JP2014095877A - 反射防止膜を有する光学素子、光学系および光学機器 - Google Patents

反射防止膜を有する光学素子、光学系および光学機器 Download PDF

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Abstract

【課題】高屈折率ガラスにおいて優れた低反射率特性を有し、高性能な反射防止性能を有する光学素子を提供すること
【解決手段】透明な基板１１と、前記基板の上に積層された反射防止膜１０１と、を有する光学素子を提供する。反射防止膜は、基板から順に第１層、第２層、および第３層を有する。基板は、５８７．６ｎｍの波長の光の屈折率が１．８０〜２．０５である。第１層は、前記光の屈折率が１．４３〜１．４７、物理膜厚が２９．０〜４０．０ｎｍでシリカを主成分とする無機系酸化膜である。第２層は、前記光の屈折率が２．００〜２．２０、物理膜厚が１２．０〜４１．０ｎｍの無機系酸化膜である。第３層は、前記光の屈折率が１．２３〜１．２６、物理膜厚が１１０．０〜１３０．０ｎｍのシリカ微粒子を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止膜を有する光学素子、光学系および光学機器に関する。
高屈折率の基板に適した高性能な反射防止膜を実現するためには、反射防止膜は、一般に、屈折率の低い最表層が必要である。屈折率の低い層を形成するための材料として、シリカやフッ化マグネシウム等の無機系材料、シリコーン樹脂や非晶質のフッ素樹脂などの有機材料を用いることが知られている。さらに反射率を低く抑えるために、シリカやフッ化マグネシウムの層内に空隙を形成することも知られている。例えば、屈折率１．３８のフッ化マグネシウムの薄膜層内に３０％（体積）の空隙を設けることによって屈折率を１．２７まで下げることが可能となる。空隙を形成する方法として、ゾルーゲル法を用い、フッ化マグネシウム微粒子を推積し、微粒子間に空隙を形成した低屈折率材料を用いた反射防止膜を形成することが知られている（特許文献１）。また、他の空隙形成方法として、溶媒、酸性触媒、界面活性剤の混合液をエージングしてアルコキシシランを加水分解・重縮合させ、塩基性触媒を添加したゾル液を塗工、乾燥させ、溶媒を除去し、焼成することも知られている（特許文献２）。
特開２０１０−１５１８６号公報 特開２０１０−５５０６０号公報
しかしながら、特許文献１、２に開示された反射防止膜は、屈折率が１．５２〜１．６０未満の屈折率を有する基板に適用されるものであり、屈折率が１．８０以上の高屈折率基板に適した反射防止膜については開示も示唆もない。
本発明の例示的な目的は、高屈折率ガラスにおいて優れた低反射率特性を有し、高性能な反射防止性能を有する光学素子、光学系および光学機器を提供することである。
本発明の光学素子は、透明な基板と、前記基板の上に積層された反射防止膜と、を有する光学素子であって、前記反射防止膜は、前記基板から順に第１層、第２層、および第３層を有し、前記基板は、５８７．６ｎｍの波長の光の屈折率が１．８０〜２．０５であり、前記第１層は、前記光の屈折率が１．４３〜１．４７、物理膜厚が２９．０〜４０．０ｎｍでシリカを主成分とする無機系酸化膜であり、前記第２層は、前記光の屈折率が２．００〜２．２０、物理膜厚が１２．０〜４１．０ｎｍの無機系酸化膜であり、前記第３層は、前記光の屈折率が１．２３〜１．２６、物理膜厚が１１０．０〜１３０．０ｎｍのシリカ微粒子を有することを特徴とする。
本発明によれば、高屈折率ガラスにおいて優れた低反射率特性を有し、高性能な反射防止性能を有する光学素子、光学系および光学機器を提供することができる。
本実施形態の光学素子の概略断面図である。（実施例１〜８） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例１） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例２） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例３） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例４） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例５） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例６） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例７） 本発明の光学素子の反射率特性である。（実施例８） 比較例１と実施例１の光学素子の反射率特性である。 比較例２と実施例２の光学素子の反射率特性である。
図１は、本実施形態の光学素子の概略断面図である。光学素子は、透明な基板１１と、その上に形成された反射防止膜１０１から構成されている。反射防止膜１０１は３層構造を有し、基板１１から基板１１から離れる方向に順に第１層１２、第２層１３、第３層１０２が積層されている。
基板１１は、ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）の屈折率が１．８０〜２．０５であるガラス基板である。基板１１の形状は限定されず、平面、曲面、凹面、凸面、フィルム状でもよい。このような高屈折率を有する基板１１は、高精細なデジタルカメラに好適である。なお、基板１１はガラスに限定されず樹脂など他の材料から構成されてもよい。
第１層１２は、ｄ線の屈折率が１．４３〜１．４７、物理膜厚２９．０〜４０．０ｎｍのシリカを主成分とする無機系酸化膜であり、例えば、ＳｉＯ２から構成される。これにより、ガラス基板１１の主成分であるシリカとの密着力が高まり、膜の密着強度が増す。
第２層１３はｄ線の屈折率が２．００〜２．２０、物理膜厚１２．０〜４１．０ｎｍの無機系酸化膜である。さらに好ましくは、物理膜厚は１２．０から３０．０ｎｍの範囲にすることが望ましい。第２層１３は反射防止膜の低反射率特性を得るために第１層１２と第３層１０２の調整膜であり、屈折率、物理膜厚をこの範囲にすることが望ましい。第２層１３の材料としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ランタン、アルミナ、シリカ、または、これらの少なくとも２つの材料の混合物を用いてもよい。
第１層１２と第２層１３は無機系皮膜であり、酸化物から構成されている。無機系皮膜からなる誘電体反射防止膜は、真空蒸着法により形成することができる。誘電体反射防止膜の形成方法としては、これに限定されるものではなく、スパッタ法を用いてもよい。
第３層１０２は、最も空気１１５側に形成され、ｄ線の屈折率が１．２３〜１．２６、物理膜厚１１０．０〜１３０．０ｎｍのシリカ微粒子を有する。図１では、第３層１０２のシリカ微粒子は中空微粒子１４をバインダー１５で結合させて強度を上げた膜から構成されているが、メソポーラスシリカであってもよい。中空微粒子１４は、内部に空孔１６を有し、空孔１６の外側にシェル１７を有する。中空微粒子１４は空孔１６に含まれる空気（屈折率１．０）によって屈折率を下げることができる。空孔１６内に水分や不純物の吸着がないため、耐環境性が良く屈折率の変化のない安定した特性が得られる。
空孔１６は単孔、多孔どちらでもよく、適宜選択することができる。シェル１７は、屈折率の低い材料から構成されることが好ましく、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２などの無機材料やフッ素、シリコーンなどの有機材料が挙げられるが、ＳｉＯ２は粒子の製造が容易であるため好ましい。中空微粒子１４の平均粒径（平均粒子径）は、好ましくは２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。中空微粒子１４の平均粒径が２０ｎｍ未満の場合、空孔１６の大きさが小さくなり、屈折率を低くすることが難しくなる。また、平均粒径が６０ｎｍ以上になると粒子間の空隙の大きさが大きくなるため、粒子の大きさに伴う散乱が発生する。
また、本発明におけるバインダーは、膜の光学特性、耐摩耗性、密着力、環境信頼性によって有機材料、無機材料を適宜選択する事が可能であるが、屈折率、耐摩耗性の観点からシランアルコキシ加水分解縮合物もしくはその部分分解縮合物を用いることが好ましい。第３層１０２に中空微粒子１４とバインダー１５としてシランアルコキシ加水分解縮合物を混合した塗料を用いた場合を考える。この場合、塗料に含まれる中空シリカ微粒子とシランアルコキシ加水分解縮合物の固形分の重量比率としては、中空シリカ微粒子固形分重量：バインダー固形分重量が７：３〜８：２であることが好ましい。この範囲に設定することにより、屈折率の低い、膜強度の強い層となり、耐擦傷性が保たれる。
第３層の形成方法は特に限定されず、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法など液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることができる。塗工後の乾燥は、乾燥機、ホットプレート、電気炉などを用いることができる。乾燥条件は、基板１１に影響を与えず且つ中空粒子内の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には３００℃以下の温度を用いることが好ましい。塗工回数は限定されない。
本実施形態の光学素子は、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、テレビカメラ等の撮像装置（光学機器）の結像光学系に好適である。反射防止膜１０１は、光学素子の両面あるいは片面に設けられ、透過光量を上げると共に、不要光によるゴースト、フレアを回避するのに効果的である。もちろん光学機器は、双眼鏡、望遠鏡、顕微鏡など撮像装置に限定されない。
