JPS5950401A - 表示装置 - Google Patents

表示装置

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Publication number
JPS5950401A
JPS5950401A JP57159595A JP15959582A JPS5950401A JP S5950401 A JPS5950401 A JP S5950401A JP 57159595 A JP57159595 A JP 57159595A JP 15959582 A JP15959582 A JP 15959582A JP S5950401 A JPS5950401 A JP S5950401A
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JP
Japan
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layer
refractive index
film
reflection preventive
layers
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Application number
JP57159595A
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English (en)
Inventor
Takashi Taniguchi
孝 谷口
Jiro Mio
実生 治郎
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 秘 本発明は反射防止膜を有し、照明な面像を与え、iノ コンピュータ入用情報ンステムの展開で近年急激に多様
化が進行している。ここて両像とは2文字。
数字、1ン1形などの静止および運動画像であって人間
が視覚的に感知し得るものを指す。かかる画像表示装置
(以下単に表示装置という)は、外光制御(外光の光路
中において目に入る光−lを制御する)−1:たは発光
制御(発光体の入力エネルギーを制御する)方式により
情報を視覚化し、直視捷だけ投写によって画像どするも
のである。これらの例としては陰極線管(CRT>、 
 レーザディスプレイ、ホトクロミックティスプレィ、
エレクトロクロミックティスプレィ、〆(l晶ティスプ
レィ、プラズマディスプレイ、発光ダイオードティスプ
レィ、ライトバルフなどかある。
これらの表示装置の画像を読みとる場合9画像表示のた
め以外の光線か目に強く感じられることは情報の正確・
迅速な感知を妨げるばかりでなく。
目の’IJI労、神経の消耗への影響か大である。
従来より−1−記問題点を解決する目的て錘/2の試み
かなされており、たとえば表示装置の表面あるいはその
表面イ」近に設:Δしだフィルターなとの表ih[を化
学エツチング、ザントブラス)、塗i−1のコーチイン
クなどによって表面を粗面化し、艶消し状にして光を乱
反射させることによって外光からの反射画像を小さくす
る方法などが行なわれでいる。
しかしこの場合2表示画面の解像度の低下が大きく、満
足できるものではない。
一方、解像度を上げ、さらに反射防止効果をjLlから
しめる目的で真空蒸着法による反射防止層の形成が試み
られている。
この蒸着法により形成された反射防止膜は用途によって
d、次のような問題点がある。
(1)  高度の真空度を要するだめに処理すべき基イ
〕の大きさ、月末1に制限を生ずる。1/也製造時間が
長くなり、生産性、経済性が低下する。
(2)  通常かなりの加熱を要し、入相によっては変
形9分解などの問題を生ずる。
(3)  使用される被膜形成拐制は主として無機酸化
物であり、緻密な膜をイア4成する反面、プラスチック
暴利の場合には線膨張係数の差による耐熱性、(=J着
性の低下を生じ易い。
本発明者らは、これらの問題点を解決するべく鋭意検8
・jした結果、以下に述へる本発明に到達し/こ 。
すなわち本発明の122表示面および/またはその前面
板の表面に2層まだはろ層からなるそれぞれかト技状で
塗布され、乾燥および/または硬化によって得られる反
射防止膜であって、かつ前記反射防止膜の各層がそれぞ
れ次の条件を満す反射防止膜を有することを特徴とする
表示装置に関するものである。
N 2層反射防止膜 反射防止膜の暴利側の層(第1層)d、これと接する暴
利層と第1層の上に設けられた層(第2層)とのいずれ
よりも高い屈折率を有し、第1層および第2層の膜厚が
それぞれ次の条件を満ず反射防11−膜。
〔ここでn4. n2は各々第1層、第2層の屈折率。
d、、 d2は各々第1層、第2層の膜厚(nm単位)
