JP6073355B2 - 眼鏡レンズ、及び眼鏡レンズの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、光学部品、光学部品の製造方法、及びゴースト光の定量方法に関する。
本願は、２０１２年１１月５日に出願された特願２０１２−２４３９５６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
近年、眼鏡レンズでは、軽量で耐衝撃性に優れ、かつ染色しやすいとの利点からプラスチックレンズが多用されている。眼鏡レンズに使用されるプラスチックレンズには、表面反射を防止する目的で、その両面に反射防止膜が通常施されている。眼鏡レンズ用反射防止膜は、一般的に４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有する。
眼鏡レンズ等の光学部品において、例えば特許文献１〜３に開示されているようなプラスチックの基材と、その基材上に配置される反射防止膜とを備えた光学部品が知られている。
特開平１１−３０７０３号公報 特開２００６−２５１７６０号公報 特開２００７−１２７６８１号公報
しかし、最近の研究より、必ずしも可視領域全域にわたって低い反射特性を有することが視認性及び目の健康に対して望ましいことではないことがわかってきた。例えば、可視光線の青色領域（３８０〜５００ｎｍ）をカットすることにより、眩しさが低減され視認性、コントラストが向上する。
また、目の健康に対して、可視光線の青色領域（３８０〜５００ｎｍ）はエネルギーが強いため、網膜などに好ましくない影響を与える原因になると言われている。
可視光線をカットする手段としては、サングラスなどの染色レンズが知られている。しかし、染色レンズでは全可視領域をカットするため、光量低下により視認性が悪くなることがある。また、眼鏡レンズ表面の光学多層膜で反射させることで可視光線をカットする方法がある。
しかし、この方法では多層膜の反射率が高く、レンズ内で強い多重反射を起こし、鮮明なゴースト光が視界に入ってしまう可能性がある。
本発明の態様は、防眩効果を有し、疲労感を軽減させ、眼病予防にも効果的で、かつ、比較的高い反射率を有しながら視認性が良好な光学部品及び光学部品の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る眼鏡レンズは、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた眼鏡レンズであって、前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下であり、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下であり、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有さず、刺激値Ｙによって評価されるゴースト光強度が２．０×１０−２以下であり、前記刺激値Ｙは、前記１面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ １ （λ）［％]と、前記２面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ ２ （λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａ ｎ （λ）を求め、
Figure 0006073355
（式中、ｎは１以上の整数を表す。）
前記Ｒ １ （λ）と、前記Ｒ ２ （λ）と、前記Ａ ｎ （λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔ ｇｎ （λ）［％]を求め、
Figure 0006073355
（式中、ｎは１以上の整数を表す。）
ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｙ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
Figure 0006073355
前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｙ（λ）と、前記Ｔ ｇｎ （λ）とから、以下の式（４）によって求められることを特徴とする。
Figure 0006073355
本発明の一態様に係る眼鏡レンズの製造方法は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた眼鏡レンズの製造方法であって、前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程と、を備え、前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層の屈折率より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を前記高屈折率層上に形成する処理と、を有し、前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないようにし、刺激値Ｙによって評価されるゴースト光強度が２．０×１０−２以下であり、前記刺激値Ｙは、前記１面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ １ （λ）［％]と、前記２面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ ２ （λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａ ｎ （λ）を求め、
Figure 0006073355
（式中、ｎは１以上の整数を表す。）
前記Ｒ １ （λ）と、前記Ｒ ２ （λ）と、前記Ａ ｎ （λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔ ｇｎ （λ）［％]を求め、
Figure 0006073355
 （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｙ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
Figure 0006073355
 前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｙ（λ）と、前記Ｔ ｇｎ （λ）とから、以下の式（４）によって求められることを特徴とする。
Figure 0006073355
本発明の態様に係る光学部品によれば、高い反射率を有する多層膜を配設した場合においても、良好な視認性を維持したまま充分な防眩効果が得ることができる。
また、本発明の態様に係る光学部品の製造方法によれば、レンズ内の多重反射を軽減し、見え易く、疲労、眼病予防にも効果的な光学特性を有した光学部品を提供することが可能となる。
第１実施形態に係る光学部品の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る光学部品の分光特性図である。 第１実施形態に係る蒸着装置の一例を示す模式図である。 第１実施形態に係る成膜装置の一例を示す模式図である。 実施例１のレンズの１面における分光特性図である。 図５Ａの分光特性の数値データである。 実施例１のレンズの２面における分光特性図である。 図６Ａの分光特性の数値データである。 実施例２のレンズの１面における分光特性図である。 図７Ａの分光特性の数値データである。 実施例２のレンズの２面における分光特性図である。 図８Ａの分光特性の数値データである。 実施例３のレンズの１面における分光特性図である。 図９Ａの分光特性の数値データである。 実施例３のレンズの２面における分光特性図である。 図１０Ａの分光特性の数値データである。 比較例１のレンズの両面における分光特性図である。 図１１Ａの分光特性の数値データである。 比較例２のレンズの両面における分光特性図である。 図１２Ａの分光特性の数値データである。
