JPH116902A - 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大量生産に適し、屈折率が非常に低く、強度
が優れた低屈折率層を有する反射防止膜を得る。 【解決手段】 反射防止膜の低屈折率層に、平均粒径が
０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を５０乃至９５重量
％およびポリマーを５乃至５０重量％含ませ、無機微粒
子を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間
にミクロボイドを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、低屈折率層を有す
る反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止膜が設け
られている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられてい
る。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反
射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化
学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理
蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学
的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性
が低く大量生産に適していない。

【０００３】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により
反射防止膜を形成する方法が提案されている。特公昭６
０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無機物と
を有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗
布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化
ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって
形成される。特開昭５９−５０４０１号公報は、支持
体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防
止膜を開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の
間に中屈折率層を設けた反射防止膜も開示している。低
屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形
成されている。

【０００４】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂ ）を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜
を開示している。混合比を変化させることにより屈折率
を変化させ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載
されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜
と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシ
リケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂ により接着してい
る。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼
によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特開平２−
２４５７０２号公報の第１図に示されているように、二
酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒
子の間に間隙が生じている。特開平５−１３０２１号公
報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防
止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填するこ
とを開示している。特開平７−４８５２７号公報は、多
孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有す
る反射防止膜を開示している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、無機微粒
子の塗布により形成する低屈折率層について、研究を進
めた。本発明者の研究により、無機微粒子を少なくとも
２個以上積み重ねることにより微粒子間にミクロボイド
を形成すると、層の屈折率が低下することが判明した。
微粒子間にミクロボイドを形成することで、屈折率が非
常に低い低屈折率層が得られる。特開平２−２４５７０
２号公報に記載の反射防止膜では、積み重なった超微粒
子の間に間隙が生じている。ただし、同公報は、間隙を
第１図に示唆しているだけであって、間隙の光学的機能
については全く記載していない。また、空隙を有する低
屈折率層は、強度が弱いとの問題がある。低屈折率層
は、画像表示装置の表示面やレンズの外側表面に配置さ
れる。そのため、低屈折率層には一定の強度が要求され
ている。特開平２−２４５７０２号公報に記載の反射防
止膜は、実質的に無機化合物のみで構成されており、硬
いが非常に脆い膜になっている。特開平５−１３０２１
号公報に記載されているように、微粒子間の空隙をバイ
ンダーで充填すれば、強度の問題は解消できる。しか
し、本発明者の研究によれば、微粒子間の空隙をバイン
ダーで充填すると、層の屈折率を低下させる間隙の光学
的機能が失われる。

【０００６】本発明の目的は、大量生産に適した反射防
止膜を提供することである。また、本発明の目的は、屈
折率が非常に低い低屈折率層を有する反射防止膜を提供
することでもある。さらに、本発明の目的は、強度が優
れた低屈折率層を有する反射防止膜を提供することでも
ある。さらにまた、本発明の目的は、有効な手段で反射
が防止された画像表示装置を提供することでもある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（５）の反射防止膜および下記（６）の画像表
示装置により達成された。 （１）平均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を
５０乃至９５重量％およびポリマーを５乃至５０重量％
含み、該無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねるこ
とにより微粒子間にミクロボイドが形成されている低屈
折率層を有することを特徴とする反射防止膜。 （２）低屈折率層が、３乃至５０体積％の空隙率を有す
る（１）に記載の反射防止膜。 （３）低屈折率層が、１．２０乃至１．５５の屈折率を
有する（１）に記載の反射防止膜。 （４）無機微粒子の周囲に、ポリマーからなるシェルが
設けられている（１）に記載の反射防止膜。 （５）ミクロボイドが、無機微粒子およびポリマーによ
り閉じている（１）に記載の反射防止膜。 （６）平均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子を
５０乃至９５重量％およびポリマーを５乃至５０重量％
含み、該無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねるこ
とにより微粒子間にミクロボイドが形成されている低屈
折率層を有する反射防止膜を、表示面に配置したことを
特徴とする画像表示装置。

【０００８】

【発明の効果】本発明の反射防止膜は、塗布により簡単
に製造することができ、大量生産に適している。そし
て、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることに
より微粒子間にミクロボイドが形成されているため、屈
折率が非常に低い低屈折率層が形成されている。さら
に、ポリマーにより無機微粒子が接着されているため、
低屈折率層の強度も優れている。ミクロボイドはポリマ
ーにより充填されていないため、ミクロボイドの屈折率
低下機能も損なわれていない。以上のような反射防止膜
を用いることで、画像表示装置の画像表示面における光
の反射を有効に防止することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射防止膜
の低屈折率層の断面模式図である。図１の反射防止膜の
上側が表面であり、下側に画像表示装置またはレンズが
ある。図１に示すように、低屈折率層（１）は多孔質層
である。低屈折率層（１）内では、平均粒径が０．５乃
至２００ｎｍの無機微粒子（１１）が少なくとも２個以
上（図１では３個）積み重なっている。そして、無機微
粒子（１１）の間に、ミクロボイド（１２）が形成され
ている。低屈折率層（１）は、さらにポリマー（１３）
を５乃至５０重量％の量で含む。ポリマー（１３）は、
無機微粒子（１１）を接着しているが、ミクロボイド
（１２）を充填していない。図１に示すように、ミクロ
ボイド（１２）は、ポリマー（１３）と無機微粒子（１
１）により閉じている（開口ではない）ことが好まし
い。

【００１０】図２は、反射防止膜の様々な層構成を示す
断面模式図である。図２の（ａ）に示す態様は、透明支
持体（３）、ハードコート層（２）、そして低屈折率層
（１）の順序の層構成を有する。なお、ガラスのような
硬い物質の表面（ＣＲＴの画像表面や眼鏡やカメラのレ
ンズ表面）に、反射防止膜を設ける場合は、透明支持体
（３）なしで、低屈折率層（１）やハードコート層
（２）を直接、画像表示面あるいはレンズ表面に形成し
てもよい。図２の（ｂ）に示す態様は、透明支持体
（３）、ハードコート層（２）、高屈折率層（４）、そ
して低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。（ｂ）
のように、高屈折率層（４）と低屈折率層（１）とを有
する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公報に
記載されているように、高屈折率層が下記式（Ｉ）、低
屈折率層が下記式（II）をそれぞれ満足することが好ま
しい。