実施例１の光学素子は、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８０６の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４６のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚３８．２ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．１１のＴａ２Ｏ５を、真空蒸着法によって物理膜厚１４ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１７．３ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２５であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例１の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表１に示す。
図２は、分光反射率計で測定した実施例１の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図２に示すように、実施例１の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例１の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１％以下、７００ｎｍにおいても１．５％以下の低反射率特性が得られた。更に、コットン不織布クリント（ユニチカ株式会社の商品名）で３００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけ、２０回往復させた後、反射防止膜１０１の表面を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例２の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が２．００３の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４６のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚２９．０ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．００の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚２３.７ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１４．８ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２５であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例２の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表２に示す。
図３は、分光反射率計で測定した実施例２の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図３に示すように、実施例２の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１％以下、７００ｎｍにおいても１．５％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例３の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８８３の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４６のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚３７．３ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．２０の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚１４．８ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１７．５ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２５であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例３の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表３に示す。
図４は、分光反射率計で測定した実施例３の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図４に示すように、実施例３の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１％以下、７００ｎｍにおいても１．５％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例４の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８００の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４３のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚４０．０ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．２０の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚１２．０ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１３０．０ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２３であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例４の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表４に示す。
図５は、分光反射率計で測定した実施例４の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図５に示すように、実施例４の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が０．５％以下、７００ｎｍにおいても１．１％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例５の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８００の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４３のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚３４．２ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．００の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚１７．４ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１８．１ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２３であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例５の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表５に示す。
図６は、分光反射率計で測定した実施例５の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図６に示すように、実施例５の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１．０％以下、７００ｎｍにおいても１．５％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例６の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８００の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４３のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚４０．０ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．２０の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚１２．３ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１８．７ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２６であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例６の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表６に示す。
