WO2017078141A1 - 表面処理層を有する物品 - Google Patents

表面処理層を有する物品 Download PDF

Info

Publication number
WO2017078141A1
WO2017078141A1 PCT/JP2016/082808 JP2016082808W WO2017078141A1 WO 2017078141 A1 WO2017078141 A1 WO 2017078141A1 JP 2016082808 W JP2016082808 W JP 2016082808W WO 2017078141 A1 WO2017078141 A1 WO 2017078141A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
independently
group
integer
occurrence
ocf
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/082808
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
義昭 本多
健 前平
Original Assignee
ダイキン工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ダイキン工業株式会社 filed Critical ダイキン工業株式会社
Priority to EP16862200.9A priority Critical patent/EP3372399B1/en
Priority to JP2017549126A priority patent/JP6555356B2/ja
Priority to US15/772,997 priority patent/US11760062B2/en
Priority to CN201680063916.9A priority patent/CN108349209B/zh
Publication of WO2017078141A1 publication Critical patent/WO2017078141A1/ja

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
    • B32B9/007—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile comprising carbon, e.g. graphite, composite carbon
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/24—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using solvents or swelling agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties

Definitions

  • the present invention relates to an article having a surface treatment layer, in particular, an article having a surface treatment layer obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound on a zirconium oxide substrate and a method for producing the same.
  • fluorine-containing compounds can provide excellent water repellency, oil repellency, antifouling properties and the like when used for surface treatment of a substrate.
  • a fluorine-containing silane compound a perfluoropolyether group-containing silane compound having a perfluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to a Si atom at the molecular terminal or terminal part is known. It has been.
  • Patent Document 1 describes a perfluoropolyether group-containing silane compound having a hydrolyzable group bonded to a Si atom at the molecular terminal or terminal part.
  • a layer (hereinafter also referred to as “surface treatment layer”) obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound as described above is applied to glass or the like as a so-called functional thin film.
  • the surface treatment layer can exhibit the above-described functions even in a thin film, it is applied to optical members such as glasses, touch panels, and operation screens of portable terminals that require light transmission or transparency.
  • a glass substrate is generally used for an operation screen of a portable terminal or the like, and the surface treatment layer is formed on the glass substrate.
  • zirconia ceramics may be used on the surface of the housing part because it is excellent in design such as having luster similar to diamond.
  • portable terminals and the like are required to have improved friction durability, but according to the study by the present inventors, the surface treatment layer formed on the glass substrate can have sufficient friction durability.
  • the surface treatment layer formed on the zirconia ceramic has insufficient friction durability.
  • an object of the present invention is to provide an article in which a surface treatment layer having higher friction durability is formed on a zirconia ceramic substrate, that is, a zirconium oxide substrate, and a method for forming such a layer. .
  • the inventors of the present invention formed a metal oxide layer on a zirconium oxide base material and formed a surface treatment layer thereon using a composition containing a fluorine-containing silane compound.
  • the inventors have found that a surface treatment layer having excellent friction durability can be obtained, and have completed the present invention.
  • a zirconium oxide substrate An intermediate layer located on the substrate; An article having a surface treatment layer formed from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound located on the intermediate layer, Articles in which the intermediate layer comprises one or more metal oxides are provided.
  • a method for forming a surface treatment layer formed from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound on a zirconium oxide substrate Forming an intermediate layer on the zirconium oxide substrate using one or more metal oxides;
  • a method including forming a surface treatment layer on the intermediate layer using a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound is provided.
  • a zirconium oxide substrate An intermediate layer located on the substrate; A surface treatment layer formed from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound located on the intermediate layer, Forming an intermediate layer on the zirconium oxide substrate using one or more metal oxides;
  • a method including forming a surface treatment layer on the intermediate layer using a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound is provided.
  • a surface treatment layer having high friction durability can be obtained on a zirconium oxide substrate.
  • the article of the present invention comprises a zirconium oxide base material, an intermediate layer formed on the base material, and a surface treatment layer formed on the intermediate layer.
  • the article of the present invention may be a housing (for example, a housing of a form terminal), a jewelry (for example, a clock face), a spectacle frame, or a part thereof.
  • a zirconium oxide base material is a base material composed of a material mainly composed of zirconium oxide.
  • the “main component” means a material contained most in the material, for example, a material contained in 50% by mass or more.
  • the component other than the main component contained in the zirconium oxide base material is not particularly limited, and examples thereof include a stabilizer and a colorant.
  • the stabilizer is not particularly limited, and may be a metal oxide such as magnesium oxide, calcium oxide, yttrium oxide, scandium oxide, or cerium oxide.
  • the colorant is not particularly limited, and may be, for example, an oxide of Co, Cr, Fe, Mn or Ni, or a composite oxide. In one embodiment, the colorant is Fe 2 O 3 .
  • the shape of the zirconium oxide base material is not particularly limited. Further, the surface region of the base material on which the intermediate layer and the surface treatment layer are to be formed may be at least a part of the surface of the base material, and can be appropriately determined according to the use and specific specifications of the article to be manufactured.
  • the base material may be pretreated, for example, washed before forming the intermediate layer on the base material.
  • the pretreatment By performing the pretreatment, the adhesion between the base material and the intermediate layer is improved, and higher friction durability can be obtained.
  • An intermediate layer is provided on the zirconium oxide substrate.
  • the intermediate layer contains one or more metal oxides, and may be a single layer or a multilayer.
  • the metal oxide contained in the intermediate layer is not particularly limited.
  • silicon oxide typically SiO 2
  • aluminum oxide typically Al 2 O 3
  • zirconium oxide typically , ZrO 2
  • the intermediate layer includes at least silicon oxide or aluminum oxide.
  • the intermediate layer contains silicon oxide or aluminum oxide, a surface treatment layer having higher friction durability can be obtained on the substrate.
  • the intermediate layer contains at least silicon oxide.
  • the intermediate layer contains silicon oxide, a surface treatment layer having higher friction durability can be obtained on the substrate.
  • the intermediate layer contains silicon oxide and aluminum oxide.
  • the intermediate layer contains silicon oxide and aluminum oxide, a surface treatment layer having higher friction durability can be obtained on the substrate.
  • the intermediate layer may further contain zirconium oxide.
  • silicon oxide is present on the surface of the intermediate layer on the surface treatment agent side.
  • aluminum oxide or zirconium oxide preferably aluminum oxide is present on the surface on the substrate side in the intermediate layer.
  • the presence of aluminum oxide or zirconium oxide, particularly aluminum oxide, on the surface of the intermediate layer on the base material side results in a stronger bond between the base material and the intermediate layer, resulting in a surface treatment layer with higher friction durability. be able to.
  • the intermediate layer may be a single layer or may be composed of a plurality of layers, but is preferably composed of a plurality of layers.
  • the metal oxide contained in the intermediate layer may be one type or two or more types.
  • the intermediate layer preferably contains at least one or two metal oxides selected from aluminum oxide and silicon oxide.
  • the two or more kinds of metal oxides may be uniformly distributed in the intermediate layer or may be unevenly distributed.
  • more aluminum oxide or zirconium oxide, particularly aluminum oxide is present on the substrate side, and more silicon oxide is present on the surface treatment layer side.
  • each layer may be composed of one or more metal oxides, but preferably one metal oxide Consists of
  • the intermediate layer may have a plurality of layers of the same metal oxide.
  • the boundary between such layers may not necessarily be clear.
  • the thickness of the region where both metal oxides exist is 50 nm or less, preferably 20 nm or less, more preferably 5 nm or less.
  • the layer located closest to the substrate is an aluminum oxide layer or a zirconium oxide layer, preferably an aluminum oxide layer, and the layer located closest to the surface treatment agent is It is a layer of silicon oxide.
  • the intermediate layer include the following layer structures.
  • the left side is the base material side, and the right side is the surface treatment layer side.
  • Al 2 O 3 / SiO 2 or ZrO 2 / Al 2 O 3 / SiO 2 is preferable, and Al 2 O 3 / SiO 2 is particularly preferable.
  • SiO 2 , Al 2 O 3 , Al 2 O 3 / SiO 2 or Al 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / SiO 2 is preferable, and Al 2 O 3 / SiO 2 is particularly preferred.
  • the thickness of the intermediate layer (when there are a plurality of layers, the total thickness thereof) is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 20 nm or more, and even more preferably 30 nm or more. Yes, preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less.
  • the thickness of each layer is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 15 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm. Hereinafter, it is more preferably 20 nm or less.
  • the thickness of the intermediate layer is determined by etching the surface of the substrate surface-treated with an argon cluster ion beam (Ar-GCIB) from the surface-treated layer side, measuring the atomic concentration by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), It can be calculated from the etching rate obtained by repeating such operations.
  • Ar-GCIB argon cluster ion beam
  • the intermediate layer is (i) SiO 2 (Ii) Al 2 O 3 (Iii) Al 2 O 3 / SiO 2 (Iv) ZrO 2 / Al 2 O 3 / SiO 2 (V) Al 2 O 3 / SiO 2 / Al 2 O 3 / SiO 2 Selected from
  • the thickness of the intermediate layer (when there are a plurality of layers, the total thickness thereof) is 5 nm or more and 80 nm or less, When a plurality of layers are present, the thickness of each layer can be 5 nm or more and 50 nm or less.
  • the intermediate layer is Al 2 O 3 / SiO 2
  • Their total thickness is 20 nm or more and 60 nm or less, The thickness of each layer may be 10 nm or more and 20 nm or less, preferably 10 nm or more and 15 nm or less.
  • the method for forming the intermediate layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a metal oxide layer on a base material.
  • vapor deposition methods such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition are used.
  • a phase growth method (CVD: Chemical Vapor Deposition) or the like can be used.
  • PVD method a vacuum evaporation method, sputtering, etc. are mentioned.
  • Specific examples of the vacuum deposition method include resistance heating, high-frequency heating using an electron beam, microwaves, and the like, an ion beam, and similar methods.
  • Specific examples of the CVD method include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
  • the PVD method is preferable, particularly resistance heating evaporation or electron beam evaporation is preferable, and electron beam evaporation is more preferable.
  • a surface treatment layer having higher friction durability can be obtained.
  • the substrate before the surface treatment layer is formed on the intermediate layer, the substrate may be subjected to a pretreatment such as a cleaning treatment.
  • a pretreatment such as a cleaning treatment.
  • a surface treatment layer is provided on the intermediate layer.
  • the surface treatment layer is preferably formed using a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound, has a perfluoropolyether group on the surface, and is bonded to the intermediate layer via a silane portion.
  • the thickness of the surface treatment layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to 30 nm, and even more preferably 15 to 30 nm from the viewpoint of friction durability.
  • the fluorine-containing silane compound preferably contains a Si atom having a perfluoropolyether group and a hydrolyzable group.
  • the fluorine-containing silane compound has the following general formulas (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), (C2), (D1) and (D2): [Where: PFPE has the formula: -(OC 4 F 8 ) a- (OC 3 F 6 ) b- (OC 2 F 4 ) c- (OCF 2 ) d- Wherein a, b, c and d are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c and d is at least 1, and the subscripts a, b, c or d The order of existence of each repeating unit with parentheses attached with is arbitrary in the formula.)
  • a group represented by: Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluor
  • R d independently represents at each occurrence —Z′—CR 81 p ′ R 82 q ′ R 83 r ′ ;
  • Z ′ represents, independently at each occurrence, an oxygen atom or a divalent organic group;
  • R 81 independently represents R d ′ at each occurrence;
  • R d ′ is synonymous with R d ;
  • R 82 independently represents -Y-SiR 85 j R 86 3-j at each occurrence;
  • Y represents a divalent organic group independently at each occurrence;
  • R 85 independently represents at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
  • R 86 independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence;
  • j represents an integer of 1 to 3 independently for each unit (-Y-SiR 85 j R 86 3-j );
  • R 83 each
  • hydrocarbon group means a group containing carbon and hydrogen, and a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a hydrocarbon.
  • Such hydrocarbon group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by one or more substituents, such as an aliphatic hydrocarbon group, An aromatic hydrocarbon group etc. are mentioned.
  • the “aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched or cyclic, and may be either saturated or unsaturated.
  • the hydrocarbon group may also contain one or more ring structures.
  • Such a hydrocarbon group may have one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy and the like at its terminal or molecular chain.
  • the substituent of the “hydrocarbon group” is not particularly limited, but includes, for example, a halogen atom; C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms Group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl And one or more groups selected from a group, a C 6-10 aryl group and a 5-10 membered heteroaryl group.
  • divalent to decavalent organic group means a divalent to decavalent group containing carbon.
