JP6137807B2 - 反射防止膜を有する光学素子、光学系および光学機器 - Google Patents
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Description
(比較例1)
比較例1の光学素子も、図1の構成を有する。基板11には、d線の屈折率が1.806の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第1層12としてd線の屈折率1.46のSiO2を、真空蒸着法によって物理膜厚38.2nmだけ成膜した。次に、第2層13としてd線の屈折率2.11のTa2O5を、真空蒸着法によって物理膜厚14nmだけ成膜した。次に、第3層102として中空SiO2含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が117.3nmになるように塗工した。d線の屈折率は1.30であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は100℃〜250℃のクリーンオーブンで1時間焼成した。比較例1の光学素子のd線の屈折率と膜厚を表9に示す。
(比較例2)
比較例2の光学素子も、図1の構成を有する。基板11には、d線の屈折率が2.003の透明ガラス基板を用いた。ガラス基板を洗浄した後で、第1層12としてd線の屈折率1.48のSiO2を、真空蒸着法によって物理膜厚29.0nmだけ成膜した。次に、第2層13としてd線の屈折率1.90の蒸着材料を、真空蒸着法によって物理膜厚23.7nmだけ成膜した。次に、第3層102として中空SiO2含有溶液にバインダー溶液を混合調整した液をスピンコーターによって物理膜厚が114.8nmになるように塗工した。d線の屈折率は1.30であった。スピンコーターの回転数条件出しは事前に行った。塗工後は100℃〜250℃のクリーンオーブンで1時間焼成した。比較例2の光学素子のd線の屈折率と膜厚を表10に示す。
Claims (10)
- 透明な基板と、該基板の上に積層された反射防止膜と、を有する光学素子であって、
前記反射防止膜は、前記基板の側から順に第1層、第2層、および第3層から成り、
前記基板について、d線に対する屈折率は1.80〜2.05であり、
前記第1層について、d線に対する屈折率は1.43〜1.47、物理膜厚は29.0〜40.0nm、であり、
前記第2層について、d線に対する屈折率は2.00〜2.20、物理膜厚は12.0〜41.0nm、であり、
前記第3層について、d線に対する屈折率は1.23〜1.26、物理膜厚は110.0〜130.0nm、であることを特徴とする光学素子。 - 前記第1層は、シリカを主成分とする無機系酸化膜であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記第2層は、無機系酸化膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学素子。
- 前記第3層は、シリカ微粒子を含むことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記シリカ微粒子は、中空微粒子であることを特徴とする請求項4に記載の光学素子。
- 前記中空微粒子の平均粒径は、20nm以上70nm以下であることを特徴とする請求項5に記載の光学素子。
- 前記シリカ微粒子は、メソポーラスシリカであることを特徴とする請求項4に記載の光学素子。
- 前記第2層は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ランタン、アルミナ、シリカまたはこれらの少なくとも2つの混合物であることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の光学素子。
- 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の光学素子を有することを特徴とする光学系。
- 請求項9に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
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