mは正整数、nは奇の正整数、λは可視周辺領域内で選
ばれる任意の基準波長(nm単位)である〕\ 6層反
射防止膜 反射防止膜の透明基材側の層(第1層)の屈折率に、こ
れと接する透明基4J層よりも高く、かつ第1層の1−
に設けられた層(第2層)よりも低い屈折率を有し、さ
らに前記第2層の上に設けられた層(第3層)は第1層
および第2層よりも低いJrTI折率を有し、第1層、
第2層および第6層の膜厚がそれぞれ次の条件を満す反
射防止膜。
〔ここでn、、 n2.n3は各々第1層、第2層、第
3層の屈折率、 d、、、 d2. d3は各々第1層
、第2層。
第5層の膜厚(nm単位)、lは正整数1mは正整数、
nは奇の正整数、λは可視周辺領域内で選ばれる任意の
基準波長(nm単位)である。  〕本発明にいう表示
装置上は、前述の各鍾表示装置の他に、上記装置あるい
は機器の前面に該反射防止膜を有する前面板ないしはフ
ィルターを装着したものも含寸れる。
機器、装置の表示板あるいは前面板は無色あるいは着色
された状態で使用される。
本発明の表示板あるいは前面板は無着色の場合において
は可視光線透過率が80係以上が必要である。これらの
材料としては、たとえばガラス。
メチルメタクリレート樹脂もしくはその共重合樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、セルロースエステル樹脂、塩化ビ
ニル樹脂、スチレンおよびその共重合樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、ポリエステル樹脂、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボイ、−ト樹脂などをあげることがで
きる。
とくに前面板を表示装置の表面から空気層を介して装着
する場合には、前面板を通過した光線が表示装置の表面
によって反射し、さらにその光線が前面板を通過して目
に入ることを防止する目的で前面板に偏光機能、とくに
円偏光機能を有する板を使用することが好ましい。まだ
円偏光機能をイラする板をはさみ、他の透明基利と組み
合わせた複合板も同様な目的に使用することが可能であ
る。
さらには本発明の反射防止膜を有する基(シを前述の円
偏光機能を有する板に貼り合わせた複合板として使用す
ることもできる。
さらに前面板として使用する場合には板状で用いられる
ほか1表示装置の前面形状に合わせた形状でも用いられ
る。まだ後者における使用においてはとくにプラスチッ
ク暴利の場合、板状のものを射出成形、圧縮成形、真空
成形、鋳込重合成形などにより表示装置の前面形状に合
わせて成形加工して用いることができる。
本発明の表示装置はこれらの光の透過してくる暴利表面
に2層寸たはろ層からなるそれぞれが液状で塗布されて
得られる反射防止膜で被覆されたものである。
」二記の反射防止性を付与させる被膜を形成する液状組
成物としては被膜形成性物質のみでなる場合の他、必要
な塗布作業性を付与するだめに各種の揮発性溶媒を含ん
だものも用いることができる。
ここで液状組成物とは通常の塗布作業が適用できる範囲
の粘度を有する組成物であって適用温度で10ボイズ以
下、好ましくは1ポイス以下のものが用いられる。すな
わち、これより高い粘度を有する液状組成物は、均一な
塗膜を得ることが困難である。塗布方法としては通常の
コーティング作業で用いられる方法が可能であるが薄膜
の膜厚コントロールの観点からはカーテンフロー塗装、
浸漬塗装、スピン塗装などが好ましい。
2層反射防止膜の場合 反射防止性の被膜のうち第1層として最初に塗布される
被膜は第1層と接する基体と第2層のいずれよりも00
3以上、好ましくは0.05以上高い屈折率を有するも
のが用いられる。
また3層反射防止膜の、場合 反射防止性の被膜のうち第1層として最初に塗布される
、被膜は第1層き接する基体と第3層のいずれよりも0
.03以上、好ましくは0.05以上高い屈折率を有す
るものが用いられる。才だ第2層として塗布される被膜
は第2層と接する第1層よりもOOろ以上、好−ましく
け005以上高い屈折率を有するものが用いられる。
2層および5層反射防止j摸の各層の塗布にあたっては
各種の化学処理、物理処理を各々と接する層に適用する
ことで利殖性を向上させることもできる。
液状組成物が塗布された基4」を加熱、光照射。
紫外線ないし赤外線照射、電子線、X線などの放射線照
射することによって上記の各層を別個に捷たは一度に乾
燥およびまだは硬化させる。
かかる被膜形成物質としてはそれから形成された被膜が
屈折率に関する要件を満たすものであり。
かつそれ自身ないしはそれが溶媒に分散または溶解して
