JP5066967B2 - 光学物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、複数の層が積層された反射防止層を有する光学物品の製造方法に関する。
一般に、メガネレンズなどの光学物品の表面には、傷防止のためのハードコート層や、ゴースト及びちらつきを防止するための反射防止層、そして撥水効果を付与するための防汚層などが形成されている。
反射防止層はハードコート層表面に異なる屈折率を持つ物質を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層として形成される。このような多層反射防止層を構成する物質としては、例えば、低屈折率層に主に二酸化珪素が用いられ、高屈折率層にＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）、Ｔａ２Ｏ５（酸化タンタル）、ＴｉＯ２（酸化チタン）、Ｎｂ２Ｏ５（酸化ニオブ）等が用いられた構成が特許文献１に記載されている。また、低屈折率層に酸化珪素、高屈折率層に窒化珪素を用いた反射防止層の製造方法に関する技術が特許文献２に開示されている。
反射防止層はハードコート層表面に異なる屈折率を持つ物質を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層として形成される。このような多層反射防止層を構成する物質としては、例えば、低屈折率層に主に二酸化珪素が用いられ、高屈折率層にＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）、Ｔａ２Ｏ５（酸化タンタル）、ＴｉＯ２（酸化チタン）、Ｎｂ２Ｏ５（酸化ニオブ）等が用いられた構成が特許文献１に記載されている。また、低屈折率層に酸化珪素、高屈折率層に窒化珪素を用いた反射防止層の製造方法に関する技術が特許文献２に開示されている。
しかしながら、これらの組み合わせにより形成された光学物品の耐擦傷性は、使用者の乱暴な取り扱いや不注意などにより、必ずしも最表面の傷を防げることはなく、耐擦傷性に問題があった。また、他の性能、例えば耐熱性なども十分でなかった。
したがって、本発明の目的は、従来の光学特性を維持するとともに、耐擦傷性および耐熱性に優れた光学物品の製造方法を提供することである。
したがって、本発明の目的は、従来の光学特性を維持するとともに、耐擦傷性および耐熱性に優れた光学物品の製造方法を提供することである。
本発明の光学物品の製造方法は、ハードコート層を有するプラスチック基材の表面に、二酸化珪素からなる複数の第１の層および窒化珪素からなる複数の第２の層が交互に積層してなる反射防止層が設けられる光学物品を製造する方法であって、前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層の膜厚は、前記複数の第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層の膜厚よりも厚く、前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａであり、前記第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層の膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａであり、前記第１の層と前記第２の層とはスパッタリング法で形成され、前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層形成時のアルゴン導入圧が５〜１０Ｐａであり、前記第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層形成時のアルゴン導入圧が２〜５Ｐａであることを特徴とする。
この発明によれば、二酸化珪素からなる第１の層と窒化珪素からなる第２の層とを交互に積層した反射防止層において、複数の第２の層のうち、ハードコート層に最も近い層を厚肉層としている。なお、この厚肉層は、第２の層のうち厚肉層以外の層よりも厚く形成される。第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層を厚肉層とすると、可視光領域（３８０ｍ〜７００ｎｍ）における反射率が悪くなり、光学特性を維持することができない。
第２の層を形成する窒化珪素は、耐擦傷性の点から四窒化三珪素であることが好ましい。
このように、第２の層のうちハードコート層に最も近い層を厚肉層とすることにより、反射防止層全体の耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
しかも、第２の層のうちハードコート層に最も近い層の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａ、第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層の膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａであるので、第２の層のうちハードコート層に最も近い層の膜応力は第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層に比べて緻密性が低い。このように複数の第２の層の膜応力を変えることで、反射防止層全体の耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
その上、第２の層のうちハードコート層に最も近い層を形成するスパッタリング工程において、アルゴン導入圧を５〜１０Ｐａとする。一方、第２の層のうちハードコート層に最も近い層でない層を形成する際には、アルゴン導入圧を２〜５Ｐａとする。これにより、前述の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａである層と膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａである層を形成することができる。
この発明によれば、二酸化珪素からなる第１の層と窒化珪素からなる第２の層とを交互に積層した反射防止層において、複数の第２の層のうち、ハードコート層に最も近い層を厚肉層としている。なお、この厚肉層は、第２の層のうち厚肉層以外の層よりも厚く形成される。第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層を厚肉層とすると、可視光領域（３８０ｍ〜７００ｎｍ）における反射率が悪くなり、光学特性を維持することができない。
第２の層を形成する窒化珪素は、耐擦傷性の点から四窒化三珪素であることが好ましい。
このように、第２の層のうちハードコート層に最も近い層を厚肉層とすることにより、反射防止層全体の耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
