JP4910619B2

JP4910619B2 - メガネレンズの製造方法

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Publication number: JP4910619B2
Application number: JP2006280382A
Authority: JP
Inventors: 崇野口
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2006-10-13
Filing date: 2006-10-13
Publication date: 2012-04-04
Anticipated expiration: 2026-10-13
Also published as: JP2008096828A

Description

本発明は、低屈折率層と高屈折率層からなる反射防止層を有するメガネレンズの製造方法に関する。

一般に、メガネレンズなどの光学物品の表面には、傷防止のためのハードコート層や、ゴースト及びちらつきを防止するための反射防止層、そして撥水効果を付与するための防汚層などが形成されている。
反射防止層はハードコート層表面に異なる屈折率を持つ物質を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層として形成される。このような多層反射防止層を構成する物質としては、低屈折率層に主に二酸化ケイ素が用いられ、高屈折率層にＺｒＯ_２（酸化ジルコニウム）、Ｔａ_２Ｏ_５（酸化タンタル）、ＴｉＯ_２（酸化チタン）、Ｎｂ_２Ｏ_５（酸化ニオブ）等が用いられていた。これらの組み合わせにより形成された光学物品の耐擦傷性は、使用者の乱暴な取り扱いや不注意などにより、必ずしも最表面の傷を防げることはなかった。
そこで、低屈折率層に酸化ケイ素、高屈折率層に窒化ケイ素を持つ構造とすることによって、耐擦傷性をさらに高めることができる技術が開発された。例えば、特許文献１には低屈折率層に二酸化ケイ素、高屈折率層に四窒化三ケイ素を用いた反射防止層を製造する技術が開示されている。

特開平１１−２４２１０２号公報

しかしながら、特許文献１で用いた四窒化三ケイ素は、二酸化ケイ素の約１０倍の高いガスバリア性を持っているため、製造工程から使用時にいたるまでの長時間にわたってプラスチック基材から発生する水分を食い止めてしまう。その結果、基材が膨潤してムクミ（膜浮き）が発生し、プラスチックレンズの耐久性を低下させてしまうという問題があった。
したがって、本発明の目的は、プラスチック基材から発生する水分を外部に逃がすことによって、ムクミの発生しない、かつ、耐擦傷性に優れたメガネレンズの製造方法を提供することである。

本発明のメガネレンズの製造方法は、ハードコート層を有するプラスチック基材の表面に、第１膜と第２膜とが交互に積層してなり最外層が第１層である反射防止層が設けられ、前記第１膜が二酸化ケイ素膜であり、前記第２膜が窒化ケイ素膜であるメガネレンズを製造する方法であって、前記第１膜と前記第２膜とが、それぞれ希ガスを導入して行われるスパッタリングによって形成され、前記第１膜の形成時の希ガスの圧力が２〜５Ｐａ、前記第２膜形成時の希ガスの圧力が、前記第１膜の形成時よりも大きく、かつ、５〜１０Ｐａとして、前記第２膜を形成する工程で、前記第２膜をポーラス化したことを特徴とする。
ここで、ポーラス化とは、多孔質化することである。窒化ケイ素膜を多孔質にすると、プラスチック基材から発生した水分は、形成された孔をつたって窒化ケイ素膜の外部に放出される。
したがって、ムクミが発生せず、耐久性に優れたプラスチック製メガネレンズを提供することができる。
また、二酸化ケイ素からなる低屈折率層と、窒化ケイ素からなる高屈折率層とが交互に積層されているので、耐擦傷性にも優れている。

その上、この発明によれば、反射防止層の第１膜および第２膜はスパッタリングにより形成される。スパッタリングでは通常、希ガスを導入して行われるが、窒化ケイ素膜からなる第２膜を形成する時には、通常よりも大きい圧力で希ガスを導入する。
その結果、窒化ケイ素膜を形成するとともに、希ガスが窒化ケイ素膜に取り込まれ、多数の孔が形成される。すなわち、窒化ケイ素膜がポーラス化（多孔質化）される。
したがって、プラスチック基材から発生した水分は、これらの孔をつたって外部に放出されるので、ムクミの発生しない耐久性に優れたプラスチック製メガネレンズが得られる。