以下、本発明を実施形態によって詳しく説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
［光学部品］
図１は、本発明の実施形態に係る光学部品を模式的に示す側断面図である。図１において符号１は眼鏡レンズ用の光学部品である。
光学部品１は、プラスチック基材２と、プラスチック基材２の１面に配設された無機多層膜３とを備えている。プラスチック基材２の１面と無機多層膜３との間には、本実施形態では機能性薄膜４が配設されている。機能性薄膜４は、本実施形態ではプライマー層５とハードコート層６とからなっている。
プラスチック基材２は、例えば透明なプラスチックであるアクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエ−テルサルホン樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）、ポリ塩化ビニル樹脂、ハロゲン含有共重合体、及びイオウ含有共重合体等によって形成される。
また、本実施形態では、プラスチック基材２の屈折率（ｎｄ）としては、例えば１．５０、１．６０、１．６７、及び１．７４のうちから選択されたものが用いられる。なお、プラスチック基材２の屈折率を１．６以上にする場合、プラスチック基材２としては、アリルカーボネート系樹脂、アクリレート系樹脂、メタクリレート系樹脂、及びチオウレタン系樹脂等を使用することができる。
また、プラスチック基材２は透光性を有していれば透明でなくてもよく、着色されていてもよい。着色されたプラスチック基材２の透過率は、５〜８５％とすることができる。
機能性薄膜４は、上述のようにプラスチック基材２と無機多層膜３との間に配置され、プラスチック基材２に接して配設されたプライマー層５と、このプライマー層５に接し、かつ無機多層膜３に接して配設されたハードコート層６とからなっている。
プライマー層５は、プラスチック基材２とハードコート層６との密着性を良好にするためのもので、密着層として機能するようになっている。また、光学部品１に対する衝撃を吸収するためのものでもあり、衝撃吸収層としても機能するようになっている。
このプライマー層５は、ポリウレタン系樹脂を主成分とするもので、本実施形態では、ポリウレタン系樹脂に例えば無機材料の微粒子を含有させたものである。なお、プライマー層５は、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、及び有機珪素系樹脂の少なくとも一種を含んでいてもよい。プライマー層５の厚み（実際の厚み）は、０．５μｍ以上１．０μｍ以下程度とすることができる。
プライマー層５は、プライマー層５の形成材料液にプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上に所定の厚さで形成することができる。プライマー層５の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、上記のプライマー層５となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
ハードコート層６は、プラスチック基材２を保護し、プラスチック基材２の損傷を抑制する機能を有するもので、耐擦傷性膜として機能するようになっている。
ハードコート層６は、例えばオルガノシロキサン系ハードコート層からなっている。オルガノシロキサン系ハードコート層は、オルガノシロキサン系樹脂に無機酸化物の微粒子を分散させたものである。無機酸化物としては、例えばルチル型の酸化チタンや、ケイ素、錫、ジルコニウム、及びアンチモンの酸化物が用いられる。また、ハードコート層６として、例えば特公平４−５５６１５号公報に開示されているような、コロイド状シリカ含有の有機ケイ素系樹脂であってもよい。ハードコート層６の厚み（実際の厚み）は、２μｍ以上４μｍ以下程度とすることができる。
ハードコート層６は、ハードコート層６の形成材料液に、プライマー層５を形成したプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上のプライマー層５上に所定の厚さで形成することができる。ハードコート層６の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、上記のハードコート層６となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
プライマー層５及びハードコート層６を含む機能性薄膜４については、その屈折率と、プラスチック基材２の屈折率とが実質的に同じであれば、機能性薄膜４とプラスチック基材２との界面での反射で生じる干渉縞の発生及び透過率の低下を抑制することができる。したがって、プラスチック基材２の屈折率に応じて、機能性薄膜４の屈折率が調整される。機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）の屈折率の調整は、機能性薄膜４の主成分となる樹脂の種類（物性）を選択すること、あるいは、その主成分となる樹脂に添加する微粒子の種類（物性）を選択すること等によって行うことができる。
なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
無機多層膜３は、プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７を有し、高屈折率層７上に、この高屈折率層７の屈折率より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８を有した複層に構成されている。無機多層膜３は、入射した光の反射を防止する反射防止膜としての機能を有する。
また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
高屈折率層７は、本実施形態では、プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９と、第１層９上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０と、第２層１０上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１と、からなる。
第１層９は、ハードコート層６に接して設けられ、屈折率が２．０の二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、第１層９を構成する高屈折率無機材料としては、ＺｒＯ２以外にも、例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）や二酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）を用いることもできる。さらには、ジルコニウム、チタン、タンタルの複数種からなる合金の酸化物によって形成することもできる。また、これら以外にも、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、Ｎｂ２Ｏ５（二酸化ニオブ）を用いることもできる。
