WO2018143433A1 - パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 - Google Patents
パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2018143433A1 WO2018143433A1 PCT/JP2018/003664 JP2018003664W WO2018143433A1 WO 2018143433 A1 WO2018143433 A1 WO 2018143433A1 JP 2018003664 W JP2018003664 W JP 2018003664W WO 2018143433 A1 WO2018143433 A1 WO 2018143433A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- independently
- occurrence
- integer
- formula
- Prior art date
Links
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 title claims abstract description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 95
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims description 53
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 142
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 72
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 54
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 48
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 40
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 23
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 23
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 18
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 17
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 13
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 12
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 40
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 description 27
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 21
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 17
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002585 base Substances 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 10
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 7
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 5
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 230000002292 Radical scavenging effect Effects 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene 1-oxide Chemical compound O=S1CCCC1 ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoic acid;hydron;chloride Chemical compound Cl.OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 QZNNVYOVQUKYSC-JEDNCBNOSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N (e)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)\C=C\C(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N (methylsulfinyl)benzene Chemical compound CS(=O)C1=CC=CC=C1 JXTGICXCHWMCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHJBJVPTRJNNIK-UPHRSURJSA-N (z)-1,2-dichloro-3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(\Cl)=C\Cl ZHJBJVPTRJNNIK-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-methoxyhexane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BRWBDEIUJSDQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKRWRXWNQFQGRU-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorooctane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SKRWRXWNQFQGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGYMYUNVVYNXSW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,4,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1C(F)(F)CC(F)(F)C1(F)F JGYMYUNVVYNXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COWKRCCNQSQUGJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3-pentafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)(F)C(F)(F)CF COWKRCCNQSQUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSVZVNYQIGOJR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)=C(Cl)Cl QSSVZVNYQIGOJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC(Cl)=C(F)C(F)(F)F QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJDGSGIFQVXSGD-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound FC(Cl)=C(Cl)C(F)(F)F BJDGSGIFQVXSGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000183 1,3-benzoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFMZSQGESVNRLL-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-pentadecafluorononan-2-one Chemical compound CC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F LFMZSQGESVNRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQQTZCPKNZVLFF-UHFFFAOYSA-N 4h-1,2-benzoxazin-3-one Chemical class C1=CC=C2ONC(=O)CC2=C1 HQQTZCPKNZVLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001313 C5-C10 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical class NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical class C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N metformin Chemical compound CN(C)C(=N)NC(N)=N XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N methyl trifluoromethansulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C(F)(F)F OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 150000003012 phosphoric acid amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1675—Polyorganosiloxane-containing compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
- C09D183/12—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
Definitions
- the present invention relates to a perfluoro (poly) ether group-containing compound, a surface treatment agent containing the compound, and an article.
- a layer obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing compound (hereinafter also referred to as “surface treatment layer”) is applied as a so-called functional thin film to various substrates such as glass, plastic, fiber, and building materials. Yes.
- a perfluoropolyether group-containing silane compound having a perfluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to an Si atom at the molecular terminal or terminal part is known. (See Patent Documents 1 and 2).
- the surface treatment layer as described above is required to have friction durability.
- the surface treatment layers described in Patent Documents 1 and 2 do not exhibit sufficient friction durability in an environment that is easily exposed to an acid and alkaline environment (for example, an environment where human sweat can adhere). I found out.
- An object of the present invention is to provide a new perfluoro (poly) ether group-containing silane compound having improved friction durability.
- the present inventors have found that the friction durability of the surface treatment layer can be improved by using a new perfluoro (poly) ether group-containing silane compound, and have completed the present invention.
- a pellet containing the surface treatment agent is provided.
- an article comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate from the perfluoropolyether group-containing silane compound or the surface treatment agent.
- a new perfluoro (poly) ether group-containing silane compound with improved friction durability is provided.
- hydrocarbon group means a group containing carbon and hydrogen, and a group in which one hydrogen atom has been eliminated from a hydrocarbon.
- Such hydrocarbon group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by one or more substituents, such as an aliphatic hydrocarbon group, An aromatic hydrocarbon group etc. are mentioned.
- the “aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched or cyclic, and may be either saturated or unsaturated.
- the hydrocarbon group may also contain one or more ring structures.
- Such a hydrocarbon group may have one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy and the like at its terminal or molecular chain.
- the substituent of the “hydrocarbon group” is not particularly limited, but includes, for example, a halogen atom; C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms Group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl And one or more groups selected from a group, a C 6-10 aryl group and a 5-10 membered heteroaryl group.
- organic group means a group containing carbon.
- the organic group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group.
- “Divalent to 10-valent organic group” means a divalent to 10-valent group containing carbon.
- Such a divalent to decavalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include divalent to decavalent groups in which 1 to 9 hydrogen atoms are further eliminated from a hydrocarbon group.
- the divalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a divalent group in which one hydrogen atom is further eliminated from a hydrocarbon group.
- (1a) or (1b) hereinafter referred to as “PFPE-containing silane compound of the present invention”.
- Rf independently represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence.
- alkyl group having 1 to 16 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms may be linear or branched. Preferably, it is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
- Rf is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms substituted by one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 fluoroalkylene group, and still more preferably Is a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
- the perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms may be linear or branched, and preferably has 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms. 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, specifically —CF 3 , —CF 2 CF 3 , or —CF 2 CF 2 CF 3 . .
- PFPE is independently at each occurrence, - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - It is group represented by these.
- PFPE corresponds to a perfluoro (poly) ether group.
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1.
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 100 or less.
- the sum of a, b, c, d, e and f is 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
- the order of existence of each repeating unit with a, b, c, d, e or f and enclosed in parentheses is arbitrary in the formula.
- repeating units may be linear or branched, but are preferably linear.
- -(OC 6 F 12 )- is-(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 ) — — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 )) — or the like may be used, but — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) — is preferred.
- -(OC 3 F 6 )- is any of-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (CF 3 ))- Preferably, it is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
- — (OC 2 F 4 ) — may be any of — (OCF 2 CF 2 ) — and — (OCF (CF 3 )) —, preferably — (OCF 2 CF 2 ) —. is there.
- the PFPE is — (OC 3 F 6 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200) or — ( OCF (CF 3 ) CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- the PFPE is preferably — (OC 3 F 6 ) d —, wherein d is an integer of 10 or more and 100 or less, more preferably d is an integer of 15 or more and 50 or less, and further preferably d is 25 It is an integer of 35 or more.
- the PFPE has a — (OC 4 F 8 ) c — (OC 3 F 6 ) d — (OC 2 F 4 ) e — (OCF 2 ) f — (wherein c and d are each independently And e and f are each independently an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200, c, d, e and The sum of f is at least 5 or more, preferably 10 or more, and the order of presence of each repeating unit in parentheses with the suffix c, d, e, or f is optional in the formula).
- the PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) d — (OCF 2 CF 2 ) e — (OCF 2 ) f —.
- PFPE is — (OC 2 F 4 ) e — (OCF 2 ) f — (wherein e and f are each independently 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably Is an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of presence of each repeating unit in parentheses with the suffix e or f is optional in the formula).
- PFPE is a group represented by-(R 6 -R 7 ) g- .
- R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or is independently selected from these groups Is a combination of 2 or 3 groups.
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12.
- the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
- the g is 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and an integer of 100 or less, preferably 50 or less.
- OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either linear or branched, preferably linear.
- the PFPE is preferably — (OC 2 F 4 —OC 3 F 6 ) g — or — (OC 2 F 4 —OC 4 F 8 ) g —.
- the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e / f ratio”) is 0.1 or more and 10 or less, preferably 0.2 or more and 5 or less, more preferably 0.2 or more and 2 or less. More preferably, it is 0.2 or more and 1.5 or less, More preferably, it is 0.2 or more and 0.85 or less.
- e / f ratio the slip property, friction durability and chemical resistance (for example, durability against artificial sweat) of the surface treatment layer obtained from this compound are further improved.
- the smaller the e / f ratio the more improved the slipperiness and friction durability of the surface treatment layer.
- the stability of the compound can be further increased. The greater the e / f ratio, the better the compound stability.
- the e / f ratio is 0.2 or more and 0.95 or less, and more preferably 0.2 or more and 0.9 or less.
- the e / f ratio is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.0 or more and 2.0 or less.
- the above-mentioned stability indicates the difficulty of decomposing the PEPE chain contained in the PFPE-containing compound.
- the compound having high stability indicates that the PFPE chain contained in the compound is a compound that is hardly decomposed by heat, acid, or alkali, for example.
- the chemical resistance indicates the difficulty of decomposing the PFPE chain and the difficulty of decomposing the bonding portion (siloxane bond) between the glass and the PFPE-containing compound.
- Good chemical resistance of the surface treatment layer means that a hydrolysis reaction hardly occurs in the surface treatment layer, for example, a hydrolysis reaction hardly occurs even in an acidic or alkaline state.
- the PFPE is independently at each occurrence, - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f -
- PFPE has at least one branched structure. That is, in this embodiment, the PFPE has at least one CF 3 terminal (specifically, —CF 3 , —C 2 F 5, etc., more specifically —CF 3 ).
- the above PFPE represents an oxygen atom of the left end of the above formula is bonded to Rf group, the carbon atom of the right end is bonded to 1 group X.
- a layer (for example, a surface treatment layer) formed using a PFPE-containing silane compound (or a surface treatment agent containing a PFPE-containing silane compound) has an ultraviolet durability, water repellency, and water repellency. Oiliness, antifouling property (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), chemical resistance, hydrolysis resistance, slipperiness suppressing effect, high friction durability, heat resistance, moisture resistance, etc. can be improved. .
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1.
- a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 100 or less.
- the sum of a, b, c, d, e and f is 5 or more, more preferably 10 or more.
- the sum of a, b, c, d, e, and f is 200 or less, more preferably 100 or less, for example, 10 or more and 200 or less, and more specifically 10 or more and 100 or less.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula.
- PFPE preferably has at least 5 branched structures, more preferably 10 and particularly preferably 20.
- the number of repeating units having a branched structure is preferably 40 or more with respect to the total number of repeating units (for example, the sum of the above a, b, c, d, e and f) 100, It is more preferably 60 or more, and particularly preferably 80 or more.
- the number of repeating units having a branched structure may be 100 or less, for example 90 or less, with respect to the total number 100 of repeating units.
- the number of repeating units having a branched structure is preferably in the range of 40 to 100, more preferably in the range of 60 to 100, with respect to the total number of repeating units 100.
- a range of 100 is particularly preferable.
- Examples of the branched chain in the branched structure include CF 3 .
- Examples of the repeating unit having a branched structure include — (OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) — and — (OCF 2 CF (CF 3 ) CF as — (OC 6 F 12 ) —. 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 )) — and the like.
- Examples of — (OC 3 F 6 ) — include — (OCF (CF 3 ) CF 2 ) — and — (OCF 2 CF (CF 3 )) —.
- Examples of — (OC 2 F 4 ) — include — (OCF (CF 3 )) —.
- the PFPE may contain a linear repeating unit together with a repeating unit having a branched structure.
- a linear repeating unit — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF 2 CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, and-(OCF 2 CF 2 )-.
- the repeating units — (OC 6 F 12 ) —, — (OC 5 F 10 ) —, — (OC 4 F 8 ) —, and — (OC 3 F 6 ) — have a branched structure. .
- the PFPE is composed of branched repeating units OC 6 F 12 , OC 5 F 10 , OC 4 F 8 , and OC 3 F 6 .
- the PFPE is — (OC 3 F 6 ) d — (wherein d is an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200).
- PFPE has at least one branched structure.
- PFPE may further contain a linear repeating unit — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) —.
- the PFPE is preferably composed of a repeating unit OC 3 F 6 having a branched structure.
- the PFPE is more preferably represented by the formula: — (OCF 2 CF (CF 3 )) d .
- d is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less.
- the PFPE has a — (OC 4 F 8 ) c — (OC 3 F 6 ) d — (OC 2 F 4 ) e — (OCF 2 ) f — (wherein c and d are each independently And e and f are each independently an integer of 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200, c, d, e and the sum of f is at least 5 or more, preferably 10 or more, and the order of presence of each repeating unit in parentheses with the suffix c, d, e or f is optional in the formula) PFPE has at least one branched structure.
- PFPE is a group represented by-(R 6 -R 7 ) j- , and has at least one branched structure in PFPE.
- R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or is independently selected from these groups Is a combination of 2 or 3 groups.
- R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12.
- the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited.
- J is 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and an integer of 100 or less, preferably 50 or less.
- OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 preferably have a branched structure.
- the PFPE is composed of a repeating unit OC 6 F 12 , OC 5 F 10 , OC 4 F 8 , and OC 3 F 6 having a branched structure.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE moiety or -PFPE- moiety is not particularly limited, but is 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000. More preferably, it is 2,000 to 10,000.
- the number average molecular weight is a value measured by 19 F-NMR.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE- moiety or -PFPE- moiety is preferably 4,000 to 6,000, more preferably 4,500 to 5,500.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE- moiety or the -PFPE- moiety can be 4,000 to 30,000, preferably 5,000 to 10,000.
- the number average molecular weight of the Rf-PFPE- moiety or -PFPE- moiety can be 2,000-10,000, preferably 2,000-5,000.
- each X independently represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group at each occurrence.
- the X is a perfluoropolyether part (ie, Rf-PFPE part or -PFPE- Part) and a part that provides the binding ability to the substrate (that is, a group that is parenthesized with ⁇ ).
- X is independently at each occurrence, preferably a single bond, or —C 6 H 4 — (ie, —phenylene—, hereinafter referred to as a phenylene group), —CO— (carbonyl group), —NR 4. It represents a divalent to decavalent organic group having at least one selected from the group consisting of — and —SO 2 —.
- R 4 represents, independently at each occurrence, a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom or a methyl group.
- the aforementioned —C 6 H 4 —, —CO—, —NR 4 — or —SO 2 — is preferably contained in the molecular main chain of the PFPE-containing silane compound.
- the molecular main chain represents a relatively long bond chain in the molecule of the PFPE-containing silane compound.
- X is independently at each occurrence, preferably a single bond or —C 6 H 4 —, —CONR 4 —, —CONR 4 —C 6 H 4 —, —C 6 H 4 —CONR 4 —, —CO—, —CO—C 6 H 4 —, —C 6 H 4 —CO—, —SO 2 NR 4 —, —SO 2 NR 4 —C 6 H 4 —, —C 6 H 4 —SO 2 NR 4 -, - SO 2 -, - SO 2 -C 6 H 4 -, and -C 6 H 4 -SO 2 - selected from the group consisting of indicating a 2-10 monovalent organic group having at least one.
- X is more preferably each independently at each occurrence, a single bond or, -C 6 H 4 -, - CONR 4 -, - CONR 4 -C 6 H 4 -, - CO -, - CO-C 6 H 4 -, - SO 2 NR 4 -, - SO 2 NR 4 -C 6 H 4 -, - SO 2 -, and -SO 2 -C 6 H 4 - 2 with at least one member selected from the group consisting of Represents a 10-valent organic group.
- —C 6 H 4 —, —CONR 4 —, —CONR 4 —C 6 H 4 —, —CO—, —CO—C 6 H 4 —, —SO 2 NR 4 —, —SO 2 NR 4 — C 6 H 4 —, —SO 2 —, or —SO 2 —C 6 H 4 — is preferably contained in the molecular main chain of the PFPE-containing silane compound.
- ⁇ is an integer from 1 to 9, and ⁇ is an integer from 1 to 9.
- ⁇ and ⁇ can vary depending on the valence of X.
- the sum of ⁇ and ⁇ is the same as the valence of X.
- ⁇ can be 9 and ⁇ can be 1
- ⁇ can be 5 and ⁇ can be 5, or ⁇ can be 1 and ⁇ can be 9.
- ⁇ and ⁇ are 1.
- ⁇ is a value obtained by subtracting 1 from the valence of X.
- X is preferably 2 to 7 valent, more preferably 2 to 4 valent, and still more preferably a divalent organic group.
- X is a divalent to tetravalent organic group, ⁇ is 1 to 3, and ⁇ is 1.
- X is a single bond or a divalent organic group
- ⁇ is 1
- ⁇ is 1.
- the formulas (1a) and (1b) are represented by the following formulas (1a ′) and (1b ′).
- X is independently a divalent organic group having 1 to 12 single bonds or carbon atoms, more preferably a divalent organic group having 1 to 9 single bonds or carbon atoms, at each occurrence. More preferably a single bond or a divalent organic group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a single bond or a divalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.
- Examples of X are not particularly limited.
- R 31 independently represents a single bond, — (CH 2 ) s ′ — or o-, m- or p-phenylene group, preferably — (CH 2 ) s ′ — s ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
- X a independently represents-(X b ) l '-in each occurrence;
- X b is independently at each occurrence —O—, —S—, o—, m- or p-phenylene, —C (O) O—, —Si (R 33 ) 2 —, — ( Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 —, —O—CONR 34 —, —NR 34 — and — (CH 2 ) n ′ —
- R 33 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, and more preferably a methyl group.