しかも、この発明によれば、スパッタリング工程において、第１膜である酸化ケイ素膜は、希ガスの導入圧を通常の２〜５Ｐａで積層する。一方、第２膜である窒化ケイ素膜は、第１膜の形成時よりも大きく、かつ、５〜１０Ｐａの範囲で積層されるので、窒化ケイ素膜に多数の孔が形成され、ポーラス化（多孔質化）することができる。
５Ｐａ未満の場合は、窒化ケイ素膜に導入される希ガスが不足し、水分が通過できる程度の孔が形成されない。一方、１０Ｐａを越えると、窒化ケイ素膜に多数の孔ができすぎて、高屈折率層としての機能を果たさなくなってしまう。

本発明のメガネレンズの製造方法において、前記ポーラス化は、窒化ケイ素膜をエッチングすることにより行われることが好ましい。
この発明によれば、第２膜である窒化ケイ素膜を形成した後に、窒化ケイ素膜を腐食させて、窒化ケイ素膜に多数の孔を形成し、ポーラス化（多孔質化）する。したがって、プラスチック基材から発生した水分は、エッチングにより形成された多数の孔を通って外部に排出されるので、ムクミは発生しない。

本発明のメガネレンズの製造方法において、ハードコート層の直上が反射防止層の第１膜であることが好ましい。
この発明によれば、ハードコート層に接する面に第１膜である酸化ケイ素膜が積層されているので、ハードコート層に対する反射防止層の密着性が優れ、耐擦傷性も向上する。なお、ハードコート層に接する面に第２膜である窒化ケイ素膜を積層した場合には、密着性に問題があり、ムクミの原因ともなり得る。

本発明のメガネレンズの製造方法において、反射防止層の最上層が第１膜であることが好ましい。
この発明によれば、反射防止層の最上層に第１膜である酸化ケイ素膜が積層されるので、耐擦傷性に優れる。
また、反射防止層の表面に防汚層などを積層する場合に、防汚層の反射防止層への密着性が優れ、耐久性に優れた光学物品を提供することができる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態のメガネレンズの断面図である。

[第一実施形態]
（１．メガネレンズ１の構成）
メガネレンズ１は、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、反射防止層１２、防汚層１３が順に積層される。
反射防止層１２は、低屈折率層である第１膜１２１と、高屈折率層である第２膜１２２とが交互に積層され、ハードコート層１１側から順に第１膜１２１、第２膜１２２、第３膜１２３、第４膜１２４、第５膜１２５からなる５層で構成されている。第３膜１２３および第５膜１２５は、第１膜１２１と同じ低屈折率層であり、第４膜１２４は、第２膜１２２と同じ高屈折率層である。

（２．レンズ基材）
レンズ基材１０は、屈折力、機械的強度、透過率など、メガネまたは光学物品における基本特性を維持するための機能を有する。
レンズ基材１０は特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明なプラスチック樹脂等を例示することができる。

（３．ハードコート層）
ハードコート層１１としては、本来の機能である耐擦傷性を向上するものであればよい。例えば、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等を用いたハードコート膜が挙げられるが、シリコーン系樹脂を用いたハードコート膜が最も好ましい。例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート膜を形成することができる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含んでいてもよい。

さらにハードコート層１１は、従来公知の各種添加剤を含むことができる。例えば、塗布性の向上を目的とした各種レベリング剤、耐候性の向上を目的とした紫外線吸収剤や酸化防止剤、さらに染料や顔料等の添加剤などが挙げられる。
このようなハードコート層１１を形成する方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法により、ハードコート層１１を構成する組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法が例示できる。

