。本発明における数平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒にし、分子量既知の単分散ポリスチレンを標準物質として用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定して求めたものである。

フッ素化合物Ｂは、振動式粘度計による粘度η_Ｆが１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ表面張力γ_Ｆが６ｍＮ／ｍ以上２６ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。粘度η_Ｆは、１ｍＰａ・ｓ以上９０ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、１ｍＰａ・ｓ以上８０ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。振動式粘度計による粘度η_Ｆは、フッ素化合物Ｂを２５℃にて測定したときの粘度を表し、音叉型振動式粘度計ＳＶ−１０Ａの利用により測定することができる。

また本発明におけるフッ素化合物Ｂの表面張力γ_Ｆは、６ｍＮ／ｍ以上２４ｍＮ／ｍ以下がさらに好ましく、６ｍＮ／ｍ以上２２ｍＮ／ｍ以下が特に好ましい。表面張力γ_Ｆは、フッ素化合物Ｂを２５℃にて測定したときの表面張力を表し、全自動表面張力計を用いて、懸滴法（ペンダント・ドロップ法）により測定することができる。

フッ素化合物Ｂの振動式粘度計による粘度η_Ｆおよび表面張力γ_Ｆは、フッ素処理無機粒子表面へのフッ素化合物Ｂの親和力に関係する。フッ素化合物Ｂの粘度η_Ｆが１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下、表面張力が６ｍＮ／ｍ以上２６ｍＮ／ｍ以下であると、フッ素化合物Ｂの親和力により、フッ素化合物Ｂがフッ素処理無機粒子表面に吸着することができ、フッ素処理無機粒子同士の凝集体の形成を抑制できる。その結果、塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止し、屈折率の異なる２層の自発的な層形成が容易となり、良好な反射防止性を発現することができる。

塗料組成物中のフッ素化合物Ｂは、１種類であってもよく２種類以上を混合して用いてもよい。またフッ素化合物Ｂは、フッ素化合物Ａと同一の化合物であってもよい。また、塗料組成物中に紫外線などにより硬化するフッ素化合物Ｂを含む場合は、酸素阻害を防ぐことができることから、紫外線による硬化工程での酸素濃度はできるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化する方がより好ましい。

フッ素化合物Ｂのモル体積Ｖ_Ｆは、２００ｃｍ^３／ｍｏｌ以上１０００ｃｍ^３／ｍｏｌ以下であることが好ましい。モル体積Ｖ_Ｆが２００ｃｍ^３／ｍｏｌ以上１０００ｃｍ^３／ｍｏｌ以下であると、フッ素化合物Ｂがフッ素処理無機粒子表面に吸着されやすくなり、フッ素処理無機粒子同士の粒子間相互作用、または凝集体の形成を抑制できる。その結果、塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止し、屈折率の異なる２層の自発的な層形成が容易となり、良好な反射防止性を発現することができる。

ここで、モル体積Ｖ_Ｆとは、分子量Ｍを密度ρで除した量であり、１ｍｏｌの体積（ｃｍ^３／ｍｏｌ）を表す。特にフッ素化合物Ｂのモル体積については、化合物に含まれる基のモル体積が算出されれば、加成性が成立するため、化合物のモル体積を算出することができる。基のモル体積は、「フッ素試薬」２００８カタログ（ダイキン化成品販売株式会社）に記載されており、これに基づいて各種フッ素化合物Ｂのモル体積を算出することができる。

また本発明におけるフッ素化合物Ｂは、以下の一般式（４）のモノマー、一般式（５）のモノマー、一般式（４）のモノマーに由来するオリゴマー、および一般式（５）のモノマーに由来するオリゴマーからなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましい。
Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^１）−ＣＯＯ−Ｒ^２−Ｒ^ｆ１ ・・・一般式（４）
Ａ−Ｒ^３−Ｒ^ｆ１ ・・・一般式（５）
（式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^ｆ１は炭素数４〜７の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基、Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基、Ａは反応性部位である。）。

なおフッ素化合物Ｂは、特定のフルオロアルキル基を有し、さらに反応性部位を有することが好ましい。フルオロアルキル基および反応性部位を有するフッ素化合物Ｂは、一般式（４）のモノマーや、一般式（４）のモノマーに由来するオリゴマーについては、Ｒ^ｆ１がフルオロアルキル基であり、Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^１）−が反応性部位である。また、一般式（５）のモノマーや、一般式（５）のモノマーに由来するオリゴマーについては、Ｒ^ｆ１がフルオロアルキル基であり、Ａが反応性部位である。

一般式（４）のモノマーの化合物の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。

また一般式（４）のモノマーに由来するオリゴマーの化合物としては、上記一般式（４）のモノマーを用いて、ラジカル重合などの反応により得られる、平均重合度２〜１０程度の化合物が例示される。

一般式（５）のモノマーの化合物としては、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン（ＴＳＬ８２３３、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＴＳＬ８２５７、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）などをはじめとしたフルオロアルキル基を有するフルオロアルキルシランが例示される。

また一般式（５）のモノマーに由来するオリゴマーの化合物は、上述のフルオロアルキルシランに所定量の水を加え酸触媒の存在下にて副生するアルコールを留去しながら反応させることにより得られる化合物である。この反応により、フルオロアルキルシランの一部が加水分解し、さらにこれらが縮合反応を起こしオリゴマーが得られる。加水分解率は使用する水の量によって調節することができる。加水分解に用いる水の量は、通常シランカップリング剤に対して１．５モル倍以上である。さらに得られるオリゴマーの平均重合度は２〜１０の化合物であることが好ましい。

振動式粘度計による粘度η_Ｆが１ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下、表面張力γ_Ｆが６ｍＮ／ｍ以上２６ｍＮ／ｍ以下、およびモル体積Ｖ_Ｆが２００ｃｍ^３／ｍｏｌ以上１０００ｃｍ^３／ｍｏｌ以下のフッ素化合物Ｂとするためには、炭素数４以上７以下の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル鎖を有するのがよい。さらに前記一般式（４）のモノマー、一般式（５）のモノマー、一般式（４）のモノマーに由来するオリゴマー、および一般式（５）のモノマーに由来するオリゴマーから選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。上記のような好ましいフッ素化合物Ｂとして、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランなどが例示される。

［有機溶媒］
塗料組成物は、構成元素の異なる２種類以上の無機粒子や疎水性化合物Ｂに加えて、さらに有機溶媒を含むことが好ましい。有機溶媒を含むと、フッ素処理無機粒子の粒子間相互作用を抑制し、フッ素処理無機粒子同士の凝集体の形成を抑制できる。また、塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止することできるため、塗料組成物を塗布した後の自発的な層形成が容易となり、良好な反射防止性を発現することができる。

有機溶媒は、特に限定されるものではないが、通常、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒が好ましい。具体的には、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類、フッ素類等が用いられる。これらの内の１種を用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いることもできる。具体的には、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、特に無機粒子の安定性の点からイソプロピルアルコール、プロピレングリコールなどが特に好ましい。

アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェニチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等を挙げることができる。芳香族類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。

塗料組成物は、塗料組成物中の全成分の合計を１００質量％として、疎水性化合物Ｂを１質量％以上３０質量％以下含むことが好ましい。疎水性化合物Ｂの含有量は２質量％以上２５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。ここで塗料組成物中の全成分には、有機溶媒、バインダー成分、その他各種添加剤も含む。

塗料組成物が、疎水性化合物Ｂを１質量％以上３０質量％以下含むことにより、疎水性化合物Ｂがフッ素処理無機粒子表面に吸着し、フッ素処理無機粒子同士の凝集体の形成を抑制できる。その結果塗料組成物の乾燥時の流動性の低下を防止し、屈折率差の大きな２層の厚み制御が容易となり、良好な反射防止性を発現することができる。また疎水性化合物Ｂは、塗料組成物を塗工し、乾燥させる過程における無機粒子の分散安定化に寄与するため、溶媒も含んだ全成分に対する割合が重要である。そのため、無機粒子に対する割合ではなく、全成分に対する比率で疎水性化合物Ｂを上記範囲で含むことが好ましい。

[塗料組成物のバインダー原料]
反射防止層は、１種類以上のバインダーを含むことが重要である。そのため反射防止部材の好適な製造方法において用いられる塗料組成物は、１種類以上のバインダー原料を含むことが好ましい。つまり、塗料組成物により得られる反射防止層中の第１層および第２層には、塗料組成物中のバインダー原料に由来するバインダーを含むことが重要である。以下、塗料組成物中に含まれるバインダーを「バインダー原料」、反射防止層中に含まれるバインダーを「バインダー」と表す。ただし、塗料組成物中のバインダー原料が、そのまま反射防止層のバインダーとして存在する場合もある。