液状組成物を形成するものであれば伺でもよいが、とく
に有機材料ないしは有機材料中に透明性をそこなわない
程度の無機系微粒子を分散させたもの、無機系jl:A
判の被膜形成性で溶剤に分散−まだは溶解し得るか、そ
れ自身が液状であるもの。
またはかかる無機系材料と有機材料の混合物が用いられ
る。
これらの拐料が2層反射防止膜の第1層、あるいは3層
反射防止膜の第1層および第2層として用いられる場合
、有機材料としては比較的屈折率の高い被膜形成性物質
、たとえばポリスチレン。
ポリスチレン共重合体、ポリカーボ坏−ト、ポリスチレ
ン以外の芳香環、複素環、脂環式環状基。
まだはフッ素以外のノ・ロゲン基を有する各種重合体組
成物、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ないしエポキシ
樹脂などを硬化剤とする各種熱硬化性樹脂形成性組成物
、脂環式ないしは芳香族イソ−/アネートおよびまたは
これらとポリオールからなるウレタン形成性組成物、お
よび上記の化合物に2重結合を導入することにより、ラ
ジカル硬化を可能にした各種変性樹脂またはプレポリマ
を含む組成物などが好ましく用いられる。
また無機系微粒子を分散させた有機+J粕としては一般
に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単独で
用いられる場合よりも低屈折率のものも用いられる。上
記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共
重合体、ポリエステル(アルキドを含む)系重合体、繊
維素系重合体。
ウレタン系重合体、およびこれらを硬化せしめる各種の
硬化剤、硬化性官能基を有する組成物など透明性があり
無機系微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料が使
用可能である。さらに有機置換されたケイ素系化合物を
これに含めることができる。これらのケイ素系化合物は
一般式%式%() (ここでR1,R2は各々アルキル基、アルケニル基。
アリル基、−またはハロゲン基、エボギン基、アミン基
、メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアン基を
有する炭化水素基。Xはアルコキシルアルコキソアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。a。
bは各々0,1まだは2でがっa+bが1または2であ
る。) であられされる化合物ないしはその加水分解生成物であ
る。
これに分散される無機化合物としてはアルミニウム、チ
タニウム、ジルコニウム、アンチモンなどの金属元素の
酸化物が好寸しく用いられる。これらは微粒子状で粉末
ないしは水および/またはその他の溶媒中へのコロイド
状分散体として提供されるものである。これらは上記の
有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散される。
被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が6シ状で
ある無機系材料としては各種元素のアルコギゾド、有機
酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物がありこれ
らの好適な例としては、チタンテトラエトキシド、チタ
ンテトラ−1−プロボギシド、チタンテトラーn−プロ
ポキッド、チタンテトラ−n−ブトキシド、チタンテト
ラ−5ec−ブトキシド、チタンテ)・ラーtert−
ブトキシド。
アルミニウムトリエトキ/ド、アルミニウムトリー1−
グロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモ
ントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、ジルコ
ニウムテトラエトキッド、ジルコニウムテトラ−1−プ
ロポキシド、ジルコニラムテトラ−n−プロポキシド、
ジルコニウムテトラ−n−ブ」・ギシド、ジルコニウム
テトラ−5ec−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−t
ert−ブトキンドなどの金属アルコレート化合物、さ
らにはジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチルアセ
ト不一ト、ジーフ゛トキシチタニウムビスアセチルアセ
トイ、−1・、ジーエトキソチタニウ13ビスアセチル
アセト不−1・、ビスアセチルアセトンジルコニウノ・