  • a divalent to decavalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include divalent to decavalent groups in which 1 to 9 hydrogen atoms are further eliminated from a hydrocarbon group.
  • the divalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a divalent group in which one hydrogen atom is further eliminated from a hydrocarbon group.
  • perfluoropolyether group-containing silane compounds represented by the above formulas (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), (C2), (D1) and (D2) will be described below. .
  • PFPE is — (OC 4 F 8 ) a — (OC 3 F 6 ) b — (OC 2 F 4 ) c — (OCF 2 ) d —, which corresponds to a perfluoropolyether group.
  • a, b, c and d are each independently 0 or an integer of 1 or more, and the sum of a, b, c and d is at least 1.
  • a, b, c and d are each independently an integer of 0 to 200, for example, an integer of 1 to 200, more preferably an integer of 0 to 100.
  • the sum of a, b, c and d is 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • the order of presence of each repeating unit with a, b, c or d in parentheses is arbitrary in the formula.
  • — (OC 4 F 8 ) — represents — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ))-,-(OC (CF 3 ) 2 CF 2 )-,-(OCF 2 C (CF 3 ) 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF (CF 3 ))-,-(OCF (C 2 F 5 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (C 2 F 5 ))-may be used, but preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —.
  • -(OC 3 F 6 )- is any of-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (CF 3 ))- Preferably, it is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
  • — (OC 2 F 4 ) — may be any of — (OCF 2 CF 2 ) — and — (OCF (CF 3 )) —, preferably — (OCF 2 CF 2 ) —. is there.
  • PFPE is — (OC 3 F 6 ) b — (wherein b is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200),
  • — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b — (wherein b is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200) or — (OCF (CF 3 ) CF 2 ) b — (wherein b is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200), more preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b- (wherein b is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
  • PFPE has the following structure:-(OC 4 F 8 ) a- (OC 3 F 6 ) b- (OC 2 F 4 ) c- (OCF 2 ) d- (wherein a and b are each independently And c and d are each independently an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200, and the subscripts a, b, c Or the order of presence of each repeating unit in parentheses with d attached is arbitrary in the formula), preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) a — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b- (OCF 2 CF 2 ) c- (OCF 2 ) d- .
  • PFPE is — (OC 2 F 4 ) c — (OCF 2 ) d — (wherein c and d are each independently 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably Is an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of presence of each repeating unit in parentheses with the subscript c or d is arbitrary in the formula).
  • PFPE is a group represented by — (R 19 —R 18 ) n ′′ —.
  • R 19 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F
  • R 18 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or from these groups A combination of 2 or 3 groups independently selected, preferably R 18 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or these A combination of 2 or 3 groups independently selected from the group.
  • such PFPE is a group represented by — (OC 2 F 4 —R 18 ) n ′′ —.
  • R 18 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups is there.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
  • N ′′ is an integer of 2 to 100, preferably an integer of 2 to 50.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 are either linear or branched.
  • PFPE is preferably — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) n ′′ — or — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ). n ′′ ⁇ .
  • Rf represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms.
  • alkyl group having 1 to 16 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms may be linear or branched. Preferably, it is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Rf is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms substituted by one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 fluoroalkylene group, and still more preferably Is a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
  • the perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms may be linear or branched, and preferably has 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically —CF 3 , —CF 2 CF 3 , or —CF 2 CF 2 CF 3 . .
  • R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, at each occurrence.
  • R 2 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of leaving from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable group examples include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ CR 2 , —NR 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 4 carbon atoms). And the like, and —OR (that is, an alkoxy group) is preferable.
  • R examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group.
  • R 11 independently represents a hydrogen atom or a halogen atom at each occurrence.
  • the halogen atom is preferably an iodine atom, a chlorine atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom.
  • R 12 each independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.
  • n is independently an integer of 0 to 3, preferably 0 to 2, more preferably 0, independently for each (-SiR 1 n R 2 3-n ) unit. However, in the formula, all n are not 0 simultaneously. In other words, at least one R 2 is present in the formula.
  • each X 1 independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 1 is a perfluoropolyether part (ie, Rf-PFPE part or -PFPE-part) mainly providing water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by the formulas (A1) and (A2).
  • a silane moiety that is, a group parenthesized with ⁇ that provides the binding ability to the base material. Therefore, X 1 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (A1) and (A2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • These ⁇ and ⁇ ′ can vary depending on the valence of X 1 .
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 1 .
  • X 1 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ 'Can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • alpha is a value obtained by subtracting 1 from the valence of X 1.
  • X 1 is preferably 2 to 7 valent, more preferably 2 to 4 valent, and still more preferably a divalent organic group.
  • X 1 is a divalent to tetravalent organic group
  • ⁇ is 1 to 3
  • ⁇ ′ is 1.
  • X 1 is a divalent organic group
  • ⁇ is 1
  • ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (A1) and (A2) are represented by the following formulas (A1 ′) and (A2 ′).
  • Examples of X 1 are not particularly limited, but for example, the following formula: -(R 31 ) p1- (X a ) q1- [Where: R 31 represents a single bond, — (CH 2 ) s ′ — or o-, m- or p-phenylene group, preferably — (CH 2 ) s ′ — s ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • X a represents-(X b ) l ' - X b is independently at each occurrence —O—, —S—, o—, m- or p-phenylene, —C (O) O—, —Si (R 33 ) 2 —, — ( Si (R 33 ) 2 O) m ′′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 —, —O—CONR 34 —, —NR 34 — and — (CH 2 ) n ′ —
  • R 33 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, and more preferably a methyl group.
  • R 34 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group) at each occurrence;
  • m ′′ is independently an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20, at each occurrence.
  • n ′ is independently an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, at each occurrence.
  • R 31 and X a are one or more selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group It may be substituted with a substituent.
  • X 1 is — (R 31 ) p1 — (X a ) q1 —R 32 —.
  • R 32 represents a single bond, — (CH 2 ) t ′ — or o-, m- or p-phenylene group, and preferably — (CH 2 ) t ′ —.
  • t ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 3.
  • R 32 (typically a hydrogen atom of R 32 ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group. It may be.
  • X 1 is A C 1-20 alkylene group, -R 31 -X c -R 32- , or -X d -R 32- [Wherein, R 31 and R 32 are as defined above. ] It can be.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, -(CH 2 ) s' -X c- , -(CH 2 ) s ' -X c- (CH 2 ) t'- -X d- , or -X d- (CH 2 ) t ' - [Wherein, s ′ and t ′ are as defined above]. ] It is.
  • X c is -O-, -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, -O-CONR 34 -, -Si (R 33 ) 2- , -(Si (R 33 ) 2 O) m " -Si (R 33 ) 2- , —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′′ —Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —CH 2 CH 2 —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (R) 2- ,
  • X d is -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ —N (R 34 ) —, or —CONR 34 — (o-, m- or p-phenylene) -Si (R 33 ) 2 — [Wherein each symbol is as defined above. ] Represents.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —X c — (CH 2 ) t ′ —, or —X d — (CH 2 ) t ′ — [Wherein each symbol is as defined above. ] It can be.
  • said X 1 is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) t ′ —, — (CH 2 ) s ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) t ′ — — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) t ′ —, or — (CH 2 ) s′— O— (CH 2 ) t ′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 — (C v H 2v ) —
  • R 33 , m ′′, s ′, t ′ and u ′ are
  • — (C v H 2v ) — may be linear or branched.
  • the X 1 group is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group (preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group). May be.
  • the X 1 group can be other than an —O—C 1-6 alkylene group.
  • examples of X 1 groups include the following groups: [Wherein, each R 41 independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group; D is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), and (In the formula, each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group or a methoxy group, more
  • X 1 include, for example: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH
  • X 1 is a group represented by the formula: — (R 16 ) x — (CFR 17 ) y — (CH 2 ) z —.
  • x, y and z are each independently an integer of 0 to 10, the sum of x, y and z is 1 or more, and the order in which each repeating unit enclosed in parentheses is in the formula Is optional.
  • R 16 is independently an oxygen atom, phenylene, carbazolylene, —NR 26 — (wherein R 26 represents a hydrogen atom or an organic group) or a divalent organic group at each occurrence. is there.
  • R 16 is an oxygen atom or a divalent polar group.
  • the “divalent polar group” is not particularly limited, but —C (O) —, —C ( ⁇ NR 27 ) —, and —C (O) NR 27 — (in these formulas, R 27 is Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group).
  • the “lower alkyl group” is, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, and these may be substituted with one or more fluorine atoms.
  • R 17 is each independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a lower fluoroalkyl group, preferably a fluorine atom, at each occurrence.
  • the “lower fluoroalkyl group” is, for example, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group, A pentafluoroethyl group, more preferably a trifluoromethyl group.
  • X 1 is preferably of the formula: — (O) x — (CF 2 ) y — (CH 2 ) z —, wherein x, y and z are as defined above
  • x, y and z are as defined above
  • the order in which each repeating unit is included is arbitrary in the formula).
  • Examples of the group represented by the above formula: — (O) x — (CF 2 ) y — (CH 2 ) z — include, for example, — (O) x ′ — (CH 2 ) z ′′ —O — [(CH 2) z '''-O-] z "", and - (O) x' - ( CF 2) y "- (CH 2) z” -O - [(CH 2) z '''-O- Z ′′ ′′ (wherein x ′ is 0 or 1, y ′′, z ′′ and z ′ ′′ are each independently an integer of 1 to 10, and z ′′ ′′ is 0 or 1) These groups are bonded at the left end to the PFPE side.
  • X 1 is —O—CFR 13 — (CF 2 ) e —.
  • Each R 13 independently represents a fluorine atom or a lower fluoroalkyl group.
  • the lower fluoroalkyl group is, for example, a fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, still more preferably a trifluoromethyl group. It is.
  • the above e is 0 or 1 independently.
  • R 13 is a fluorine atom and e is 1.
  • examples of X 1 groups include the following groups: [Where: Each of R 41 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group; In each X 1 group, any some of T are attached to the PFPE of the molecular backbone: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), or [Wherein, each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group or a C
  • Ts are groups opposite to PFPE of the molecular main chain (that is, carbon atoms in formulas (A1) and (A2), and formulas (B1), (B2), ( -(CH 2 ) n ′′ -(n ′′ is an integer of 2 to 6) bonded to the Si atom in (C1) and (C2), and when present, the rest are each independently a methyl group, A phenyl group, a C 1-6 alkoxy group, a radical scavenging group or an ultraviolet absorbing group.
  • the radical scavenging group is not particularly limited as long as it can capture radicals generated by light irradiation.
  • benzophenones benzotriazoles, benzoates, phenyl salicylates, crotonic acids, malonic esters, organoacrylates , Hindered amines, hindered phenols, or triazine residues.
  • the ultraviolet absorbing group is not particularly limited as long as it can absorb ultraviolet rays.
  • benzotriazoles, hydroxybenzophenones, esters of substituted and unsubstituted benzoic acid or salicylic acid compounds, acrylates or alkoxycinnamates, oxamides examples include residues of oxanilides, benzoxazinones, and benzoxazoles.
  • radical scavenging group or the ultraviolet absorbing group Is mentioned.
  • X 1 , X 5 and X 7 can each independently be a trivalent to 10 valent organic group.
  • t is each independently an integer of 1 to 10. In a preferred embodiment, t is an integer from 1-6. In another preferred embodiment, t is an integer from 2 to 10, preferably an integer from 2 to 6.
  • X 2 independently represents a single bond or a divalent organic group at each occurrence.
  • X 2 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably — (CH 2 ) u — (wherein u is an integer of 0 to 2).
  • Preferred compounds represented by formulas (A1) and (A2) are represented by the following formulas (A1 ′) and (A2 ′): [Where: Each PFPE is independently of the formula: -(OC 4 F 8 ) a- (OC 3 F 6 ) b- (OC 2 F 4 ) c- (OCF 2 ) d- Wherein a, b, c and d are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c and d is at least 1, and the subscripts a, b, c or d The order of existence of each repeating unit with parentheses attached with is arbitrary in the formula.)
  • R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence;
  • R 2 represents, independently at each
  • the compounds represented by the above formulas (A1) and (A2) are obtained by introducing, for example, —CH 2 CR 12 (X It can be obtained by reacting a vinyl monomer corresponding to 2- SiR 1 n R 2 3-n ) —.
  • Rf, PFPE, R 1 , R 2 and n are as defined in the above formulas (A1) and (A2).
  • X 5 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 5 is a perfluoropolyether part (Rf-PFPE part or -PFPE-part) mainly providing water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by the formulas (B1) and (B2); It is understood as a linker that connects a silane moiety (specifically, —SiR 1 n R 2 3-n ) that provides a binding ability with a substrate. Therefore, X 5 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (B1) and (B2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • ⁇ and ⁇ ′ are determined according to the valence of X 5
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 5 .
  • X 5 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ 'Can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • beta is a value obtained by subtracting 1 from the valence of the value of X 5.
  • X 5 is preferably a divalent organic group having 2 to 7 valences, more preferably 2 to 4 valences, and even more preferably a divalent organic group.