バインダー原料としては特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱および／または活性エネルギー線などにより硬化するバインダー原料であることが好ましい。バインダー原料は一種類であってもよく、二種類以上を混合して用いてもよい。また、前記フッ素処理無機粒子や、前記フッ素処理無機粒子以外の無機粒子を膜中に保持する観点より、分子中にアルコキシシランやアルコキシシランの加水分解物や反応性二重結合を有しているバインダー原料であることが好ましい。またＵＶ線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下で硬化することがより好ましい。このようなバインダー原料としては、多官能アクリレートを用いるのが好ましい。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどの１分子中に、３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマーを用いることができる。より好ましくは４または５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマーである。これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、市販されている多官能アクリル系組成物としては、三菱レーヨン株式会社の商品名“ダイヤビーム”シリーズ、長瀬産業株式会社の商品名“デナコール”シリーズ、新中村株式会社の商品名“ＮＫエステル”シリーズ、大日本インキ化学工業株式会社の商品名“ＵＮＩＤＩＣ”、東亞合成化学工業株式会社の“アロニックス”シリーズ、日本油脂株式会社の“ブレンマー”シリーズ、日本化薬株式会社の商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズ、共栄社化学株式会社の商品名“ライトエステル”シリーズなどがある。

［塗料組成物のその他成分］
塗料組成物には、さらに開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。開始剤および触媒は、フッ素処理無機粒子であるフッ素処理シリカ粒子とバインダー原料との反応を促進したり、バインダー間の反応を促進するために用いられる。開始剤としては、塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応等による重合、縮合または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。

開始剤、硬化剤および触媒は種々のものを使用できる。また、開始剤、硬化剤および触媒はそれぞれ単独で用いてもよく、複数の開始剤、硬化剤および触媒を同時に用いてもよい。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用してもよい。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられる。光重合開始剤としては、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましい。アルキルフェノン形化合物の具体例としては、２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−[４−（４−モルフォリニル）フェニル]−１−ブタン、１−シクロヒキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−[４−（２−エトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、などが挙げられる。

なお、開始剤および硬化剤の含有割合は、塗料組成物中のバインダー成分１００質量部に対して０．００１質量部から３０質量部が好ましい。より好ましくは０．０５質量部から２０質量部であり、さら好ましくは０．１質量部から１０質量部である。

その他として、塗料組成物には、さらに界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて含めてもよい。

［塗料組成物中の各成分の含有量］
塗料組成物中のフッ素処理無機粒子と他の無機粒子との含有比率は、（フッ素処理無機粒子の含有量／他の無機粒子の含有量）の質量比が、１／３０以上１／１以下であることが好ましい。

（フッ素処理無機粒子の含有量／他の無機粒子の含有量）の質量比を、１／３０以上１／１以下とすることで、得られる反射防止層の低屈折率層の厚みと高屈折率層の厚みの比を一定にすることができる。このため１回の塗工で、低屈折率層と高屈折率層の厚みを同時に、反射防止機能を有する厚みとすることが容易になる。また高屈折率層の厚みを厚くし、ハードコート機能を付与しようとする場合にも、反射防止機能を損なうことなく、１回の塗工で必要な厚みとすることができる。（フッ素処理無機粒子の含有量／他の無機粒子の含有量）の質量比は、１／２９以上１／２以下がさらに好ましく、１／２６以上１／３以下が特に好ましく、１／２３以上１／４以下が最も好ましい。

塗料組成物中の各成分の含有量は、塗料組成物全体を１００質量％として、塗料組成物中に含まれる全ての無機粒子（フッ素化合物Ａによる表面処理が施された無機粒子も含む）の合計が０．２質量％以上４０質量％以下、有機溶媒が４０質量％以上９８質量％以下、疎水性化合物Ｂが０．５質量％以上３０質量％以下、ならびにバインダー、開始剤、硬化剤および触媒などのその他の成分が０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。各成分の含有量は、全ての無機粒子の合計が１質量％以上３５質量％以下、有機溶媒が５０質量％以上９７質量％以下、疎水性化合物Ｂが１質量％以上２５質量％以下、およびその他の成分が１質量％以上１５質量％以下であることがさらに好ましい。

特に好ましくは、構成元素の異なる２種類以上の無機粒子が金属酸化物粒子とフッ素処理シリカ粒子であり、これらの合計が２質量％以上３０質量％以下、有機溶媒が６０質量％以上９５質量％以下、疎水性化合物Ｂが２質量％以上２０質量％以下、およびその他の成分が２質量％以上１０質量％以下である。

［支持基材］
反射防止部材をＣＲＴ画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止部材は支持基材を有することが重要である。ここで、支持基材とは塗料組成物が直接塗布される部材を指す。支持基材としては、ガラス板やプラスチックフィルムなどを単独で使用してもよく、ガラス板やプラスチックフィルムに反射防止層以外の各種の機能層を設けたものを使用してもよく、ガラス板やプラスチックフィルムに各種の処理が施されたものを使用してもよい。支持基材の部材としては、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例としては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンなどがある。これらの中でも特にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。

各種の機能層とは、易接着層、ハードコート層、帯電防止層などの反射防止層以外の機能層をいう。各種の処理とは、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理等をいう。

本発明のより好ましい態様では、耐擦傷性に欠けるプラスチックフィルム上に、塗料組成物を１回塗工する工程を設けることにより、支持基材に反射防止性に加え耐擦傷性も付与できる。従来技術のように、支持基材上にハードコート層を設けたり、支持基材としてハードコート層を有するフィルムを使用する必要はなく、反射防止部材の支持基材として耐擦傷性が劣る材料も使用することができる。

支持基材の塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さは４０ｎｍ以下であるのが好ましい。表面粗さは３５ｎｍ以下がさらに好ましく、３０ｎｍ以下が特に好ましい。ここで反射防止層以外の機能層を有するガラス板やプラスチックフィルムを支持基材とし、機能層の上に塗料組成物を塗工する場合、塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さとは、機能層の表面の表面粗さではなく、機能層が積層されている側のガラス板またはプラスチックフィルムの表面粗さである。また、各種の処理が施されたガラス板やプラスチックフィルムを支持基材とし、処理が施された面に塗料組成物を塗工する場合、塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さとは、処理が施されている側のガラス板またはプラスチックフィルムの表面粗さである。

機能層を有するガラス板やプラスチックフィルムを支持基材として用いた場合、支持基材の塗料組成物を塗工する側の面としてはガラス板またはプラスチックフィルムの表面であっても、機能層の表面であっても特に限定されない。ただし、反射防止部材にハードコート性を付与するため、支持基材としてハードコート層を有するガラス板やプラスチックフィルムを用いる場合は、ハードコート層の表面に塗料組成物を塗工する。反射防止層と支持基材との接着性を向上させるため、支持基材として易接着層を有するガラス板やプラスチックフィルムを用いる場合は、易接着層の表面に塗料組成物を塗工する。

支持基材の光透過率は、８０％以上１００％以下であることが好ましい。光透過率は８６％以上１００％以下がさらに好ましい。光透過率とは、光を照射した際に試料を透過する光の割合のことであり、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７）に基づいて測定した値である。反射防止部材の光透過率としては値が大きいほど良好であり、値が小さいとヘイズ値が上昇し、画像劣化が生じる可能性が高くなる。ヘイズは透明材料の濁りの指標であり、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づいて測定した値である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。ここで、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種機能層が設けられた支持基材であるときは、光線透過率は各種機能層を設けた状態での値である。また、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種処理が施された支持基材の場合は、光線透過率は各種処理が施された状態での値である。

支持基材のヘイズは、０．０１％以上２．０％以下であることが好ましい。ヘイズは０．０５％以上１．０％以下がさらに好ましい。ここで、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種機能層が設けられた支持基材であるときは、ヘイズは各種機能層を設けた状態での値である。また、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種処理が施された支持基材の場合は、ヘイズは各種処理が施された状態での値である。

支持基材の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。屈折率とは、光が空気中からある物質中に進む時、その界面で進行方向の角度を変える割合のことであり、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９９６）に基づいて測定した値である。ここで、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種機能層が設けられた支持基材であるときは、屈折率は、ガラス板部分、プラスチックフィルム部分または機能層部分の個々の屈折率ではなく、支持基材全体の平均の値である。支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種処理が施された支持基材の場合は、屈折率は、各種処理が施された状態での支持基材全体の平均の値である。

支持基材は、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を含んでもよい。赤外線吸収剤の含有量は、支持基材の全成分１００質量％において０．０１質量％以上２０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは０．０５質量％以上１０質量％以上である。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に含有してもよい。不活性無機化合物の例には、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＢａＳＯ_４、ＣａＣＯ_３、タルクおよびカオリンが含まれる。更に、支持基材に、表面処理を実施してもよい。ここで、支持基材が、ガラス板やプラスチックフィルムに各種機能層が設けられた支持基材であるときは、赤外線吸収剤または紫外線吸収剤は、プラスチックフィルムに含んでもよいし、機能層部分に含んでもよい。

［反射防止部材の製造方法］
本発明の反射防止部材は、特定の硬化条件と材料を使用して、次の（ｉ）または（ii）のいずれかの方法により形成することができる。このうち（ii）の方法が界面の形状、マトリクスの連続性の観点から好ましい。
（ｉ） 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで特定の硬化条件と材料を使用して、支持基材上に１層分の液膜を塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。これを２回行い、支持基材上に屈折率の異なる２つの層を形成する方法。
（ii） 支持基材を塗工工程に搬入し、次いで特定の硬化条件と材料を使用して、支持基材上に反射防止層を形成する塗料組成物を１回のみ塗工して乾燥し、次いで支持基材を塗工工程から搬出する。こうして支持基材上に屈折率の異なる２つの層を同時に形成する方法。