しかも、第２の層のうちハードコート層に最も近い層の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａ、第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層の膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａであるので、第２の層のうちハードコート層に最も近い層の膜応力は第２の層のうちハードコート層に最も近い層ではない層に比べて緻密性が低い。このように複数の第２の層の膜応力を変えることで、反射防止層全体の耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
その上、第２の層のうちハードコート層に最も近い層を形成するスパッタリング工程において、アルゴン導入圧を５〜１０Ｐａとする。一方、第２の層のうちハードコート層に最も近い層でない層を形成する際には、アルゴン導入圧を２〜５Ｐａとする。これにより、前述の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａである層と膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａである層を形成することができる。
本発明の光学物品の製造方法は、前記複数の第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層の膜厚は２．５λ以上かつ３λ以下であることが好ましい。
この発明によれば、複数の第２の層のうち、ハードコート層に最も近い層を２．５λ以上かつ３λ以下の厚肉層としている。この厚肉層は、第２の層のうち厚肉層以外の層よりも厚く形成される。ハードコート層に最も近い層ではない層を厚肉層とすると、可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率が悪くなり、光学特性を維持することができない。
厚肉層の厚みが３λを超えると、可視光領域における反射率が悪化してしまい、光学物品としての特性を維持することができない。したがって、厚肉層の厚みは、２．５λ以上かつ３．０λ以下の範囲内に設定することで、光学特性を維持するとともに、前述の耐擦傷性を向上させることができる。
この発明によれば、複数の第２の層のうち、ハードコート層に最も近い層を２．５λ以上かつ３λ以下の厚肉層としている。この厚肉層は、第２の層のうち厚肉層以外の層よりも厚く形成される。ハードコート層に最も近い層ではない層を厚肉層とすると、可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率が悪くなり、光学特性を維持することができない。
厚肉層の厚みが３λを超えると、可視光領域における反射率が悪化してしまい、光学物品としての特性を維持することができない。したがって、厚肉層の厚みは、２．５λ以上かつ３．０λ以下の範囲内に設定することで、光学特性を維持するとともに、前述の耐擦傷性を向上させることができる。
本発明の光学物品の製造方法は、前記第１の層のうち１層は前記ハードコート層に接し、この第１の層の上に前記第２の層、前記第１の層、前記第２の層および前記第１の層がこの順番で積層されることが好ましい。
この発明によれば、反射防止層は５層で構成される。これらの反射防止層のうち、ハードコート層に近い側から第１層、第２層、第３層、第４層および第５層とすると、第２層および第４層が窒化珪素からなる第２の層であり、第２層および第４層のうち第２層が厚肉層となる。したがって、前述のとおり、耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
さらに、第１層を二酸化珪素からなる第１の層としたので、ハードコート層と反射防止層との密着性に優れ、耐擦傷性がさらに向上するとともに、ムクミを防止することができる。
この発明によれば、反射防止層は５層で構成される。これらの反射防止層のうち、ハードコート層に近い側から第１層、第２層、第３層、第４層および第５層とすると、第２層および第４層が窒化珪素からなる第２の層であり、第２層および第４層のうち第２層が厚肉層となる。したがって、前述のとおり、耐擦傷性および耐熱性を向上させることができる。
さらに、第１層を二酸化珪素からなる第１の層としたので、ハードコート層と反射防止層との密着性に優れ、耐擦傷性がさらに向上するとともに、ムクミを防止することができる。
本発明の光学物品の製造方法は、前記第２の層のうち１層は前記ハードコート層に接し、この第２の層の上に前記第１の層、前記第２の層および前記第１の層がこの順番で積層されることが好ましい。
この発明によれば、反射防止層は４層で構成される。前述の５層構成の反射防止層のうち二酸化珪素からなる第１層が積層されていない構成であり、ハードコート層の直上に窒化珪素からなる厚みが２．５λ以上の厚肉層が積層されている。したがって、耐擦傷性および耐熱性を向上させることができるとともに、第１層を積層する手間を省くことができるので工程を簡略化することができる。
この発明によれば、反射防止層は４層で構成される。前述の５層構成の反射防止層のうち二酸化珪素からなる第１層が積層されていない構成であり、ハードコート層の直上に窒化珪素からなる厚みが２．５λ以上の厚肉層が積層されている。したがって、耐擦傷性および耐熱性を向上させることができるとともに、第１層を積層する手間を省くことができるので工程を簡略化することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態のメガネレンズの断面図である。
図１は、本実施形態のメガネレンズの断面図である。
[第一実施形態]（１．メガネレンズ１Ａの構成）
メガネレンズ１Ａは、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層された反射防止層１２Ａおよび防汚層１３が順に積層される。
メガネレンズ１Ａは、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層された反射防止層１２Ａおよび防汚層１３が順に積層される。
（２．レンズ基材１０）
レンズ基材１０は、屈折力、機械的強度、透過率など、メガネまたは光学物品における基本特性を維持するための機能を有する。
レンズ基材１０は特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明なプラスチック樹脂等を例示することができる。
レンズ基材１０は、屈折力、機械的強度、透過率など、メガネまたは光学物品における基本特性を維持するための機能を有する。
レンズ基材１０は特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明なプラスチック樹脂等を例示することができる。
（３．ハードコート層１１）
