WO2012043218A1 - 光学部品およびその製造方法 - Google Patents

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layer
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multilayer film
plastic substrate
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政興 友田
了 伊藤
圭 石村
弘達 奥村
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株式会社ニコン・エシロール
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Definitions

  • the present invention relates to an optical component and a manufacturing method thereof.
  • This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2010-218711 filed in Japan on September 29, 2010 and Japanese Patent Application No. 2010-288319 filed on December 24, 2010 in Japan, The contents are incorporated here.
  • plastic lenses are frequently used as spectacle lenses because of their advantages of being lightweight, excellent in impact resistance and easy to dye.
  • a plastic lens used for a spectacle lens is usually provided with an antireflection film on both sides.
  • the antireflection film for spectacle lenses generally has low reflection characteristics (broadband low reflection characteristics) over the entire visible region of 400 nm to 700 nm.
  • optical parts such as eyeglass lenses
  • optical parts including a plastic base as disclosed in Patent Documents 1 to 3, and an antireflection film disposed on the base.
  • blue light hazard particularly around 435 to 440 nm, and it is said that it is desirable to cut light in this region.
  • An object according to the present invention is to provide an optical component that has an antiglare effect, is effective in reducing fatigue, preventing eye diseases, and has good visibility, and a method for manufacturing the same.
  • An optical component includes a plastic substrate having a convex surface and a concave surface, and a multilayer film disposed on at least the convex surface of the plastic substrate, the multilayer film having a thickness of 400 to 500 nm.
  • the average reflectance in the wavelength range is 2 to 10%.
  • a method of manufacturing an optical component comprising: a plastic substrate having a convex surface and a concave surface; and a multilayer film disposed on at least the convex surface of the plastic substrate.
  • a method comprising: heating the plastic substrate; and adjusting the plastic substrate to a predetermined temperature by the heating, and then forming the multilayer film on the plastic substrate.
  • the forming step includes a process of alternately stacking a plurality of high refractive index materials and low refractive index materials to form a high refractive index layer having a multilayer structure, and a refractive index lower than the high refractive index layer on the high refractive index layer. Forming a low-refractive-index layer having a refractive index, and the average reflectance of the multilayer film in the wavelength range of 400 to 500 nm is set to 2 to 10%.
  • optical component in the aspect which concerns on this invention sufficient anti-glare effect is acquired, maintaining favorable visibility.
  • the method for manufacturing an optical component in the aspect of the present invention it is possible to provide an optical component with reduced optical characteristics, easy to see, and effective in preventing fatigue and eye disease. .
  • FIG. 3 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Example 1.
  • 6 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Example 2.
  • FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Example 3.
  • 6 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Comparative Example 1.
  • FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Example 4.
  • FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of an antireflection film according to Example 5.
  • FIG. 10 is a spectral characteristic diagram of a convex surface of an antireflection film according to Example 6.
  • FIG. 10 is a spectral characteristic diagram of the concave surface of the antireflection film according to Example 6.
  • FIG. 11 is a spectral characteristic diagram of a convex surface of an antireflection film according to Example 7.
  • FIG. 10 is a spectral characteristic diagram of the concave surface of the antireflection film according to Example 7. It is a wearing comparison evaluation result concerning experiment 3.
  • FIG. 1 is a side cross-sectional view schematically showing an optical component according to a first embodiment of the present invention.
  • Reference numeral 1 denotes an optical component for a spectacle lens.
  • the optical component 1 includes a plastic substrate 2 and an inorganic multilayer film 3 disposed on the convex surface of the plastic substrate 2.
  • a functional thin film 4 is disposed between the convex surface of the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3.
  • This functional thin film 4 is composed of a primer layer 5 and a hard coat layer 6 in this embodiment.
  • the respective films 3 and 4 disposed on the surface (convex surface) of the plastic substrate 2 will be mainly described. However, in actuality, the back surface (concave surface) of the plastic substrate 2 is also described. A film equivalent to each of the films 3 and 4 formed on the surface (convex surface) is formed.
  • the plastic substrate 2 is, for example, a transparent plastic such as acrylic resin, thiourethane resin, methacrylic resin, allyl resin, episulfide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polyester resin, polystyrene resin, episulfide. Resin, polyethersulfone resin, poly-4-methylpentene-1 resin, diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), polyvinyl chloride resin, halogen-containing copolymer, sulfur-containing copolymer, etc. is there.
  • the refractive index (nd) of the plastic substrate 2 is selected from, for example, 1.50, 1.60, 1.67, and 1.74.
  • the plastic substrate 2 When the refractive index of the plastic substrate 2 is 1.6 or more, it is preferable to use an allyl carbonate resin, an acrylate resin, a methacrylate resin, a thiourethane resin, or the like as the plastic substrate 2. . Moreover, the plastic substrate 2 may not be transparent as long as it has translucency, and may be colored. The transmittance of the colored plastic substrate 2 is preferably 5 to 85%.
  • the functional thin film 4 is disposed between the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3 as described above, and the primer layer 5 disposed in contact with the plastic substrate 2 and the primer layer 5 And a hard coat layer 6 disposed in contact with the inorganic multilayer film 3.
  • the primer layer 5 is for improving the adhesion between the plastic substrate 2 and the hard coat layer 6 and functions as an adhesion layer. Moreover, it is also for absorbing the impact on the optical component 1 and functions as an impact absorbing layer.
  • the primer layer 5 is mainly composed of a polyurethane-based resin, and in this embodiment, the polyurethane-based resin contains, for example, fine particles of an inorganic material.
  • the primer layer 5 may include at least one of acrylic resin, methacrylic resin, and organosilicon resin.
  • the thickness (actual thickness) of the primer layer 5 is preferably about 0.5 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less.
  • Such a primer layer 5 can be formed with a predetermined thickness on the plastic substrate 2 by immersing the plastic substrate 2 in the forming material liquid of the primer layer 5 and then lifting and drying the same.
  • a material for forming the primer layer 5 for example, a solution obtained by dispersing or dissolving the resin to be the primer layer 5 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used.
  • the hard coat layer 6 has a function of protecting the plastic substrate 2 and suppressing damage to the plastic substrate 2, and functions as a scratch-resistant film.
  • the hard coat layer 6 is made of, for example, an organosiloxane hard coat layer.
  • the organosiloxane hard coat layer is obtained by dispersing inorganic oxide fine particles in an organosiloxane resin.
  • the inorganic oxide for example, rutile type titanium oxide, oxides of silicon, tin, zirconium, and antimony are preferably used.
  • the hard coat layer 6 may be an organic silicon-based resin containing colloidal silica as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-55615.
  • the thickness (actual thickness) of the hard coat layer 6 is preferably about 2 ⁇ m to 4 ⁇ m.
