TWM525452U - 保護蓋板 - Google Patents

Description

保護蓋板

本創作是關於一種保護蓋板。

近年來，顯示裝置作為資訊展示的介面而大量地運用於各種電子產品中。顯示裝置內常設置有遮光層，以遮蔽周邊線路。為了提升視覺效果，往往在顯示裝置外設置有抗反射層，以降低環境光影響輸出的影像品質。使用上，往往依照影像品質的需求而設計此抗反射層的特性，即抗反射層是搭配顯示裝置的可視區而設計的，此等抗反射層往往傾向具有較大的抗反射效果。

為了使得非可視區也具有抗反射效果，然而，由於遮光層所定義的非可視區內具有較低的亮度，因此，具有較大的抗反射能力的抗反射層並不是最適合搭配非可視區的，換句話說，將適用於可視區的抗反射能力高的抗反射層設置於非可視區，人眼仍容易在非可視區內觀察到不佳的視覺外觀效果，例如遮光層不能呈現出其本來的真實顏色而出現異色問題，從而影響顯示裝置的外觀效果。

本創作之多個實施方式提供一種保護蓋板，藉由改變非可視區上的層體性質，該位於非可視區的層體具有低反射率(反射率小於2.5%)，而使遮光層所在的非可視區具有抗反射效果，同時該位於非可視區的層體於可見光內的抗反射效果接近一致(反射率差異小於2%)，從而使得遮光層可以呈現其真實顏色而降低異色的問題。

根據本創作之部分實施方式，保護蓋板包含基板、遮光層以及第一層體堆疊。基板具有相對設置的第一表面與第二表面。遮光層設置於基板之第一表面，其中遮光層具有遮光層開口，以定義基板之可視區與非可視區。第一層體堆疊設置於基板之第二表面且至少位於非可視區。第一層體堆疊於可見光波長範圍內之反射率差異小於2%，第一層體堆疊在非可視區於可見光波長範圍內之反射率小於2.5%。

於本創作之多個實施方式中，第一層體堆疊包含第一折射率層，其中第一折射率層的折射率範圍為大約1.2至大約1.8。

於本創作之多個實施方式中，保護蓋板包含第二層體堆疊，設置於基板之第二表面且位於可視區內，其中第一層體堆疊與第二層體堆疊相連，且第二層體堆疊為抗反射堆疊。

於本創作之多個實施方式中，保護蓋板包含第二層體堆疊與第三層體堆疊，設置於基板之第二表面且位於該可視區，其中第二層體堆疊係位於第三層體堆疊與基板之間，第二層體堆疊鄰近第三層體堆疊的一層體的折射率大於第三層 體堆疊鄰近第二層體堆疊的一層體的折射率。

於本創作之多個實施方式中，第三層體堆疊與第一層體堆疊的材料相同，且第三層體堆疊與第一層體堆疊為同一製程形成。

於本創作之多個實施方式中，位於可視區的相疊之第三層體堆疊與第二層體堆疊之反射率小於位於非可視區的第一層體堆疊之反射率。

於本創作之多個實施方式中，位於可視區的相疊之第三抗層體堆疊與第二層體堆疊於可見光波長之反射率差異小於1%。

於本創作之多個實施方式中，第一層體堆疊具有開口，位於可視區內，第二層體堆疊位於第一層體堆疊之開口內。

於本創作之多個實施方式中，第二層體堆疊包含多個第三折射率層以及第四折射率層，每二個第三折射率層由第四折射率層間隔開來，其中第三折射率層之一鄰接基板，其中第三折射率層的折射率大於第四折射率層與該第一層體堆疊的第一折射率層的折射率。

