CN113677738A - 含氟代聚醚基的化合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种下述式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的化合物。[式中，各符号如说明书的记载所述]。

Description

含氟代聚醚基的化合物
技术领域
本发明涉及一种含氟代聚醚基的化合物。
背景技术
已知某种含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜，已被施用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材。
作为这样的含氟化合物，已知有分子主链具有氟代聚醚基并且分子末端或末端部具有与Si原子键合的能够水解的基团的含氟代聚醚基硅烷化合物(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2000-327772号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
上述那样的表面处理层有时要求还具有良好的摩擦耐久性。
用于解决技术问题的技术方案
本发明提供以下的[1]～[14]。
[1]一种下述式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的化合物。
Figure BDA0003281548930000011
Figure BDA0003281548930000012
[式中：
RF1为Rf1-RF-Oq-；
RF2为-Rf2 p-RF-Oq-；
Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基；
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基；
RF在每次出现时分别独立地为式：-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-所示的基团；
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，并且a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
RFa为在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子；
p为0或1；
q独立地为0或1；
RX1在每次出现时分别独立地为C1-6的亚烷基；
RX2在每次出现时分别独立地为可以含有1个或1个以上的氮原子、氧原子、硫原子或硅原子的C1-6的烷基或环状烷基、或者可以被全氟烷基取代的C1-6的亚烷基；
RSi在每次出现时分别独立地由下述式(S1)表示：
Figure BDA0003281548930000021
X1在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1在每次出现时分别独立地为-Z1’-SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’；
Z1’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1’在每次出现时分别独立地为-Z1”-SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”；
Z1”在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1”在每次出现时分别独立地为-Z1”’-SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’；
Z1”’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Rb1”’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1”’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
q1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1”在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1”在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
其中，在每个RSi所示的基团中存在至少1个Rb1、Rb1’、Rb1”或Rb1”’。]
[2]如[1]所述的含氟代聚醚基的化合物，其中，p为0，并且q1为2或3。
[3]如[1]或[2]所述的含氟代聚醚基的化合物，其中，RFa为氟原子。
[4]如[1]～[3]中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其中，X1在每次出现时分别独立地为2价的有机基团。
[5]如[1]～[4]中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其中，X1在每次出现时分别独立地为-(Z21)z11-(X2)z12-(Z22)z13-(式中，Z21和Z22为2价的有机基团；
X2为氧原子；
z11为0或1；
z12为0或1；
z13为0或1；
其中，z11和z13中的至少一方为1)。
[6]如[1]～[5]中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其中，X1在每次出现时分别独立地为亚烷基。
[7]一种表面处理剂，其含有[1]～[6]中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物。
[8]如[7]所述的表面处理剂，其还含有选自含氟油、硅油和催化剂中的1种或1种以上的其他成分。
[9]如[7]或[8]所述的表面处理剂，其还含有溶剂。
[10]如[7]～[9]中任一项所述的表面处理剂，其用作防污性涂敷剂或防水性涂敷剂。
[11]如[7]～[10]中任一项所述的表面处理剂，其用于真空蒸镀。
[12]一种粒料，其含有[7]～[10]中任一项所述的表面处理剂。
[13]一种包含基材和在该基材的表面由[1]～[6]中任一项所述的化合物或[7]～[11]中任一项所述的表面处理剂形成的层的物品。
[14]如[13]所述的物品，其为光学部件。
发明效果
利用本发明，能够提供一种能够用于形成具有更良好的摩擦耐久性的表面处理层的含氟代聚醚基的化合物。
具体实施方式
在本说明书中使用时，“1价的有机基团”是指含有碳的1价的基团。作为1价的有机基团，没有特别限定，可以为烃基或其衍生物。烃基的衍生物是指在烃基的末端或分子链中具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺、磺酰、硅氧烷、羰基、羰基氧基等的基团。
在本说明书中使用时，作为“2价的有机基团”，没有特别限定，可以列举从烃基中进一步脱去1个氢原子而成的2价的基团。
在本说明书中使用时，“烃基”是指含有碳和氢的基团并且从分子中脱去1个氢原子而成的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可以被1个或1个以上的取代基取代，可以列举碳原子数1～20的烃基，例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”可以为直链状、支链状或环状中的任一种，也可以为饱和或不饱和中的任一种。另外，烃基也可以含有1个或1个以上的环结构。这样的烃基在其末端或分子链中还可以具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺、磺酰、硅氧烷、羰基、羰基氧基等。
在本说明书中使用时，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举卤原子；选自可以被1个或1个以上的卤原子取代的C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10环烷基、C3-10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6-10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。
在本说明书中，只要没有特别记载，烷基和苯基可以是非取代的，也可以被取代。作为该基团的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤原子、C1-6烷基、C2-6烯基和C2-6炔基中的1个或1个以上的基团。
在本说明书中，“能够水解的基团”在本说明书中使用时，是指能够发生水解反应的基团，即是指能够利用水解反应从化合物的主骨架中脱离的基团。作为能够水解的基团的例子，可以列举-ORh、-OCORh、-O-N＝CRh 2、-NRh 2、-NHRh、卤素(这些式中，Rh表示取代或非取代的C1-4烷基)等。
本发明的含氟代聚醚基的化合物为下述式(1)或(2)所示的化合物。
Figure BDA0003281548930000051
Figure BDA0003281548930000052
在上述式(1)中，RF1在每次出现时分别独立地为Rf1-RF-Oq-。
在上述式(2)中，RF2为-Rf2 p-RF-Oq-。
在上述式中，Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基。
上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基中的“C1-16烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1-6烷基、特别是C1-3烷基，更优选为直链的C1-6烷基、特别是C1-3烷基。
上述Rf1优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基，更优选为CF2H-C1-15全氟亚烷基，进一步优选为C1-16全氟烷基。
上述C1-16全氟烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1-6全氟烷基、特别是C1-3全氟烷基，更优选为直链的C1-6全氟烷基、特别是C1-3全氟烷基，具体为-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。