- R 34 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group) at each occurrence;
- m ′ is independently an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20, at each occurrence;
- n ′ is independently an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, at each occurrence.
- R 31 and X a are one or more selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group It may be substituted with a substituent.
- X is — (R 31 ) p ′ — (X a ) q ′ —R 32 —.
- R 32 represents a single bond, — (CH 2 ) t ′ — or o-, m- or p-phenylene group, and preferably — (CH 2 ) t ′ —.
- t ′ is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 3.
- R 32 (typically a hydrogen atom of R 32 ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group. It may be.
- X is independently a C 1-20 alkylene group at each occurrence, -R 31 -X c -R 32- , or -X d -R 32- [Wherein, R 31 and R 32 are as defined above. ] It can be.
- the X is A C 1-20 alkylene group, -(CH 2 ) s' -X c- , -(CH 2 ) s ' -X c- (CH 2 ) t'- -X d- , or -X d- (CH 2 ) t ' - [Wherein, s ′ and t ′ are as defined above]. ] It is.
- X c is -O-, -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, -O-CONR 34 -, -Si (R 33 ) 2- , -(Si (R 33 ) 2 O) m ' -Si (R 33 ) 2- , —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —CH 2 CH 2 —Si (R 33 ) 2 —O—Si (R 33 ) 2 —, —O— (CH 2 ) u ′ —Si (OCH 3 ) 2 OSi (OCH 3 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (Si (OC
- X d is -S-, -C (O) O-, -CONR 34 -, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 —, —CONR 34 — (CH 2 ) u ′ —N (R 34 ) —, or —CONR 34 — (o-, m- or p-phenylene) -Si (R 33 ) 2 — [Wherein each symbol is as defined above. ] Represents.
- the X is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —X c — (CH 2 ) t ′ —, or —X d — (CH 2 ) t ′ — [Wherein each symbol is as defined above. ] It can be.
- said X is A C 1-20 alkylene group, — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) t ′ —, - (CH 2) s' - (Si (R 33) 2 O) m '-Si (R 33) 2 - (CH 2) t' -, — (CH 2 ) s ′ —O— (CH 2 ) u ′ — (Si (R 33 ) 2 O) m ′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) t ′ —, or — (CH 2 ) s′— O— (CH 2 ) t ′ —Si (R 33 ) 2 — (CH 2 ) u ′ —Si (R 33 ) 2 — (C v H 2v ) —
- R 33 , m ′, s ′, t ′ and u ′ are as defined above, and v is an
- — (C v H 2v ) — may be linear or branched.
- X may be a group represented by — (O) t1 — (R f1 O) t2 —R f2 — (C ( ⁇ O) N (R f3 )) t3 —R f4 —.
- the above t1 is 0 or 1.
- R f1 is a fluoroalkylene group having no branched structure containing one or more hydrogen atoms.
- R f1 is preferably a C 2-6 fluoroalkylene group.
- the number of hydrogen atoms contained in R f1 is preferably in the range of 1 to 4, more preferably 1 or 2.
- t2 is an integer of 0 to 4, and more preferably an integer of 0 to 2.
- R f2 is a single bond, a perfluoroalkylene group having no branched structure, or a fluoroalkylene group having no branched structure containing one or more hydrogen atoms.
- the perfluoroalkylene group or fluoroalkylene group preferably contains 1 to 10 carbon atoms.
- R f3 is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably a C 1-4 alkyl group).
- the above t3 is 0 or 1.
- R f2 is preferably a single bond.
- (R f1 O) binds to R f4 in t2
- (R f1 O) is (R f5 CH 2 O) It is preferable that it is group represented by these.
- R f5 is a group having one fewer carbon atoms than R f1 and is a perfluoroalkylene group or a fluoroalkylene group having one or more hydrogen atoms.
- R f5 is preferably a perfluoroalkylene group.
- R f5 CH 2 O is, (CF 2 CH 2 O) , (CF 2 CF 2 CH 2 O), (CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 O), (CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 O) and the like are preferable.
- t2 is preferably 1.
- R f2 is preferably a perfluoroalkylene group or a fluoroalkylene group having one or more hydrogen atoms, and preferably a perfluoroalkylene group. More preferred is a C 1-6 perfluoroalkylene group.
- the R f4 is a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, terminal alkylene groups of 1 to 10 carbon atoms (provided that, (SiR a k R b l R c m) and binding of the side end.)
- a group having an etheric oxygen atom a group having an etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms of an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, or a terminal of an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms (provided that (SiR a k R b l R c m ) is a terminal having an etheric oxygen atom between carbon-carbon atoms.
- Examples of the group having an etheric oxygen atom include —CH 2 CH 2 —O—, —CH 2 CH 2 —O—CH 2 —, and the like.
- R f4 is preferably a single bond or a C 1-4 alkylene group, and more preferably a single bond or a C 1-2 alkylene group.
- X is, for example, -(O) t1- (R f1 O) t2- , -(O) t1- (R f1 O) t2 -CH 2 O-, — (O) t1 — (R f1 O) t2 —CH 2 OCH 2 —, — (O) t1 — (R f1 O) t2 —CH 2 O— (CH 2 ) 2 —O—, — (O) t1 — (R f1 O) t2 —CH 2 O— (CH 2 ) 2 —O—CH 2 —, -(O) t1- (R f1 O) t2 -R f2 -C (O) NH-, -(O) t1- (R f1 O) t2 -R f2 -C (O) NHCH 2- , -(O) t1- (R f1 O) t2
- the X group is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group (preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group). It may be.
- examples of the X group include the following groups: [Wherein, each R 41 independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group; D is —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 )-, -CONH- (CH 2 ) 2- , -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), and (In the formula, each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group or a
- X include, for example: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CH 2 O (CH 2 ) 6 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, -CH 2 O (CH 2) 3 Si (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 OSi (CH 3) 2 (CH 2) 2 -, -CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 2 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2- , —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 Si (CH 3 ) 2 O (Si (CH 3 ) 2 O) 3 Si (CH 3 ) 2 (CH 2
- X include a single bond, —CH 2 OCH 2 —, —CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 CF 2 CF 2 —C (O) NH—CH 2 — Etc.
- X is independently at each occurrence a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, —R 51 —C 6 H 4 —R 52 —, —R 51 —CONR 4 —R 52.
- R 51 and R 52 each independently represents a single bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
- R 4 is as defined above.
- the alkylene group is substituted or unsubstituted, preferably unsubstituted. Examples of the substituent of the alkylene group include a halogen atom, preferably a fluorine atom.
- the alkylene group is linear or branched, and is preferably linear.
- X is independently at each occurrence a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, —R 51 —C 6 H 4 —R 52 —, —R 51 —CONR 4 —R 52.
- R 51 and R 52 each independently represents a single bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
- R 4 is as defined above.
- the alkylene group is substituted or unsubstituted, preferably unsubstituted. Examples of the substituent of the alkylene group include a halogen atom, preferably a fluorine atom.
- the alkylene group is linear or branched, and is preferably linear.
- X is independently at each occurrence, Single bond, An alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, -C 6 H 4 -R 52 ' -, -CONR 4 '-R 52' -, —CONR 4 ′ —C 6 H 4 —R 52 ′ —, -C 6 H 4 -CONR 4 '-R 52' -, -CO-R 52 ' -, -CO-C 6 H 4 -R 52 ' -, -C 6 H 4 -CO-R 52 ' -, —SO 2 NR 4 ′ —R 52 ′ —, —SO 2 NR 4 ′ —C 6 H 4 —R 52 ′ —, -C 6 H 4 -SO 2 NR 4 '-R 52' -, —SO 2 —R 52 ′ —, —SO 2 —C 6 H 4 —R 52 ′ —, —SO 2 —
- X is independently at each occurrence, Single bond, An alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, -C 6 H 4 -R 52 ' -, -CONR 4 '-R 52' -, —CONR 4 ′ —C 6 H 4 —R 52 ′ —, -CO-R 52 ' -, -CO-C 6 H 4 -R 52 ' -, —SO 2 NR 4 ′ —R 52 ′ —, —SO 2 NR 4 ′ —C 6 H 4 —R 52 ′ —, —SO 2 —R 52 ′ —, —SO 2 —C 6 H 4 —R 52 ′ —, -R 51 '-C 6 H 4 - , -R 51 '-CONR 4' -, -R 51 '-CONR 4' -C 6 H 4 -, -R 51 ' -CO-,
- X include, for example, Single bond, An alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, -CONH-, -CONH-CH 2- , -CONH- (CH 2 ) 2- , -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-, —CON (CH 3 ) —CH 2 —, -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 2- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CH 2 —CONH—, —CH 2 —CONH—CH 2 —, —CH 2 —CONH— (CH 2 ) 2 —, —CH 2 —CONH— (CH 2 ) 3 —, -CONH-C 6 H 4 -, —CON (CH 3 ) —C 6 H 4 —, —CH 2 —CON (CH 3 ) —CH 2 —, —CH 2 —CON (CH 3 ) — (CH 2 —CON (CH
- X is a single bond.
- a group having a binding ability between PFPE and the base material layer that is, a group attached with ⁇ and enclosed in parentheses
- PFPE group having a binding ability between PFPE and the base material layer
- the binding force between PFPE and the group enclosed in parentheses with ⁇ is stronger.
- carbon atoms directly bonded to PFPE that is, carbon atoms bonded to R a , R b, and R c in a group parenthesized with ⁇
- have less charge bias and as a result, It is considered that a nucleophilic reaction or the like hardly occurs in the atoms, and is stably bonded to the base material layer.
- Such a structure is advantageous in that the friction durability of the surface treatment layer to be formed is further improved.
- examples of X groups include the following groups: [Where: Each of R 41 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group; In each X group, any some of T are bonded to the PFPE of the molecular backbone: —CH 2 O (CH 2 ) 2 —, —CH 2 O (CH 2 ) 3 —, —CF 2 O (CH 2 ) 3 —, -(CH 2 ) 2- , -(CH 2 ) 3- , - (CH 2) 4 -, -CONH- (CH 2 )-, -CONH- (CH 2 ) 2- , -CONH- (CH 2 ) 3- , -CON (CH 3 )-(CH 2 ) 3- , —CON (Ph) — (CH 2 ) 3 — (wherein Ph represents phenyl), or [Wherein,
- each remaining T may independently be a methyl group, a phenyl group, a C 1-6 alkoxy group, or a radical scavenging group or an ultraviolet absorbing group.
- the radical scavenging group is not particularly limited as long as it can capture radicals generated by light irradiation.
- benzophenones benzotriazoles, benzoates, phenyl salicylates, crotonic acids, malonic esters, organoacrylates , Hindered amines, hindered phenols, or triazine residues.
- the ultraviolet absorbing group is not particularly limited as long as it can absorb ultraviolet rays.
- benzotriazoles, hydroxybenzophenones, esters of substituted and unsubstituted benzoic acid or salicylic acid compounds, acrylates or alkoxycinnamates, oxamides examples include residues of oxanilides, benzoxazinones, and benzoxazoles.
- preferred radical scavenging groups or ultraviolet absorbing groups include Is mentioned.
- R a independently represents —Z—CR 1 p R 2 q R 3 r at each occurrence.
- Z represents —R e —Z′—.
- R e represents a lower alkylene group independently at each occurrence.
- the lower alkylene group is preferably a C 1-20 alkylene group, more preferably a C 1-6 alkylene group, still more preferably a C 1-3 alkylene group, particularly preferably methylene.
- Z ′ represents a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group independently at each occurrence.
- Z ′ is preferably an oxygen atom or a divalent organic group, more preferably a divalent organic group, still more preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) j —O— (CH 2 ) h- (wherein j is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6, and h is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6), or -phenylene- (CH 2 ) i- (wherein i is an integer of 0 to 6), particularly preferably a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) i- , more preferably C A 1-6 alkylene group (preferably a C 1-3 alkylene group).
- These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group.
- Z ′ is unsubstituted.
- Z is independently at each occurrence a C 1-3 alkylene group, specifically —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, or —CH 2 CH 2 CH 2 —. obtain.
- R 1 represents R a ′ independently at each occurrence.
- R a ′ has the same meaning as R a .
- the maximum number of C linked in a straight chain via the Z group is 5. That is, in the above R a , when at least one R 1 is present, there are two or more C atoms linearly linked via a Z group in R a , The maximum number of C atoms connected in a chain is five. Note that "the number of C atoms linearly linked via a Z group in R a", equal to -Z-C-number of repetitions of which is connected to a linear during R a.
- * means a site bonded to C of the main chain, and ... means that a predetermined group other than ZC is bonded, that is, all three bonds of C atoms are ... In this case, it means the end point of ZC repetition.
- the number on the right shoulder of C means the number of occurrences of C linked in a straight chain via the Z group counted from *. That is, the chain in which the ZC repetition is completed at C 2 has “the number of C atoms linearly linked through the Z group in R a ”, and similarly, C 3 , C 4 And the chain in which ZC repeat is terminated at C 5 has “number of C atoms linearly linked through the Z group in R a ” being 3, 4 and 5, respectively.
- there are a plurality of ZC chains in Ra are not necessarily the same length, and may be of any length.
- the number of C atoms linearly linked through the Z group in R a is 1 (left formula) or 2 (right formula) in all chains. Formula).
- the number of C atoms connected in a straight chain via a Z group in R a is 1 or 2, preferably 1.
- R 2 represents a -R d -Y-SiR 5 n R 6 3-n.
- R d independently represents a lower alkylene group at each occurrence.
- the lower alkylene group is preferably a C 1-20 alkylene group, more preferably a C 1-6 alkylene group, still more preferably a C 1-3 alkylene group, particularly preferably methylene.
- Y represents a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group independently at each occurrence.
- Y is an oxygen bond or a divalent organic group.
- Y is more preferably a divalent organic group, particularly preferably a C 1-6 alkylene group, — (CH 2 ) g ′ —O— (CH 2 ) h ′ — (wherein g ′ is 0 An integer from 1 to 6, for example from 1 to 6, and h ′ is an integer from 0 to 6, for example from 1 to 6, or -phenylene- (CH 2 ) i ′ -(where i Is an integer of 0 to 6, more preferably a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) i- , particularly preferably a C 1-6 alkylene group (preferably C 1-3 alkylene group).
- These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group
- Y can be a C 1-6 alkylene group, —O— (CH 2 ) h ′ — or —phenylene- (CH 2 ) i ′ —.
- Y is a group as described above, light resistance, particularly ultraviolet light resistance can be further increased.
- the —R d —Y— may be a C 1-3 alkylene group, specifically —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, or —CH 2 CH 2 CH 2 —.
- R 5 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group independently at each occurrence.
- hydrolyzable group as used herein means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction.
- hydrolyzable groups include —OR, —OCOR, —O—N ⁇ C (R) 2 , —N (R) 2 , —NHR, halogen (wherein R is substituted or unsubstituted Represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), preferably —OR (alkoxy group).
- R include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
- an alkyl group particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
- the hydroxyl group is not particularly limited, but may be a group produced by hydrolysis of a hydrolyzable group.
- R 5 is —OR (wherein R represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably an ethyl group or a methyl group, particularly a methyl group).
- R 6 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
- the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
- n independently represents an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, for each (—R d —Y—SiR 5 n R 6 3-n ) unit.
- R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group independently at each occurrence.
- R 3 is preferably a lower alkyl group.
- the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
- '(if R a' is absent, R a) terminal of R a in R a in the above q is preferably 2 or more, for example 2 or 3, more preferably 3.
- At least one of the terminal portions of R a is —C (—R d —Y—SiR 5 n R 6 3-n ) 2 or —C (—R d —Y—SiR 5 n R 6 3 -n) 3, may be preferably -C (-R d -Y-SiR 5 n R 6 3-n) 3.
- (- R d -Y-SiR 5 n R 6 3-n) units is preferably (-R d -Y-SiR 5 3 ).
- the terminal portions of R a are all —C (—R d —Y—SiR 5 n R 6 3-n ) 3 , preferably —C (—R d —Y—SiR 5 3 ) 3 . possible.
- R b independently represents —R d —Y—SiR 5 n R 6 3-n at each occurrence.
- R d , Y, R 5 , R 6 and n are as defined above for R 2 .
- R c independently represents a hydrogen atom or a lower alkyl group at each occurrence.
- R c is preferably a lower alkyl group.
- the lower alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methyl group.
- At least one k is 2 or 3, preferably 3.
- k is 2 or 3, preferably 3.
- l is 2 or 3, preferably 3.
- l is 3 and n is 3.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention has chemical durability (for example, in an acid and / or alkaline environment, more specifically in an environment where sweat can adhere). It can contribute to the formation of a surface treatment layer that is less likely to deteriorate.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention can contribute to the formation of a surface-treated layer with good friction durability by having the structure as described above, and is particularly easy to be exposed to an acid and / or alkali environment. Can also contribute to the formation of a surface-treated layer with improved friction resistance.