於本創作之多個實施方式中，第三折射率層的折射率範圍為大約2.2至大約2.4之間，第四折射率層的折射率範圍為大約1.4至大約1.6之間。

於本創作之多個實施方式中，其中第一層體堆疊具有開口，位於可視區內。

於本創作之多個實施方式中，基板包含平坦部以 及設置於平坦部之至少一側的彎折部，其中遮光層與第一層體堆疊至少設置於彎折部之相對二側，彎折部位於非可視區。

於本創作之多個實施方式中，第一層體堆疊之一第一折射率層的材料為氟化鎂。

100‧‧‧保護蓋板

110‧‧‧基板

112‧‧‧平坦部

114‧‧‧彎折部

120‧‧‧遮光層

122‧‧‧遮光層開口

130‧‧‧第一層體堆疊

130a‧‧‧底面

134‧‧‧第一折射率層

136‧‧‧開口

140‧‧‧第二層體堆疊

140’‧‧‧材料

140a‧‧‧底面

142‧‧‧第三折射率層

144‧‧‧第四折射率層

150‧‧‧第三層體堆疊

154‧‧‧第五折射率層

200‧‧‧覆膜

210‧‧‧鏤空部

S1‧‧‧第一表面

S2‧‧‧第二表面

VA‧‧‧可視區

NA‧‧‧非可視區

第1A圖為根據本創作之一實施方式之保護蓋板之剖面圖。

第1B圖為根據部分實施方式保護蓋板之部份第一層體堆疊之折射率頻譜圖。

第1C圖為根據部分實施方式保護蓋板之第一層體堆疊之反射頻譜圖。

第2圖為根據本創作之另一實施方式之保護蓋板之剖面圖。

第3圖為根據本創作之再一實施方式之保護蓋板之剖面圖。

第4圖為根據本創作之另一實施方式之保護蓋板之剖面圖。

第5圖為根據本創作之又一實施方式之保護蓋板之剖面圖。

第6A圖至第6D圖為根據本創作的一實施方式的保護蓋板於多個製造階段的剖面圖。

以下將以圖式揭露本創作之多個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本創作。也就是說，在本創作部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式為之。

第1A圖為根據本創作之一實施方式之保護蓋板100之剖面圖。保護蓋板100包含基板110、遮光層120以及第一層體堆疊130。基板110具有相對設置的第一表面S1與第二表面S2，其中，保護蓋板100作為顯示裝置的外蓋板使用時，第二表面S2相較第一表面S1更加靠近人眼。遮光層120設置於基板110之第一表面S1，其中遮光層120具有遮光層開口122，以定義基板110之可視區VA與非可視區NA，其中遮光層開口122對應的區域為可視區VA，其它為非可視區NA。第一層體堆疊130設置於基板110之第二表面S2且至少位於非可視區NA。位於非可視區NA的第一層體堆疊130於可見光波長範圍內對應不同波長之反射率差異小於2%，且第一層體堆疊130在非可視區NA於可見光波長範圍內之反射率小於2.5%。

於本文中，一材料或結構的「反射率差異」係定義為該材料或結構在可見光波長範圍內(波長400奈米至波長700奈米之間)之最大反射率與最小反射率的差值。

在一實施例中，第一層體堆疊130包含第一折射率層134。第一折射率層134設置於基板110之第二表面S2且 位於非可視區NA。第一折射率層134的折射率範圍為大約1.2至大約1.8。

於本創作之多個實施方式中，在非可視區NA內，藉由僅採用反射率差異較小的第一層體堆疊130，並搭配上述第一層體堆疊130的反射率範圍。如此一來，使非可視區NA既具有抗反射的效果，同時從視覺效果來看，非可視區NA之遮光層120的顏色並不會因第一層體堆疊130而改變，可呈現遮光層120其本身的顏色，可以降低在非可視區NA上遮光層120容易觀察到異色的問題。

請繼續參照第1A圖，於本創作之多個實施方式中，保護蓋板100包含第二層體堆疊140以及第三層體堆疊150。第二層體堆疊140設置於基板110之第二表面S2且位於可視區VA內，第三層體堆疊150設置於第二層體堆疊140相對基板110之一側，而使得第二層體堆疊140位於第三層體堆疊150與基板110之間。

第二層體堆疊140包含多個第三折射率層142以及第四折射率層144，每二個第三折射率層142由一個第四折射率層144間隔開來，其中第三折射率層142之一(例如第1A圖中位於第四折射率層144下方的第三折射率層142)鄰接基板110，第三折射率層142之另一(例如第1A圖中位於第四折射率層144上方的第三折射率層142)鄰接第三層體堆疊150。第三折射率層142的折射率大於第四折射率層144的折射率。於部分實施方式中，第三折射率層142的折射率大於第一折射率層134的折射率。於此，雖然僅以三層結構繪示此第二層體堆 疊140，但實際應用上可以採用五層、七層等結構，不應以圖中所示而限制本創作之範圍。

於部分實施方式中，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150的材料相同。於本創作之多個實施方式中，第三層體堆疊150包含第五折射率層154。在可視區VA中以折射率較小的第五折射率層154作為連接空氣的最外層，以降低空氣與層體堆疊之間的界面的反射率。