在上述式中，Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基。
上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基中的“C1-6亚烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1-3亚烷基，更优选为直链的C1-3亚烷基。
上述Rf2优选为被1个或1个以上的氟原子取代了的C1-6亚烷基，更优选为C1-6全氟亚烷基，进一步优选为C1-3全氟亚烷基。
上述C1-6全氟亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1-3全氟亚烷基，更优选为直链的C1-3全氟烷基，具体为-CF2-、-CF2CF2-或-CF2CF2CF2-。
在上述式中，p为0或1。在一个方式中，p为0。在另一个方式中，p为1。
在上述式中，q在每次出现时分别独立地为0或1。在一个方式中，q为0。在另一个方式中，q为1。
在上述式(1)和(2)中，RF在每次出现时分别独立地为以下的式所示的氟代聚醚基。其中，关于作为RF记载的结构，在式(1)中，左侧与Rf1所示的结构结合；在式(2)中，左侧与Rf2 p所示的结构结合。
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-
[式中：
RFa在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，并且a、b、c、d、e和f之和为1以上。标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
RFa优选为氢原子或氟原子，更优选为氟原子。
a、b、c、d、e和f优选分别独立地为0～100的整数。
a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。a、b、c、d、e和f之和优选为200以下，更优选为100以下，进一步优选为60以下，例如可以为50以下或30以下。
这些重复单元可以为直链状，也可以为支链状，优选为直链状。例如，-(OC6F12)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等，优选为-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC5F10)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等，优选为-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC4F8)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-和-(OCF2CF(C2F5))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-(即，在上述式中，RFa为氟原子)可以为-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-和-(OCF2CF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2)-。另外，-(OC2F4)-可以为-(OCF2CF2)-和-(OCF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2)-。
在一个方式中，RF在每次出现时分别独立地为下述式(f1)、(f2)或(f3)所示的基团。
-(OC3F6)d- (f1)
[式中，d为1～200的整数。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[式中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下的整数，
c、d、e和f之和为2以上，
标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
-(R6-R7)g- (f3)
[式中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数。]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)
[式中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[式中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
在上述式(f1)中，d优选为5～200、更优选为10～100、进一步优选为15～50、例如为25～35的整数。上述式(f1)优选为-(OCF2CF2CF2)d-或-(OCF(CF3)CF2)d-所示的基团，更优选为-(OCF2CF2CF2)d-所示的基团。
在上述式(f2)中，e和f分别独立地优选为5以上200以下、更优选为10～200的整数。另外，c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。在一个方式中，上述式(f2)优选为-(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-所示的基团。在另一个方式中，式(f2)可以为-(OC2F4)e-(OCF2)f-所示的基团。
在上述式(f3)中，R6优选为OC2F4。在上述(f3)中，R7优选为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团，或者为从这些基团中独立选择的2个或3个基团的组合，更优选为选自OC3F6和OC4F8中的基团。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立选择的2个或3个基团的组合，没有特别限定，例如可以列举-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-和-OC4F8OC2F4OC2F4-等。在上述式(f3)中，g优选为3以上、更优选为5以上的整数。上述g优选为50以下的整数。在上述式(f3)中，OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12可以为直链或支链中的任一种，优选为直链。在该方式中，上述式(f3)优选为-(OC2F4-OC3F6)g-或-(OC2F4-OC4F8)g-。
在上述式(f4)中，e优选为1以上100以下、更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上、例如为10以上100以下。
在上述式(f5)中，f优选为1以上100以下、更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上、例如为10以上100以下。
在一个方式中，上述RF为上述式(f1)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f2)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f3)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f4)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f5)所示的基团。
在上述RF中，e相对于f的比(以下，称为“e/f比”)为0.1～10，优选为0.2～5，更优选为0.2～2，进一步优选为0.2～1.5，更进一步优选为0.2～0.85。通过使e/f比为10以下，由该化合物得到的固化层(例如表面处理层)的光滑性、摩擦耐久性和耐化学性(例如对人工汗液的耐久性)进一步提高。e/f比越小，固化层(例如表面处理层)的光滑性和摩擦耐久性越提高。另一方面，通过使e/f比为0.1以上，能够进一步提高化合物的稳定性。e/f比越大，化合物的稳定性越提高。
在一个方式中，上述e/f比优选为0.2～0.95，更优选为0.2～0.9。
在一个方式中，从耐热性的观点考虑，上述e/f比优选为1.0以上，更优选为1.0～2.0。
在一个方式中，e/f比为0.2～1.5，优选为0.5～1.1。
在一个方式中，e/f比为0.6～1.5。
在上述含氟代聚醚基的化合物中，RF1和RF2部分的数均分子量没有特别限定，例如为500～30,000，优选为1,500～30,000，更优选为2,000～20,000，进一步优选为2,000～10,000。在本说明书中，RF1和RF2的数均分子量是利用19F-NMR测得的值。
在另一个方式中，RF1和RF2部分的数均分子量为500～30,000，优选为1,000～20,000，更优选为2,000～15,000，更进一步优选为2,000～10,000，例如可以为3,000～6,500。
在另一个方式中，RF1和RF2部分的数均分子量可以为4,000～30,000，优选为5,000～10,000，更优选为6,000～10,000。
在本发明中，RF1或RF2所示的基团与RSi所示的基团通过-RX1-O-RX2-C(＝O)-N所示的基团而结合。其中，在式(1)和(2)所示的化合物中，RF1或RF2所示的基团是主要提供拨水性和表面光滑性等的含有氟代聚醚基的基团，RSi所示的基团是提供与基材的结合能的硅烷部。
通过具有上述那样的结构，本发明的含氟代聚醚基的化合物能够有助于形成摩擦耐久性(例如皮肤摩擦耐久性、纺织布摩擦耐久性、橡皮摩擦耐久性、钢丝棉摩擦耐久性)、耐化学性(例如对溶剂的耐久性、对人工汗液的耐久性、对酸或碱性的耐久性)、拨水性、拨油性、防污性(例如防止指纹等污渍的附着)、防水性(防止水向电子部件等的浸入)、防水性(例如防止电子部件等的浸水)、或者表面光滑性(或润滑性、例如指纹等污渍的擦拭性、优异的手指触感)等良好的固化层(例如表面处理层)。特别是使用本发明的含氟代聚醚基的化合物时，所形成的固化层(例如表面处理层)的物性(例如摩擦耐久性、耐化学性、拨水性、拨油性、防污性、光滑性)等能够变得良好。考虑这是由于RX1-O-RX2-C(＝O)-N所示的基团具有高的柔韧性，因此RSi所示的基团的末端部分与基材的反应能够特别良好地进行。
