JP2004309934A - 赤外線カットフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
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Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 108
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 99
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 75
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
Abstract
【解決手段】高屈折薄膜210と低屈折薄膜220とが交互に複数積層された16層以上32層以下の多層膜200を、ガラス基板100上に成膜した赤外線カットフィルタ10は、ガラス基板100側から第1層は高屈折薄膜210であり、最終層は低屈折薄膜220であり、設計波長をλとするとき、第1層および第2層は(λ/4)以上の、第3層ないし所定の層は(λ/4)以下の、所定の層と最終層との間の層は(λ/4)以上の、最終層は(λ/4)以下の光学膜厚でそれぞれ成膜される。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、固体撮像素子等を備えた撮像機器に用いられる赤外線カットフィルタおよびその製造方法に関し、詳しくは、光学多層膜を用いた反射タイプの赤外線カットフィルタおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
人間の視覚が波長700ナノメートル(以下、nmと表記する)程度を超える赤外線を感じない感度特性であるのに対し、CCD(Charge Coupled Device)は波長1100nm程度までの赤外線を感じる感度特性を有する。そのため、CCDなどの固体撮像素子等を備えた撮像機器には、赤外線カットフィルタが用いられている。この赤外線カットフィルタは、可視光を透過するとともに、赤外線の透過を抑制する特性を有する。これによって、撮像機器は、CCD等による赤外線の撮像を抑制し、人間の視覚の感度特性に近い画像を得ることができる。
【0003】
赤外線カットフィルタとしては、吸収タイプと反射タイプとがある。このうち吸収タイプの赤外線カットフィルタは、赤外線を吸収する金属イオンをガラスに含有させたものである。この吸収タイプは、波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を有する。この透過率特性によって、人間の視覚の感度特性に近い自然な色再現が可能であるが、良好な透過率特性を得るためには、ガラスの厚さを所定の厚み以上にする必要があり、撮像機器のコンパクト化を困難にしていた。
【0004】
一方、反射タイプの赤外線カットフィルタは、赤外線を反射する光学多層膜をガラスに成膜したものである。この反射タイプは、撮像機器が備える他の光学部品に多層膜をコーティングすることによって実現でき、多層膜の厚さも薄いため、撮像機器をコンパクトにすることは容易である。しかし、通常の光学多層膜フィルタは、透過帯域から不透過帯域にかけて透過率が急減する透過率特性であるため、人間の視覚の感度特性に近い自然な色再現が困難であるという問題があった。
【0005】
従来、かかる透過率特性の問題を解決した反射タイプの赤外線カットフィルタが知られている。この赤外線カットフィルタは、34層以上で構成された光学多層膜の各層をそれぞれ所定の光学膜厚で成膜することによって、吸収タイプの赤外線カットフィルタと同様に波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を有する。
【0006】
下記文献には、波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を有する反射タイプの赤外線カットフィルタが記載されている。
【特許文献1】
特開2000−314808号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、かかる反射タイプの赤外線カットフィルタは、34層以上と多くの薄膜の層によって光学多層膜を構成する必要がある。そのため、各層に生じる成膜時の光学膜厚のばらつきが、光学多層膜全体としての透過率特性に与える影響が大きくなってしまう。その結果、安定した透過率特性を有する製品を製造することが困難であった。したがって、かかる赤外線カットフィルタの製造にかかる時間やコストが増加してしまう問題があった。
【0008】
本発明は、上記した問題点を解決するためになされたものであり、製造にかかる時間やコストを削減し、製造効率を向上させることができる反射タイプの赤外線カットフィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上記した課題を解決するため、本発明の赤外線カットフィルタは、高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した赤外線カットフィルタであって、前記多層膜は、16以上32以下の前記薄膜の層から構成され、前記多層膜の前記透明基板側から第1層は、前記高屈折率薄膜であり、前記多層膜の最終層は、前記低屈折率薄膜であり、設計波長をλとするとき、前記多層膜の前記透明基板側から第1層および第2層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜され、前記多層膜の前記透明基板側から第3層ないし所定の層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜され、前記所定の層と前記最終層との間の層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜され、前記最終層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されたことを特徴とする。