ここで、このように第１層９を高屈折率無機材料（ＺｒＯ２）で形成することにより、第１層９とハードコート層６との間の密着性を得ることができる。すなわち、高屈折率無機材料からなる層（ＺｒＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）のほうが、低屈折率無機材料からなる層（ＳｉＯ２）とハードコート層６との密着性（密着力）よりも大きいためである。また、機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）が省略された場合においても、高屈折率層（ＺｒＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）のほうが、低屈折率層（ＳｉＯ２）とプラスチック基材２との密着性（密着力）よりも大きいため、密着性についてより有利になる。
第２層１０は、第１層９に接して設けられたもので、屈折率が１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。なお、第２層１０を構成する低屈折率無機材料としては、ＳｉＯ２以外にも、例えば屈折率が１．３６のＭｇＦ２を用いることができる。
第３層１１は、第２層１０に接して設けられたもので、第１層９と同様に二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなっている。なお、この第３層１１についても、第１層９と同様に、ＺｒＯ２以外の高屈折率無機材料によって形成することもできる。
また、高屈折率層７については、上記のように第１層９、第２層１０、第３層１１の３層構造で形成することなく、上述した反射率についての条件を満たせば、２層、または４層以上で構成することもできる。
低屈折率層８は、第３層１１に接して設けられたもので、第２層１０と同様に二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなっている。
また、本実施形態では、無機多層膜３の上、すなわちプラスチック基材２から最も遠い無機多層膜３の最外層（低屈折率層８）の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜１２が設けられている。
撥水撥油膜１２は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を主成分とするもので、撥液性（撥水性、撥油性）を有するものである。すなわち、撥水撥油膜１２は、光学部品の表面エネルギーを低下させ、水やけ防止、汚れ防止の機能を発揮するとともに、光学部品表面のすべり性能を向上させ、その結果として、耐擦傷性を向上させることができる。
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（１）：
Figure 0006073355
（式（１）中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｗは１〜１０の整数を表す。）及び下記一般式（２）〜（５）：
Figure 0006073355
Figure 0006073355
Figure 0006073355
Figure 0006073355
（式（２）〜（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２〜２０の整数を表し、ｋは０〜２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０〜１０の整数を表す。）及び下記一般式（６）：
Figure 0006073355
 （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０〜２の整数を表し、ｊは１〜５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）の中から選択される。
ここで、撥水撥油膜１２に優れた耐久性を付与するために、一般式（１）〜（５）の中から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、一般式（６）から選択されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いることができる。
一般式（１）〜（５）で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、ダイキン工業株式会社製オプツール−ＤＳＸ、オプツール−ＡＥＳ４などを用いることができる。また、一般式（６）で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、信越化学工業株式会社製ＫＹ−１３０、ＫＹ−１６４などを用いることができる。
この光学部品１は、更に、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’を備えている。プラスチック基材２の２面と無機多層膜３’との間には、１面と同様、機能性薄膜４が配設されている。
無機多層膜３’は、プラスチック基材２に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層７’を有し、高屈折率層７’上に、高屈折率層７’の屈折率より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層８’を有した複層に構成されている。
高屈折率層７’は、本実施形態では、プラスチック基材２側に設けられた高屈折率無機材料よりなる第１層９’と、第１層９’上に設けられた低屈折率無機材料よりなる第２層１０’と、第２層１０’上に設けられた高屈折率無機材料よりなる第３層１１’と、からなる。
本実施形態における第１層９’、第２層１０’、第３層１１’に用いられる無機材料としては、第一の実施形態における第１層９、第２層１０、第３層１１に用いられる無機材料と同様のものが挙げられる。
高屈折率層７’については、第一の実施形態における高屈折率層７と同様に、三層構造で形成することなく、二層、または四層以上で構成することもできる。
なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、１面と同様、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。また、機能性薄膜４の構成膜として、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などからなる誘電体膜や金属膜を、プライマー層５及びハードコート層６に加えて配設してもよい。
また、本実施形態において、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を配設してもよい。なお、誘電体膜又は金属膜の厚さは、１０ｎｍ以下であってもよい。
また、本実施形態においては、多層膜として無機多層膜を用いているが、本発明の効果を損なわない限り、有機多層膜を用いてもよい。
本実施形態において、プラスチック基材両面のうち、どちらが表面であっても後面であってもよい。具体的には、例えば、１面を表面とし、２面を後面とすることができる。
図２は、光波長と、その光波長における無機多層膜３（１面に配設された多層膜）又は無機多層膜３’（２面に配設された多層膜）の反射率との関係を示す分光特性曲線である。