- Preferred compounds represented by the formulas (1a) and (1b) are represented by the following (1a ′) and (1b ′).
- Rf independently represents each alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms at each occurrence
- PFPE has the formula: - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - (a, b, c, d, e and f are as defined above)
- formulas (1a) and (1b) are represented by formulas (1a ′) and (1b ′)
- X is independently at each occurrence a single bond, or —C 6 H 4 —, —CONR 4 —, —CONR 4 —C 6 H 4 —, —C 6 H 4 —CONR 4 —, —CO— , -CO-C 6 H 4 - , - C 6 H 4 -CO -, - SO 2 NR 4 -, - SO 2 NR 4 -C 6 H 4 -, - C 6 H 4 -SO 2 NR 4 -, -SO 2 -, - SO 2 -C 6 H 4 -, and -C 6 H 4 -SO 2 - selected from the group consisting of a divalent organic group having at least one; R 4 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group at each occurrence; —R d —Y
- X represents —CONR 4 ′ —R 52 ′ —
- R 4 ′ represents a hydrogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom
- R 52 ′ represents 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 linear alkylene groups, for example, —CH 2 —).
- —R d —Y— is each independently a C 1-3 alkylene group, specifically —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, or —CH 2 CH 2 CH 2 — at each occurrence.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention represented by the formula (1a) or the formula (1b) is not particularly limited, but may have an average molecular weight of 5 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 5 . Among these ranges, an average molecular weight of 2,000 to 32,000, more preferably 2,500 to 12,000 is preferable from the viewpoint of friction durability.
- “average molecular weight” means number average molecular weight, and “average molecular weight” is a value measured by 19 F-NMR.
- the PFPE-containing silane compound of the present invention represented by the above formula (1a) or (1b) preferably has a number average molecular weight of 4,000 to 10,000, and a number average of 4,500 to 8,000. It preferably has a molecular weight, and more preferably has a number average molecular weight of 5,000 to 6,500.
- the number average molecular weight of the compound represented by the formula (1a) or the formula (1b) may have a number average molecular weight of, for example, 5 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 5 .
- the number average molecular weight is 1,000 to 32,000, more preferably 1,000 to 30,000, still more preferably 1,000 to 12,000, and particularly preferably 1,000 to 6,000. It is preferable to have.
- the compound represented by the formula (1a) or (1b) has a number average molecular weight of 1,000 to 8,000, preferably 1,000 to 4,000.
- the PFPE-containing silane compound represented by the above formula (1a) or formula (1b) is not particularly limited and can be produced by combining known methods.
- a PFPE-containing compound represented by the formula (1a) and having —R 51 —CONH—R 52 — as X is not limited, and can be produced as follows.
- Reacting a compound containing a double bond (preferably allyl) and an amino group eg H 2 NR 52 C (CH 2 —CH ⁇ CH 2 ) 3 with R PFPE —R 51 —COOCH 3
- R PFPE —R 51 —CONH—R 52 C (—CH 2 —CH ⁇ CH 2 ) 3 is synthesized by reacting the obtained compound with HSiCl 3 and alcohol or HC (OCH 3 ) 3.
- a PFPE-containing compound R PFPE —R 51 —CONH—R 52 C (CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ) 3 wherein R PFPE is a PFPE-containing group, R 51 and R 52 is as defined above.
- reaction conditions for producing the perfluoro (poly) ether group-containing silane compound of the present invention can be appropriately adjusted within a preferable range by those skilled in the art.
- the surface treating agent of the present invention contains at least one perfluoro (poly) ether group-containing silane compound represented by the formula (1a) or the formula (1b).
- the surface treatment agent of the present invention can impart water repellency, oil repellency, antifouling property, surface slipperiness and friction durability to the substrate, and is not particularly limited, but the antifouling coating It can be suitably used as an agent or a waterproof coating agent.
- the compound represented by the formula (1a) or (1b) contained in the surface treatment agent of the present invention is a compound in which X is a divalent organic group, and ⁇ and ⁇ are 1. .
- the compound represented by formula (1a) or formula (1b) contained in the surface treating agent of the present invention has l of 3 and n of 3.
- the perfluoropolyether group-containing silane compound contained in the surface treatment agent of the present invention is represented by the formula (1a).
- the compound represented by the formula (1a) or the formula (1b) is preferably 0.01 to 100 parts by mass, more preferably 0.1 to 100 parts by mass of the surface treatment agent. Including 30 parts by mass.
- the surface treating agent of the present invention may be diluted with a solvent.
- a solvent is not particularly limited, for example: Perfluorohexane, CF 3 CF 2 CHCl 2 , CF 3 CH 2 CF 2 CH 3 , CF 3 CHFCHFC 2 F 5 , 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6 , 6-Tridecafluorooctane, 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane ((Zeorolla H (trade name), etc.), C 4 F 9 OCH 3 , C 4 F 9 OC 2 H 5 , CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 , C 6 F 13 CH ⁇ CH 2 , xylene hexafluoride, perfluorobenzene, methyl pentadecafluoroheptyl ketone, trifluoroethanol, pentafluoropropanol, hexafluoroisopropanol, HCF 2 CF 2 CH
- the water content contained in the solvent is preferably 20 ppm or less in terms of mass.
- the water content can be measured using the Karl Fischer method. With such a moisture content, the storage stability of the surface treatment agent can be improved.
- the surface treatment agent may contain other components in addition to the compound represented by the formula (1a) or the formula (1b). Such other components are not particularly limited.
- fluorine oil perfluoro (poly) ether compounds
- silicone oil silicone oil
- catalysts and the like.
- Other components include alcohols, transition metals, halide ions, and compounds containing atoms having unshared electron pairs in the molecular structure.
- R 21 represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms
- R 22 represents Represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms, a fluorine atom or a hydrogen atom
- R 21 and R 22 Are more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
- a ′, b ′, c ′ and d ′ each represent the number of four types of repeating units of perfluoro (poly) ether constituting the main skeleton of the polymer, and are each independently an integer of 0 to 300, , A ′, b ′, c ′ and d ′ are at least 1, preferably 1 to 300, more preferably 20 to 300.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with subscripts a ′, b ′, c ′ or d ′ is arbitrary in the formula.
- — (OC 4 F 8 ) — represents — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —, — (OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 ) —, — (OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ))-,-(OC (CF 3 ) 2 CF 2 )-,-(OCF 2 C (CF 3 ) 2 )-,-(OCF (CF 3 ) CF (CF 3 ))-,-(OCF (C 2 F 5 ) CF 2 )-and-(OCF 2 CF (C 2 F 5 ))-may be used, but preferably — (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) —.
- — (OCF 2 CF 2 ) — is preferable.
- — (OC 2 F 4 ) — may be either — (OCF 2 CF 2 ) — or — (OCF (CF 3 )) —, but is preferably — (OCF 2 CF 2 ) —.
- a compound represented by any one of the following general formulas (3a) and (3b) may be used. May be included).
- R 21 and R 22 are as described above; in formula (3a), b ′′ is an integer of 1 to 100; in formula (3b), a ′′ and b ′′ are Each independently represents an integer of 0 to 30 and c ′′ and d ′′ are each independently an integer of 1 to 300.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with subscripts a ′′, b ′′, c ′′ or d ′′ is arbitrary in the formula.
- the compound represented by the formula (3b) is represented by the formula (3b) in which the ratio of c ′′ to d ′′ (c ′′ / d ′′ ratio) is 0.2 or more and 2 or less.
- the ratio of c ′′ to d ′′ (c ′′ / d ′′ ratio) is 0.2 or more and 2 or less.
- the fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 1,000 to 30,000. Thereby, high surface slipperiness can be obtained.
- the fluorine-containing oil is, for example, 0 to 500 with respect to a total of 100 parts by mass of the PFPE-containing silane compound of the present invention. It may be contained in an amount of, preferably 0 to 400 parts by weight, more preferably 25 to 400 parts by weight.
- the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) may be used alone or in combination. It is preferable to use the compound represented by the general formula (3b) rather than the compound represented by the general formula (3a) because higher surface slip properties can be obtained.
- the mass ratio of the compound represented by the general formula (3a) and the compound represented by the general formula (3b) is preferably 1: 1 to 1:30, and preferably 1: 1 to 1 : 10 is more preferable. According to such a mass ratio, a surface treatment layer having an excellent balance between surface slipperiness and friction durability can be obtained.
- the fluorine-containing oil contains one or more compounds represented by the general formula (3b).
- the mass ratio of the compound represented by formula (1a) or (1b) and the compound represented by formula (3b) in the surface treatment agent is preferably 10: 1 to 1:10, More preferably, the ratio is 4: 1 to 1: 4.
- the surface treating agent of the present invention has the formula (1a) or the formula (1b) in which PFPE is — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b — (b is an integer of 1 to 200). And a compound represented by the formula (3b).
- the surface treatment agent of the present invention has a PFPE of-(OC 4 F 8 ) a- (OC 3 F 6 ) b- (OC 2 F 4 ) c- (OCF 2 ) d- (formula Wherein a and b are each independently an integer of 0 to 30, preferably 0 to 10, c and d are each independently an integer of 1 to 200, and a, b, c And the sum of d is an integer of 10 to 200.
- the order of presence of each repeating unit in parentheses with the suffix a, b, c, or d is arbitrary in the formula
- a compound represented by the formula (3b) By using such a surface treatment agent to form a surface treatment layer by a wet coating method or a vacuum vapor deposition method, preferably vacuum vapor deposition, it is possible to obtain more excellent surface slipperiness and friction durability.
- the number average molecular weight of the compound represented by the formula (3a) is preferably 2,000 to 8,000.
- the number average molecular weight of the compound represented by the formula (3b) is preferably 2,000 to 30,000.
- the number average molecular weight of the compound represented by the formula (3b) is preferably 8,000 to 30,000 when the surface treatment layer is formed by a dry coating method such as a vacuum vapor deposition method.
- a dry coating method such as a vacuum vapor deposition method.
- the surface treatment layer is formed by spraying, it is preferably 2,000 to 10,000, particularly 3,000 to 5,000.
- the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be larger than the average molecular weight of the compound represented by the formula (1a) or the formula (1b).
- the number average molecular weight of the fluorine-containing oil is 2,000 or more, preferably 3,000 or more, more preferably 5,000, rather than the number average molecular weight of the compound represented by the formula (1a) or the formula (1b). It may be larger.
- the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf′-F (wherein Rf ′ is a C 5-16 perfluoroalkyl group).
- Rf′-F is preferred in that high affinity is obtained with the compound represented by the above formula (1a) or (1b) in which Rf is a C 1-16 perfluoroalkyl group.
- Fluorine-containing oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
- the silicone oil for example, a linear or cyclic silicone oil having a siloxane bond of 2,000 or less can be used.
- the linear silicone oil may be so-called straight silicone oil and modified silicone oil.
- the straight silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methylhydrogen silicone oil.
- modified silicone oil include those obtained by modifying straight silicone oil with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like.
- Examples of the cyclic silicone oil include cyclic dimethylsiloxane oil.
- the silicone oil is, for example, 0 to 300 with respect to 100 parts by mass in total of the PFPE-containing silane compound of the present invention (in the case of two or more types, these are also the same). It can be contained in parts by weight, preferably 50-200 parts by weight.
- Silicone oil contributes to improving the surface slipperiness of the surface treatment layer.
- the catalyst examples include acids (eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (eg, Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.
- acids eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.
- bases eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.
- transition metals eg, Ti, Ni, Sn, etc.
- the catalyst promotes the hydrolysis and dehydration condensation of the PFPE-containing silane compound of the present invention, and promotes the formation of the surface treatment layer.
- transition metal examples include platinum, ruthenium, and rhodium.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure preferably contains at least one atom selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, a phosphorus atom and a sulfur atom, and a sulfur atom or a nitrogen atom It is more preferable to contain.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure is at least selected from the group consisting of an amino group, an amide group, a sulfinyl group, a P ⁇ O group, an S ⁇ O group, and a sulfonyl group in the molecular structure. It preferably contains one functional group, and more preferably contains at least one functional group selected from the group consisting of P ⁇ O groups and S ⁇ O groups.
- the compound containing an atom having an unshared electron pair in the molecular structure is at least one compound selected from the group consisting of an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, a phosphoric acid amide compound, an amide compound, a urea compound, and a sulfoxide compound. And is more preferably at least one compound selected from the group consisting of aliphatic amine compounds, aromatic amines, phosphoric acid amides, urea compounds and sulfoxide compounds, sulfoxide compounds, aliphatic amine compounds and Particularly preferred is at least one compound selected from the group consisting of aromatic amine compounds, and more preferred is a sulfoxide compound.
- Examples of the aliphatic amine compound include diethylamine and triethylamine.
- Examples of the aromatic amine compound include aniline and pyridine.
- Examples of the phosphoric acid amide compound include hexamethylphosphoramide.
- Examples of the amide compound include N, N-diethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like. it can.
- Examples of the urea compound include tetramethylurea.
- sulfoxide compound examples include dimethyl sulfoxide (DMSO), tetramethylene sulfoxide, methylphenyl sulfoxide, diphenyl sulfoxide, and the like. Of these compounds, dimethyl sulfoxide or tetramethylene sulfoxide is preferably used.
- Other components include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and the like.
- Other components include, for example, alcohol compounds having 1 to 6 carbon atoms, other than the above.
- the surface treatment agent of the present invention can be made into pellets by impregnating a porous material such as a porous ceramic material or metal fiber such as steel wool hardened in a cotton form.
- the pellet can be used for, for example, vacuum deposition.
- the article of the present invention is formed from a base material and the surface of the base material from a PFPE-containing silane compound or a surface treatment agent of the present invention (hereinafter simply referred to as “the surface treatment agent of the present invention”).
- Layer surface treatment layer
- This article can be manufactured, for example, as follows.
- the substrate that can be used in the present invention is, for example, glass, resin (natural or synthetic resin, for example, a general plastic material, plate, film, or other forms), metal (aluminum, copper It may be a single metal such as iron or a composite such as an alloy), ceramics, semiconductor (silicon, germanium, etc.), fiber (woven fabric, non-woven fabric, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building member, etc. Can be composed of any suitable material.
- the material constituting the surface of the substrate may be an optical member material such as glass or transparent plastic.
- some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate.
- the antireflection layer either a single-layer antireflection layer or a multilayer antireflection layer may be used.
- inorganic materials that can be used for the antireflection layer include SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , CeO 2 , MgO.
- the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide is provided on a part of the surface of the substrate (glass). It may be.
- ITO indium tin oxide
- the base material is an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase difference film, And a liquid crystal display module or the like.
- the shape of the substrate is not particularly limited.
- the surface region of the base material on which the surface treatment layer is to be formed may be at least part of the surface of the base material, and can be appropriately determined according to the use and specific specifications of the article to be manufactured.
- a base material at least a surface portion thereof may be made of a material originally having a hydroxyl group.
- materials include glass, and metals (particularly base metals) on which a natural oxide film or a thermal oxide film is formed on the surface, ceramics, and semiconductors.
- it can be introduced to the surface of the substrate by applying some pretreatment to the substrate. Or increase it. Examples of such pretreatment include plasma treatment (for example, corona discharge) and ion beam irradiation.
- the plasma treatment can be preferably used for introducing or increasing hydroxyl groups on the surface of the base material and for cleaning the base material surface (removing foreign matter or the like).
- an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is previously formed on the substrate surface by a monomolecular film by the LB method (Langmuir-Blodgett method) or chemical adsorption method. There is a method of forming in a form and then cleaving the unsaturated bond in an atmosphere containing oxygen, nitrogen or the like.
- the substrate may be made of a material containing at least a surface portion of a silicone compound having one or more other reactive groups, for example, Si—H groups, or an alkoxysilane.
- a film of the above-described surface treatment agent of the present invention is formed on the surface of the substrate, and this film is post-treated as necessary, thereby forming a surface treatment layer from the surface treatment agent of the present invention. To do.
- the film formation of the surface treatment agent of the present invention can be carried out by applying the surface treatment agent to the surface of the substrate so as to cover the surface.
- the coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
- wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
- Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum vapor deposition), sputtering, CVD, and similar methods.
- Specific examples of the vapor deposition method include resistance heating, high-frequency heating using an electron beam, microwave, and the like, an ion beam, and similar methods.
- Specific examples of the CVD method include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
- the surface treatment agent of the present invention can be applied to the substrate surface after being diluted with a solvent.
- the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (for example, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane).
- HFE Hydrofluoroether
- hydrofluoroethers are preferred, perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3) And / or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) is particularly preferred.
- the surface treatment agent of the present invention may be directly subjected to the dry coating method, or may be diluted with the above-described solvent and then subjected to the dry coating method.