図７は、分光反射率計で測定した実施例６の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図７に示すように、実施例６の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１．０％以下、７００ｎｍにおいても１．５％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例７の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が２．００３の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４３のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚２９．０ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．００の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚２９．０ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１０．０ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２３であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例７の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表７に示す。
図８は、分光反射率計で測定した実施例７の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図８に示すように、実施例７の光学素子は、波長４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．５％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１．５％以下、７００ｎｍにおいても１．８％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
実施例８の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が２．００３の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４７のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚３０．８ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．２０の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚１７．５ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１６．５ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．２６であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。実施例８の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表８に示す。
図９は、分光反射率計で測定した実施例８の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図９に示すように、実施例８の光学素子は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で全域０．３％以下の良好な特性が得られた。また、実施例２の光学素子は、入射角４５度においても、４００〜６５０ｎｍの波長での反射率が１．０％以下、７００ｎｍにおいても１．６％以下の低反射率特性が得られた。更に、実施例１同様に表面膜強度を確認したところ、傷は観察されなかった。
（比較例１）
比較例１の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が１．８０６の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４６のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚３８．２ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率２．１１のＴａ２Ｏ５を、真空蒸着法によって物理膜厚１４ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１７．３ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．３０であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。比較例１の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表９に示す。
図１０は、分光反射率計で測定した比較例１の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図１０に示すように、比較例１の光学素子は、実施例１と比較すると波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で反射率が高く反射防止性能が劣っていることが確認できた。また、実施例１と同様の条件で表面膜強度を確認したところ、傷が観察された。
（比較例２）
比較例２の光学素子も、図１の構成を有する。基板１１には、ｄ線の屈折率が２．００３の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第１層１２としてｄ線の屈折率１．４８のＳｉＯ２を、真空蒸着法によって物理膜厚２９．０ｎｍだけ成膜した。次に、第２層１３としてｄ線の屈折率１．９０の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚２３．７ｎｍだけ成膜した。次に、第３層１０２として中空ＳｉＯ２含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が１１４．８ｎｍになるように塗工した。ｄ線の屈折率は１．３０であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は１００℃〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。比較例２の光学素子のｄ線の屈折率と膜厚を表１０に示す。
図１１は、分光反射率計で測定した比較例２の光学素子の特性であり、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）である。図１１に示すように、比較例２の光学素子は、実施例２と比較すると波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域において入射角０度で反射率が高く反射防止性能が劣っていることが確認できた。また、実施例２と同様の条件で表面膜強度を確認したところ、傷が観察された。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
光学素子は、レンズなどに適用することができる。
１１…基板、１２…第１層、１３…第２層、１０１…反射防止膜、１０２…第３層

Claims (7)

  1. 透明な基板と、前記基板の上に積層された反射防止膜と、を有する光学素子であって、
    前記反射防止膜は、前記基板から順に第１層、第２層、および第３層を有し、
    前記基板は、５８７．６ｎｍの波長の光の屈折率が１．８０〜２．０５であり、
    前記第１層は、前記光の屈折率が１．４３〜１．４７、物理膜厚が２９．０〜４０．０ｎｍでシリカを主成分とする無機系酸化膜であり、
    前記第２層は、前記光の屈折率が２．００〜２．２０、物理膜厚が１２．０〜４１．０ｎｍの無機系酸化膜であり、
    前記第３層は、前記光の屈折率が１．２３〜１．２６、物理膜厚が１１０．０〜１３０．０ｎｍのシリカ微粒子を有することを特徴とする光学素子。
  2. 前記シリカ微粒子は中空微粒子であることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
  3. 前記中空微粒子の平均粒径は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の光学素子。
  4. 前記第２層は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ランタン、アルミナ、シリカまたはこれらの少なくとも２つの混合物であることを特徴とする請求項３に記載の光学素子。
  5. 前記シリカ微粒子はメソポーラスシリカであることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
  6. 請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
  7. 請求項６項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学機器。
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