本実施形態において、波長範囲と、その波長範囲における無機多層膜３の反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ１は、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲に、一つの（反射率）極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）と、その極大値に対応する波長（第１波長）から長波長側２００ｎｍ以内に一つの（反射率）極小値（図２中、点Ｘ２における反射率）を有する。点Ｘ１について、例えば青色光の好ましくない影響を有効に低減することを目的とした場合、その波長領域は、４００〜５００ｎｍが好ましく、４１０〜４６５ｎｍがより好ましく、４３０〜４５０ｎｍが特に好ましい。
更に、極大値に対応する波長（図２中、点Ｘ１における波長）から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３〜点Ｘ４における波長範囲）における平均反射率が５０％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３〜点Ｘ４における波長範囲）において、無機多層膜３’（２面に配設された多層膜）の平均反射率が、無機多層膜３（１面に配設された多層膜）の平均反射率の４０％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
更に、波長範囲と、その波長範囲における無機多層膜３’の反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ２は、分光特性曲線Ｏ１の極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３〜点Ｘ４における波長範囲）において、極大値を有しない。
図２では、プラスチック基材２の１面に配設された無機多層膜３に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ１が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における第１波長（図２中、点Ｘ１における波長）で一つの極大値（図２中、点Ｘ１における反射率）を有するとともに、第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長（図２中、点Ｘ２における波長）に一つの極小値（図２中、点Ｘ２における反射率）を有し、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲（図２中、点Ｘ３〜点Ｘ４における波長範囲）における平均反射率が５０％以下であり、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’の平均反射率が、１面に配設された無機多層膜３の平均反射率の４０％以下であり、プラスチック基材２の２面に配設された無機多層膜３’に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線Ｏ２が、第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、極大値を有しない。
本実施形態において、無機多層膜３及び無機多層膜３’が上記特性を有することにより、光学部品内に生じるゴースト光の発生を抑制できる。
また、本実施形態において、無機多層膜３及び無機多層膜３’は、以下の条件を満たす性質を有することができる。
先ず、１面に配設された多層膜（無機多層膜３）の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、前記２面に配設された多層膜（無機多層膜３’）の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求める。
Figure 0006073355
次いで、Ｒ１（λ）と、Ｒ２（λ）と、Ａｎ（λ）と、プラスチック基材２による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求める。
Figure 0006073355
次いで、Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求める。
Figure 0006073355
Figure 0006073355
Figure 0006073355
本実施形態において、例えば、無機多層膜３及び無機多層膜３’は、２．０ｘ１０−２以下のＹ値を有するように構成される。無機多層膜３及び無機多層膜３’ が、このようなＹ値を有することにより、光学部品内に生じるゴースト光の発生をより効果的に抑制できる。
［光学部品の製造方法］
次に、光学部品１の実施形態に基づき、本発明の光学部品の製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態の製造方法は、プラスチック基材２に対して従来と同様の方法で機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）を形成する工程と、プラスチック基材２を加熱する工程と、加熱によってプラスチック基材２を所定温度（例えば７０℃）に調整した後、このプラスチック基材２の１面と２面からなる両面に、無機多層膜３及び無機多層膜３’をそれぞれ形成する工程と、無機多層膜３及び無機多層膜３’上に撥水撥油膜１２を形成する工程と、を備える。
無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成する工程は、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とを交互に複数積層して多層構造の高屈折率層７，７’を形成する処理と、この高屈折率層７，７’上に、低屈折率無機材料からなる低屈折率層８，８’を形成する処理と、を有している。これら各層の形成には、例えば、真空蒸着法を用いることができる。
図３は、無機多層膜３の各層を形成するための蒸着装置（成膜装置）３０の一例を示す図である。図３に示すように蒸着装置３０は、第１成膜室３１と第２成膜室３２と第３成膜室３３とを備えて構成されている。これら第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３は、それぞれの内部が実質的に真空に減圧され、その状態に保持されるようになっている。また、蒸着装置３０は、図示しない温調手段により、第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３のそれぞれの内部温度が調整可能になっている。
蒸着装置３０は、第１成膜室３１、第２成膜室３２、第３成膜室３３のそれぞれの内部空間に、保持部材３４を備えている。保持部材３４は、その上面（保持面）が曲面状になっており、かつ、回転可能に構成されており、この上面に複数のプラスチック基材２を保持するようになっている。
蒸着装置３０の蒸着源３５は、第２成膜室３２の内側の空間に配置されている。蒸着源３５は、第１蒸着源３５Ａ及び第２蒸着源３５Ｂからなる。また、第２成膜室３２には、蒸着源３５にビームを照射可能な光源装置３６が配置されている。光源装置３６は、蒸着源３５に対して電子を照射して蒸着源３５の構成粒子を叩き出すことができる。
光源装置３６から射出された電子が蒸着源３５に照射されることによって、蒸着源３５から、無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成するための材料（ガス）が放出される。
