JP2012093689A5

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Publication number: JP2012093689A5
Application number: JP2010288319A
Authority: JP
Filing date: 2010-12-24
Publication date: 2012-11-01

Description

本発明の光学部品は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、前記多層膜は、４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が４．２〜１０％であることを特徴とする。

また、本発明の光学部品の製造方法は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、前記多層膜の４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を４．２〜１０％にすることを特徴とする。

Claims

プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、
前記多層膜は、４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が４．２〜１０％であることを特徴とする光学部品。
前記多層膜は、５８０〜７８０ｎｍの波長範囲における反射率が１．５％以下である請求項１に記載の光学部品。
前記プラスチック基材の凹面上に３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における平均反射率が１．５％以下の反射防止膜が配設された請求項１又は２に記載の光学部品。
前記プラスチック基材は、着色され、その透過率が５〜８５％である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学部品。
前記プラスチック基材から最も遠い前記多層膜の最外層の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜を更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学部品。
前記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）：

（式（１）中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^１は加水分解可能な基を表し、Ｒ^２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｗは１〜１０の整数を表す。）
及び下記一般式（２）〜（５）：

（式（２）〜（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ^３は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐上アルキレン基を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２〜２０の整数を表し、ｋは０〜２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０〜１０の整数を表す。）
及び下記一般式（６）：

（式（６）中、Ｒｆ^２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ^４は炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ^５は加水分解可能な基を表し、ｉは０〜２の整数を表し、ｊは１〜５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）
の中から選択される１種類以上のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物である請求項５に記載の光学部品。
前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学部品。
前記プラスチック基材と前記多層膜との間に、機能性薄膜を備えたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学部品。
前記多層膜を構成する高屈折率材料と低屈折率材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を備えたことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学部品。
前記高屈折率材料は、二酸化ジルコニウムを含み、前記低屈折率材料は、二酸化珪素を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学部品。
眼鏡レンズ用である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学部品。
プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、
前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、
前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、
前記多層膜の４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を４．２〜１０％にすることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかの一項に記載の光学部品の製造方法。
前記多層膜を真空蒸着法を用いて形成する工程を含む請求項１２に記載の光学部品の製造方法。
前記多層膜を形成する工程は、前記多層膜を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含む請求項１２又は１３に記載の光学部品の製造方法。
前記イオンビームアシストは、不活性ガスと、酸素ガス、不活性ガス及び酸素ガスの混合ガスとのうちから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる請求項１４に記載の光学部品の製造方法。
前記不活性ガスはアルゴンである請求項１５に記載の光学部品の製造方法。