  • X 5 is a divalent to tetravalent organic group
  • ⁇ is 1 to 3
  • ⁇ ′ is 1.
  • X 5 is a divalent organic group
  • ⁇ is 1
  • ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (B1) and (B2) are represented by the following formulas (B1 ′) and (B2 ′).
  • Examples of X 5 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described for X 1 .
  • preferable specific X 5 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • Preferred compounds represented by formulas (B1) and (B2) are represented by the following formulas (B1 ′) and (B2 ′): [Where: Each PFPE is independently of the formula: -(OC 4 F 8 ) a- (OC 3 F 6 ) b- (OC 2 F 4 ) c- (OCF 2 ) d- Wherein a, b, c and d are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c and d is at least 1, and the subscripts a, b, c or d The order of existence of each repeating unit with parentheses attached with is arbitrary in the formula.)
  • R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms at each occurrence;
  • R 2 represents, independently at each
  • the compounds represented by the above formulas (B1) and (B2) can be produced by a known method, for example, the method described in Patent Document 1 or an improved method thereof.
  • Rf and PFPE are the same as those described for the above formulas (A1) and (A2).
  • X 7 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 7 is a formula (C1) and in the compounds represented by (C2), mainly perfluoropolyether unit for providing water repellency and surface slipperiness, etc. (Rf-PFPE unit or -PFPE- parts) (specifically, -SiR a k R b l R c m group) silane unit that provides a binding capability to a substrate is understood as a linker linking. Therefore, X 7 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (C1) and (C2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • ⁇ and ⁇ ′ are determined according to the valence of X 7
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is the same as the valence of X 7 .
  • X 7 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ .
  • gamma is a value obtained by subtracting 1 from the valence of the values of X 7.
  • X 7 is preferably a divalent organic group having 2 to 7 valences, more preferably 2 to 4 valences, and even more preferably a divalent organic group.
  • X 7 is a divalent to tetravalent organic group, ⁇ is 1 to 3, and ⁇ ′ is 1.
  • X 7 is a divalent organic group, ⁇ is 1 and ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (C1) and (C2) are represented by the following formulas (C1 ′) and (C2 ′).
  • Examples of X 7 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described for X 1 .
  • preferable specific X 7 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • R a independently represents —Z—SiR 71 p R 72 q R 73 r at each occurrence.
  • Z represents an oxygen atom or a divalent organic group independently at each occurrence.
  • Z is preferably a divalent organic group, and forms a siloxane bond with the Si atom (Si atom to which R a is bonded) at the end of the molecular main chain in formula (C1) or formula (C2). Does not include things.
  • Z is preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 1 to 6, and h is 1 to 6 Or -phenylene- (CH 2 ) i- (wherein i is an integer of 0 to 6), more preferably a C 1-3 alkylene group.
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • R 71 represents R a ′ independently at each occurrence.
  • R a ′ has the same meaning as R a .
  • Si is connected to the linear through the Z group is a five at the maximum. That is, in the above R a , when at least one R 71 is present, there are two or more Si atoms linearly linked via a Z group in R a , The maximum number of Si atoms connected in a chain is five.
  • the "number of Si atoms linearly linked via a Z group in R a" is equal to -Z-Si- repeating number of which is connected to a linear during R a.
  • * means a site bonded to Si of the main chain, and ... means that a predetermined group other than ZSi is bonded, that is, all three bonds of Si atoms are ... In this case, it means the end point of ZSi repetition.
  • the number on the right shoulder of Si means the number of appearances of Si connected in a straight line through the Z group counted from *. That is, the chain in which ZSi repeat is completed in Si 2 has “the number of Si atoms linearly linked through the Z group in Ra ”, and similarly, Si 3 , Si 4 And the chain in which the ZSi repetition is completed in Si 5 has “number of Si atoms linearly linked through the Z group in R a ” being 3, 4 and 5, respectively.
  • R a but ZSi chain there are multiple, they need not be all the same length, each may be of any length.
  • the number of Si atoms connected linearly via the Z group in R a is one (left formula) or two (right formula) in all chains. Formula).
  • the number of Si atoms connected in a straight chain via a Z group in R a is 1 or 2, preferably 1.
  • R 72 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • hydrolyzable group as used herein means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction.
  • hydrolyzable groups include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (wherein R is substituted or unsubstituted Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), preferably —OR (alkoxy group).
  • R include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group.
  • R 72 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
  • R 73 independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • '(if R a' is absent, R a) terminal of R a in R a in the above q is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3.
  • R b independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • R b is preferably a hydroxyl group, —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (in these formulas, R is substituted or unsubstituted)
  • An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms preferably —OR.
  • R includes an unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group; and a substituted alkyl group such as a chloromethyl group.
  • an alkyl group particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group. More preferably, R c is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group).
  • R c independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • the compounds represented by the above formulas (C1) and (C2) have, for example, a perfluoropolyether derivative corresponding to the Rf-PFPE- moiety as a raw material, a hydroxyl group introduced at the terminal, and then an unsaturated bond at the terminal A group is introduced, the group having an unsaturated bond is reacted with a silyl derivative having a halogen atom, a hydroxyl group is further introduced into the terminal of the silyl group, and the introduced group having an unsaturated bond is reacted with the silyl derivative.
  • a perfluoropolyether derivative corresponding to the Rf-PFPE- moiety as a raw material
  • a hydroxyl group introduced at the terminal and then an unsaturated bond at the terminal A group is introduced
  • the group having an unsaturated bond is reacted with a silyl derivative having a halogen atom
  • a hydroxyl group is further introduced into the terminal of the silyl group
  • Rf and PFPE have the same meaning as described for the above formulas (A1) and (A2).
  • X 9 each independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group.
  • the X 9 is a perfluoropolyether part (ie, Rf-PFPE part or -PFPE-part) mainly providing water repellency and surface slipperiness in the compounds represented by the formulas (D1) and (D2). It is understood that this is a linker that connects a moiety that provides a binding ability to the substrate (that is, a group that is bracketed with ⁇ ). Therefore, X 9 may be any organic group as long as the compounds represented by formulas (D1) and (D2) can exist stably.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9
  • ⁇ ′ is an integer of 1 to 9.
  • [delta] and [delta] ' may vary depending on the valence of X 9.
  • the sum of [delta] and [delta] ' is the same as the valence of X 9.
  • X 9 is a 10-valent organic group
  • the sum of ⁇ and ⁇ ′ is 10, for example, ⁇ is 9 and ⁇ ′ is 1, ⁇ is 5 and ⁇ ′ is 5, or ⁇ is 1 and ⁇ .
  • ⁇ can be nine.
  • ⁇ and ⁇ ′ are 1.
  • [delta] is a value obtained by subtracting 1 from the valence of X 9.
  • X 9 is preferably a divalent organic group having 2 to 7 valences, more preferably 2 to 4 valences, and even more preferably a divalent organic group.
  • X 9 is a divalent to tetravalent organic group, ⁇ is 1 to 3, and ⁇ ′ is 1.
  • X 9 is a divalent organic group, ⁇ is 1 and ⁇ ′ is 1.
  • the formulas (D1) and (D2) are represented by the following formulas (D1 ′) and (D2 ′).
  • Examples of X 9 are not particularly limited, and examples thereof include those similar to those described with respect to X 1 .
  • preferable specific X 9 is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
  • R d independently represents —Z′—CR 81 p ′ R 82 q ′ R 83 r ′ at each occurrence.
  • Z ′ independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence.
  • Z ′ is preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g —O— (CH 2 ) h — (wherein g is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6 And h is an integer from 0 to 6, for example an integer from 1 to 6, or -phenylene- (CH 2 ) i- (where i is an integer from 0 to 6), and more A C 1-3 alkylene group is preferred. These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • R 81 independently represents R d ′ at each occurrence.
  • R d ′ has the same meaning as R d .
  • R d the maximum number of C linked in a straight chain via the Z ′ group is 5. That is, in the above R d , when at least one R 81 is present, there are two or more Si atoms linearly linked via a Z ′ group in R d , The maximum number of C atoms connected in a straight line is five.
  • the "number of C atoms linearly linked via a Z 'group in R d" is equal to the number of repetitions of the selected from the group consisting of -Z'-C-linked to linear during R d Become.
  • the number of C atoms linearly linked through the Z ′ group in R d is 1 (left formula) or 2 ( (Right type).
  • the number of C atoms connected in a straight chain via a Z ′ group in R d is 1 or 2, preferably 1.
  • R 82 represents —Y—SiR 85 j R 86 3-j .
  • Y represents a divalent organic group independently at each occurrence.
  • Y is a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g ′ —O— (CH 2 ) h ′ — (wherein g ′ is an integer from 0 to 6, for example from 1 to 6 And h ′ is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6, or —phenylene- (CH 2 ) i ′ — (where i ′ is an integer of 0 to 6) ).
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • Y can be a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) i ' -.
  • Y is a group as described above, light resistance, particularly ultraviolet light resistance can be further increased.
  • R 85 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group independently at each occurrence.
  • hydrolyzable group examples include those similar to the formulas (C1) and (C2).
  • R 85 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably an ethyl group or a methyl group, particularly a methyl group).
  • R 86 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • j independently represents an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, for each (-Y-SiR 85 j R 86 3-j ) unit.
  • R 83 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • p ′ is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence; q ′ is independently from each occurrence an integer from 0 to 3; r ′ is at each occurrence Each is independently an integer from 0 to 3. However, the sum of p ′, q ′ and r ′ is 3.
  • '(if R d' is absent, R d) end of R d in R d in the above q ' is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3 .
  • R e independently represents —Y—SiR 85 j R 86 3-j at each occurrence.
  • Y, R 85 , R 86 and j are as defined in R 82 above.
  • R f independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
  • the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
  • At least one k ' is 2 or 3, preferably 3.
  • k ' is 2 or 3, preferably 3.
  • l ' is 2 or 3, preferably 3.
  • At least one q ′ is 2 or 3, or at least one l ′ is 2 or 3. That is, there are at least two —Y—SiR 85 j R 86 3-j groups in the formula.
  • the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound represented by the formula (D1) or the formula (D2) can be produced by combining known methods.
  • the compound represented by the formula (D1 ′) in which X is divalent is not limited, but can be produced as follows.
  • a group containing a double bond preferably a polyhydric alcohol represented by HO—X—C (YOH) 3 (wherein X and Y are each independently a divalent organic group)) Is allyl), and halogen (preferably bromo), and Hal—X—C (Y—O—R—CH ⁇ CH 2 ) 3 (where Hal is halogen, eg Br, R is A double bond-containing halide represented by a valent organic group such as an alkylene group.
  • R PFPE —OH a perfluoropolyether group-containing alcohol represented by R PFPE —OH (wherein R PFPE is a perfluoropolyether group-containing group), and R PFPE ⁇ O—X—C (Y—O—R—CH ⁇ CH 2 ) 3 is obtained.
  • the terminal —CH ⁇ CH 2 is then reacted with HSiCl 3 and alcohol or HSiR 85 3 to give R PFPE —O—X—C (Y—O—R—CH 2 —CH 2 —SiR 85 3 ) 3 Can be obtained.
  • the number average molecular weight of the perfluoropolyether group-containing silane compound contained in the surface treatment agent used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 6,000 or more, preferably 100,000 or less. Preferably it is 30,000 or less, More preferably, it is 10,000 or less.
  • the number average molecular weight of the perfluoropolyether part (Rf-PFPE-part or -PFPE-part) in the perfluoropolyether group-containing silane compound contained in the surface treating agent used in the present invention is not particularly limited. However, it can be 4,000 to 30,000, more preferably 5,000 to 10,000.
  • the surface treatment agent used in the present invention may be diluted with a solvent.
  • a solvent is not particularly limited.
  • the surface treatment agent used in the present invention may contain other components in addition to the perfluoropolyether group-containing silane compound.
  • Such other components are not particularly limited.
  • fluorinated oils preferably perfluoropolyether compounds (hereinafter referred to as “fluorinated oils”) that can be understood as fluorine-containing oils.
  • silicone oil preferably silicone oil
  • sicone oil a catalyst and the like that can be understood as silicone oil.
  • Rf 1 represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • Rf 2 represents Represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms, a fluorine atom or a hydrogen atom
  • Rf 1 and Rf 2 Are more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
  • a ′, b ′, c ′ and d ′ each represent the number of four types of repeating units of perfluoropolyether constituting the main skeleton of the polymer, each independently an integer of 0 to 300,
  • the sum of ', b', c 'and d' is at least 1, preferably 1 to 300, more preferably 20 to 300.
  • the order of presence of each repeating unit in parentheses with subscripts a ′, b ′, c ′ or d ′ is arbitrary in the formula.
  • — (OC 4 F 8 ) — represents — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ))-,-(OC (CF 3 ) 2 CF 2 )-,-(OCF 2 C (CF 3 ) 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF (CF 3 ))-,-(OCF (C 2 F 5 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (C 2 F 5 ))-may be used, but preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —.
  • — (OCF 2 CF 2 ) — is preferable.
  • — (OC 2 F 4 ) — may be either — (OCF 2 CF 2 ) — or — (OCF (CF 3 )) —, but is preferably — (OCF 2 CF 2 ) —.
  • the perfluoropolyether compound represented by the above general formula (3) may be a compound represented by any one of the following general formulas (3a) and (3b) (one kind or a mixture of two or more kinds).
  • Rf 1 and Rf 2 are as described above; in formula (3a), b ′′ is an integer of 1 to 100; in formula (3b), a ′′ and b ′′ are Each independently represents an integer of 0 or more and 30 or less, for example, 1 or more and 30 or less, and c ′′ and d ′′ are each independently an integer of 1 or more and 300 or less.