【００１１】

【数１】

【００１２】式中、ｍは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ１は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ１は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１３】

【数２】

【００１４】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ２は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は低屈
折率層の層厚（ｎｍ）である。図２の（ｃ）に示す態様
は、透明支持体（３）、ハードコート層（２）、中屈折
率層（５）、高屈折率層（４）、そして低屈折率層
（１）の順序の層構成を有する。（ｃ）のように、中屈
折率層（５）、高屈折率層（４）と低屈折率層（１）と
を有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公
報に記載されているように、中屈折率層が下記式（II
I)、高屈折率層が下記式（IV）、低屈折率層が下記式
（Ｖ）をそれぞれ満足することが好ましい。

【００１５】

【数３】

【００１６】式中、ｈは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ３は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ３は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１７】

【数４】

【００１８】式中、ｊは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ４は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ４は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１９】

【数５】

【００２０】式中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ５は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ５は低屈
折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００２１】［無機微粒子］無機微粒子の平均粒径は、
０．５乃至２００ｍｍである。粒子径が増大すると前方
散乱が増加し、２００ｎｍを越えると散乱光に色付きが
生じる。平均粒径は、１乃至１００ｎｍであることが好
ましく、３乃至７０ｎｍであることがさらに好ましく、
５乃至４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。無機
微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが
好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化
物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸
化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ま
しく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最
も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉ
ｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａ
ｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂお
よびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさら
に好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いても
よい。特に好ましいい無機化合物は、アルカリ金属フッ
化物（例、ＮａＦ、ＫＦ）、アルカリ土類金属フッ化物
（例、ＣａＦ₂ 、ＭｇＦ₂ ）および二酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ₂ ）である。

【００２２】無機微粒子は、非晶質であることが好まし
い。無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−１１２
７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記載）また
は析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（1988）記載）
により、分散物として直接合成することができる。ま
た、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して
分散物を得ることもできる。市販の無機微粒子（例え
ば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。無機微粒子
は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状
態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、ア
ルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロピル
アルコール）およびケトン（例、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン）が好ましい。無機微粒子の量
は、低屈折率層全量の５０乃至９５重量％である。無機
微粒子の量は、５０乃至９０重量％であることが好まし
く、６０乃至９０重量％であることがさらに好ましく、
７０乃至９０重量％であることが最も好ましい。

【００２３】［ミクロボイド］低屈折率層では、無機微
粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子
間にミクロボイドが形成されている。低屈折率層の空隙
率は、３乃至５０体積％であることが好ましく、５乃至
３５体積％であることがさらに好ましい。なお、粒径が
等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填する
と、微粒子間に２６体積％の空隙率のボイドが形成され
る。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、微
粒子間に４８体積％の空隙率のボイドが形成される。実
際の低屈折率層では、微粒子の粒径にある程度の分布が
存在するため、空隙率は上記よりも低めの値となる。空
隙率（ミクロボイドの大きさ）を増加させると、低屈折
率層の屈折率が低下する。本発明では、無機微粒子を積
み重ねてミクロボイドを形成するため、無機微粒子の粒
径を調整することで、ミクロボイドの大きさも適度の
（光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない）
値に容易に調節できる。さらに、無機微粒子の粒径を均
一にすることで、ミクロボイドの大きさも均一である光
学的に均一な低屈折率層を得ることができる。これによ
り、低屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜
であるが、光学的あるいは巨視的には均一な膜にするこ
とができる。

【００２４】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する微粒子
とポリマーとの総屈折率和よりも低い値になる。層の屈
折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。
微粒子とポリマーの屈折率は１よりも大きな値であるの
に対して、空気の屈折率は１．００である。そのため、
ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に
低い低屈折率層を得ることができる。ミクロボイドは、
無機微粒子およびポリマーによって低屈折率層内で閉じ
ていることが好ましい。閉じている空隙は、低屈折率層
表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面での光
の散乱が少ないとの利点がある。

【００２５】［ポリマー］低屈折率層は、５乃至５０重
量％の量のポリマーを含む。ポリマーは、無機微粒子を
接着し、ミクロボイドを含む低屈折率層の構造を維持す
る機能を有する。ポリマーの使用量は、ミクロボイドを
充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように
調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１０乃
至３０重量％であることが好ましい。ポリマーで無機微
粒子を接着するためには、（１）無機微粒子の表面処理
剤にポリマーを結合させるか、（２）無機微粒子をコア
として、その周囲にポリマーシェルを形成するか、ある
いは（３）無機微粒子間のバインダーとして、ポリマー
を使用することが好ましい。

【００２６】（１）の表面処理剤に結合させるポリマー
は、（２）のシェルポリマーまたは（３）のバインダー
ポリマーであることが好ましい。（２）のポリマーは、
低屈折率層の塗布液の調製前に、無機微粒子の周囲に重
合反応により形成することが好ましい。（３）のポリマ
ーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折
率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成
することが好ましい。（１）〜（３）を二種類または三
種類組み合わせて、実施することが好ましく、（１）と
（３）の二種類の組み合わせ、または（１）〜（３）の
三種類の組み合わせで実施することが特に好ましい。 （１）表面処理、（２）シェルおよび（３）バインダー
について、順次説明する。

【００２７】（１）表面処理 無機微粒子には、表面処理を実施して、ポリマーとの親
和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ
放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、
カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類でき
る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学
的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カ
ップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合
物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング
剤）が好ましく用いられる。無機微粒子が二酸化ケイ素
からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理
が特に有効に実施できる。好ましいシランカップリング
剤を、下記式（VIａ）および（VIｂ）で示す。

