JP7276800B2

JP7276800B2 - 反射防止膜及びこれを有する光学部品

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Publication number: JP7276800B2
Application number: JP2018198845A
Authority: JP
Inventors: 耕平千葉
Original assignee: Sigma Inc
Current assignee: Sigma Inc
Priority date: 2018-10-23
Filing date: 2018-10-23
Publication date: 2023-05-18
Anticipated expiration: 2038-10-23
Also published as: JP2020067518A

Description

本発明はデジタルカメラ、ビデオカメラなどに用いられる撮影レンズに好適な、可視光帯域の反射防止膜及びこれを有する光学部品に関する。

デジタルカメラやビデオカメラなどに代表されるレンズ表面は、表面反射が原因で発生するゴーストが撮影画像へ影響するのを最小限に防ぐために、反射防止膜が形成されている。また、近年では撮像素子の高性能化や大型化に伴い、レンズの構成枚数が増加する傾向にあり、ズームレンズなどでは２０～３０枚のレンズにより構成されているものも少なくない。しかしながら、構成するレンズ枚数が増えるとレンズ面が原因で発生するゴーストの組み合わせが指数関数的に増加するため、そのすべてに対策するのは困難であり、より高性能な反射防止膜が求められている。

一般的に基板表面の反射防止効果を高めるためには、反射防止膜を多層膜化することが知られているが、真空蒸着法で一般的な低屈折材料は、酸化ケイ素が１．４６程度、フッ化マグネシウムが１．３８程度であり、空気と低屈折率材料の界面による反射を除去しきれなかった。

そこで出願人は、反射防止膜を高性能化するため、これまでに最上層に屈折率１．２～１．２５程度の低屈折率材料を使用して低反射率を達成した反射防止膜を開発している。

特開２０１８－１０１１３２号公報

特許文献１では、基板の屈折率１．４～２．１の範囲内で適用可能な６層の反射防止膜を開示しており、このうち最も空気側の層には屈折率１．２～１．２５の酸化ケイ素からなる材料を使用することで、波長４００～７００ｎｍの帯域の反射率を０．１５%以下に抑えることに成功している。しかしながら特許文献１の反射防止膜は、適用される面に入射するゴースト光線が、面法線に対して略平行か小さい入射角の時に最大の効果を得られる一方、面法線に対して大きい角度で入射する（いわゆる斜入射）のゴーストに対しては効果が不十分であった。そのため、曲率半径が比較的小さい面に成膜した場合は、その中央部と周縁部の分光反射率特性が変わってしまい、特に周縁部の反射率が上昇する問題が発生してしまう。

また発生する反射率ムラは、レンズの外側ほど赤みを帯びるため、ゴーストだけではなく外観の観点からも好ましいものではなかった。このような面は、大口径広角レンズなどの物体側のレンズでしばしば見られ、外観に直結する上、斜入射が原因の高強度のゴーストが発生することが多い。そのため、外観が良好で、斜入射でも良好な低反射性特性を得られる反射防止膜が求められている。

上記課題から本発明は、種々の屈折率の基板に対して外観が良好で、可視光の広い波長範囲において低反射で、なおかつ広い入射光線に対して高い反射防止効果を有し、ゴーストやフレアの発生を軽減できる反射防止膜及び、それを有する光学部品を提供することを目的とする。

請求項１に示す発明は、基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層までこの順に
積層してなる反射防止膜であって、基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、前記第１・３・５・７・９・１１層は屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、前記第２・４・６・８・１０層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、前記第１２層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、入射角０度～３０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が０．１３％以下であり、前記１層から１２層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜である。
第１層：０．０２２λ以上、０．０７４λ以下
第２層：０．０６５λ以上、０．２３７λ以下
第３層：０．０４３λ以上、０．１３６以下
第４層：０．１３４λ以上、０．２９５λ以下
第５層：０．０２２λ以上、０．１６５λ以下
第６層：０．０９７λ以上、０．３７９λ以下
第７層：０．０５７λ以上、０．２２８λ以下
第８層：０．０６３λ以上、０．１８４λ以下
第９層：０．１１１λ以上、０．２５３λ以下
第１０層：０．１１１λ以上、０．１８８λ以下
第１１層：０．０６４λ以上、０．０９４λ以下
第１２層：０．２８８λ以上、０．３５９λ以下