  • the order of existence of each repeating unit with subscripts a ′′, b ′′, c ′′, d ′′ and parentheses is arbitrary in the formula.
  • the fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 1,000 to 30,000. Thereby, high surface slipperiness can be obtained.
  • the fluorine-containing oil is based on a total of 100 parts by mass of the perfluoropolyether group-containing silane compound (in the case of two or more, respectively, the same applies to the following). For example, 0 to 500 parts by mass, preferably 0 to 400 parts by mass, more preferably 5 to 300 parts by mass.
  • the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) may be used alone or in combination. It is preferable to use the compound represented by the general formula (3b) rather than the compound represented by the general formula (3a) because higher surface slip properties can be obtained.
  • the mass ratio of the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) is preferably 1: 1 to 1:30, and preferably 1: 1 to 1 : 10 is more preferable. According to such a mass ratio, a surface treatment layer having an excellent balance between surface slipperiness and friction durability can be obtained.
  • the fluorine-containing oil contains one or more compounds represented by the general formula (3b).
  • the mass ratio of the sum of the perfluoropolyether group-containing silane compounds in the surface treatment agent to the compound represented by the formula (3b) is preferably 10: 1 to 1:10, and preferably 4: 1 to 1: 4 is more preferable.
  • the average molecular weight of the compound represented by the formula (3a) is preferably 2,000 to 8,000.
  • the average molecular weight of the compound represented by the formula (3b) is preferably 8,000 to 30,000.
  • the average molecular weight of the compound represented by formula (3b) is preferably 3,000 to 8,000.
  • the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be larger than the average molecular weight of the perfluoropolyether group-containing silane compound.
  • the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf 3 -F (wherein Rf 3 is a C 5-16 perfluoroalkyl group).
  • a chlorotrifluoroethylene oligomer may be sufficient.
  • the compound represented by Rf 3 -F and the chlorotrifluoroethylene oligomer are a compound represented by a fluorine-containing compound having a carbon-carbon unsaturated bond at the molecular end, the terminal of which is a C 1-16 perfluoroalkyl group. This is preferable in that high affinity can be obtained.
  • Fluorine-containing oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
  • the silicone oil for example, a linear or cyclic silicone oil having a siloxane bond of 2,000 or less can be used.
  • the linear silicone oil may be so-called straight silicone oil and modified silicone oil.
  • the straight silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methylhydrogen silicone oil.
  • modified silicone oil include those obtained by modifying straight silicone oil with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like.
  • Examples of the cyclic silicone oil include cyclic dimethylsiloxane oil.
  • the silicone oil is, for example, 0 with respect to 100 parts by mass in total of the perfluoropolyether group-containing silane compound (in the case of 2 or more types, these are also the same). It can be contained in an amount of up to 300 parts by weight, preferably 0 to 200 parts by weight.
  • Silicone oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
  • the catalyst examples include acids (eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (eg, Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.
  • acids eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.
  • bases eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.
  • transition metals eg, Ti, Ni, Sn, etc.
  • the catalyst accelerates the hydrolysis and dehydration condensation of the perfluoropolyether group-containing silane compound and promotes the formation of the surface treatment layer.
  • a film of a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound is formed on the surface of the intermediate layer, and this film is post-treated as necessary.
  • the method of forming is mentioned.
  • the film formation of the surface treatment agent can be carried out by applying the surface treatment agent to the surface of the intermediate layer so as to cover the surface.
  • the coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
  • wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
  • PVD is a method in which a solid material is heated in vacuum (vacuum deposition) or irradiated with high-speed electrons or ions to give physical energy to atoms on the solid surface to vaporize it. This is a method of forming a thin film by recombining with the above method.
  • a vapor deposition method usually vacuum vapor deposition method
  • sputtering etc.
  • Specific examples of the vapor deposition method include resistance heating, high-frequency heating using an electron beam, microwave, and the like, an ion beam, and similar methods.
  • the CVD method include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
  • the PVD method is preferable, and the evaporation method such as resistance heating evaporation or electron beam evaporation is preferable, and electron beam evaporation is more preferable.
  • the PVD method a surface treatment layer having higher friction durability can be obtained.
  • the surface treatment agent used in the present invention can be diluted with a solvent and then applied to the surface of the intermediate layer.
  • the following solvents are preferably used: C 5-12 perfluoroaliphatic hydrocarbons (eg, perfluorohexane, perfluoromethyl) Cyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg bis (trifluoromethyl) benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg C 6 F 13 CH 2 CH 3 (eg Asahi Culin (registered trademark AC-6000) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 1,1,2,2,3,4,4-heptafluorocyclopentane (for example, ZEOLOR (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) Hydrofluoro
  • C 5-12 perfluoroaliphatic hydrocarbons eg, perfluorohexane, per
  • alkyl perfluoroalkyl ethers such as perfluoroalkyl groups and the alkyl group may be straight or branched
  • CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 e.g., Asahi Glass Asahi Co., Ltd. Klin (registered trademark) AE-3000)
  • 1,2-dichloro-1,3,3,3-tetrafluoro-1-propene for example, Bertrell (registered trademark) Scion manufactured by Mitsui DuPont Fluorochemical Co., Ltd.
  • These solvents can be used alone or in combination as a mixture of two or more thereof, for example, for adjusting the solubility of the perfluoropolyether group-containing silane compound. Can also be mixed.
  • the surface treatment agent used in the present invention may be directly subjected to the dry coating method, or may be diluted with the above-described solvent and then subjected to the dry coating method.
  • the film formation is preferably carried out so that the surface treatment agent is present in the film together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation.
  • a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation For convenience, in the case of the wet coating method, after diluting the surface treatment agent with a solvent, the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent immediately before application to the surface of the intermediate layer.
  • the catalyst-treated surface treatment agent is directly vapor-deposited (usually vacuum deposition), or a pellet form in which a porous metal such as iron or copper is impregnated with the catalyst-treated surface treatment agent. Vapor deposition (usually vacuum deposition) may be performed using a substance.
  • any suitable acid or base can be used for the catalyst.
  • the acid catalyst for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid and the like can be used.
  • a base catalyst ammonia, organic amines, etc. can be used, for example.
  • the membrane is post-treated as necessary.
  • this post-processing is not specifically limited, For example, a water supply and drying heating may be implemented sequentially, and it may be implemented as follows in detail.
  • the method of supplying moisture is not particularly limited, and for example, using a method such as dew condensation due to a temperature difference between the precursor film (and the substrate having the intermediate layer) and the ambient atmosphere, or spraying of steam (steam). Good.
  • the supply of moisture is, for example, 0 to 250 ° C., preferably 60 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.
  • the pressure at this time is not specifically limited, it can be simply a normal pressure.
  • the precursor film is heated on the surface of the intermediate layer in a dry atmosphere exceeding 60 ° C.
  • the drying heating method is not particularly limited, and the precursor film together with the intermediate layer and the substrate is at a temperature exceeding 60 ° C., preferably exceeding 100 ° C., for example, at a temperature of 250 ° C. or less, preferably 180 ° C. or less.
  • an atmosphere of unsaturated water vapor pressure is not specifically limited, it can be simply a normal pressure.
  • the groups bonded to Si after hydrolysis rapidly undergo dehydration condensation between the PFPE-containing silane compounds of the present invention. Further, between such a compound and the intermediate layer, it reacts quickly between the group bonded to Si after hydrolysis of the compound and the reactive group present on the surface of the intermediate layer, and exists on the surface of the intermediate layer.
  • the reactive group is a hydroxyl group
  • dehydration condensation is performed. As a result, a bond is formed between the perfluoropolyether group-containing silane compound and the intermediate layer.
  • the above water supply and drying heating may be continuously performed by using superheated steam.
  • Superheated steam is a gas obtained by heating saturated steam to a temperature higher than the boiling point, and exceeds 100 ° C. under normal pressure, generally 500 ° C. or lower, for example, 300 ° C. or lower, and has a boiling point. It is a gas that has become an unsaturated water vapor pressure by heating to a temperature exceeding.
  • superheated steam at 250 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower is used for moisture supply and drying heating.
  • the precursor film on the surface of the substrate comes into contact with the superheated steam, thereby the temperature of the superheated steam ( It will be heated to a temperature exceeding 100 ° C. under normal pressure. Therefore, if superheated steam is used, moisture supply and drying heating can be carried out continuously only by exposing the substrate on which the precursor film is formed to superheated steam.
  • Post-processing can be performed as described above. It should be noted that such post-treatment can be performed to further improve friction durability, but is not essential for producing the articles of the present invention. For example, after applying the surface treatment agent to the surface of the intermediate layer, it may be left as it is.
  • the surface treatment layer derived from the film of the surface treatment agent of the present invention is formed on the surface of the intermediate layer, and the article of the present invention is manufactured.
  • the surface treatment layer obtained by this has high friction durability.
  • this surface treatment layer has water repellency, oil repellency, antifouling properties (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), depending on the composition of the surface treatment agent used.
  • As a functional thin film it can be waterproof (to prevent water from entering electronic parts, etc.), surface slippery (or lubricity, for example, wiping off dirt such as fingerprints, and excellent touch to fingers). It can be suitably used.
  • a surface treatment layer having high friction durability can be formed by forming an intermediate layer on a zirconium oxide base material. Therefore, the present invention A method of forming a surface treatment layer formed from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound on a zirconium oxide substrate, Forming an intermediate layer on the zirconium oxide substrate using one or more metal oxides; Next, a method including forming a surface treatment layer on the intermediate layer using a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound is provided.
  • the intermediate layer is formed by forming an aluminum oxide layer on the zirconium oxide substrate and then forming a silicon oxide layer on the aluminum oxide layer.
  • the present invention also provides: A zirconium oxide substrate; An intermediate layer located on the substrate; A surface treatment layer formed from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound located on the intermediate layer, Forming an intermediate layer on the zirconium oxide substrate using one or more metal oxides; Next, a method including forming a surface treatment layer on the intermediate layer using a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound is provided.
  • the intermediate layer is formed by forming an aluminum oxide layer on the zirconium oxide substrate and then forming a silicon oxide layer on the aluminum oxide layer.
  • Preparation Example A surface treatment agent was prepared by dissolving a fluorine-containing compound represented by the following formula (average composition) in hydrofluoroether (manufactured by 3M, Novec HFE7200) so as to have a concentration of 20 wt%.
  • CF 3 O (CF 2 CF 2 O) 20 (CF 2 O) 16 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si [CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ] 3 (Note that the average composition, but contained repeating units 0.18 units of (CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O repeating units 0.17 units and (CF 2 CF 2 CF 2 O) of) , Omitted because of the trace amount.)
  • Examples 1 to 11 On the zirconium oxide base material (7 cm ⁇ 5 cm), the metal oxides shown in the following table were vapor-deposited to a predetermined thickness by electron beam vapor deposition to form an intermediate layer. Next, the surface treatment agent prepared above was vapor-deposited in a predetermined amount on the intermediate layer to form a surface treatment agent layer. Thereafter, the base material on which the surface treatment agent layer was formed was allowed to stand for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 20 ° C. and a humidity of 65%, and the surface treatment agent layer was cured to obtain a surface treatment layer.
  • Comparative Example 1 A surface treatment layer was formed by the same treatment as in the above example except that the surface treatment agent was directly deposited on the zirconium oxide substrate without forming an intermediate layer.
  • steel wool friction durability evaluation was carried out as friction durability evaluation.
  • the base material on which the surface treatment layer is formed is horizontally arranged, and steel wool (count # 0000, size 10 mm ⁇ 10 mm) is brought into contact with the exposed upper surface of the surface treatment layer, and a load of 1,000 gf is applied thereon.
  • steel wool was reciprocated in a state where a load was applied (distance: 120 mm (reciprocation), speed: 60 rpm).
  • the static contact angle (degree) of water was measured at every fixed number of reciprocations.
  • the evaluation was stopped when the measured value of the contact angle was less than 100 degrees.
  • the following table shows the number of reciprocations when the measured value is less than 100 degrees.
  • the present invention can be suitably used for forming a surface treatment layer having high friction durability on the surface of a zirconium oxide base material.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