上述RX1在每次出现时分别独立地为C1-6的亚烷基，优选为C1-3的亚烷基，例如为亚甲基。
上述RX2在每次出现时分别独立地为能够含有1个或1个以上的氮原子、氧原子、硫原子或硅原子的C1-6的烷基或环状烷基或者可以被全氟烷基取代的C1-6的亚烷基(优选C1-3的亚烷基、例如亚甲基)。其中，上述C1-6的烷基或者环状烷基含有氮原子、氧原子、硫原子或硅原子时，这些原子包含在上述C1-6的烷基或环状烷基的分子链中(即碳原子与碳原子之间)。
上述RX2在每次出现时分别独立地优选为C1-6的烷基，更优选为C1-3的亚烷基，例如为亚甲基。
在一个方式中，RX1为C1-6的亚烷基，并且RX2为C1-6的亚烷基，优选RX1为C1-3的亚烷基，并且RX2为C1-3的亚烷基，例如RX1和RX2均为亚甲基。
RSi在每次出现时分别独立地由下述式(S1)表示。
Figure BDA0003281548930000111
在式(S1)中，X1在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。
作为2价的有机基团的X1的例子，没有特别限定，例如可以列举-(Z21)z11-(X12)z12-(Z22)z13-所示的基团。
式中，Z21和Z22为2价的有机基团；
X12为氧原子；
z11为0或1；z12为0或1；z13为0或1；
其中，z11和z13中的至少一方为1。
在一个方式中，X1为单键。
在一个方式中，X1为氧原子。
在一个方式中，X1为2价的有机基团。
X1优选为C1-6亚烷基、-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(式中，z5为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6为0～6的整数，例如为1～6的整数，z5与z6的合计为1以上。)或者-(CH2)z7-亚苯基-(CH2)z8-(式中，z7为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8为0～6的整数，例如为1～6的整数，优选z7与z8的合计为1以上。)。这样的C1-6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基和C2-6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，优选是非取代的。
在优选的方式中，X1为C1-6亚烷基或-(CH2)z7-亚苯基-(CH2)z8-，优选为C1-6亚烷基，更优选为C1-3亚烷基。这样的结构在提高所形成的固化层(例如表面处理层)的摩擦耐久性、耐化学性的方面是有利的。
在一个方式中，X1可以为-CH2CH2CH2-。
Ra1在每次出现时分别独立地为-Z1’-SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’。
上述Z1’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。
在一个方式中，Z1’为单键。
在一个方式中，Z1’为氧原子。
Z1’优选为2价的有机基团。
在优选的方式中，Z1’不包括与Z1’所结合的Si原子形成硅氧烷键的基团。即在式(S1)中，(Si-Z1’-Si)不包括硅氧烷键。
作为2价的有机基团的Z1’的例子，没有特别限定，例如可以列举-(Z21’)z11’-(X2’)z12’-(Z22’)z13’-所示的基团。
式中，Z21’和Z22’为2价的有机基团。
X2’为氧原子。
z11’为0或1；z12’为0或1；z13’为0或1。其中，z11’和z13’中的至少一方为1。
Z1’优选为C1-6亚烷基、-(CH2)z5’-O-(CH2)z6’-(式中，z5’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z5’与z6’的合计为1以上。)或者-(CH2)z7’-亚苯基-(CH2)z8’-(式中，z7’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8’为0～6的整数，例如为1～6的整数，优选z7’与z8’的合计为1以上。)。这样的C1-6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基和C2-6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，优选是非取代的。
在优选的方式中，Z1’为C1-6亚烷基或-(CH2)z7’-亚苯基-(CH2)z8’-，优选为-亚苯基-(CH2)z8’-。Z1’为这样的基团时，所形成的固化膜的光耐性、特别是耐紫外线性能够变得更高。优选z7’为0～6的整数，z8’为1～6的整数。
在另一个优选的方式中，上述Z1’为C1-6亚烷基，更优选为C1-3亚烷基。通过具有这样的结构，所形成的固化膜的耐光性、特别是耐紫外线性能够变得更高。
在一个方式中，Z1’可以为-CH2CH2CH2-。在另一个方式中，Z1’可以为-CH2CH2-。
Ra1’在每次出现时分别独立地为-Z1”-SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”。
上述Z1”在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。
在一个方式中，Z1”为单键。
在一个方式中，Z1”为氧原子。
Z1”优选为2价的有机基团。
在优选的方式中，Z1”不包括与Z1”所结合的Si原子形成硅氧烷键的基团。即在式(S1)中，(Si-Z1”-Si)不包括硅氧烷键。
作为2价的有机基团的Z1”的例子，没有特别限定，例如可以列举-(Z21”)z11”-(X2”)z12”-(Z22”)z13”-所示的基团。
式中，Z21”和Z22”为2价的有机基团。
X2”为氧原子。
z11”为0或1；z12”为0或1；z13”为0或1。其中，z11”和z13”中的至少一方为1。
Z1”优选为C1-6亚烷基、-(CH2)z5”-O-(CH2)z6”-(式中，z5”为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6”为0～6的整数，例如为1～6的整数，z5”与z6”的合计为1以上。)或者-(CH2)z7”-亚苯基-(CH2)z8”-(式中，z7”为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8”为0～6的整数、例如为1～6的整数，优选z7”与z8”的合计为1以上。)。这样的C1-6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基和C2-6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，优选是非取代的。
在优选的方式中，Z1”为C1-6亚烷基或-(CH2)z7”-亚苯基-(CH2)z8”-，优选为-亚苯基-(CH2)z8”-。Z1”为这样的基团时，所形成的固化膜的耐光性、特别是耐紫外线性能够变得更高。优选z7”为0～6的整数，z8”为1～6的整数。
在另一个优选的方式中，上述Z1”为C1-6亚烷基，更优选为C1-3亚烷基。通过具有这样的结构，所形成的固化膜的耐光性、特别是耐紫外线性能够变得更高。
在一个方式中，Z1”可以为-CH2CH2CH2-。在另一个方式中，Z1”可以为-CH2CH2-。
上述Ra1”在每次出现时分别独立地为-Z1”’-SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’。
上述Z1”’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。
在一个方式中，Z1”’为单键。
在一个方式中，Z1”’为氧原子。
Z1”’优选为2价的有机基团。
在优选的方式中，Z1”’不包括与Z1”’所结合的Si原子形成硅氧烷键的基团。即在式(S1)中，(Si-Z1”’-Si)不包括硅氧烷键。
作为2价的有机基团的Z1”’的例子，没有特别限定，例如可以列举-(Z21”’)z11”’-(X2”’)z12”’-(Z22”’)z13”’-所示的基团。
式中，Z21”’和Z22”’为2价的有机基团。
X2”’为氧原子。
z11”’为0或1；z12”’为0或1；z13”’为0或1。其中，z11”’和z13”’中的至少一方为1。
Z1”’优选为C1-6亚烷基、-(CH2)z5”’-O-(CH2)z6”’-(式中，z5”’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6”’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z5”’与z6”’的合计为1以上。)或者-(CH2)z7”’-亚苯基-(CH2)z8”’-(式中，z7”’为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8”’为0～6的整数，例如为1～6的整数，优选z7”’与z8”’的合计为1以上。)。这样的C1-6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基和C2-6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，优选是非取代的。
在优选的方式中，Z1”’为C1-6亚烷基或-(CH2)z7”’-亚苯基-(CH2)z8”’-，优选为-亚苯基-(CH2)z8”’-。Z1”为这样的基团时，所形成的固化膜的耐光性、特别是耐紫外线性能够变得更高。优选z7”’为0～6的整数，z8”’为1～6的整数。
在另一个优选的方式中，上述Z1”’为C1-6亚烷基，更优选为C1-3亚烷基。通过具有这样的结构，所形成的固化膜的耐光性、特别是耐紫外线性能够变得更高。
在一个方式中，Z1”’可以为-CH2CH2CH2-。在另一个方式中，Z1”’可以为-CH2CH2-。
上述Rb1”’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团。Rb1”’优选在每次出现时分别独立地为能够水解的基团。
Rb1”’优选在每次出现时分别独立地为-ORh、-OCORh、-O-N＝CRh 2、-NRh 2、-NHRh或卤素(这些式中，Rh表示取代或非取代的C1-4烷基)，更优选为-ORh(即烷氧基)。作为Rh，可以列举：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rh为甲基，在另一个方式中，Rh为乙基。