請求項２に示す発明は、基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層、第１３層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、前記第１・３・５・７・９・１１層は屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、前記第２・４・６・８・１０・１２層は、屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、前記第１３層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、前記１層から１３層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜である。
第１層：０．０２４λ以上、０．７０５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．１０８λ以下
第３層：０．０７２λ以上、０．２０６λ以下
第４層：０．０２２λ以上、０．１０６λ以下
第５層：０．０５６λ以上、０．５８λ以下
第６層：０．０２１λ以上、０．０７２λ以下
第７層：０．０２９λ以上、０．６５４λ以下
第８層：０．０１９λ以上、０．１３４λ以下
第９層：０．０８７λ以上、０．２０５λ以下
第１０層：０．０２４λ以上、０．１７５λ以下
第１１層：０．０６６λ以上、０．２１５λ以下
第１２層：０．０５λ以上、０．０８７λ以下
第１３層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下

請求項３に示す発明は、基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層、第１３層、第１４層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、前記第１・３・５・７・９・１１・１３層は屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、前記第２・４・６・８・１０・１２層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、前記第１４層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、前記１層から１４層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜である。
第１層：０．０１８λ以上、０．１１５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．２３３λ以下
第３層：０．０８λ以上、０．３λ以下
第４層：０．０３７λ以上、０．１７３λ以下
第５層：０．０９７λ以上、０．６７６λ以下
第６層：０．１０１λ以上、０．２２λ以下
第７層：０．０４６λ以上、０．０８５λ以下
第８層：０．２７４λ以上、０．６３１λ以下
第９層：０．０２７λ以上、０．０７６λ以下
第１０層：０．１２４λ以上、０．２２６λ以下
第１１層：０．０８λ以上、０．１６λ以下
第１２層：０．１４λ以上、０．２０８λ以下
第１３層：０．０５４λ以上、０．０８８λ以下
第１４層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下

請求項４に示す発明は、前記高屈折率材料は、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化スズ，酸化タンタル、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のいずれか、または又は前記酸化物の混合物からなり、記低屈折率材料は酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素のいずれか、または混合物からなり、前記超低屈折率材料はフッ化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムのいずれか、または混合物からなる多孔質材料であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の反射防止膜である。

請求項５に示す発明は、前記基板側から最も外側の層は湿式成膜法により形成され、その他の層は真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、ＡＬＤ法のいずれかにより成膜されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の反射防止膜である。

請求項６に示す発明は、入射角０度～３０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が０．２％以下であり、入射角６０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が２．４％以下であることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の反射防止膜である。

請求項７に示す発明は、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学部品である。

本発明によれば、種々の屈折率の基板に対して外観が良好で、可視光の広い波長範囲において低反射で、なおかつ広い入射光線に対して高い反射防止効果を有し、ゴーストやフレアの発生を軽減できる反射防止膜及び、それを有する光学部品を提供することができる。

本発明の実施形態に係る基板表面に形成された反射防止膜の略図である。実施例１の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例２の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例３の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例４の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例５の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例６の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例７の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例８の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例９の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。参考例１０の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１１の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１２の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１３の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１４の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１５の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１６の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１７の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１８の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例１９の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例２０の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例２１の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。実施例２２の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。比較例の反射防止膜の分光反射率を示すグラフである。反射防止膜に用いる膜物質の屈折率分散を示すグラフである。

本発明の第１の形態に係る反射防止膜は、図１に示す略図の通り、基板（６）側から順に第１層（１）、第２層（２）、第３層（３）の順に、第１１層（４）、第１２層（５）まで薄膜が積層された構成となっており、基準波長λ＝５２０ｎｍとした時に、基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、第１・３・５・７・９・１１層は、屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、第２・４・６・８・１０層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、第１２層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、前記１層から１２層の光学膜厚が、
第１層：０．０２２λ以上、０．０７４λ以下
第２層：０．０６５λ以上、０．２３７λ以下
第３層：０．０４３λ以上、０．１３６以下
第４層：０．１３４λ以上、０．２９５λ以下
第５層：０．０２２λ以上、０．１６５λ以下
第６層：０．０９７λ以上、０．３７９λ以下
第７層：０．０５７λ以上、０．２２８λ以下
第８層：０．０６３λ以上、０．１８４λ以下
第９層：０．１１１λ以上、０．２５３λ以下
第１０層：０．１１１λ以上、０．１８８λ以下
第１１層：０．０６４λ以上、０．０９４λ以下
第１２層：０．２８８λ以上、０．３５９λ以下
の範囲であることを特徴とする。