  • the hard coat layer 6 is formed on the primer layer 5 on the plastic substrate 2 by immersing the plastic substrate 2 on which the primer layer 5 is formed in the forming material solution of the hard coat layer 6, and then pulling up and drying. It can be formed with a thickness of As the liquid for forming the hard coat layer 6, for example, a liquid obtained by dispersing or dissolving the resin to be the hard coat layer 6 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used. .
  • the interface between the functional thin film 4 and the plastic substrate 2 is sufficient if the refractive index and the refractive index of the plastic substrate 2 are substantially the same. Generation of interference fringes caused by reflection on the surface and a decrease in transmittance can be suppressed. Therefore, it is desirable to adjust the refractive index of the functional thin film 4 in accordance with the refractive index of the plastic substrate 2.
  • the type (physical properties) of the resin that is the main component of the functional thin film 4 is selected, or the resin that is the main component of the resin. This can be done by selecting the type (physical properties) of the fine particles to be added.
  • the functional thin film 4 is formed including the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • the primer layer 5 and the hard coat layer 6 are formed. It may be omitted.
  • a dielectric film or a metal film made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like may be provided in addition to the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • a dielectric film or a metal film having a thickness of 20 nm or less may be disposed between the high refractive index inorganic material and the low refractive index inorganic material constituting the inorganic multilayer film. Note that the thickness of the dielectric film or the metal film may be 10 nm or less.
  • the inorganic multilayer film 3 has a high refractive index layer 7 having a multilayer structure in which a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials are alternately laminated on the plastic substrate 2, and the high refractive index layer 7 having a low refractive index layer 8 made of a low refractive index inorganic material having a lower refractive index than that of the high refractive index layer 7, and serving as an antireflection film for preventing reflection of incident light. It has a function.
  • the inorganic multilayer film 3 is designed so that the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm is 2 to 10%.
  • the average reflectance when used as a spectacle lens, a sufficient antiglare effect can be obtained and good visibility can be maintained.
  • the average reflectance in the wavelength region is set to 10% or more, a person wearing such spectacles feels troublesome in reflection by incident light from the concave surface of the spectacle lens.
  • the average reflectance is preferably 3 to 10%.
  • an inorganic multilayer film is used as the multilayer film, but an organic multilayer film may be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the inorganic multilayer film 3 is preferably designed so that the reflectance is 1.5% or less in the wavelength region of 580 to 780 nm. With such a design, a spectacle lens having a further effect on the antiglare effect and the visibility can be obtained.
  • the high refractive index layer 7 includes a first layer 9 made of a high refractive index inorganic material provided on the plastic substrate 2 side, and a low refractive index inorganic material provided on the first layer 9. And a third layer 11 made of a high refractive index inorganic material provided on the second layer 10.
  • the first layer 9 is provided in contact with the hard coat layer 6 and is made of zirconium dioxide (ZrO 2 ) having a refractive index of 2.0.
  • ZrO 2 zirconium dioxide
  • titanium dioxide (TiO 2 ) or tantalum dioxide (Ta 2 O 5 ) can be used as the high refractive index inorganic material constituting the first layer 9.
  • it can also be formed of an oxide of an alloy composed of a plurality of kinds of zirconium, titanium, and tantalum.
  • Y 2 O 3 yttrium dioxide
  • Nb 2 O 5 niobium dioxide
  • the adhesion between the first layer 9 and the hard coat layer 6 can be obtained by forming the first layer 9 with the high refractive index inorganic material (ZrO 2 ).
  • the adhesion (adhesive strength) between the layer (ZrO 2 ) made of the high refractive index inorganic material and the hard coat layer 6 is more closely adhered to the layer (SiO 2 ) made of the low refractive index inorganic material and the hard coat layer 6. This is because it is larger than the property (adhesion).
  • the adhesion (adhesion) between the high refractive index layer (ZrO 2 ) and the plastic substrate 2 is lower. Since it is larger than the adhesiveness (adhesive force) between the rate layer (SiO 2 ) and the plastic substrate 2, the adhesiveness becomes more advantageous.
  • the second layer 10 is provided in contact with the first layer 9 and is made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a refractive index of 1.47.
  • SiO 2 silicon dioxide
  • MgF 2 having a refractive index of 1.36 can be used as the low refractive index inorganic material constituting the second layer 10 in addition to SiO 2 .
  • the third layer 11 is provided in contact with the second layer 10 and is made of zirconium dioxide (ZrO 2 ) in the same manner as the first layer 9.
  • the third layer 11 can also be formed of a high refractive index inorganic material other than ZrO 2 , similarly to the first layer 9. Further, the high refractive index layer 7 is not formed in the three-layer structure of the first layer 9, the second layer 10, and the third layer 11 as described above. It can also be composed of layers, or four or more layers.
  • the low refractive index layer 8 is provided in contact with the third layer 11 and is made of silicon dioxide (SiO 2 ) as in the second layer 10.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound is formed on the inorganic multilayer film 3, that is, on the outermost layer (low refractive index layer 8) of the inorganic multilayer film 3 farthest from the plastic substrate 2.
  • a water / oil repellent film 12 is provided.
  • the water / oil repellent film 12 is mainly composed of a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound and has liquid repellency (water repellency, oil repellency). That is, this water / oil repellent film 12 reduces the surface energy of the optical component, exhibits functions of preventing water scorching and dirt, and improves the sliding performance of the surface of the optical component. As a result, scratch resistance is improved. Can be improved.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound the following general formula (1):
  • Rf represents a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms
  • Y represents iodine or hydrogen
  • Y ′ represents hydrogen or a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Y ′′ represents a fluorine or trifluoromethyl group
  • R 1 represents a hydrolyzable group
  • R 2 represents hydrogen or an inert monovalent organic group
  • a, b, c, d are Each represents an integer of 0 to 200, e represents 0 or 1, s and t each represents an integer of 0 to 2, and w represents an integer of 1 to 10.
  • X represents oxygen or a divalent organic group
  • X ′ represents a hydrolyzable group
  • X ′′ represents a divalent organic silicone group
  • R 3 represents carbon.
  • q represents an integer of 1 to 3
  • m, n and o each represents an integer of 0 to 200
  • p represents 1 or 2
  • r Represents an integer of 2 to 20
  • k represents an integer of 0 to 2
  • z represents an integer of 0 to 10 when k is 0 or 1.
  • Rf 2 represents a divalent linear perfluoropolyether group
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group
  • R 5 represents a hydrolyzable group.
  • I represents an integer of 0 to 2
  • j represents an integer of 1 to 5
  • u represents 2 or 3.
  • a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound selected from the general formulas (1) to (5) and the general formula (6) The selected fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound is preferably used in combination.
  • the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formulas (1) to (5) OPTOOL-DSX, OPTOOL-AES4, etc. manufactured by Daikin Industries, Ltd. can be used.
  • As the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formula (6) KY-130, KY-164 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used.
  • FIG. 2 is a side sectional view schematically showing an optical component according to a second embodiment of the present invention, and reference numeral 1 ′ denotes an optical component for a spectacle lens.