本発明は、酸化ジルコニウム基材と、　基材上に位置する中間層と、　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と を有して成る物品であって、　上記中間層が、一種以上の金属酸化物を含む物品を提供する。本発明の物品における表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。

Description

表面処理層を有する物品
　本発明は、表面処理層を有する物品、特に酸化ジルコニウム基材上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる表面処理層を有する物品およびその製造方法に関する。
　ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。そのような含フッ素シラン化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。例えば、特許文献１には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。
　上記のような含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、ガラス等に施されている。特に、上記表面処理層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネ、タッチパネル、携帯端末の操作画面などの光学部材に適用されている。
特開２０１３－１１７０１２号公報
　例えば、携帯端末などの操作画面には、一般的にガラス基材が用いられており、上記の表面処理層は、このガラス基材上に形成されている。一方、筐体部分の表面には、ダイヤモンドに似た光沢を有するなど意匠性に優れていることから、ジルコニアセラミックが利用される場合がある。携帯端末などは、とりわけ摩擦耐久性の向上が要求されているが、本発明者らの研究によれば、ガラス基材上に形成された表面処理層は、十分な摩擦耐久性を有し得るが、ジルコニアセラミック上に形成された表面処理層は、摩擦耐久性が十分でないことがわかった。
　従って、本発明は、ジルコニアセラミック基材、即ち酸化ジルコニウム基材上に、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層が形成された物品およびこのような層の形成方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、鋭意検討した結果、酸化ジルコニウム基材上に、金属酸化物の層を形成し、その上に含フッ素シラン化合物を含む組成物を用いて表面処理層を形成することにより、摩擦耐久性に優れた表面処理層を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明の第１の要旨によれば、酸化ジルコニウム基材と、
　基材上に位置する中間層と、
　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と
を有して成る物品であって、
　上記中間層が、一種以上の金属酸化物を含む物品が提供される。
　本発明の第２の要旨によれば、酸化ジルコニウム基材上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層を形成する方法であって、
　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成することを含む方法が提供される。
　本発明の第３の要旨によれば、酸化ジルコニウム基材と、
　基材上に位置する中間層と、
　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と
を有して成る物品の製造方法であって、
　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成することを含む方法が提供される。
　本発明によれば、酸化ジルコニウム基材上に、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。
　以下、本発明の物品および製造方法について説明する。
　本発明の物品は、酸化ジルコニウム基材と、該基材上に形成された中間層と、該中間層上に形成された表面処理層とを有して成る。
　本発明の物品は、筐体（例えば形態端末の筐体等）、宝飾品（例えば、時計の文字盤等）、眼鏡フレーム等、あるいはこれらの一部であり得る。
　酸化ジルコニウム基材とは、酸化ジルコニウムを主成分とする材料から構成される基材である。尚、本明細書において、「主成分」とは、その材料中に最も多く含まれる材料、例えば５０質量％以上含まれる材料を意味する。
　酸化ジルコニウム基材に含まれる主成分以外の他の成分としては、特に限定されないが、例えば安定化剤、着色剤等が挙げられる。
　安定化剤としては、特に限定されないが、例えば酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化イットリウム、酸化スカンジウムまたは酸化セリウム等の金属酸化物であり得る。
　着色剤としては、特に限定されないが、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、ＭｎまたはＮｉの酸化物、あるいは複合酸化物であり得る。一の態様において、着色剤は、Ｆｅ２Ｏ３である。
　酸化ジルコニウム基材の形状は特に限定されない。また、中間層および表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
　一の態様において、基材上に中間層を形成する前に、基材を前処理、例えば洗浄処理を行ってもよい。前処理を行うことにより、基材と中間層との密着性が向上し、より高い摩擦耐久性を得ることができる。
　酸化ジルコニウム基材上には、中間層が設けられる。
　中間層は、一種以上の金属酸化物を含み、単層であっても、多層であってもよい。
　中間層に含まれる金属酸化物としては、特に限定されないが、例えば酸化ケイ素（典型的には、ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（典型的には、Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（典型的には、ＺｒＯ２）等が挙げられる。
　一の態様において、中間層は、少なくとも酸化ケイ素または酸化アルミニウムを含む。中間層が、酸化ケイ素または酸化アルミニウムを含むことにより、基材上に、より摩擦耐久性の高い表面処理層を得ることができる。
　好ましい態様において、中間層は、少なくとも酸化ケイ素を含む。中間層が、酸化ケイ素を含むことにより、基材上に、より摩擦耐久性の高い表面処理層を得ることができる。
　さらに好ましい態様において、中間層は、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む。中間層が、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含むことにより、基材上に、より摩擦耐久性の高い表面処理層を得ることができる。
　上記の３つの態様において、中間層は、さらに酸化ジルコニウムを含んでいてもよい。
　好ましい態様において、中間層において、表面処理剤側の表面に、酸化ケイ素が存在する。中間層の表面処理剤側の表面に酸化ケイ素を存在させることにより、基材上により摩擦耐久性の高い表面処理層を得ることができる。
　好ましい態様において、中間層において、基材側の表面に、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウム、好ましくは酸化アルミニウムが存在する。中間層の基材側の表面に、酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウム、特に酸化アルミニウムを存在させることにより、基材と中間層がより強く結合され、その結果、より摩擦耐久性の高い表面処理層を得ることができる。
　中間層は、単層であっても、複数の層から構成されていてもよいが、好ましくは複数の層から構成される。
　中間層が単層である場合、中間層に含まれる金属酸化物は、１種であっても、２種以上であってもよい。この場合、中間層は、好ましくは、少なくとも酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素から選択される１種または２種の金属酸化物を含む。
　金属酸化物が２種以上含まれる場合、２種以上の金属酸化物は、中間層中に均一に分布していてもよく、不均一に分布していてもよい。好ましくは、基材側により多くの酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウム、特に酸化アルミニウムが存在し、表面処理層側により多くの酸化ケイ素が存在する。
　中間層が複数の層、例えば２層、３層または４層である場合、各層は、１種または２種以上の金属酸化物から構成されていてもよいが、好ましくは１種の金属酸化物から構成される。中間層は、同じ金属酸化物の層を複数有していてもよい。尚、隣接する金属酸化物の層間で、それらを構成する金属酸化物の種類が有意に異なっている限り、かかる層間の境界は必ずしも明確でなくてもよい。例えば、隣接する金属酸化物の層間には、それらを構成する金属酸化物の両方が存在する領域があってもよい。通常、金属酸化物の両方が存在する領域の厚みは、５０ｎｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下であり得る。
　好ましい態様において、複数の層のうち、最も基材側に位置する層は、酸化アルミニウムの層または酸化ジルコニウムの層、好ましくは酸化アルミニウムの層であり、最も表面処理剤側に位置する層は、酸化ケイ素の層である。
　中間層の好ましい例としては、下記の層構造が挙げられる。尚、左側が基材側であり、右側が表面処理層側である。
（ｉ）　　ＳｉＯ２
（ｉｉ）　Ａｌ２Ｏ３
（ｉｉｉ）Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
（ｉｖ）　ＺｒＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
（ｖ）　　Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
　中でも、高い摩擦耐久性を得る観点からは、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２またはＺｒＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２が好ましく、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２が特に好ましい。また、良好な外観を得る観点からは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２またはＡｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２が好ましく、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２が特に好ましい。
　中間層の厚み（複数の層が存在する場合は、それらの総厚）は、特に限定されないが、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上、さらにより好ましくは３０ｎｍ以上であり、好ましくは８０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。中間層の厚みを上記のような範囲とすることにより、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。
　中間層が複数の層から構成される場合、各層の厚みは、特に限定されないが、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは１５ｎｍ以上であり、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下である。各層の厚みを上記のような範囲とすることにより、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。
　中間層の厚みは、アルゴンクラスターイオンビーム（Ａｒ－ＧＣＩＢ）により、表面処理された基材の表面を、表面処理層側からエッチングし、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）により原子濃度を測定し、かかる操作を繰り返して得られるエッチングレートから算出することができる。
　好ましい態様において、中間層は
（ｉ）　　ＳｉＯ２
（ｉｉ）　Ａｌ２Ｏ３
（ｉｉｉ）Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
（ｉｖ）　ＺｒＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
（ｖ）　　Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２
から選択され、
　中間層の厚み（複数の層が存在する場合は、それらの総厚）は、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、
　複数の層が存在する場合、各層の厚みは、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり得る。
　さらに好ましい態様において、中間層は、Ａｌ２Ｏ３／ＳｉＯ２であり、
　それらの総厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、
　各層の厚みは、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり得る。
　中間層の形成方法は、基材上に金属酸化物の層を形成することができる方法であれば特に限定されないが、蒸着法、例えば物理気相成長法（ＰＶＤ：Physical Vapor Deposition）および化学気相成長法（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）等を用いることができる。ＰＶＤ法としては、特に限定されないが、例えば、真空蒸着法およびスパッタリング等が挙げられる。真空蒸着法の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。中でも、ＰＶＤ法が好ましく、特に抵抗加熱蒸着または電子ビーム蒸着が好ましく、電子ビーム蒸着がより好ましい。ＰＶＤ法を用いることにより、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。
　一の態様において、中間層上に表面処理層を形成する前に、基材の前処理、例えば洗浄処理を行ってもよい。前処理を行うことにより、中間層と表面処理層との密着性が向上し、より高い摩擦耐久性を得ることができる。
　中間層上には、表面処理層が設けられる。表面処理層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて形成され、表面にパーフルオロポリエーテル基を有し、シラン部分を介して中間層に結合しているものが好ましい。
　表面処理層の厚さは、特に限定されないが、好ましくは１～５０ｎｍ、より好ましくは１～３０ｎｍ、さらにより好ましくは１５～３０ｎｍの範囲であることが、摩擦耐久性の点から好ましい。
　上記含フッ素シラン化合物は、好ましくはパーフルオロポリエーテル基と加水分解可能な基を有するＳｉ原子を含有する。例えば、含フッ素シラン化合物は、下記一般式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 ［式中：
　ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
　　　　－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－
（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
　Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
　Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
　Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｎは、（－ＳｉＲ１ ｎＲ２ ３－ｎ）単位毎に独立して、０～３の整数であり；
　ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し； 
　Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
　Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり；
　αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　α’は、１～９の整数であり；
　Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
　βは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　β’は、１～９の整数であり；
　Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　γ’は、１～９の整数であり；
　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ－ＳｉＲ７１ ｐＲ７２ ｑＲ７３ ｒを表し；
　Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
　Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
　Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
　Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、－Ｚ－ＳｉＲ７１ ｐＲ７２ ｑＲ７３ ｒ毎において、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
　Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
　ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
　ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
　ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
　Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
　δは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　δ’は、１～９の整数である。
　Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ’－ＣＲ８１ ｐ’Ｒ８２ ｑ’Ｒ８３ ｒ’を表し；
　Ｚ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表し；
　Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義であり；
　Ｒｄ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
　Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表し；
　Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
　Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｊは、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊ）単位毎に独立して、１～３の整数を表し；
　Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表し；
　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２または３である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
　本明細書において用いられる場合、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
　以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。
　式（Ａ１）および（Ａ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　上記式中、ＰＦＰＥは、－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－であり、パーフルオロポリエーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１～２００の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数である。また、好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
　一の態様において、ＰＦＰＥは、－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ－（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｂ－（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、より好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ－（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
　別の態様において、ＰＦＰＥは、－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－である。一の態様において、ＰＦＰＥは、－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
　さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、－（Ｒ１９－Ｒ１８）ｎ”－で表される基である。式中、Ｒ１９は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、かかるＰＦＰＥは、－（ＯＣ２Ｆ４－Ｒ１８）ｎ”－で表される基である。式中、Ｒ１８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｎ”は、２～１００の整数、好ましくは２～５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｎ”－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｎ”－である。
　上記式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表す。
　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基における「炭素数１～１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１～６、特に炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１～３のアルキル基である。
　上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１～１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基である。
　該炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１～６、特に炭素数１～３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
　上記式中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基を表す。
　上記式中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ２、－ＮＲ２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
　上記式中、Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
　上記式中、Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
　上記式中、ｎは、（－ＳｉＲ１ ｎＲ２ ３－ｎ）単位毎に独立して、０～３の整数であり、好ましくは０～２であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎが同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ２が存在する。
　上記式中、Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
　上記式中、αは１～９の整数であり、α’は１～９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ１の価数と同じである。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ１の価数から１を引いた値である。
　上記Ｘ１は、好ましくは２～７価であり、より好ましくは２～４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ１は２～４価の有機基であり、αは１～３であり、α’は１である。
　別の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記Ｘ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
　　　－（Ｒ３１）ｐ１－（Ｘａ）ｑ１－
［式中：
　Ｒ３１は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ’－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ’－であり、
　ｓ’は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
　Ｘａは、－（Ｘｂ）ｌ’－を表し、
　Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、－ＣＯＮＲ３４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ３４－、－ＮＲ３４－および－（ＣＨ２）ｎ’－からなる群から選択される基を表し、
　Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
　ｍ”は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ’は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ１は、０または１であり、
　ｑ１は、０または１であり、
　ここに、ｐ１およびｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１またはｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　好ましくは、上記Ｘ１は、－（Ｒ３１）ｐ１－（Ｘａ）ｑ１－Ｒ３２－である。Ｒ３２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ’－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ’－である。ｔ’は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－Ｒ３１－Ｘｃ－Ｒ３２－、または
－Ｘｄ－Ｒ３２－
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
　より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－（ＣＨ２）ｔ’－
－Ｘｄ－、または
－Ｘｄ－（ＣＨ２）ｔ’－
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
　上記式中、Ｘｃは、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ３４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ３４－、
－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ３３）２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ３３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u’－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）u’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）u’－Ｎ（Ｒ３４）－、または
－ＣＯＮＲ３４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ３３）２－
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ”は、上記と同意義であり、
　ｕ’は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは－Ｏ－である。
　上記式中、Ｘｄは、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ３４－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）u’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－、
－ＣＯＮＲ３４－（ＣＨ２）u’－Ｎ（Ｒ３４）－、または
－ＣＯＮＲ３４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ３３）２－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
　より好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｘｃ－（ＣＨ２）ｔ’－、または
－Ｘｄ－（ＣＨ２）ｔ’－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
　さらにより好ましくは、上記Ｘ１は、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ’－、
－（ＣＨ２）ｓ’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣＨ２）ｔ’－、
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）u’－（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ”－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣＨ２）ｔ’－、または
－（ＣＨ２）ｓ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ’－Ｓｉ（Ｒ３３）２ －（ＣＨ２）u’－Ｓｉ（Ｒ３３）２－（ＣvＨ２v）－
［式中、Ｒ３３、ｍ”、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。
　上記式中、－（ＣvＨ２v）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－であり得る。
　上記Ｘ１基は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　一の態様において、Ｘ１基は、－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン基以外であり得る。
　別の態様において、Ｘ１基としては、例えば下記の基が挙げられる：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、またはＣ１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
　Ｄは、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 （式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基またはＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
　Ｅは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
　Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
　上記Ｘ１の具体的な例としては、例えば：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 などが挙げられる。
　さらに別の態様において、Ｘ１は、式：－（Ｒ１６）ｘ－（ＣＦＲ１７）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ２６－（式中、Ｒ２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
　上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ２７）－、および－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７－（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
　上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
　この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：－（Ｏ）ｘ－（ＣＦ２）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
　上記式：－（Ｏ）ｘ－（ＣＦ２）ｙ－（ＣＨ２）ｚ－で表される基としては、例えば、－（Ｏ）ｘ’－（ＣＨ２）ｚ”－Ｏ－［（ＣＨ２）ｚ’’’－Ｏ－］ｚ””、および－（Ｏ）ｘ’－（ＣＦ２）ｙ”－（ＣＨ２）ｚ”－Ｏ－［（ＣＨ２）ｚ’’’－Ｏ－］ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
　別の好ましい態様において、Ｘ１は、－Ｏ－ＣＦＲ１３－（ＣＦ２）ｅ－である。
　上記Ｒ１３は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
　上記ｅは、それぞれ独立して、０または１である。
　一の具体例において、Ｒ１３はフッ素原子であり、ｅは１である。