本発明によれば、基板側から高屈折率層と低屈折率層からなる交互層を積層し、最上層に超低屈折率層を形成した構成とすることで、可視光（特に４００～７００ｎｍ）の帯域において、入射角によらず優れた低反射性能を有する反射防止膜を提供することができる。さらに、本反射防止膜を光学部品に用いることによって、高い光学性能有する光学機器を実現できる。

高屈折率材料と低屈折率材料の屈折率差が範囲を超えて小さくなると、低い入射角から高い入射角まで良好な反射率を得られなくなるため、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層の高屈折率材料の屈折率は２．０以上、２．４以下であることが好ましく、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層の低屈折率材料の屈折率は１．３８以上、１．５以下であることが好ましい。

最上層の第１２層は、屈折率が１．１８以上１．２９以下の超低屈折率材料であることが好ましい。なお、超低屈折率材料に良好な密着強度や耐環境性を確保するためには、樹脂材料やシラン剤などの混合が有効であり、屈折率の下限は１．２以上に限定することがより好ましく、低反射性能を維持するためには屈折率の上限を１．２８以下に限定することがより好ましい。

より広い入射角において可視光の広い範囲の低反射化を実現するために、各層の膜厚は、それぞれ第１層目は０．０２３λ以上、０．０７１λ以下、第２層目は０．０６９λ以上、０．２２６λ以下、第３層目は０．０４５λ以上、０，１３λ以下、第４層目は０．１４１λ以上、０．２８１λ以下、第５層目は０．０２３λ以上、０．１５８λ以下、第６層目は０．１０３λ以上、０．３６１λ以下、第７層目は０．０６λ以上、０．２１８λ以下、第８層目は０．０６６λ以上、０．１７６λ以下、第９層目は０．１１７λ以上、０．２４１λ以下、第１０層目は０．１１７λ以上、０．１８λ以下、第１１層目は０．０６７λ以上、０．０９λ以下、第１２層目は０．３０４λ以上、０．３４２λ以下であることが好ましい。

また、高屈折率材料は、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化スズ，酸化タンタル、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のいずれか、または前記酸化物の混合物であることが好ましく、低屈折率材料は酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素のいずれか、または混合物であることが好ましく、超低屈折率材料はフッ化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムのいずれか、または混合物からなる多孔質材料であることが好ましい。

第１層から第１１層は、真空成膜法にて形成されることが好ましい。特に、真空成膜法として、物理的蒸着法の真空蒸着法やスパッタ法、化学的蒸着法のＣＶＤ法、ＡＬＤ法により形成されることがより好ましい。さらに最終層の第１２層は、湿式成膜法により形成されることが好ましい。特に、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、スリットコート法により形成されることがより好ましい。

本発明の第２の形態に係る反射防止膜は、図１に示す略図の通り、基板（６）側から順に第１層（１）、第２層（２）、第３層（３）の順に、第１２層（４）、第１３層（５）まで薄膜が積層された構成となっており、基準波長λ＝５２０ｎｍとした時に、基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は、屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、第１３層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、前記１層から１３層の光学膜厚が、
第１層：０．０２４λ以上、０．７０５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．１０８λ以下
第３層：０．０７２λ以上、０．７５６λ以下
第４層：０．０２２λ以上、０．１０６λ以下
第５層：０．０５６λ以上、０．５８λ以下
第６層：０．０２１λ以上、０．０７２λ以下
第７層：０．０２９λ以上、０．６５４λ以下
第８層：０．０１９λ以上、０．１３４λ以下
第９層：０．０８７λ以上、０．２０５λ以下
第１０層：０．０２４λ以上、０．１７５λ以下
第１１層：０．０６６λ以上、０．２１５λ以下
第１２層：０．０５λ以上、０．０８７λ以下
第１３層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下
の範囲であることを特徴とする。

