JP2013250295A - 反射防止膜、光学系、光学機器、及び反射防止膜の成膜方法 - Google Patents

反射防止膜、光学系、光学機器、及び反射防止膜の成膜方法 Download PDF

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Abstract

【課題】可視光から赤外域(波長範囲400nm〜1600nm)までの帯域を持つ反射防止膜を提供する。
【解決手段】高屈折率物質と、高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層し、低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を最表層に積層して12層としている。基板側から順に、第1、3、5、7、9、11層に高屈折率物質を、第2、4、6、8、10層に低屈折率物質を、第12層に超低屈折率物質を積層している。
【選択図】図2

Description

本発明は、反射防止膜、この反射防止膜を有する光学系、この光学系を有する光学機器、及び反射防止膜の成膜方法に関するものである。
近年、医療、化学分野において、細胞等の観察対象に蛍光たんぱく質を含む試薬を投与し、ある一定の波長の光をあてると、試薬から別の波長の蛍光が励起され、この蛍光によって対象の観察を行うことができる蛍光顕微鏡の用途が拡大している。そのような蛍光顕微鏡の一つとして、多光子吸収顕微鏡がある。
多光子吸収顕微鏡は、励起光として高出力を得る目的から、高次、例えば2次のレーザ光を用いる。ここでは、可視光励起のために用いるレーザ光の波長は、赤外光が好ましい。
この場合、多光子吸収顕微鏡の光学系は、観察用の蛍光(可視光)と、蛍光を発生させる励起レーザ光としての近赤外光と、を透過させる必要がある。そのため、可視光から近赤外光を透過させる反射防止膜が必要とされてきた。ここで、励起光としてのレーザ光は、蛍光観察波長の約2倍の波長が必要になる。蛍光観察では、使用される試薬によって観察に使われる波長が決定する。使用される可視光の波長はおおよそ500nm前後であるので、反射防止膜は、可視光から近赤外(約1000nm)までの波長の光を透過することが好ましい。
一般的な反射防止膜として、可視光(波長範囲400nm〜680nm)を透過させるものであって、3層構成の設計が知られている。また、特許文献1では可視光を含まない近赤外域光のみを透過させる反射防止膜が提案されている。さらにまた、可視光が必要な場合には近赤外域の光を遮断することが求められるため、特許文献2のように、可視光は透過させ、近赤外域の光は反射させる、という特性の反射防止膜が提案されている。また、可視光から近赤外域光を透過させる反射防止膜としては、特許文献3において波長範囲400nm〜1100nmまで透過させる反射防止膜が得られている。
特開2005−275294号公報 特開平9−325211号公報 特開2005−338366号公報
多光子吸収顕微鏡においては、観察対象の表面だけでなく、内部の観察を行うことができる。多光子吸収顕微鏡を用いて観察対象の内部観察を行うとき、その深部を観察するには、より長波長のレーザ光を励起光に使用することが有効となる。また、大気の光吸収などを考慮すると、波長1600nmまでの長波長のレーザ光を使用できると良い。つまり、波長範囲400nm〜1600nmという範囲の透過帯域があることが望ましい。したがって、従来の多光子吸収顕微鏡においては、観察を行うための対物レンズに波長範囲400nm〜1600nmの反射防止膜が必要となる。
しかし、上述のように、特許文献1に記載されている反射防止膜では、可視光か近赤外域かのどちらか一方の光しか透過させることができない。また、特許文献3に記載されている反射防止膜では透過帯域の幅が足りず、波長1350nmで反射率7%、波長1600nmでは反射率16%となっており、レンズや基板以上の反射率となっているため、反射防止膜の役目を果たしていない。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、可視光から赤外域(波長範囲400nm〜1600nm)までの帯域を持つ反射防止膜を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る反射防止膜は、高屈折率物質と、高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層し、低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を最表層に積層して12層としたことを特徴としている。
本発明に係る光学系は、上述の反射防止膜を有する1枚以上の光学基板で構成されたことを特徴としている。
本発明に係る光学機器は、上述の光学系を有することを特徴としている。
本発明に係る反射防止膜の成膜方法は、基板上に、高屈折率物質と、高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層する第1成膜工程と、低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を、ウエットコートによって最表層に積層する第2成膜工程と、を備えることを特徴としている。
本発明に係る反射防止膜は、可視光から赤外域(波長範囲400nm〜1600nm)までの帯域を持つ反射防止膜を提供することができる。
また、最表層にウエットコートによる層を形成し、他の層に誘電体多層膜を積層した構成により、波長範囲400nm〜1600nmで1%以下の反射率の反射防止膜を実現することができる。この反射防止膜を光学部品に成膜することで、励起光として、より長波長のレーザ光を使用することができ、観察対象の内部観察において、より深部の観察を行うことができる。