　さらに別の態様において、Ｘ１基の例として、下記の基が挙げられる：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 ［式中、
　Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、またはＣ１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
　各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 ［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基またはＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する－（ＣＨ２）ｎ”－（ｎ”は２～６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１－６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。
　ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
　紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
　好ましい態様において、ラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 が挙げられる。
　この態様において、Ｘ１、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。
　上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１～６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２～１０の整数であり、好ましくは２～６の整数である。
　上記式中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ２は、好ましくは、炭素数１～２０のアルキレン基であり、より好ましくは、－（ＣＨ２）ｕ－（式中、ｕは、０～２の整数である）である。
　好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 ［式中：
　ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
　　　　－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－
（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり； 
　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
　Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
　Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
　Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
　ｎは、０～２の整数であり、好ましくは０であり；
　Ｘ１は、－Ｏ－ＣＦＲ１３－（ＣＦ２）ｅ－であり； 
　Ｒ１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
　ｅは、０または１であり；
　Ｘ２は、－（ＣＨ２）ｕ－であり；
　ｕは、０～２の整数であり；
　ｔは、１～１０の整数である。］
で表される化合物である。
　上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ－ＰＦＰＥ－部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、－ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２－ＳｉＲ１ ｎＲ２ ３－ｎ）－に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。
　式（Ｂ１）および（Ｂ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ１、Ｒ２およびｎは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
　上記式中、Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、－ＳｉＲ１ ｎＲ２ ３－ｎ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
　上記式中のβは、１～９の整数であり、β’は、１～９の整数である。これらβおよびβ’は、Ｘ５の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、βおよびβ’の和は、Ｘ５の価数と同じである。例えば、Ｘ５が１０価の有機基である場合、βおよびβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、またはβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ５が２価の有機基である場合、βおよびβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ５の価数の値から１を引いた値である。
　上記Ｘ５は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ５は２～４価の有機基であり、βは１～３であり、β’は１である。
　別の態様において、Ｘ５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　上記Ｘ５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
　中でも、好ましい具体的なＸ５は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 などが挙げられる。
　好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000016
［式中：
　ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
　　　　－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－
（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
　Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
　Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　ｎは、０～２の整数であり、好ましくは０であり；
　Ｘ５は、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－または－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－である］
で表される化合物である。
　上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特許文献１に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。
　式（Ｃ１）および（Ｃ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
　上記式中、Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、－ＳｉＲａ ｋＲｂ ｌＲｃ ｍ基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
　上記式中のγは、１～９の整数であり、γ’は、１～９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γおよびγ’の和は、Ｘ７の価数と同じである。例えば、Ｘ７が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ７が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｃ１）において、γはＸ７の価数の値から１を引いた値である。
　上記Ｘ７は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ７は２～４価の有機基であり、γは１～３であり、γ’は１である。
　別の態様において、Ｘ７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　上記Ｘ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
　中でも、好ましい具体的なＸ７は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 などが挙げられる。
　上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ－ＳｉＲ７１ ｐＲ７２ ｑＲ７３ ｒを表す。
　式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
　上記Ｚは、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
　上記Ｚは、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ－（式中、ｇは、１～６の整数であり、ｈは、１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ－（式中、ｉは、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
　Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される－Ｚ－Ｓｉ－の繰り返し数と等しくなる。
　例えば、下記にＲａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
　好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　一の態様において、Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
　式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、－Ｎ（Ｒ）２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
　好ましくは、Ｒ７２は、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
　式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。
　好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
　上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
　上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　上記Ｒｂは、好ましくは、水酸基、－ＯＲ、－ＯＣＯＲ、－Ｏ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、－Ｎ（Ｒ）２、－ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）であり、好ましくは－ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｃは、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
　上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。
　上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ－ＰＦＰＥ－部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基を導入し、導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載のように合成することができる。
　式（Ｄ１）および（Ｄ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
　上記式中、Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表す。当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ－ＰＦＰＥ部または－ＰＦＰＥ－部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
　上記式中、δは１～９の整数であり、δ’は１～９の整数である。これらδおよびδ’は、Ｘ９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δおよびδ’の和は、Ｘ９の価数と同じである。例えば、Ｘ９が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ９が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ９の価数から１を引いた値である。
　上記Ｘ９は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ９は２～４価の有機基であり、δは１～３であり、δ’は１である。
　別の態様において、Ｘ９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　上記Ｘ９の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
　中でも、好ましい具体的なＸ９は、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 などが挙げられる。
　上記式中、Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ’－ＣＲ８１ ｐ’Ｒ８２ ｑ’Ｒ８３ ｒ’を表す。
　式中、Ｚ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
　上記Ｚ’は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ－（式中、ｇは、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈは、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ－（式中、ｉは、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　式中、Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表す。Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義である。
　Ｒｄ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄにおいて、Ｒ８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ中にＺ’基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ中において直鎖状に連結される－Ｚ’－Ｃ－の繰り返し数と等しくなる。
　好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　一の態様において、Ｒｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
　式中、Ｒ８２は、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表す。
　Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
　好ましい態様において、Ｙは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｇ’－Ｏ－（ＣＨ２）ｈ’－（式中、ｇ’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈ’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ’－（式中、ｉ’は、０～６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　一の態様において、Ｙは、Ｃ１－６アルキレン基または－フェニレン－（ＣＨ２）ｉ’－であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
　上記Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　上記「加水分解可能な基」とは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）と同様のものが挙げられる。
　好ましくは、Ｒ８５は、－ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。
　上記Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　ｊは、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊ）単位毎に独立して、１～３の整数を表し、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
　上記Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３である。
　好ましい態様において、Ｒｄ中の末端のＲｄ’（Ｒｄ’が存在しない場合、Ｒｄ）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
　上記式中、Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表す。ここに、Ｙ、Ｒ８５、Ｒ８６およびｊは、上記Ｒ８２における記載と同意義である。
　上記式中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１～２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　式中、ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ｋ’、ｌ’およびｍ’の和は３である。
　一の態様において、少なくとも１つのｋ’は２または３であり、好ましくは３である。
　一の態様において、ｋ’は２または３であり、好ましくは３である。
　一の態様において、ｌ’は２または３であり、好ましくは３である。
　上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ’は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊ基が存在する。
　式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘが２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。
　ＨＯ－Ｘ－Ｃ（ＹＯＨ）３（式中、ＸおよびＹは、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ２）３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、ＲＰＦＰＥ－ＯＨ（式中、ＲＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、ＲＰＦＰＥ－Ｏ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ＝ＣＨ２）３を得る。次いで、末端の－ＣＨ＝ＣＨ２と、ＨＳｉＣｌ３およびアルコールまたはＨＳｉＲ８５ ３と反応させて、ＲＰＦＰＥ－Ｏ－Ｘ－Ｃ（Ｙ－Ｏ－Ｒ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＳｉＲ８５ ３）３を得ることができる。
　本発明で用いられる表面処理剤に含まれるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、好ましくは５，０００以上、より好ましくは６，０００以上であり、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１０，０００以下である。
　本発明で用いられる表面処理剤に含まれるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物におけるパーフルオロポリエーテル部分（Ｒｆ－ＰＦＰＥ－部分または－ＰＦＰＥ－部分）の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは４，０００～３０，０００、より好ましくは５，０００～１０，０００であり得る。
　本発明で用いられる表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンからなる群から選択される溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
　本発明で用いられる表面処理剤は、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロポリエーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。
　上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロポリエーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ１－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ２　　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ１およびＲｆ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３のパーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
　上記一般式（３）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’－Ｒｆ２　　　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’－（ＯＣＦ２）ｄ’’－Ｒｆ２　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ１およびＲｆ２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下、例えば１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
　上記含フッ素オイルは、１，０００～３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
　本発明で用いられる表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５００質量部、好ましくは０～４００質量部、より好ましくは５～３００質量部で含まれ得る。
　一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１～１：３０が好ましく、１：１～１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
　一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１～１：１０が好ましく、４：１～１：４がより好ましい。
　一の態様において、式（３ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００～８，０００であることが好ましい。
　一の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００～３０，０００であることが好ましい。
　別の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００～８，０００であることが好ましい。
　好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３－Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ３－Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ１－１６パーフルオロアルキル基である上記分子末端に炭素－炭素不飽和結合を有する含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
　含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
　本発明で用いられる表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは０～２００質量部で含まれ得る。
　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
　触媒は、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
　表面処理層を形成する方法としては、例えば、中間層の表面に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより表面処理層を形成する方法が挙げられる。
　上記表面処理剤の膜形成は、表面処理剤を中間層の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
　乾燥被覆法の例としては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法および類似の方法が挙げられる。ＰＶＤ法とは、固体原料を真空中で加熱（真空蒸着）したり、高速の電子やイオンで照射したりして、物理的エネルギーを固体表面の原子に与えて気化させ、それを中間層上にて再結合させて薄膜を形成する方法である。ＰＶＤ法としては、特に限定されないが、例えば、蒸着法（通常、真空蒸着法）およびスパッタリング等が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。中でも、ＰＶＤ法が好ましく、特に蒸着法、例えば抵抗加熱蒸着または電子ビーム蒸着が好ましく、電子ビーム蒸着がより好ましい。ＰＶＤ法を用いることにより、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。
　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
　湿潤被覆法を使用する場合、本発明で用いられる表面処理剤は、溶媒で希釈されてから中間層表面に適用され得る。本発明で用いられる表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ５－１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ－３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ－２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
　乾燥被覆法を使用する場合、本発明で用いられる表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
　膜形成は、膜中で表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、表面処理剤を溶媒で希釈した後、中間層表面に適用する直前に、表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
　触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
　次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
　上記のようにして中間層の表面に表面処理剤の膜を形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および中間層を有する基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
　前駆体膜に水分が供給されると、表面処理剤中のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
　水分の供給は、例えば０～２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
　次に、該前駆体膜を該中間層の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を中間層および基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
　このような雰囲気下では、本発明のＰＦＰＥ含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と中間層との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、中間層表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、中間層表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と中間層との間で結合が形成される。
　上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
　過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。本発明では、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の分解を抑制する観点から、好ましくは、２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の過熱水蒸気が水分供給および乾燥加熱に用いられる。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
　以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、表面処理剤を中間層表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
　上記のようにして、中間層の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
　上記したように、酸化ジルコニウム基材上に、中間層を形成することにより、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。従って、本発明は、
　酸化ジルコニウム基材上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層を形成する方法であって、
　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成することを含む方法を提供する。
　好ましい態様において、中間層の形成は、酸化ジルコニウム基材上に、酸化アルミニウムの層を形成し、次いで、酸化アルミニウムの層上に、酸化ケイ素の層を形成することにより行われる。
　また、本発明は、
　酸化ジルコニウム基材と、
　基材上に位置する中間層と、
　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と
を有して成る物品の製造方法であって、
　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成することを含む方法を提供する。
　好ましい態様において、中間層の形成は、酸化ジルコニウム基材上に、酸化アルミニウムの層を形成し、次いで、酸化アルミニウムの層上に、酸化ケイ素の層を形成することにより行われる。
　本発明の物品について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
　調製例
　下記式（平均組成）で示される含フッ素化合物を、濃度２０ｗｔ％になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した。
　　　CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
（なお、平均組成としては、(CF2CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）
　実施例１～１１
　酸化ジルコニウム基材（７ｃｍ×５ｃｍ）上に、下記表に示す金属酸化物を、電子ビーム蒸着（Electron Beam Deposition）により、所定の厚みに蒸着し、中間層を形成した。次に、中間層上に、上記で調製した表面処理剤を所定の量で蒸着させて、表面処理剤の層を形成した。その後、表面処理剤の層を形成した基材を、温度２０℃湿度６５％の雰囲気下に２４時間静置し、表面処理剤の層を硬化させて、表面処理層を得た。
　比較例１
　酸化ジルコニウム基材上に、中間層を形成することなく、直接、表面処理剤を蒸着したこと以外は、上記実施例と同様に処理して、表面処理層を形成した。
　評価
・摩擦耐久性評価
　上記の実施例１～１１および比較例１の表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。
　まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数　ゼロ回）。
　その後、摩擦耐久性評価として、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法１０ｍｍ×１０ｍｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを往復させた（距離：１２０ｍｍ（往復）、速度：６０ｒｐｍ）。一定の往復回数毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。測定値が１００度未満となった時点の往復回数を下記表に示す。
・外観評価
　蒸着後、目視にて基材の表面を評価した。評価基準は以下の通りである。
　○…見た目に滑らかであり、表面反射の変化がない。
　△…若干の表面反射がある。
　×…見た目に滑らかでなく、表面反射の変化がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
　上記の結果から明らかなように、酸化ジルコニウム基材上に、金属酸化膜の中間層を形成することにより、摩擦耐久性が向上することが確認された。
　本発明は、酸化ジルコニウム基材の表面に高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (22)