高屈折率材料と低屈折率材料の屈折率差が範囲を超えて小さくなると、低い入射角から高い入射角まで良好な反射率を得られなくなるため、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層の高屈折率材料の屈折率は２．０以上、２．４以下であることが好ましく、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層の低屈折率材料の屈折率は１．３８以上、１．５以下であることが好ましい。

最上層の第１３層は、屈折率が１．１８以上１．２９以下の超低屈折率材料であることが好ましい。なお、超低屈折率材料に良好な密着強度や耐環境性を確保するためには、樹脂材料やシラン剤などの混合が有効であり、屈折率の下限は１．２以上に限定することがより好ましく、低反射性能を維持するためには屈折率の上限を１．２８以下に限定することがより好ましい。

より広い入射角において可視光の広い範囲の低反射化を実現するために各層の膜厚は、それぞれ第１層目は０．０２５λ以上、０．６７３λ以下、第２層目は０．０３２λ以上、０．１０３λ以下、第３層目は０．０７６λ以上、０，７２２λ以下、第４層目は０．０２３λ以上、０．１０１λ以下、第５層目は０．０５９λ以上、０．５５４λ以下、第６層目は０．０２２λ以上、０．０６９λ以下、第７層目は０．０３１λ以上、０．６２４λ以下、第８層目は０．０２λ以上、０．１２８λ以下、第９層目は０．０９２λ以上、０．１９６λ以下、第１０層目は０．０２５λ以上、０．１６７λ以下、第１１層目は０．０７λ以上、０．２０５λ以下、第１２層目は０．０５３λ以上、０．０８３λ以下、第１３層目は０．２９６λ以上、０．３４１λ以下であることが好ましい。

第１層から第１２層は、真空成膜法にて形成されることが好ましい。特に、真空成膜法として、物理的蒸着法の真空蒸着法やスパッタ法、化学的蒸着法のＣＶＤ法、ＡＬＤ法により形成されることがより好ましい。さらに最終層の第１３層は、湿式成膜法により形成されることが好ましい。特に、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、スリットコート法により形成されることがより好ましい。

本発明の第３の形態に係る反射防止膜は、図１に示す略図の通り、基板（６）側から順に第１層（１）、第２層（２）、第３層（３）の順に、第１３層（４）、第１４層（５）まで薄膜が積層された構成となっており、基準波長λ＝５２０ｎｍとした時に、基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は、屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、第１４層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、前記１層から１４層の光学膜厚が、
第１層：０．０１８λ以上、０．１１５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．２３３λ以下
第３層：０．０８λ以上、０．３λ以下
第４層：０．０３７λ以上、０．１７３λ以下
第５層：０．０９７λ以上、０．６７６λ以下
第６層：０．１０１λ以上、０．２２λ以下
第７層：０．０４６λ以上、０．０８５λ以下
第８層：０．２７４λ以上、０．６３１λ以下
第９層：０．０２７λ以上、０．０７６λ以下
第１０層：０．１２４λ以上、０．２６６λ以下
第１１層：０．０８λ以上、０．１６λ以下
第１２層：０．１４λ以上、０．２０８λ以下
第１３層：０．０５４λ以上、０．０８８λ以下
第１４層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下
の範囲であることを特徴とする。

高屈折率材料と低屈折率材料の屈折率差が範囲を超えて小さくなると、低い入射角から高い入射角まで良好な反射率を得られなくなるため、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層の高屈折率材料の屈折率は２．０以上、２．４以下であることが好ましく、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層の低屈折率材料の屈折率は１．３８以上、１．５以下であることが好ましい。

最上層の第１４層は、屈折率が１．１８以上１．２９以下の超低屈折率材料であることが好ましい。なお、超低屈折率材料に良好な密着強度や耐環境性を確保するためには、樹脂材料やシラン剤などの混合が有効であり、屈折率の下限は１．２以上に限定することがより好ましく、低反射性能を維持するためには屈折率の上限を１．２８以下に限定することがより好ましい。