  • This optical component 1 ′ includes an inorganic multilayer film 3 ′ disposed on the concave surface of the plastic substrate 2 in addition to the structure of the optical component 1 of the first embodiment.
  • a functional thin film 4 is disposed between the concave surface of the plastic substrate 2 and the inorganic multilayer film 3 ′.
  • This functional thin film 4 is composed of a primer layer 5 and a hard coat layer 6 in this embodiment.
  • the inorganic multilayer film 3 ′ has a high refractive index layer 7 ′ having a multilayer structure in which a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials are alternately stacked on the plastic substrate 2.
  • a low refractive index layer 8 ′ made of a low refractive index inorganic material having a lower refractive index than the high refractive index layer 7 ′ is used.
  • the high refractive index layer 7 ′ includes a first layer 9 ′ made of a high refractive index inorganic material provided on the plastic substrate 2 side and the first layer, as in the first embodiment.
  • Inorganic materials used for the first layer 9 ′, the second layer 10 ′, and the third layer 11 ′ in the present embodiment include the first layer 9, the second layer 10, and the third layer 11 in the first embodiment.
  • the thing similar to the inorganic material used is mentioned.
  • the high refractive index layer 7 ′ can be composed of two layers or four or more layers without forming it in a three-layer structure like the high refractive index layer 7 in the first embodiment.
  • the inorganic multilayer film 3 ′ may be designed so that the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm is 2 to 10%, like the inorganic multilayer film 3 of the first embodiment. . Furthermore, the inorganic multilayer film 3 'is preferably designed so that the reflectance is 1.5% or less in the wavelength region of 580 to 780 nm.
  • the inorganic multilayer film 3 ′ may be the same as a conventional antireflection film. That is, the inorganic multilayer film 3 'may be an antireflection film having an average reflectance of 1.5% or less in a wavelength range of 380 to 780 nm.
  • the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm of the inorganic multilayer film 3 disposed on the convex surface of the plastic substrate 2 is the same as that of the inorganic multilayer film disposed on the concave surface of the plastic substrate 2. It may be larger than the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm of the film 3 ′.
  • the inorganic multilayer film 3 disposed on the convex surface of the plastic substrate 2 has an average reflectance of 5 to 10% in the wavelength range of 400 to 500 nm, and the inorganic multilayer film disposed on the concave surface of the plastic substrate 2.
  • the film 3 ′ is preferably designed so that the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm is 2 to 4%.
  • the inorganic multilayer film 3 'disposed on the concave surface of the plastic substrate 2 may have an average reflectance of 3 to 4% in the wavelength range of 400 to 500 nm.
  • the functional thin film 4 is formed including the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • the primer layer 5 and the hard coat layer 6 include Of these, either one or both may be omitted.
  • a dielectric film or a metal film made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like may be provided in addition to the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • a dielectric film or a metal film having a thickness of 20 nm or less may be disposed between the high refractive index inorganic material and the low refractive index inorganic material constituting the inorganic multilayer film. Note that the thickness of the dielectric film or the metal film may be 10 nm or less.
  • an inorganic multilayer film is used as the multilayer film, but an organic multilayer film may be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the optical component manufacturing method in the present embodiment includes a step of forming a functional thin film 4 (primer layer 5 and hard coat layer 6) on a plastic substrate 2 by a method similar to the conventional method, and heating the plastic substrate 2.
  • a predetermined temperature for example, 70 ° C.
  • the step of forming the inorganic multilayer film 3 includes a process of alternately stacking a plurality of high refractive index inorganic materials and low refractive index inorganic materials to form a high refractive index layer 7 having a multilayer structure, And forming a low refractive index layer 8 made of a low refractive index inorganic material.
  • a vacuum vapor deposition method is preferably used for forming each of these layers.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a vapor deposition apparatus 30 for forming each layer of the inorganic multilayer film 3.
  • the vapor deposition apparatus 30 includes a first chamber 31, a second chamber 32, and a third chamber 33.
  • Each of the first, second, and third chambers 31, 32, and 33 is reduced in pressure to a substantially vacuum and held in that state.
  • the vapor deposition apparatus 30 can adjust each internal temperature of the 1st, 2nd, 3rd chamber 31, 32, 33 by the temperature control means which is not shown in figure.
  • the vapor deposition apparatus 30 includes a holding member 34 in each internal space of the first, second, and third chambers 31, 32, and 33.
  • the holding member 34 has a curved upper surface (holding surface) and is configured to be rotatable, and holds a plurality of plastic substrates 2 on the upper surface.
  • the vapor of ZrO 2 is released from the first vapor deposition source 35 ⁇ / b> A, and is supplied onto the plastic substrate 2 held by the holding member 34 for vapor deposition.
  • the first layer 9 and the third layer 11 in the high refractive index layer 7 of the inorganic multilayer film 3 can be formed.
  • the second vapor deposition source 35B with a beam SiO 2 vapor is released from the second vapor deposition source 35B, and is supplied onto the plastic substrate 2 held by the holding member 34 for vapor deposition.
  • the second layer 10 and the low refractive index layer 8 in the high refractive index layer 7 of the inorganic multilayer film 3 can be formed.
  • the high refractive index inorganic material is formed on the plastic substrate 2 held by the holding member 34. And layers made of a low refractive index inorganic material can be alternately formed and laminated.
  • the inorganic multilayer film 3 is designed so that the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm is 2 to 10%. Furthermore, the inorganic multilayer film 3 is preferably designed so that the reflectance is 1.5% or less in the wavelength range of 580 to 780 nm.
  • a vapor deposition source made of zirconium oxide (ZrO) is used as the first vapor deposition source 35A, and the first vapor deposition source 35A is irradiated with a beam while introducing oxygen into the internal space of the second chamber 32, and zirconium dioxide (ZrO 2 ). You may make it form the high refractive index inorganic material layer which consists of these.
  • a water / oil repellent film 12 is formed thereon.
  • a wet method such as a dipping method, a spin coat method and a spray method, or a dry method such as a vacuum deposition method.
  • the dipping method is common and is often used.
  • the inorganic multilayer film 3 is formed in a solution obtained by dissolving a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in an organic solvent, the optical component is immersed, pulled up under certain conditions, and dried to form a film.
  • the organic solvent perfluorohexane, perfluoro-4-methoxybutane, perfluoro-4-ethoxybutane, metaxylene hexafluoride, or the like is used.
  • the dilution concentration with an organic solvent is preferably 0.01 to 0.5% by weight, more preferably 0.03 to 0.1% by weight. If the concentration is too low, the water / oil repellent layer 12 having a sufficient film thickness cannot be obtained, and if the concentration is too high, uneven coating tends to occur and the material cost increases. Of the dry methods, vacuum deposition is often used. This method is a method of forming the water- and oil-repellent film 12 by heating and evaporating the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in a vacuum chamber.
  • the inorganic multilayer film 3 is designed so that the average reflectance in the wavelength range of 400 to 500 nm is 2 to 10%. As for visibility, good performance can be ensured. Moreover, in the manufacturing method of an optical component, such a well-balanced and excellent optical component can be reliably provided.