【００２８】

【化１】

【００２９】式中、Ｒ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、それぞれ
独立に、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、炭素原
子数が６乃至１０のアリール基、炭素原子数が２乃至１
０のアルケニル基、炭素原子数が２乃至１０のアルキニ
ル基または炭素原子数が７乃至１０のアラルキル基であ
り、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、それぞれ独
立に、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原
子数が２乃至６のアシル基である。式（VIａ）および式
（VIｂ）において、Ｒ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ は、アルキル
基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基であ
ることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアル
ケニル基であることがさらに好ましく、アルキル基また
はアルケニル基であることが最も好ましい。アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基およびア
ラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例
には、グリシジル基、グリシジルオキシ基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、アシルオキシ基（例、アクリロイル
オキシ、メタクリロイルオキシ）、メルカプト、アミ
ノ、カルボキシル、シアノ、イソシアナトおよびアルケ
ニルスルホニル基（例、ビニルスルホニル）が含まれ
る。

【００３０】式（VIａ）および式（VIｂ）において、Ｒ
² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ は、アルキル基である
ことが好ましい。アルキル基は、置換基を有していても
よい。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラ
ンカップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二
重結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（VIａ）と式（VIｂ）のＲ¹ 、Ｒ⁵
またはＲ⁶ の置換基中に存在していることが好ましい。
特に好ましいシランカップッリング剤を、下記式(VII
ａ）および(VIIｂ）で示す。

【００３１】

【化２】

【００３２】式中、Ｒ¹¹およびＲ¹⁵は、それぞれ独立
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ¹⁶は、炭素原子数
が１乃至１０のアルキル基、炭素原子数が６乃至１０の
アリール基、炭素原子数が２乃至１０のアルケニル基、
炭素原子数が２乃至１０のアルキニル基または炭素原子
数が７乃至１０のアラルキル基であり、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ
¹⁴、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は、それぞれ独立に、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のア
シル基であり、Ｌ¹ およびＬ² は二価の連結基である。
式(VIIｂ）において、Ｒ¹⁶は、式（VIａ）および式（VI
ｂ）のＲ¹ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ と同様の定義を有する。式
(VIIａ）式(VIIｂ）において、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁷
およびＲ¹⁸は、式（VIａ）および式（VIｂ）のＲ² 、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ およびＲ⁸ と同様の定義を有する。式(V
IIａ）式(VIIｂ）において、Ｌ¹ およびＬ² は、アルキ
レン基であることが好ましく、炭素原子数が１乃至１０
のアルキレン基であることがさらに好ましく、炭素原子
数が１乃至６のアルキレン基であることが最も好まし
い。

【００３３】式（VIａ）で示されるシランカップリング
剤の例には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエト
キシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエト
キシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シ
アノエチルトリエトキシシランが含まれる。

【００３４】分子内に二重結合を有するビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランお
よびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシ
ランが好ましく、式(VIIａ）で示されるγ−アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタク
リロイルオキシプロピルトリメトキシシランが特に好ま
しい。

【００３５】式（VIｂ）で示されるシランカップリング
剤の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニル
ジエトキシシランが含まれる。

【００３６】分子内に二重結合を有するγ−アクリロイ
ルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニ
ルジエトキシシランが好ましく、式(VIIｂ）で示される
γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
メチルジエトキシシランが特に好ましい。

【００３７】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。式（VIａ）および式（VIｂ）で示されるシランカ
ップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用い
てもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ
酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オル
トケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケ
イ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケ
イ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその
加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面処理
は、無機微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室
温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物
を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進
するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、
次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、
有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン
酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの
塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加し
てもよい。

【００３８】（２）シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは３５乃至８０重量％のフッ素原子
を含むことが好ましく、４５乃至７５重量％のフッ素原
子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリ
マーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの
重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が含まれる。フッ素原子を含むポリマーは、下記式（II
I)で示すフッ素を含む繰り返し単位を有することが特に
好ましい。

【００３９】

【化３】

【００４０】式中、Ｒ³¹は、水素原子、フッ素原子また
はメチルであり、ｐは０または正の整数であり、ｎは正
の整数である。シェルを形成するポリマーは、フッ素原
子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し
単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を
含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレ
ン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例には、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソ
プレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エ
ステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル
（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
ト）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル）、
ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−tertブ
チルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが含ま
れる。

【００４１】後述する（３）のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合
は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。

【００４２】無機微粒子の周囲にポリマーシェルを形成
して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子
中に無機微粒子からなるコアが５乃至９０体積％含まれ
ていることが好ましく、１５乃至８０体積％含まれてい
ることがさらに好ましい。ポリマーシェルは、ラジカル
重合法により形成することが好ましい。ラジカル重合法
については、大津隆行・木下雅悦共著、高分子合成の実
験法、化学同人(1972)および大津隆行、講座重合反応論
１ラジカル重合（Ｉ）、化学同人(1971)に記載がある。
ラジカル重合法は、具体的には、乳化重合法または分散
重合により実施することが好ましい。乳化重合について
は、室井宗一、高分子ラテックスの化学、高分子刊行会
(1970)に記載がある。分散重合法については、Barrett,
Keih E.J.、Dispersion Polymerization in Organic M
edia、JOHN WILLEY & SONS(1975)に記載がある。

【００４３】乳化重合法に使用する重合開始剤の例に
は、無機過酸化物（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム）、アゾニトリル化合物（例、アゾビスシアノ吉
草酸ナトリウム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’
−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、
環状アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２
−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパ
ン塩酸塩）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビ
ス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメ
チル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド）が
含まれる。無機過酸化物が好ましく、過硫酸カリウムお
よび過硫酸アンモニウムが特に好ましい。

【００４４】分散重合法に使用する重合開始剤の例に
は、アゾ化合物（例、２，２’−アゾビスイソブチロニ
トリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチ
ルプロピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイ
ソブチレート）および有機過酸化物（例、ラウリルパー
オキシド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパー
オクトエート）が含まれる。分散重合法では、表面処理
された無機微粒子にポリマー分散剤を加え、モノマーと
重合開始剤を溶解し、生成するポリマーは不溶である重
合媒体中で重合反応を実施することが好ましい。重合媒
体の例には、水、アルコール（例、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシ
−１−プロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ペ
ンタノール、ネオペンタノール、シクロヘキサノール、
１−メトキシ−２−プロパノール）、メチルエチルケト
ン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル
が含まれる。水、メタノール、エタノールおよびイソプ
ロパノールが好ましい。二種類以上の重合媒体を併用し
てもよい。