（４．反射防止層）
（４−１．反射防止層の構成）
次に、反射防止層１２について説明する。
反射防止層１２は、反射防止、フィルタリング等の光学機能のほか、耐擦傷性機能も有する。なお、反射防止層１２は、可視光領域（３８０ｎｍ〜７００ｎｍ）で反射率が３％以下の機能を有する。
反射防止層１２は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、第１膜１２１と第２膜１２２と第３膜１２３と第４膜１２４と第５膜１２５とからなる５層で形成される。
第１膜１２１、第３膜１２３、第５膜１２５は二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率層であり、第２膜１２２および第４膜１２４は四窒化三ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）からなる高屈折率層となっている。

（４−２．反射防止層１２の形成）
反射防止層１２は、スパッタリングにより積層される。図２は、メガネレンズ１を製造するためのスパッタリング装置２を模式的に示した図である。
このスパッタリング装置２により、ハードコート層１１が積層されたレンズ基材１０の表面に、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、反射防止層１２を形成する。
以下、スパッタリング装置２の構成と、このスパッタリング装置２を用いた反射防止層１２の形成方法とについて詳述する。

スパッタリング装置２は、ケーシング２Ａを備え、このケーシング２Ａの内部に基材保持台２２が配置されている。基材保持台２２にはメガネレンズ１がセットされる。また、基材保持台２２と対向するようにターゲット設置台２５が設けられ、ターゲット設置台２５には、メガネレンズ１の表面と対向するようにターゲット２６が設置されている。ターゲット２６は、メガネレンズ１の表面に積層する物質で形成される。
また、図示しない真空排気装置（ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ等）で排気できるようになっており、ＡＰＣ（自動圧力制御装置）によってスパッタリング装置２内の圧力は一定に保たれる。
基材保持台２２とターゲット２６の間には高周波電圧が印可する電源装置２７が設けられており、このスパッタリング装置２が作動すると、スパッタリング装置２内でイオン化された希ガスがターゲット２６に衝突し、はじき飛ばされたターゲット物質がメガネレンズ１の表面に成膜される。

次に、反射防止層１２を形成する方法について説明する。
ハードコート層１１が積層されたメガネレンズ１を基材保持台２２に載せ、基材保持台２２を蒸着装置２内に設置し、真空排気した後、約８０℃に加熱する。
ターゲット２６には、まず、ＳｉＯ_２からなるターゲットを使用する。希ガスとして、Ａｒを２〜５Ｐａの圧力で導入する。これは、通常実施されるものと同じ圧力である。基材保持台２２とターゲット２６に高周波電圧を印加してスパッタリング装置２内にプラズマを発生させると、メガネレンズ１上にＳｉＯ_２からなる第１膜１２１を形成することができる。
次に、ターゲット２６を、ＳｉＯ_２からなるターゲットからＳｉ_３Ｎ_４からなるターゲットに代え、第１膜１２１形成時よりも大きいアルゴン導入圧力で第２膜１２２を形成する。この場合の具体的なアルゴン導入圧力は５〜１０Ｐａである。
これらを繰り返し、ＳｉＯ_２からなる第３膜１２３、Ｓｉ_３Ｎ_４からなる第４膜１２４、さらにＳｉＯ_２からなる第５膜１２５を形成し、反射防止層１２を形成することができる

（５．防汚層）
反射防止層１２の表面には、防汚層１３が形成される。
防汚層１３は、メガネレンズを使用するに際し、レンズ面に手垢、汗、化粧料等による汚れが付着し難く、しかも汚れを拭き取りやすくするために、防汚性能（撥水撥油性能）を付与する。
防汚層１３は、フッ素系のフルオロアルキシシラン等を用いて形成することができる。また、塗布方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法などの公知の方法が使用可能である。