  • Example 1 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After performing Ar ion beam cleaning for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index of 2.00) is sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.035 ⁇ and the second layer SiO 2. (Refractive index 1.47) with an optical film thickness of 0.565 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical film thickness 0.075 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • the optical film thickness is 0.04 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.32 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.26 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • Concave surface device, processing atmosphere, pre-treatment similar to convex surface, first layer SiO 2 (refractive index 1.47) optical thickness 0.10 ⁇ , second layer ZrO 2 (refractive in order from plastic substrate side)
  • the optical film thickness is 0.16 ⁇
  • the third layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.06 ⁇
  • the fourth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is optical.
  • the spectral characteristics in Example 1 are shown in FIG.
  • Example 2 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After Ar ion beam cleaning was performed for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) was sequentially formed with an optical film thickness of 0.07 ⁇ and the second layer SiO 2 from the plastic substrate side. (Refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.59 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical thickness of 0.06 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • the optical film thickness is 0.04 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.3 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.265 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • Concave surface device, processing atmosphere, pre-treatment similar to convex surface, first layer SiO 2 (refractive index 1.47) optical thickness 0.10 ⁇ , second layer ZrO 2 (refractive in order from plastic substrate side)
  • the optical film thickness is 0.16 ⁇
  • the third layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.06 ⁇
  • the fourth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is optical.
  • the spectral characteristics in Example 2 are shown in FIG.
  • Example 3 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After performing Ar ion beam cleaning for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index of 2.00) is sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.095 ⁇ and the second layer SiO 2. (Refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.595 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical thickness of 0.05 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • the optical film thickness is 0.03 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.305 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.275 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • Concave surface device, processing atmosphere, pre-treatment similar to convex surface, first layer SiO 2 (refractive index 1.47) optical thickness 0.10 ⁇ , second layer ZrO 2 (refractive in order from plastic substrate side)
  • the optical film thickness is 0.16 ⁇
  • the third layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.06 ⁇
  • the fourth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is optical.
  • the spectral characteristics in Example 3 are shown in FIG.
  • Table 1 shows the details of each film formation layer in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.
  • Example 2 having an average reflectance of about 6% in the wavelength range of 400 to 500 nm was deemed most suitable for each evaluation item.
  • Example 2 Film formation was performed under the same film formation conditions as in Example 2 of ⁇ Experiment 1 >>.
  • Example 4 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After Ar ion beam cleaning was performed for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) was sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.155 ⁇ and the second layer SiO 2. (Refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.045 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical thickness of 0.5 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • Lamination was performed with an optical film thickness of 0.335 ⁇ . Laminated. Note that ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • Concave surface device, processing atmosphere, pre-treatment similar to convex surface, first layer SiO 2 (refractive index 1.47) optical thickness 0.10 ⁇ , second layer ZrO 2 (refractive in order from plastic substrate side) The optical film thickness is 0.16 ⁇ , the third layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.06 ⁇ , and the fourth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is optical.
  • a film thickness of 0.25 ⁇ and a fifth layer SiO 2 (refractive index of 1.47) were laminated with an optical film thickness of 0.28 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • the spectral characteristics in Example 4 are shown in FIG.
  • Table 3 shows details of each film formation layer in Examples 2 and 4 and Comparative Example 1.
  • the average reflectance is set to 2 to 10% in the wavelength range of 400 to 500 nm, and further, the reflectance is set to 1.5% or less in the wavelength range of 580 to 780 nm. It was confirmed that the determination was more effective.
  • Example 5 Convex surface, concave surface: The lens is set in a rotating dome provided in the vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted until the pressure reaches 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa. After performing Ar ion beam cleaning for 60 seconds under conditions of 500 V and an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.10 ⁇ and the second layer. SiO 2 (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.10 ⁇ , the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.205 ⁇ , and the fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • Example 6 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After performing Ar ion beam cleaning for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index of 2.00) is sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.125 ⁇ and the second layer SiO 2. (Refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.095 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical thickness of 0.21 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • the optical film thickness is 0.07 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.14 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.35 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • the first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.105 ⁇ and the second layer SiO 2 (refractive The refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.095 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.23 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • the film thickness was 0.07 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) was laminated with an optical film thickness 0.14 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) was laminated with an optical film thickness 0.33 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 11 shows the spectral characteristics of the convex surface in Example 6, and
  • FIG. 12 shows the spectral characteristics of the concave surface.
  • Example 7 Convex surface: A lens is set in a rotating dome provided in a vacuum chamber, the temperature in the vacuum chamber is heated to 70 degrees, and the pressure is exhausted to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, an acceleration voltage of 500 V, After performing Ar ion beam cleaning for 60 seconds under the condition of an acceleration current of 100 mA, the first layer ZrO 2 (refractive index of 2.00) is sequentially formed from the plastic substrate side with an optical film thickness of 0.135 ⁇ and the second layer SiO 2. (Refractive index 1.47) with an optical thickness of 0.085 ⁇ , third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with an optical thickness of 0.20 ⁇ , and fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47).
  • the optical film thickness is 0.055 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is the optical film thickness 0.19 ⁇
  • the sixth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is the optical film thickness 0.35 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • Concave surface device, processing atmosphere, pre-treatment similar to convex surface, first layer ZrO 2 (refractive index 2.00) with optical film thickness of 0.11 ⁇ and second layer SiO 2 (refractive in order from the plastic substrate side)
  • the optical thickness is 0.09 ⁇
  • the third layer ZrO 2 (refractive index 2.00) is optical thickness 0.22 ⁇
  • the fourth layer SiO 2 (refractive index 1.47) is optical.
  • the film thickness was 0.06 ⁇
  • the fifth layer ZrO 2 (refractive index 2.00) was laminated with an optical film thickness of 0.20 ⁇
  • ⁇ is 500 nm as the design center wavelength.
  • FIG. 13 shows the spectral characteristics of the convex surface in Example 7, and
  • FIG. 14 shows the spectral characteristics of the concave surface.
  • Table 5 shows details of each film formation layer in Examples 5 to 7.
  • the average reflectance of the convex surface is 5 to 10% and the average reflectance of the concave surface is 2 to 4% in the wavelength region of 400 to 500 nm, and the reflectance in the wavelength region of 580 to 780 nm. It was confirmed that by setting the ratio to 1.5% or less, it is particularly effective in reducing glare.