  1. 　酸化ジルコニウム基材と、
    　基材上に位置する中間層と、
    　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と
    を有して成る物品であって、
    　上記中間層が、一種以上の金属酸化物を含む、物品。
  2. 　中間層が、酸化ケイ素または酸化アルミニウムを含む、請求項１に記載の物品。
  3. 　中間層が、酸化ケイ素を含む、請求項１または２に記載の物品。
  4. 　中間層が、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の物品。
  5. 　中間層が、さらに酸化ジルコニウムを含む、請求項２～４のいずれか１項に記載の物品。
  6. 　中間層が、複数の金属酸化物層で構成されている、請求項１～５のいずれか１項に記載の物品。
  7. 　中間層が、複数の金属酸化物層で構成されており、
    　基材と接触する金属酸化物層が、酸化アルミニウムの層であり、
    　表面処理層と接触する金属酸化物の層が、酸化ケイ素の層である、請求項１～６のいずれか１項に記載の物品。
  8. 　上記含フッ素シラン化合物が、下記一般式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式中：
    　ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    　　　　－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－
    （式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
    で表される基であり；
    　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
    　Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２２のアルキル基を表し；
    　Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
    　Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｎは、（－ＳｉＲ１ ｎＲ２ ３－ｎ）単位毎に独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し； 
    　Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
    　Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
    　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり；
    　αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
    　α’は、１～９の整数であり；
    　Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
    　βは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
    　β’は、１～９の整数であり；
    　Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
    　γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
    　γ’は、１～９の整数であり；
    　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ－ＳｉＲ７１ ｐＲ７２ ｑＲ７３ ｒを表し；
    　Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
    　Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
    　Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
    　Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、－Ｚ－ＳｉＲ７１ ｐＲ７２ ｑＲ７３ ｒ毎において、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
    　Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
    　ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
    　ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
    　ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
    　Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基を表し；
    　δは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
    　δ’は、１～９の整数である。
    　Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ’－ＣＲ８１ ｐ’Ｒ８２ ｑ’Ｒ８３ ｒ’を表し；
    　Ｚ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表し；
    　Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義であり；
    　Ｒｄ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
    　Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表し；
    　Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
    　Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｊは、（－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊ）単位毎に独立して、１～３の整数を表し；
    　Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｙ－ＳｉＲ８５ ｊＲ８６ ３－ｊを表し；
    　Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
    　ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２または３である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物であることを特徴とする、請求項１～７のいずれか１項に記載の物品。
  9. 　ＰＦＰＥが、それぞれ独立して、下記式（ａ）～（ｃ）：
    　（ａ）－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－
    　［式（ａ）中、ｂは１以上２００以下の整数である］；
    　（ｂ）－（ＯＣ４Ｆ８）ａ－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ－（ＯＣＦ２）ｄ－
    　［式（ｂ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    　（ｃ）－（Ｒ１９－Ｒ１８）ｎ”－
    　［式（ｃ）中、Ｒ１９は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、Ｒ１８は、それぞれ独立して、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、ｎ”は、２～１００の整数である。］
    のいずれかであることを特徴とする、請求項８に記載の物品。
  10. 　ＰＦＰＥにおいて：
    　ＯＣ４Ｆ８が、ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２であり、
    　ＯＣ３Ｆ６が、ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２であり、
    　ＯＣ２Ｆ４が、ＯＣＦ２ＣＦ２である
    ことを特徴とする、請求項８または９に記載の物品。
  11. 　表面処理剤が、含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項８～１０のいずれか１項に記載の物品。
  12. 　含フッ素オイルが、式（３）：
    Ｒｆ１－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－ＲＦ２
    　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（３）
    ［式中：
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    　ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１１に記載の物品。
  13. 　含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
    　Ｒｆ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’－Ｒｆ２　　　　　　　　・・・（３ａ）
    　Ｒｆ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’－（ＯＣＦ２）ｄ’’－Ｒｆ２　　　・・・（３ｂ）
    ［式中：
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
    　式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
    　式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
    　添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１１または１２に記載の物品。
  14. 　筐体、眼鏡フレームまたは宝飾品である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の物品。
  15. 　酸化ジルコニウム基材上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から表面処理層を形成する方法であって、
    　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
    　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成すること
    を含む方法。
  16. 　中間層が、酸化ケイ素または酸化アルミニウムを含む、請求項１５に記載の方法。
  17. 　中間層が、酸化ケイ素を含む、請求項１５または１６に記載の方法。
  18. 　中間層が、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む、請求項１５～１７のいずれか１項に記載の方法。
  19. 　中間層が、さらに酸化ジルコニウムを含む、請求項１５～１８のいずれか１項に記載の方法。
  20. 　中間層の形成が、酸化ジルコニウム基材上に、酸化アルミニウムの層を形成し、次いで、酸化アルミニウムの層上に、酸化ケイ素の層を形成することにより行われる、請求項１５～１９のいずれか１項に記載の方法。
  21. 　酸化ジルコニウム基材と、
    　基材上に位置する中間層と、
    　中間層上に位置する含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から形成された表面処理層と
    を有して成る物品の製造方法であって、
    　酸化ジルコニウム基材上に、一種以上の金属酸化物を用いて、中間層を形成すること、
    　次いで、中間層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成すること
    を含む方法。
  22. 　中間層の形成が、酸化ジルコニウム基材上に、酸化アルミニウムの層を形成し、次いで、酸化アルミニウムの層上に、酸化ケイ素の層を形成することにより行われる、請求項１７に記載の方法。
PCT/JP2016/082808 2015-11-05 2016-11-04 表面処理層を有する物品 WO2017078141A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16862200.9A EP3372399B1 (en) 2015-11-05 2016-11-04 Article having surface treatment layer
JP2017549126A JP6555356B2 (ja) 2015-11-05 2016-11-04 表面処理層を有する物品
US15/772,997 US11760062B2 (en) 2015-11-05 2016-11-04 Article having surface treatment layer
CN201680063916.9A CN108349209B (zh) 2015-11-05 2016-11-04 具有表面处理层的物品