上述Rc1”’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。这样的1价的有机基团为除上述能够水解的基团以外的1价的有机基团。
在Rc1”’中，1价的有机基团优选为C1-20烷基，更优选为C1-6烷基，进一步优选为甲基。
上述q1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数。另外，q1”’与r1”’的合计在(SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’)单元中为3。
优选q1”’为1～3的整数并且r1”’为0～2的整数，更优选q1”’为2或3并且r1”’为0或1，特别优选q1”’为3。
上述Rb1”在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团。Rb1”优选在每次出现时分别独立地为能够水解的基团。
Rb1”优选在每次出现时分别独立地为-ORh、-OCORh、-O-N＝CRh 2、-NRh 2、-NHRh或卤素(这些式中，Rh表示取代或非取代的C1-4烷基)，更优选为-ORh(即烷氧基)。作为Rh，可以列举：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些中，优选烷基、特别是非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rh为甲基，在另一个方式中，Rh为乙基。
上述Rc1”在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。这样的1价的有机基团为除上述能够水解的基团以外的1价的有机基团。
在Rc1”中，1价的有机基团优选为C1-20烷基，更优选为C1-6烷基，进一步优选为甲基。
上述p1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述q1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数。另外，p1”、q1”和r1”的合计在(SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”)单元中为3。
在一个方式中，p1”为0。
在一个方式中，p1”在每个(SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”)单元中可以分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1”为3。
在一个方式中，q1”在每个(SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p1”为0，q1”在每个(SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
上述Rb1’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团。Rb1’优选在每次出现时分别独立地为能够水解的基团。
Rb1’优选在每次出现时分别独立地为-ORh、-OCORh、-O-N＝CRh 2、-NRh 2、-NHRh或卤素(这些式中，Rh表示取代或非取代的C1-4烷基)，更优选为-ORh(即烷氧基)。作为Rh，可以列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rh为甲基，在另一个方式中，Rh为乙基。
上述Rc1’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。这样的1价的有机基团为除上述能够水解的基团以外的1价的有机基团。
在Rc1’中，1价的有机基团优选为C1-20烷基，更优选为C1-6烷基，进一步优选为甲基。
上述p1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述q1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数。另外，p1’、q1’和r1’的合计在(SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’)单元中为3。
在一个方式中，p1’为0。
在一个方式中，p1’在每个(SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’)单元中可以分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1’为3。
在一个方式中，q1’在每个(SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p1’为0，q1’在每个(SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
上述Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团。Rb1优选在每次出现时分别独立地为能够水解的基团。
上述Rc1在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。这样的1价的有机基团为除上述能够水解的基团以外的1价的有机基团。
在Rc1中，1价的有机基团优选为C1-20烷基，更优选为C1-6烷基，进一步优选为甲基。
上述p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数。另外，p1、q1和r1的合计在(SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1)单元中为3。
在一个方式中，p1为0。
在一个方式中，p1在每个(SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1)单元中可以分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1为3。
在一个方式中，q1在每个(SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p1为0，q1在每个(SiRa1 p1’Rb1 q1’Rc1 r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
在每个上述RSi所示的基团中存在至少1个Rb1、Rb1’、Rb1”或Rb1”’。即在式(1)或(2)中，与N原子键合的RSi所示的基团分别具有至少1个与羟基或能够水解的基团键合的Si原子。
换言之，RSi所示的基团具有：
-X1-SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1所示的基团(式中，q1为1～3的整数，优选q1为2或3，更优选q1为3。其中，p1、q1和r1的合计为3。)、
-Z1’-SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’所示的基团(式中，q1’为1～3的整数，优选q1’为2或3，更优选q1’为3。其中，p1’、q1’和r1’的合计为3。)、或
-Z1”-SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”所示的基团(式中，q1”为1～3的整数，优选q1”为2或3，更优选q1”为3。其中，p1”、q1”和r1”的合计为3。)、和
-Z1”’-SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’所示的基团(式中，q1”’为1～3的整数，优选q1”’为2或3，更优选q1”’为3。其中，q1”’和r1”’的合计为3。)中的至少1个。
与羟基或能够水解的基团键合的Si原子优选存在于RSi所示的基团的末端部分。换言之，优选在式(1)和式(2)的末端部分存在羟基或能够水解的基团所结合的Si原子。
上述RSi所示的基团优选具有：
-X1-SiRb1 q1Rc1 r1所示的基团(式中，q1为1～3的整数，优选q1为2或3，更优选q1为3。其中，q1和r1的合计为3。)、
-Z1’-SiRb1’ q1’Rc1’ r1’所示的基团(式中，q1’为1～3的整数，优选q1’为2或3，更优选q1’为3。其中，q1’和r1’的合计为3。)、或
-Z1”-SiRb1” q1”Rc1” r1”所示的基团(式中，q1”为1～3的整数，优选q1”为2或3，更优选q1”为3。其中，q1”和r1”的合计为3。)、和
-Z1”’-SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’所示的基团(式中，q1”’为1～3的整数，优选q1”’为2或3，更优选q1”’为3。其中，q1”’和r1”’的合计为3。)中的至少1个。
上述RSi优选为-X1-SiRb1 2Rc1或-X1-SiRb1 3，更优选为-X1-SiRb1 3。
在一个方式中，在RSi中，p1为1～3的整数时，Ra1优选为-Z1’-SiRb1’ 2Rc1’或-Z1’-SiRb1’ 3，更优选为-Z1’-SiRb1’ 3。在本方式中，优选p1为2或3，更优选为3。
在一个方式中，在RSi中，p1’为1～3的整数时，Ra1’优选为-Z1”-SiRb1” 2Rc1”或-Z1”-SiRb1” 3，更优选为-Z1”-SiRb1” 3。在本方式中，优选p1’为2或3，更优选为3。
在一个方式中，在RSi中，p1”为1～3的整数时，Ra1”优选为-Z1”’-SiRb1”’ 2Rc1”’或-Z1”’-SiRb1”’ 3，更优选为-Z1”’-SiRb1”’ 3。在本方式中，优选p1”为2或3，更优选为3。
在一个方式中，本发明的含氟代聚醚基的化合物由式(1)表示。
在一个方式中，本发明的含氟代聚醚基的化合物由式(2)表示。
在一个方式中，本发明的含氟代聚醚基的化合物由以下的式(1)或(2)表示。
Figure BDA0003281548930000191
Figure BDA0003281548930000192
[式中：
RF1为Rf1-RF-Oq-；
RF2为-Rf2 p-RF-Oq-；
Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基；