Abstract

　光学部品は、凸面及び凹面を有するプラスチック基材と、前記プラスチック基材の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品である。多層膜は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％である。

Description

光学部品およびその製造方法
　本発明は、光学部品およびその製造方法に関する。
　本願は、２０１０年９月２９日に、日本に出願された特願２０１０－２１８７１１号及び２０１０年１２月２４日に、日本に出願された特願２０１０－２８８３１９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　近年、眼鏡レンズでは、軽量で耐衝撃性に優れ、かつ染色しやすいとの利点からプラスチックレンズが多用されている。眼鏡レンズに使用されるプラスチックレンズには、表面反射を防止する目的で、その両面に反射防止膜が通常施されている。眼鏡レンズ用反射防止膜は、一般的に４００ｎｍ～７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）特性を有する。
　眼鏡レンズ等の光学部品において、例えば特許文献１～３に開示されているようなプラスチックの基材と、その基材上に配置される反射防止膜とを備えた光学部品が知られている。
特開平１１－３０７０３号公報 特開２００６－２５１７６０号公報 特開２００７－１２７６８１号公報
　しかし、最近の研究より、必ずしも可視領域全域にわたって低い反射特性を有することが視認性及び目の健康に対して望ましいことではないことがわかってきた。可視光線の青色領域（３８０～５００ｎｍ）をカットすることにより、眩しさが低減され視認性、コントラストが向上する。
　また、目の健康に対して、可視光線の青色領域（３８０～５００ｎｍ）はエネルギーが強いため、網膜などの損傷の原因になると言われている。青色光による損傷を「ブルーライトハザード」といい、特に４３５～４４０ｎｍ近辺が最も危険であり、この領域の光をカットすることが望ましいと言われている。
　昨今、ディスプレイの主流となっている液晶画面や、ＬＥＤ照明では、４５０ｎｍ付近の光が多く出ているため、このような青色領域の光線の制御が注目されている。可視光線の青色領域（３８０～５００ｎｍ）をカットする手段としては、サングラスなどの染色レンズが知られている。しかし、染色レンズでは全可視領域をカットするため、光量低下により視認性が悪くなってしまう。
　本発明に係る態様は、防眩効果を有し、疲労感の低減、眼病予防にも効果的で、かつ、視認性が良好な光学部品及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明に係る一態様における光学部品は、凸面及び凹面を有するプラスチック基材と、前記プラスチック基材の少なくとも前記凸面上に配設された多層膜とを備え、前記多層膜は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％である。
　また、本発明に係る一態様における光学部品の製造方法は、凸面及び凹面を有するプラスチック基材と、前記プラスチック基材の少なくとも前記凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、前記多層膜の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を２～１０％にする。
　本発明に係る態様における光学部品によれば、良好な視認性を維持したまま充分な防眩効果が得られる。
　また、本発明に係る態様における光学部品の製造方法によれば、眩しさが低減され、見え易く、疲労、眼病予防にも効果的な光学特性を有した光学部品を提供することが可能となる。
第１実施形態に係る光学部品の一例を示す模式図である。 第２実施形態に係る光学部品の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る蒸着装置の一例を示す模式図である。 実施例１に係る反射防止膜の分光特性図である。 実施例２に係る反射防止膜の分光特性図である。 実施例３に係る反射防止膜の分光特性図である。 比較例１に係る反射防止膜の分光特性図である。 実施例４に係る反射防止膜の分光特性図である。 実験２に係る装用比較評価結果である。 実施例５に係る反射防止膜の分光特性図である。 実施例６に係る反射防止膜凸面の分光特性図である。 実施例６に係る反射防止膜凹面の分光特性図である。 実施例７に係る反射防止膜凸面の分光特性図である。 実施例７に係る反射防止膜凹面の分光特性図である。 実験３に係る装用比較評価結果である。
　以下、本発明に係る実施形態を詳しく説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
（１） 第一の実施形態
　図１は、本発明に係る第一の実施形態の光学部品を模式的に示す側断面図であり、符号１は眼鏡レンズ用の光学部品である。
　この光学部品１は、プラスチック基材２と、プラスチック基材２の凸面上に配設された無機多層膜３とを備えて構成されている。プラスチック基材２の凸面と無機多層膜３との間には、本実施形態では機能性薄膜４が配設されている。この機能性薄膜４は、本実施形態ではプライマー層５とハードコート層６とからなっている。
　なお、以下の説明においては、プラスチック基材２の表面（凸面）に配設されている各膜３、４について主に説明するが、実際には、プラスチック基材２の裏面（凹面）にも、表面（凸面）に形成される各膜３、４と同等の膜が形成されている。
　プラスチック基材２は、例えば透明なプラスチックであるアクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエ－テルサルホン樹脂ポリ４－メチルペンテン－１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）、ポリ塩化ビニル樹脂、ハロゲン含有共重合体、及びイオウ含有共重合体等によって形成されたものである。また、本実施形態では、プラスチック基材２の屈折率（ｎｄ）としては、例えば１．５０、１．６０、１．６７、及び１．７４のうちから選択されたものが用いられる。なお、プラスチック基材２の屈折率を１．６以上にする場合、プラスチック基材２としては、アリルカーボネート系樹脂、アクリレート系樹脂、メタクリレート系樹脂、及びチオウレタン系樹脂等を使用することが好ましい。
　また、プラスチック基材２は透光性を有していれば透明でなくてもよく、着色されていてもよい。着色されたプラスチック基材２の透過率は、５～８５％であることが好ましい。
　機能性薄膜４は、前記したようにプラスチック基材２と無機多層膜３との間に配置されたもので、プラスチック基材２に接して配設されたプライマー層５と、このプライマー層５に接し、かつ無機多層膜３に接して配設されたハードコート層６とからなっている。
　プライマー層５は、プラスチック基材２とハードコート層６との密着性を良好にするためのもので、密着層として機能するようになっている。また、光学部品１に対する衝撃を吸収するためのものでもあり、衝撃吸収層としても機能するようになっている。
　このプライマー層５は、ポリウレタン系樹脂を主成分とするもので、本実施形態では、ポリウレタン系樹脂に例えば無機材料の微粒子を含有させたものである。なお、プライマー層５は、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、及び有機珪素系樹脂の少なくとも一種を含んでいてもよい。プライマー層５の厚み（実際の厚み）については、０．５μｍ以上１．０μｍ以下程度とするのが好ましい。
　このようなプライマー層５は、プライマー層５の形成材料液にプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上に所定の厚さで形成することができる。プライマー層５の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、前記したプライマー層５となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　ハードコート層６は、プラスチック基材２を保護し、プラスチック基材２の損傷を抑制する機能を有するもので、耐擦傷性膜として機能するようになっている。
　ハードコート層６は、例えばオルガノシロキサン系ハードコート層からなっている。オルガノシロキサン系ハードコート層は、オルガノシロキサン系樹脂に無機酸化物の微粒子を分散させたものである。無機酸化物としては、例えばルチル型の酸化チタンや、ケイ素、錫、ジルコニウム、及びアンチモンの酸化物が好適に用いられる。また、ハードコート層６として、例えば特公平４－５５６１５号公報に開示されているような、コロイド状シリカ含有の有機ケイ素系樹脂であってもよい。ハードコート層６の厚み（実際の厚み）については、２μｍ以上４μｍ以下程度とするのが好ましい。
　ハードコート層６は、ハードコート層６の形成材料液に、プライマー層５を形成したプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上のプライマー層５上に所定の厚さで形成することができる。ハードコート層６の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、前記したハードコート層６となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　これらプライマー層５及びハードコート層６を含む機能性薄膜４については、その屈折率と、プラスチック基材２の屈折率とがほぼ同じであれば、機能性薄膜４とプラスチック基材２との界面での反射で生じる干渉縞の発生及び透過率の低下を抑制することができる。したがって、プラスチック基材２の屈折率に応じて、機能性薄膜４の屈折率を調整するのが望ましい。機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）の屈折率の調整については、機能性薄膜４の主成分となる樹脂の種類（物性）を選択すること、あるいは、その主成分となる樹脂に添加する微粒子の種類（物性）を選択すること等によって行うことができる。
　なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、前記プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
　また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
　無機多層膜３は、前記プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７を有し、該高屈折率層７上に、この高屈折率層７より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８を有した複層構成のもので、入射した光の反射を防止する反射防止膜としての機能を有したものである。この無機多層膜３は、本実施形態では４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％であるように設計されている。
　かかる平均反射率の範囲にあれば、眼鏡レンズとして使用した場合、充分な防眩効果が得られ、かつ良好な視認性を維持することができる。該波長域における平均反射率を１０％以上にした場合、かかる眼鏡をかけた者は、眼鏡レンズの特に凹面からの入射光による反射にわずらわしさを感じるようになる。前記平均反射率は３～１０％であることが好ましい。
　また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
　更に、無機多層膜３は、５８０～７８０ｎｍの波長域において反射率を１．５％以下であるように設計されることが好ましい。このような設計により、防眩効果及び視認性に一層の効果を有する眼鏡レンズを得ることができる。