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510744809.X 2015-11-05
CN201510744809.XA CN106680905A (zh) 2015-11-05 2015-11-05 具有表面处理层的物品

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017078141A1 true WO2017078141A1 (ja) 2017-05-11

Family

ID=58662544

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/082808 WO2017078141A1 (ja) 2015-11-05 2016-11-04 表面処理層を有する物品

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11760062B2 (ja)
EP (1) EP3372399B1 (ja)
JP (1) JP6555356B2 (ja)
CN (2) CN106680905A (ja)
TW (1) TW201728449A (ja)
WO (1) WO2017078141A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020235528A1 (ja) * 2019-05-22 2020-11-26 ダイキン工業株式会社 防汚基材
WO2023106293A1 (ja) * 2021-12-07 2023-06-15 ダイキン工業株式会社 防汚基材

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111050929B (zh) * 2017-08-28 2022-07-22 Ａｇｃ株式会社 层叠体及其制造方法
KR102426281B1 (ko) 2017-10-31 2022-07-29 다이킨 고교 가부시키가이샤 표면 처리 조성물
US11970611B2 (en) * 2017-10-31 2024-04-30 Daikin Industries, Ltd. Member for wearable device
WO2019163282A1 (ja) * 2017-12-27 2019-08-29 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品及びその製造方法
KR102467222B1 (ko) * 2018-09-28 2022-11-16 다이킨 고교 가부시키가이샤 표면 처리 방법 및 표면 처리 물품
TWI716876B (zh) * 2019-05-20 2021-01-21 國立臺北科技大學 阻障構件
TWI719485B (zh) * 2019-05-20 2021-02-21 國立臺北科技大學 阻障構件

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007233333A (ja) * 2006-02-01 2007-09-13 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2007294843A (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Hynix Semiconductor Inc ジルコニウム酸化膜を含む積層構造の誘電膜を備えたフラッシュメモリ素子の誘電体、フラッシュメモリ素子及びそれらの製造方法
WO2012043218A1 (ja) * 2010-09-29 2012-04-05 株式会社ニコン・エシロール 光学部品およびその製造方法
WO2015099085A1 (ja) * 2013-12-26 2015-07-02 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤
JP2015230486A (ja) * 2014-06-06 2015-12-21 ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ 高い耐ひっかき性を有する光学部材

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002274885A (ja) * 2001-03-22 2002-09-25 Nagase Chemtex Corp ディスプレイ用ガラスおよびその製造方法
CN100492056C (zh) * 2006-02-01 2009-05-27 精工爱普生株式会社 光学物品及其制造方法
KR100687574B1 (ko) * 2006-03-27 2007-02-27 (주) 개마텍 렌즈 블로킹용 투명 코팅제 및 이를 이용한 렌즈 옥형 가공방법
JP5716663B2 (ja) * 2009-04-30 2015-05-13 コニカミノルタ株式会社 防汚性積層体
ITRM20110104A1 (it) * 2011-03-03 2012-09-04 Agenzia Naz Per Le Nuove Tecn Ologie L Ener Metodo per il trattamento di superfici ceramiche per conferire alle stesse una elevata idrofobicita' e oleofobicita'
JP5788852B2 (ja) 2011-11-01 2015-10-07 信越化学工業株式会社 フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、該組成物を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品
US10563070B2 (en) * 2012-11-05 2020-02-18 Daikin Industries, Ltd. Silane compound containing perfluoro(poly)ether group
WO2014126064A1 (ja) * 2013-02-15 2014-08-21 旭硝子株式会社 撥水膜形成用組成物及びその使用
JP6319143B2 (ja) * 2014-03-31 2018-05-09 信越化学工業株式会社 含フッ素コーティング剤及び該コーティング剤で処理された物品
JP6164144B2 (ja) * 2014-03-31 2017-07-19 信越化学工業株式会社 含フッ素コーティング剤及び該コーティング剤で処理された物品

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007233333A (ja) * 2006-02-01 2007-09-13 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2007294843A (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Hynix Semiconductor Inc ジルコニウム酸化膜を含む積層構造の誘電膜を備えたフラッシュメモリ素子の誘電体、フラッシュメモリ素子及びそれらの製造方法
WO2012043218A1 (ja) * 2010-09-29 2012-04-05 株式会社ニコン・エシロール 光学部品およびその製造方法
WO2015099085A1 (ja) * 2013-12-26 2015-07-02 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤
JP2015230486A (ja) * 2014-06-06 2015-12-21 ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ 高い耐ひっかき性を有する光学部材

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020235528A1 (ja) * 2019-05-22 2020-11-26 ダイキン工業株式会社 防汚基材
JP2021039329A (ja) * 2019-05-22 2021-03-11 ダイキン工業株式会社 防汚基材
KR20220005501A (ko) * 2019-05-22 2022-01-13 다이킨 고교 가부시키가이샤 방오 기재
KR102640005B1 (ko) * 2019-05-22 2024-02-27 다이킨 고교 가부시키가이샤 방오 기재
WO2023106293A1 (ja) * 2021-12-07 2023-06-15 ダイキン工業株式会社 防汚基材

Also Published As

Publication number Publication date
CN106680905A (zh) 2017-05-17
EP3372399B1 (en) 2023-12-20
US20180326701A1 (en) 2018-11-15
CN108349209B (zh) 2020-09-18
US11760062B2 (en) 2023-09-19
JP6555356B2 (ja) 2019-08-07
JPWO2017078141A1 (ja) 2018-05-17
CN108349209A (zh) 2018-07-31
EP3372399A1 (en) 2018-09-12
EP3372399A4 (en) 2019-06-12
TW201728449A (zh) 2017-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6555356B2 (ja) 表面処理層を有する物品
JP7425351B2 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
EP3739007B1 (en) Surface treatment agent
JP6601492B2 (ja) 表面処理層を有する物品の製造方法
JP6172410B2 (ja) 表面処理剤
JP6332358B2 (ja) フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体
JP5713079B2 (ja) パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤
WO2018143433A1 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品
JP2016132719A (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤
JP6631717B2 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物
WO2019088116A1 (ja) 表面処理組成物
JP2017019948A (ja) 表面処理剤
WO2018047695A1 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む組成物
JP6707101B2 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤、それを用いたペレットおよび物品
WO2018168972A1 (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤、それを用いたペレットおよび物品
WO2022168762A1 (ja) 表面処理剤

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16862200

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017549126

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15772997

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2016862200

Country of ref document: EP