【００４５】乳化重合法または分散重合法において、連
鎖移動剤を使用してもよい。連鎖移動剤の例には、ハロ
ゲン化炭化水素（例、四塩化炭素、四臭化炭素、二臭化
酢酸エチル、三臭化酢酸エチル、二臭化エチルベンゼ
ン、二臭化エタン、二塩化エタン）、炭化水素（例、ベ
ンゼン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン）、チ
オエーテル（例、ジアゾチオエーテル）、メルカプタン
（例、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカ
プタン、ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシル
メルカプタン、チオグリセロール），ジスルフィド
（例、ジイソプロピルザントゲンジスルフィド）、チオ
グリコール酸およびその誘導体（例、チオグリコール
酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、チオグリコ
ール酸ブチル、チオグリコール酸メトキシブチル、トリ
メチロールプロパントリス（チオグリコレート））が含
まれる。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよ
い。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子と
を併用してもよい。

【００４６】（３）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。

【００４７】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。

【００４８】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分
解した結果反応性を示すものであってもよい。前記
（２）のシェルポリマーと併用する場合、バインダーポ
リマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、シェルポリマーの
Ｔｇよりも低いことが好ましい。バインダーポリマーの
ＴｇとシェルポリマーのＴｇとの温度差は、５℃以上で
あることが好ましく、２０℃以上であることがさらに好
ましい。バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液に
モノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布
後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成
することが好ましい。重合開始剤については、前述した
シェルポリマーの合成に用いる重合開始剤と同様であ
る。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例、ポリ
ビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメ
タクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセ
ルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロー
ス、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。

【００４９】［低屈折率層］低屈折率層は、以上の微粒
子およびポリマーを含み、ミクロボイド構造を有する層
である。低屈折率層の屈折率は、１．２０乃至１．５５
であることが好ましく、１．３０乃至１．５５であるこ
とがさらに好ましい。低屈折率層の層厚は、５０乃至４
００ｎｍであることが好ましく、５０乃至２００ｎｍで
あることがさらに好ましい。

【００５０】［透明支持体］反射防止膜をＣＲＴ画像表
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。
プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエス
テル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート及びポリエチレンテレフタレートが好まし
い。透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが
好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透
明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好まし
く、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支
持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好まし
い。

【００５１】［高屈折率層および中屈折率層］図２の
（ｂ）に示すように、低屈折率層と透明支持体との間に
高屈折率層を設けてもよい。また、図２の（ｃ）に示す
ように、高屈折率層と透明支持体との間に中屈折率層を
設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至
２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０
であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、
低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値と
なるように調整する、中屈折率層の屈折率は、１．５５
乃至１．７０であることが好ましい。

【００５２】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。屈折
率の高い無機微粒子を上記ポリマー中に分散してもよ
い。屈折率の高い無機微粒子を用いる場合は、比較的屈
折率の低いポリマー、例えば、ビニル系ポリマー（アク
リル系ポリマーを含む）、ポリエステル系ポリマー（ア
ルキド系ポリマーを含む）、セルロース系ポリマーやウ
レタン系ポリマーでも、無機微粒子を安定に分散するた
めに用いることができる。

【００５３】有機置換されたケイ素化合物を、高屈折率
層または中屈折率層に添加してもよい。ケイ素化合物と
しては、低屈折率層の無機微粒子の表面処理に使用する
シランカップリング剤またはその加水分解物が好ましく
用いられる。無機微粒子としては、金属（例、アルミニ
ウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン）の酸化
物が好ましい。無機微粒子の粉末またはコロイド状分散
物を上記のポリマーまたは有機ケイ素化合物中と混合し
て、使用する。無機微粒子の平均粒径は、１０乃至１０
０ｎｍであることが好ましい。被膜形成能を有する有機
金属化合物から、高屈折率層または中屈折率層を形成し
てもよい。有機金属化合物は、適当な媒体に分散できる
か、あるいは液状であることが好ましい。

【００５４】有機金属化合物の例には、金属アルコレー
ト（例、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−
プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタ
ンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−sec-ブトキ
シド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシ
ド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエト
キシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテト
ラエトキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プロポキシ
ド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−se
c-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシ
ド）、キレート化合物（例、ジ−イソプロポキシチタニ
ウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウ
ムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチタニウム
ビスアセチルアセトネート、ビスアセチルアセトンジル
コニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセ
トアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノ
エチルアセトアセテート）、有機酸塩（例、炭酸ジルコ
ニールアンモニウム）およびジルコニウムを主成分とす
る活性無機ポリマーが含まれる。

【００５５】アルキルシリケート類、その加水分解物お
よび微粒子状シリカ、特にコロイド状に分散したシリカ
ゲルを高屈折率層または中屈折率層に添加してもよい。
高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であ
ることが好ましい。

【００５６】［その他の層］反射防止膜には、さらに、
ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護
層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐
傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明
支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。
ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポ
リマー、エポキシ系ポリマーやシリカ系化合物を用いて
形成することができる。顔料をハードコート層に添加し
てもよい。

【００５７】低屈折率層の上に、保護層を設けてもよ
い。保護層は、滑り層または汚れ防止層として機能す
る。滑り層に用いる滑り剤の例には、ポリオルガノシロ
キサン（例、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシ
ロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェ
ニルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサ
ン）、天然ワックス（例、カルナウバワックス、キャン
デリラワックス、ホホバ油、ライスワックス、木ろう、
蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モンタンワックス）、石油
ワックス（例、パラフィンワックス、マイクロクリスタ
リンワックス）、合成ワックス（例、ポリエチレンワッ
クス、フィッシャー・トロプシュワックス）、高級脂肪
脂肪酸アミド（例、ステアラミド、オレインアミド、
Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアラミド）、高級脂肪酸エ
ステル（例、ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチ
ル、グリセリンモノステアレート、ソルビタンモノオレ
エート）、高級脂肪酸金属塩（例、ステアリン酸亜鉛）
およびフッ素含有ポリマー（例、パーフルオロ主鎖型パ
ーフルオロポリエーテル、パーフルオロ側鎖型パーフル
オロポリエーテル、アルコール変性パーフルオロポリエ
ーテル、イソシアネート変性パーフルオロポリエーテ
ル）が含まれる。汚れ防止層には、含フッ素疎水性化合
物（例、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フ
ッ素オイル）を添加する。保護層の厚さは、反射防止機
能に影響しないようにするため、２０ｎｍ以下であるこ
とが好ましい。