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基；
RF在每次出现时分别独立地为下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所示的基团：
-(OC3F6)d- (f1)
[式(f1)中，d为1～200的整数。]
-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f2)
[式(f2)中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下的整数，
c、d、e和f之和为2以上，
标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
-(R6-R7)g- (f3)
[式(f3)中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数。]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f4)
[式(f4)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且a、b、c、d、e和f之和至少为1，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3F6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f- (f5)
[式(f5)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且a、b、c、d、e和f之和至少为1，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]；
p为0或1；
q为0或1；
RX1在每次出现时分别独立地为C1-6亚烷基，优选为C1-3亚烷基、例如亚甲基；
RX2在每次出现时分别独立地为C1-6亚烷基，优选为C1-3亚烷基、例如亚甲基；
RSi在每次出现时分别独立地由下述式(S1)表示：
-X1-SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1 (S1)；
X1在每次出现时分别独立地为C1-6亚烷基或-(CH2)z7-亚苯基-(CH2)z8-，优选为C1-6亚烷基，更优选为C1-3亚烷基；
z7为0～6的整数，z8为1～6的整数；
Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
p1和r1为0，并且q1为3。]
式(1)或式(2)所示的化合物可以通过将公知的方法组合而制造。
在一个方式中，没有特别限定，将适于制造式(1)所示的本发明的含氟代聚醚基的化合物的方法的例子记载如下。
本发明的含氟代聚醚基的化合物例如可以利用如下的方法进行制造，即，该方法包括使式(1c)所示的化合物与HSiM3(式中，M分别独立地为卤原子(即I、Br、Cl、F)或C1－6的烷氧基，优选为卤原子，更优选为Cl)、根据需要的Rb1L’(Rb1的意义与上述相同，L’表示能够与Rb1键合的基团)所示的化合物和/或Rc1L”(Rc1的意义与上述相同，L”表示能够与Rc1键合的基团)所示的化合物反应的工序。
Figure BDA0003281548930000202
在式(1c)中，RF1、RX1和RX2的意义分别与上述式(1)中的RF1、RX1和RX2相同。X1’表示碳原子数比式(1)的X1少2个的结构。来自-X1’-CH＝CH2所示的结构的-X1’-CH2CH2-相当于式(1)中的X1。
上述工序优选在适当的催化剂的存在下、在适当的溶剂中进行。
作为适当的催化剂，没有特别限定，例如可以列举Pt、Pd、Rh等。这样的催化剂可以是任意的形态，例如配位化合物的形态。
作为适当的溶剂，只要是不对反应产生不良影响的溶剂，就没有特别限定，例如可以列举1,3-双(三氟甲基)苯、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟己烷、六氟苯等。
这样的反应的反应温度没有特别限定，通常为0～100℃、优选为50～80℃；反应时间没有特别限定，通常为60～600分钟、优选为120～300分钟；反应压力没有特别限定，为－0.2～1MPa(表压)，简而言之为常压。
上述式(1c)所示的化合物没有特别限定，例如可以通过向式(1b)所示的化合物的末端部分导入具有双键的基团而制造。具体可以通过使以下的式(1b)所示的化合物与末端部分具有双键的胺化合物(例如烯丙胺、二烯丙胺等)反应而得到。RX为氢原子、羟基、碳原子数1～10的烷氧基、酚基、磺酰基、卤素等，具体为卤素。
Figure BDA0003281548930000211
上述工序优选在适当的碱的存在下、在适当的溶剂中进行。
作为适当的碱，没有特别限定，例如可以列举氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、叔胺(三乙胺、吡啶、二异丙基乙胺、2,6-二甲基吡啶)等。这样的碱可以是任意的形态。
作为适当的溶剂，只要是不对反应产生不良影响的溶剂，就没有特别限定，例如可以列举1,3-双(三氟甲基)苯、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟己烷、六氟苯等。
这样的反应的反应温度没有特别限定，通常为0～100℃，优选为40～80℃；反应时间没有特别限定，通常为60～600分钟，优选为120～240分钟；反应压力没有特别限定，为－0.2～1MPa(表压)，简而言之为常压。
上述式(1b)所示的化合物没有特别限定，例如可以通过向式(1a)所示的化合物末端的OH基导入Hal-RX2-C(＝O)-RX而得到。其中，Hal为卤原子，例如Br原子。
RF1-RX1-OH (1a)
上述工序优选在适当的碱的存在下、在适当的溶剂中进行。
作为适当的碱，没有特别限定，例如可以列举氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、叔胺(三乙胺、吡啶、二异丙基乙胺、2，6-二甲基吡啶)等。这样的碱可以是任意的形态。
作为适当的溶剂，只要是不对反应产生不良影响的溶剂，就没有特别限定，例如可以列举1，3-双(三氟甲基)苯、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟己烷、六氟苯等。
这样的反应的反应温度没有特别限定，通常为0～100℃，优选为50～100℃；反应时间没有特别限定，通常为60～600分钟，优选为80～240分钟；反应压力没有特别限定，为-0.2～1MPa(表压)，简而言之为常压。
在另一个方式中，式(1c)所示的化合物没有特别限定，例如可以利用包括使式(1a)所示的化合物与Hal-RX2-C(O)N(X1’-CH＝CH2)2所示的化合物反应的工序的方法进行合成。其中，Hal、RX2、X1’、RF1和Rx1的意义分别与上述相同。
RF1-RX1-OH (1a)
上述工序优选在适当的碱的存在下、在适当的溶剂中进行。
作为适当的碱，没有特别限定，例如可以列举氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、叔胺(三乙胺、吡啶、二异丙基乙胺、2，6-二甲基吡啶)等。这样的碱可以是任意的形态。
作为适当的溶剂，只要是不对反应产生不良影响的溶剂，就没有特别限定，例如可以列举1，3-双(三氟甲基)苯、全氟丁基乙基醚、全氟己基甲基醚、全氟己烷、六氟苯等。
这样的反应的反应温度没有特别限定，通常为0～100℃、优选为50～100℃；反应时间没有特别限定，通常为60～600分钟，优选为100～300分钟；反应压力没有特别限定，为－0.2～1MPa(表压)，简而言之为常压。
本领域技术人员能够将制造本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物时的反应条件调整至适当优选的范围内。
接着，对本发明的组合物(例如表面处理剂)进行说明。
本发明的组合物(例如表面处理剂)含有式(1)或式(2)所示的至少1种含氟代聚醚基的化合物。
在一个方式中，本发明的组合物(例如表面处理剂)可以含有式(1)和式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物。
在一个方式中，本发明的组合物(例如表面处理剂)所含的式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物相对于式(1)和式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物的合计的比(摩尔比)的下限值优选为0.001，更优选为0.002，进一步优选为0.005，更进一步优选为0.01，特别优选为0.02，特别可以为0.05。式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物相对于式(1)和式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物的合计的比(摩尔比)的上限值可以优选为0.35，更优选为0.30，进一步优选为0.20，更进一步优选为0.15或0.10。式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物相对于式(1)和式(2)所示的含氟代聚醚基的化合物的合计的比(摩尔比)优选为0.001以上0.30以下，更优选为0.001以上0.20以下，进一步优选为0.002以上0.20以下，更进一步优选为0.005以上0.20以下，特别优选为0.01以上0.20以下、例如0.02以上0.15以下或0.05以上0.15以下。通过在上述范围内含有，本发明的组合物能够有助于形成摩擦耐久性良好的固化层。
本发明的组合物(例如表面处理剂)能够对基材赋予拨水性、拨油性、防污性、防水性、表面光滑性、摩擦耐久性，没有特别限定，能够合适地用作防污性涂敷剂或防水性涂敷剂。
本发明的组合物(例如表面处理剂)还可以含有溶剂、能够理解为含氟油的(非反应性的)氟代聚醚化合物、优选全氟(聚)醚化合物(以下，统称为“含氟油”)、能够理解为硅油的(非反应性的)有机硅化合物(以下，称为“硅油”)、催化剂、表面活性剂、阻聚剂、敏化剂等。