- the film formation is preferably carried out so that the surface treatment agent of the present invention is present together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation in the film.
- the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present invention immediately after the surface treatment agent of the present invention is diluted with a solvent and applied to the substrate surface.
- the surface treatment agent of the present invention to which the catalyst is added is directly vapor-deposited (usually vacuum deposition), or the surface treatment agent of the present invention to which a catalyst is added to a metal porous body such as iron or copper. Vapor deposition (usually vacuum deposition) may be performed using a pellet-like material impregnated with.
- any suitable acid or base can be used for the catalyst.
- the acid catalyst for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid and the like can be used.
- a base catalyst ammonia, organic amines, etc. can be used, for example.
- the membrane is post-treated as necessary.
- this post-processing is not specifically limited, For example, a water supply and drying heating may be implemented sequentially, and it may be implemented as follows in detail.
- the surface treatment agent of the present invention is formed on the substrate surface as described above, moisture is supplied to this film (hereinafter also referred to as “precursor film”).
- the method for supplying moisture is not particularly limited, and for example, methods such as dew condensation due to a temperature difference between the precursor film (and the substrate) and the surrounding atmosphere, or spraying of steam (steam) may be used.
- the supply of moisture is, for example, 0 to 250 ° C., preferably 60 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.
- the pressure at this time is not specifically limited, it can be simply a normal pressure.
- the precursor film is heated on the surface of the substrate in a dry atmosphere exceeding 60 ° C.
- the drying heating method is not particularly limited, and the temperature of the precursor film together with the base material is higher than 60 ° C., preferably higher than 100 ° C., for example, 250 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower. What is necessary is just to arrange
- the above water supply and drying heating may be continuously performed by using superheated steam.
- Superheated steam is a gas obtained by heating saturated steam to a temperature higher than the boiling point, and exceeds 100 ° C. under ordinary pressure, generally 250 ° C. or less, for example, 180 ° C. or less, and has a boiling point. It is a gas that has become an unsaturated water vapor pressure by heating to a temperature exceeding.
- dew condensation occurs on the surface of the precursor film due to the temperature difference between the superheated water vapor and the relatively low temperature precursor film. Moisture is supplied to the membrane.
- the moisture on the surface of the precursor film is vaporized in a dry atmosphere by the superheated steam, and the moisture content on the surface of the precursor film gradually decreases. While the amount of moisture on the surface of the precursor film is reduced, that is, while the precursor film is in a dry atmosphere, the precursor film on the surface of the substrate comes into contact with the superheated steam, thereby the temperature of the superheated steam ( It will be heated to a temperature exceeding 100 ° C. under normal pressure. Therefore, if superheated steam is used, moisture supply and drying heating can be carried out continuously only by exposing the substrate on which the precursor film is formed to superheated steam.
- Post-processing can be performed as described above. It should be noted that such post-treatment can be performed to further improve friction durability, but is not essential for producing the articles of the present invention. For example, after applying the surface treating agent of the present invention to the surface of the substrate, it may be left still as it is.
- the surface treatment layer derived from the film of the surface treatment agent of the present invention is formed on the surface of the substrate, and the article of the present invention is manufactured.
- the surface treatment layer obtained by this has both high surface slipperiness and high friction durability.
- this surface treatment layer has water repellency, oil repellency, antifouling properties (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), depending on the composition of the surface treatment agent used.
- As a functional thin film it can be waterproof (to prevent water from entering electronic parts, etc.), surface slippery (or lubricity, for example, wiping off dirt such as fingerprints, and excellent touch to fingers). It can be suitably used.
- the present invention further relates to an optical material having the cured product as an outermost layer.
- optical material in addition to optical materials related to displays and the like exemplified below, a wide variety of optical materials are preferable: for example, cathode ray tube (CRT; for example, personal computer monitor), liquid crystal display, plasma display, organic EL Display, inorganic thin film EL dot matrix display, rear projection display, fluorescent display tube (VFD), field emission display (FED), protective plate of such display, or antireflection film on the surface thereof Processed.
- CTR cathode ray tube
- liquid crystal display plasma display
- organic EL Display organic EL Display
- inorganic thin film EL dot matrix display for example, rear projection display
- VFD fluorescent display tube
- FED field emission display
- the article having the surface treatment layer obtained by the present invention is not particularly limited, but may be an optical member.
- optical members include: lenses such as eyeglasses; front protective plates, antireflection plates, polarizing plates, and antiglare plates for displays such as PDP and LCD; for devices such as mobile phones and portable information terminals.
- the article having the surface treatment layer obtained by the present invention may be a medical device or a medical material.
- the thickness of the surface treatment layer is not particularly limited.
- the thickness of the surface treatment layer is in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, preferably 1 to 15 nm, from the viewpoint of optical performance, surface slipperiness, friction durability, and antifouling properties. preferable.
- the articles obtained using the surface treating agent of the present invention have been described in detail.
- the use of the surface treating agent of the present invention, the usage method, the manufacturing method of the article, and the like are not limited to those exemplified above.
- the surface treatment agent of the present invention will be described more specifically through the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
- the order in which the repeating units (CF 2 O) and (CF 2 CF 2 O) constituting the perfluoropolyether are present is arbitrary.
- a perfluoropolyether group-containing allyl compound (E) having an allyl group at the terminal is represented by the following formula.
- Example 1 The surface treating agent 1 was prepared by dissolving the compound (B) obtained in Synthesis Example 2 in hydrofluoroether (manufactured by 3M, Novec HFE7200) so as to have a concentration of 20 wt%.
- Examples 2 to 3 In the same manner as in Example 1 except that the compound (D) obtained in Synthesis Example 4 or the compound (F) obtained in Synthesis Example 6 was used instead of the compound (B), the surface A treating agent was prepared.
- Examples 4 to 5 In the same manner as in Example 1 except that the compound (H) obtained in Synthesis Example 8 or the compound (J) obtained in Synthesis Example 10 was used in place of the compound (B), the surface A treating agent was prepared.
- Control compound 1 CF 3 O (CF 2 CF 2 O) 20 (CF 2 O) 16 CF 2 C [OSi (CH 3) 3] [CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3] 2
- the surface treating agents prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were vacuum-deposited on chemically strengthened glass (Corning, “Gorilla” glass, thickness 0.7 mm), respectively. Processing conditions of the vacuum deposition, a pressure 3.0 ⁇ 10 -3 Pa, chemical strengthening 5nm silicon dioxide film is formed in the glass surface, followed by chemical strengthening one glass (55 mm ⁇ 100 mm) per surface treatment agent 4 mg (ie, containing 0.8 mg of compound (B), compound (D), compound (F), compound (H), compound (J) or control compound 1) was deposited. Next, the chemically strengthened glass with a deposited film was allowed to stand for 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 ° C., and then allowed to cool to room temperature to form a surface treatment layer.
- chemically strengthened glass with a deposited film was allowed to stand for 30 minutes in an atmosphere at a temperature of 150 ° C., and then allowed to cool to room temperature to form a surface treatment layer.
- the surface (diameter: 1 cm) of the processed silicone rubber product shown below was covered with cotton dipped in artificial sweat having the composition shown below.
- -Composition of artificial sweat Anhydrous disodium hydrogen phosphate: 2g Sodium chloride: 20g 85% lactic acid: 2g Histidine hydrochloride: 5g
- the durability of actual use is evaluated by placing a sample article on which a surface treatment layer is formed horizontally, bringing the friction element into contact with the surface of the surface treatment layer (the contact surface is a circle having a diameter of 1 cm), and A load of 5 N was applied to the above, and then the above-mentioned friction element was reciprocated at a speed of 40 mm / sec with the load applied.
- the static contact angle (degree) of water of the surface treatment layer was measured every 1000 reciprocations. The results are shown in Tables 1 and 2 (in the table, the symbol “-” is not measured).
- the e / f ratio of the compound (B) was 1.25, and in the surface treatment agent of Example 2, the e / f ratio of the compound (D) was 0.68.
- the content of the (CF 2 CF 2 O) unit contained in the compound (D) is less than the content of the (CF 2 O) unit, the formed surface treatment layer is slippery. Therefore, it is considered that both the friction durability and the chemical resistance (durability against artificial sweat) are further improved.
- the molecular weight of the PFPE chain of the compound (F) is about 5,300.
- the present invention can be suitably used for forming a surface treatment layer on the surface of various kinds of substrates, particularly optical members that require friction durability.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
式(1a)または式(1b)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物[式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。]。
Description
本発明は、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品に関する。
ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素化合物を含む表面処理剤から得られる層(以下、「表面処理層」とも言う)は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Si原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている(特許文献1~2を参照のこと)。
上記のような表面処理層には、摩擦耐久性が求められる。しかしながら、特許文献1~2に記載されている表面処理層では、例えば、酸およびアルカリ環境に曝されやすい環境(例えば人の汗が付着し得る環境)において十分な摩擦耐久性を示さないことがあることが分かった。
本発明は、摩擦耐久性の向上した新たなパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、新たなパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を用いることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上し得ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の第1の要旨によれば、式(1a)または式(1b):
[式中:
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
αは、各出現においてそれぞれ独立して、1~9の整数であり;
βは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、-Re-Z’-を表し;
Reは、低級アルキレン基を表し;
Z’は、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、-Z-基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Rd-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(-Z-CR1 pR2 qR3 r)単位毎において、p、qおよびrの和は3であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(CRa kRb lRc m)毎において、k、lおよびmの和は3であり;
ただし、式中、少なくとも1つのqは3であるか、あるいは、少なくとも1つのlは3である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
αは、各出現においてそれぞれ独立して、1~9の整数であり;
βは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、-Re-Z’-を表し;
Reは、低級アルキレン基を表し;
Z’は、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、-Z-基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Rd-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(-Z-CR1 pR2 qR3 r)単位毎において、p、qおよびrの和は3であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(CRa kRb lRc m)毎において、k、lおよびmの和は3であり;
ただし、式中、少なくとも1つのqは3であるか、あるいは、少なくとも1つのlは3である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
本発明の第2の要旨によれば、上記の式(1a)および/または式(1b)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤が提供される。
本発明の第3の要旨によれば、上記の表面処理剤を含有するペレットが提供される。
本発明の第4の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
本発明によれば、摩擦耐久性の向上した新たなパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から1個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、1つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数1~20の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、1つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、1つまたはそれ以上のN、O、S、Si、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子;1個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C2-6アルキニル基、C3-10シクロアルキル基、C3-10不飽和シクロアルキル基、5~10員のヘテロシクリル基、5~10員の不飽和ヘテロシクリル基、C6-10アリール基および5~10員のヘテロアリール基から選択される1個またはそれ以上の基が挙げられる。
本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「2~10価の有機基」とは、炭素を含有する2~10価の基を意味する。かかる2~10価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに1~9個の水素原子を脱離させた2~10価の基が挙げられる。例えば、2価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに1個の水素原子を脱離させた2価の基が挙げられる。
(パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物)
以下、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。
以下、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。
上記式中、Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表す。
上記1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基における「炭素数1~16のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数1~6、特に炭素数1~3のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数1~3のアルキル基である。
上記Rfは、好ましくは、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数1~16のアルキル基であり、より好ましくはCF2H-C1-15フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数1~16のパーフルオロアルキル基である。
該炭素数1~16のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数1~6、特に炭素数1~3のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数1~3のパーフルオロアルキル基、具体的には-CF3、-CF2CF3、または-CF2CF2CF3である。
上記式中、PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基である。PFPEは、パーフルオロ(ポリ)エーテル基に該当する。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基である。PFPEは、パーフルオロ(ポリ)エーテル基に該当する。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、-(OC6F12)-は、-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等であってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-である。-(OC5F10)-は、-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等であってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-である。-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。また、-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
一の態様において、上記PFPEは、-(OC3F6)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)または-(OCF(CF3)CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。より好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)である。
一の態様において、上記PFPEは、好ましくは-(OC3F6)d-であり、dは10以上100以下の整数、より好ましくはdは15以上50以下の整数、さらに好ましくはdは25以上35以下の整数である。
別の態様において、PFPEは、-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-(式中、cおよびdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数であり、c、d、eおよびfの和は少なくとも5以上、好ましくは10以上であり、添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)である。好ましくは、PFPEは、-(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-である。一の態様において、PFPEは、-(OC2F4)e-(OCF2)f-(式中、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数であり、添字eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)であってもよい。
さらに別の態様において、PFPEは、-(R6-R7)g-で表される基である。式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり、好ましくはOC2F4である。式中、R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。好ましくは、R7は、OC2F4、OC3F6およびOC4F8から選択される基であるか、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。OC2F4、OC3F6およびOC4F8から独立して選択される2または3つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、および-OC4F8OC2F4OC2F4-等が挙げられる。上記gは、2以上、好ましくは3以上、より好ましくは5以上であり、100以下、好ましくは50以下の整数である。上記式中、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、PFPEは、好ましくは、-(OC2F4-OC3F6)g-または-(OC2F4-OC4F8)g-である。
PFPEにおいて、fに対するeの比(以下、「e/f比」という)は、0.1以上10以下であり、好ましくは0.2以上5以下であり、より好ましくは0.2以上2以下であり、さらに好ましくは0.2以上1.5以下であり、さらにより好ましくは0.2以上0.85以下である。e/f比を10以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性(例えば、人工汗に対する耐久性)がより向上する。e/f比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、e/f比を0.1以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。e/f比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
一の態様において、上記e/f比は、0.2以上0.95以下であり、より好ましくは、0.2以上0.9以下である。
一の態様において、耐熱性の観点から、上記e/f比は、1.0以上が好ましく、1.0以上2.0以下であることがより好ましい。
上記安定性は、PFPE含有化合物に含まれるPEPE鎖の分解しにくさを示す。安定性の高い化合物とは、該化合物に含まれるPFPE鎖が、例えば、熱、酸またはアルカリによって分解しにくい化合物であることを示す。上記耐ケミカル性とは、PFPE鎖の分解しにくさ、および、ガラスとPFPE含有化合物との結合部分(シロキサン結合)の分解しにくさを示す。表面処理層の耐ケミカル性が良好であるとは、該表面処理層において加水分解反応が生じにくいこと、例えば、酸性またはアルカリ性においても加水分解反応が生じにくいことを意味する。
一の態様において、PFPEは、各出現において独立して、
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基であり、かつ、PFPE中に少なくとも1の分岐構造を有する。すなわち、本態様において、上記PFPEは、少なくとも1のCF3末端(具体的には、-CF3、-C2F5等、より具体的には-CF3)を有する。なお、上記PFPEは、上記式の左末端の酸素原子がRf基に結合し、右末端の炭素原子がX1基に結合する。このような構造のPFPEを有することにより、PFPE含有シラン化合物(あるいは、PFPE含有シラン化合物を含む表面処理剤)を用いて形成された層(例えば表面処理層)の紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等がより良好になり得る。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