、アルミニウムアセチルアセトネートルミニウムジー1
]−ブ)・キシドモノエチルアセトアセデー1− 、ア
ルミニウムジー1−プロボキ7ド七ツノチルアセトアセ
テート シドジルコニウム千ノエチルアセトアセデートなどのギ
レート化合物,さらには炭酸ジルコニールアンモニウノ
・、あるいはジルコニウムを主成分と一ノーる活性無機
ポリマなどをあげることができる。
−に記に述べた他に,屈折率が比較的低いが」二記の化
合物と(M用できるものとしてとくに各種のアルキルン
IJケ−1・類もしくはその加水分解物,微粒子状シリ
カとくにコロイド状に分散した7リカゲルが用いられる
一方,2層反射防止膜の第2層およびろ層反射防止膜の
第6層として用いられる利料としては」二記の有機相和
および7才たは無機化合物のうち相対的に第1層より低
い屈折率の抜脱を形成するものが用いられ,好ましい例
としては有機A:s *Aとしては芳香環を含まないア
クリル系を含むビニル系共重合体,フッ素置換された各
種ポリマ、芳香環を含寸ないポリエステル(アルキi・
を含む)系重合体,繊に.lI−素糸誘導体,ンリコー
ン系ポリマ、炭化水素系ポリマないしはこれらのプレポ
リマ甘たはこれらのうち硬化性官能基を有するものと硬
化剤から成る組成物がある。また無機系材料としては芳
香環を含捷ない有機置換されたケイ素化合物。
各種アルキル/リケード類,微粒子状ソリ力とくにコロ
イド状に分散されたシリカゾルが好オしく用いられる。
上記の第1層,第2層まだは第6層に用いられる各種利
料は,1種甘だは2種以上を透明性を低下させない範囲
で併用することができる。
これらの組成物Cよ通常揮発性溶媒に希釈して塗布され
る。溶媒として用いられるものは,とくに限定されない
が,使用にあたっては組成物の安定性,暴利に対する濡
れ性,揮発性などを考慮して決められるべきである。ま
だ溶媒は1種のみならず2種以上の混合物として用いる
ことも可能でちゃ・ 本発明の各層のコーティング組成物中には,塗布時にお
けるフローを向上させる目的で各種の界面活性剤を使用
するととも可能であり,とくにジメチルシロキザンとア
ルキレンオキノドとのブロックまたはグラフト共重合体
,さらにはフッ素系界面活性剤などが有効である。
さらに耐候性−を向上させる目的で各層中に紫外線吸収
剤,オ/こ1酬熱劣化向上法として酸化防止剤を添加す
ることも容易に可能である。
このようにして塗布された各層のコーティング組成物は
段階的に加熱硬化および/捷たは乾燥することもできる
し,下層の塗膜を予備硬化および/捷だけ乾燥した後,
次の層をコーティングし。
加熱硬化および/捷たけ乾燥することも可能である。加
熱方法としては熱風,赤外線などで行なうことが可能で
ある。また加熱湿度は適用される透明基体および使用さ
れるコーティング組成物によって決定されるべきである
が,通常は50〜250℃,より好捷しくけ60〜20
0℃が使用される。
これより低湿では硬化または乾燥が不十分であり。
まだこれより高温になると熱分解などが起こって黄変な
どの問題点を生ずる。
さらに硬化性官能基,たとえば重合体もしくはオリゴマ
中の2重結合などを利用して紫外線,電子線,γ線など
の放射線を用いて硬化させることもできる。
捷だ本発明の各層の膜厚はコーティング組成物の固形分
およびコーティング方法さらにはコーティング条件によ
ってコントロールされるものである。
前述の表示板および前面板は該基桐上に利殖性。
硬度,面1薬品性,耐久性,染色性などの諸物性を向上
,付与させる目的で被覆相を適用したものを用いること
もできる。ただしこれらの被覆相で被覆された基体(透
明暴利)は、前記透明暴利に関し有えられたと同様の透
明性を有していることが必要である。
とくに硬度向上のだめにはこれまでプラスチックの表面
高硬度化被膜として知られる各種の材料を適用したもの
を用いることができる。(USFろ、894.88j、
特公昭51−24368.  特開昭52−11269
8 、 u s p 4,211,823 )本発明に
Xる表示装置は9画像形成面における外部からの光線反
射を防止するとともに解像度を低下させないものであり
、たとえばコンピュータのディスプレイのような近距離
から画面を見る場合において長時閲見ていても眼の疲労
を防止するなどの効果が発揮されるので、コンピュータ
、計測器、医療機器などの表示装置用に極めて有効であ
る。
以下、実施例により本発明の詳細な説明するがとれに限
定されるものではない。
実施例1 は)第1層コーティング組成物の調製 アセチルアセトン358.5 gに攪拌下てテトラ−ね
−プチルチタネーh26.Ogを添加する。
サラにこの混合溶液中にメタノール分散コロイド状ンリ
カ(平均粒子径12+1mμ、固形分30%Σ20. 
