JP7098129B2 - 反射防止膜及びこれを有する光学素子 - Google Patents
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Description
第5層、第6層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、基準波長λ=520nmにおいて前記基板の屈折率が1.40~2.10であり、前記第1層の光学膜厚が0.045λ以上、0.971λ以下で屈折率が1.60以上、2.50以下の高屈折率材料であり、前記第2層の光学膜厚が0.025λ以上、0.166λ以下で屈折率が1.30以上、1.50以下の低屈折率材料であり、前記第3層の光学膜厚が0.038λ以上、0.224λ以下で屈折率が1.60以上、2.50以下の高屈折率材料であり、前記第4層の光学膜厚が0.048λ以上、0.152λ以下で屈折率が1.30以上、1.50以下の低屈折率材料であり、前記第5層の光学膜厚が0.045λ以上、0.119λ以下で屈折率が1.80以上、2.50以下の高屈折率材料であり、前記第6層の光学膜厚が0.228λ以上、0.331λ以下で屈折率が1.10以上、1.25以下の超低屈折率材料であることを特徴とする反射防止膜である。
参考例12
2 第2層
3 第3層
4 第4層
5 第5層
6 第6層
7 基板
Claims (8)
- 基板上に、前記基板側から第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、
基準波長λ=520nmにおいて
前記基板の屈折率が1.40~2.10であり、
前記第1層の光学膜厚が0.045λ以上、0.971λ以下で屈折率が1.60以上、2.50以下の高屈折率材料であり、
前記第2層の光学膜厚が0.025λ以上、0.166λ以下で屈折率が1.30以上、1.50以下の低屈折率材料であり、
前記第3層の光学膜厚が0.038λ以上、0.224λ以下で屈折率が1.60以上、2.50以下の高屈折率材料であり、
前記第4層の光学膜厚が0.048λ以上、0.152λ以下で屈折率が1.30以上、1.50以下の低屈折率材料であり、
前記第5層の光学膜厚が0.045λ以上、0.119λ以下で屈折率が1.80以上、2.50以下の高屈折率材料であり、
前記第6層の光学膜厚が0.228λ以上、0.331λ以下で屈折率が1.10以上、1.25以下の超低屈折率材料であることを特徴とする反射防止膜。
- 前記第6層の超低屈折率材料は、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム及び樹脂材料のいずれか、又は混合物からなることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記第6層の超低屈折率材料は、多孔質シリカであることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の反射防止膜。
- 前記第1層、前記第3層、前記第5層は、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化スズ,酸化タンタル、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化プラセオジム、酸化アルミニウムのいずれか、又は前記酸化物の混合物からなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の反射防止膜。
- 前記第2層、前記第4層は、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素のいずれか、又は混合物からなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の反射防止膜。
- 前記第1層、前記第2層、前記第3層、前記第4層、前記第5層は、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法、ALD法のいずれかにより成膜され、
前記第6層は、湿式成膜法により形成されたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の反射防止膜。 - 入射角0度~30度で波長400nm~700nmにおける平均反射率が0.15%以下であることを特徴とする、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の反射防止膜。
- 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学素子。
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