ハードコート層１１としては、本来の機能である耐擦傷性を向上するものであればよい。例えば、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等を用いたハードコート膜が挙げられるが、シリコーン系樹脂を用いたハードコート膜が最も好ましい。例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート膜を形成することができる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含んでいてもよい。
ハードコート層１１としては、本来の機能である耐擦傷性を向上するものであればよい。例えば、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等を用いたハードコート膜が挙げられるが、シリコーン系樹脂を用いたハードコート膜が最も好ましい。例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート膜を形成することができる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含んでいてもよい。
さらにハードコート層１１は、従来公知の各種添加剤を含むことができる。例えば、塗布性の向上を目的とした各種レベリング剤、耐候性の向上を目的とした紫外線吸収剤や酸化防止剤、さらに染料や顔料等の添加剤などが挙げられる。
このようなハードコート層１１を形成する方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法により、ハードコート層１１を構成する組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法が例示できる。
このようなハードコート層１１を形成する方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法により、ハードコート層１１を構成する組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法が例示できる。
（４．反射防止層１２Ａ）
（４−１．反射防止層１２Ａの構成）
次に、反射防止層１２Ａについて説明する。
反射防止層１２Ａは、反射防止、フィルタリング等の光学機能のほか、耐擦傷性機能も有する。なお、反射防止層１２Ａは、可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）で反射率が５％以下の機能を有する。
反射防止層１２Ａは、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層され、ハードコート層１１の側から、第１層１２１、第２層１２２、第３層１２３、第４層１２４および第５層１２５が順に積層されている。
第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５は二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層であり、第２層１２２および第４層１２４は四窒化三珪素（Ｓｉ３Ｎ４）からなる高屈折率層となっている。第２層１２２は第４層１２４よりも厚く形成された厚肉層であり、設計波長λに対して２．５〜３．０λの範囲の厚みを有している。
（４−１．反射防止層１２Ａの構成）
次に、反射防止層１２Ａについて説明する。
反射防止層１２Ａは、反射防止、フィルタリング等の光学機能のほか、耐擦傷性機能も有する。なお、反射防止層１２Ａは、可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）で反射率が５％以下の機能を有する。
反射防止層１２Ａは、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層され、ハードコート層１１の側から、第１層１２１、第２層１２２、第３層１２３、第４層１２４および第５層１２５が順に積層されている。
第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５は二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層であり、第２層１２２および第４層１２４は四窒化三珪素（Ｓｉ３Ｎ４）からなる高屈折率層となっている。第２層１２２は第４層１２４よりも厚く形成された厚肉層であり、設計波長λに対して２．５〜３．０λの範囲の厚みを有している。
（４−２．反射防止層１２Ａの形成）
反射防止層１２Ａは、スパッタリング法により積層される。図２は、メガネレンズ１Ａを製造するためのスパッタリング装置２を模式的に示した図である。
このスパッタリング装置２により、ハードコート層１１が積層されたレンズ基材１０の表面に、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、反射防止層１２Ａを形成する。
以下、スパッタリング装置２の構成と、このスパッタリング装置２を用いた反射防止層１２Ａの形成方法とについて詳述する。
反射防止層１２Ａは、スパッタリング法により積層される。図２は、メガネレンズ１Ａを製造するためのスパッタリング装置２を模式的に示した図である。
このスパッタリング装置２により、ハードコート層１１が積層されたレンズ基材１０の表面に、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、反射防止層１２Ａを形成する。
以下、スパッタリング装置２の構成と、このスパッタリング装置２を用いた反射防止層１２Ａの形成方法とについて詳述する。
スパッタリング装置２は、ケーシング２Ａを備え、このケーシング２Ａの内部に基材保持台２１が配置されている。基材保持台２１にはメガネレンズ１Ａがセットされる。また、基材保持台２１と対向するようにターゲット設置台２２が設けられ、ターゲット設置台２２には、メガネレンズ１Ａの表面と対向するようにターゲット２３が設置されている。ターゲット２３は、メガネレンズ１Ａの表面に積層する物質で形成される。
また、図示しない真空排気装置（ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ等）で排気できるようになっており、ＡＰＣ（自動圧力制御装置）によってスパッタリング装置２内の圧力は一定に保たれる。
基材保持台２１とターゲット２３の間には高周波電圧が印可する電源装置２４が設けられており、このスパッタリング装置２が作動すると、スパッタリング装置２内でイオン化された希ガスがターゲット２３に衝突し、はじき飛ばされたターゲット物質がメガネレンズ１Ａの表面に成膜される。
また、図示しない真空排気装置（ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ等）で排気できるようになっており、ＡＰＣ（自動圧力制御装置）によってスパッタリング装置２内の圧力は一定に保たれる。