【００５８】［反射防止膜］反射防止膜の各層は、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書）により、塗布により形成するこ
とができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時
塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同
２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５
２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。反射防止
膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していて
もよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸
を形成することにより得られる。本発明では、低屈折率
層に微粒子を使用するため、図１に示すように反射防止
膜の表面に凹凸が形成されている。微粒子により得られ
るアンチグレア機能では不充分な場合は、低屈折率層に
比較的大きな粒子（粒径：５０ｎｍ乃至２μｍ）を少量
（０．１乃至５０重量％）添加してもよい。

【００５９】反射防止膜のヘイズは、３乃至３０％であ
ることが好ましく、５乃至２０％であることがさらに好
ましく、７乃至２０％であることが最も好ましい。反射
防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディ
スプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のよう
な画像表示装置に適用する。反射防止膜が透明支持体を
有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示
面に接着する。

【００６０】

【実施例】

［合成例１］ （無機微粒子の表面処理）攪拌装置、温度計および還流
冷却管を装着した５００mlのガラス製三口フラスコに、
蒸留水３００ｍｌおよびスルホコハク酸ジオクチルナト
リウム塩（界面活性剤）の７０重量％水溶液０．５７ｇ
を入れて、混合物を攪拌した。反応液に、２１．１重量
％のフッ化マグネシウムコロイド液９０．０ｇ（粒子
径：３０．５ｎｍ）を攪拌下ゆっくり添加した。反応液
のｐＨを、２Ｎ硫酸を用い７．５に調整した。窒素気流
下で８０℃に昇温した後、３−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン１．０ｇを添加し、４時間攪
拌を続け、フッ化マグネシウム粒子を表面処理した。

【００６１】（ポリマーシェルの形成）表面処理したフ
ッ化マグネシウム粒子に、過硫酸カリウム０．１２８ｇ
を蒸留水８ｍｌに溶解した溶液（重合開始剤溶液）を添
加した。直ちにヘキサフルオロイソプロピルメタクリレ
ート（モノマー）４．５ｇを３時間にわたり滴下した。
モノマーの滴下終了時点で、重合開始剤溶液を再度添加
し、さらにそのまま８０℃で３時間加熱攪拌を続け、重
合反応を完了させた。これを室温まで冷却後、濾過して
固形分６．０重量％、平均粒径４０．２ｎｍのコアシェ
ル微粒子分散物４１５ｇ（収率：９８％）を得た。

【００６２】［合成例２］ （無機微粒子の表面処理）攪拌装置、温度計および還流
冷却管を装着した３００ｍｌの４口フラスコに、ドデシ
ル硫酸ナトリウム５ｇ、コロイダルシリカ（ＳＴ−Ｚ
Ｌ、日産化学（株）製、平均粒子径：７２ｎｍ、固形分
濃度：３０重量％）３００ｇおよびイオン交換水７４ｍ
ｌを入れた。混合物のｐＨを２Ｎ硫酸を用い７．５に調
整し、攪拌した。窒素気流下で６０℃に昇温した後、３
−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１
０ｇを添加し、４時間攪拌を続け、シリカ粒子を表面処
理した。

【００６３】（ポリマーシェルの形成）表面処理したシ
リカ粒子に、過硫酸アンモニウム０．５ｇおよび重亜硫
酸ナトリウム０．２ｇを添加した。さらに、ヘキサフル
オロイソプロピルメタクリレート５４ｇ、グリシジルメ
タクリレート４．８ｇとアクリル酸１．２ｇを混合した
液を３時間にわたって滴下した。滴下中の反応温度は６
０〜７０℃の範囲に保持し、滴下終了後も同温度範囲を
維持しながら２時間攪拌を続けた。この後、冷却し、分
画分子量１万の透析膜を用いて３日間透析し、濾過し
て、固形分２０．３重量％、平均粒径８１．３ｎｍのコ
アシェル微粒子分散物７５７ｇ（収率：９６％）を得
た。

【００６４】［合成例３〜７］合成例１および２に類似
の乳化重合法で、下記のポリマーを無機微粒子の周囲に
シェルとして形成し、第１表に示すコアシェル微粒子を
合成した。 合成例１：ポリヘキサフルオロイソプロピルメタクリレ
ート 合成例２：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（９０重量部）−グリシジルメタクリレート（８重量
部）−アクリル酸（２重量部）コポリマー 合成例３：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（９０重量部）−グリジシルメタクリレート（１０重量
部）コポリマー 合成例４：１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチルア
クリレート（９５重量部）−２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート（５重量部）コポリマー 合成例５：ヘキサフルオロイソプロピルα−フルオロア
クリレート（９０重量部）−２−ヒドロキシエチルアク
リレート（１０重量部）コポリマー 合成例６：トリフルオロエチルアクリレート（８０重量
部）−グリシジルアクリレート（２０重量部）コポリマ
ー 合成例７：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（９０重量部）−アリルメタクリレート（１０重量部）
コポリマー

【００６５】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── コアシェル コア コア粒径 コア/シェル比 固形分濃度 粒子径 フッ素含率 微粒子 化合物 （ｎｍ） （重量比） （重量％） （ｎｍ）（重量％） ──────────────────────────────────── 合成例１ ＭｇＦ₂ ３０．５ ８１／１９ ６．０ ４０．２ ５９．２ 合成例２ ＳｉＯ₂ ７２．０ ６０／４０ ２０．３ ８１．３ １８．６ 合成例３ ＭｇＦ₂ ３０．５ ７０／３０ ８．２ ５３．９ ５６．７ 合成例４ ＳｉＯ₂ ７２．０ ５０／５０ １２．６ ９２．０ ２９．８ 合成例５ ＣａＦ₂ ５５．４ ９０／１０ １１．３ ６１．４ ４８．８ 合成例６ ＣａＦ₂ ５５．４ ８２／１８ ６．２ ６７．９ ４５．２ 合成例７ ＭｇＦ₂ １２３．０ ７６／２４ ３．９ １３９．０ ５８．８ ────────────────────────────────────