　高屈折率層７は、本実施形態では、前記プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９と、該第１層９上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０と、該第２層１０上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１と、からなっている。
　第１層９は、ハードコート層６に接して設けられたもので、屈折率が２．０の二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、第１層９を構成する高屈折率無機材料としては、ＺｒＯ２以外にも、例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）や二酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）を用いることもできる。さらには、ジルコニウム、チタン、タンタルの複数種からなる合金の酸化物によって形成することもできる。また、これら以外にも、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、Ｎｂ２Ｏ５（二酸化ニオブ）を用いることもできる。
　ここで、このように第１層９を高屈折率無機材料（ＺｒＯ２）で形成することにより、第１層９とハードコート層６との間の密着性を得ることができる。すなわち、高屈折率無機材料からなる層（ＺｒＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）のほうが、低屈折率無機材料からなる層（ＳｉＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）よりも大きいためである。また、機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）が省略された場合においても、高屈折率層（ＺｒＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）のほうが、低屈折率層（ＳｉＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）よりも大きいため、密着性についてより有利になる。
　第２層１０は、第１層９に接して設けられたもので、屈折率が１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。なお、第２層１０を構成する低屈折率無機材料としては、ＳｉＯ２以外にも、例えば屈折率が１．３６のＭｇＦ２を用いることができる。
　第３層１１は、第２層１０に接して設けられたもので、第１層９と同様に二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、この第３層１１についても、第１層９と同様に、ＺｒＯ２以外の高屈折率無機材料によって形成することもできる。
　また、高屈折率層７については、前記したように第１層９、第２層１０、第３層１１の三層構造で形成することなく、上述した反射率についての条件を満たせば、二層、あるいは四層以上で構成することもできる。
　低屈折率層８は、前記第３層１１に接して設けられたもので、前記第２層１０と同様に二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。
　また、本実施形態では、無機多層膜３の上、すなわち前記プラスチック基材２から最も遠い無機多層膜３の最外層（低屈折率層８）の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜１２が設けられている。
　この撥水撥油膜１２は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を主成分とするもので、撥液性（撥水性、撥油性）を有するものである。すなわち、この撥水撥油膜１２は、光学部品の表面エネルギーを低下させ、水やけ防止、汚れ防止の機能を発揮するとともに、光学部品表面のすべり性能を向上させ、その結果として、耐擦傷性を向上させることができる。
　フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
（式（１）中、Ｒｆは炭素数１～１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１～５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０～２の整数を表し、ｗは１～１０の整数を表す。）
及び下記一般式（２）～（５）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
（式（２）～（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１～２２の直鎖状又は分岐上アルキレン基を表し、ｑは１～３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２～２０の整数を表し、ｋは０～２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０～１０の整数を表す。）
及び下記一般式（６）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０～２の整数を表し、ｊは１～５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）
の中から選択される。
　ここで、撥水撥油膜１２に優れた耐久性を付与するには、一般式（１）～（５）の中から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、一般式（６）から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いるのが好ましい。
　一般式（１）～（５）で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、ダイキン工業株式会社製オプツール－ＤＳＸ、オプツール－ＡＥＳ４などを用いることができる。また、一般式（６）示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、信越化学工業株式会社製ＫＹ－１３０、ＫＹ－１６４などを用いることができる。
（２） 第二の実施形態
　図２は、本発明に係る第二の実施形態の光学部品を模式的に示す側断面図であり、符号１’は眼鏡レンズ用の光学部品である。図２において、図１に示した光学部品１と同じ構成要素には、同一の符号を付して説明を省略する。
　この光学部品１’は、第一の実施形態の光学部品１の構造に加えて、プラスチック基材２の凹面上に配設された無機多層膜３’を備えて構成されている。プラスチック基材２の凹面と無機多層膜３’との間には、本実施形態では機能性薄膜４が配設されている。この機能性薄膜４は、本実施形態ではプライマー層５とハードコート層６とからなっている。
　無機多層膜３’は、前記プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７’を有し、該高屈折率層７’上に、この高屈折率層７’より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８’を有した複層構成のものである。
　高屈折率層７’は、本実施形態では、第一の実施形態と同様に、前記プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９’と、該第１層９’上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０’と、該第２層１０’上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１’と、からなっている。
　本実施形態における第１層９’、 第２層１０’、 第３層１１’に用いられる無機材料としては、第一の実施形態における第１層９、 第２層１０、第３層１１に用いられる無機材料と同様のものが挙げられる。
　高屈折率層７’については、第一の実施形態における高屈折率層７と同様に、三層構造で形成することなく、二層、あるいは四層以上で構成することもできる。
　本実施形態において、無機多層膜３’は、第一の実施形態の無機多層膜３と同様に、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％であるように設計されてもよい。更に、無機多層膜３’は、５８０～７８０ｎｍの波長域において反射率を１．５％以下であるように設計されることが好ましい。プラスチック基材２の両面上に、かかる反射率の条件を満たす無機多層膜が配設されることにより、防眩効果及び視認性に一層の効果を有する眼鏡レンズを得ることができる。
　また、本実施形態において、無機多層膜３’は、従来の反射防止膜と同様であってもよい。即ち、無機多層膜３’は、３８０～７８０ｎｍの波長範囲における平均反射率が１．５％以下の反射防止膜であってもよい。
　さらに、本実施形態において、プラスチック基材２の凸面上に配設された無機多層膜３の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率は、プラスチック基材２の凹面上に配設された無機多層膜３’の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率よりも大きくしてもよい。プラスチック基材２の凸面上に配設された無機多層膜３は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が５～１０％であり、プラスチック基材２の凹面上に配設された無機多層膜３’は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～４％であるように設計されることが好ましい。かかる反射率の条件を満たす無機多層膜が配設されることにより、防眩効果に一層の効果を有する眼鏡レンズを得ることができる。なお、プラスチック基材２の凹面上に配設された無機多層膜３’は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が３～４％であってもよい。
　なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、第一の実施形態と同様に、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、前記プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
　また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
　また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
　次に、本発明に係る一実施形態の光学部品の製造方法について説明する。
　本実施形態における光学部品の製造方法は、プラスチック基材２に対して従来と同様の方法で機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）を形成する工程と、プラスチック基材２を加熱する工程と、加熱によってプラスチック基材２を所定温度（例えば７０℃）に調整した後、このプラスチック基材２上に無機多層膜３を形成する工程と、無機多層膜３上に撥水撥油膜１２を形成する工程と、を備えてなる。
　無機多層膜３を形成する工程は、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とを交互に複数積層して多層構造の高屈折率層７を形成する処理と、この高屈折率層７上に、低屈折率無機材料からなる低屈折率層８を形成する処理と、を有している。これら各層の形成には、真空蒸着法が好適に用いられる。