本発明の実施形態に係る多光子吸収顕微鏡の概略構成を示す図である。 実施例1、実施例2、実施例3、及び実施例4に係る反射防止膜の層構成を示す表である。 実施例1、実施例2、実施例3、及び実施例4に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。 実施例1に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例2に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例3に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例4に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例5及び実施例6に係る反射防止膜の層構成を示す表である。 実施例5及び実施例6に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。 実施例5に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例6に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例7及び実施例8に係る反射防止膜の層構成を示す表である。 実施例7及び実施例8に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。 実施例7に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。 実施例8に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
以下に、本発明に係る反射防止膜、この反射防止膜を有する光学系、この光学系を有する光学機器、及び反射防止膜の成膜方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態によりこの発明が限定されるものではない。
図1は、本発明の光学機器の実施形態に係る多光子吸収顕微鏡の概略構成を示す図である。
図1に示す多光子吸収顕微鏡においては、レーザ光源101で発振させた短パルスレーザ光を多層膜フィルタ102で反射させ、光学系110を介して、観察台103上に置いた観察対象Sに照射する。このレーザ光の照射によって観察対象Sで発生した励起光は、多層膜フィルタ102を透過して観察者Bによる観察が可能となる。
光学系110には、反射防止膜が形成されており、波長範囲400nm〜1600nmの光に対して1%以下の反射率を有している。
この反射防止膜は、基板上に順に積層された12層からなり、基板から最も離れた第12層(最表層)は、超低屈折率物質である中空シリカを主成分とし、ウエットコートによって形成される超低屈折率層である。ウエットコートの形成方法としては、例えば、スピンコート、ディッピング、スプレー、インクジェット、スリットウォーターが使用可能である。また、ウエットコートによる超低屈折率層の屈折率は1.20〜1.29の間で任意の値に設定できる。
第1層〜第11層は、誘電体多層膜を順に積層してなる。この第1層〜第11層は、例えば、真空蒸着、IAD(Ion Assisted Deposition)、プラズマによるアシスト、スパッタリング、イオンビームスパッタによって成膜する(第1成膜工程)。この成膜の後に、最表層として、第11層上に超低屈折率物質を積層する(第2成膜工程)。
本実施形態の多光子吸収顕微鏡における光学系は、多光子吸収顕微鏡用の対物レンズに用いることが望ましいが、カメラ、眼鏡、望遠鏡等の光学機器のレンズ、プリズム、フィルタに対しても適用することができる。
次に、本発明の実施形態に係る反射防止膜の構成・作用・効果について説明する。
本発明の実施形態の反射防止膜は、高屈折率物質と、高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層し、低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を最表層に積層して12層としたことを特徴としている。
本発明の実施形態の反射防止膜において、基板側から順に、第1、3、5、7、9、11層に高屈折率物質を、第2、4、6、8、10層に低屈折率物質を、第12層に超低屈折率物質を積層することが好ましい。
本発明の実施形態の反射防止膜において、基板から11番目の層(第11層)の光学膜厚は、反射防止膜の全体の光学膜厚の4%以下であることが好ましい。
本発明の実施形態の反射防止膜においては、各層において、屈折率nと物理膜厚dの積で表される光学膜厚ndが、次の各式を満足することが好ましい。
第1層 0.02<nd<0.11
第2層 0.03<nd<0.22
第3層 0.06<nd<0.26
第4層 0.03<nd<0.18
第5層 0.09<nd<0.32
第6層 0.02<nd<0.16
第7層 0.10<nd<0.73
第8層 0.05<nd<0.17
第9層 0.06<nd<0.15
第10層 0.16<nd<0.27
第11層 0.02<nd<0.06
第12層 0.32<nd<0.39
各層における光学膜厚ndが、上記各式を満足しない場合は、波長範囲400nm〜1600nmの光に対して1%以下の反射率を実現することが難しくなる。
本発明の実施形態の反射防止膜において、高屈折率物質はTiO、Ta、HfO、Nb、又はそれらとLa、Zrの混合物であり、低屈折率物質はSiO、MgF、又はそれらの混合物であることが好ましい。
本発明の実施形態の反射防止膜において、超低屈折率物質の屈折率は1.20〜1.29であることが好ましい。
屈折率が1.20を下回ると適用可能な物質の選択が困難となり、1.29を上回ると、波長範囲400nm〜1600nmの光に対して1%以下の反射率を実現することが難しくなる。
本発明の実施形態の反射防止膜において、基板の屈折率は1.44〜1.88の範囲であることが好ましい。
基板の屈折率が1.44〜1.88の範囲外となると、波長範囲400nm〜1600nmの光に対して1%以下の反射率を実現することが難しくなる。
本発明の実施形態の反射防止膜において、超低屈折率物質は、ウエットコートによって膜を形成することが好ましい。
本発明の実施形態の光学系は、上述のいずれかの反射防止膜を有する1枚以上の光学基板で構成されたことを特徴としている。
本発明の実施形態の光学機器は、上述の光学系を有することを特徴としている。
本発明の実施形態の反射防止膜の成膜方法は、基板上に、高屈折率物質と、高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層する第1成膜工程と、低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を、ウエットコートによって最表層に積層する第2成膜工程と、を備えることを特徴としている。
本発明の実施形態の反射防止膜の成膜方法において、第1成膜工程においては、真空蒸着、IAD、プラズマによるアシスト、スパッタリング、又はイオンビームスパッタによって成膜することが好ましい。
つづいて、本発明の実施形態に係る反射防止膜の実施例について説明する。