（ｉ）の方法における特定の硬化条件と材料とは、先に塗工した層（第２層）の表面を、後から塗工する第１層が膨潤させることにより、目的の凹凸構造を形成するものである。

（ii）の方法では、塗料組成物を、支持基材上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの塗工方法によって１回塗工する工程（塗工工程）を有することが重要である。そして、続いて塗工した塗料組成物を加熱などにより乾燥を行う工程（乾燥工程）により、反射防止部材を得ることができる。

（ii）の製造方法によれば、塗料組成物を、支持基材上に１回のみ塗工する工程により、支持基材上に屈折率の異なる２つの層を同時に形成することができる。

ここで、フッ素処理無機粒子、他の無機粒子および疎水性化合物Ｂを含む塗料組成物を使用した場合を例にとり、屈折率の異なる２つの層からなる反射防止層を同時に形成する推定メカニズムを説明する。

まず塗料組成物中では、フッ素処理無機粒子と親和性の高い疎水性化合物Ｂが、フッ素処理無機粒子表面に選択的に吸着し、フッ素処理無機粒子と他の無機粒子が均一に分散した状態を保っている。この塗料組成物を支持基材上に塗工した後においても、塗工された塗料組成物は同様にフッ素処理無機粒子と他の無機粒子が均一に分散した状態を保っている。そして乾燥する工程において、フッ素処理無機粒子は、エネルギー的に安定な空気側（最表面）に移行し、最表層にフッ素処理無機粒子からなる第１層（低屈折率層）を形成する。しかし、この状態では、乾燥途中であるため揮発しきれていない溶媒が多く存在し、揮発も並行して進行している。その揮発過程において一旦形成された低屈折率層が一度破壊される。ところが、共存する低揮発性の疎水性化合物Ｂの存在により、溶媒が少ない状態であってもフッ素処理無機粒子はお互いに凝集することなく容易に移動する。その後、一度破壊された低屈折率層は再び配列し、再び均一な低屈折率層を形成する。そして、支持基材に近い側に、他の無機粒子を多く含む第２層（高屈折率層）を形成する。

また疎水性化合物Ｂを含まない場合においても、塗料組成物の粘度変化（Δη）を０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下とすることにより、フッ素処理無機粒子同士の凝集が抑制でき、疎水性化合物Ｂを含む場合と同様の現象が起こっていると推定している。

上記のような反射防止層を得るためには、得られる反射防止層中から完全に溶媒を除去する事に加え、欠陥のない２つの二層に分離させるという観点からも、乾燥工程では加熱することが好ましい。乾燥工程は、（Ａ）材料全体が乾燥する温度まで昇温する材料予熱期間、（Ｂ）塗液が動かなくなるまでの恒率乾燥期間、（Ｃ）減率乾燥期間に分けられる。（Ａ）材料予熱期間から（Ｂ）恒率乾燥期間にかけて、溶媒の蒸発に伴い屈折率の異なる２つの層を形成する。２つの層を形成する無機粒子の移動に十分な時間を確保するため、風速が低く、できるだけ低温で乾燥することが好ましい。

この乾燥初期である（Ａ）材料予熱期間や（Ｂ）恒率乾燥期間における風速は、０．１ｍ／ｓ以上１０ｍ／ｓ以下が好ましい。風速は０．５ｍ／ｓ以上５ｍ／ｓ以下がさらに好ましい。乾燥後期における（Ｃ）減率乾燥期間においては、残存溶媒を減らす点から、風速は１ｍ／ｓ以上１５ｍ／ｓ以下が好ましく、温度は１００℃以上２００℃以下が好ましい。加熱温度としては、用いる溶媒の沸点およびポリマーのガラス転移温度などから決定でき、特に限定されない。乾燥工程における、加熱方式としては、熱風噴射、赤外線、マイクロ波、誘導加熱などが挙げられる。この中でも、乾燥初期である（Ａ）材料予熱期間や（Ｂ）恒率乾燥期間においては、風速、温度の点から、塗工面に対して平行に送風する熱風乾燥が好ましい。また乾燥後期である（Ｃ）減率乾燥期間においては、汎用性、乾燥速度の点から、塗工面に対して垂直に送風する熱風乾燥であるのが好ましい。

さらに、乾燥工程後に形成された支持基材上の２層に対して、熱またはエネルギー線を照射する事により、さらに硬化を行ってもよい（硬化工程）。硬化工程において、熱で硬化する場合には、雰囲気温度は室温から２００℃であることが好ましい。溶媒の蒸発、およびシラノールなどを含む樹脂の硬化を促進するために、雰囲気温度は１００℃以上２００℃以下がさらに好ましく、１３０℃以上２００℃以下が特に好ましい。１００℃以上とすることにより、残存する溶媒量が減少し、非常に短時間でシラノールなどを含む樹脂の硬化が進む。

また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線（ＥＢ線）または紫外線（ＵＶ線）が好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化するのがより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、硬化が不十分となり、耐擦傷性、耐アルカリ性が不十分となる場合がある。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度は１００ｍＷ／ｃｍ^２以上３０００ｍＷ／ｃｍ^２以下である。紫外線の照度は２００ｍＷ／ｃｍ^２以上２０００ｍＷ／ｃｍ^２以下が好ましく、３００ｍＷ／ｃｍ^２以上１５００ｍＷ／ｃｍ^２以下がさらに好ましい。紫外線の積算光量は１００ｍＪ／ｃｍ^２以上３０００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量は２００ｍＪ／ｃｍ^２以上２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ^２以上１５００ｍＪ／ｃｍ^２以下がさらに好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計および被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。なお、以下の高屈折率層成分とは前述の通り第２層成分であり、低屈折率層成分とは前述の通り第１層成分である。

＜製造例１＞
［易接着層用塗料組成物１―１］
下記材料を混合し、易接着層用塗料組成物１−１を得た。
・水性アクリル樹脂 ３０．０質量部
（ニカゾールＡ０８ 日本カーバイド工業（株）製 ２０質量％）
・コロイダルシリカ粒子分散物 ６．０質量部
（スノーテックスＯＬ 日産化学工業（株） ２０質量％ 数平均粒子径４０ｎｍ）
・界面活性剤 ０．１質量部
（オルフィンＥＸＰ４０５１Ｆ 日信化学工業（株）製）
・水 １００質量部。

［易接着層用塗料組成物１−２］
下記材料を混合し、易接着層用塗料組成物１−２を得た。
・水性アクリル樹脂 ３０．０質量部
（ニカゾールＡ０８ 日本カーバイド工業（株）製 ２０質量％）
・コロイダルシリカ粒子分散物 １．５質量部
（スフェリカ１４０ 日揮触媒化成（株） ４０質量％ 数平均粒子径１４０ｎｍ）
・界面活性剤 ０．１質量部
（オルフィンＥＸＰ４０５１Ｆ 日信化学工業（株）製）
・水 １００質量部。

［易接着層用塗料組成物１−３］
下記材料を混合し、易接着層用塗料組成物１−３を得た。
・水性アクリル樹脂 ３０．０質量部
（ニカゾールＡ０８ 日本カーバイド工業（株）製 ２０質量％）
・コロイダルシリカ粒子分散物 ３．０質量部
（スフェリカ１４０ 日揮触媒化成（株） ４０質量％ 数平均粒子径１４０ｎｍ）
・界面活性剤 ０．１質量部
（オルフィンＥＸＰ４０５１Ｆ 日信化学工業（株）製）
・水 １００質量部。

［易接着層用塗料組成物１−４］
下記材料を混合し、易接着層用塗料組成物１−４を得た。
・水性アクリル樹脂 ３０．０質量部
（ニカゾールＡ０８ 日本カーバイド工業（株）製 ２０質量％）
・コロイダルシリカ粒子分散物 ３．０質量部
（シーホスターＫＥＰ３０Ｗ 日本触媒（株）製 ２０質量％ 数平均粒子径３００ｎｍ）
・界面活性剤 ０．１質量部
（オルフィンＥＸＰ４０５１Ｆ 日信化学工業（株）製）
・水 １００質量部。

［易接着層用塗料組成物１−５］
下記材料を混合し、易接着層用塗料組成物１−５を得た。
・水性アクリル樹脂 ３０．０質量部
（ニカゾールＡ０８ 日本カーバイド工業（株）製 ２０質量％）
・コロイダルシリカ粒子分散物 １０．０質量部
（シーホスターＫＥＰ３０Ｗ 日本触媒（株）製 ２０質量％ 数平均粒子径３００ｎｍ）
・界面活性剤 ０．１質量部
（オルフィンＥＸＰ４０５１Ｆ 日信化学工業（株）製）
・水 １００質量部。

［ハードコート層用塗料組成物１−１］
下記材料を混合し、ハードコート層用塗料組成物１−１を得た。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）３０．０質量部
・イルガキュア９０７（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製）
１．５質量部
・メチルイソブチルケトン ７３．５質量部。