　図３は、無機多層膜３の各層を形成するための蒸着装置３０の一例を示す図である。図３に示すように蒸着装置３０は、第１チャンバ３１と第２チャンバ３２と第３チャンバ３３とを備えて構成されている。これら第１、第２、第３チャンバ３１、３２、３３は、それぞれの内部がほぼ真空に減圧され、その状態に保持されるようになっている。また、蒸着装置３０は、図示しない温調手段により、第１、第２、第３チャンバ３１、３２、３３のそれぞれの内部温度が調整可能になっている。
　蒸着装置３０は、第１、第２、第３チャンバ３１、３２、３３のそれぞれの内部空間に、保持部材３４を備えている。保持部材３４は、その上面（保持面）が曲面状になっており、かつ、回転可能に構成されており、この上面上に複数のプラスチック基材２を保持するようになっている。
　例えば、第１蒸着源３５Ａにビームを照射することにより、ＺｒＯ２の蒸気を第１蒸着源３５Ａから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３の高屈折率層７における第１層９と第３層１１を形成することができる。同様に、第２蒸着源３５Ｂにビームを照射することにより、ＳｉＯ２の蒸気を第２蒸着源３５Ｂから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３の高屈折率層７における第２層１０と、低屈折率層８を形成することができる。
　すなわち、第１蒸着源３５Ａに対するビームの照射と第２蒸着源３５Ｂに対するビームの照射とを交互に行うことにより、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に、高屈折率無機材料からなる層と低屈折率無機材料からなる層とを交互に形成し積層することができる。ただし、本発明では、無機多層膜３を４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％であるように設計する。更に、無機多層膜３は、５８０～７８０ｎｍの波長域において反射率を１．５％以下であるように設計されることが好ましい。
　なお、第１蒸着源３５Ａとして酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）からなる蒸着源を用い、第２チャンバ３２の内部空間に酸素を導入しながら第１蒸着源３５Ａにビームを照射し、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなる高屈折率無機材料層を形成するようにしてもよい。
　このようにして無機多層膜３を形成したら、これの上に撥水撥油膜１２を形成する。
　撥水撥油膜１２の形成方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法などの湿式法、あるいは真空蒸着法などの乾式法がある。
　湿式法の中では、ディッピング法が一般的であり、よく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を有機溶剤に溶解した液中に、無機多層膜３まで形成し光学部品を浸漬し、一定条件で引き上げ、乾燥させて成膜する方法である。有機溶剤としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ－４－メトキシブタン、パーフルオロ－４－エトキシブタン、メタキシレンヘキサフルオライドなどが使用される。
　有機溶剤による希釈濃度は、０．０１～０．５重量％が好ましく、０．０３～０．１重量％がより好ましい。濃度が低すぎると十分な膜厚の撥水撥油層１２が得られず、また、濃度が高すぎると塗布むらが発生しやすく、材料コストも高くなってしまう。
　乾式法の中では、真空蒸着法がよく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を真空槽内で加熱して蒸発させ、撥水撥油膜１２を形成する方法である。
　このようにして形成された光学部品１にあっては、無機多層膜３を４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％であるように設計したので、前述したように反射特性及び視認性について、共に良好な性能を確保することができる。
　また、光学部品の製造方法にあっては、このようなバランスのとれた優れた光学部品を確実に提供することができる。
　以下、本発明に係る実施形態の実施例をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
≪実験１≫
　ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート、及び屈折率１．６７のプライマーコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
＜実施例１＞
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０３５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５６５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０７５λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０４λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．３２λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２６λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第３層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２５λ、第５層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例１における分光特性を図４に示す。
＜実施例２＞
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０７λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５９λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０４λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．３λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２６５λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第３層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２５λ、第５層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例２における分光特性を図５に示す。
＜実施例３＞　
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０９５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５９５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０５λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０３λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．３０５λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２７５λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第３層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２５λ、第５層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例３における分光特性を図６に示す。
＜比較例１＞
　凸面、凹面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Paになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第３層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２５λ、第５層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　比較例１における分光特性を図７に示す。
　実施例１～３、比較例１における各成膜層の詳細を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　このようにして得られた光学物品の装用評価を行った。
（装用評価）
　実施例に沿って作製した光学部品を装備した眼鏡を装用し、パソコンによるデスクワーク時に装用し、比較例に沿って作製した光学部品を装備した眼鏡との評価を行った。評価時の条件及び、判定項目は以下の通りである。
　　　モニタ人数　：１０名
　　　ディスプレイ：１７インチ液晶ディスプレイ
　　　作業時間　　：１時間/日
　　　装用期間　　：１週間
　　　判定項目　　：１．眩しさ　２．表示文字等の見え易さ　３．疲労感
　実施例１～３、比較例１の内、各評価項目に最も適していたものを○と評価した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
　このような装用比較評価を行った結果、４００～５００ｎｍの波長範囲で平均反射率を２～１０％とする特性が前記判定項目において効果があることが確認された。下記のように４００～５００ｎｍの波長範囲で平均反射率が約６％の実施例２が、各評価項目において最も適しているとされた。
　実施例１～３、比較例１の内、実施例２が、各評価項目に最も適していたと評価した人数
　　１．眩しさ　　　　　：４／１０名
　　２．表示の見え易さ　：５／１０名
　　３．疲労感　　　　　：６／１０名
≪実験２≫
　合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
＜実施例２＞
　≪実験１≫の実施例２と同様の成膜条件にて成膜を行った。
＜実施例４＞　
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０４５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．５λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３３５λで積層した。積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第３層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第４層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２５λ、第５層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例４における分光特性を図８に示す。
＜比較例１＞
　≪実験１≫の比較例１と同様の成膜条件にて成膜を行った。
　実施例２、４、比較例１における各成膜層の詳細を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
　このようにして得られた光学物品の装用評価を行った。
（装用評価）
　実施例に沿って作製した光学部品を装備した眼鏡を装用し、パソコンによるデスクワーク時に装用し、比較例に沿って作製した光学部品を装備した眼鏡との評価を行った。評価時の条件及び、判定項目は以下の通りである。
　　　モニタ人数　：２０名
　　　ディスプレイ：１７インチ液晶ディスプレイ
　　　作業時間　　：１時間/日