で表される基であり、かつ、PFPE中に少なくとも1の分岐構造を有する。すなわち、本態様において、上記PFPEは、少なくとも1のCF3末端(具体的には、-CF3、-C2F5等、より具体的には-CF3)を有する。なお、上記PFPEは、上記式の左末端の酸素原子がRf基に結合し、右末端の炭素原子がX1基に結合する。このような構造のPFPEを有することにより、PFPE含有シラン化合物(あるいは、PFPE含有シラン化合物を含む表面処理剤)を用いて形成された層(例えば表面処理層)の紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等がより良好になり得る。
上記式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は200以下であり、より好ましくは100以下であり、例えば10以上200以下であり、より具体的には10以上100以下である。また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
PFPE中、分岐構造を少なくとも5有することが好ましく、10有することがより好ましく、20有することが特に好ましい。
PFPE構造中、繰り返し単位数の合計数(例えば、上記a、b、c、d、eおよびfの和)100に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は40以上であることが好ましく、60以上であることがより好ましく、80以上であることが特に好ましい。PFPE構造中、繰り返し単位数の合計数100に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は100以下であってもよく、例えば90以下であってもよい。
PFPE構造中、繰り返し単位数の合計数100に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、40~100の範囲にあることが好ましく、60~100の範囲にあることがより好ましく、80~100の範囲にあることが特に好ましい。
上記分岐構造における分岐鎖としては、例えばCF3を挙げることができる。
分岐構造を有する繰り返し単位としては、例えば、-(OC6F12)-としては、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等を挙げることができる。-(OC5F10)-としては、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等を挙げることができる。-(OC4F8)-としては、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-を挙げることができる。-(OC3F6)-としては、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-を挙げることができる。-(OC2F4)-としては、-(OCF(CF3))-を挙げることができる。
上記PFPEは、分岐構造を有する繰り返し単位とともに、直鎖状の繰り返し単位を含み得る。直鎖状の繰り返し単位としては、-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2)-を挙げることができる。
好ましくは、上記PFPE中、繰り返し単位-(OC6F12)-、-(OC5F10)-、-(OC4F8)-、および-(OC3F6)-が分岐構造を有する。
より好ましくは、上記PFPEは、分岐構造の繰り返し単位OC6F12、OC5F10、OC4F8、およびOC3F6からなる。
一の態様において、上記PFPEは、-(OC3F6)d-(式中、dは1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である)であり、PFPE中に少なくとも1の分岐構造を有する。
本態様において、PFPEは、さらに、直鎖状の繰り返し単位-(OCF2CF2CF2)-を含んでいてもよい。
上記態様において、上記PFPEは、分岐構造の繰り返し単位OC3F6からなることが好ましい。上記PFPEは、式:-(OCF2CF(CF3))dで表されることがより好ましい。上記式中、dは1以上200以下であり、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数である。
別の態様において、PFPEは、-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-(式中、cおよびdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下、好ましくは5以上200以下、より好ましくは10以上200以下の整数であり、c、d、eおよびfの和は少なくとも5以上、好ましくは10以上であり、添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)であり、PFPE中に少なくとも1の分岐構造を有する。
さらに別の態様において、PFPEは、-(R6-R7)j-で表される基であり、PFPE中少なくとも1の分岐構造を有する。式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり、好ましくはOC2F4である。式中、R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。好ましくは、R7は、OC2F4、OC3F6およびOC4F8から選択される基であるか、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせである。OC2F4、OC3F6およびOC4F8から独立して選択される2または3つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、および-OC4F8OC2F4OC2F4-等が挙げられる。上記jは、2以上、好ましくは3以上、より好ましくは5以上であり、100以下、好ましくは50以下の整数である。上記式中、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12は、分岐構造を有することが好ましい。
より好ましくは、上記態様において、PFPEは、分岐構造の繰り返し単位OC6F12、OC5F10、OC4F8、およびOC3F6からなる。
Rf-PFPE部分または-PFPE-部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、500~30,000、好ましくは1,000~20,000、より好ましくは2,000~15,000、さらに好ましくは2,000~10,000である。上記数平均分子量は、19F-NMRにより測定される値とする。
一の態様において、Rf-PFPE-部分または-PFPE-部分の数平均分子量は、好ましくは、4,000~6,000、より好ましくは4,500~5,500である。
別の態様において、Rf-PFPE-部分または-PFPE-部分の数平均分子量は、4,000~30,000、好ましくは5,000~10,000であり得る。
別の態様において、Rf-PFPE-部分または-PFPE-部分の数平均分子量は、2,000~10,000、好ましくは2,000~5,000であり得る。
上記式中、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表す。当該Xは、式(1a)および(1b)で表されるPFPE含有シラン化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部(即ち、Rf-PFPE部または-PFPE-部)と、基材との結合能を提供する部(即ち、αを付して括弧でくくられた基)とを連結するリンカーと解される。
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、単結合または、-C6H4-(すなわち-フェニレン-。以下、フェニレン基を示す。)、-CO-(カルボニル基)、-NR4-および-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2~10価の有機基を表す。上記R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、好ましくは水素原子、またはメチル基である。上記の-C6H4-、-CO-、-NR4-または-SO2-は、PFPE含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。ここで、分子主鎖とは、PFPE含有シラン化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表す。
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、単結合または、-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-C6H4-CONR4-、-CO-、-CO-C6H4-、-C6H4-CO-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-C6H4-SO2NR4-、-SO2-、-SO2-C6H4-、および-C6H4-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2~10価の有機基を表す。上記の-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-C6H4-CONR4-、-CO-、-CO-C6H4-、-C6H4-CO-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-C6H4-SO2NR4-、-SO2-、-SO2-C6H4-、または-C6H4-SO2-は、PFPE含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。
Xは、より好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または、-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-CO-、-CO-C6H4-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-SO2-、および-SO2-C6H4-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2~10価の有機基を表す。上記の-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-CO-、-CO-C6H4-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-SO2-、または-SO2-C6H4-は、PFPE含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。
上記式中、αは1~9の整数であり、βは1~9の整数である。これらαおよびβは、Xの価数に応じて変化し得る。式(1a)においては、αおよびβの和は、Xの価数と同じである。例えば、Xが10価の有機基である場合、αおよびβの和は10であり、例えばαが9かつβが1、αが5かつβが5、またはαが1かつβが9となり得る。また、Xが2価の有機基である場合、αおよびβは1である。式(1b)においては、αはXの価数から1を引いた値である。
上記Xは、好ましくは2~7価であり、より好ましくは2~4価であり、さらに好ましくは2価の有機基である。
一の態様において、Xは2~4価の有機基であり、αは1~3であり、βは1である。
好ましい態様において、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または炭素原子を1~12有する2価の有機基であり、より好ましくは単結合または炭素原子を1~9有する2価の有機基であり、さらに好ましくは単結合または炭素原子を1~6有する2価の有機基であり、特に好ましくは単結合または炭素原子を1~3有する2価の有機基である。
上記Xの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式:
-(R31)p’-(Xa)q’-
[式中:
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、-(CH2)s’-またはo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CH2)s’-であり、
s’は、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数、さらにより好ましくは1または2であり、
Xaは、各出現においてそれぞれ独立して、-(Xb)l’-を表し、
Xbは、各出現においてそれぞれ独立して、-O-、-S-、o-、m-もしくはp-フェニレン基、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-、-O-CONR34-、-NR34-および-(CH2)n’-からなる群から選択される基を表し、
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基またはC1-6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはC1-6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1-6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m’は、各出現においてそれぞれ独立して、1~100の整数、好ましくは1~20の整数であり、
n’は、各出現においてそれぞれ独立して、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
l’は、1~10の整数、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
p’は、0、1または2であり、
q’は、0または1であり、
ここに、p’およびq’の少なくとも一方は1であり、p’またはq’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である]
で表される2価の基が挙げられる。ここに、R31およびXa(典型的にはR31およびXaの水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基およびC1-3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
-(R31)p’-(Xa)q’-
[式中:
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、-(CH2)s’-またはo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CH2)s’-であり、
s’は、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数、さらにより好ましくは1または2であり、
Xaは、各出現においてそれぞれ独立して、-(Xb)l’-を表し、
Xbは、各出現においてそれぞれ独立して、-O-、-S-、o-、m-もしくはp-フェニレン基、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-、-O-CONR34-、-NR34-および-(CH2)n’-からなる群から選択される基を表し、
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基またはC1-6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはC1-6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1-6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m’は、各出現においてそれぞれ独立して、1~100の整数、好ましくは1~20の整数であり、
n’は、各出現においてそれぞれ独立して、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
l’は、1~10の整数、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
p’は、0、1または2であり、
q’は、0または1であり、
ここに、p’およびq’の少なくとも一方は1であり、p’またはq’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である]
で表される2価の基が挙げられる。ここに、R31およびXa(典型的にはR31およびXaの水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基およびC1-3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Xは、-(R31)p’-(Xa)q’-R32-である。R32は、単結合、-(CH2)t’-またはo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CH2)t’-である。t’は、1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。ここに、R32(典型的にはR32の水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基およびC1-3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
好ましくは、上記Xは、各出現においてそれぞれ独立して
C1-20アルキレン基、
-R31-Xc-R32-、または
-Xd-R32-
[式中、R31およびR32は、上記と同意義である。]
であり得る。
C1-20アルキレン基、
-R31-Xc-R32-、または
-Xd-R32-
[式中、R31およびR32は、上記と同意義である。]
であり得る。
より好ましくは、上記Xは、
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-
-Xd-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、s’およびt’は、上記と同意義である。]
である。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-
-Xd-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、s’およびt’は、上記と同意義である。]
である。
上記式中、Xcは、
-O-、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-O-CONR34-、
-Si(R33)2-、
-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(R33)2-O-Si(R33)2-CH2CH2-Si(R33)2-O-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(OCH3)2OSi(OCH3)2-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、R33、R34およびm’は、上記と同意義であり、
u’は1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]を表す。Xcは、好ましくは-O-である。
-O-、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-O-CONR34-、
-Si(R33)2-、
-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(R33)2-O-Si(R33)2-CH2CH2-Si(R33)2-O-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(OCH3)2OSi(OCH3)2-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、R33、R34およびm’は、上記と同意義であり、
u’は1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]を表す。Xcは、好ましくは-O-である。
上記式中、Xdは、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
を表す。
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
を表す。
より好ましくは、上記Xは、
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
さらにより好ましくは、上記Xは、
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、または
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-Si(R33)2 -(CH2)u’-Si(R33)2-(CvH2v)-
[式中、R33、m’、s’、t’およびu’は、上記と同意義であり、vは1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]
である。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、または
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-Si(R33)2 -(CH2)u’-Si(R33)2-(CvH2v)-
[式中、R33、m’、s’、t’およびu’は、上記と同意義であり、vは1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]
である。
上記式中、-(CvH2v)-は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-であり得る。
一の態様において、Xは、-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-(C(=O)N(Rf3))t3-Rf4-で表される基であり得る。
上記t1は、0または1である。
上記Rf1は、1以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。Rf1は、C2-6フルオロアルキレン基であることが好ましい。Rf1に含まれる水素原子の数は、1~4の範囲にあることが好ましく、1または2であることがより好ましい。
上記(Rf1O)t2において、2種以上のRf1Oが存在する場合、各(Rf1O)の存在順序は式中において任意である。
上記t2は、0~4の整数であり、0~2の整数であることがより好ましい。
上記Rf2は、単結合、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基、または、1以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。上記パーフルオロアルキレン基、またはフルオロアルキレン基は、1~10の炭素原子を含むことが好ましい。
上記Rf3は、水素原子、または、アルキル基(好ましくは、C1-4アルキル基)である。
上記t3は、0または1である。
t3が0の場合、Rf2は単結合であることが好ましい。この場合(すなわち、(Rf1O)t2およびRf4が直接結合している場合)、(Rf1O)t2の中のRf4と結合する(Rf1O)は(Rf5CH2O)で表される基であることが好ましい。Rf5は、Rf1よりも炭素数が1個少ない基であって、パーフルオロアルキレン基、または、1以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。Rf5はパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。(Rf5CH2O)は、(CF2CH2O)、(CF2CF2CH2O)、(CF2CF2CF2CH2O)、(CF2CF2CF2CF2CH2O)等が好ましい。この場合、t2は1であることが好ましい。
t3が1の場合、t2は0~2であり、かつ、Rf2はパーフルオロアルキレン基、または、1以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基であることが好ましく、パーフルオロアルキレン基であることがより好ましく、C1-6パーフルオロアルキレン基であることが特に好ましい。
t3が1の場合、t2は0~2であり、かつ、Rf2はパーフルオロアルキレン基、または、1以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基であることが好ましく、パーフルオロアルキレン基であることがより好ましく、C1-6パーフルオロアルキレン基であることが特に好ましい。
上記Rf4は、単結合、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数1~10のアルキレン基の末端(ただし、(SiRa
kRb
lRc
m)と結合する側の末端。)にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数2~10のアルキレン基の炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数2~10のアルキレン基の末端(ただし、(SiRa
kRb
lRc
m)と結合する側の末端。)および炭素-炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。エーテル性酸素原子を有する基としては、例えば、-CH2CH2-O-、-CH2CH2-O-CH2-等が挙げられる。
上記Rf4は、単結合、または、C1-4アルキレン基であることが好ましく、単結合、または、C1-2アルキレン基であることがより好ましい。
上記Xは、例えば、
-(O)t1-(Rf1O)t2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2OCH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-(CH2)2-O-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-(CH2)2-O-CH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NH-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NHCH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NH(CH2)2-、
-(O)t1-(Rf6CH2O)-CH2-、
-(O)t1-(Rf6CH2O)-CH2-O-CH2-、
-C(O)NH-Rf4-、または
-(O)t1-Rf6CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-Rf4-(例えば、-(O)t1-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-Rf4-)
等を挙げることができる。Rf1、Rf2、Rf4、t1およびt2は、上記と同意義である。t1は好ましくは1である。Rf6は、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基である。
-(O)t1-(Rf1O)t2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2OCH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-(CH2)2-O-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-CH2O-(CH2)2-O-CH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NH-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NHCH2-、
-(O)t1-(Rf1O)t2-Rf2-C(O)NH(CH2)2-、
-(O)t1-(Rf6CH2O)-CH2-、
-(O)t1-(Rf6CH2O)-CH2-O-CH2-、
-C(O)NH-Rf4-、または
-(O)t1-Rf6CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-Rf4-(例えば、-(O)t1-CF2CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-Rf4-)
等を挙げることができる。Rf1、Rf2、Rf4、t1およびt2は、上記と同意義である。t1は好ましくは1である。Rf6は、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基である。
上記X基は、フッ素原子、C1-3アルキル基およびC1-3フルオロアルキル基(好ましくは、C1-3パーフルオロアルキル基)から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
別の態様において、X基としては、例えば下記の基が挙げられる:
[式中、R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、またはC1-6アルコキシ基、好ましくはメチル基であり;
Dは、
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、および
(式中、R42は、それぞれ独立して、水素原子、C1-6のアルキル基またはC1-6のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。)
から選択される基であり、
Eは、-(CH2)n-(nは2~6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のPFPEに結合し、Eは、PFPEと反対の基に結合する。]
Dは、
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、および
から選択される基であり、
Eは、-(CH2)n-(nは2~6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のPFPEに結合し、Eは、PFPEと反対の基に結合する。]
上記Xの具体的な例としては、例えば:
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CH2O(CH2)6-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2OCF2CHFOCF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-(CH2)5-、
-(CH2)6-、
-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)6-、
-CON(CH3)-(CH2)6-、
-CON(Ph)-(CH2)6-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、
-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)6-、
-S-(CH2)3-、
-(CH2)2S(CH2)3-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、
-C(O)O-(CH2)3-、
-C(O)O-(CH2)6-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、
-OCH2-、
-O(CH2)3-、
-OCFHCF2-、
などが挙げられる。
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CH2O(CH2)6-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2OCF2CHFOCF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-(CH2)5-、
-(CH2)6-、
-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)6-、
-CON(CH3)-(CH2)6-、
-CON(Ph)-(CH2)6-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、
-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)6-、
-S-(CH2)3-、
-(CH2)2S(CH2)3-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、
-C(O)O-(CH2)3-、
-C(O)O-(CH2)6-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、
-OCH2-、
-O(CH2)3-、
-OCFHCF2-、
上記Xの具体的な例としては、さらに
単結合、
-CH2OCH2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-
などが挙げられる。
単結合、
-CH2OCH2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-C(O)NH-CH2-
などが挙げられる。
より好ましい態様において、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、炭素数1~6のアルキレン基、-R51-C6H4-R52-、-R51-CONR4-R52-、-R51-CONR4-C6H4-R52-、-R51-C6H4-CONR4-R52-、-R51-CO-R52-、-R51-CO-C6H4-R52-、-R51-C6H4-CO-R52-、-R51-SO2NR4-R52-、-R51-SO2NR4-C6H4-R52-、-R51-C6H4-SO2NR4-R52-、-R51-SO2-R52-、-R51-SO2-C6H4-R52-、または-R51-C6H4-SO2-R52-である。R51およびR52は、それぞれ独立して、単結合または炭素数1~6のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数1~3のアルキレン基である。R4は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。
さらに好ましい態様において、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、炭素数1~6のアルキレン基、-R51-C6H4-R52-、-R51-CONR4-R52-、-R51-CONR4-C6H4-R52-、-R51-CONR4-C6H4-R52-、-R51-CO-R52-、-R51-CO-C6H4-R52-、-R51-SO2NR4-R52-、-R51-SO2NR4-C6H4-R52-、-R51-SO2-R52-、または-R51-SO2-C6H4-R52-である。R51およびR52は、それぞれ独立して、単結合または炭素数1~6のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数1~3のアルキレン基である。R4は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。
さらに好ましい態様において、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、
単結合、
炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基、
-C6H4-R52’-、
-CONR4’-R52’-、
-CONR4’-C6H4-R52’-、
-C6H4-CONR4’-R52’-、
-CO-R52’-、
-CO-C6H4-R52’-、
-C6H4-CO-R52’-、
-SO2NR4’-R52’-、
-SO2NR4’-C6H4-R52’-、
-C6H4-SO2NR4’-R52’-、
-SO2-R52’-、
-SO2-C6H4-R52’-、
-C6H4-SO2-R52’-、
-R51’-C6H4-、
-R51’-CONR4’-、
-R51’-CONR4’-C6H4-、
-R51’ -C6H4-CONR4’-、
-R51’-CO-、
-R51’-CO-C6H4-、
-R51’-C6H4-CO-、
-R51’-SO2NR4’-、
-R51’-SO2NR4’-C6H4-、
-R51’-C6H4-SO2NR4’-、
-R51’-SO2-、
-R51’-SO2-C6H4-、
-R51’-C6H4-SO2-、
-C6H4-、
-CONR4’-、
-CONR4’-C6H4-、
-C6H4-CONR4’-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-C6H4-CO-、
-SO2NR4’-、
-SO2NR4’-C6H4-、
-C6H4-SO2NR4’-、
-SO2-、
-SO2-C6H4-、または
-C6H4-SO2-
(式中、R51’およびR52’は、それぞれ独立して、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、
R4’は、水素原子またはメチルである。)
であり得る。
単結合、
炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基、
-C6H4-R52’-、
-CONR4’-R52’-、
-CONR4’-C6H4-R52’-、
-C6H4-CONR4’-R52’-、
-CO-R52’-、
-CO-C6H4-R52’-、
-C6H4-CO-R52’-、
-SO2NR4’-R52’-、
-SO2NR4’-C6H4-R52’-、
-C6H4-SO2NR4’-R52’-、
-SO2-R52’-、
-SO2-C6H4-R52’-、
-C6H4-SO2-R52’-、
-R51’-C6H4-、
-R51’-CONR4’-、
-R51’-CONR4’-C6H4-、
-R51’ -C6H4-CONR4’-、
-R51’-CO-、
-R51’-CO-C6H4-、
-R51’-C6H4-CO-、
-R51’-SO2NR4’-、
-R51’-SO2NR4’-C6H4-、
-R51’-C6H4-SO2NR4’-、
-R51’-SO2-、
-R51’-SO2-C6H4-、
-R51’-C6H4-SO2-、
-C6H4-、
-CONR4’-、
-CONR4’-C6H4-、
-C6H4-CONR4’-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-C6H4-CO-、