以上説明した第一実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）反射防止層１２の第２膜１２２である窒化ケイ素膜は、第１膜１２１形成時の通常の圧力よりも大きい圧力（５〜１０Ｐａ）でアルゴンを導入して形成されるので、窒化ケイ素膜中に多数の孔が形成（ポーラス化）される。したがって、レンズ基材１０から発生した水分は、これらの孔をつたって外部に放出されるため、ムクミが発生しない。したがって、耐久性に優れたメガネレンズを得ることができる。

（２）また、反射防止層１２は、酸化ケイ素からなる低屈折率層（第１膜１２１）と窒化ケイ素からなる高屈折率層（第２膜１２２）を交互に積層して形成されるので、耐擦傷性に優れたメガネレンズを得ることができる。

（３）第一実施形態では、アルゴンの導入圧を変えるだけで第２膜１２２および第４膜１２４の窒化ケイ素膜をポーラス化できるので、特別な設備や工程を必要とせず、コストや手間がかからずに製造できる。

（４）反射防止層１２の最下層および最上層は、ＳｉＯ_２で形成されているので、反射防止層１２と接するハードコート層１１および防汚層１３との密着性がより高くなり、優れた耐久性を付与することができる。

[第二実施形態]
第二実施形態は、反射防止膜１２の第２膜１２２および第４膜１２４の窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜をポーラス化する方法が異なる以外は第一実施形態と同様である。
第二実施形態では、エッチングによりポーラス化を行う。エッチングは、第一実施形態において、Ｓｉ_３Ｎ_４層が形成された後、すなわち、第２膜１２２および第４膜１２４の形成後に行われる。
例えば、レンズの一方の面にＳｉＯ_２からなる第１膜１２１およびＳｉ_３Ｎ_４からなる第２膜１２２を形成した後、レンズを反転して他方の面の第１膜１２１および第２膜１２２も形成する。
そして、Ｓｉ_３Ｎ_４からなる第２膜１２２に対してエッチングを行う。エッチングに用いられる組成物は、組成比がＨＦ：ＮＨ_４Ｆ：Ｈ_２Ｏ＝１：２：２からなる緩衝フッ酸（ＢＨＦ）や、組成比がＨ_３ＰＯ_４：ＨＮＯ_３：Ｈ_２Ｏ＝４：１：１からなるリン硝酸などが挙げられる。

エッチングの所要時間は、あらかじめＳｉ_３Ｎ_４のエッチングレートを測定しておき、所定の膜厚となるように時間を調整する。
エッチング後、洗浄および乾燥を行い、再びスパッタリング法によって第３膜１２３のＳｉＯ_２層および第４膜１２４のＳｉ_３Ｎ_４層を形成する。他方の面も同様に行う。
第４膜１２４のＳｉ₃Ｎ₄層の形成後に、第２膜１２２形成後に行ったエッチングと同様の手順でエッチングを行う。
最後に第５膜１２５のＳｉＯ_２層を形成して反射防止層１２とすることができる。
以上説明した第二実施形態によれば、第一実施形態の（１）（２）（４）および以下の作用効果を奏することができる。

（５）高屈折率層である窒化ケイ素膜に対して、エッチングを行うことによりポーラス化するので、エッチングの所要時間を変えるだけで、ポーラス化の度合いを調整できる。したがって、高屈折率層としての機能と、水分を透過させる機能とを備えた窒化ケイ素膜を正確に形成することができる。

なお、本発明は第一実施形態および第二実施形態に限定されるものではなく、
例えば、本実施形態では、ハードコート層１１は単層となっているが、プライマー層を含む多層構造であってもよい。プライマー層は、ウレタン樹脂やエポキシ樹脂などで形成され、レンズ基材１０とハードコート層１１との密着性をより高めることができる。また、熱的な影響でレンズ基材１０が膨張する変形を緩和して上層の反射防止層１２のクラック発生を防止して耐熱性を向上させることができる。さらには、耐衝撃性を向上させることもできる。