［ハードコート層用塗料組成物１−２］
下記材料を混合し、ハードコート層用塗料組成物１−２を得た。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）３０．０質量部
・コロイダルシリカ粒子分散物 ２０質量部
（ＥＬＣＯＭ ＴＯ−１０２５ＳＩＶ 日揮触媒化成（株） ３０質量％ 数平均粒子径：１２０ｎｍ）
・イルガキュア９０７（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製）
１．５質量部
・メチルイソブチルケトン ７３．５質量部。

［高屈折率層成分（Ａ−８）］
下記材料を混合し、高屈率層成分（Ａ−８）を得た。
・二酸化チタン粒子分散物 ７２質量部
（ＥＬＣＯＭ 日揮触媒化成（株）製： 固形分３０質量％、数平均粒子径８ｎｍ）
・バインダー原料Ａ １８質量部
（ＥＢＣＲＹＬ８２１０： ダイセルサイテック（株） 固形分１００質量％）
・２−プロパノール １質量部
・エチレングリコールモノブチルエーテル ９質量部。

［高屈折率層成分（Ａ−１５）］
二酸化チタン粒子分散物を下記の二酸化ジルコニウム粒子分散物に変えた以外は、高屈折率層成分（Ａ−８）と同じ材料を混合して、高屈率層成分（Ａ−１５）を得た。
・二酸化ジルコニウム粒子分散物
（ＥＬＣＯＭ 日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％、数平均粒子径 １５ｎｍ）。

［高屈折率層成分（Ａ−２５）］
二酸化チタン粒子分散物を下記のＡＴＯ粒子分散物に変えた以外は、高屈折率層成分（Ａ−８）と同じ材料を混合して高屈率層成分（Ａ−１５）を得た。
・ＡＴＯ粒子分散物
（リオデュラス 東洋インキ（株）製：固形分３０質量％、数平均粒子径２５ｎｍ）。

［高屈折率層成分（Ｂ−８）］
バインダー原料Ａを下記材料に変えた以外は、高屈折率層成分（Ａ−８）と同じ材料を混合して、高屈折率層成分（Ｂ−８）を得た。
・バインダー原料Ｂ
（ＥＢＣＲＹＬ４８５８： ダイセルサイテック（株） 固形分１００質量％）。

［高屈折率層成分（Ｂ−１５）］
バインダー原料Ａを下記材料に変えた以外は、高屈折率層成分（Ａ−１５）と同じ材料を混合して、高屈折率層成分（Ｂ−１５）を得た。
・バインダー原料Ｂ
（ＥＢＣＲＹＬ４８５８： ダイセルサイテック（株） 固形分１００質量％）。

［高屈折率層成分（Ｘ）］
下記材料を混合し、高屈率層成分（Ｘ）を得た。
・オプスターＴＵ４００５ （ＪＳＲ（株）） １．０質量部
・２−プロパノール １．０質量部
・エチレングリコールモノブチルエーテル ０．１１質量部。

［低屈折率層成分（１−ａ）］
中空シリカであるスルーリア（日揮触媒化成（株）製中空シリカ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径 ６０ｎｍ）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ １．３８ｇおよび２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分１４質量％の低屈折率層成分（１−ａ）とした。

［低屈折率層成分（１−ｂ）］
中空シリカをスルーリア（日揮触媒化成（株）製中空シリカ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径 ４０ｎｍ）に変えた以外は、低屈折率層成分（１−ａ）と同じ材料を混合し、低屈折率層成分（１−ｂ）を得た。

［低屈折率層成分（１−ｃ）の調整］
中空シリカをオスカル（日揮触媒化成（株）製コロイダルシリカ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径 １２０ｎｍ）に変えた以外は、低屈折率層成分（１−ａ）と同じ材料を混合して、低屈折率層成分（１−ｃ）を得た。

［低屈折率層成分（１−ｄ）の調整］
中空シリカであるスルーリア（日揮触媒化成（株）製中空シリカ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径 ６０ｎｍ）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分１４質量％の低屈折率層成分（１−ｄ）とした。

［反射防止層用塗料組成物１−１］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−１を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） １３質量部
・高屈折率層成分（Ａ−８） ３８質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．７質量部
・疎水性化合物Ｂ−１ ５．１質量部
（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ 数平均分子量５１８）
・２−プロパノール ４３．２質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−２］
高屈折率層成分（Ａ−８）を高屈折率層成分（Ａ−１５）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−１と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物１−２を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−３］
低屈折率層成分（１−ａ）を低屈折率層成分（１−ｂ）に、高屈折率層成分（Ａ−８）を高屈折率層成分（Ｂ−１５）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−１と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物１−３を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−４］
低屈折率層成分（１−ａ）を低屈折率層成分（１−ｂ）に、高屈折率層成分（Ａ−８）を高屈折率層成分（Ｂ−８）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−１と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物４を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−５］
下記材料を混合し、反射防止層用塗料組成物１−５を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） １３質量部
・高屈折率層成分（Ｂ−８） ２９質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．５５質量部
・疎水性化合物Ｂ−１ ３．８質量部
（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ 数平均分子量５１８）
・２−プロパノール ５３．６質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−６］
下記材料を混合し、反射防止層用塗料組成物１−６を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） １３質量部
・高屈折率層成分（Ａ−８） ２１質量部
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．４０質量部
・疎水性化合物Ｂ−１ ２．７質量部
（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ 数平均分子量５１８）
・２−プロパノール ６２．９質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−７］
下記材料を混合し、反射防止層用塗料組成物１−７を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） ６質量部
・高屈折率層成分（Ａ−８） ６５質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
１．２質量部
・疎水性化合物Ｂ−１ ２０質量部
（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ 数平均分子量５１８）
・２−プロパノール ７．８質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−８］
下記材料を混合し、反射防止層用塗料組成物１−８を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） ５．５質量部
・高屈折率層成分（Ｂ−８） ８５質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
１．６５質量部
・疎水性化合物Ｂ−１ ３０質量部
（Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ 数平均分子量５１８）。

［反射防止層用塗料組成物１−９］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−９を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） １３質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．１０質量部
・バインダー原料Ａ １質量部
（ＥＢＣＲＹＬ８２１０： ダイセルサイテック（株） 固形分１００質量％）
・２−プロパノール ８５．９質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−１０］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−１０を得た。
・高屈折率層成分（Ａ−２５） ５０質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．９質量部
・２−プロパノール ４９質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−１１］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−１１を得た。
・高屈折率層成分（Ａ−８） ３８質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．３６質量部
・２−プロパノール ６１．６質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−１３］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−１３を得た。
・低屈折率層成分（１−ｂ） １３質量部
・高屈折率層成分（ｘ） ９質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．９０質量部
・２−プロパノール ７７．９質量部。

［反射防止層用塗料組成物１−１４］
低屈折率層成分（１−ｂ）を低屈折率層成分（１−ｃ）に、 高屈折率層成分（Ｂ−１５）を高屈折率層成分（Ｂ−８）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−３と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物１−１４を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−１５］
低屈折率層成分（１−ａ）を低屈折率層成分（１−ｄ）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−１と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物１−１５を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−１６］
高屈折率層成分（Ａ−８）を高屈折率層成分（Ａ−２５）に、低屈折率層成分（１−ａ）を低屈折率層成分（１−ｂ）に変えた以外は、反射防止層用塗料組成物１−１と同じ材料を混合して反射防止層用塗料組成物１−１６を得た。

［反射防止層用塗料組成物１−１７］
下記材料を混合し反射防止層用塗料組成物１−１７を得た。
・低屈折率層成分（１−ａ） １３質量部
・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
０．１質量部
・バインダー原料Ａ ０．５質量部
（ＥＢＣＲＹＬ８２１０： ダイセルサイテック（株） 固形分１００質量％）
・バインダー原料Ｃ ０．５質量部
（ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ： 共栄社化学（株） 固形分１００質量％）
・２−プロパノール ８５．９質量部。

[反射防止部材の作成方法]
以下、反射防止部材の作成方法を示す。各サンプルの構成を表１−３にまとめる。

［支持基材１−１］
ＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されているＰＥＴ樹脂フィルム（東レ（株）製 ルミラー Ｕ４６）を支持基材１−１とした。

［支持基材１−１Ｕ］
ＰＥＴ樹脂フィルム（東レ（株）製 ルミラー Ｔ６０）にコロナ処理を施した。コロナ処理面に易接着層用塗料組成物１−１を、バーコーター（＃２）を用いて塗工した。塗工した後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 １００℃
熱風風速 ２ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １．５分間
・第二段階
熱風温度 １５０℃
熱風風速 ５ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 １．５分間
作成した支持基材を、易接着層を有する支持基材１−１Ｕとした。

［支持基材１−２Ｕ〜１−５Ｕ］
易接着層用塗料組成物１−１を別の易接着層用塗料組成物に変更する以外は、支持基材１−１Ｕと同様にして支持基材を作成した。使用した易接着層用塗料組成物と作成した支持基材の組合せは以下のとおりである。
・支持基材１−２Ｕ： 易接着層用塗料組成物１−２
・支持基材１−３Ｕ： 易接着層用塗料組成物１−３
・支持基材１−４Ｕ： 易接着層用塗料組成物１−４
・支持基材１−５Ｕ： 易接着層用塗料組成物１−５。