作为上述溶剂，例如可以列举：己烷、环己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷、矿油精等脂肪族烃类；苯、甲苯、二甲苯、萘、溶剂石脑油等芳香族烃类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丙酯、乙酸异丁酯、乙酸溶纤剂、丙二醇甲基醚乙酸酯、乙酸卡必醇、草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、乙基-2-羟基丁酸酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、2-羟基异丁酸甲酯、2-羟基异丁酸乙酯等酯类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、2-己酮、环己酮、甲基氨基酮、2-庚酮等酮类；乙基溶纤剂、甲基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚、乙二醇单烷基醚等二醇醚类；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、仲丁醇、3-戊醇、辛醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、叔戊醇等醇类；乙二醇、丙二醇等二元醇类；四氢呋喃、四氢吡喃、二噁烷等环状醚类；N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺等酰胺类；甲基溶纤剂、溶纤剂、异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二乙二醇单甲醚等醚醇类；二乙二醇单乙醚乙酸酯；1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷、1,2-二氯-1,1,2,2-四氟乙烷、二甲亚砜、1,1-二氯-1,2,2,3,3-五氟丙烷(HCFC225)、ZEORORA H、HFE7100、HFE7200、HFE7300等含氟溶剂等。或者可以列举它们2种以上的混合溶剂等。
作为含氟油，没有特别限定，例如可以列举以下的通式(3)所示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6···(3)
式中，Rf5表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基(优选C1-16的全氟烷基)，Rf6表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16的烷基(优选C1-16全氟烷基)、氟原子或氢原子，Rf5和Rf6更优选分别独立地为C1-3全氟烷基。
a’、b’、c’和d’分别表示构成聚合物的主骨架的4种全氟(聚)醚的重复单元数，彼此独立地为0以上300以下的整数，并且a’、b’、c’和d’之和至少为1，优选为1～300，更优选为20～300。标注下标a’、b’、c’或d’并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。这些重复单元中，-(OC4F8)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-和(OCF2CF(C2F5))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可以为-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-和(OCF2CF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)-可以为-(OCF2CF2)-和(OCF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2)-。
作为上述通式(3)所示的全氟(聚)醚化合物的例子，可以列举以下的通式(3a)和(3b)中的任一式所示的化合物(可以为1种或2种以上的混合物)。
Rf5-(OCF2CF2CF2)b”-Rf6···(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2CF2)b”-(OCF2CF2)c”-(OCF2)d”-Rf6···(3b)
这些式中，Rf5和Rf6如上所述；在式(3a)中，b”为1以上100以下的整数；在式(3b)中，a”和b”分别独立地为0以上30以下的整数，c”和d”分别独立地为1以上300以下的整数。标注下标a”、b”、c”、d”并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
另外，从其他观点考虑，含氟油也可以为通式Rf3-F(式中，Rf3为C5-16全氟烷基。)所示的化合物。另外，还可以为氯三氟乙烯低聚物。
上述含氟油可以具有500～10000的平均分子量。含氟油的分子量可以利用凝胶渗透色谱(GPC)进行测定。
相对于本发明的组合物，可以含有例如0～50质量％、优选0～30质量％、更优选0～5质量％的含氟油。在一个方式中，本发明的组合物实质上不含含氟油。实质上不含含氟油是指完全不含含氟油，或者可以含有极微量的含氟油。
含氟油有助于提高由本发明的组合物形成的层的表面光滑性。
作为上述硅油，例如可以使用硅氧烷键为2,000以下的直链状或环状的硅油。直链状的硅油可以为所谓的普通硅油(straight silicon oil)和改性硅油。作为普通硅油，可以列举二甲基硅油、甲基苯基硅油、甲基含氢硅油。作为改性硅油，可以列举利用烷基、芳烷基、聚醚、高级脂肪酸酯、氟烷基、氨基、环氧基、羧基、醇等将普通硅油改性而得到的硅油。环状的硅油例如可以列举环状二甲基硅氧烷油等。
在本发明的组合物(例如表面处理剂)中，相对于上述本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物的合计100质量份(2种以上时为它们的合计，下同)，可以以例如0～300质量份、优选50～200质量份含有这样的硅油。
硅油有助于提高表面处理层的表面润滑性。
作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
催化剂促进本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物的水解和脱水缩合，促进由本发明的组合物(例如表面处理剂)形成的层的形成。
作为其他的成分，除了上述以外，例如还可以列举四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷等。
本发明的组合物可以用作进行基材的表面处理的表面处理剂。
可以将本发明的表面处理剂含浸在将多孔物质例如多孔的陶瓷材料、金属纤维例如钢丝棉固定为棉絮状而成的物质中，制成粒料。该粒料例如可以用于真空蒸镀。
以下，对本发明的物品进行说明。
本发明的物品包含基材和在该基材表面由本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物或含有含氟代聚醚基硅烷化合物的表面处理剂(以下，将它们作为代表而简称为“本发明的表面处理剂”)形成的层(例如表面处理层)。
本发明中能够使用的基材例如可以由玻璃、树脂(天然或合成树脂，例如可以是一般的塑料材料，可以是板状、膜、其他的形态)、金属、陶瓷、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、木材、陶瓷器、石材等、建筑材料等任意合适的材料构成。
例如所要制造的物品为光学部件时，构成基材的表面的材料可以为光学部件用材料，例如玻璃或透明塑料等。另外，所要制造的物品为光学部件时，也可以在基材的表面(最外层)形成某种层(或膜)，例如硬涂层和防反射层等。防反射层可以使用单层防反射层和多层防反射层中的任一种。作为防反射层中能够使用的无机物的例子，可以列举SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。这些无机物可以单独使用，或者将它们的2种以上组合(例如形成混合物)使用。形成多层防反射层时，优选在其最外层使用SiO2和/或SiO。所要制造的物品为触摸面板用的光学玻璃部件时，可以在基材(玻璃)的表面的一部分具有透明电极，例如使用氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌等的薄膜。另外，关于基材，根据其具体规格等，还可以具有绝缘层、粘合层、保护层、装饰框层(I-CON)、雾化膜层、硬涂膜层、偏光膜、相位差膜和液晶显示模块等。
基材的形状没有特别限定。另外，要形成表面处理层的基材的表面区域可以是基材表面的至少一部分，也可以根据所要制造的物品的用途和具体规格等适当决定。
作为这样的基材，可以是至少其表面部分由本来具有羟基的材料形成的基材。作为这样的材料，可以列举玻璃，还可以列举在表面形成自然氧化膜或热氧化膜的金属(特别是贱金属)、陶瓷、半导体等。或者，如树脂等那样，在即使具有羟基但不充分的情况下，或者在本来就不具有羟基的情况下，通过对基材实施某种前处理，能够向基材的表面导入或增加羟基。作为这样的前处理的例子，可以列举等离子体处理(例如电晕放电)、离子束照射。为了能够向基材表面导入或增加羟基并对基材表面进行净化(除去异物等)，也可以适当利用等离子体处理。另外，作为这样的前处理的其他的例子，可以列举如下的方法：利用LB法(Langmuir-Blodgett法)和化学吸附法等，在基材表面预先以单分子膜的形态形成具有碳-碳不饱和键基团的表面吸附剂，之后，在含有氧气和氮气等的气氛下使不饱和键裂解。
或者，作为这样的基材，还可以是至少其表面部分由具有1个以上的其他的反应性基团、例如具有Si-H基的有机硅化合物或含有烷氧基硅烷的材料形成的基材。
接着，在这样的基材的表面形成上述的本发明的表面处理剂的层，根据需要对该层进行后处理，由此由本发明的表面处理剂形成层。
本发明的表面处理剂的层形成可以通过以覆盖基材的表面的方式对该表面施用上述的组合物而实施。覆盖方法没有特别限定。例如，可以使用湿润覆盖法和干燥覆盖法。
作为湿润覆盖法的例子，可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂布和类似的方法。