【0010】
かかる赤外線カットフィルタによれば、16層以上32層以下の光学多層膜によっても、波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を得ることができる。そのため、光学薄膜を34層以上積層していた従来の赤外線カットフィルタと比べて、各層に生じる成膜時の光学膜厚のばらつきが透過率特性に与える影響を抑制することができる。その結果、安定した製品を製造する困難性を緩和することができる。したがって、赤外線カットフィルタの製造にかかる時間やコストを削減し、製造効率を向上させることができる。
【0011】
上記の構成を有する本発明の赤外線カットフィルタは、以下の態様を採ることもできる。前記所定の層は、前記多層膜の前記透明基板側から第6層または第7層とすることができる。かかる赤外線カットフィルタによれば、人間の視覚により近い透過率特性を得ることができる。
【0012】
また、中間屈折率材料から成る中間屈折率薄膜を、前記透明基板と前記多層膜との間に設けても良い。かかる赤外線カットフィルタによれば、剥離材を用いて透明基板と多層膜とを容易に剥離することができる。その結果、多層膜の成膜を失敗した場合であっても、再成膜を容易に行うことができる。また、透明基板と多層膜との密着性を向上させることができる。また、透明基板と第1層の高屈折率薄膜との屈折率差に起因する可視帯域における透過率のリップルを抑制することができる。
【0013】
また、前記高屈折率薄膜は、TiO2から成り、前記低屈折率薄膜は、SiO2またはMgF2から成るとしても良い。また、前記中間屈折率薄膜は、Al2O3から成るとしても良い。これらの材料の成膜技術は、一般に知られ実施されている。そのため、特殊な成膜技術を用いることなく既存設備を利用して製造することができる。
【0014】
また、本発明の赤外線カットフィルタの製造方法は、高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した赤外線カットフィルタの製造方法であって、16以上32以下の前記多層膜を構成する前記薄膜を、前記透明基板上に積層する工程を有し、設計波長をλとするとき、前記多層膜の前記透明基板側から第1層は、前記高屈折率薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、前記多層膜の前記透明基板側から第2層は、前記低屈折率薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、前記多層膜の前記透明基板側から第3層ないし所定の層は、各々の前記薄膜を(λ/4)以下の光学膜厚で成膜し、前記所定の層と、前記多層膜の前記透明基板側から最終層との間の層は、各々の前記薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、前記最終層は、前記低屈折率薄膜を(λ/4)以下の光学膜厚で成膜することを特徴とする。
【0015】
かかる赤外線カットフィルタの製造方法によれば、16層以上32層以下の多層膜を成膜することによって、波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を有する赤外線カットフィルタを製造することができる。そのため、光学薄膜を34層以上積層していた従来の赤外線カットフィルタと比べて、各層に生じる成膜時の光学膜厚のばらつきが透過率特性に与える影響を抑制することができる。その結果、安定した製品を製造する困難性を緩和することができる。したがって、赤外線カットフィルタの製造にかかる時間やコストを削減し、製造効率を向上させることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以上説明した本発明の構成及び作用を一層明らかにするために、以下本発明を適用した赤外線カットフィルタの一実施形態について説明する。
【0017】
はじめに、本発明の一形態である第1ないし第6の実施例における赤外線カットフィルタ10について説明する。図1は、第1ないし第6の実施例における赤外線カットフィルタ10の概略構成を示す説明図である。赤外線カットフィルタ10は、高屈折率材料から成る高屈折率薄膜210と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜220とが交互に複数積層された多層膜200を、ガラス基板100上に成膜して構成されている。この多層膜200は、16以上26以下のこれらの薄膜の層から構成されている。ガラス基板100側から数えて多層膜200の第1層は高屈折率薄膜210であり、最終層(図1に示す第n層)は低屈折率薄膜220である。即ち、多層膜200は、16以上32以下の偶数の層から構成され、これらの層のうち、奇数層が高屈折率薄膜210であり、偶数層が低屈折率薄膜220である。以下の説明では、多層膜200を構成する薄膜の層を、ガラス基板100側から順に第1層,第2層,・・・,最終層という。
【0018】
ガラス基板100は、透明な水晶である。なお、このガラス基板100は、光学ローパスフィルタなどの光学部品であっても良い。高屈折率薄膜210には、高屈折率材料として二酸化チタン(TiO2)が用いられている。低屈折率薄膜220には、低屈折率材料として二酸化ケイ素(SiO2)が用いられている。
【0019】
次に、第1ないし第6の実施例における多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚について説明する。図2は、第1の実施例における16層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図3は、第2の実施例における18層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図4は、第3の実施例における20層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図5は、第4の実施例における22層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図6は、第5の実施例における24層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図7は、第6の実施例における26層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図2ないし図7には、多層膜200を構成する薄膜の層ごとに、「層」,「材料」,「光学膜厚」が示されている。この「光学薄膜」の値は、各層の内部での光の波長を1とした場合の厚さを示す。