［支持基材１−１Ｈ］
ＰＥＴ樹脂フィルム（東レ（株）製 ルミラー Ｔ６０）にコロナ処理を施した。コロナ処理面にハードコート層用塗料組成物１−１を、バーコーター（＃１６）を用いて塗工した。塗工した後、第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ７０℃
熱風風速 ２ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １．５分間
・第二段階
熱風温度 １３０℃
熱風風速 ５ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 １．５分間
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。作成した支持基材を、ハードコート層を有する支持基材１−１Ｈとした。

[支持基材１−２Ｈ]
ハードコート層用塗料組成物１−１をハードコート層用塗料組成物１−２に変更する以外は、支持基材１−１Ｈと同様にして支持基材を作成した。作成した支持基材を支持基材１−２Ｈとした。

［実施例１−１（反射防止部材）］
支持基材１−１の易接着層用塗料組成物が塗工されている面上に、反射防止層用塗料組成物１−１を、バーコーター（＃１０）を用いて塗工した。塗工した後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ３５℃
熱風風速 １．５ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １.５分間
・第二段階
熱風温度 １３０℃
熱風風速 ７ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 ２分間
なお、熱風の風速は動静圧管による測定値を使用した。
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。この作成方法を作成方法１−１とする。作成した反射防止部材を実施例１−１とした。

[実施例１−２〜１−６，１−９，１−１３〜１−１６、比較例１−３〜１−７（反射防止部材）]
支持基材１−１を別の支持基材に変更し、反射防止層用塗料組成物１−１を別の反射防止層用塗料組成物に変更する以外は、実施例１−１と同様にして反射防止部材を作成した。なお、易接着層用塗料組成物ではなくハードコート層用塗料組成物が塗工されている支持基材を使用した場合は、ハードコート層用塗料組成物が塗工されている面に反射防止層用塗料組成物を塗工した。使用した支持基材と反射防止層用塗料組成物、および作成した反射防止部材の組合せは以下のとおりである。
・実施例１−２： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−２
・実施例１−３： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−３
・実施例１−４： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−４
・実施例１−５： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−５
・実施例１−６： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−６
・実施例１−９： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−１６
・実施例１−１１： 支持基材１−１Ｕ、反射防止層用塗料組成物１−１
・実施例１−１２： 支持基材１−２Ｕ、反射防止層用塗料組成物１−１
・実施例１−１３： 支持基材１−３Ｕ、反射防止層用塗料組成物１−１
・実施例１−１４： 支持基材１−４Ｕ、反射防止層用塗料組成物１−１
・比較例１−３： 支持基材１−１Ｈ、反射防止層用塗料組成物１−１３
・比較例１−４： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−１４
・比較例１−５： 支持基材１−１、反射防止層用塗料組成物１−１５
・比較例１−６： 支持基材１−５Ｕ、反射防止層用塗料組成物１−１
・比較例１−７： 支持基材１−２Ｈ、反射防止層用塗料組成物１−１。

［実施例１−７、１−８（反射防止部材）］
反射防止層用塗料組成物１−１を別の反射防止層用塗料組成物に変更し、塗工するバーコーター（＃１０）を別のバーコーターに変更した以外は、実施例１−１と同様にして反射防止部材を作成した。使用した反射防止層用塗料組成物とバーコーター、および作成した反射防止部材の組合せは以下のとおりである。
・実施例１−７： 反射防止層用塗料組成物１−７、バーコーター（＃１８）
・実施例１−８： 反射防止層用塗料組成物１−８、バーコーター（＃２４）。

［比較例１−１（反射防止部材）］
支持基材１−１の易接着性塗料が塗工されている面上に、反射防止層用塗料組成物１−１０を、バーコーター（＃１８）を用いて塗工した。塗工した後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ７０℃
熱風風速 ３ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １．５分間
・第二段階
熱風温度 １３０℃
熱風風速 ７ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 １．５分間
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。

次いで、硬化した反射防止層用塗料組成物１−１０の面上に、反射防止層用塗料組成物１−９をバーコーター（＃１０）を用いて塗工した。塗工した後、同じ乾燥装置にて、下記条件で乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ３５℃
熱風風速 １.５ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １．５分間
・第二段階
熱風温度 １３０℃
熱風風速 ７ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 ２分間
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。この作成方法を作成方法１−２とした。作成した反射防止部材を比較例１−１とした。

［比較例１−２（反射防止部材）］
１回目の塗工時に用いる反射防止層用塗料組成物を、反射防止層用塗料組成物１−１０から反射防止層用塗料組成物１−１１に変更し、塗工するバーコーターを、（＃１８）から（＃１０）に変更した以外は、比較例１−１と同様にして反射防止部材を作成した。作成した反射防止部材を比較例１−２とした。

［実施例１−１０（反射防止部材）］
支持基材１−１の易接着性塗料が塗工されている面上に、反射防止層用塗料組成物１−１０を、バーコーター（＃１８）を用いて塗工した。塗工した後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ７０℃
熱風風速 ３ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １．５分間
・第二段階
熱風温度 １３０℃
熱風風速 ７ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 １．５分間
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素存在下で照射して硬化させた。

次いで、硬化した反射防止層用塗料組成物１−１０の面上に、反射防止層用塗料組成物１−１７を、バーコーター（＃１０）を用いて塗工した。塗工した後、同じ乾燥装置にて、下記条件で乾燥を行った。
・第一段階
熱風温度 ３５℃
熱風風速 １ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して平行
乾燥時間 １分間
・第二段階
熱風温度 １５０℃
熱風風速 ７ｍ／ｓ
風向 塗工面に対して垂直
乾燥時間 ３分間
乾燥した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。この作成方法を作成方法１−３とした。作成した反射防止部材を実施例１−１０とした。

［反射防止部材の評価］
作製した反射防止部材について次に示す性能評価を実施した。得られた結果を表１−４〜１−６に示す。特に断りのある場合を除き、測定は各実施例・比較例において１つのサンプルについて場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。

［支持基材の表面粗さＲａ（ｎｍ）］
表面粗さＲａは、表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ ＥＴ４０００Ａ：（株）小坂研究所製）を用い、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１：２００１に基づき、下記測定条件にて測定を行った。表面粗さ計は（株）小坂研究所製のＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ ＥＴ４０００Ａを使用した。測定は、支持基材の反射防止層用塗料組成物を塗工する側の面について行った。
＜測定条件＞
測定速度：０．１ｍｍ／Ｓ
評価長さ：１０ｍｍ
カットオフ値λｃ：０．１ｍｍ
フィルタ：ガウンシアンフィルタ低域カット。

［反射防止層中の第１層と第２層の厚み］
反射防止層中の第１層と第２層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて測定した。反射防止層の断面の超薄切片をＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した。撮影した画像から、画像処理ソフト「ＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ」を使用して各層の厚みを読み取った。合計で３０箇所の厚みを測定して、その平均値を層の厚みとした。

［反射防止層中の第１層と第２層の屈折率］
反射防止層中の第１層と第２層の屈折率は、反射分光膜厚計を用いて測定した。反射分光膜厚計は大塚電子（株）製のＦＥ−３０００を使用した。反射分光膜厚計により、３００〜８００ｎｍの範囲での反射率を測定した。そして、この装置に付属のソフトウェア「ＦＥ−Ａｎａｌｙｓｉｓ」を用い、大塚電子（株）製［膜厚測定装置 総合カタログＰ６（非線形最小二乗法）］に記載の方法に従い、５５０ｎｍにおける屈折率を求めた。
この際、屈折率の波長分散の近似式として下記のＣａｕｃｈｙの分散式を用い、最小二乗法（カーブフィッティング法）により光学定数（Ｃ_１、Ｃ_２、Ｃ_３）を計算し、５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。
・ｎ＝（Ｃ_３／λ^４）＋（Ｃ_２／λ^２）＋Ｃ_１
ｎは屈折率、λは波長、Ｃ_１、Ｃ_２、Ｃ_３は光学定数を表す。

［第１層と第２層とで形成される界面］
反射防止層中の第１層と第２層とで形成される界面の有無は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて判断した。反射防止層の超薄切片を、ＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した。撮像した画像を、画像処理ソフト「ＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ」を使用して、ホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整した。さらに２種類の粒子が明確に見分けられるようにコントラストを調節した。
このとき１つの層と他の層との間に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした。
・明確な境界を引くことができる場合 ： Ａ
・明確な境界を引くことができない場合： Ｃ。