基材保持台２１とターゲット２３の間には高周波電圧が印可する電源装置２４が設けられており、このスパッタリング装置２が作動すると、スパッタリング装置２内でイオン化された希ガスがターゲット２３に衝突し、はじき飛ばされたターゲット物質がメガネレンズ１Ａの表面に成膜される。
次に、反射防止層１２Ａを形成する方法について説明する。
ハードコート層１１が積層されたメガネレンズ１Ａを基材保持台２１に載せ、基材保持台２１をスパッタリング装置２内に設置し、真空排気した後、約８０℃に加熱する。
ターゲット２３には、まず、ＳｉＯ２からなるターゲットを使用する。希ガスとして、Ａｒを２〜５Ｐａの圧力で導入する。これは、通常実施されるものと同じ圧力である。基材保持台２１とターゲット２３に高周波電圧を印加してスパッタリング装置２内にプラズマを発生させると、メガネレンズ１Ａ上にＳｉＯ２からなる第１層１２１を形成することができる。
ハードコート層１１が積層されたメガネレンズ１Ａを基材保持台２１に載せ、基材保持台２１をスパッタリング装置２内に設置し、真空排気した後、約８０℃に加熱する。
ターゲット２３には、まず、ＳｉＯ２からなるターゲットを使用する。希ガスとして、Ａｒを２〜５Ｐａの圧力で導入する。これは、通常実施されるものと同じ圧力である。基材保持台２１とターゲット２３に高周波電圧を印加してスパッタリング装置２内にプラズマを発生させると、メガネレンズ１Ａ上にＳｉＯ２からなる第１層１２１を形成することができる。
次に、ターゲット２３を、ＳｉＯ２からなるターゲットからＳｉ３Ｎ４からなるターゲットに代え、アルゴン導入圧を５〜１０Ｐａとして第２層１２２を形成する。なお、第２層１２２は、設計波長λに対して２．５λ〜３．０λの範囲内となるように形成する。
次に、第３層１２３の形成を第１層１２１と同じように行った後、第４層１２４を形成する。第４層１２４は、第２層１２２と同じようにＳｉ３Ｎ４からなるターゲットを使用し、アルゴン導入圧を２〜５Ｐａで行う。そして、最後に第５層の形成１２５を第１層１２１と同じように行い、反射防止層１２Ａを形成する。
次に、第３層１２３の形成を第１層１２１と同じように行った後、第４層１２４を形成する。第４層１２４は、第２層１２２と同じようにＳｉ３Ｎ４からなるターゲットを使用し、アルゴン導入圧を２〜５Ｐａで行う。そして、最後に第５層の形成１２５を第１層１２１と同じように行い、反射防止層１２Ａを形成する。
本実施形態における各層の厚みは設計波長λに対して、第１層１２１が０．１０λ、第２層１２２が２．７１λ、第３層１２３が０．１３λ、第４層１２４が０．６２λ、第５層１２５が１．２４λである。
（５．防汚層１３）
反射防止層１２Ａの表面には、防汚層１３が形成される。
防汚層１３は、メガネレンズを使用するに際し、レンズ面に手垢、汗、化粧料等による汚れが付着し難く、しかも汚れを拭き取りやすくするために、防汚性能（撥水撥油性能）を付与する。
防汚層１３は、フッ素系のフルオロアルキシシラン等を用いて形成することができる。また、塗布方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法などの公知の方法が使用可能である。
反射防止層１２Ａの表面には、防汚層１３が形成される。
防汚層１３は、メガネレンズを使用するに際し、レンズ面に手垢、汗、化粧料等による汚れが付着し難く、しかも汚れを拭き取りやすくするために、防汚性能（撥水撥油性能）を付与する。
防汚層１３は、フッ素系のフルオロアルキシシラン等を用いて形成することができる。また、塗布方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法などの公知の方法が使用可能である。
以上説明した第一実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）ハードコート層１１に最も近い高屈折率層である第２層１２２は、厚みが設計波長λに対して２．７１λと厚く、かつ、アルゴン導入圧５〜１０Ｐａの範囲内でスパッタリングを行ったので低緻密性となっている。また、防汚層１３に最も近い高屈折率層である第４層１２４は、厚みが薄く、かつ、高緻密性となっている。
したがって、メガネレンズ１Ａは耐擦傷性および耐熱性に優れているとともに、メガネレンズ１Ａの可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率は５％以下であり、光学特性を維持することができる。
（１）ハードコート層１１に最も近い高屈折率層である第２層１２２は、厚みが設計波長λに対して２．７１λと厚く、かつ、アルゴン導入圧５〜１０Ｐａの範囲内でスパッタリングを行ったので低緻密性となっている。また、防汚層１３に最も近い高屈折率層である第４層１２４は、厚みが薄く、かつ、高緻密性となっている。
したがって、メガネレンズ１Ａは耐擦傷性および耐熱性に優れているとともに、メガネレンズ１Ａの可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率は５％以下であり、光学特性を維持することができる。
（２）ハードコート層１１の直上にＳｉＯ２からなる第１層１２１を積層したので、ハードコート層１１と反射防止層１２Ａとの密着性が向上し、耐久性に優れる。また、ムクミを防止することもできる。
（３）反射防止層１２Ａにおいて、第２層１２２を形成する際にアルゴン導入圧を５〜１０Ｐａの範囲内となるように設定して行ったので、低密度かつ低膜応力（低緻密性）の層を形成することができる。また、第４層１２４を形成する際はアルゴン導入圧を２〜５Ｐａの範囲内となるように設定して行ったので、高密度かつ高膜応力（高緻密性）の層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および耐熱性を備えたメガネレンズ１Ａを提供することができる。
（４）第２層１２２および第４層１２４の緻密性を変えるには、各層の形成時のアルゴンの導入圧を変えるだけでよい。したがって、特別な設備や工程を必要としないので、コストや手間がかからず簡単に製造することができる。
[第二実施形態]
第二実施形態のメガネレンズ１Ｂは、反射防止層の層構成が異なる以外は第一実施形態と同様である。図３に第二実施形態にかかるメガネレンズの断面図を示す。
第二実施形態では、ハードコート層１１の直上にＳｉ３Ｎ４からなる第２層１２２を積層し、その上にＳｉＯ２からなる第３層１２３、Ｓｉ３Ｎ４からなる第４層１２４およびＳｉＯ２からなる第５層１２５を順次積層して反射防止層１２Ｂとする。
以上説明した第二実施形態によれば、第一実施形態の（１）（３）（４）および以下の作用効果を奏することができる。
第二実施形態のメガネレンズ１Ｂは、反射防止層の層構成が異なる以外は第一実施形態と同様である。図３に第二実施形態にかかるメガネレンズの断面図を示す。
第二実施形態では、ハードコート層１１の直上にＳｉ３Ｎ４からなる第２層１２２を積層し、その上にＳｉＯ２からなる第３層１２３、Ｓｉ３Ｎ４からなる第４層１２４およびＳｉＯ２からなる第５層１２５を順次積層して反射防止層１２Ｂとする。
以上説明した第二実施形態によれば、第一実施形態の（１）（３）（４）および以下の作用効果を奏することができる。