【００６６】［実施例１］合成例１で調製した微粒子９
０重量部と、ポリメチルメタクリレートのラテックス１
０重量部を混合して、低屈折率層の塗布液を調製した。
塗布液をトリアセチルセルロースフイルム上に、スピン
コータを用いて塗布し、９０℃で９０分乾燥し、厚さ１
００ｎｍの低屈折率層を形成した。得られた反射防止膜
について、屈折率、空隙率、視感反射率（光波長４００
ｎｍ〜８００ｎｍの平均反射率値）および膜表面強度を
測定した。低屈折率層の空隙率は、層の屈折率を測定
し、用いた層構成成分の組成から得られる層の屈折率の
計算値と実測値の差から、空気の体積分率を計算した。
膜表面強度は、指先、ティッシュ、消しゴムでそれぞれ
こすり、目視観察し、指先で傷付くものをＤ、ティッシ
ュで傷付くものをＣ、消しゴムで傷付くものをＢ、どの
方法でも傷が認められないものをＡとした。結果は第２
表に示す。

【００６７】［実施例２〜１０および比較例１〜４］微
粒子とポリマーバインダーの組成を第２表に示すように
変更した以外は、実施例１と同様にして、反射防止膜を
作成した。反射防止膜について、実施例１と同様に測定
して評価した。結果を第２表に示す。

【００６８】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 反射 微粒子 バインダー 低屈折率 表面 強 層の 防止膜 種類 混合比 種類 混合比 層屈折率 反射率 度 空隙率 ──────────────────────────────────── 実施例１ 合成例１ ９０ ＢＰ３ １０ １．３３ ０．５ Ａ １８％ 実施例２ 合成例１ ８５ ＢＰ１ １５ １．３２ ０．３ Ａ １４％ 実施例３ 合成例３ １００ なし ０ １．３１ ０．３ Ａ ２１％ 実施例４ 合成例３ ９０ ＢＰ１ １０ １．３１ ０．３ Ａ １７％ 実施例５ 合成例３ ８０ ＢＰ３ ２０ １．３２ ０．５ Ａ １１％ 実施例６ 合成例２ ７５ ＢＰ２ ２５ １．３４ ０．６ Ａ ７％ 実施例７ 合成例４ ７５ ＢＰ２ ２５ １．３３ ０．４ Ａ ５％ 実施例８ 合成例５ ７５ ＢＰ２ ２５ １．３２ ０．２ Ａ １２％ 実施例９ 合成例６ ７５ ＢＰ２ ２５ １．３３ ０．４ Ａ ９％ 実施例10 合成例７ ７５ ＢＰ２ ２５ １．３１ ０．３ Ａ ９％ ──────────────────────────────────── 比較例１ ＮＰ−１ ７５ ＢＰ１ ２５ １．４５ ３．２ Ｃ １％ 比較例２ ＮＰ−２ ８０ ＢＰ２ ２０ １．３６ ０．７ Ｃ １０％ 比較例３ ＮＰ−２ ７５ ＢＰ１ ２５ １．３４ ０．５ Ｂ ９％ 比較例４ なし − ＢＰ１ １００ １．３８ ２．４ Ｄ ０％ ────────────────────────────────────

【００６９】（註） 混合比：重量％ ＮＰ−１：メチルメタクリレート（８０重量部）−ジビ
ニルベンゼン（２５重量部）コポリマーからなる微粒子
（平均粒径：５２ｎｍ） ＮＰ−２：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（８０重量部）−ジビニルベンゼン（２０重量部）コポ
リマーをコア（７０重量％）とし、ヘキサフルオロイソ
プロピルメタクリレート（９０重量部）−グリシジルメ
タクリレート（１０重量部）コポリマーをシェル（３０
重量％）とする微粒子（平均粒径：６１ｎｍ） ＢＰ１：ポリヘキサフルオロイソプロピルメタクリレー
トのラテックス ＢＰ２：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（９１重量部）−ジビニルベンゼン（９重量部）コポリ
マーのラテックス ＢＰ３：ポリメチルメタクリレートのラテックス

【００７０】［実施例１１］ （ハードコート層の形成）ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートを５重量％、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）を０．５重量％、および
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
を０．２重量％を含むトルエン溶液を調製した。９０μ
ｍの厚さを有するトリアセチルセルロースフイルムに、
溶液をワイヤーバーを用いて８μｍの厚さに塗布し、乾
燥した。これを１００℃に加熱して１２Ｗ／ｃｍの高圧
水銀灯を用いて１分間紫外線照射し架橋した。その後室
温まで放冷した。

【００７１】（高屈折率層の形成）ｎ−ブチルメタクリ
レート（８０重量部）−メタクリル酸（２０重量部）コ
ポリマーのラテックス（平均粒子径：７１ｎｍ、固形分
濃度：１２．５重量％）１００ｇに、酸化錫微粒子（石
原産業（株）より入手）２５ｇを混合した。ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート６ｇ、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．５ｇ、
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
０．２ｇおよび酢酸エチル２０ｇを、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム１ｇを用いて水１００ｇに乳化分
散した。乳化物液とラテックスとを混合、攪拌して、高
屈折率層の塗布液を調製した。塗布液をハードコート層
の上にワイヤーバーを用いて厚さ０．１６μｍに塗布
し、これを乾燥後、１００℃に加熱して１２Ｗ／ｃｍの
高圧水銀灯を用いて１分間紫外線照射し架橋、その後室
温まで放冷した。