より広い入射角において可視光の広い範囲の低反射化を実現するために各層の膜厚は、それぞれ第１層目は０．０１９λ以上、０．１１λ以下、第２層目は０．０３２λ以上、０．２２３λ以下、第３層目は０．０８４λ以上、０．２８６λ以下、第４層目は０．０３９λ以上、０．１６５λ以下、第５層目は０．１０２λ以上、０．６４６λ以下、第６層目は０．１０７λ以上、０．２１λ以下、第７層目は０．０４８λ以上、０．０８２λ以下、第８層目は０．２８９λ以上、０．６０２λ以下、第９層目は０．０２９λ以上、０．０７３λ以下、第１０層目は０．１３１λ以上、０．２１６λ以下、第１１層目は０．０８５λ以上、０．１５３λ以下、第１２層目は０．１４７λ以上、０．１９８λ以下、第１３層目は０．０５７λ以上、０．０８４λ以下、第１４層目は０．２９６λ以上、０．３４１λ以下であることが好ましい。

第１層から第１３層は、真空成膜法にて形成されることが好ましい。特に、真空成膜法として、物理的蒸着法の真空蒸着法やスパッタ法、化学的蒸着法のＣＶＤ法、ＡＬＤ法により形成されることがより好ましい。さらに最終層の第１４層は、湿式成膜法により形成されることが好ましい。特に、浸漬法、スピンコート法、スプレーコート法、スリットコート法により形成されることがより好ましい。

入射角０度～３０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が０．２％以下であり、入射角６０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が２．４％以下であることが好ましい。このことにより、一般的なレンズ面によるゴーストやフレアを軽減することができるだけでなく、比較的大きい入射角でゴーストが発生する場合でも、反射率を低く維持できることから、広角レンズの前側の面でも良好な性能を有することができる。

以下に、本発明の反射防止膜に係る実施例の一例について説明する。ただし、本発明の実施例は以下に限定されるものではない。

なお、基材（６）及び反射防止膜（１～５）の各層は屈折率分散を考慮してシミュレートし、反射防止膜に用いる膜物質の屈折率分散は図２５に示した。

実施例１は、第１の実施形態に係る、表１に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ１００（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法（たとえば真空蒸着法やスパッタ法など）により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法（たとえばスピンコート法、ディップ法など）により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２には、実施例１に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図２及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２３％、平均反射率は０．１３％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３６％、平均反射率も１．９７％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例２は、第１の実施形態に係る、表２に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ１（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図３には、実施例２に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図３及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２３％、平均反射率は０．１２％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３４％、平均反射率も１．９７％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例３は、第１の実施形態に係る、表３に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ５１５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図４には、実施例３に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図４及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３１％、平均反射率も２．０２％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例４は、第１の実施形態に係る、表４に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＬＡＣ１４（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図５には、実施例４に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図５及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２２％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３１％で、平均反射率も２．０４％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例５は、第１の実施形態に係る、表５に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＤＳ９０（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図６には、実施例５に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図６及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３６％、平均反射率も２．０５％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例６は、第１の実施形態に係る、表６に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ５５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図７には、実施例６に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図７及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１０％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２７％、平均反射率も２．０５％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例７は、第１の実施形態に係る、表７に示す１２層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ６５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１１層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１２層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図８には、実施例７に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図８及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１０％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２６％、平均反射率も２．０５％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例８は、第２の実施形態に係る、表８に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ１（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図９には、実施例８に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図９及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２９％、平均反射率は０．０９％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２５％、平均反射率も２．１０％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例９は、第２の実施形態に係る、表９に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。Ｅ－ＦＤ２（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１０には、実施例９に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１０及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２９％、平均反射率は０．１２％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．４５％、平均反射率も２．０７％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。
参考例１０