例えば、光源装置３６が第１蒸着源３５Ａにビームを照射することにより、ＺｒＯ２の蒸気を第１蒸着源３５Ａから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３及び無機多層膜３’の高屈折率層７，７’における第１層９，９’と第３層１１，１１’を形成することができる。同様に、第２蒸着源３５Ｂにビームを照射することにより、ＳｉＯ２の蒸気を第２蒸着源３５Ｂから放出させ、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に供給し蒸着させる。これにより、無機多層膜３及び無機多層膜３’の高屈折率層７，７’における第２層１０，１０’と、低屈折率層８，８’を形成することができる。
すなわち、第１蒸着源３５Ａに対するビームの照射と第２蒸着源３５Ｂに対するビームの照射とを交互に行うことにより、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２上に、高屈折率無機材料からなる層と低屈折率無機材料からなる層とを交互に形成し積層することができる。
ただし、本発明の実施形態に係る光学部品は、波長範囲と、その波長範囲におけるプラスチック基材２の１面に配設された多層膜（無機多層膜３）の反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲に、一つの極大値と、その極大値に対応する波長（第１波長）から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲におけるプラスチック基材２の１面に配設された多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、極大値に対応する波長（第１波長）から前後２５ｎｍの波長範囲において、プラスチック基材２の２面に配設された多層膜（無機多層膜３’）の平均反射率が、１面に配設された多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、波長範囲と、その波長範囲におけるプラスチック基材２の２面に配設された多層膜の反射率との関係を示す分光特性曲線が、極大値に対応する波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、極大値を有しないように設計する。
なお、第１蒸着源３５Ａとして酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）からなる蒸着源を用い、第２成膜室３２の内部空間に酸素を導入しながら第１蒸着源３５Ａにビームを照射し、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなる高屈折率無機材料層を形成するようにしてもよい。
また、本実施形態の光学部品の製造方法において、無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成する工程は、無機多層膜３及び無機多層膜３’を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含んでいてもよい。本実施形態の光学部品の製造方法が、このような工程を含むことにより、無機多層膜を構成する高屈折率無機材料と低屈折率無機材料との間に、誘電体膜が配設される。
図４は、イオンビームアシストを施すための成膜装置３０’の一例を示す図である。成膜装置３０’は、図３で示された蒸着装置３０の第２成膜室にイオンガン３７が備え付けられた構成となっている。図４において、図３に示した蒸着装置３０と同じ構成要素には、同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態においては、無機多層膜３及び無機多層膜３’を構成する高屈折率層７，７’と低屈折率層８，８’との間に、ＩＴＯ等の誘電体膜を配設する際に、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う。
なお、第２成膜室３２内で無機多層膜３を構成する層のうち少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行えばよく、イオンビームアシストを施す対象は、誘電体膜に限定されない。
本実施形態において、この成膜装置３０’の第２成膜室は、プラスチック基材２上に高屈折率層７，７’が成膜された基材を保持する保持部材３４と、蒸着源３５’と、蒸着源３５’と離間して配置されたイオンガン３７と、光源装置３６を主体として構成されている。
また、成膜装置３０’はその内部が実質的に真空に減圧され、プラスチック基材２の周囲を真空雰囲気に保持できるように構成されている。更に成膜装置３０’には、ガスボンベ等の雰囲気ガス供給源が接続されていて、真空容器の内部を真空等の低圧状態で、かつ、酸素ガス、アルゴンガス、またはその他の不活性ガス雰囲気、あるいは、酸素を含む不活性ガス雰囲気にすることができるように構成されている。
蒸着源３５’は、例えばＩＴＯを含む。光源装置３６が蒸着源３５’にビームを照射することによって、ガス化されたＩＴＯがその蒸着源３５’から放出され、保持部材３４に保持されているプラスチック基材２に供給される。これにより、高屈折率層７，７’の上にＩＴＯからなる誘電体膜を形成することができる。
イオンガン３７は、第２成膜室３２の内部に、イオン化させるガスを導入するガス導入部と、正面に引き出し電極を備えて構成されている。イオンガン３７は、ガスの原子または分子の一部をイオン化し、そのイオン化した粒子を引き出し電極で発生させた電界で制御してイオンビームとして照射する装置である。
光源装置３６は、イオンガン３７と同等の構成をなし、蒸着源３５’に対して電子を照射して蒸着源３５’の構成粒子を叩き出すことができる。なお、成膜装置３０’においては、蒸着源３５’の構成粒子を叩き出すことができることが重要であるので、蒸着源３５’に高周波コイル等で電圧を印加して蒸着源３５’の構成粒子を叩き出し可能なように構成し、光源装置３６を省略しても良い。
次に上記構成の成膜装置３０’を用いてプラスチック基材２上の高屈折率層７，７’上にＩＴＯの誘電体膜を形成する場合について説明する。ＩＴＯの誘電体膜を形成するには、ＩＴＯの蒸着源３５’を用いるとともに、イオンガン３７から照射されるイオンを保持部材３４の上面に照射できるようにする。次にプラスチック基材２を収納している成膜室３２の内部を真空引きして減圧雰囲気とする。そして、イオンガン３７と光源装置３６を作動させる。
光源装置３６から蒸着源３５’に電子を照射すると、蒸着源３５’の構成粒子が叩き出されて高屈折率層７，７’上に飛来する。そして、高屈折率層７，７’上に、蒸着源３５’から叩き出した構成粒子を堆積させると同時に、イオンガン３７からアルゴンイオンをイオンビームとして照射する。
本実施形態において、イオンビームアシストは、不活性ガス、酸素ガス、及び不活性ガスと酸素ガスの混合ガスから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる。不活性ガスとして、例えば、アルゴンを用いることができる。
このようにして無機多層膜３及び無機多層膜３’を形成したら、これらの上に撥水撥油膜１２を形成する。
撥水撥油膜１２の形成方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法などの湿式法、あるいは真空蒸着法などの乾式法がある。