作为干燥覆盖法的例子，可以列举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD和类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以列举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束和类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以列举等离子体-CVD、光学CVD、热CVD和类似的方法。
另外，也可以是利用常压等离子体法的覆盖。
使用湿润覆盖法时，本发明的表面处理剂可以用溶剂稀释后用于基材表面。从本发明的组合物的稳定性和溶剂的挥发性的观点考虑，优选使用以下的溶剂：碳原子数5～12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟-1,3-二甲基环己烷)；多氟芳香族烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟脂肪族烃(例如C6F13CH2CH3(例如旭硝子株式会社制造的ASAHIKLIN(注册商标)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(例如日本瑞翁株式会社制造的ZEORORA(注册商标)H)；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)(例如住友3M株式会社制造的Novec(商标)7000)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如住友3M株式会社制造的Novec(商标)7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如住友3M株式会社制造的Novec(商标)7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如住友3M株式会社制造的Novec(商标)7300)等烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状)或者CF3CH2OCF2CHF2(例如旭硝子株式会社制造的ASAHIKLIN(注册商标)AE-3000))等。这些溶剂可以单独使用，或者以2种以上的混合物的形式使用。其中，优选氢氟醚，特别优选全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)和/或全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)。
使用干燥覆盖法时，本发明的表面处理剂可以直接供于干燥覆盖法，或者也可以在用上述的溶剂稀释后供于干燥覆盖法。
表面处理剂的层形成优选以本发明的表面处理剂与用于水解和脱水缩合的催化剂共存于层中的方式实施。简而言之，利用湿润覆盖法时，可以在将本发明的表面处理剂用溶剂稀释后，在即将用于基材表面之前，向本发明的表面处理剂的稀释液中添加催化剂。利用干燥覆盖法时，可以对添加催化剂后的本发明的表面处理剂直接进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理，或者将添加催化剂后的本发明的表面处理剂含浸在铁或铜等金属多孔体中，得到颗粒状物质，使用所得到的颗粒状物质进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理。
催化剂可以使用任意适当的酸或碱。作为酸催化剂，例如可以使用乙酸、甲酸、三氟乙酸等。另外，作为碱催化剂，例如可以使用氨、有机胺类等。
如上所述，在基材的表面形成来自本发明的表面处理剂的层，能够制造本发明的物品。由此得到的上述层兼具高的表面光滑性和高的摩擦耐久性。另外，上述层除了高的摩擦耐久性以外，虽然也根据所使用的表面处理剂的组成而不同，但还能够具有拨水性、拨油性、防污性(例如防止附着指纹等污渍)、防水性(防止水向电子部件等的浸入)、防水性、表面光滑性(或润滑性，例如指纹等污渍的擦拭性、优异的手指触感)等，能够合适地用作功能性薄膜。
即，本发明还涉及最外层具有上述固化物的光学材料。
作为光学材料，除了下述所例示那样的显示屏等所涉及的光学材料以外，还可以优选列举多种多样的光学材料，例如：阴极射线管(CRT；例如电脑监视器)、液晶显示屏、等离子体显示屏、有机EL显示屏、无机薄膜EL点阵显示屏、背面投影型显示屏、荧光显示管(VFD)、场发射显示屏(FED；Field Emission Display)等显示屏或这些显示屏的保护板、或者对这些的表面实施防反射膜处理而得到的材料。
具有利用本发明得到的层的物品没有特别限定，可以为光学部件。光学部件的例子可以列举如下：眼镜等的镜片；PDP、LCD等的显示屏的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩板；手机、便携式信息终端等设备的触摸面板片材；蓝光(Blu-ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD-R、MO等光盘的盘面；光纤；钟表的显示面等。
另外，具有利用本发明得到的层的物品也可以为汽车内外装饰材料。外装材料的例子可以列举如下：窗、灯罩、外置摄像头盖。内装材料的例子可以列举如下：仪表板盖、导航系统触摸面板、装饰内装材料。
另外，具有利用本发明得到的层的物品还可以为医疗设备或医疗材料。
上述层的厚度没有特别限定。为光学部件时，从光学性能、表面光滑性、摩擦耐久性和防污性的方面考虑，上述层的厚度优选为1～50nm、1～30nm、优选1～15nm的范围。
以上，对实施方式进行了说明，但能够理解的是不脱离本发明请求保护的范围的要旨和范围，能够对方式和详细内容进行各种变更。
实施例
以下，通过实施例进行更具体地说明，但本发明并不限定于这些实施例。另外，在本实施例中，以下所示的化学式全部表示平均组成，构成全氟聚醚的重复单元((OCF2CF2)、(OCF2)等)的存在顺序是任意的。
(合成例1)
将CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≈18、n≈18)4.0g分散在1,3-双(三氟甲基)苯3.0g、二乙二醇二甲醚2.0g的混合溶剂中。向该溶液中添加氢氧化钠0.4g，以80℃搅拌2小时。一边剧烈搅拌，一边向该混合物中滴加溶解在二乙二醇二甲醚2.0g中的溴乙酸0.5g后，以80℃搅拌3小时。利用19F-NMR使CF3(OCF2CF2)m-(OCF2)nCH2OH的羟基β位-CF2-的化学位移移动至低磁场，并且利用1H-NMR使溴乙酸的羰基α位的亚甲基质子移动至高磁场，由此确认反应的终点。将反应液冷却至室温时，分离成液相和固相。除去液相后，向固相中添加10g的AK-225，一边搅拌一边添加10g的10wt％硫酸水溶液。搅拌20分钟后，静置并分离下相，将分离得到的下相水洗2次，用硫酸镁干燥、浓缩。将所得到的浓缩物溶解在全氟己烷中。将该溶液用丙酮清洗3次，由此得到含聚醚基化合物(A)。
含聚醚基化合物(A)：
CF3(OCF2CF2)m(OCF2)nCH2O-CH2CO2H(m≈18、n≈18)
(合成例2)
将合成例1中所得到的含聚醚基化合物(A)3.0g溶解在1，3-双(三氟甲基)苯5.0g中，进行冰冷却。向该溶液中滴加亚硫酰氯0.3g后，添加N，N-二甲基甲酰胺0.01mg，室温下搅拌一昼夜。从该反应液中蒸馏除去亚硫酰氯后，添加二烯丙胺0.18g和三乙胺0.2g，加热至50℃，搅拌3小时。利用19F-NMR使CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2O-的醚基β位-CF2-的化学位移移动至低磁场，并且利用1H-NMR使二烯丙胺的氨基α位的亚甲基质子移动至低磁场，由此确认反应的终点。向反应液中添加1N-盐酸，对分液得到的下相进行水洗，用硫酸镁干燥、浓缩。将所得到的浓缩物溶解在全氟己烷中，用丙酮清洗3次，由此得到含聚醚基化合物(B)。
含聚醚基化合物(B)：
Figure BDA0003281548930000311
(合成例3)
将合成例2中所得到的含聚醚基化合物(B)3.0g溶解在1，3-双(三氟甲基)苯6g中，添加三乙酰氧基甲基硅烷0.02g、含有1，3-二乙烯基-1，1，3，3-四甲基二硅氧烷的Pt配位化合物2％的二甲苯溶液0.04ml后，加入三氯硅烷0.8g，以10℃搅拌30分钟。接着，将所得到的反应液加热至60℃，搅拌4小时。之后，减压下蒸馏除去挥发成分后，添加甲醇0.1g和原甲酸三甲酯2.0g的混合溶液后，加热至60℃，搅拌3小时。之后，进行精制，由此得到末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含聚醚基化合物(C)2.9g。
含聚醚基化合物(C)：
Figure BDA0003281548930000312
(合成例4)
将CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≈18、n≈18)4.0g分散在1,3-双(三氟甲基)苯3.0g和二乙二醇二甲基醚2.0g的混合溶剂中。添加氢氧化钠0.4g，以80℃搅拌2小时。一边剧烈搅拌，一边向该混合物中滴加溶解在二乙二醇二甲基醚2.0g中的N,N’-二烯丙基-2-氯乙酰胺(ClCH2CON(CH2CH＝CH2)2)0.5g后，以80℃搅拌3小时。利用19F-NMR使CF3(OCF2CF2)m-(OCF2)nCH2OH的羟基β位-CF2-的化学位移移动至低磁场，并且利用1H-NMR使上述氯乙酸的羰基α位的亚甲基质子移动至高磁场，由此确认反应的终点。将反应液冷却至室温，一边搅拌一边添加10g的1N-盐酸。搅拌5分钟后，静置并分离下相，进行2次水洗，用硫酸镁干燥、浓缩。将所得到的浓缩物溶解在全氟己烷中，用丙酮清洗3次，由此得到含聚醚基化合物(D)。
含聚醚基化合物(D)：
Figure BDA0003281548930000321
使用所得到的含聚醚基化合物(D)3.0g，进行与合成例3相同的操作，得到含聚醚基化合物(E)3.1g。
含聚醚基化合物(E)：
Figure BDA0003281548930000322
(合成例5)
除了使用CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≈33、n≈32)6.0g以外，进行与合成例4相同的操作，得到含聚醚基化合物(F)5.8g。
含聚醚基化合物(F)：
Figure BDA0003281548930000323
(合成例6)
除了使用CF3-(OCF2CF2)m-(OCF2)n-CH2OH(m≈17、n≈29)6.0g以外，进行与合成例4相同的操作，得到含聚醚基化合物(G)6.1g。
含聚醚基化合物(G)：