Og、  シリコーン系界面活性剤0、135 gを添
加して、コーティング組成物とした。
(2)第2層コーティング組成物の調製(a)  シラ
ン加水分解物の調製 γ−グリシドキシプロピルトリメトキンシラン266g
にo、 o i規定塩酸水溶液54gを10℃で滴下混
合した。滴下終了後、室温にてさらに1時間攪拌を行な
って、7ラン加水分解物を得た。
(b))−ティング組成物の調製 上記(2)の(a)で調製したソラン加水分解物6.9
.4gに、n−プロパツール260g、水111 g、
エチルセロソルブ320gを加えよく攪拌した後、(1
)で使用したと同じメタノール分脚コロイド状ソリ力1
3.3 g ト−7ルミニウムアセチルアセトネート0
4gを添加し十分に攪拌混合してコーディング組成物を
得だ。
(3)  塗布およびキュア アンバー色に着色されたポリメチルメタクリレ−1・注
型板からなるブラウン管の前面板を水と6し剤で洗浄後
、前記第1層コーディング組成物を浸漬法(引き上げ速
度10,07分)で塗布し96℃の熱風乾燥機で6o分
間加熱後、50℃の熱水に60分間θ漬後、水滴を窒素
ブローで除去した後、さらに93℃で60分間加熱乾燥
を行なった。ついで第1層の上に前記第2層コーティン
グ組成物を第1層と同様に浸漬法で塗布し、96℃の熱
風乾燥機内で2時間加熱硬化させた。
(4)  試験結果 得られたポリメチルメタクリレート前面板の全光線透過
率は426チであった。また未コムトのポリメチルメタ
クリレート注型板の全光線透過率は41.5%であった
。なお第1層の屈折率は176、膜厚は4ろnm、また
第2層の屈折率は14ろ、膜厚は92 nmであった。
寸/ξ第1層と接する暴利層(ポリメチルメタクリレー
ト注型板)の屈折率ば149であった。
実施例2 以下に述べるアンダーコートしだポリメチルメタクリレ
ート前面板を使用する以外はずべて実施例1と全く同様
に行なった。
(1)  アンダーコート組成物の調製(a)  ビニ
ルトリエトキ77ラン 加水分解物の調製 ビニルトリエトキシシラン260gに酢酸20gを添加
し、20℃にコントロールしながら0.05規定塩酸水
溶液74Bを攪拌下に滴下混合して、加水分解物を得た
(b)  メチルトリメトキシシラン 加水分解物の調製 メチルトリメトキシシラン672gに酢酸2.8gを添
加し、20℃にコントロールしながら001規定塩酸水
溶液147gを攪拌下に滴下混合して、加水分解物を得
た。
(C)  塗料の調製 前記(a、) 、 (b)で調製したそれぞれのシラン
加水分解物を混合し、さらにキシレン8g、酢酸ブチル
2g、7リコーン系界面活性剤015g、酢酸ソーダ0
2gを添加し、均一に溶解させて塗料とした。
(2)  アンダーコートの塗布、キュアおよび前処理 前項(1)で調製したアンダーコート組成物を実施例1
で使用したと同じポリメチルメタクリレート前面板に浸
漬法(引き上げ速度20cnI/分)で塗布し、90℃
の熱風乾燥機で2時間加熱キュアしプζ。得られた注型
板をさらに10%のカセイソーダ水溶液中に30℃で5
分間浸漬処理して、入相とした。
(3)  試験結果 得られたポリメチルメタクリレート前面板の全光線透過
率は439係であり、はとんど反射が認められないほど
の反射防止効果があった。
まだ得られた前面板を≠ooooのスチールウールにて
耐摩耗性を調べたところ、摩耗後もほとんど傷発生は認
められなかった。
さらに得られた前面板をコンピュータに装着し1画面の
読み取りテストを行なったところ。
画面からのちらつき(フリッカ−)が著しく減少し、外
部からの光線反射もほとんどなく、眼の疲労をほとんど
感じさせない表示装置となった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表示両面および7寸たけその前面板の表面に2層
    重たは3層からなるそれぞれが液状で塗布され j’、
    !2燥おにび/¥1:たは硬化によって得られる反射防
    止膜であって、かつ前記反射防止膜の各層がそれぞれ次
    の条件を満す反射防止膜を有することを!11丁徴工業
    る表示装置。 鞠、2層反射防上膜 反射防止膜の基利側の層(第1層)d、これと接する暴
    利層と第1層の上に設けられだ層(第2層)とのいずれ
    よりも高い屈折率を有し、第1層および第2層の膜厚が
    それぞれ次の条件を/d¥ず反射防止膜すy。 第7層 −λx IJ、/ < n2d2(−)×15
    4 〔ここでn、、l〕2は各々第1層、第2層の屈折率。 d、、 d2は各々第1層、第2層鳳膜厚(nm単位)
    。 mは正整数、nは奇の正整数、λは可視周辺領域内で選
    ばれる任意の基準波長(nm単位)である〕誓 ろ層反
    射防止膜 反射防止膜の透明暴利側の層(第1層)の屈折率はこれ
    と接する透明基材層よりも:告+ < +かつ第1層の
    上に設けられた層(第2層)よりも低い屈折率を有し、
    さらに前記第2層の上に設けられた層(第3層)d、第
    1層および第2層よりも低い屈折率を有し、第1層、第
    2層およO・第ろ層の膜厚がそれぞれ次の条件を満ず反
    射防止膜。 〔ここてn、、 112.113は各々第1層、第2層
    、第ろ層の屈折率、 cl、、 d、、、、 t13は
    各々第1層、第2層。 第ろ層の膜厚(nm単位)、lは正整数9mは正整数、
    nは伶の正整数、λは可視周辺領域内で選ばれる任意の
    基準波長(nm単位)である。  〕
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Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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