湿式法の中では、ディッピング法が一般的であり、よく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を有機溶剤に溶解した液中に、無機多層膜３，３’まで形成した光学部品を浸漬し、一定条件で引き上げ、乾燥させて成膜する方法である。
有機溶剤としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ−４−メトキシブタン、パーフルオロ−４−エトキシブタン、メタキシレンヘキサフルオライドなどが使用される。
有機溶剤による希釈濃度は、０．０１〜０．５重量％とすることができ、０．０３〜０．１重量％が好ましい。濃度が低すぎると十分な膜厚の撥水撥油層１２が得られないことがあり、また、濃度が高すぎると塗布むらが発生しやすく、材料コストも高くなってしまうことがある。
乾式法の中では、真空蒸着法がよく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を真空槽内で加熱して蒸発させ、撥水撥油膜１２を形成する方法である。
このようにして形成された光学部品１にあっては、無機多層膜３及び無機多層膜３’が上記特性を有するように設計したので、光学部品内に生じるゴースト光の発生を抑制できる
また、光学部品の製造方法にあっては、このようなバランスのとれた優れた光学部品を確実に提供することができる。
［ゴースト光の定量方法］
次に、上記光学部品１の説明に基づき、本実施形態のゴースト光の定量方法について説明する。
本実施形態のゴースト光の定量方法は、プラスチック基材２と、プラスチック基材２の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法であって、１面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ１（λ）［％]と、２面に配設された多層膜の分光反射率Ｒ２（λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａｎ（λ）を求め、
Figure 0006073355
Ｒ１（λ）と、Ｒ２（λ）と、Ａｎ（λ）と、プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔｇｎ（λ）［％]を求め、
Figure 0006073355
Ｔｇｎ（λ）を用いて、ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
Figure 0006073355
Ｋと、Ｓ（λ）と、等色関数ｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）と、Ｔｇｎ（λ）と、以下の式（４）とから、三刺激値ＸＹＺのＹ値を求め、
Figure 0006073355
得られたＹ値の値をゴースト光の強度とする。このように、本発明者は、光学部品に生じるゴースト光の強度を定量化する方法を見出した。本発明の実施形態に係る方法を用い、光学部品に配設される多層膜の基準として、例えば、Ｙ値が、２．０ｘ１０−２以下であるもの、と設定することにより、ゴースト光の低減に優れた光学部品を製造することができる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
≪実験１≫
ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート、及び屈折率１．６７のプライマーコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
＜実施例１＞
１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０−３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１３０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１９０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０５０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０８０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０４０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２２０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
実施例１のレンズの１面における分光特性を図５Ａに示す。図５Ａの分光特性の数値データを図５Ｂに示す。実施例１のレンズの２面における分光特性を図６Ａに示す。図６Ａの分光特性の数値データを図６Ｂに示す。
＜実施例２＞
１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０−３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１２０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５００λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１１０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１９０λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．２８０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１１０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０９０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２２０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０.３３０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
実施例２のレンズの１面における分光特性を図７Ａに示す。図７Ａの分光特性の数値データを図７Ｂに示す。実施例２のレンズの２面における分光特性を図８Ａに示す。図８Ａの分光特性の数値データを図８Ｂに示す。
＜実施例３＞
１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０−３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．０７０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０７０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１４０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１２０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０.２９０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