　　　装用期間　　：１週間
　　　判定項目　　：１．眩しさ　２．表示文字等の見え易さ　３．疲労感
　実施例２、４、比較例１の内、各評価項目に最も適していたものを○と評価した。○と評価したモニタ人数の合計を表４及び図９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　このような装用比較評価を行った結果、４００～５００ｎｍの波長域において平均反射率を２～１０％とし、さらに５８０～７８０ｎｍの波長域において反射率を１．５％以下とすることにより、各判定においてより効果があることが確認された。
≪実験３≫
　ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート、及び屈折率１．６７のプライマーコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
＜実施例５＞
　凸面、凹面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２０５λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３３５λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例５における分光特性を図１０に示す。
＜実施例６＞
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１２５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２１λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０７λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１４λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３５λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１０５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２３λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０７λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１４λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３３λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例６における凸面の分光特性を図１１に示し、凹面の分光特性を図１２に示す。
＜実施例７＞
　凸面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１３５λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０８５λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５５λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１９λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３５λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　凹面：凸面と同様の装置、加工雰囲気、前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２２λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３３λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
　実施例７における凸面の分光特性を図１３に示し、凹面の分光特性を図１４に示す。
　実施例５～７における各成膜層の詳細を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
　このようにして得られた光学物品の装用評価を行った。
　（装用評価）
　実施例に沿って作製した光学部品を装備した眼鏡を、パソコンによるデスクワーク時に装用し評価を行った。評価時の条件及び、判定項目は以下の通りである。
　　　モニタ人数　：２０名
　　　ディスプレイ：１７インチ液晶ディスプレイ
　　　作業時間　　：１時間/日
　　　装用期間　　：２週間
　　　判定項目　　：１．眩しさ　２．表示文字等の見え易さ　３．疲労感
　実施例５～７の内、各評価項目に最も適していたものを○と評価した。○と評価したモニタ人数の合計を表６及び図１５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
　このような装用比較評価を行った結果、４００～５００ｎｍの波長域において凸面の平均反射率を５～１０％、凹面の平均反射率を２～４％とし、５８０～７８０ｎｍの波長域において反射率を１．５％以下とすることにより、特に眩しさ低減において効果があることが確認された。
　以上の結果から、本発明によれば、防眩効果を有し、装用による疲労感も無く、かつ、視認性が良好な光学部品及びその製造方法を提供できる。
　１、１’…光学部品、２…プラスチック基材、３、３’…無機多層膜、４…機能性薄膜、５…プライマー層（機能性薄膜）、６…ハードコート層（機能性薄膜）、７、７’…高屈折率層、８、８’…低屈折率層、９、９’…第１層、１０、１０’…第２層、１１、１１’…第３層、１２…撥水撥油膜

Claims (18)

  1. 　凸面及び凹面を有するプラスチック基材と、
    　前記プラスチック基材の少なくとも前記凸面上に配設された多層膜と、
    　を備え、
    　前記多層膜は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～１０％である光学部品。
  2. 　前記多層膜は、５８０～７８０ｎｍの波長範囲における反射率が１．５％以下である請求項１に記載の光学部品。
  3. 　前記プラスチック基材の凹面上に３８０～７８０ｎｍの波長範囲における平均反射率が１．５％以下の反射防止膜が配設された請求項１又は２に記載の光学部品。
  4. 　前記プラスチック基材の凸面上に配設された多層膜の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率は、前記プラスチック基材の凹面上に配設された多層膜の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率よりも大きい請求項１～３のいずれか一項に記載の光学部品。
  5. 　前記プラスチック基材の凸面上に配設された多層膜は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が５～１０％であり、前記プラスチック基材の凹面上に配設された多層膜は、４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が２～４％である請求項４に記載の光学部品。
  6. 　前記プラスチック基材は、着色され、その透過率が５～８５％である請求項１～５のいずれか一項に記載の光学部品。
  7. 　前記プラスチック基材から最も遠い前記多層膜の最外層の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜を更に備える請求項１～６のいずれか一項に記載の光学部品。
  8. 　前記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式（１）中、Ｒｆは炭素数１～１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１～５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０～２の整数を表し、ｗは１～１０の整数を表す。）
    及び下記一般式（２）～（５）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式（２）～（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１～２２の直鎖状又は分岐上アルキレン基を表し、ｑは１～３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０～２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２～２０の整数を表し、ｋは０～２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０～１０の整数を表す。）
    及び下記一般式（６）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０～２の整数を表し、ｊは１～５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）
    の中から選択される１種類以上のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物である請求項７に記載の光学部品。
  9. 　前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１～８のいずれか一項に記載の光学部品。
  10. 　前記プラスチック基材と前記多層膜との間に、機能性薄膜を備えた請求項１～９のいずれか一項に記載の光学部品。
  11. 　前記多層膜を構成する高屈折率材料と低屈折率材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を備えた請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学部品。
  12. 　前記高屈折率材料は、二酸化ジルコニウムを含み、前記低屈折率材料は、二酸化珪素を含む請求項１～１１のいずれか一項に記載の光学部品。
  13. 　眼鏡レンズ用である請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学部品。
  14. 　凸面及び凹面を有するプラスチック基材と、前記プラスチック基材の少なくとも前記凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、
    　前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、
    　前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、
    　前記多層膜の４００～５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を２～１０％にする請求項１～１３のいずれかの一項に記載の光学部品の製造方法。
  15. 　前記多層膜を真空蒸着法を用いて形成する工程を含む請求項１４に記載の光学部品の製造方法。
  16. 　前記多層膜を形成する工程は、前記多層膜を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含む請求項１４又は１５に記載の光学部品の製造方法。
  17. 　前記イオンビームアシストは、不活性ガスと、酸素ガス、不活性ガス及び酸素ガスの混合ガスとのうちから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる請求項１６に記載の光学部品の製造方法。
  18. 　前記不活性ガスはアルゴンである請求項１７に記載の光学部品の製造方法。
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