［a、ｂ、ｃの長さ］
前述の「第１層と第２層とで形成される界面」に引き続き、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて以下の作業を行い、a、ｂ、ｃの長さを測定した。
第１層と第２層とで形成される界面上に、直線距離が５００ｎｍ以上になるように２点Ａ１、Ａ２を決め、その２点を結ぶ直線の長さａを求めた。
次いで、ｏｂｊｅｃｔ検出モードにて、閾値の調節によって第１層と第２層の界面を検出させ、この２点Ａ１、Ａ２の間の界面に沿った長さｂを計測した。
さらに、Ａ１を通り支持基材の第１の面に直交する補助線を引いた。大気と第１層とで形成される界面とこの補助線との交点をＣ１とした。同様に、Ａ２を通り支持基材の第１の面に直交する補助線を引いた。大気と第１層とで形成される界面とこの補助線との交点をＣ２とした。この２点Ｃ１、Ｃ２の間の第１層と大気とで形成される界面に沿った長さｃを、上記と同様にして計測した。
測定したａ、ｂ、ｃの長さから、ｂ／ａ、ｂ／ｃを求めた。

［第２層に存在する粒子の数平均粒子径］
第２層に存在する粒子の数平均粒子径は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて測定した。前述の「第１層と第２層とで形成される界面」で区別した第２層部分を、ＴＥＭにより５０万倍で観察した。画像処理ソフト「ＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ」を用いて、観察した画面内に存在する１００個の粒子の粒子径ｄｐを測定した。画面内に１００個の粒子が存在しない場合は、同じ条件で別の箇所を観察し、合計１００個の粒子の粒子径ｄｐを測定した。ここで、粒子径ｄｐとは、粒子の最大の径、つまり粒子の長経である。内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を測定する。１００個の粒子の粒子径ｄｐの平均値を、第２層に存在する粒子の数平均粒子径とした。

［表面張力γ_Ｆ（ｍＮ／ｍ）］
疎水性化合物Ｂの表面張力γ_Ｆは、自動接触角計を用いて測定した。自動接触角計は協和界面科学（株）製のＤＭ−５０１を使用した。２５℃の環境下にてテフロン（登録商標）製のシリンジより液体の化合物を押し出し、シリンジの先端に形成された液滴の形状を付属の多機能統合解析ソフト「ＦＡＭＡＳ」で解析し、表面張力を算出した。解析に際しては、「ＦＡＭＡＳ取扱い説明書」に記載の方法に従って解析した。算出に必要な化合物の密度は、２５℃の環境下にて密度比重計を用いて測定した。密度比重計は、京都電子工業（株）製のＤＡ―１３０Ｎを使用した。

［振動式粘度計による粘度η_Ｆ（ｍＰａ／ｓ）］
疎水性化合物Ｂの振動式粘度計による粘度η_Ｆは、音叉型振動式粘度計を用いて測定した。音叉型振動式粘度計は（株）エー・アンド・デイ製のＳＶ−１０を使用した。循環水ジャケットに通水し２５℃の環境下にて、「振動式粘度計取扱い説明書」に記載の方法に従い粘度η_Ｆを測定した。

［モル体積Ｖ_Ｆ（ｃｍ^３／ｍｏｌ）］
疎水性化合物Ｂのうちフッ素化合物Ｂを使用した場合のモル体積Ｖ_Ｆは、基のモル体積を「フッ素試薬」２００８カタログ（ダイキン化成品販売（株））に基づいて算出した。

［数平均分子量］
疎水性化合物Ｂの数平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒にし、分子量既知の単分散ポリスチレンを標準物質として用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフを用いて測定した。ゲルパーミエーションクロマトグラフは、（株）島津製作所製のＧＣ−２０１０を使用した。数平均分子量Ｍ_ｎは、分子量Ｍ_ｉの分子数をＮ_ｉとした際に、Ｍ_ｎ＝ΣＭ_ｉＮ_ｉ／ΣＮ_ｉで定義される。

［粘度変化Δη］
反射防止層用塗料組成物のせん断粘度η_１およびη_２は、回転レオメーターを用いて測定した。回転レオメーターは、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製のＡＲ１０００を使用した。測定用ジオメトリーには、直径４０ｍｍ 角度２°のコーンアンドプレートを使用した。
測定は、測定温度２５℃で、ステップ状にせん断速度を変化させた定常流測定を行った。具体的には、せん断速度１００ｓ^−１で予備せん断（３０秒間）した後、せん断速度１０００ｓ^−１から０．０１ｓ^−１まで、対数間隔で計１６点（１０００ｓ^−１、１０ｓ^−１、０．１ｓ^−１、０．０１ｓ^−１の４点を含む１６点）の測定を行った。このデータからせん断速度０．１ｓ^−１における粘度η_１（ｍＰａ・ｓ）、および１０ｓ^−１における粘度η_２（ｍＰａ・ｓ）を求めた。そして、粘度η_１と粘度η_２の差である粘度変化Δη（＝η_１−η_２）を求めた。

［ＳＩＭＳによるイオン強度］
ＳＩＭＳのイオン強度は、米国ＰＨＩ社製二次イオン質量分析装置ＰＨＩ６３００を使用して測定した。一次イオンＣＳ^＋をイオンエネルギー３ｋｅＶ、一次イオン電流１５０ｎＡで、３００μｍ×６００μｍの領域を走査した。その中央９％の面積領域について、反射防止部材の第１層の表面から支持基材まで分析し、二次イオン強度（ｃｏｕｎｔｓ）を測定した。
厚み方向における二次イオン強度の算出には、スパッタ速度の算出が必要であるが、このスパッタ速度は材料により異なる。そこで、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡、日立製作所（株）製Ｈ−９５００）により予め各層の厚みを測定し、第１層の表面から支持基材までスパッタに要した時間からスパッタ速度を算出した。そして、横軸測定位置（スパッタ深さ）と二次イオン強度のグラフを作成して、そのグラフから厚み方向の中心位置における二次イオン強度を読み取った。
このようにして、第１層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度Ｆ_Ｌ、第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度Ｆ_Ｈ、第２層の厚み方向の中心位置における、ＳＩＭＳによる酸素原子のイオン強度Ｏ_Ｈを算出した。

［耐擦傷性］
反射防止層の表面に２５０ｇ／ｃｍ^２荷重となるスチールウール（＃００００）を垂直にあて、１ｃｍの長さで１０往復させた。目視される傷の本数を数えた。下記の基準で分類し、３点以上を合格とした。
５点： ０本
４点： １本以上５本未満
３点： ５本以上１０本未満
２点： １０本以上２０本未満
１点： ２０本以上。

［耐摩耗性］
本光製作所製消しゴム摩耗試験機の先端（先端部面積 １ｃｍ^２）に、白ネル（興和（株）製）を取り付け、５００ｇの荷重をかけて反射防止層の表面を５ｃｍの長さで５０００回往復させた。目視される傷の本数を数えた。下記の基準で分類し、３点以上を合格とした。
５点： 傷なし
４点： １〜１０本の傷
３点： １１〜２０本の傷
２点： ２１本以上の傷
１点： 試験部分の反射防止層が全面剥離。

［透明性］
ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製 ヘイズメーターを使用してヘイズを測定した。反射防止部材を、反射防止層側から光が透過するように装置に置いて測定を行った。ヘイズ値が２％未満であれば透明性が合格とした。

〔耐薬品性〕
１質量％のＮａＯＨ溶液を反射防止層の表面に滴下させた。１５分経過後にガーゼを用いて拭取り作業を行った。拭取り後の表面状態を観察することにより、表面が侵されているかどうか目視で判定した。
液滴の跡がなければ評価Ａ、跡が確認できれば評価Ｃとした。一つのサンプルについて場所を変えた３ヶ所について評価し、最も多い評価結果を採用した。Ａであれば耐薬品性が合格とした。

［密着性］
反射防止層の表面に１ｍｍ^２のクロスカットを１００個入れた。常態下（２３℃、相対湿度６５％）で、ニチバン（株）会社製セロハンテープをその上に貼り付け、ゴムローラーを用いて、荷重１９．６Ｎで３往復させ、押し付けた。そして、９０度方向に剥離し、残存した個数により評価した。ＡＡまたはＡであれば密着性が合格とした。
・１００個残った。 ： ＡＡ
・８０個以上９９個以下残った。： Ａ
・５０個以上７９個以下残った。： Ｂ
・４９個以下残った。 ： Ｃ。

［耐候性］
紫外線劣化促進試験機アイスーパーＵＶテスターＳＵＶ−Ｗ１３１（岩崎電気（株）製）を用い、下記の条件で強制紫外線照射試験を行なった。照射後に反射防止層の密着性を評価した。
「紫外線照射条件」
照度：１００ｍＷ／ｃｍ^２、温度：６０℃、相対湿度：５０％ＲＨ、照射時間：５０時間
密着性は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６（１９９９）に準拠した付着性（クロスカット法）を行いて評価した。密着性の評価結果を、反射防止層の劣化の指標とした。ＡまたはＢであれば耐候性が合格とした。
・剥離なし（劣化無し） ： Ａ
・一部剥離（低度の劣化）： Ｂ
・全面剥離（劣化有り） ： Ｃ。

［反射防止性能］
（株）島津製作所製の分光光度計ＵＶ−３１００を用いて４００ｎｍから８００ｎｍの波長範囲の反射率を測定した。最低反射率（ボトム反射率）が０．８％未満であれば、反射防止性能が合格とした。