（５）第二実施形態では、ハードコート層１１の直上に、Ｓｉ３Ｎ４からなる第２層１２２を積層しているので、第一実施形態で示したように第１層を積層する必要がない。したがって、反射防止層１２Ｂの形成において工程を簡略化することができる。
なお、本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的および効果を達成できる範囲内での変形や改良が、本発明の内容に含まれるものであることはいうまでもない。
例えば、第一実施形態および第二実施形態では、ハードコート層１１は単層となっているが、プライマー層を含む多層構造であってもよい。プライマー層は、ウレタン樹脂やエポキシ樹脂などで形成され、レンズ基材１０とハードコート層１１との密着性をより高めることができる。また、熱的な影響でレンズ基材１０が膨張する変形を緩和して上層の反射防止層のクラック発生を防止して耐熱性を向上させることができる。さらには、耐衝撃性を向上させることもできる。
また、第一実施形態および第二実施形態では、反射防止層を５層構成または４層構成としたが、６層や７層構成とすることもできる。また、第３層以降をＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４以外の材料から形成してもよく、さらには、第１層と第２層との間にＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４以外の材料からなる中間層を設けてもよい。
次に、本発明の実施例について説明する。
以下の実施例および比較例に示される方法でメガネレンズを作製し、耐擦傷性試験、耐熱性試験、恒温恒室試験、反射率測定試験を行い、評価した。
以下の実施例および比較例に示される方法でメガネレンズを作製し、耐擦傷性試験、耐熱性試験、恒温恒室試験、反射率測定試験を行い、評価した。
[実施例１]
第一実施形態に記載の方法でメガネレンズを作製した。
プラスチック製光学物品として、プラスチック製メガネレンズ（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））の表面に、ハードコート層が積層されたものを準備し、スパッタリング法により反射防止層の形成を行った。
低屈折率層には二酸化珪素（ＳｉＯ２）を用い、希ガスとしてアルゴンを使用した。このときのアルゴン導入圧は、通常の２〜５Ｐａで行った。
一方、高屈折率層には四窒化三珪素膜（Ｓｉ３Ｎ４）を用い、最下層となる四窒化三珪素膜を形成する際にはアルゴン導入圧を５〜１０Ｐａ、その他の四窒化三珪素膜を形成する際にはアルゴン導入圧を２〜５Ｐａで行った。
第一実施形態に記載の方法でメガネレンズを作製した。
プラスチック製光学物品として、プラスチック製メガネレンズ（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））の表面に、ハードコート層が積層されたものを準備し、スパッタリング法により反射防止層の形成を行った。
低屈折率層には二酸化珪素（ＳｉＯ２）を用い、希ガスとしてアルゴンを使用した。このときのアルゴン導入圧は、通常の２〜５Ｐａで行った。
一方、高屈折率層には四窒化三珪素膜（Ｓｉ３Ｎ４）を用い、最下層となる四窒化三珪素膜を形成する際にはアルゴン導入圧を５〜１０Ｐａ、その他の四窒化三珪素膜を形成する際にはアルゴン導入圧を２〜５Ｐａで行った。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は２．７１λ（物理膜厚１６８ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１３λ（物理膜厚１１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．６２λ（物理膜厚３９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．２４λ（物理膜厚９６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした（図１参照）。
反射防止層の表面には、防汚層または撥水層として、フッ素系のフルオロアルキシシラン等を積層した。例えば、ＧＥ東芝シリコーン株式会社製ＴＳＬ８２３３（商品名）、ＴＳＬ８２５７（商品名）、ダイキン工業株式会社製オプツールＤＳＸ（商品名）等を使用することができる。
[実施例２]
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．６９λ（物理膜厚４３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした（図１参照）。
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．６９λ（物理膜厚４３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした（図１参照）。
[実施例３]
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は３．００λ（物理膜厚１８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．５８λ（物理膜厚３６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は３．００λ（物理膜厚１８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．５８λ（物理膜厚３６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
[実施例４]
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第２層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第３層は、０．６９λ（物理膜厚４３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第４層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
反射防止層の各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第２層は０．１５λ（物理膜厚１３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第３層は、０．６９λ（物理膜厚４３ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第４層は１．１０λ（物理膜厚９５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
[実施例５]