-SO2NR4’-、
-SO2NR4’-C6H4-、
-C6H4-SO2NR4’-、
-SO2-、
-SO2-C6H4-、または
-C6H4-SO2-
(式中、R51’およびR52’は、それぞれ独立して、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、
R4’は、水素原子またはメチルである。)
であり得る。
特に好ましい態様において、Xは、各出現においてそれぞれ独立して、
単結合、
炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基、
-C6H4-R52’-、
-CONR4’-R52’-、
-CONR4’-C6H4-R52’-、
-CO-R52’-、
-CO-C6H4-R52’-、
-SO2NR4’-R52’-、
-SO2NR4’-C6H4-R52’-、
-SO2-R52’-、
-SO2-C6H4-R52’-、
-R51’-C6H4-、
-R51’-CONR4’-、
-R51’-CONR4’-C6H4-、
-R51’-CO-、
-R51’-CO-C6H4-、
-R51’-SO2NR4’-、
-R51’-SO2NR4’-C6H4-、
-R51’-SO2-、
-R51’-SO2-C6H4-、
-C6H4-、
-CONR4’-、
-CONR4’-C6H4-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-SO2NR4’-、
-SO2NR4’-C6H4-、
-SO2-、または
-SO2-C6H4-
(式中、R51’およびR52’は、それぞれ独立して、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、
R4’は、水素原子またはメチル基である。)
であり得る。
単結合、
炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基、
-C6H4-R52’-、
-CONR4’-R52’-、
-CONR4’-C6H4-R52’-、
-CO-R52’-、
-CO-C6H4-R52’-、
-SO2NR4’-R52’-、
-SO2NR4’-C6H4-R52’-、
-SO2-R52’-、
-SO2-C6H4-R52’-、
-R51’-C6H4-、
-R51’-CONR4’-、
-R51’-CONR4’-C6H4-、
-R51’-CO-、
-R51’-CO-C6H4-、
-R51’-SO2NR4’-、
-R51’-SO2NR4’-C6H4-、
-R51’-SO2-、
-R51’-SO2-C6H4-、
-C6H4-、
-CONR4’-、
-CONR4’-C6H4-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-SO2NR4’-、
-SO2NR4’-C6H4-、
-SO2-、または
-SO2-C6H4-
(式中、R51’およびR52’は、それぞれ独立して、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、
R4’は、水素原子またはメチル基である。)
であり得る。
本態様において、Xの具体例としては、例えば、
単結合、
炭素数1~6のアルキレン基、
-CONH-、
-CONH-CH2-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-、
-CON(CH3)-CH2-、
-CON(CH3)-(CH2)2-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CH2-CONH-、
-CH2-CONH-CH2-、
-CH2-CONH-(CH2)2-、
-CH2-CONH-(CH2)3-、
-CONH-C6H4-、
-CON(CH3)-C6H4-、
-CH2-CON(CH3)-CH2-、
-CH2-CON(CH3)-(CH2)2-、
-CH2-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-C6H4-、
-SO2NH-、
-SO2NH-CH2-、
-SO2NH-(CH2)2-、
-SO2NH-(CH2)3-、
-SO2NH-C6H4-、
-SO2N(CH3)-、
-SO2N(CH3)-CH2-、
-SO2N(CH3)-(CH2)2-、
-SO2N(CH3)-(CH2)3-、
-SO2N(CH3)-C6H4-、
-SO2-、
-SO2-CH2-、
-SO2-(CH2)2-、
-SO2-(CH2)3-、
-SO2-C6H4-
などが挙げられる。
単結合、
炭素数1~6のアルキレン基、
-CONH-、
-CONH-CH2-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-、
-CON(CH3)-CH2-、
-CON(CH3)-(CH2)2-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CH2-CONH-、
-CH2-CONH-CH2-、
-CH2-CONH-(CH2)2-、
-CH2-CONH-(CH2)3-、
-CONH-C6H4-、
-CON(CH3)-C6H4-、
-CH2-CON(CH3)-CH2-、
-CH2-CON(CH3)-(CH2)2-、
-CH2-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CO-、
-CO-C6H4-、
-C6H4-、
-SO2NH-、
-SO2NH-CH2-、
-SO2NH-(CH2)2-、
-SO2NH-(CH2)3-、
-SO2NH-C6H4-、
-SO2N(CH3)-、
-SO2N(CH3)-CH2-、
-SO2N(CH3)-(CH2)2-、
-SO2N(CH3)-(CH2)3-、
-SO2N(CH3)-C6H4-、
-SO2-、
-SO2-CH2-、
-SO2-(CH2)2-、
-SO2-(CH2)3-、
-SO2-C6H4-
などが挙げられる。
上記態様において、Xの具体例としては、さらに、
-C6H4-CONH-、
-C6H4-CON(CH3)-、
-C6H4-CO-、
-C6H4-SO2NH-、
-C6H4-SO2N(CH3)-、
-C6H4-SO2-
などが挙げられる。
-C6H4-CONH-、
-C6H4-CON(CH3)-、
-C6H4-CO-、
-C6H4-SO2NH-、
-C6H4-SO2N(CH3)-、
-C6H4-SO2-
などが挙げられる。
一の態様において、Xは、単結合である。本態様において、PFPEと基材層との結合能を有する基(即ち、αを付して括弧でくくられた基)とが直接結合している。このような構造を有することによって、PFPEとαを付して括弧でくくられた基との結合力がより強くなると考えられる。また、PFPEと直接結合する炭素原子(即ち、αを付して括弧でくくられた基においてRa、RbおよびRcと結合する炭素原子)は電荷の偏りが少なく、その結果、上記炭素原子において求核反応等が生じにくく、基材層と安定に結合すると考えられる。このような構造は、形成される表面処理層の摩擦耐久性をより向上する点から有利である。
さらに別の態様において、X基の例として、下記の基が挙げられる:
[式中、
R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、またはC1-6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各X基において、Tのうち任意のいくつかは、分子主鎖のPFPEに結合する以下の基:
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、または
[式中、R42は、それぞれ独立して、水素原子、C1-6のアルキル基またはC1-6のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。]
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のPFPEと反対の基(即ち、-CRa kRb lRc m)に結合する-(CH2)n”-(n”は2~6の整数)であり、存在する場合、残りのTは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、C1-6アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。
R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、またはC1-6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各X基において、Tのうち任意のいくつかは、分子主鎖のPFPEに結合する以下の基:
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)-、
-CONH-(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、または
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のPFPEと反対の基(即ち、-CRa kRb lRc m)に結合する-(CH2)n”-(n”は2~6の整数)であり、存在する場合、残りのTは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、C1-6アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
上記式中、Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1
pR2
qR3
rを表す。
式中、Zは、-Re-Z’-を表す。
上記Reは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表す。低級アルキレン基は、好ましくは、C1-20アルキレン基であり、より好ましくはC1-6アルキレン基であり、さらに好ましくはC1-3アルキレン基、特に好ましくはメチレンである。
上記Z’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基を表す。Z’は、好ましくは酸素原子または2価の有機基であり、より好ましくは2価の有機基であり、さらに好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CH2)j-O-(CH2)h-(式中、jは、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、hは、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、または、-フェニレン-(CH2)i-(式中、iは、0~6の整数である)であり、特に好ましくはC1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-であり、より好ましくはC1-6アルキレン基(好ましくは、C1-3アルキレン基)である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、およびC2-6アルキニル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Z’は非置換である。
好ましい態様において、上記Zは、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり得る。
式中、R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表す。Ra’は、Raと同意義である。
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個である。即ち、上記Raにおいて、R1が少なくとも1つ存在する場合、Ra中にZ基を介して直鎖状に連結されるC原子が2個以上存在するが、かかるZ基を介して直鎖状に連結されるC原子の数は最大で5個である。なお、「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるC原子の数」とは、Ra中において直鎖状に連結される-Z-C-の繰り返し数と等しくなる。
上記式において、*は、主鎖のCに結合する部位を意味し、…は、ZC以外の所定の基が結合していること、即ち、C原子の3本の結合手がすべて…である場合、ZCの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Cの右肩の数字は、*から数えたZ基を介して直鎖状に連結されたCの出現数を意味する。即ち、C2でZC繰り返しが終了している鎖は「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるC原子の数」が2個であり、同様に、C3、C4およびC5でZC繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるC原子の数」が3、4および5個である。なお、上記の式から明らかなように、Ra中には、ZC鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
一の態様において、Ra中のZ基を介して直鎖状に連結されるC原子の数は1個または2個、好ましくは1個である。
式中、R2は、-Rd-Y-SiR5
nR6
3-nを表す。
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表す。低級アルキレン基は、好ましくは、C1-20アルキレン基であり、より好ましくはC1-6アルキレン基であり、さらに好ましくはC1-3アルキレン基、特に好ましくはメチレンである。
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基を表す。
好ましい態様において、Yは、酸素結合または2価の有機基である。Yは、より好ましくは2価の有機基であり、特に好ましくはC1-6アルキレン基、-(CH2)g’-O-(CH2)h’-(式中、g’は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、h’は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)、または-フェニレン-(CH2)i’-(式中、i’は、0~6の整数である)であり、さらに好ましくはC1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-であり、特に好ましくはC1-6アルキレン基(好ましくは、C1-3アルキレン基)である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、およびC2-6アルキニル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
一の態様において、Yは、C1-6アルキレン基、-O-(CH2)h’-または-フェニレン-(CH2)i’-であり得る。Yが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
好ましい態様において、上記-Rd-Y-は、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり得る。
上記R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、-OR、-OCOR、-O-N=C(R)2、-N(R)2、-NHR、ハロゲン(これら式中、Rは、置換または非置換の炭素数1~4のアルキル基を示す)などが挙げられ、好ましくは-OR(アルコキシ基)である。Rの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
好ましくは、R5は、-OR(式中、Rは、置換または非置換のC1-3アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す)である。
上記R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
nは、(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し、好ましくは2または3、より好ましくは3である。
上記R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。R3は、好ましくは低級アルキル基である。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数である。ただし、p、qおよびrの和は3である。
好ましい態様において、Ra中の末端のRa’(Ra’が存在しない場合、Ra)において、上記qは、好ましくは2以上、例えば2または3であり、より好ましくは3である。
好ましい態様において、Raの末端部の少なくとも1つは、-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)2または-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)3、好ましくは-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)3であり得る。式中、(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)の単位は、好ましくは(-Rd-Y-SiR5
3)である。さらに好ましい態様において、Raの末端部は、すべて-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)3、好ましくは-C(-Rd-Y-SiR5
3)3であり得る。
上記式中、Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5
nR6
3-nを表す。Rd、Y、R5、R6およびnは、上記R2における記載と同意義である。
上記式中、Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。Rcは、好ましくは低級アルキル基である。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数1~20のアルキル基、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
式中、kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数である。ただし、k、lおよびmの和は3である。
一の態様において、少なくとも1つのkは2または3であり、好ましくは3である。
一の態様において、kは2または3であり、好ましくは3である。
一の態様において、lは2または3であり、好ましくは3である。
好ましい態様において、lは3であり、nは3である。
上記式(1a)および(1b)中、少なくとも1つのqは3であるか、あるいは、少なくとも1つのlは3である。即ち、式中、少なくとも1つの-X-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)3基または-Z-C(-Rd-Y-SiR5
nR6
3-n)3基が存在する。このような構造を有することによって、本発明のPFPE含有シラン化合物は、化学的な耐久性を有する(例えば、酸および/またはアルカリ環境下、より具体的には汗の付着し得る環境下においても劣化しにくい)表面処理層の形成に寄与し得る。また、本発明のPFPE含有シラン化合物は、上記のような構造を有することによって、摩擦耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得、特に、酸および/またはアルカリ環境に曝されやすい環境においても耐摩擦性の向上した表面処理層の形成に寄与し得る。
好ましい式(1a)および(1b)で示される化合物は、下記(1a’)および(1b’)で表される。
[式中:
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (a、b、c、d、eおよびfは、上記と同意義)
で表される基であり;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基を表し;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、-Re-Z’-を表し;
Reは、低級アルキレン基を表し;
Z’は、C1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-を表し、好ましくはC1-3アルキレン基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、-Z-基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表し;
Yは、C1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-を表し、より好ましくはC1-3アルキレン基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Rd-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し、好ましくは3であり;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(CRa kRb lRc m)毎において、k、lおよびmの和は3であり;
ただし、式中、qまたはlのいずれかが3である。]
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (a、b、c、d、eおよびfは、上記と同意義)
で表される基であり;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基を表し;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、-Re-Z’-を表し;
Reは、低級アルキレン基を表し;
Z’は、C1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-を表し、好ましくはC1-3アルキレン基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、-Z-基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表し;
Yは、C1-6アルキレン基または-フェニレン-(CH2)i-を表し、より好ましくはC1-3アルキレン基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Rd-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し、好ましくは3であり;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(CRa kRb lRc m)毎において、k、lおよびmの和は3であり;
ただし、式中、qまたはlのいずれかが3である。]
好ましい態様において、式(1a)および(1b)は、式(1a’)および(1b’)で表され、
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または、-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-C6H4-CONR4-、-CO-、-CO-C6H4-、-C6H4-CO-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-C6H4-SO2NR4-、-SO2-、-SO2-C6H4-、および-C6H4-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2価の有機基を表し;
R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基を表し;
-Rd-Y-は、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり、例えば-CH2CH2CH2-であり;
より好ましくは、lは2または3、特に好ましくは、lは3であり;
より好ましくは、nは3である。
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または、-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-C6H4-CONR4-、-CO-、-CO-C6H4-、-C6H4-CO-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-C6H4-SO2NR4-、-SO2-、-SO2-C6H4-、および-C6H4-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2価の有機基を表し;
R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基を表し;
-Rd-Y-は、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり、例えば-CH2CH2CH2-であり;
より好ましくは、lは2または3、特に好ましくは、lは3であり;
より好ましくは、nは3である。
式(1a’)および(1b’)において、より好ましくは、
Xは、-CONR4’-R52’-(R4’は、水素原子またはメチル基であり、好ましくは水素原子であり;R52’は、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、例えば-CH2-であり)で表される2価の有機基であり;
-Rd-Y-は、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり、例えば-CH2CH2CH2-であり;
より好ましくは、lは2または3、特に好ましくは、lは3であり;
より好ましくは、nは3である。
Xは、-CONR4’-R52’-(R4’は、水素原子またはメチル基であり、好ましくは水素原子であり;R52’は、炭素数1~6、好ましくは炭素数1~3の直鎖のアルキレン基であり、例えば-CH2-であり)で表される2価の有機基であり;
-Rd-Y-は、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基、具体的には-CH2-、-CH2CH2-、または-CH2CH2CH2-であり、例えば-CH2CH2CH2-であり;
より好ましくは、lは2または3、特に好ましくは、lは3であり;
より好ましくは、nは3である。
上記式(1a)または式(1b)で表される本発明のPFPE含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、5×102~1×105の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、2,000~32,000、より好ましくは2,500~12,000の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、19F-NMRにより測定される値とする。
上記式(1a)または式(1b)で表される本発明のPFPE含有シラン化合物は、4,000~10,000の数平均分子量を有することが好ましく、4,500~8,000の数平均分子量を有することが好ましく、5,000~6,500の数平均分子量を有することがより好ましい。
一の態様において、上記式(1a)または式(1b)で表される化合物の数平均分子量は、例えば、5×102~1×105の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、1,000~32,000、より好ましくは1,000~30,000、さらに好ましくは1,000~12,000、特に好ましくは1,000~6,000の数平均分子量を有することが好ましい。
一の態様において、上記式(1a)または式(1b)で表される化合物の数平均分子量は、1,000~8,000であり、好ましくは、1,000~4,000である。
上記式(1a)または式(1b)で表されるPFPE含有シラン化合物は、特に限定されず、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。
例えば、式(1a)で表され、Xとして-R51-CONH-R52-を有するPFPE含有化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。
二重結合を含有する基(好ましくはアリル)およびアミノ基を有する化合物(例えば、H2NR52C(CH2-CH=CH2)3と、RPFPE-R51-COOCH3と反応させることによってRPFPE-R51-CONH-R52C(-CH2-CH=CH2)3が合成される。得られた化合物と、HSiCl3およびアルコールまたはHC(OCH3)3とを反応させて、PFPE含有化合物RPFPE-R51-CONH-R52C(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)3が得られる。上記において、RPFPEは、PFPE含有基であり、R51およびR52は、上記と同意義である。
本発明のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を製造する際の反応条件は、当業者であれば適宜好ましい範囲に調整することが可能である。
(表面処理剤)
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
本発明の表面処理剤は、式(1a)または式(1b)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する。
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
一の態様において、本発明の表面処理剤に含まれる式(1a)または式(1b)で表される化合物は、Xが2価の有機基であり、αおよびβが1である化合物である。
一の態様において、本発明の表面処理剤に含まれる式(1a)または式(1b)で表される化合物は、lが3であり、nが3である。
一の態様において、本発明の表面処理剤に含まれるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式(1a)で表される。
本発明の表面処理剤は、式(1a)または式(1b)で表される化合物を、表面処理剤100質量部に対して、好ましくは0.01~100質量部、より好ましくは0.1~30質量部含む。
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば:
パーフルオロヘキサン、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-トリデカフルオロオクタン、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン((ゼオローラH(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、HCF2CF2CH2OH、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびCF3O(CF2CF2O)m1(CF2O)n1CF2CF3[式中、m1およびn1は、それぞれ独立して0以上1000以下の整数であり、m1またはn1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しm1およびn1の和は1以上である。]、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,2-トリクロロ―3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
パーフルオロヘキサン、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-トリデカフルオロオクタン、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン((ゼオローラH(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、HCF2CF2CH2OH、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびCF3O(CF2CF2O)m1(CF2O)n1CF2CF3[式中、m1およびn1は、それぞれ独立して0以上1000以下の整数であり、m1またはn1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しm1およびn1の和は1以上である。]、1,1-ジクロロ-2,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-1,3,3,3-テトラフルオロ-1-プロペン、1,2-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1-ジクロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,2-トリクロロ―3,3,3-トリフルオロ-1-プロペン、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で20ppm以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
上記表面処理剤は、式(1a)または式(1b)で表される化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る(非反応性の)フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物(以下、「含フッ素オイル」と言う)、シリコーンオイルとして理解され得る(非反応性の)シリコーン化合物(以下、「シリコーンオイル」と言う)、触媒などが挙げられる。
他の成分として、さらに、アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式(3)で表される化合物(パーフルオロ(ポリ)エーテル化合物)が挙げられる。
R21-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-R22 ・・・(3)
式中、R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)を表し、R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、R21およびR22は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3のパーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1~300、より好ましくは20~300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
R21-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-R22 ・・・(3)
式中、R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)を表し、R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、R21およびR22は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3のパーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1~300、より好ましくは20~300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
上記一般式(3)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物の例として、以下の一般式(3a)および(3b)のいずれかで示される化合物(1種または2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
R21-(OCF2CF2CF2)b’’-R22 ・・・(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-R22 ・・・(3b)
これら式中、R21およびR22は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、またはd’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
R21-(OCF2CF2CF2)b’’-R22 ・・・(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-R22 ・・・(3b)
これら式中、R21およびR22は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、またはd’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
一の態様において、式(3b)で表される化合物は、d’’に対するc’’の比(c’’/d’’比)が0.2以上2以下である式(3b)で表される1種またはそれ以上の化合物である。
上記含フッ素オイルは、1,000~30,000の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記本発明のPFPE含有シラン化合物の合計100質量部(2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~500質量部、好ましくは0~400質量部、より好ましくは25~400質量部で含まれ得る。
一般式(3a)で示される化合物および一般式(3b)で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式(3a)で示される化合物よりも、一般式(3b)で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式(3a)で表される化合物と、一般式(3b)で表される化合物との質量比は、1:1~1:30が好ましく、1:1~1:10がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式(3b)で表される1種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の式(1a)または式(1b)で表される化合物と、式(3b)で表される化合物との質量比は、10:1~1:10が好ましく、4:1~1:4であることがさらに好ましい。
一の好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、PFPEが-(OCF2CF2CF2)b-(bは1~200の整数である)である式(1a)または式(1b)で表される化合物、および式(3b)で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着法により表面処理層を形成することにより、優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。