［干渉ムラ］
支持基材の反射防止層を形成していない側の面を、つや消し黒のスプレー塗料にて均一に塗工した。この試料の反射防止層側を、斜め方向から三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンド）で照射した。その時に見える干渉縞を目視で評価した。下記の基準で分類し、３点以上を合格とした。
５点：干渉ムラが無く、きれいに見える
３点：干渉ムラが確認出来るが、使用上問題ないレベル
１点：干渉ムラが確認出来、使用上問題となるレベル。

表１−４〜１−６に反射防止部材の評価結果をまとめた。各評価項目の全てが合格の反射防止部材が、問題なく使用できる反射防止部材である。

表１−６に示すように全ての実施例の反射防止部材は、全ての項目で合格している。
実施例１−６の反射防止部材は、第２層の厚みが好ましい範囲より薄く、耐擦傷性と耐摩耗性がやや劣っていたが、問題なく使用できる反射防止部材であった。
実施例１−８の反射防止部材は、第２層の厚みが好ましい範囲より厚く、透明性、反射防止性能がやや劣っていたが、問題なく使用できる反射防止部材であった。
実施例１−９の反射防止部材は、第２層に存在する粒子の数平均粒子径が好ましい範囲より大きく、耐摩耗性と干渉ムラがやや劣っていたが、問題なく使用できる反射防止部材であった。
好ましい製造方法とは異なる方法で製造された実施例１−１０の反射防止部材は、フッ素原子のイオン強度比（ＦＬ／ＦＨ）と、ｂ／ｃの値が本発明の好ましい範囲から外れ、耐擦傷性、耐磨耗性、干渉ムラがやや劣るが、問題なく使用できる反射防止部材であった。

比較例１−１から１−３は、ｂ／ａが１．１以下であるため、いずれも耐摩耗性、密着性、耐薬品性、耐候性に劣っていた。さらに、比較例１−１と１−２は、その中でも更にＢ／Ａが小さいので、干渉ムラが劣っていた。
比較例１−４はｂ／ａが１．４５以上であるため、反射防止性能に劣っていた。
比較例１−５から１−７はいずれも反射防止層の中に２つの層が形成できていないため、反射防止性能、透明性が劣っていた。

＜製造例２＞
［高屈折率層成分（２−ａ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度４０質量％の高屈率層成分（２−ａ）を得た。

［高屈折率層成分（２−ｂ）］
アンチモン含有酸化スズ粒子を含有するオプスターＴＵ４００５（ＪＳＲ社製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬株（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度４０質量％の高屈率層成分（２−ｂ）を得た。

［高屈折率層成分（２−ｃ）］
酸化ジルコニウム粒子を含有するＴＹＺ６７−Ｈ０１（東洋インキ（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分４０質量％の高屈折率層成分（２−ｃ）を得た。

［高屈折率層成分（２−ｄ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度６０質量％の高屈率層成分（２−ｄ）を得た。

［高屈折率層成分（２−ｅ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度３．５質量％の高屈率層成分（２−ｅ）を得た。

［高屈折率層成分（２−ｆ）］
酸化アンチモン含有酸化スズであるオプスターＴＵ４００５（ＪＳＲ社製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度４０質量％の高屈率層成分（２−ｆ）を得た。

［低屈折率層成分（２−ａ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついでＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ １．３８ｇと２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（２−ａ）とした。

［低屈折率層成分（２−ｂ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（２−ｂ）を得た。

［低屈折率層成分（２−ｃ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（２−ｃ）を得た。

［低屈折率層成分（２−ｄ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ １．３８ｇおよび２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度３．５質量％の低屈折率層成分（２−ｄ）を得た。

［反射防止層用塗料組成物２−１］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１を得た。

［反射防止層用塗料組成物２−２］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ｃ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が１０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２とした。

［反射防止層用塗料組成物２−３］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ｂ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−３とした。

［反射防止層用塗料組成物２−４］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が４０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−４とした。

［反射防止層用塗料組成物２−５］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_６Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−５とした。

［反射防止層用塗料組成物２−６］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合し、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_６Ｆを、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−６とした。

［反射防止層用塗料組成物２−７］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_４Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−７とした。

［反射防止層用塗料組成物２−８］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_４Ｆを、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−８とした。

［反射防止層用塗料組成物２−９］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_３を、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−９とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１０］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１０とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１１］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を、含有量が２５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１１とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１２］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の９量体オリゴマーを、含有量が５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１２とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１３］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の７量体オリゴマーを、含有量が１０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１３とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１４］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆの６量体オリゴマーを、含有量が１５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１４とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１５］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の３量体オリゴマーを、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１５とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１６］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_２ＣＦ_３を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１６とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１７］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_３を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用２−１７塗料組成物とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１８］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_３を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１８とした。

［反射防止層用塗料組成物２−１９］
低屈折率層成分（２−ｂ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−１９とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２０］
低屈折率層成分（２−ｃ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２０とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２１］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ｄ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２１とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２２］
低屈折率層成分（２−ｄ）と高屈折率層成分（２−ｅ）をそれぞれ質量比にて１：１となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が１質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２２とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２３］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにアクリレートモノマーであるトリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート［ＣＨ_２＝ＣＨＣＯ−（ＯＣＨ_２Ｈ_４）_ｎ−ＯＣＨ_２］_３−ＣＣＨ_２ＣＨ_３を、含有量が４４質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２３とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２４］
フッ素化合物Ｂを含まない以外は反射防止層用塗料組成物２−１と同様に作成し、反射防止層用塗料組成物２−２４とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２５］
低屈折率層成分（２−ｄ）と高屈折率層成分（２−ｅ）をそれぞれ質量比にて１０：１となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、含有量が１質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２５とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２６］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ｆ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、反射防止層用塗料組成物２−２６とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２７］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにシリコーン化合物ＢであるＰＣ−４１３１(大日本インキ化学工業（株）製)を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２７とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２８］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらに長鎖炭化水素化合物Ｂであるｎ−デシルトリメトキシシラン（Ｚ−６２１０、東レ・ダウコーニング（株）製）を、含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２８とした。

［反射防止層用塗料組成物２−２９］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆとシリコーン化合物ＡであるＰＣ−４１３１を、含有量がそれぞれ２．５質量％と２．５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−２９とした。

［反射防止層用塗料組成物２−３０］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆと長鎖炭化水素化合物Ｂであるｎ−オクチルトリトリエトキシシラン（Ｚ−６３４１、東レ・ダウコーニング（株）製）を、含有量がそれぞれ２．５質量％と２．５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物２−３０とした。

［反射防止層用塗料組成物２−３１］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、反射防止層用塗料組成物２−３１とした。

［反射防止層用塗料組成物２−３２］
低屈折率層成分（２−ａ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、反射防止層用塗料組成物２−３２とした。

［反射防止層用塗料組成物２−３３］
低屈折率層成分（２−ｂ）と高屈折率層成分（２−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、反射防止層用塗料組成物２−３３とした。

［参考実施例２−１〜２−２４，参考比較例２−１〜２−９（反射防止部材）］
支持基材としてＰＥＴフィルム上に易接着性層が形成されているＵ４６（東レフィルム加工（株）製）を用いた。この支持基材の易接着層面上に、表２−５，２−６に記載の反射防止層用塗料組成物を、バーコーター（＃１０）を用いて塗工した。塗工後、１００℃にて２分間乾燥し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射し、反射防止部材を作製した。

［反射防止部材の評価］
前記製造例１と同じ方法により、評価を行った。

粘度変化（Δη）が０．１ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下の反射防止層用塗料組成物を使用した参考実施例２−１〜２−２４の反射防止部材は、反射防止層中に界面が明確な屈折率の異なる２層が形成され、反射防止性、耐擦傷性、透明性に優れていた。

粘度変化（Δη）が０．１ｍＰａ・ｓ未満の反射防止層用塗料組成物を使用した参考比較例２−１の反射防止部材は反射防止性、透明性に劣り、第１層と第２層の明確な界面が見られなかった。
粘度変化（Δη）が１０ｍＰａ・ｓを越える反射防止層用塗料組成物を使用した参考比較例２−２，２−３，２−６〜２−９の反射防止部材は、反射防止性、透明性に劣り、第１層と第２層の明確な界面が見られなかった。
フッ素処理無機粒子を含有しない反射防止層用塗料組成物を使用した参考比較例２−４，２−５，２−９の反射防止部材は、反射防止性、透明性に劣り、第１層と第２層の明確な界面が見られなかった。

＜製造例３＞
［高屈折率層成分（３−ａ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度４０質量％の高屈折率層成分（３−ａ）を得た。

［高屈折率層成分（３−ｂ）］
アンチモン含有酸化スズ粒子を含有するオプスターＴＵ４００５（ＪＳＲ社製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度４０質量％の高屈折率層成分（３−ｂ）を得た。

［高屈折率層成分（３−ｃ）］
酸化ジルコニウム粒子を含有するＴＹＺ６７−Ｈ０１（東洋インキ（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分４０質量％の高屈折率層成分（３−ｃ）を得た。

［高屈折率層成分（３−ｄ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度６０質量％の高屈折率層成分（３−ｄ）を得た。

［高屈折率層成分（３−ｅ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度３．５質量％の高屈折率層成分（３−ｅ）を得た。