【0020】
図2ないし図7に示す多層膜200を構成する各薄膜は、設計波長λを750nmとして、(λ/4)を中心とした光学膜厚で成膜されている。多層膜200の第1層および第2層は、(λ/4)以上の光学薄膜で成膜されている。第3層ないし所定の層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。この所定の層は、図4に示す第3実施例における20層の多層膜200では第7層であり、第3実施例を除く多層膜200では第6層である。この所定の層と最終層との間の層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜されている。最終層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。なお、各層の物理的な膜厚は、「(設計波長λ)×(光学膜厚)/(薄膜の材料の屈折率)」で表される。ここで、二酸化チタン(TiO2)の屈折率は、「約2.3」であり、二酸化ケイ素(SiO2)の屈折率は、「約1.46」であることが知られている。
【0021】
次に、第1ないし第6の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性について説明する。図8は、第1ないし第6の実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10のそれぞれの透過率特性を示す説明図である。図8は、横軸に光の波長をとり、縦軸に透過率をとる。図8中の曲線La〜Lfは、図2ないし図7に示した多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10のそれぞれの透過率特性を示す。図8中の曲線Lgは、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性を示す。即ち、曲線Lgは、人間の視覚の感度特性に近い自然な色再現をする上で理想的な透過率特性を示す。
【0022】
図8に示すように、それぞれの赤外線カットフィルタ10の透過率特性La〜Lfは、波長帯域400〜550nmで透過率が90%以上である。波長帯域550〜750で透過率が漸減して、波長帯域750〜1050nmで透過率がほぼ10%以下に収まる。このように、第1ないし第6の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性La〜Lfは、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性Lgとほぼ同様の特性を有する。なお、図8から明らかな通り、より多くの薄膜の層で構成した多層膜200ほど、透過率特性のリップルを抑制することができる。
【0023】
以上説明した第1ないし第6の実施例の赤外線カットフィルタ10によれば、16層以上26層以下の多層膜200によっても、波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を得ることができる。そのため、光学薄膜を34層以上積層していた従来の赤外線カットフィルタと比べて、各層に生じる成膜時の光学膜厚のばらつきが透過率特性に与える影響を抑制することができる。その結果、安定した製品を製造する困難性を緩和することができる。したがって、赤外線カットフィルタの製造にかかる時間やコストを削減し、製造効率を向上させることができる。なお、第1ないし第6の実施例では、16層以上26層以下の多層膜200を示したが、28層以上32層以下の多層膜200についても、同様の透過率特性を得ることができる。また、各層の光学膜厚の値は、図2ないし図7に示した値に限るものではなく、得ようとする透過率特性や製造効率などを考慮して、前述した各層の膜厚の条件範囲で種々の変更が可能である。
【0024】
次に、第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10について説明する。第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10は、低屈折率薄膜220に低屈折率材料としてフッ化マグネシウム(MgF2)が用いられている点が第2および第3の実施例と異なり、その他の構成は同様である。第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10の概略構成は、前述の図1に示した通りである。高屈折率薄膜210には、高屈折率材料として二酸化チタン(TiO2)が用いられている。低屈折率薄膜220には、低屈折率材料として二酸化ケイ素(SiO2)に変えてフッ化マグネシウム(MgF2)が用いられている。
【0025】
次に、第7および第8の実施例における多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚について説明する。図9は、第7の実施例における18層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図10は、第8の実施例における20層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図9および図10には、多層膜200を構成する薄膜の層ごとに、「層」,「材料」,「光学膜厚」が示されている。この「光学薄膜」の値は、各層の内部での光の波長を1とした場合の厚さを示す。
【0026】