且，第二層體堆疊140鄰接第三層體堆疊150的第三折射率層142的折射率大於第三層體堆疊150鄰接第二層體堆疊140的第五折射率層154的折射率，從而使得第二層體堆疊140與第三層體堆疊150形成折射率高低交錯搭配的層疊關係，以透過破壞性干涉維持可視區VA的抗反射效果。

於此，於可見光波長範圍內，相較於常規的適用於可視區VA的抗反射層，第一層體堆疊130的反射率差異小於2%，具有較均勻的抗反射效果，以降低非可視區NA的遮光層120出現異色的問題。位於可視區VA的相疊之第三層體堆疊150與第二層體堆疊140於可見光波長範圍內整體疊構之反射率小於位於非可視區NA的第一層體堆疊130之反射率，較佳的，位於該可視區VA的相疊之第三層體堆疊150與第二層體堆疊140整體疊構之反射率小於1%，以使可視區VA具有較佳的抗反射效果。

於本實施方式中，為提高製程效率及實現第一層體堆疊130與第二層體堆疊140之間無縫連接，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150由相同的製程步驟所組成，兩者邊緣 可以互相連接而做為連續的結構，當然不應以此限制本創作之範圍。或者，於其他實施方式中，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150可以分別形成，兩者可以不互相連接，且其材料可以不同。

於部分實施方式中，第一層體堆疊130與第二層體堆疊140相鄰接，且第一層體堆疊130之底面130a對齊於第二層體堆疊140之底面140a，以使第一層體堆疊130結合第二層體堆疊140可以完全覆蓋保護蓋板100的第二表面S2。

於本創作之多個實施方式中，第一層體堆疊130於基板110上的投影完全覆蓋非可視區NA，而第二層體堆疊140不位於非可視區NA中。由於第一層體堆疊130於可見光波長範圍內的各個波長的反射率較一致，因此，可以減少非可視區NA內的遮光層120受到第一層體堆疊130的影響，降低非可視區NA內的遮光層120異色的問題。於部分實施方式中，部分的第一層體堆疊130還位於可視區VA中。於其他實施方式中，第一層體堆疊130可以僅位於非可視區NA，而不位於可視區VA。

以下舉例說明各個層體堆疊的材料與相關特性，應了解到各個層體堆疊中的材料與層體數量可以有各種變形。

於本創作之多個實施方式中，第一層體堆疊130中，第一折射率層134的材料可為氟化鎂或其組合物。於此，雖然僅以單層結構繪示此第一層體堆疊130，但實際應用上第一層體堆疊130還可以包含其他層體於第一折射率層134上， 例如二氧化矽層。於本創作之多個實施方式中，第二層體堆疊140中，第三折射率層142的折射率範圍為大約2.2至大約2.4之間，第四折射率層144的折射率範圍為大約1.4至大約1.6之間。舉例而言，第三折射率層142的材料可以是氧化鈦(Ti₃O₅)、氮化矽(Si₃N₄)、氧化鈮(Nb₂O₅)，第四折射率層144的材料可以是二氧化矽。

詳細而言，同時參照第1B圖與第1C圖。第1B圖為根據部分實施方式保護蓋板之部份第一層體堆疊130之折射率頻譜圖，第1C圖為根據部分實施方式保護蓋板100之第一層體堆疊130之反射頻譜圖。於此，第一層體堆疊130以氟化鎂層以及二氧化矽層堆疊為例，為了更好的說明第一層體堆疊之反射率差異，第1C圖中另一條曲線為常規的抗反射層如氧化鈦以及二氧化矽堆疊的反射率頻譜，以作為對比來進行說明。第1B圖為氟化鎂層之折射率頻譜圖。參照第1B圖，第一層體堆疊130之氟化鎂層於可見光內的折射率值在1.2至1.8之間(虛線所表示的範圍內)。參照第1C圖，第一層體堆疊130於可見光內的反射率差異(以細線表示)小於氧化鈦及二氧化矽堆疊於可見光內的反射率差異(以粗線表示)，例如圖中第一層體堆疊130於可見光內的反射率差異小於2%。如此一來，此等第一層體堆疊130在不犧牲可視區VA的影像品質下降低非可視區NA內的遮光層120異色的問題。

此外，由於在部分實施方式中，第三層體堆疊150與第一層體堆疊130的材料相同，因此，第五折射率層154可與第一折射率層134之材料相同。

本創作之部分實施方式中，第三折射率層142之另一(例如第1A圖中位於第四折射率層144上方的第三折射率層142)鄰接第三層體堆疊150之第五折射率層154，使得在可視區VA內，反射率差異較大的第二層體堆疊140與反射率差異較小的第三層體堆疊150組合成一折射率高低交錯的結構，以破壞性干涉有效地達到抗反射的效果。而在非可視區NA內，僅採用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在非可視區NA上容易觀察到異色的問題。