反射防止層を７層構成とし、各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１８λ（物理膜厚１６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は０．９１λ（物理膜厚５６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は０．２２λ（物理膜厚１９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第６層は、０．９５λ（物理膜厚５９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第７層は１．０３λ（物理膜厚 ８８ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
反射防止層を７層構成とし、各層の膜厚を次のように形成した以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１８λ（物理膜厚１６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は０．９１λ（物理膜厚５６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は０．２２λ（物理膜厚１９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第６層は、０．９５λ（物理膜厚５９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第７層は１．０３λ（物理膜厚 ８８ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
[比較例１]
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は２．０５λ（物理膜厚１７５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は、０．５１λ（物理膜厚３１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．２５λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、１．０３λ（物理膜厚６４ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．００λ（物理膜厚８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層した。
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は２．０５λ（物理膜厚１７５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は、０．５１λ（物理膜厚３１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．２５λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、１．０３λ（物理膜厚６４ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．００λ（物理膜厚８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層した。
[比較例２]
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から順に、ＳｉＯ２層とＺｒＯ２層とを交互に積層させ、５層からなる反射防止層を形成した。ＳｉＯ２層およびＺｒＯ２層は、真空蒸着法（真空度５．０×１０−４Ｐａ）で形成した。レンズ基材側から、第１層は１．７０λ（物理膜厚１４６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は、０．５０λ（物理膜厚３０ｎｍ）の光学膜厚を持つＺｒＯ２層、第３層は０．２４λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．９５λ（物理膜厚５８ｎｍ）の光学膜厚を持つＺｒＯ２層、第５層は１．００λ（物理膜厚８５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層した。
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から順に、ＳｉＯ２層とＺｒＯ２層とを交互に積層させ、５層からなる反射防止層を形成した。ＳｉＯ２層およびＺｒＯ２層は、真空蒸着法（真空度５．０×１０−４Ｐａ）で形成した。レンズ基材側から、第１層は１．７０λ（物理膜厚１４６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は、０．５０λ（物理膜厚３０ｎｍ）の光学膜厚を持つＺｒＯ２層、第３層は０．２４λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、０．９５λ（物理膜厚５８ｎｍ）の光学膜厚を持つＺｒＯ２層、第５層は１．００λ（物理膜厚８５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層した。
[比較例３]
実施例１における反射防止層の第２層を３．５０λ（物理膜厚２１７ｎｍ）とした。
実施例１における反射防止層の第２層を３．５０λ（物理膜厚２１７ｎｍ）とした。
[比較例４]
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は０．６２λ（物理膜厚３９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１３λ（物理膜厚１１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、２．７１λ（物理膜厚１６８ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．２４λ（物理膜厚９６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
反射防止層の積層を以下のように行った以外は実施例１と同様である。
レンズ基材側から、第１層は０．１０λ（物理膜厚９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第２層は０．６２λ（物理膜厚３９ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第３層は０．１３λ（物理膜厚１１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層、第４層は、２．７１λ（物理膜厚１６８ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第５層は１．２４λ（物理膜厚９６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ２層を順次積層して反射防止層とした。