(実施例1〜4)
図2は、実施例1、実施例2、実施例3、及び実施例4に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図3は、実施例1、実施例2、実施例3、及び実施例4に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。図4は、実施例1に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図5は、実施例2に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図6は、実施例3に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図7は、実施例4に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
図2においては、設計波長550nmにおける各層の光学膜厚を示している。光学膜厚は、各層の屈折率nと物理膜厚dの積であって、設計波長/4=0.25で表している。
図3は、基板の屈折率が、図3に示す基板屈折率範囲の最小値である場合と最大値である場合のそれぞれについて、最大反射率を示している。これらの最大反射率は、波長範囲400nm〜1600nmにおける最大反射率である。
図4においては、基板の屈折率nが1.44である場合を実線で示し、1.55である場合を破線で示している。
図5においては、基板の屈折率nが1.55である場合を実線で示し、1.70である場合を破線で示している。
図6においては、基板の屈折率nが1.70である場合を実線で示し、1.81である場合を破線で示している。
図7においては、基板の屈折率nが1.81である場合を実線で示し、1.88である場合を破線で示している。
実施例1〜4の反射防止膜は、図2に示すように、基板上に、高屈折率物質としてのTa(屈折率n=2.22)と、低屈折率物質としてのSiO(屈折率n=1.45)と、を交互に積層させて11層とし、さらに基板から遠い側に超低屈折率物質を積層させた、12層の積層体である。
高屈折率物質としてのTaは、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層の高屈折率層として配置され、低屈折率物質としてのSiOは、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、及び第10層の低屈折率層として配置され、超低屈折率物質は第12層(最表層、超低屈折率層)として配置されている。
ここで、積層体の各層において、屈折率nと物理膜厚dの積である光学膜厚が、次の各式を満足している。
第1層 0.02<nd<0.11
第2層 0.03<nd<0.22
第3層 0.06<nd<0.26
第4層 0.03<nd<0.18
第5層 0.09<nd<0.32
第6層 0.02<nd<0.16
第7層 0.10<nd<0.73
第8層 0.05<nd<0.17
第9層 0.06<nd<0.15
第10層 0.16<nd<0.27
第11層 0.02<nd<0.06
第12層 0.32<nd<0.39
(実施例1)
図4に示すように、実施例1の反射防止膜は、屈折率1.44及び屈折率1.55のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.44と屈折率1.55の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図3に示すように、屈折率が最小(n=1.44)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.84%であり、屈折率が最大(n=1.55)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.92%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例2)
図5に示すように、実施例2の反射防止膜は、屈折率1.55及び屈折率1.70のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.55と屈折率1.70の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図3に示すように、屈折率が最小(n=1.55)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.97%であり、屈折率が最大(n=1.70)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.97%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例3)
図6に示すように、実施例3の反射防止膜は、屈折率1.70及び屈折率1.81のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.70と屈折率1.81の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図3に示すように、屈折率が最小(n=1.70)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.98%であり、屈折率が最大(n=1.81)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.93%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例4)
図7に示すように、実施例4の反射防止膜は、屈折率1.81及び屈折率1.88のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.81と屈折率1.88の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図3に示すように、屈折率が最小(n=1.81)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.84%であり、屈折率が最大(n=1.88)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.95%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例5〜6)