実施例３のレンズの１面における分光特性を図９Ａに示す。図９Ａの分光特性の数値データを図９Ｂに示す。実施例３の２面における分光特性を図１０Ａに示す。図１０Ａの分光特性の数値データを図１０Ｂに示す。
＜比較例１＞
１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０−３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１００λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１００λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０６０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３４０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
比較例１のレンズの両面における分光特性を図１１Ａに示す。図１１Ａの分光特性の数値データを図１１Ｂに示す。
＜比較例２＞
１面：レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０−３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でＡｒイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第２層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３１０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
２面：１面と同様の装置を用いて、同様の加工雰囲気下で前処理後、プラスチック基材側から順次、第１層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１５０λ、第２層ＳｉＯ２（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０５０λ、第３層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１７０λ、第４層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．５５０λ、第５層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．１６０λ、第６層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．０９０λ、第７層ＺｒＯ２(屈折率２．００)を光学的膜厚０．２００λ、第８層ＳｉＯ２(屈折率１．４７)を光学的膜厚０．３１０λで積層した。尚、λは設計の中心波長で５００ｎｍとした。
比較例２のレンズの両面における分光特性を図１２Ａに示す。図１２Ａの分光特性の数値データを図１２Ｂに示す。
実施例１〜３及び比較例１〜２における各成膜層の詳細を表１〜表２に示す。
Figure 0006073355
Figure 0006073355
また、実施例１〜３及び比較例１〜２において、１面の分光反射率をＲ１（λ）［％]、２面の分光反射率をＲ２（λ）［％]とし、基材による光吸収率をＦ（λ）［％]とすると、ゴースト光の分光分布は、
Figure 0006073355
で与えられる。ここで、Ａｎ（λ）は以下の式で与えられる。尚、式（１）及び式（２）において、ｎ＝１で計算している。
Figure 0006073355
これを用いてＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度をＳ（λ）、等色関数をｘ（λ）ｙ（λ）ｚ（λ）として三刺激値ＸＹＺのＹ値を計算すると、Ｙは、
Figure 0006073355
で与えられる。ここで、Ｋは以下の式で与えられる。
Figure 0006073355
このＹ値をゴースト光の強度として定量的な比較評価に用いた。更に、分光特性曲線において、１面の反射率が極値を示す波長（第１波長）から前後２５ｎｍの波長範囲における１面の平均反射率と、この波長範囲における２面の平均反射率の和を計算した。結果を表３に示す。
Figure 0006073355
実施例１は、上記の波長範囲における平均反射率が、比較例１と同程度を維持しているにもかかわらず、ゴースト光を４０％低減していた。同様に、実施例３と比較例１を比較すると、実施例３は６３％ゴースト光を低減していることが確認された。更に実施例２と比較例２を比較すると、実施例２は７２％ゴースト光を低減していることが確認された。
さらに、これらの光学部品を用いて装用評価を行った。
（装用評価）
実施例に沿って作成した光学部品を装備した眼鏡を装用し、蛍光灯照明によるゴースト光の評価を行った。評価時の条件は以下の通りである。
モニタ人数 ：１０名
照明：蛍光灯（昼光色）
以上の条件で実施例１〜３と比較例１〜２を比較して、ゴースト光の強度が低いものから順位付けを行った。結果を表４に示す。
Figure 0006073355
このような装用比較評価を行った結果、官能試験においても比較例１と２に比べて実施例１〜３はレンズ内での多重反射によるゴースト光の強度が改善されていることが確認された。
以上の結果から、本発明の態様によれば防眩効果を有し、疲労感を軽減させ、眼病予防にも効果的で、かつ、比較的高い反射でありながら視認性が良好な光学部品及び光学部品の製造方法、並びに、光学部品内で、光の多重反射により生じるゴースト光の定量方法を提供できることが明らかである。
１…光学部品、２…プラスチック基材、３，３’…無機多層膜、４…機能性薄膜、５…プライマー層（機能性薄膜）、６…ハードコート層（機能性薄膜）、７，７’…高屈折率層、８，８’…低屈折率層、９，９’…第１層、１０，１０’…第２層、１１，１１’…第３層、１２…撥水撥油膜、３０…蒸着装置、３０’…成膜装置、３１…第１成膜室、３２…第２成膜室、３３…第３成膜室、３４…保持部材、３５，３５’…蒸着源、３５Ａ…第１蒸着源、３５Ｂ…第２蒸着源、３６…光源装置、３７…イオンガン。

Claims (13)

  1. プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた眼鏡レンズであって、
    前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、
    前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下であり、
    前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下であり、
    前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有さず、
    刺激値Ｙによって評価されるゴースト光強度が２．０×１０−２以下であり、
    前記刺激値Ｙは、前記１面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ １ （λ）［％]と、前記２面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ ２ （λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａ ｎ （λ）を求め、
    Figure 0006073355