一のより好ましい態様において、本発明の表面処理剤は、PFPEが-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中、aおよびbは、それぞれ独立して0以上30以下、好ましくは0以上10以下の整数であり、cおよびdは、それぞれ独立して1以上200以下の整数であり、a、b、cおよびdの和は、10以上200以下の整数である。添字a、b、cまたはdを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である)で表される化合物、および式(3b)で表される化合物を含む。かかる表面処理剤を用いて、湿潤被覆法または真空蒸着法、好ましくは真空蒸着により表面処理層を形成することにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。
これらの態様において、式(3a)で表される化合物の数平均分子量は、2,000~8,000であることが好ましい。
これらの態様において、式(3b)で表される化合物の数平均分子量は、2,000~30,000であることが好ましい。式(3b)で表される化合物の数平均分子量は、乾燥被覆法、例えば真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、8,000~30,000であることが好ましく、湿潤被覆法、例えばスプレー処理により表面処理層を形成する場合には、2,000~10,000、特に3,000~5,000であることが好ましい。
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式(1a)または式(1b)で表される化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。例えば、式(1a)または式(1b)で表される化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を、2,000以上、好ましくは3,000以上、より好ましくは5,000以上大きくしてもよい。このような式(1a)または式(1b)で表される化合物および含フッ素オイルの平均分子量とすることにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Rf’-F(式中、Rf’はC5-16のパーフルオロアルキル基である。)で表される化合物であってよい。Rf’-Fで表される化合物は、RfがC1-16のパーフルオロアルキル基である上記式(1a)または式(1b)で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が2,000以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本発明のPFPE含有シラン化合物の合計100質量部(2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~300質量部、好ましくは50~200質量部で含まれ得る。
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
上記触媒としては、酸(例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等)、塩基(例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等)、遷移金属(例えばTi、Ni、Sn等)等が挙げられる。
触媒は、本発明のPFPE含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも1つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、または窒素原子を含むことがより好ましい。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、P=O基、S=O基およびスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基を含むことが好ましく、P=O基およびS=O基からなる群より選ばれる少なくとも1つの官能基を含むことがより好ましい。
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物および芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数1~6のアルコール化合物が挙げられる。
(ペレット)
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
(物品)
次に、本発明の物品について説明する。
次に、本発明の物品について説明する。
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のPFPE含有シラン化合物または表面処理剤(以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う)より形成された層(表面処理層)とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂(天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい)、金属(アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい)、セラミックス、半導体(シリコン、ゲルマニウム等)、繊維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面(最外層)に何らかの層(または膜)、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの2種以上を組み合わせて(例えば混合物として)使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはSiO2および/またはSiOを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材(ガラス)の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層(I-CON)、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属(特に卑金属)、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理(例えばコロナ放電)や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する(異物等を除去する)ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素-炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をLB法(ラングミュア-ブロジェット法)や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばSi-H基を1つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
乾燥被覆法の例としては、蒸着(通常、真空蒸着)、スパッタリング、CVDおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法(通常、真空蒸着法)の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。CVD方法の具体例としては、プラズマ-CVD、光学CVD、熱CVDおよび類似の方法が挙げられる。
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される:炭素数5~12のパーフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン);ポリフルオロ芳香族炭化水素(例えば、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン);ポリフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、C6F13CH2CH3(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン(例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ(登録商標)H);ヒドロフルオロエーテル(HFE)(例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル(C3F7OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7000)、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7100)、パーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7200)、パーフルオロヘキシルメチルエーテル(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7300)などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル(パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい)、あるいはCF3CH2OCF2CHF2(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AE-3000))など。これらの溶媒は、単独で、または、2種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル(C4F9OCH3)および/またはパーフルオロブチルエチルエーテル(C4F9OC2H5)が特に好ましい。
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着(通常、真空蒸着)処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着(通常、真空蒸着)処理をしてもよい。
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜(以下、「前駆体膜」とも言う)に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜(および基材)と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気(スチーム)の吹付けなどの方法を使用してよい。
前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物のSiに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
水分の供給は、例えば0~250℃、好ましくは60℃以上、さらに好ましくは100℃以上とし、好ましくは180℃以下、さらに好ましくは150℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、60℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、60℃を超え、好ましくは100℃を超える温度であって、例えば250℃以下、好ましくは180℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
このような雰囲気下では、本発明のPFPE含有シラン化合物間では、加水分解後のSiに結合した基(上記式(1a)または式(1b)のいずれかで表される化合物においてR1が全て水酸基である場合にはその水酸基である。以下も同様)同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のSiに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。この結果、本発明のPFPE含有シラン化合物間で結合が形成され、また、当該化合物と基材との間で結合が形成される。
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、100℃を超え、一般的には250℃以下、例えば180℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度(常圧下では100℃を超える温度)に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、防水性(電子部品等への水の浸入を防止する)、表面滑り性(または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感)などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
すなわち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる:例えば、陰極線管(CRT;例えば、パソコンモニター)、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機薄膜ELドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、電界放出ディスプレイ(FED;Field Emission Display)などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる:眼鏡などのレンズ;PDP、LCDなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板;携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート;ブルーレイ(Blu-ray(登録商標))ディスク、DVDディスク、CD-R、MOなどの光ディスクのディスク面;光ファイバー;時計の表示面など。
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、1~50nm、1~30nm、好ましくは1~15nmの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位(CF2O)および(CF2CF2O)の存在順序は任意である。
(合成例1)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体5.8g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)30.5g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン10mlとアセトン10mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A)5.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体5.8g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)30.5g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン10mlとアセトン10mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A)5.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
(合成例2)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A)4.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびトリクロロシラン0.88gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.09ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン5mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.13gとオルソギ酸トリメチル4.24gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(B)4.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(B)
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例1にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(A)4.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびトリクロロシラン0.88gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.09ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン5mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.13gとオルソギ酸トリメチル4.24gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(B)4.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(B)
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例3)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体8.8g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン5mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)30.9g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン10mlとアセトン10mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C)8.5gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C):
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体8.8g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン5mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)30.9g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン10mlとアセトン10mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C)8.5gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C):
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
(合成例4)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例3にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびトリクロロシラン1.20gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.09ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.20gとオルソギ酸トリメチル6.70gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D)5.9gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D):(e/f比0.68)
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例3にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(C)6.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlおよびトリクロロシラン1.20gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.09ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン6mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.20gとオルソギ酸トリメチル6.70gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D)5.9gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(D):(e/f比0.68)
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例5)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体12.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン10mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を1.1g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン20mlとアセトン20mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E)12.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2COOCH3で表されるパーフルオロポリエーテル変性メチルエステル体12.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン10mlおよびNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を1.1g仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン20mlとアセトン20mlとを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E)12.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
(合成例6)
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E)5.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8mlおよびトリクロロシラン1.10gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.11ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.16gとオルソギ酸トリメチル5.36gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F)5.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例5にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(E)5.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8mlおよびトリクロロシラン1.10gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.11ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて4時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.16gとオルソギ酸トリメチル5.36gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F)5.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例7)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)COOHで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体32g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン16g、N,N-ジメチルホルムアミド0.13gおよび、塩化チオニル2.17gを仕込み、窒素気流下、90℃で1時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、16gの1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1.35gのトリエチルアミン、および1.73gのNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン30g、アセトン10gおよび3mol/Lの塩酸20gを加えて30分間撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G)29.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)COOHで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体32g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン16g、N,N-ジメチルホルムアミド0.13gおよび、塩化チオニル2.17gを仕込み、窒素気流下、90℃で1時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、16gの1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1.35gのトリエチルアミン、および1.73gのNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン30g、アセトン10gおよび3mol/Lの塩酸20gを加えて30分間撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G)29.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
(合成例8)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、合成例7にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G)29g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン35mlおよびトリクロロシラン6.7gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.3ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて6時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン30mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.73gとオルソギ酸トリメチル16.8gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H)30.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、合成例7にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(G)29g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン35mlおよびトリクロロシラン6.7gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.3ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて6時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン30mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.73gとオルソギ酸トリメチル16.8gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H)30.1gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]22CF(CF3)CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(合成例9)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)COOHで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体32g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン16g、N,N-ジメチルホルムアミド0.10gおよび塩化チオニル1.69gを仕込み、窒素気流下、90℃で1時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、16gの1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1.05gのトリエチルアミン、および1.36gのNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン30g、アセトン10gおよび3mol/Lの塩酸20gを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I)29.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)COOHで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体32g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン16g、N,N-ジメチルホルムアミド0.10gおよび塩化チオニル1.69gを仕込み、窒素気流下、90℃で1時間撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、16gの1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1.05gのトリエチルアミン、および1.36gのNH2CH2C(CH2CH=CH2)3を仕込み、窒素気流下、室温で6時間撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン30g、アセトン10gおよび3mol/Lの塩酸20gを加えて30分撹拌し、その後、分液ロートを用いてパーフルオロヘキサン相を分取した。その後、分取したパーフルオロヘキサン相を濾過し、続いて減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I)29.2gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)CONHCH2C(CH2CH=CH2)3
(合成例10)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、合成例9にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I)29g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン35mlおよびトリクロロシラン5.2gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.23ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて6時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン30mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.57gおよびオルソギ酸トリメチル13.1gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(J)29.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(J):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた200mLの4つ口フラスコに、合成例9にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物(I)29g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン35mlおよびトリクロロシラン5.2gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.23ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて6時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した。続いて、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン30mlを加えて、55℃で10分間撹拌した後に、メタノール0.57gおよびオルソギ酸トリメチル13.1gの混合溶液を加えて、この温度にて2時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(J)29.6gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(J):
CF3CF2CF2O[CF(CF3)CF2O]28CF(CF3)CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
(実施例1)
上記合成例2で得られた化合物(B)を、濃度20wt%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤1を調製した。
上記合成例2で得られた化合物(B)を、濃度20wt%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤1を調製した。
(実施例2~3)
化合物(B)に代えて、上記合成例4で得られた化合物(D)、または上記合成例6で得られた化合物(F)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
化合物(B)に代えて、上記合成例4で得られた化合物(D)、または上記合成例6で得られた化合物(F)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
(実施例4~5)
化合物(B)に代えて、上記合成例8で得られた化合物(H)、または上記合成例10で得られた化合物(J)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
化合物(B)に代えて、上記合成例8で得られた化合物(H)、または上記合成例10で得られた化合物(J)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
(比較例1)
化合物(B)に代えて、下記対照化合物1を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
・対照化合物1
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2C[OSi(CH3)3][CH2CH2CH2Si(OCH3)3]2
化合物(B)に代えて、下記対照化合物1を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製した。
・対照化合物1
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2C[OSi(CH3)3][CH2CH2CH2Si(OCH3)3]2
<摩擦耐久性の評価>
実施例1~5および比較例1で調製した表面処理剤を、それぞれ化学強化ガラス(コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10-3Paとし、化学強化ガラス表面に5nmの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス1枚(55mm×100mm)あたり、表面処理剤4mg(即ち、化合物(B)、化合物(D)、化合物(F)、化合物(H)、化合物(J)または対照化合物1を0.8mg含有)を蒸着させた。次に、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度150℃の雰囲気下で30分静置させた後、室温まで放冷させ、表面処理層を形成した。
実施例1~5および比較例1で調製した表面処理剤を、それぞれ化学強化ガラス(コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10-3Paとし、化学強化ガラス表面に5nmの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス1枚(55mm×100mm)あたり、表面処理剤4mg(即ち、化合物(B)、化合物(D)、化合物(F)、化合物(H)、化合物(J)または対照化合物1を0.8mg含有)を蒸着させた。次に、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度150℃の雰囲気下で30分静置させた後、室温まで放冷させ、表面処理層を形成した。
得られた表面処理層の実使用耐久性の評価として、以下に示す摩擦子を用いた摩擦耐久試験を実施した。