参考例１０は、第２の実施形態に係る、表１０に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＦ８（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１１には、参考例１０に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１１及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．３７％、平均反射率は０．１２％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３６％、平均反射率も２．０３％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１１は、第２の実施形態に係る、表１１に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦ３Ｄ（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１２には、実施例１１に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１２及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２２％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３３％、平均反射率も２．０１％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１２は、第２の実施形態に係る、表１２に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＤＳ９０（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１３には、実施例１２に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１３及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．１８％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３６％、平均反射率も２．０３％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１３は、第２の実施形態に係る、表１３に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ３７Ａ（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１４には、実施例１３に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１４及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１２％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３５％、平均反射率も２．０３％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１４は、第２の実施形態に係る、表１４に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ４５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１５には、実施例１４に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１５及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２０％、平均反射率は０．１０％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３２％、平均反射率も２．１０％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１５は、第２の実施形態に係る、表１５に示す１３層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ６５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１２層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層は酸化ケイ素からなる低屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ニオブからなる高屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１３層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１６には、実施例１５に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１６及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２１％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．３１％、平均反射率も２．０６％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１６は、第３の実施形態に係る、表１６に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ１００（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１７には、実施例１６に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１７及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．１５％、平均反射率は０．０９％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２８％、平均反射率も２．１０％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１７は、第３の実施形態に係る、表１７に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＦＣＤ７０５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１８には、実施例１７に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１８及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２０％、平均反射率は０．０９％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２１％、平均反射率も２．０６％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１８は、第３の実施形態に係る、表１８に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。Ｅ－ＦＤ２（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図１９には、実施例１８に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図１９及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２０％、平均反射率は０．１１％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２２％、平均反射率も２．０６％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例１９は、第３の実施形態に係る、表１９に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＬＡＣ１４（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２０には、実施例１９に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図２０及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．１２％、平均反射率は０．０７％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２６％、平均反射率も２．１５％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例２０は、第３の実施形態に係る、表２０に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦ３Ｄ（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２１には、実施例２０に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図２１及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２３％、平均反射率は０．０８％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２１％、平均反射率も２．１１％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例２１は、第３の実施形態に係る、表２１に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ４５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２２には、実施例２１に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図２２及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．２０％、平均反射率は０．１０％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２０％、平均反射率も２．０５％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

実施例２２は、第３の実施形態に係る、表２２に示す１４層からなる膜構成の反射防止膜である。ＴＡＦＤ６５（ＨＯＹＡ製）基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第１３層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、第１３層は酸化ニオブからなる高屈折率層、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層は酸化ケイ素からなる低屈折率層の構成となっている。また、最上層の第１４層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２３には、実施例２２に係る反射防止膜の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける入射角０度、３０度、６０度の分光反射率データを示した。図２３及び表２４に示した反射率の通り、入射角０～３０度の範囲では最も高い反射率が０．１６％、平均反射率は０．０８％以下であり、入射角６０度の最大反射率は２．２８％、平均反射率も２．１４％と、入射角によらず低反射率の膜が得られることが分かった。また、コート反射色においても、入射角による急激な色相変化を防ぐことができ、外観も良好であった。

比較例

表２３には、比較例として特開２０１８ー１０１１３２号公報の実施例１０に開示されている６層からなる反射防止膜を示した。屈折率１．６の基板を用い、基板側から第１層、第２層の順に第５層までは真空成膜法により成膜し、第１層、第３層、第５層は屈折率２．０８の高屈折率層、第２層、第４層は１．３８の低屈折率層の構成となっている。最上層の第６層は、湿式成膜法により成膜した多孔質シリカからなる屈折率１．２５の超低屈折率層である。

図２４及び表２４に示した平均反射率の通り、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける反射率は、入射角０度においては最大反射率が０．０７％、平均反射率は０．０３％でゴースト光線の面への入射角が小さい場合は非常に良好な低反射特性を示しているが、入射角が大きくなるに伴って急激な反射率上昇を示し、入射角６０度における最大反射率は４．７８％、平均反射率も２．６９％まで悪化してしまう。また図２４からも明らかなとおり、入射角６０度の時の分光反射率は６００ｎｍよりも長波長側の反射率がより大きく上昇することから、例えば光学有効径に対する曲率半径が比較的大きい面に成膜した場合は、その中央部と周縁部の分光反射率特性が変わってしまい外観的にも良好ではない。以上より、実施例１から実施例２２は、比較例に対して、入射角によらず低反射特性が得られ、なおかつ色相変化も抑制できることがわかる。

以上のように、本発明に係る反射防止膜によれば、種々の屈折率の基板に対して外観が良好で、可視光の広い波長範囲において低反射で、なおかつ広い入射光線に対して高い反射防止効果を有し、ゴーストやフレアの発生を軽減できる反射防止膜及び、それを有する光学部品を提供することができる。