図9および図10に示す多層膜200を構成する各薄膜は、設計波長λを750nmとして、(λ/4)を中心とした光学膜厚で成膜されている。多層膜200の第1層および第2層は、(λ/4)以上の光学薄膜で成膜されている。第3層ないし第6層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。第6層と最終層との間の層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜されている。最終層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。なお、各層の物理的な膜厚は、「(設計波長λ)×(光学膜厚)/(薄膜の材料の屈折率)」で表される。ここで、二酸化チタン(TiO2)の屈折率は、「約2.3」であり、フッ化マグネシウム(MgF2)の屈折率は、「約1.38」であることが知られている。
【0027】
次に、第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性について説明する。図11は、第7および第8の実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10のそれぞれの透過率特性を示す説明図である。図11は、横軸に光の波長をとり、縦軸に透過率をとる。図11中の曲線Lhは、図9に示した第7実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10の透過率特性を示す。図11中の曲線Liは、図10に示した第8実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10の透過率特性を示す。図11中の曲線Lgは、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性を示す。
【0028】
図11に示すように、第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性Lh,Liは、波長帯域400〜550nmで透過率が90%以上である。波長帯域550〜750で透過率が漸減して、波長帯域750〜1050nmで透過率がほぼ10%以下に収まる。このように、第7および第8の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性Lh,Liは、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性Lgとほぼ同様の特性を有する。
【0029】
以上説明した第7および第8の実施例の赤外線カットフィルタ10によれば、第1ないし第6の実施例と同様の効果を奏することができる。なお、第7および第8の実施例においては、18層および20層の多層膜200を示したが、16層および22層以上32層以下の多層膜200についても、同様の透過率特性を得ることができる。また、各層の光学膜厚の値は、図9および図10に示した値に限るものではなく、得ようとする透過率特性や製造効率などを考慮して、前述した各層の膜厚の条件範囲で種々の変更が可能である。
【0030】
次に、第9の実施例における赤外線カットフィルタ30について説明する。図12は、第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の概略構成を示す説明図である。第9の実施例における赤外線カットフィルタ30は、ガラス基板100と多層膜200との間に中間屈折率材料から成る中間屈折率薄膜300を設けた点が、第3の実施例における赤外線カットフィルタ10と異なり、その他の構成は同様である。中間屈折率薄膜300には、中間屈折率材料として酸化アルミニウム(Al2O3)が用いられている。
【0031】
次に、第9の実施例における多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚について説明する。図13は、第9の実施例における1層の中間屈折率薄膜300と20層の多層膜200とを構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。図13には、多層膜200を構成する薄膜の層ごとに、「層」,「材料」,「光学膜厚」が示されている。この「光学薄膜」の値は、各層の内部での光の波長を1とした場合の厚さを示す。
【0032】
図13に示す多層膜200を構成する各薄膜は、設計波長λを750nmとして、(λ/4)を中心とした光学膜厚で成膜されている。中間屈折率薄膜300は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。多層膜200の第1層および第2層は、(λ/4)以上の光学薄膜で成膜されている。第3層ないし第6層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。第6層と最終層との間の層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜されている。最終層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜されている。なお、各層の物理的な膜厚は、「(設計波長λ)×(光学膜厚)/(薄膜の材料の屈折率)」で表される。ここで、二酸化チタン(TiO2)の屈折率は「約2.3」であり、二酸化ケイ素(SiO2)の屈折率は「約1.46」であり、酸化アルミニウム(Al2O3)の屈折率は「約1.64」であることが知られている。
【0033】
次に、第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の透過率特性について説明する。図14は、第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の透過率特性を示す説明図である。図14は、横軸に光の波長をとり、縦軸に透過率をとる。図14中の曲線Lcは、図8に示した第3の実施例における20層の赤外線カットフィルタ10の透過率特性を示す。図14中の曲線Lc*は、図13に示した第9の実施例における21層の赤外線カットフィルタ30の透過率特性を示す。図14中の曲線Lgは、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性を示す。