【００７２】（低屈折率層の形成）ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート６ｇ、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）０．５ｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．２ｇ
および酢酸エチル２０ｇを、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム１ｇを用いて水１００ｇに乳化分散した。
乳化物液と合成例１で合成した微粒子１００ｇとを混
合、攪拌して、低屈折率層の塗布液を調製した。塗布液
を高屈折率層の上にワイヤーバーを用いて厚さ０．１０
μｍに塗布し、これを乾燥後、１００℃に加熱して１２
Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて１分間紫外線照射し架橋
した。その後室温まで放冷した。こうして得られた反射
防止膜について、実施例１と同様に視感の表面反射率と
膜表面強度を測定した。視感の表面反射率は０．３％、
膜表面強度はＡであった。

【００７３】［実施例１２〜１６および比較例５、６］
高屈折率層に使用したポリマーと低屈折率層に使用した
微粒子を第３表に示すように変更した以外は、実施例１
１と同様にして、反射防止膜を作成した。なお、塗布液
は、固形分濃度が実施例１１と同じになるように濃度を
調製した。得られた反射防止フイルムについて、視感の
表面反射率と膜表面強度を測定した。結を第３表に示
す。

【００７４】

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 反射 高屈折率層 低屈折率層 表面 膜表面 防止膜 ポリマー 屈折率 微粒子 反射率 強度 ──────────────────────────────────── 実施例１１ ＨＰ１ １．５５ 合成例１ ０．３％ Ａ 実施例１２ ＨＰ２ １．５７ 合成例３ ０．３％ Ａ 実施例１３ ＨＰ３ １．５９ 合成例３ ０．２％ Ａ 実施例１４ ＨＰ２ １．５７ 合成例４ ０．４％ Ａ 実施例１５ ＨＰ１ １．５５ 合成例５ ０．２％ Ａ 実施例１６ ＨＰ３ １．５９ 合成例７ ０．３％ Ａ ──────────────────────────────────── 比較例５ ＨＰ１ １．５５ ＮＰ−１ ４．２％ Ｃ 比較例６ ＨＰ１ １．５５ ＮＰ−２ ０．３％ Ｃ ────────────────────────────────────

【００７５】（註） ＨＰ１：ｎ−ブチルメタクリレート（８０重量部）−メ
タクリル酸（２０重量部）コポリマー ＨＰ２：メチルメタクリレート（６５重量部）−エチル
メタクリレート（２５重量部）−グリシジルメタクリレ
ート（１０重量部）コポリマー ＨＰ３：ベンジルメタクリレート（５０重量部）−メチ
ルメタクリレート（２５重量部）−アリルメタクリレー
ト（２０重量部）−メタクリル酸（５重量部）コポリマ
ー ＮＰ−１：メチルメタクリレート（８０重量部）−ジビ
ニルベンゼン（２５重量部）コポリマーからなる微粒子
（平均粒径：５２ｎｍ） ＮＰ−２：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート
（８０重量部）−ジビニルベンゼン（２０重量部）コポ
リマーをコア（７０重量％）とし、ヘキサフルオロイソ
プロピルメタクリレート（９０重量部）−グリシジルメ
タクリレート（１０重量部）コポリマーをシェル（３０
重量％）とする微粒子（平均粒径：６１ｎｍ）

【００７６】［実施例１７］実施例１２で作成した反射
防止フイルムを、パーソナルコンピューター（ＰＣ９８
２１ＮＳ／３４０Ｗ、日本電気（株）製）の液晶ディス
プレイ表面に貼り付けた。表示画像を確認したところ、
周囲の風景映り込みがほとんどなく、快適な視認性が得
られた。

【００７７】［実施例１８］実施例１３で作成した反射
防止フイルムを、パーソナルコンピューター（ＰＣ９８
２１ＮＳ／３４０Ｗ、日本電気（株）製）の液晶ディス
プレイ表面に貼り付けた。表示画像を確認したところ、
周囲の風景映り込みがほとんどなく、快適な視認性が得
られた。

【００７８】［実施例１９］実施例１５で作成した反射
防止フイルムを、パーソナルコンピューター（ＰＣ９８
２１ＮＳ／３４０Ｗ、日本電気（株）製）の液晶ディス
プレイ表面に貼り付けた。表示画像を確認したところ、
周囲の風景映り込みがほとんどなく、快適な視認性が得
られた。

【００７９】［比較例７］比較例５で作成した反射防止
フイルムを、パーソナルコンピューター（ＰＣ９８２１
ＮＳ／３４０Ｗ、日本電気（株）製）の液晶ディスプレ
イ表面に貼り付けた。表示画像を確認したところ、周囲
の映り込みが多く、実施例１７〜１９の結果と比較して
視認性が劣っていた。

【００８０】［比較例８］比較例６で作成した反射防止
フイルムを、パーソナルコンピューター（ＰＣ９８２１
ＮＳ／３４０Ｗ、日本電気（株）製）の液晶ディスプレ
イ表面に貼り付けた。表示画像を確認したところ、周囲
の映り込みが多く、実施例１７〜１９の結果と比較して
視認性が劣っていた。

【００８１】［実施例２１］ （ハードコート層の形成）ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５
ｇおよびウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−６３
００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）１２５ｇを、４３
９ｇの工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチ
ルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌した
後、１μｍメッシュのフィルターで濾過してハードコー
ト層の塗布液を調製した。８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｖ、富士写真
フイルム（株）製）に、ゼラチン下塗り層を設け、ゼラ
チン下塗り層の上に、上記のハードコート層の塗布液
を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥し
た。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚さ
７．５μｍのハードコート層を形成した。

【００８２】（低屈折率層塗布液の調製）シリカ微粒子
のメタノール分散液（Ｒ５０７、日産化学（株）製）２
００ｇにシランカップリング剤（ＫＢＮ−８０３、信越
シリコーン（株）製）１０ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを
加え、室温で５時間攪拌した後、約６日間室温で放置し
て、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散物
を調製した。分散物１４９ｇに、イソプロピルアルコー
ル７８９ｇおよびメタノール４５０ｇを加えた。光重合
開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３．
２１ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化
薬（株）製）１．６０５ｇを３１．６２ｇのイソプロピ
ルアルコールに溶解した溶液を加え、さらに、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トーツヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．１７ｇを７８．１３ｇのイソプロピル
アルコールに溶解した溶液を加えた。混合物を２０分間
室温で攪拌し、１μｍのメッシュのフィルターで濾過し
て、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００８３】（反射防止膜の作成）ハードコート層の上
に、低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、低屈折率層（厚さ：０．１μｍ）を形成し
た。このようにして、反射防止膜を作成した。得られた
反射防止膜について、４５０〜６５０ｎｍの波長におけ
る平均反射率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は
第４表に示す。