１第１層
２第２層
３第３層
４第Ｘ－１層
５第Ｘ層
６基板

Claims

基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、
基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて
前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、
前記第１・３・５・７・９・１１層は屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、
前記第２・４・６・８・１０層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、
前記第１２層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、
入射角０度～３０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が０．１３％以下であり、
前記１層から１２層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜。
第１層：０．０２２λ以上、０．０７４λ以下
第２層：０．０６５λ以上、０．２３７λ以下
第３層：０．０４３λ以上、０．１３６λ以下
第４層：０．１３４λ以上、０．２９５λ以下
第５層：０．０２２λ以上、０．１６５λ以下
第６層：０．０９７λ以上、０．３７９λ以下
第７層：０．０５７λ以上、０．２２８λ以下
第８層：０．０６３以上、０．１８４λ以下
第９層：０．１１１λ以上、０．２５３λ以下
第１０層：０．１１１λ以上、０．１８８λ以下
第１１層：０．０６４λ以上、０．０９４以下
第１２層：０．２８８λ以上、０．３５９λ以下
基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層、第１３層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、
基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて
前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、
前記第１・３・５・７・９・１１層は屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、
前記第２・４・６・８・１０・１２層は、屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、
前記第１３層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、
前記１層から１３層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜。
第１層：０．０２４λ以上、０．７０５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．１０８λ以下
第３層：０．０７２λ以上、０．２０６λ以下
第４層：０．０２２λ以上、０．１０６λ以下
第５層：０．０５６λ以上、０．５８λ以下
第６層：０．０２１λ以上、０．０７２λ以下
第７層：０．０２９λ以上、０．６５４λ以下
第８層：０．０１９λ以上、０．１３４λ以下
第９層：０．０８７λ以上、０．２０５λ以下
第１０層：０．０２４λ以上、０．１７５λ以下
第１１層：０．０６６λ以上、０．２１５λ以下
第１２層：０．０５λ以上、０．０８７λ以下
第１３層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下
基板上に、前記基板側から第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層、第９層、第１０層、第１１層、第１２層、第１３層、第１４層までこの順に積層してなる反射防止膜であって、
基準波長λ＝５２０ｎｍにおいて
前記基板の屈折率が１．４０～２．１０であり、
前記第１・３・５・７・９・１１・１３層は屈折率が１．９以上、２．５以下の高屈折率材料であり、
前記第２・４・６・８・１０・１２層は、屈折率が１．３５以上、１．５５以下の低屈折率材料であり、
前記第１４層は、屈折率が１．１５以上１．３以下の超低屈折率材料であり、
前記１層から１４層の光学膜厚が、次の範囲であることを特徴とする反射防止膜。
第１層：０．０１８λ以上、０．１１５λ以下
第２層：０．０３λ以上、０．２３３λ以下
第３層：０．０８λ以上、０．３λ以下
第４層：０．０３７λ以上、０．１７３λ以下
第５層：０．０９７λ以上、０．６７６λ以下
第６層：０．１０１λ以上、０．２２λ以下
第７層：０．０４６λ以上、０．０８５λ以下
第８層：０．２７４λ以上、０．６３１λ以下
第９層：０．０２７λ以上、０．０７６λ以下
第１０層：０．１２４λ以上、０．２２６λ以下
第１１層：０．０８λ以上、０．１６λ以下
第１２層：０．１４λ以上、０．２０８λ以下
第１３層：０．０５４λ以上、０．０８８λ以下
第１４層：０．２８１λ以上、０．３５７λ以下
前記高屈折率材料は、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化スズ，酸化タンタル、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のいずれか、または又は前記酸化物の混合物からなり、
前記低屈折率材料は酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素のいずれか、または混合物からなり、
前記超低屈折率材料はフッ化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムのいずれか、または混合物からなる多孔質材料であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の反射防止膜。
前記基板側から最も外側の層は湿式成膜法により形成され、その他の層は真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、ＡＬＤ法のいずれかにより成膜されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の反射防止膜。
入射角０度～３０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が０．２％以下であり、
入射角６０度の波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均反射率が２．４％以下であることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の反射防止膜。
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする光学部品。