[比較例５]
実施例５において、第２層を０．６１λ（物理膜厚３７ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第６層を２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層とした。
実施例５において、第２層を０．６１λ（物理膜厚３７ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層、第６層を２．５０λ（物理膜厚１５５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉ３Ｎ４層とした。
実施例１〜５および比較例１〜５により得られたメガネレンズを以下の耐擦傷性試験、耐熱性試験、恒温恒室試験、反射率測定試験により評価した。
（耐擦傷性試験）
スチールウール試験を行った。メガネレンズにボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール(株)製）で１ｋｇの荷重をかけ、１０往復表面を摩擦し、傷ついた程度を目視で観察した。
評価基準は、傷の程度を目視の観察により１０段階（１（悪）〜１０（良））にランク付けし、以下のように評価した。
◎：段階１０〜８で非常に耐擦傷性が高い。
〇：段階７〜６で耐擦傷性が高い。
△：段階５〜４で耐擦傷性は若干低い。
×：段階３〜１で耐擦傷性が低い。
（耐擦傷性試験）
スチールウール試験を行った。メガネレンズにボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール(株)製）で１ｋｇの荷重をかけ、１０往復表面を摩擦し、傷ついた程度を目視で観察した。
評価基準は、傷の程度を目視の観察により１０段階（１（悪）〜１０（良））にランク付けし、以下のように評価した。
◎：段階１０〜８で非常に耐擦傷性が高い。
〇：段階７〜６で耐擦傷性が高い。
△：段階５〜４で耐擦傷性は若干低い。
×：段階３〜１で耐擦傷性が低い。
（耐熱性試験）
反射防止層を形成後、オーブンで３０分加熱した後、クラックの有無を評価し、クラックの発生した温度をその耐熱温度とした。加熱温度は４０℃よりはじめて、５℃ずつ上げた。耐熱温度が高いほど耐熱性に優れている。
反射防止層を形成後、オーブンで３０分加熱した後、クラックの有無を評価し、クラックの発生した温度をその耐熱温度とした。加熱温度は４０℃よりはじめて、５℃ずつ上げた。耐熱温度が高いほど耐熱性に優れている。
（恒温恒室試験）
この試験により、密着性の評価を行った。
レンズ凹面と凸面上にカッターで升目大きさ１ｍｍの四角形１００個を刻む。それを温度６０℃湿度１００％の恒温恒室槽に置き、７日目に刻んだレンズのクロスカット試験を行った。クロスカット試験は刻んだ部分にニチバンセロハンテープ（商品名）幅12ｍｍ（JIS Z1522）を密着させ、すばやくテープをはがすことにより、ハガレの面積により評価した。
評価基準はハガレの面積を目視の観察により４段階にランク付けし、以下のように評価した。
◎：残った面積１００で非常に密着性が高い。
〇：残った面積９９〜８５で密着性が高い。
△：段残った面積８４〜３５で密着性がやや低い。
×：段階３４以下で密着性が低い。
この試験により、密着性の評価を行った。
レンズ凹面と凸面上にカッターで升目大きさ１ｍｍの四角形１００個を刻む。それを温度６０℃湿度１００％の恒温恒室槽に置き、７日目に刻んだレンズのクロスカット試験を行った。クロスカット試験は刻んだ部分にニチバンセロハンテープ（商品名）幅12ｍｍ（JIS Z1522）を密着させ、すばやくテープをはがすことにより、ハガレの面積により評価した。
評価基準はハガレの面積を目視の観察により４段階にランク付けし、以下のように評価した。
◎：残った面積１００で非常に密着性が高い。
〇：残った面積９９〜８５で密着性が高い。
△：段残った面積８４〜３５で密着性がやや低い。
×：段階３４以下で密着性が低い。
（反射率測定試験）
可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率の測定を行った。実施例１の測定結果をグラフにしたものを図４に示す。図４において、横軸は波長（Wavelength）、縦軸は反射率（Reflectance）である。測定は分光光度計（Ｕ−３５００ ＨＩＴＡＣＨＩ製）を用いた。
実施例１の反射率の測定結果を図４に示した。実施例２〜４の測定結果は図４とほぼ同様の測定結果であった。また、実施例５の反射率の測定結果を図５に示した。また、比較例４の反射率の測定結果を図６に示し、比較例５の反射率の測定結果を図７に示した。
これらの評価結果を以下の表１に示す。
可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）における反射率の測定を行った。実施例１の測定結果をグラフにしたものを図４に示す。図４において、横軸は波長（Wavelength）、縦軸は反射率（Reflectance）である。測定は分光光度計（Ｕ−３５００ ＨＩＴＡＣＨＩ製）を用いた。
実施例１の反射率の測定結果を図４に示した。実施例２〜４の測定結果は図４とほぼ同様の測定結果であった。また、実施例５の反射率の測定結果を図５に示した。また、比較例４の反射率の測定結果を図６に示し、比較例５の反射率の測定結果を図７に示した。
これらの評価結果を以下の表１に示す。
実施例１〜５は、耐擦傷性試験の評価が高いので耐擦傷性に優れている。また、耐熱評価温度も高いので耐熱性も良好である。さらに、可視光領域における反射率も５％以下となっており、従来と同等の光学特性が得られた。なお、実施例４はハードコート層と反射防止層との間にＳｉＯ２層を設けていないために密着性が良くなかったが、実用上問題なかった。
比較例１〜２は、実施例１〜４に比べて耐擦傷性および耐熱性が劣っている。比較例３〜５は、耐擦傷性および耐熱性は良好であったが、可視光領域における反射率が悪く、光学特性を発揮できない。
比較例１〜２は、実施例１〜４に比べて耐擦傷性および耐熱性が劣っている。比較例３〜５は、耐擦傷性および耐熱性は良好であったが、可視光領域における反射率が悪く、光学特性を発揮できない。
本発明は、メガネレンズなどのプラスチック製光学物品に使用できる。
１Ａ、１Ｂ…メガネレンズ、１１…ハードコート層、１２Ａ、１２Ｂ…反射防止層、１３…防汚層
Claims (4)
- ハードコート層を有するプラスチック基材の表面に、二酸化珪素からなる複数の第１の層および窒化珪素からなる複数の第２の層が交互に積層してなる反射防止層が設けられる光学物品を製造する方法であって、
前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層の膜厚は、前記複数の第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層の膜厚よりも厚く、