また、本実施形態では、反射防止層１２を第１膜から第５膜までの５層構成としたが、反射防止層１２の最下層と最上層がＳｉＯ_２（酸化ケイ素）膜で形成されていればよいので、７層構成とすることもできる。また、第３層以降をＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４以外の材料から形成してもよく、さらには、第１層と第２層との間にＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４以外の材料からなる中間層を設けてもよい。

以下の実施例および比較例に示される方法でメガネレンズを作製し、耐擦傷性試験および恒温恒室試験を行った。

[実施例１]
第一実施形態に記載の方法でメガネレンズを作製した。
プラスチック製光学物品として、プラスチック製メガネレンズ（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））の表面に、ハードコート層が積層されたものを準備し、スパッタリング法により反射防止層の形成を行った。
低屈折率層には二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を用い、希ガスとしてアルゴンを使用した。このときのアルゴン導入圧は、通常の２〜５Ｐａで行った。
一方、高屈折率層には四窒化三ケイ素膜（Ｓｉ_３Ｎ_４）を用い、アルゴン導入圧を５〜１０Ｐａで行った。

レンズ基材側から順に、第１層は２．０５λ（物理膜厚１７５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層、第２層は、０．５１λ（物理膜厚３１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯＮ層、第３層は０．２５λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層、第４層は、１．０３λ（物理膜厚６４ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯＮ層、第５層は１．００λ（物理膜厚８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層を順次積層した。

反射防止層の表面には、防汚層または撥水層として、フッ素系のフルオロアルキシシラン等を積層した。例えば、ＧＥ東芝シリコーン株式会社製ＴＳＬ８２３３（商品名）、ＴＳＬ８２５７（商品名）、ダイキン工業株式会社製オプツールＤＳＸ（商品名）等を使用することができる。

[実施例２]
第二実施形態に記載の方法で、メガネレンズを作製した。反射防止層の形成方法以外は、実施例１と同様である。
低屈折率層には二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を用い、希ガスとしてアルゴンを使用した。また、高屈折率層には四窒化三ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）を用いた。低屈折率層、高屈折率層のどちらの場合も、通常のアルゴン導入圧２〜５Ｐａで行った。四窒化三ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜を積層後、四窒化三ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜に対してエッチングを行った。エッチングには、容量比が、ＨＦ：ＮＨ_４Ｆ：Ｈ_２Ｏ＝１：２：２の緩衝フッ酸（ＢＨＦ）を用いた。

各層の厚さは実施例１と同様に、レンズ基材側から順に、第１層は２．０５λ（物理膜厚１７５ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層、第２層は、０．５１λ（物理膜厚３１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯＮ層、第３層は０．２５λ（物理膜厚２１ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層、第４層は、１．０３λ（物理膜厚６４ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯＮ層、第５層は１．００λ（物理膜厚８６ｎｍ）の光学膜厚を持つＳｉＯ_２層を順次積層した。

[比較例１] 実施例１において、第２膜および第４膜の四窒化三ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）膜を形成するときのアルゴン導入圧を通常の２〜５Ｐａにした以外は、実施例１と同様の方法でメガネレンズを作製した。

実施例１、実施例２および比較例１により得られたメガネレンズを以下の試験により評価した。
（耐擦傷試験）
スチールウール試験を行った。メガネレンズにボンスター＃００００スチールウール（日本スチールウール（株)製）で１ｋｇの荷重をかけ、１０往復表面を摩擦し、傷ついた程度を目視で観察した。
評価基準は、傷の程度を目視の観察により１０段階（１（悪）〜１０（良））にランク付けし、以下のように評価した。
◎：段階１０〜８で非常に耐擦傷性が高い。
〇：段階７〜６で耐擦傷性が高い。
△：段階５〜４で耐擦傷性は若干低い。
×：段階３〜１で耐擦傷性が低い。