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    前記Ｒ １ （λ）と、前記Ｒ ２ （λ）と、前記Ａ ｎ （λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔ ｇｎ （λ）［％]を求め、
    Figure 0006073355
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｙ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
    Figure 0006073355
     前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｙ（λ）と、前記Ｔ ｇｎ （λ）とから、以下の式（４）によって求められることを特徴とする眼鏡レンズ。
    Figure 0006073355
  2. 前記プラスチック基材は、着色され、５〜８５％の透過率を有する請求項１に記載の眼鏡レンズ。
  3. 前記プラスチック基材から最も遠い、前記多層膜の少なくとも一方の最外層の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜を更に備える請求項１又は２に記載の眼鏡レンズ。
  4. 前記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）：
    Figure 0006073355
     （式（１）中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｗは１〜１０の整数を表す。）及び下記一般式（２）〜（５）：
    Figure 0006073355
    Figure 0006073355
    Figure 0006073355
    Figure 0006073355
     （式（２）〜（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２〜２０の整数を表し、ｋは０〜２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０〜１０の整数を表す。）及び下記一般式（６）：
    Figure 0006073355
     （式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０〜２の整数を表し、ｊは１〜５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）の中から選択される１種類以上のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物である請求項３に記載の眼鏡レンズ。
  5. 前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１〜４のいずれか一項に記載の眼鏡レンズ。
  6. 前記プラスチック基材と前記多層膜との間に、機能性薄膜を備えた請求項１〜５のいずれか一項に記載の眼鏡レンズ。
  7. 前記多層膜を構成する高屈折率材料と低屈折率材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を備えた請求項１〜６のいずれか一項に記載の眼鏡レンズ。
  8. 前記高屈折率材料は、二酸化ジルコニウムを含み、前記低屈折率材料は、二酸化珪素を含む請求項７に記載の眼鏡レンズ。
  9. プラスチック基材と、前記プラスチック基材の１面と２面からなる両面に配設された多層膜とを備えた眼鏡レンズの製造方法であって、
    前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程と、を備え、
    前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層の屈折率より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を前記高屈折率層上に形成する処理と、を有し、
    前記プラスチック基材の前記１面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における第１波長で一つの極大値を有するとともに、前記第１波長から長波長側２００ｎｍ以内の第２波長に一つの極小値を有し、前記第１波長から前後２５ｎｍの波長範囲において、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率が５０％以下となるようにし、
    前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜の平均反射率が、前記１面に配設された前記多層膜の平均反射率の４０％以下となるようにし、
    前記プラスチック基材の前記２面に配設された前記多層膜に関して波長と反射率との関係を示す分光特性曲線が、前記第１波長から前後２５ｎｍの前記波長範囲において、極大値を有しないようにし、
    刺激値Ｙによって評価されるゴースト光強度が２．０×１０−２以下であり、
    前記刺激値Ｙは、前記１面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ １ （λ）［％]と、前記２面に配設された前記多層膜の分光反射率Ｒ ２ （λ）［％]と、以下の式（１）とから、Ａ ｎ （λ）を求め、
    Figure 0006073355
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    前記Ｒ １ （λ）と、前記Ｒ ２ （λ）と、前記Ａ ｎ （λ）と、前記プラスチック基材による光吸収率Ｆ（λ）［％]と、以下の式（２）とから、光学部品内での多重反射によるゴースト光の分光特性Ｔ ｇｎ （λ）［％]を求め、
    Figure 0006073355
     （式中、ｎは１以上の整数を表す。）
    ＪＩＳ８７０１に従い、標準光源（Ｄ６５）の相対分光強度Ｓ（λ）と、等色関数ｙ（λ）と、以下の式（３）とから、Ｋを求め、
    Figure 0006073355
     前記Ｋと、前記Ｓ（λ）と、前記等色関数ｙ（λ）と、前記Ｔ ｇｎ （λ）とから、以下の式（４）によって求められることを特徴とする請求項１〜８のいずれかの一項に記載の眼鏡レンズの製造方法。
    Figure 0006073355
  10. 前記多層膜を、真空蒸着法を用いて形成する工程を含む請求項９に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  11. 前記多層膜を形成する工程は、前記多層膜を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含む請求項９又は１０に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  12. 前記イオンビームアシストは、不活性ガス、酸素ガス、及び不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスのうちから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる請求項１１に記載の眼鏡レンズの製造方法。
  13. 前記不活性ガスはアルゴンである請求項１２に記載の眼鏡レンズの製造方法。
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