図8は、実施例5及び実施例6に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図9は、実施例5及び実施例6に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。図10は、実施例5に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図11は、実施例6に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
図8においては、設計波長550nmにおける各層の光学膜厚を示している。光学膜厚は、各層の屈折率nと物理膜厚dの積であって、設計波長/4=0.25で表している。
図9は、基板の屈折率が、図8に示す基板屈折率範囲の最小値である場合と最大値である場合のそれぞれについて、最大反射率を示している。これらの最大反射率は、波長範囲400nm〜1600nmにおける最大反射率である。
図10においては、基板の屈折率nが1.70である場合を実線で示し、1.45である場合を破線で示し、1.88である場合を一点鎖線で示している。図11においては、基板の屈折率nが1.44である場合を実線で示し、1.88である場合を破線でそれぞれ示している。
実施例5〜6の反射防止膜は、図8に示すように、基板上に、高屈折率物質としてのHfO(屈折率n=1.99)と、低屈折率物質としてのSiO(屈折率n=1.45)と、を交互に積層させて11層とし、さらに基板から遠い側に超低屈折率物質を積層させた、12層の積層体である。
高屈折率物質としてのHfOは、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層の高屈折率層として配置され、低屈折率物質としてのSiOは、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、及び第10層の低屈折率層として配置され、超低屈折率物質は第12層(最表層、超低屈折率層)として配置されている。
ここで、積層体の各層において、屈折率nと物理膜厚dの積である光学膜厚が、次の各式を満足している。
第1層 0.02<nd<0.11
第2層 0.03<nd<0.22
第3層 0.06<nd<0.26
第4層 0.03<nd<0.18
第5層 0.09<nd<0.32
第6層 0.02<nd<0.16
第7層 0.10<nd<0.73
第8層 0.05<nd<0.17
第9層 0.06<nd<0.15
第10層 0.16<nd<0.27
第11層 0.02<nd<0.06
第12層 0.32<nd<0.39
(実施例5)
図10に示すように、実施例5の反射防止膜は、屈折率1.44、1.70、及び1.88のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.44、1.70、1.88の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図9に示すように、屈折率が最小(n=1.44)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.80%であり、屈折率が中間(n=1.70)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.81%であり、屈折率が最大(n=1.88)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.82%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例6)
図11に示すように、実施例6の反射防止膜は、屈折率1.44及び屈折率1.88のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.44と屈折率1.88の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図9に示すように、屈折率が最小(n=1.44)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.86%であり、屈折率が最大(n=1.88)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.95%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例7〜8)
図12は、実施例7及び実施例8に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図13は、実施例7及び実施例8に係る反射防止膜の最大反射率を示す表である。図14は、実施例7に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図15は、実施例8に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
図12においては、設計波長550nmにおける各層の光学膜厚を示している。光学膜厚は、各層の屈折率nと物理膜厚dの積であって、設計波長/4=0.25で表している。
図13は、基板の屈折率が、図12に示す基板屈折率範囲の最小値である場合と最大値である場合のそれぞれについて、最大反射率を示している。これらの最大反射率は、波長範囲400nm〜1600nmにおける最大反射率である。
図14においては、基板の屈折率nが1.44である場合を実線で示し、1.88である場合を破線で示している。
図15においては、基板の屈折率nが1.44である場合を実線で示し、1.88である場合を破線で示している。
実施例7〜8の反射防止膜は、図12に示すように、基板上に、高屈折率物質としてのTiO(屈折率n=2.22)と、低屈折率物質としてのMgF(屈折率n=1.38)と、を交互に積層させて11層とし、さらに基板から遠い側に超低屈折率物質を積層させた、12層の積層体である。
高屈折率物質としてのTiOは、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層の高屈折率層として配置され、低屈折率物質としてのMgFは、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、及び第10層の低屈折率層として配置され、超低屈折率物質は第12層(最表層、超低屈折率層)として配置されている。