（恒温恒室試験）
この試験により、密着性と外観評価を行った。
密着性の評価は、レンズ凹面と凸面上にカッターで升目大きさ１ｍｍの四角形１００個を刻む。それを温度６０℃湿度１００％の恒温恒室層に置き、７日目に刻んだレンズのクロスカット試験を行った。クロスカット試験は、刻んだ部分にニチバンセロハンテープ幅12ｍｍ（JIS Z1522）を密着させ、すばやくテープをはがすことにより、ハガレの面積により評価した。
評価基準はハガレの面積を目視の観察により４段階にランク付けし、以下のように評価した。
◎：残った面積１００で非常に密着性が高い。
〇：残った面積９９〜８５で密着性が高い。
△：段残った面積８４〜３５で密着性がやや低い。
×：段階３４以下で密着性が低い。

外観評価試験は、図３に示すような透過検査法により行った。具体的には、まず反射の少ない黒色の背景（床、壁）Ｆを持つ検査室内で、照度を２００〜２５０ルクス、試験位置における照度を３５０〜５００ルクスとし、肉眼により明視できる環境とした（ＪＩＳＴ７３１３〜Ｔ７３１５に準拠）。また、蛍光灯Ｌは３波長域発光形昼白色タイプを使用した。そして、レンズを上下させ、レンズに残存しているクラックやムクミを観察した後、さらに４５〜９０度回転して、レンズを上下させ外観を観察した。各々１０個のサンプルについて評価を行った（ｎ＝１０）。

なお、外観評価試験は、図４に示すような反射検査法により行ってもよく、また両者を併用してもよい。図４の反射検査法においては、検査室内の環境は図３の透過検査法と同様であるが、レンズの傾斜角を変えて評価を行う。具体的には、いったんレンズを観察した後、４５〜９０度回転して再度同様に評価を行う。
評価結果を以下に示す。

実施例１および実施例２は、比較例１と同等のスチールウール試験の結果が得られた。すなわち、実施例１および実施例２が比較例１と同等の高耐擦傷性を持つことを示した。
実施例１、実施例２および比較例１はともにクロスカット試験が良好で、高い密着性の結果が得られた。
外観は比較例１においてムクミの発生がみられた。
したがって、実施例１および実施例２は、高耐擦傷性かつムクミ防止機能をもつ反射防止膜であるといえる。

本発明は、メガネレンズなどのプラスチック製光学物品に使用できる。

本発明の一実施形態にかかるメガネレンズの断面図。本発明の一実施形態にかかるスパッタリング装置の模式図。本発明の実施例にかかる外観評価の透過検査法を示す概略図。本発明の実施例にかかる外観評価の反射検査法を示す概略図。

符号の説明

１…メガネレンズ
１１…ハードコート層
１２…反射防止層
１３…防汚層

Claims

ハードコート層を有するプラスチック基材の表面に、第１膜と第２膜とが交互に積層してなり最外層が第１層である反射防止層が設けられ、前記第１膜が二酸化ケイ素膜であり、前記第２膜が窒化ケイ素膜であるメガネレンズを製造する方法であって、
前記第１膜と前記第２膜とが、それぞれ希ガスを導入して行われるスパッタリングによって形成され、前記第１膜の形成時の希ガスの圧力が２〜５Ｐａ、前記第２膜形成時の希ガスの圧力が、前記第１膜の形成時よりも大きく、かつ、５〜１０Ｐａとして、前記第２膜を形成する工程で、前記第２膜をポーラス化したことを特徴とするメガネレンズの製造方法。
請求項１に記載のメガネレンズの製造方法において、
前記ポーラス化は、前記第２膜をエッチングすることにより行われることを特徴とするメガネレンズの製造方法。
請求項１又は請求項２に記載のメガネレンズの製造方法において、
前記ハードコート層の直上が、前記反射防止層の前記第１膜であることを特徴とするメガネレンズの製造方法。
請求項１から請求項３のいずれかに記載のメガネレンズの製造方法において、
前記反射防止層の最上層が前記第１膜であることを特徴とするメガネレンズの製造方法。