Figure BDA0003281548930000331
(实施例1)
将上述合成例4中所得到的含聚醚基化合物(E)溶解在氢氟醚(3M公司制造、NovecHFE-7200)中，使浓度成为0.1mass％，调制表面处理剂(1)。
(实施例2)
将上述合成例5中所得到的含聚醚基化合物(F)溶解在氢氟醚(3M公司制造、NovecHFE-7200)中，使浓度成为0.1mass％，调制表面处理剂(2)。
(实施例3)
将上述合成例6中所得到的含聚醚基化合物(G)溶解在氢氟醚(3M公司制造、NovecHFE-7200)中，使浓度成为0.1mass％，调制表面处理剂(3)。
(比较例1、2)
除了使用下述对照化合物(1)或(2)来代替含聚醚基化合物(F)以外，与实施例2同样进行，分别调制比较表面处理剂(1)和(2)。
对照化合物(1)
Figure BDA0003281548930000332
对照化合物(2)
CF3CF2CF2CF2CF2CF2CH2CH2Si(OCH2CH3)3
(静态接触角)
使用全自动接触角仪DropMaster700(协和界面科学株式会社制造)，按照以下的方法测定静态接触角。
＜静态接触角的测定方法＞
利用微型注射器向水平放置的基板滴加水2μL，利用视频显微镜拍摄滴加1秒后的静止图像，由此求得静态接触角。
(固化膜的形成)
分别使用表面处理剂(1)～(3)和比较表面处理剂(1)～(2)，如下所述地形成固化膜(表面处理层)。
利用旋涂，将表面处理剂或比较表面处理剂涂布在化学强化玻璃(Corning公司制造、“Gorilla”玻璃、厚度0.7mm)上。
旋涂的条件为：以300转/分钟进行3秒，以2000转/分钟进行30秒。
将涂布后的玻璃在大气下、在恒温槽内以150℃加热30分钟，形成固化膜。
[固化膜的特性评价]
如下所述地对固化膜的特性进行评价。
＜静态接触角＞
(初期评价)
首先，作为初期评价，在固化膜形成后，在与其表面没有任何接触的状态下测定水的静态接触角。
(乙醇擦拭后的评价)
接着，使用充分渗入乙醇后的KimWipe(商品名。十条金佰利公司制造)，往复擦拭上述固化膜5次后，将其干燥。对干燥后的固化膜的水的静态接触角进行测定。
＜指纹附着性和擦拭性＞
(指纹附着性)
将手指按压在利用表面处理剂或比较表面处理剂形成的固化膜上，利用目测判定指纹的易附着性。关于评价，基于以下的基准进行判断。
A：指纹不易附着，或者即使附着，指纹也不醒目。
B：指纹附着少，但能够充分确认其指纹。
C：与未处理的玻璃基板同等程度地明显附着了指纹。
(指纹擦拭性)
在上述的指纹附着性试验后，利用KimWipe(商品名。十条金佰利公司制造制造)往复擦拭所附着的指纹5次，利用目测判定所附着的指纹的易擦拭性。关于评价，基于以下的基准进行判断。
A：能够完全擦掉指纹。
B：残留有指纹的擦拭痕迹。
C：指纹的擦拭痕迹扩大，难以除去。
将上述一系列的评价结果汇总于以下的表1。
[表1]
Figure BDA0003281548930000351
利用表面处理剂(1)～(3)形成的固化膜的接触角即使在使用乙醇擦拭的情况下也没有降低。另一方面，利用比较表面处理剂(1)～(2)形成的固化膜的接触角因使用乙醇擦拭而降低。考虑这是由于在由比较表面处理剂(1)或(2)形成的固化膜中，耐化学性(对溶剂的耐久性)差。
[固化膜的摩擦耐久性评价]
如下所述地对所得到的固化膜的摩擦耐久性进行评价。
＜耐橡皮摩擦耐久性试验＞
使用摩擦试验机(新东科学株式会社制造)，在下述条件下，每摩擦2500次测定耐水接触角，继续试验至10000次或小于100度。试验环境条件为25℃、湿度40％RH。
橡皮：Raber Eraser(Minoan公司制造)
接地面积：
Figure BDA0003281548930000352
移动距离(单程)：30mm
移动速度：3,600mm/分钟
负荷：
Figure BDA0003281548930000353
将上述的评价结果汇总于以下的表2。表中“－”是指无法测定。
[表2]
Figure BDA0003281548930000361
产业上的可利用性
本发明的含氟代聚醚基的化合物能够适用于在各种各样的基材、特别是要求摩擦耐久性的光学部件的表面形成表面处理层。

Claims (14)

1.一种含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：
由下述式(1)或(2)表示，
Figure FDA0003281548920000011
式中：
RF1为Rf1-RF-Oq-；
RF2为-Rf2 p-RF-Oq-；
Rf1为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基；
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基；
RF在每次出现时分别独立地为式：-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d-(OC2F4)e-(OCF2)f-所示的基团；
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，并且a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的；
RFa在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子；
p为0或1；
q独立地为0或1；
RX1在每次出现时分别独立地为C1-6的亚烷基；
RX2在每次出现时分别独立地为可以含有1个或1个以上的氮原子、氧原子、硫原子或硅原子的C1-6的烷基或环状烷基、或者可以被全氟烷基取代的C1-6的亚烷基；
RSi在每次出现时分别独立地由下述式(S1)表示：
-X1-SiRa1 p1Rb1 q1Rc1 r1 (S1)；
X1在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1在每次出现时分别独立地为-Z1’-SiRa1’ p1’Rb1’ q1’Rc1’ r1’；
Z1’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1’在每次出现时分别独立地为-Z1”-SiRa1” p1”Rb1” q1”Rc1” r1”；
Z1”在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Ra1”在每次出现时分别独立地为-Z1”’-SiRb1”’ q1”’Rc1”’ r1”’；
Z1”’在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团；
Rb1”’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1”’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
q1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1”’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1”在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1”在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1’在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1’在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1’在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的基团；
Rc1在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团；
p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
其中，在每个RSi所示的基团中存在至少1个Rb1、Rb1’、Rb1”或Rb1”’。
2.如权利要求1所述的含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：
p1为0，并且q1为2或3。
3.如权利要求1或2所述的含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：
RFa为氟原子。
4.如权利要求1～3中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：X1在每次出现时分别独立地为2价的有机基团。
5.如权利要求1～4中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：
X1在每次出现时分别独立地为-(Z21)z11-(X2)z12-(Z22)z13-，
式中，Z21和Z22为2价的有机基团；
X2为氧原子；
z11为0或1；
z12为0或1；
z13为0或1；
其中，z11和z13中的至少一个为1。
6.如权利要求1～5中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物，其特征在于：X1在每次出现时分别独立地为亚烷基。
7.一种表面处理剂，其特征在于：
含有权利要求1～6中任一项所述的含氟代聚醚基的化合物。
8.如权利要求7所述的表面处理剂，其特征在于：
还含有选自含氟油、硅油和催化剂中的1种或1种以上的其他成分。
9.如权利要求7或8所述的表面处理剂，其特征在于：
还含有溶剂。
10.如权利要求7～9中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
其用作防污性涂敷剂或防水性涂敷剂。
11.如权利要求7～10中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：
其用于真空蒸镀。
12.一种粒料，其特征在于：
其含有权利要求7～10中任一项所述的表面处理剂。
13.一种包含基材和在该基材的表面由权利要求1～6中任一项所述的化合物或权利要求7～11中任一项所述的表面处理剂形成的层的物品。
14.如权利要求13所述的物品，其特征在于：
其为光学部件。
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