前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層の膜応力が圧縮応力１０〜２００ＭＰａであり、前記第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層の膜応力が圧縮応力２００〜４００ＭＰａであり、
前記第１の層と前記第２の層とはスパッタリング法で形成され、
前記複数の第２の層のうち、前記ハードコート層に最も近い層形成時のアルゴン導入圧が５〜１０Ｐａであり、
前記第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層ではない層形成時のアルゴン導入圧が２〜５Ｐａである
ことを特徴とする光学物品の製造方法。 - 請求項１に記載の光学物品の製造方法において、
前記複数の第２の層のうち前記ハードコート層に最も近い層の膜厚は２．５λ以上かつ３λ以下である
ことを特徴とする光学物品の製造方法。 - 請求項１または請求項２に記載の光学物品の製造方法において、
前記第１の層のうち１層は前記ハードコート層に接し、
この第１の層の上に前記第２の層、前記第１の層、前記第２の層および前記第１の層がこの順番で積層される
ことを特徴とする光学物品の製造方法。 - 請求項１または請求項２に記載の光学物品の製造方法において、
前記第２の層のうち１層は前記ハードコート層に接し、
この第２の層の上に前記第１の層、前記第２の層および前記第１の層がこの順番で積層される
ことを特徴とする光学物品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007077726A JP5066967B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 光学物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007077726A JP5066967B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 光学物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008241746A JP2008241746A (ja) | 2008-10-09 |
| JP5066967B2 true JP5066967B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=39913234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5066967B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012093689A (ja) | 2010-09-29 | 2012-05-17 | Nikon-Essilor Co Ltd | 光学部品およびその製造方法 |
| CN104020517A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-09-03 | 利达光电股份有限公司 | 一种超硬消反光防水防油薄膜 |
| CN106707380B (zh) * | 2015-07-24 | 2018-10-02 | 上海和辉光电有限公司 | 防污抗反射膜以及具有该防污抗反射膜的盖板和电子设备 |
| JP2020067582A (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム |
| CN112505947A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-03-16 | 重庆潮汐眼镜有限公司 | 一种眼镜镜片加工方法 |
| WO2023210687A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | ニデック株式会社 | 光学部材およびレンズユニット |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07116588B2 (ja) * | 1990-08-08 | 1995-12-13 | 信越化学工業株式会社 | Ｘ線リソグラフィ用マスクの透過体の製造方法 |
| JPH0562971A (ja) * | 1991-09-02 | 1993-03-12 | Fuji Electric Co Ltd | 窒化シリコン膜の形成方法 |
| JPH06186403A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-08 | Olympus Optical Co Ltd | 多層膜光学部材 |
| JPH08115912A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 窒化ケイ素薄膜の作製方法 |
| JPH0974092A (ja) * | 1995-09-07 | 1997-03-18 | Canon Inc | 多層積層薄膜およびその形成方法 |
| JPH1192934A (ja) * | 1997-09-17 | 1999-04-06 | Daido Steel Co Ltd | 硬質炭素厚膜及びその製造方法 |
| JPH11242102A (ja) * | 1998-02-26 | 1999-09-07 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止膜とその製造方法 |
| JP2006267561A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Seiko Epson Corp | 光学素子およびその製造方法 |
-
2007
- 2007-03-23 JP JP2007077726A patent/JP5066967B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008241746A (ja) | 2008-10-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100219 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110811 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120730 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150824 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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