［高屈折率層成分（３−ｆ）］
酸化チタン粒子を含有するＥＬＣＯＭ ＴＯ１０１９ＴＩＣ（日揮触媒化成（株）製：固形分３０質量％）６質量部と多官能アクリレートであるカヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製：固形分１００質量％）１質量部を混合し、固形分濃度３５質量％の高屈折率層成分（３−ｆ）を得た。

［低屈折率層成分（３−ａ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ １．３８ｇおよび２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（３−ａ）を得た。

［低屈折率層成分（３−ｂ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（３−ｂ）を得た。

［低屈折率層成分（３−ｃ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度１４質量％の低屈折率層成分（３−ｃ）を得た。

［低屈折率層成分（３−ｄ）］
中空シリカであるスルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％）１５ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆ １．３８ｇおよび２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度３．５質量％の低屈折率層成分（３−ｄ）を得た。

［反射防止層用塗料組成物３−１］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ｃ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が１０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−２とした。

［反射防止層用塗料組成物３−３］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ｂ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−３とした。

［反射防止層用塗料組成物３−４］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が４０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−４とした。

［反射防止層用塗料組成物３−５］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_６Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が５０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−５とした。

［反射防止層用塗料組成物３−６］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合し、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_６Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−６とした。

［反射防止層用塗料組成物３−７］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_４Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−７とした。

［反射防止層用塗料組成物３−８］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_４Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−８とした。

［反射防止層用塗料組成物３−９］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_３を、塗料組成物全体に対する含有量が４０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１０］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１０とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１１］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_５ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を、塗料組成物全体に対する含有量が２５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１１とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１２］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の９量体オリゴマーを、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１２とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１３］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の７量体オリゴマーを、塗料組成物全体に対する含有量が１０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１３とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１４］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の５量体オリゴマーを、塗料組成物全体に対する含有量が１５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１４とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１５］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＨ）_３の３量体オリゴマーを、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１５とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１６］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_２ＣＦ_３を、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１６とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１７］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物であるＨＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_３を、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１７とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１８］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、さらにフッ素化合物であるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−ＣＦ_３を、塗料組成物全体に対する含有量が２０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１８とした。

［反射防止層用塗料組成物３−１９］
低屈折率層成分（３−ｂ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−１９とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２０］
低屈折率層成分（３−ｃ）と高屈折率層成分（３−ａ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−２０とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２１］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ｄ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−２１とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２２］
低屈折率層成分（３−ｄ）と高屈折率層成分（３−ｅ）をそれぞれ質量比にて１：１となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−２２とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２３］
フッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆの代わりに、アクリレートモノマーであるトリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート［ＣＨ_２＝ＣＨＣＯ−（ＯＣＨ_２Ｈ_４）_ｎ−ＯＣＨ_２］_３−ＣＣＨ_２ＣＨ_３を、塗料組成物全体に対する含有量が３０質量％になるように添加した以外は、塗料組成物３−１と同じ組成で作成し、反射防止層用塗料組成物とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２４］
フッ素化合物を含まない以外は反射防止層用塗料組成物３−１と同様に作成し、反射防止層用塗料組成物３−２４とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２５］
低屈折率層成分（３−ｄ）と高屈折率層成分（３−ｅ）をそれぞれ質量比にて１０：１となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、塗料組成物全体に対する含有量が５質量％となるように添加し、反射防止層用塗料組成物３−２５とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２６］
低屈折率層成分（３−ａ）と高屈折率層成分（３−ｆ）をそれぞれ質量比にて１：７となるように混合した溶液１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加し、反射防止層用塗料組成物３−２６とした。

［反射防止層用塗料組成物３−２７］
高屈折率層成分（３−ａ）１００質量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンを３質量部添加した。さらにフッ素化合物ＢであるＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ_２−（ＣＦ_２）_８Ｆを、高屈折率層成体に対する含有量が３３質量％となるように添加し、高屈折率層成分（３−ａ−２）とした。また、低屈折率層成分として、低屈折率層成分（３−ａ）を用いた。
この高屈折率層成分（３−ａ−２）と低屈折率成分（３−ａ）の組合せを便宜的に反射防止用塗料組成物３−２７とよぶ。

[参考実施例３−１〜３−１８、参考比較例３−１〜３−８（反射防止部材）]
支持基材としてＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されているＵ４６（東レフィルム加工（株）製）を用いた。この支持基材の易接着塗料が塗工されている面上に、表３−２に記載の反射防止層用塗料組成物を、バーコーター（＃１０）を用いて塗工した。塗工後、１００℃にて２分間乾燥し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射し、反射防止部材を作製した。この反射防止部材の作製方法を作製方法３−１とした。

[参考実施例３−１９（反射防止部材）]
支持基材としてＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着塗料が塗工されているＵ４６（東レフィルム加工（株）製）を用いた。この支持基材の易接着塗料が塗工されている面上に、高屈折率塗料（３−ａ−２）をバーコーター（＃４）を用いて塗工した。塗工後、１００℃にて１分間乾燥し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射した。硬化した高屈折率塗料（３−ａ−２）の表面に低屈折率塗料（３−ａ）を、バーコーター（＃６）を用いて塗工した。塗工後、１００℃にて１分間乾燥し、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ^２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射し、反射防止部材を作製した。この反射防止部材の作製方法を作製方法３−２とした。

イオン強度比Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈが２以上１５０以下である参考実施例３−１〜３−１９の反射防止部材は、反射防止層中に界面が明確な屈折率の異なる２層が形成され、反射防止性、耐候性、密着性、耐薬品性、透明性、反射防止性に優れていた。

イオン強度比Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈが２未満である参考比較例３−１〜３−６の反射防止部材は、反射防止性、透明性、密着性、耐候性、耐薬品性に劣り、２層の明確な界面が見られなかった。
イオン強度比Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈが１５０より大きい参考比較例３−７，３−８の反射防止部材は、反射防止性、透明性、密着性、耐候性、耐薬品性に劣り、２層の明確な界面が見られなかった。
水性化合物Ｂに由来する成分を含まない反射防止層用塗料組成物を使用した参考比較例３−６〜３−８の反射防止部材は、反射防止性、透明性、密着性、耐候性、耐薬品性に劣り、２層の明確な界面が見られなかった。

１ 反射防止部材
２ 支持基材
３ 反射防止層
４ 低屈折率層
５ 高屈折率ハードコート層
６ 第２層に存在する粒子
７ 第１層に存在する粒子
８ 支持基材の第１の面

Claims (10)

1. 支持基材の少なくとも第１の面に、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を有し、これら屈折率の異なる２つの隣接する層が、前記支持基材から遠い側より第１層および第２層であり、
   前記反射防止層が、構成元素が異なる２種類以上の粒子と１種類以上のバインダーとを含み、
   前記第１層と第２層との界面上の直線距離が５００ｎｍ以上の任意の２点をＡ１、Ａ２としたとき、このＡ１とＡ２とを結ぶ線分Ａ１Ａ２の長さａと、この線分Ａ１Ａ２を、前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記第１層と第２層との界面上へ投影した線の長さｂとの比ｂ／ａが、１．１０より大きく１．４５未満である反射防止部材。
2. 前記第２層の厚みが５００ｎｍ以上４０００ｎｍ以下である、請求項１の反射防止部材。
3. 前記第２層中に存在する粒子の数平均粒子径が２５ｎｍ以下である、請求項１または２の反射防止部材。
4. 前記長さｂと、前記線分Ａ１Ａ２を、前記支持基材の第１の面に垂直な方向に、前記反射防止層の前記支持基材側とは反対側の面へ投影した線の長さｃとの比ｂ／ｃが、１．０５より大きく１．４０未満である、請求項１から３のいずれかの反射防止部材。
5. 前記第１層および第２層が、炭素数４以上のフルオロアルキル基および反応性部位を有する化合物、炭素数８以上の炭化水素基および反応性部位を有する化合物、ならびにシロキサン基および反応性部位を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物に由来する成分を含む、請求項１から４のいずれかの反射防止部材。
6. 前記炭素数４以上のフルオロアルキル基および反応性部位を有する化合物の数平均分子量が、３００以上４０００以下である、請求項５の反射防止部材。
7. 前記第１層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度Ｆ_Ｌと、前記第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによるフッ素原子のイオン強度Ｆ_Ｈとの比Ｆ_Ｌ／Ｆ_Ｈが、２以上１５０以下である、請求項１から６のいずれかの反射防止部材。
8. 前記第２層の厚み方向の中心位置におけるＳＩＭＳによる酸素原子のイオン強度Ｏ_Ｈと、前記Ｆ_Ｈとの関係が、Ｆ_Ｈ≧Ｏ_Ｈである、請求項７の反射防止部材。
9. 請求項１から８のいずれかの反射防止部材を製造する方法であって、前記支持基材の少なくとも第１の面上に、塗料組成物を１回のみ塗工することで、屈折率の異なる２つの隣接する層を含む反射防止層を形成する反射防止部材の製造方法。
10. 前記支持基材の第１の面のＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１年版）で規定される表面粗さが４０ｎｍ以下である、請求項９の反射防止部材の製造方法。

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