第2圖為根據本創作之另一實施方式之保護蓋板100之剖面圖。本實施方式與第1A圖之實施方式相似，差別在於：本實施方式中，基板110包含平坦部112以及設置於平坦部112之至少一側的彎折部114，其中遮光層120與第一層體堆疊130至少設置於彎折部114之相對二側，彎折部114位於非可視區NA。第一層體堆疊130覆蓋彎折部114。

如同前述，於可視區VA內，採用反射率差異較大的第二層體堆疊140與反射率差異較小的第三層體堆疊150組合成一折射率高低交錯的結構，且採用折射率較低的第五折射率層154作為最外層，而能有效地達到抗反射的效果。而在非可視區NA內，特別是當遮光層120還設置於彎折部114上時，如果將習知的僅適用於可視區VA的抗反射層直接設置於彎折部114上，且位於遮光層120之相對側，一方面由於曲面鍍膜會導致抗反射層出現厚度不均勻，從而導致曲面區域的遮光層異色。另一方面，利用干涉原理達到抗反射作用的抗反射層，因為曲面的存在以及入射夾角較大的緣故，可能使反射光 無法順利干涉，進而無法正常運作，容易導致曲面區域的遮光層產生異色等相應的外觀缺陷。故習知適用於可視區VA的抗反射層則不再適用於彎折部114，不能真實呈現出遮光層120本來的顏色。本創作採用反射率差異較小的第一層體堆疊130覆蓋非可視區NA，藉由此設置，可以降低在非可視區NA的彎折部114上容易觀察到遮光層120異色問題的產生。

本實施方式的其他細節大致上如第1A圖之實施方式所述，在此不再贅述。

第3圖為根據本創作之再一實施方式之保護蓋板100之剖面圖。本實施方式與第1A圖之實施方式相似，差別在於：本實施方式中，保護蓋板100不包含第三層體堆疊150，且第二層體堆疊140為多層高低折射率搭配的抗反射堆疊。於此，第一層體堆疊130具有開口136，位於可視區VA內。第二層體堆疊140位於第一層體堆疊130之開口136內。第一層體堆疊130結合第二層體堆疊140全面覆蓋非可視區NA與可視區VA。

於本實施方式中，第二層體堆疊140包含多個第三折射率層142以及多個第四折射率層144，第三折射率層142與第四折射率層144彼此交錯。第三折射率層142的折射率大於第四折射率層144的折射率。於此，以折射率較小的第四折射率層144作為連接空氣的最外層，以降低反射率。

於本實施方式中，在可視區VA內，由第二層體堆疊140達到抗反射的效果。而在非可視區NA內，僅採用反射率差異較第二層體堆疊140小的第一層體堆疊130，以降低 在非可視區NA上容易觀察到異色的問題。本實施方式的其他細節大致上如第1A圖之實施方式所述，在此不再贅述。

第4圖為根據本創作之另一實施方式之保護蓋板100之剖面圖。本實施方式與第1A圖之實施方式相似，差別在於：本實施方式中，保護蓋板100僅包含第一層體堆疊130，不包含第三層體堆疊150與第二層體堆疊140(參照第1A圖)。第一層體堆疊130具有開口136，位於可視區VA內。

本實施方式中，於可視區VA內不採用任何層體堆疊。而在非可視區NA內，僅採用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在遮光層120上容易觀察到異色的問題。本實施方式的其他細節大致上如第1A圖之實施方式所述，在此不再贅述。

第5圖為根據本創作之又一實施方式之保護蓋板100之剖面圖。本實施方式與第4圖之實施方式相似，差別在於：本實施方式中，基板110包含平坦部112以及設置於平坦部112之至少一側的彎折部114，其中遮光層120與第一層體堆疊130至少設置於彎折部114之相對二側，彎折部114位於非可視區NA。第一層體堆疊130覆蓋彎折部114。

本實施方式中，於可視區VA內不採用任何層體堆疊。而在非可視區NA內，僅採用反射率差異較小的第一層體堆疊130，以降低在非可視區NA的彎折部114上容易觀察到異色的問題。本實施方式的其他細節大致上如第1A圖之實施方式所述，在此不再贅述。