【００８４】［実施例２２］１００μｍの厚さのポリエ
チレンテレフタレートフイルムにゼラチン下塗り層を設
け、ゼラチン下塗り層の上に、実施例２１で用いたハー
ドコート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、
１２０℃で乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を
硬化させ、厚さ７．５μｍのハードコート層を形成し
た。実施例２１と同様に、ハードコート層の上に低屈折
率層を設け、反射防止膜を作成した。得られた反射防止
膜について、４５０〜６５０ｎｍの波長における平均反
射率および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は第４表に
示す。

【００８５】［実施例２３］１００μｍの厚さのシンジ
オタクチックポリスチレンフイルムの表面にグロー放電
処理を実施した。その上に、実施例２１で用いたハード
コート層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬
化させ、厚さ７．５μｍのハードコート層を形成した。
実施例２１と同様に、ハードコート層の上に低屈折率層
を設け、反射防止膜を作成した。得られた反射防止膜に
ついて、４５０〜６５０ｎｍの波長における平均反射率
および表面の鉛筆硬度を測定した。結果は第４表に示
す。

【００８６】

【表４】 第４表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 透明支持体（支持体の屈折率） 空隙率 平均反射率 鉛筆硬度 ──────────────────────────────────── 実施例２１ トリアセチルセルロース （１．４８） １４％ １．５％ ２Ｈ 実施例２２ ポリエチレンテレフタレート（１．６６） １４％ １．３％ ２Ｈ 実施例２３ ポリスチレン （１．５８） １４％ １．４％ ２Ｈ ────────────────────────────────────

【００８７】［実施例２４］ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０重量
部、下記のアニオン性モノマー（１）３重量部、下記の
アニオン性モノマー（２）３重量部、下記のカチオン性
モノマー１重量部およびメチルエチルケトン６３重量部
を、サンドグラインダーにより分散し、二酸化チタン分
散物を調製した。

【００８８】

【化４】

【００８９】

【化５】

【００９０】

【化６】

【００９１】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１７２ｇおよびメチルエチルケトン４３ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．１８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日
本化薬（株）製）０．０５９ｇを溶解した。さらに、二
酸化チタン分散物１５．８ｇおよびジペンタエリスリト
ールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）３．１ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後、１μ
ｍのメッシュのフィルターで濾過して、中屈折率層用塗
布液を調製した。

【００９２】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１８３ｇおよびメチルエチルケトン４６ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．０８５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、
日本化薬（株）製）０．０２８ｇを溶解した。さらに、
二酸化チタン分散物１７．９ｇおよびジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）１．０ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後、１μ
ｍのメッシュのフィルターで濾過して、高屈折率層用塗
布液を調製した。

【００９３】（反射防止膜の作成）実施例２１で形成し
たハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（厚さ：０．
０８１μｍ）を設けた。中屈折率層の上に、高屈折率層
用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾
燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折
率層（厚さ：０．０５３μｍ）を設けた。高屈折率層の
上に、実施例２１で用いた低屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ：０．
０９２μｍ）を設けた。このようにして反射防止膜を作
成した。得られた反射防止膜について、４５０〜６５０
ｎｍの波長における平均反射率および表面の鉛筆硬度を
測定した。さらに、指紋付着性を評価するため表面の接
触角も測定した。結果は第５表に示す。

【００９４】［実施例２５］低屈折率層の厚さを０．０
７２μｍとする以外は、実施例２４と同様にして、ハー
ドコート層の上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率
層を設けた。低屈折率層の上に、架橋性含フッ素ポリマ
ーの溶液を塗布し、１２０℃に加熱して含フッ素ポリマ
ーを架橋させ、厚さ０．０２μｍの保護層を設けた。得
られた反射防止膜について、４５０〜６５０ｎｍの波長
における平均反射率および表面の鉛筆硬度を測定した。
さらに、指紋付着性を評価するため表面の接触角も測定
した。結果は第５表に示す。

【００９５】

【表５】 第５表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 保護層 平均反射率 鉛筆硬度 接触角 ──────────────────────────────────── 実施例２４ なし ０．３５％ ２Ｈ １０６° 実施例２５ あり ０．３６％ ２Ｈ ２８° ────────────────────────────────────

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止膜の低屈折率層の断面模式図である。

【図２】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１ 低屈折率層 ２ ハードコート層 ３ 透明支持体 ４ 高屈折率層 ５ 中屈折率層 １１ 無機微粒子 １２ ミクロボイド １３ ポリマー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１８ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１８Ａ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機
   微粒子を５０乃至９５重量％およびポリマーを５乃至５
   ０重量％含み、該無機微粒子を少なくとも２個以上積み
   重ねることにより微粒子間にミクロボイドが形成されて
   いる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
2. 【請求項２】 低屈折率層が、３乃至５０体積％の空隙
   率を有する請求項１に記載の反射防止膜。
3. 【請求項３】 低屈折率層が、１．２０乃至１．５５の
   屈折率を有する請求項１に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 無機微粒子の周囲に、ポリマーからなる
   シェルが設けられている請求項１に記載の反射防止膜。
5. 【請求項５】 ミクロボイドが、無機微粒子およびポリ
   マーにより閉じている請求項１に記載の反射防止膜。
6. 【請求項６】 平均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機
   微粒子を５０乃至９５重量％およびポリマーを５乃至５
   ０重量％含み、該無機微粒子を少なくとも２個以上積み
   重ねることにより微粒子間にミクロボイドが形成されて
   いる低屈折率層を有する反射防止膜を、表示面に配置し
   たことを特徴とする画像表示装置。