【0034】
図14に示すように、赤外線カットフィルタ30の透過率特性Lc*は、波長帯域400〜550nmで透過率が90%以上である。波長帯域550〜750で透過率が漸減して、波長帯域750〜1050nmで透過率がほぼ10%以下に収まる。このように、第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の透過率特性Lc*は、吸収タイプの赤外線カットフィルタの透過率特性Lgとほぼ同様の特性を有する。さらに、赤外線カットフィルタ30の透過率特性Lc*は、第3の実施例における赤外線カットフィルタ10の透過率特性Lcと比べて、波長帯域400〜550nmの可視光領域における透過率のリップルが小さい。
【0035】
以上説明した第9の実施例における赤外線カットフィルタ30によれば、第3の実施例と同様の効果を奏する上、ガラス基板100と第1層の高屈折率薄膜210との屈折率差に起因する可視帯域における透過率のリップルを抑制することができる。また、剥離材を用いてガラス基板100と多層膜200とを容易に剥離することができる。その結果、多層膜200の成膜を失敗した場合であっても、再成膜を容易に行うことができる。また、ガラス基板100と多層膜200との密着性を向上させることができる。なお、第9の実施例においては、第3の実施例における20層の赤外線カットフィルタ10に中間屈折率薄膜300を設けた構成としたが、16層以上32層以下の第1ないし第8の実施例における赤外線カットフィルタ10に中間屈折率薄膜300を設けても、同様の効果を奏することができる。また、各層の光学膜厚の値は、図13に示した値に限るものではなく、得ようとする透過率特性や製造効率などを考慮して、前述した各層の膜厚の条件範囲で種々の変更が可能である。
【0036】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明はこうした実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。例えば、ガラス基板100は水晶に限らず、高屈折率材料より屈折率の小さい基板であれば良いし、光学部品と一体化するのではなく、赤外線カットフィルタ単体としても良い。また、高屈折率材料には二酸化チタン(TiO2)に限らず、五酸化タンタル(Ta2O5),二酸化ジルコニウム(ZrO2),二酸化ハフニウム(HfO2)等を用いても良い。また、低屈折率材料には、二酸化ケイ素(SiO2),フッ化マグネシウム(MgF2)等を用いても良い。また、低屈折率材料に代えて中間屈折率材料である酸化アルミニウム(Al2O3)等を用いても良い。また、これらの材料は、それぞれ単独としてではなく混合物として用いても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1ないし第6の実施例における赤外線カットフィルタ10の概略構成を示す説明図である。
【図2】第1の実施例における16層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図3】第2の実施例における18層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図4】第3の実施例における20層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図5】第4の実施例における22層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図6】第5の実施例における24層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図7】第6の実施例における26層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図8】第1ないし第6の実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10のそれぞれの透過率特性を示す説明図である。
【図9】第7の実施例における18層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図10】第8の実施例における20層の多層膜200を構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図11】第7および第8の実施例における多層膜200を備えた赤外線カットフィルタ10のそれぞれの透過率特性を示す説明図である。
【図12】第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の概略構成を示す説明図である。
【図13】第9の実施例における1層の中間屈折率薄膜300と20層の多層膜200とを構成する各薄膜の光学膜厚の一例を示す説明図である。
【図14】第9の実施例における赤外線カットフィルタ30の透過率特性を示す説明図である。
【符号の説明】
10,30…赤外線カットフィルタ
100…ガラス基板
200…多層膜
210…高屈折率薄膜
220…低屈折率薄膜
300…中間屈折率薄膜
Claims (7)
- 高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した赤外線カットフィルタであって、
前記多層膜は、16以上32以下の前記薄膜の層から構成され、
前記多層膜の前記透明基板側から第1層は、前記高屈折率薄膜であり、
前記多層膜の最終層は、前記低屈折率薄膜であり、
設計波長をλとするとき、
前記多層膜の前記透明基板側から第1層および第2層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜され、
前記多層膜の前記透明基板側から第3層ないし所定の層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜され、