第6A圖至第6D圖為根據本創作的一實施方式的 保護蓋板100於多個製造階段的剖面圖。以下製造流程可對應形成第2圖所示實施例的保護蓋板100，其它實施例的保護蓋板形成步驟可基本與此相同。

首先，參照第6A圖，提供基板110並形成遮光層120其上。基板110包含平坦部112以及設置於平坦部112之至少一側的彎折部114，且基板110具有相對設置的第一表面S1與第二表面S2。於此，將遮光層120形成於基板110之第一表面S1且位於彎折部114上，本實施例中，遮光層120還有部份位於平坦部112上。於本實施方式中，遮光層120具有遮光層開口122，以定義基板110之可視區VA與非可視區NA。彎折部114位於非可視區NA。於此，還形成覆膜200於基板110之第二表面S2，其中覆膜200包含位於可視區VA的鏤空部210。

於本實施方式中，覆膜200可以是具有離型能力的軟性薄膜基板，以利一次性地剝除覆膜200。覆膜200可與基板110直接接觸，而利用其離型能力黏貼至彎折部114上。或者，可以透過塗布液態膠體於彎折部114上，再透過固化或烘烤等方式而形成覆膜200。覆膜200的材料可以是固化後能一次性剝除的材料，舉例而言，覆膜200可以是樹脂。於本實施方式中，遮光層開口122與覆膜200之關系，可以存在其他多種變型，但一般情況下，鏤空部210在基板110上的正投影位於遮光層開口122之內或與遮光層開口122大致相同。

於其他實施方式中，覆膜200的材料可以是光阻。藉由設置光阻層於第二表面S2上，並以遮光層120做為光罩，使光線經過遮光層120之遮光層開口122而對光阻層進行 曝光，並且在顯影之後再透過濕式剝除或乾式剝除等方式移除受到曝光顯影後之光阻層，使剩餘的光阻層做為覆膜200。於部分實施方式中，由於遮光層120做為光阻層曝光過程的光罩，鏤空部210與遮光層120之遮光層開口122具有大致相同的圖案，即遮光層開口122與覆膜200之鏤空部210在基板110上的投影形狀與面積相同。

接著，參照第6B圖，形成至少一材料140’於覆膜200上，其中材料140’覆蓋覆膜200且填入鏤空部210。於本創作之多個實施方式中，可以透過沉積、塗佈等方式而將多個材料分層地填入鏤空部210，以構成多個層體，使得材料140’可以包含多個層體，例如氧化鈦層與二氧化矽層。

參照第6C圖，移除覆膜200以及位於覆膜200上的材料140’，使剩餘的材料140’(參考第6B圖)形成第二層體堆疊140，第二層體堆疊140位於基板110之第二表面S2且位於可視區VA內。

然後，參照第6D圖，形成第一層體堆疊130以及第三層體堆疊150於基板110之第二表面S2上。於此，相同地，可以透過沉積、塗佈等方式而形成第一層體堆疊130以及第三層體堆疊150。第一層體堆疊130至少位於非可視區NA，第三層體堆疊150位於可視區VA內。於本創作之多個實施方式中，形成第一層體堆疊130的步驟與形成第三層體堆疊150的步驟可同時進行。第三層體堆疊150與第一層體堆疊130的各個層體的材料以及製造過程大致相同。

於本創作之多個實施方式中，遮光層120與第一 層體堆疊130至少設置於彎折部114之相對二側，並不設置第二層體堆疊140於非可視區NA。如前所述，第二層體堆疊140相較於第三層體堆疊150可以具有較高的反射率，而第一層體堆疊130之反射率差異係配置小於第二層體堆疊140之反射率差異，藉以在不犧牲影響品質的情況下，改善前述的異色問題。

於本創作之多個實施方式中，在第二層體堆疊140的形成之後才形成第三層體堆疊150於其上，使得第二層體堆疊140係位於第三層體堆疊150與基板110之間。於此，第一層體堆疊130與第二層體堆疊140是直接設置於基板110上，而使第一層體堆疊130與第二層體堆疊140相鄰接，且第一層體堆疊130之底面130a對齊於第二層體堆疊140之底面140a。

於此，第一層體堆疊130與第三層體堆疊150可以包含多個層體，例如氧化矽層與氟化鎂層。在此，為了方便說明製程步驟，並未詳細繪示各個層體堆疊內的層體，本實施方式之各個層體堆疊的詳細結構可以參考第2圖之實施方式的結構，在此不再贅述。

於部分實施方式中，第三層體堆疊150並非必要之配置，可以透過蝕刻製程或其他方法，移除或省略第三層體堆疊150。本實施方式的其他細節大致上如第2圖之實施方式所述，在此不再贅述。

本創作之多個實施方式提供一種保護蓋板，藉由改變非可視區上的層體性質，使該位於非可視區的層體具有低反射率(反射率小於2.5%)，而使遮光層所在的非可視區具有 抗反射效果，同時該位於非可視區的層體於可見光內的抗反射效果接近一致(反射率差異小於2%)。如此一來，可以在不犧牲可視區的影像品質下降低非可視區的層體於遮光層上的反射率差異與遮光層異色的問題。

雖然本創作已以多種實施方式揭露如上，然其並非用以限定本創作，任何熟習此技藝者，在不脫離本創作之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧保護蓋板

110‧‧‧基板

120‧‧‧遮光層

122‧‧‧遮光層開口

130‧‧‧第一層體堆疊

130a‧‧‧底面

134‧‧‧第一折射率層

140‧‧‧第二層體堆疊

140a‧‧‧底面

142‧‧‧第三折射率層

144‧‧‧第四折射率層

150‧‧‧第三層體堆疊

154‧‧‧第五折射率層

S1‧‧‧第一表面

S2‧‧‧第二表面

VA‧‧‧可視區

NA‧‧‧非可視區

Claims (13)

1. 一種保護蓋板，包含：一基板，具有相對設置的一第一表面與一第二表面；一遮光層，設置於該基板之該第一表面，其中該遮光層具有一遮光層開口，以定義該基板之一可視區與一非可視區；以及一第一層體堆疊，設置於該基板之該第二表面且至少位於該非可視區，該第一層體堆疊於可見光波長範圍內對應不同波長之反射率差異小於2%，該第一層體堆疊在該非可視區於可見光波長範圍內之反射率小於2.5%。
2. 如請求項1所述之保護蓋板，其中該第一層體堆疊包含：一第一折射率層，其中該第一折射率層的折射率範圍為大約1.2至大約1.8。
3. 如請求項1所述之保護蓋板，更包含：一第二層體堆疊，設置於該基板之該第二表面且位於該可視區內，其中該第一層體堆疊與該第二層體堆疊相連，且該第二層體堆疊為一抗反射堆疊。
4. 如請求項1所述之保護蓋板，更包含一第二層體堆疊與一第三層體堆疊，設置於該基板之該第二表面且位於該可視區，其中該第二層體堆疊係位於該第三層體堆疊 與基板之間，該第二層體堆疊鄰近該第三層體堆疊的一層體的折射率大於該第三層體堆疊鄰近該第二層體堆疊的一層體的折射率。
5. 如請求項4所述之保護蓋板，其中該第三層體堆疊與該第一層體堆疊的材料相同，且該第三層體堆疊與該第一層體堆疊為同一製程形成。
6. 如請求項4所述之保護蓋板，其中位於該可視區的相疊之該第三層體堆疊與該第二層體堆疊之反射率小於位於該非可視區的第一層體堆疊之反射率。
7. 如請求項6所述之保護蓋板，其中位於該可視區的相疊之該第三層體堆疊與該第二層體堆疊於可見光波長範圍內之反射率小於1%。
8. 如請求項4所述之保護蓋板，其中該第一層體堆疊具有一開口，位該可視區內，該第二層體堆疊位於該第一層體堆疊之該開口內。
9. 如請求項4所述之保護蓋板，其中該第二層體堆疊包含：複數個第三折射率層；以及至少一第四折射率層，其中每二個該些第三折射率層由 該第四折射率層間隔開來，其中該些第三折射率層之一鄰接該基板，其中該第三折射率層的折射率大於該第四折射率層與該第一層體堆疊的一第一折射率層的折射率。
10. 如請求項9所述之保護蓋板，其中該些第三折射率層的折射率範圍為大約2.2至大約2.4之間，該第四折射率層的折射率範圍為大約1.4至大約1.6之間。
11. 如請求項1所述之保護蓋板，其中該第一層體堆疊具有一開口，位於該可視區內。
12. 如請求項1至11任意一項所述之保護蓋板，其中該基板包含一平坦部以及設置於該平坦部之至少一側的一彎折部，其中該遮光層與該第一層體堆疊至少設置於該彎折部之相對二側，該彎折部位於該非可視區。
13. 如請求項1所述之保護蓋板，其中該第一層體堆疊之一第一折射率層的材料為氟化鎂。