摩擦子としては、下記に示す組成の人工汗が浸漬されたコットンにより、下記に示すシリコーンゴム加工品の表面(直径1cm)を覆ったものを用いた。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR-51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
・人工汗の組成
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
・シリコーンゴム加工品
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR-51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
実使用耐久性の評価は、具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、上記摩擦子を表面処理層の表面に接触(接触面は直径1cmの円)させ、その上に5Nの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で上記摩擦子を40mm/秒の速度で往復させることにより行った。往復回数1000回毎に、表面処理層の水の静的接触角(度)を測定した。その結果を表1および2に示す(表中、記号「-」は測定せず)。
表1および2に示されるように、実施例1~5の表面処理剤を用いて得られた表面処理層は、優れた摩擦耐久性を示すことが確認された。これは、実施例1~5の表面処理剤では、Si原子を有する官能基(-CH2CH2CH2Si(OCH3)3)が3個炭素原子と直接結合しており、このような構造を有することによって、形成された表面処理層の摩擦耐久性と耐ケミカル性(人工汗に対する耐久性)の両方が向上したためと考えられる。
実施例1の表面処理剤では化合物(B)のe/f比が1.25であり、実施例2の表面処理剤では化合物(D)のe/f比が0.68であった。実施例2の表面処理剤では、化合物(D)に含まれる(CF2CF2O)ユニットの含有量が(CF2O)ユニットの含有量より少ないため、形成された表面処理層が滑りやすくなり、摩擦耐久性と耐ケミカル性(人工汗に対する耐久性)の両方が更に向上したと考えられる。
実施例3の表面処理剤では、化合物(F)のPFPE鎖の分子量は約5,300であり、実施例1で用いた化合物(B)、実施例2で用いた化合物(D)、および比較例1で用いた対照化合物1のPFPE鎖の分子量より大きいため、これらの化合物を用いた場合よりも表面処理層の摩耗耐久性と耐ケミカル性とが向上したと考えられる。
本発明は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
Claims (34)
- 式(1a)または式(1b):
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
(a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
αは、各出現においてそれぞれ独立して、1~9の整数であり;
βは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、-Re-Z’-を表し;
Reは、低級アルキレン基を表し;
Z’は、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、-Z-基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rdは、各出現においてそれぞれ独立して、低級アルキレン基を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Rd-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(-Z-CR1 pR2 qR3 r)単位毎において、p、qおよびrの和は3であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Rd-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
(CRa kRb lRc m)毎において、k、lおよびmの和は3であり;
ただし、式中、少なくとも1つのqは3であるか、あるいは、少なくとも1つのlは3である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または、-C6H4-、-CO-、-NR4-および-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2~10価の有機基を表し、
R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基を表す、請求項1に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または、-C6H4-、-CONR4-、-CONR4-C6H4-、-C6H4-CONR4-、-CO-、-CO-C6H4-、-C6H4-CO-、-SO2NR4-、-SO2NR4-C6H4-、-C6H4-SO2NR4-、-SO2-、-SO2-C6H4-、および-C6H4-SO2-からなる群より選ばれる少なくとも1つを有する2~10価の有機基を表し、
R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基を表す、請求項1または2に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Xは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、炭素数1~6のアルキレン基、-R51-C6H4-R52-、-R51-CONR4-R52-、-R51-CONR4-C6H4-R52-、-R51-C6H4-CONR4-R52-、-R51-CO-R52-、-R51-CO-C6H4-R52-、-R51-C6H4-CO-R52-、-R51-SO2NR4-R52-、-R51-SO2NR4-C6H4-R52-、-R51-C6H4-SO2NR4-R52-、-R51-SO2-R52-、-R51-SO2-C6H4-R52-、または-R51-C6H4-SO2-R52-を表し、
R51およびR52は、それぞれ独立して、単結合または炭素数1~6のアルキレン基を表し、
R4は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはC1~6アルキル基を表す、
請求項1~3のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Xは、それぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり、αおよびβが1である、請求項1~4のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- lが3である、請求項1~5のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- qが3である、請求項1~6のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Yが、各出現においてそれぞれ独立して、C1-6アルキレン基、-(CH2)g’-O-(CH2)h’-(式中、g’は、0~6の整数であり、h’は、0~6の整数である)、または、-フェニレン-(CH2)i’-(式中、i’は、0~6の整数である)である、請求項1~7のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Z’が、各出現においてそれぞれ独立して、C1-6アルキレン基、-(CH2)j-O-(CH2)h-(式中、jは、0~6の整数であり、hは、0~6の整数である)、または、-フェニレン-(CH2)i-(式中、iは、0~6の整数である)である、請求項1~8のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Yが、各出現においてそれぞれ独立して、C1-6アルキレン基であり、Z’が、各出現においてそれぞれ独立して、C1-6アルキレン基である、請求項1~9のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- -Rd-Y-が、各出現においてそれぞれ独立して、C1-3アルキレン基である、請求項1~10のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基である、請求項1~11のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- PFPEが、各出現において独立して、下記式(a)、(b)または(c):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1~200の整数である。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
-(R6-R7)g- (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
gは、2~100の整数である。]
である、請求項1~12のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - PFPEが、各出現において独立して、下記式(a):
-(OC3F6)d- (a)
[式中、dは1~200の整数である。]
である、請求項1~13のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - e/f比が、0.2以上0.85以下である、請求項1~14のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- PFPEが、少なくとも1の分岐構造を有する、請求項1~14のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- Rf-PFPE部の数平均分子量が、500~30,000である、請求項1~16のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- 1,000~32,000の数平均分子量を有する、請求項1~17のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- 請求項1~18のいずれか1項に記載の式(1a)および/または式(1b)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
- 含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、および、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項19に記載の表面処理剤。
- 含フッ素オイルが、式(3):
R21-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-R22 ・・・(3)
[式中:
R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1であり、添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される1種またはそれ以上の化合物である、請求項20に記載の表面処理剤。 - 含フッ素オイルが、式(3a)または(3b):
R21-(OCF2CF2CF2)b’’-R22 ・・・(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-R22 ・・・(3b)
[式中:
R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;
式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c’’およびd’’は、それぞれ独立して1以上300以下の整数であり;
添字a’’、b’’、c’’またはd’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される1種またはそれ以上の化合物である、請求項20または21に記載の表面処理剤。 - 少なくとも式(3b)で表される1種またはそれ以上の化合物を含む、請求項22に記載の表面処理剤。
- 請求項1~15のいずれか1項に記載の式(1a)または式(1b)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物と、式(3b)で表される化合物との質量比が、10:1~1:10である、請求項22または23に記載の表面処理剤。
- 式(3a)で表される化合物が、2,000~8,000の数平均分子量を有する、請求項22~24のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 式(3b)で表される化合物が、2,000~30,000の数平均分子量を有する、請求項22~25のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 式(3b)で表される化合物が、8,000~30,000の数平均分子量を有する、請求項22~25のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- さらに溶媒を含む、請求項19~27のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項19~28のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 真空蒸着用である、請求項19~29のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項19~30のいずれか1項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材の表面に、請求項1~18のいずれか1項に記載の化合物または請求項19~31のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 前記物品が光学部材である、請求項32に記載の物品。
- 前記物品がディスプレイである、請求項32に記載の物品。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/482,814 US20200002551A1 (en) | 2017-02-03 | 2018-02-02 | Perfluoro(poly)ether group-containing compound, and surface treatment agent and article including same |
KR1020197022117A KR102245007B1 (ko) | 2017-02-03 | 2018-02-02 | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 화합물, 이것을 포함하는 표면 처리제, 및 물품 |
CN201880009939.0A CN110248983B (zh) | 2017-02-03 | 2018-02-02 | 含有全氟(聚)醚基的化合物、含有其的表面处理剂和物品 |
EP18747851.6A EP3578586A4 (en) | 2017-02-03 | 2018-02-02 | PERFLUORINE (POLY) ETHER GROUP CONTAINING COMPOUND AND SURFACE TREATMENT PRODUCTS AND ARTICLES THEREOF |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017018679 | 2017-02-03 | ||
JP2017-018679 | 2017-02-03 | ||
JP2017-085989 | 2017-04-25 | ||
JP2017085989 | 2017-04-25 | ||
JP2017-209590 | 2017-10-30 | ||
JP2017209590 | 2017-10-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2018143433A1 true WO2018143433A1 (ja) | 2018-08-09 |
Family
ID=63039716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/003664 WO2018143433A1 (ja) | 2017-02-03 | 2018-02-02 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200002551A1 (ja) |
EP (1) | EP3578586A4 (ja) |
JP (2) | JP6477934B1 (ja) |
KR (1) | KR102245007B1 (ja) |
CN (1) | CN110248983B (ja) |
WO (1) | WO2018143433A1 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019151445A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ダイキン工業株式会社 | 電子機器 |
WO2019151442A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
WO2020100759A1 (ja) | 2018-11-13 | 2020-05-22 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法 |
WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
WO2020162371A1 (ja) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び含フッ素化合物の製造方法 |
WO2020203666A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
JP2020164850A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
WO2020203671A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
WO2020241282A1 (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2020241751A1 (ja) | 2019-05-31 | 2020-12-03 | Agc株式会社 | 防汚層付き透明基板 |
WO2021054413A1 (ja) | 2019-09-20 | 2021-03-25 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 |
CN113677738A (zh) * | 2019-03-29 | 2021-11-19 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
WO2023074874A1 (ja) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Agc株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法 |
KR20240095305A (ko) | 2021-11-12 | 2024-06-25 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 조성물, 표면 처리제, 코팅액, 물품, 및 물품의 제조 방법 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110114410A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-08-09 | Agc株式会社 | 含氟醚组合物、涂布液和物品 |
JP7007601B2 (ja) | 2017-10-31 | 2022-01-24 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性組成物 |
CN111204989A (zh) * | 2018-11-22 | 2020-05-29 | 康宁股份有限公司 | 低翘曲的强化制品以及制造其的不对称离子交换方法 |
CN114402047A (zh) * | 2019-09-10 | 2022-04-26 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
CN114040936B (zh) * | 2019-09-26 | 2024-05-31 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的硅烷化合物 |
EP4047035A4 (en) | 2019-10-18 | 2023-10-04 | Daikin Industries, Ltd. | SURFACE TREATMENT AGENT |
KR102234674B1 (ko) * | 2019-11-13 | 2021-03-31 | 계명대학교 산학협력단 | 불소작용기를 갖는 사다리형태 폴리실세스퀴옥산 및 이를 이용한 방오코팅액 제조방법 |
TWI838633B (zh) * | 2020-07-13 | 2024-04-11 | 日商日東電工股份有限公司 | 附防污層之光學膜 |
EP4321590A1 (en) * | 2021-04-20 | 2024-02-14 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treatment agent |
CN113583231A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-11-02 | 东华大学 | 一种全氟聚醚硅氧烷化合物的制备方法及抗指纹剂 |
CN114035405B (zh) * | 2022-01-07 | 2022-04-22 | 甘肃华隆芯材料科技有限公司 | 制备顶部抗反射膜的组合物、顶部抗反射膜和含氟组合物 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997007155A1 (fr) | 1995-08-11 | 1997-02-27 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymeres organiques au silicium et leur emploi |
JP2008534696A (ja) | 2005-04-01 | 2008-08-28 | ダイキン工業株式会社 | 表面改質剤 |
WO2014069592A1 (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-08 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2015221888A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-12-10 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2016037541A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 信越化学工業株式会社 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2017082194A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-05-18 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
WO2017141707A1 (ja) * | 2016-02-17 | 2017-08-24 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
JP6296200B1 (ja) * | 2016-10-27 | 2018-03-20 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6024816B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-11-16 | ダイキン工業株式会社 | フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体 |
EP3345912B1 (en) * | 2015-09-01 | 2020-10-07 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and aticle |
EP3597654A4 (en) * | 2017-03-17 | 2020-12-23 | Daikin Industries, Ltd. | SILANE COMPOUND CONTAINING A PERFLUORO (POLY) ETHER GROUP |
-
2018
- 2018-02-02 KR KR1020197022117A patent/KR102245007B1/ko active IP Right Grant
- 2018-02-02 WO PCT/JP2018/003664 patent/WO2018143433A1/ja unknown
- 2018-02-02 JP JP2018017078A patent/JP6477934B1/ja active Active
- 2018-02-02 EP EP18747851.6A patent/EP3578586A4/en not_active Withdrawn
- 2018-02-02 CN CN201880009939.0A patent/CN110248983B/zh active Active
- 2018-02-02 US US16/482,814 patent/US20200002551A1/en not_active Abandoned
-
2019
- 2019-01-28 JP JP2019011869A patent/JP2019090045A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997007155A1 (fr) | 1995-08-11 | 1997-02-27 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymeres organiques au silicium et leur emploi |
JP2008534696A (ja) | 2005-04-01 | 2008-08-28 | ダイキン工業株式会社 | 表面改質剤 |
WO2014069592A1 (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-08 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2015221888A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-12-10 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2016037541A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 信越化学工業株式会社 | フッ素系表面処理剤及び該表面処理剤で表面処理された物品 |
JP2017082194A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-05-18 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
WO2017141707A1 (ja) * | 2016-02-17 | 2017-08-24 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
JP6296200B1 (ja) * | 2016-10-27 | 2018-03-20 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
See also references of EP3578586A4 |
Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019151445A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ダイキン工業株式会社 | 電子機器 |
WO2019151442A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2019131807A (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
US11692061B2 (en) | 2018-02-02 | 2023-07-04 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoro (poly) ether group-containing silane compound |
WO2020100759A1 (ja) | 2018-11-13 | 2020-05-22 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法 |
WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
WO2020162371A1 (ja) | 2019-02-08 | 2020-08-13 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び含フッ素化合物の製造方法 |
JP2020164850A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
KR102618166B1 (ko) | 2019-03-29 | 2023-12-28 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 |
WO2020203671A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
JP2020164848A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
US12116456B2 (en) * | 2019-03-29 | 2024-10-15 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyether group containing compound |
CN113677738B (zh) * | 2019-03-29 | 2024-07-23 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
KR102625467B1 (ko) | 2019-03-29 | 2024-01-17 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 |
US20220017694A1 (en) * | 2019-03-29 | 2022-01-20 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyether group containing compound |
KR20210132126A (ko) * | 2019-03-29 | 2021-11-03 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 |
KR20210132690A (ko) * | 2019-03-29 | 2021-11-04 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 |
CN113631630A (zh) * | 2019-03-29 | 2021-11-09 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
WO2020203666A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
CN113677738A (zh) * | 2019-03-29 | 2021-11-19 | 大金工业株式会社 | 含氟代聚醚基的化合物 |
JP2020164851A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
CN113728034A (zh) * | 2019-05-29 | 2021-11-30 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
TWI768351B (zh) * | 2019-05-29 | 2022-06-21 | 日商大金工業股份有限公司 | 表面處理劑 |
KR20210134685A (ko) * | 2019-05-29 | 2021-11-10 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리제 |
KR102569913B1 (ko) | 2019-05-29 | 2023-08-24 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리제 |
JP2020196867A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-10 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
CN113728034B (zh) * | 2019-05-29 | 2024-03-08 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
WO2020241282A1 (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
JP7568924B2 (ja) | 2019-05-29 | 2024-10-17 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2020241751A1 (ja) | 2019-05-31 | 2020-12-03 | Agc株式会社 | 防汚層付き透明基板 |
WO2021054413A1 (ja) | 2019-09-20 | 2021-03-25 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 |
WO2023074874A1 (ja) | 2021-10-29 | 2023-05-04 | Agc株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法 |
KR20240095305A (ko) | 2021-11-12 | 2024-06-25 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 조성물, 표면 처리제, 코팅액, 물품, 및 물품의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3578586A4 (en) | 2020-10-14 |
KR102245007B1 (ko) | 2021-04-27 |
US20200002551A1 (en) | 2020-01-02 |
JP2019070098A (ja) | 2019-05-09 |
CN110248983A (zh) | 2019-09-17 |
CN110248983B (zh) | 2022-04-22 |
KR20190099513A (ko) | 2019-08-27 |
JP6477934B1 (ja) | 2019-03-06 |
JP2019090045A (ja) | 2019-06-13 |
EP3578586A1 (en) | 2019-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102245007B1 (ko) | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 화합물, 이것을 포함하는 표면 처리제, 및 물품 | |
JP6575721B1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP6296200B1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP6332358B2 (ja) | フルオロオキシメチレン基含有パーフルオロポリエーテル変性体 | |
KR101860253B1 (ko) | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물 | |
JP6501016B1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
JP5880769B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 | |
JP6172410B2 (ja) | 表面処理剤 | |
JP6098749B2 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 | |
WO2016121211A1 (ja) | 表面処理剤 | |
WO2018131656A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物を含む表面処理剤 | |
WO2018047686A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 | |
CN110392723B (zh) | 含有含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的表面处理剂、使用它的粒料和物品 | |
WO2018168972A1 (ja) | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤、それを用いたペレットおよび物品 | |
WO2018181141A1 (ja) | パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18747851 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20197022117 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2018747851 Country of ref document: EP Effective date: 20190903 |