ここで、積層体の各層において、屈折率nと物理膜厚dの積である光学膜厚が、次の各式を満足している。
第1層 0.02<nd<0.11
第2層 0.03<nd<0.22
第3層 0.06<nd<0.26
第4層 0.03<nd<0.18
第5層 0.09<nd<0.32
第6層 0.02<nd<0.16
第7層 0.10<nd<0.73
第8層 0.05<nd<0.17
第9層 0.06<nd<0.15
第10層 0.16<nd<0.27
第11層 0.02<nd<0.06
第12層 0.32<nd<0.39
(実施例7)
図14に示すように、実施例7の反射防止膜は、屈折率1.44及び屈折率1.88のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.44と屈折率1.88の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図13に示すように、屈折率が最小(n=1.44)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.91%であり、屈折率が最大(n=1.88)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.80%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(実施例8)
図15に示すように、実施例8の反射防止膜は、屈折率1.44及び屈折率1.88のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜1600nmで反射率が1%以下となっている。屈折率1.44と屈折率1.88の間の範囲の屈折率の基板においても同様である。
具体的には、図13に示すように、屈折率が最小(n=1.44)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.93%であり、屈折率が最大(n=1.88)の基板に形成した反射防止膜では、最大反射率は0.92%であって、最大反射率は1%を超えていない。
(変形例)
上述の実施例1〜8において、光学部品の表面との密着度を高めたり、反射防止膜を施した光学部品の最表層の撥水性・防曇性・耐久性を高めるなどの目的で、光学部品と第1層との間、及び/又は、第12層のさらに外側に、光学特性に大きな影響を与えない範囲内で、別の層を付与してもよい。例えば、第12層の外側にSiOのオーバーコートを行ってもよい。
以上のように、本発明に係る反射防止膜は、対物レンズに可視光から赤外域までの波長範囲の反射防止膜が必要となる多光子吸収顕微鏡に有用である。
101 レーザ光源
102 多層膜フィルタ
103 観察台
110 光学系
S 観察対象

Claims (12)

  1. 高屈折率物質と、前記高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層し、前記低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を最表層に積層して12層としたことを特徴とする反射防止膜。
  2. 基板側から順に、第1、3、5、7、9、11層に前記高屈折率物質を、第2、4、6、8、10層に前記低屈折率物質を、第12層に前記超低屈折率物質を積層したことを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
  3. 基板から11番目の層の光学膜厚は、前記反射防止膜の全体の光学膜厚の4%以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
  4. 各層において、屈折率nと物理膜厚dの積で表される光学膜厚ndが、次の各式を満足することを特徴とする請求項2に記載の反射防止膜。
    第1層 0.02<nd<0.11
    第2層 0.03<nd<0.22
    第3層 0.06<nd<0.26
    第4層 0.03<nd<0.18
    第5層 0.09<nd<0.32
    第6層 0.02<nd<0.16
    第7層 0.10<nd<0.73
    第8層 0.05<nd<0.17
    第9層 0.06<nd<0.15
    第10層 0.16<nd<0.27
    第11層 0.02<nd<0.06
    第12層 0.32<nd<0.39
  5. 前記高屈折率物質はTiO、Ta、HfO、Nb、又はそれらとLa、Zrの混合物であり、前記低屈折率物質はSiO、MgF、又はそれらの混合物であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の反射防止膜。
  6. 前記超低屈折率物質の屈折率は1.20〜1.29であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の反射防止膜。
  7. 前記基板の屈折率は1.44〜1.88の範囲であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の反射防止膜。
  8. 前記超低屈折率物質は、ウエットコートによって膜を形成したことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の反射防止膜。
  9. 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の反射防止膜を有する1枚以上の光学基板で構成されたことを特徴とする光学系。
  10. 請求項9に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
  11. 基板上に、高屈折率物質と、前記高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を交互に積層する第1成膜工程と、
    前記低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を、ウエットコートによって最表層に積層する第2成膜工程と、
    を備えることを特徴とする反射防止膜の成膜方法。
  12. 前記第1成膜工程においては、真空蒸着、IAD、プラズマによるアシスト、スパッタリング、又はイオンビームスパッタによって成膜することを特徴とする請求項11に記載の反射防止膜の成膜方法。
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