前記所定の層と前記最終層との間の層は、(λ/4)以上の光学膜厚で成膜され、
前記最終層は、(λ/4)以下の光学膜厚で成膜された
赤外線カットフィルタ。 - 前記所定の層は、前記多層膜の前記透明基板側から第6層または第7層である請求項1記載の赤外線カットフィルタ。
- 前記高屈折率薄膜は、TiO2から成り、
前記低屈折率薄膜は、SiO2またはMgF2から成る
請求項1または2記載の赤外線カットフィルタ。 - 中間屈折率材料から成る中間屈折率薄膜を、前記透明基板と前記多層膜との間に設けた請求項1ないし3のいずれか記載の赤外線カットフィルタ。
- 前記中間屈折率薄膜は、Al2O3から成る請求項4記載の赤外線カットフィルタ。
- 波長550nmから750nmにかけて透過率が漸減する透過率特性を有する請求項1ないし5のいずれか記載の赤外線カットフィルタ。
- 高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と、低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を、透明基板上に成膜した赤外線カットフィルタの製造方法であって、
16以上32以下の前記多層膜を構成する前記薄膜を、前記透明基板上に積層する工程を有し、
設計波長をλとするとき、
前記多層膜の前記透明基板側から第1層は、前記高屈折率薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、
前記多層膜の前記透明基板側から第2層は、前記低屈折率薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、
前記多層膜の前記透明基板側から第3層ないし所定の層は、各々の前記薄膜を(λ/4)以下の光学膜厚で成膜し、
前記所定の層と、前記多層膜の前記透明基板側から最終層との間の層は、各々の前記薄膜を(λ/4)以上の光学膜厚で成膜し、
前記最終層は、前記低屈折率薄膜を(λ/4)以下の光学膜厚で成膜する赤外線カットフィルタの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003105980A JP4404568B2 (ja) | 2003-04-10 | 2003-04-10 | 赤外線カットフィルタおよびその製造方法 |
CNA2004100003966A CN1536377A (zh) | 2003-04-10 | 2004-01-13 | 红外线截止滤镜及其制造方法 |
DE102004005233A DE102004005233B4 (de) | 2003-04-10 | 2004-02-03 | Infrarotstrahlen-Sperrfilter und Methoden zu dessen Herstellung |
US10/773,671 US7157159B2 (en) | 2003-04-10 | 2004-02-06 | Infrared ray cut filter and methods for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003105980A JP4404568B2 (ja) | 2003-04-10 | 2003-04-10 | 赤外線カットフィルタおよびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004309934A true JP2004309934A (ja) | 2004-11-04 |
JP2004309934A5 JP2004309934A5 (ja) | 2006-05-25 |
JP4404568B2 JP4404568B2 (ja) | 2010-01-27 |
Family
ID=33095334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003105980A Expired - Fee Related JP4404568B2 (ja) | 2003-04-10 | 2003-04-10 | 赤外線カットフィルタおよびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7157159B2 (ja) |
JP (1) | JP4404568B2 (ja) |
CN (1) | CN1536377A (ja) |
DE (1) | DE102004005233B4 (ja) |
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JP5683146B2 (ja) | 2010-06-24 | 2015-03-11 | キヤノン株式会社 | 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4404568B2 (ja) | 2010-01-27 |
US20040202897A1 (en) | 2004-10-14 |
DE102004005233B4 (de) | 2012-10-25 |
DE102004005233A1 (de) | 2004-10-28 |
US7157159B2 (en) | 2007-01-02 |
CN1536377A (zh) | 2004-10-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060323 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090605 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090623 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091006 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091102 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |