JP2001255403A - 帯電防止反射防止フィルムおよびそれを用いた陰極線管表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 帯電防止性、反射防止性、防汚性、生産性に
加えて機械特性にも優れたフェースパネルに貼り付ける
ことの可能な反射防止透明導電性積層フイルムおよびそ
れを用いた陰極線管表示装置を提供すること 【解決手段】 透明基材上に、体積抵抗率が１０^-8（Ω
cm^-3）以下の帯電防止層と、無機微粒子および多官能ア
クリレート化合物の架橋物で構成されるハードコート層
と、該ハードコート層の屈折率よりも小さな屈折率を有
する低屈折率層と、さらに最外層に形成された防汚層を
設けたことを特徴とする帯電防止反射防止フィルムおよ
びそれを用いた陰極線管表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた帯電防止効
果、反射防止効果、機械特性及び防汚性に優れた帯電防
止反射防止フィルムおよびそれを用いた陰極線管表示装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）の
ような様々な画像表示装置には、外光の反射による表示
コントラストの低下を目的として反射防止膜が設けられ
ているものが多い。反射防止膜としては、金属酸化物の
透明薄膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられ
ている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光
の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜
は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特
に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されて
いる。金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れ
た光学的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、
生産性が低く大量生産に適していない。

【０００３】蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により
反射防止膜を形成する方法が提案されている。特公昭６
０−５９２５０号公報は、微細空孔と微粒子状無機物と
を有する反射防止層を開示している。反射防止層は、塗
布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化
ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって
形成される。特開昭５９−５０４０１号公報は、支持
体、高屈折率層および低屈折率層の順に積層した反射防
止膜を開示している。同公報は、支持体と高屈折率層の
間に中屈折率層を設けた反射防止膜も開示している。低
屈折率層は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形
成されている。

【０００４】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂ ）を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜
を開示している。混合比を変化させることにより屈折率
を変化させ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載
されている高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜
と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシ
リケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂ により接着してい
る。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼
によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。特開平２−
２４５７０２号公報の第１図に示されているように、二
酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒
子の間に間隙が生じている。特開平５−１３０２１号公
報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防
止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填するこ
とを開示している。特開平７−４８５２７号公報は、多
孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有す
る反射防止膜を開示している。

【０００５】一方、 これらのディスプレィは、フェー
スパネル面に発生する静電気により埃が付着して視認性
が低下する問題点を有している。またフェースパネル面
は手が触れたり、汚れを落とすことにより、擦り傷が発
生しやすい問題がある。

【０００６】フィルムの帯電防止のためには体積抵抗率
を１０^-12（Ωcm^-3）以下とすることが有効であり、具
体的な方法としては吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種
の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、
コロイダルシリカなどを添加することが一般に知られて
いる。しかしながら、実際には体積抵抗率１０^-12ない
し１０^-9（Ωcm^-3）程度では帯電防止の効果は不十分で
あり埃の付着を十分防止できないという問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、帯電防止性、
反射防止性、防汚性、生産性に加えて機械特性にも優れ
たフェースパネルに貼り付けることの可能な反射防止透
明導電性積層フイルムおよびそれを用いた陰極線管表示
装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【０００８】これらの課題を解決するため、透明基材上
に、無機微粒子および多官能アクリレート化合物の架橋
によって得られたハードコート層と、該ハードコート層
の屈折率よりも小さな屈折率を有する低屈折率層と、さ
らに最外層に形成された防汚層とを含む構成からなる反
射防止透明積層フイルムの少なくとも一面に体積抵抗率
が１０^-8（Ωcm^-3）以下の帯電防止層がを賦与すること
で優れた帯電防止効果、反射防止効果、機械特性及び防
汚性に優れた帯電防止反射防止フィルムを作成可能であ
ることがわかった。また、本発明者が、無機微粒子の塗
布により形成する低屈折率層について研究を進めたとこ
と、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることに
より微粒子間にミクロボイドを形成すると、層の屈折率
が低下することが判明した。微粒子間にミクロボイドを
形成することで、屈折率が非常に低い低屈折率層が得ら
れる。特開平２−２４５７０２号公報に記載の反射防止
膜では、積み重なった超微粒子の間に間隙が生じてい
る。ただし、同公報は、間隙を第１図に示唆しているだ
けであって、間隙の光学的機能については全く記載して
いない。また、空隙を有する低屈折率層は、強度が弱い
との問題がある。低屈折率層は、画像表示装置の表示面
やレンズの外側表面に配置される。そのため、低屈折率
層には一定の強度が要求されている。特開平２−２４５
７０２号公報に記載の反射防止膜は、実質的に無機化合
物のみで構成されており、硬いが非常に脆い膜になって
いる。特開平５−１３０２１号公報に記載されているよ
うに、微粒子間の空隙をバインダーで充填すれば、強度
の問題は解消できる。しかし、本発明者の研究によれ
ば、微粒子間の空隙をバインダーで充填すると、層の屈
折率を低下させる間隙の光学的機能が失われる。特開平
７−４８５２７号公報に記載されている多孔質シリカの
ように、微粒子間ではなく、微粒子内にミクロボイドを
形成することもできる。しかし、微粒子内のミクロボイ
ドでは、層の屈折率を充分に低下させる程度の高い空隙
率を得ることが難しい。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射防止膜
の低屈折率層の断面模式図である。図１の反射防止膜の
上側が表面であり、下側に画像表示装置がある。図１に
示すように、低屈折率層（１）は多孔質層である。低屈
折率層（１）内では、平均粒径が０．５ないし２００ｎ
ｍの無機微粒子（１１）が少なくとも２個以上（図１で
は３個）積み重なっている。そして、無機微粒子（１
１）の間に、ミクロボイド（粒子間ミクロボイド）（１
２）が形成されている。無機微粒子（１１）は多孔性で
あって微粒子内にもミクロボイド（粒子内ミクロボイ
ド）（１３）が形成されている。低屈折率層（１）は、
さらにポリマー（１４）を５ないし５０質量％の量で含
む。ポリマー（１４）は、無機微粒子（１１）を接着し
ているが、粒子間ミクロボイド（１２）および粒子内ミ
クロボイド（１３）を充填していない。図１に示すよう
に、粒子間ミクロボイド（１２）は、ポリマー（１４）
と無機微粒子（１１）により閉じている（開口ではな
い）ことが好ましい。

【００１０】図２は、反射防止膜の様々な層構成を示す
断面模式図である。図２の（ａ）に示す態様は、帯電防
止層（１２）、透明支持体（３）、ハードコート層
（２）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成を有す
る。図２の（ｂ）に示す態様は、透明支持体（３）、帯
電防止層（１２）、ハードコート層（２）、高屈折率層
（４）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成を有す
る。図２の（ｃ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハ
ードコート層（２）、高屈折率層兼帯電防止層（４）、
そして低屈折率層（１）の順序の層構成を有する。更
に、図２の（ｄ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハ
ードコート層（２）、中屈折率層兼帯電防止層（４）、
高屈折率層（５）そして低屈折率層（１）の順序の層構
成を有する。

【００１１】［無機微粒子および粒子内ミクロボイド］
低屈折率層に用いられる無機微粒子（低屈折層用無機微
粒子）の平均粒径は、０．５ないし２００ｍｍである。
粒子径が増大すると前方散乱が増加し、２００ｎｍを越
えると散乱光に色付きが生じる。平均粒径は、１ないし
１００ｎｍであることが好ましく、３ないし７０ｎｍで
あることがさらに好ましく、５ないし４０ｎｍの範囲で
あることが最も好ましい。低屈折層用無機微粒子の粒径
は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。低
屈折層用無機微粒子は、非晶質であることが好ましい。
低屈折層用無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化
物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸
化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ま
しく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最
も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉ
ｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａ
ｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂお
よびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさら
に好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いても
よい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すな
わちシリカである。

【００１２】低屈折層用無機微粒子内のミクロボイド
は、例えば粒子を形成するシリカの分子を架橋させるこ
とにより形成することができる。シリカの分子を架橋さ
せると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイ
ドを有する（多孔質）低屈折層用無機微粒子は、ゾル−
ゲル法（特開昭５３−１１２７３２号、特公昭５７−９
０５１号の各公報記載）または析出法（APPLIED OPTIC
S、27、3356頁（1988）記載）により、分散物として直
接合成することができる。また、乾燥・沈澱法で得られ
た粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもでき
る。市販の多孔質低屈折層用無機微粒子（例えば、二酸
化ケイ素ゾル）を用いてもよい。ミクロボイドを有する
低屈折層用無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適
当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分
散媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール）およびケトン（例、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ま
しい。低屈折層用無機微粒子の量は、低屈折率層全量の
５０ないし９５質量％である。低屈折層用無機微粒子の
量は、５０ないし９０質量％であることが好ましく、６
０ないし９０質量％であることがさらに好ましく、７０
ないし９０質量％であることが最も好ましい。

【００１３】［粒子間ミクロボイド］低屈折率層では、
粒子内ミクロボイドを有する低屈折層用無機微粒子を少
なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間にもミ
クロボイドが形成されている。低屈折率層の空隙率（粒
子内ミクロボイドと粒子間ミクロボイドの合計）は、３
ないし５０体積％であることが好ましく、５ないし３５
体積％であることがさらに好ましい。なお、粒径が等し
い（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填すると、微
粒子間に２６体積％の空隙率の粒子間ミクロボイドが形
成される。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填する
と、微粒子間に４８体積％の空隙率のミクロボイドが形
成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布
や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙率は上記の
理論値からかなり変動する。空隙率（ミクロボイドの大
きさ）を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下す
る。本発明では、低屈折層用無機微粒子を積み重ねてミ
クロボイドを形成するため、低屈折層用無機微粒子の粒
径を調整することで、粒子間ミクロボイドの大きさも適
度の（光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じな
い）値に容易に調節できる。さらに、低屈折層用無機微
粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの
大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得るこ
とができる。これにより、低屈折率層は微視的にはミク
ロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的
には均一な膜にすることができる。

【００１４】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する微粒子
とポリマーとの総屈折率和よりも低い値になる。層の屈
折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。
微粒子とポリマーの屈折率は１よりも大きな値であるの
に対して、空気の屈折率は１．００である。そのため、
ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に
低い低屈折率層を得ることができる。粒子間ミクロボイ
ドは、低屈折層用無機微粒子およびポリマーによって低
屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空
隙は、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈
折率層表面での光の散乱が少ないとの利点がある。

【００１５】［ポリマー］低屈折率層は、５ないし５０
質量％の量のポリマーを含む。ポリマーは、低屈折層用
無機微粒子を接着し、ミクロボイドを含む低屈折率層の
構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、ミ
クロボイドを充填することなく低屈折率層の強度を維持
できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の
全量の１０ないし３０質量％であることが好ましい。ポ
リマーで低屈折層用無機微粒子を接着するためには、
（１）低屈折層用無機微粒子の表面処理剤にポリマーを
結合させるか、あるいは（２）低屈折層用無機微粒子間
のバインダーとして、ポリマーを使用することが好まし
い。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、
（２）のバインダーポリマーであることが好ましい。
（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを
添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合
反応により形成することが好ましい。（１）と（２）を
組み合わせて、実施することが好ましい。（１）表面処
理および（２）バインダーについて、順次説明する。

【００１６】（１）表面処理 低屈折層用無機微粒子には、表面処理を実施して、ポリ
マーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理
は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的
表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理
に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面
処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好
ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシ
メタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤）が好ましく用いられる。低屈折層用無機微
粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリン
グ剤による表面処理が特に有効に実施できる。好ましい
シランカップリング剤を、下記式（Ｉａ）および（Ｉ
ｂ）で示す。

【００１７】

【化１】

【００１８】式中、Ｒ₁ 、Ｒ₅ およびＲ₆ は、それぞれ
独立に、炭素原子数が１ないし１０のアルキル基、炭素
原子数が６ないし１０のアリール基、炭素原子数が２な
いし１０のアルケニル基、炭素原子数が２ないし１０の
アルキニル基または炭素原子数が７ないし１０のアラル
キル基であり、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₇ およびＲ₈ は、
それぞれ独立に、炭素原子数が１ないし６のアルキル基
または炭素原子数が２ないし６のアシル基である。式
（Ｉａ）および式（Ｉｂ）において、Ｒ₁ 、Ｒ₅ および
Ｒ₆ は、アルキル基、アリール基、アルケニル基または
アラルキル基であることが好ましく、アルキル基、アリ
ール基またはアルケニル基であることがさらに好まし
く、アルキル基またはアルケニル基であることが最も好
ましい。アルキル基、アリール基、アルケニル基、アル
キニル基およびアラルキル基は、置換基を有していても
よい。置換基の例には、グリシジル基、グリシジルオキ
シ基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基
（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）、
メルカプト、アミノ、カルボキシル、シアノ、イソシア
ナトおよびアルケニルスルホニル基（例、ビニルスルホ
ニル）が含まれる。

【００１９】式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）において、Ｒ
₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₇ およびＲ₈ は、アルキル基である
ことが好ましい。アルキル基は、置換基を有していても
よい。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラ
ンカップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二
重結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（Ｉａ）と式（Ｉｂ）のＲ₁ 、Ｒ₅
またはＲ₆ の置換基中に存在していることが好ましい。
特に好ましいシランカップッリング剤を、下記式（II
ａ）および（IIｂ）で示す。

【００２０】

【化２】

【００２１】式中、Ｒ₁₁およびＲ₁₅は、それぞれ独立
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ ₁₆は、炭素原子数
が１ないし１０のアルキル基、炭素原子数が６ないし１
０のアリール基、炭素原子数が２ないし１０のアルケニ
ル基、炭素原子数が２ないし１０のアルキニル基または
炭素原子数が７ないし１０のアラルキル基であり、
Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₇およびＲ₁₈は、それぞれ独立
に、炭素原子数が１ないし６のアルキル基または炭素原
子数が２ないし６のアシル基であり、Ｌ₁ およびＬ₂ は
二価の連結基である。式（IIｂ）において、Ｒ₁₆は、式
（Ｉａ）および式（Ｉｂ）のＲ₁ 、Ｒ₅ およびＲ6 と同
様の定義を有する。式（IIａ）式（IIｂ）において、Ｒ
₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₇およびＲ₁₈は、式（Ｉａ）および
式（Ｉｂ）のＲ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₇ およびＲ₈ と同様
の定義を有する。式（IIａ）式（IIｂ）において、Ｌ₁
およびＬ₂ は、アルキレン基であることが好ましく、炭
素原子数が１ないし１０のアルキレン基であることがさ
らに好ましく、炭素原子数が１ないし６のアルキレン基
であることが最も好ましい。

【００２２】式（Ｉａ）で示されるシランカップリング
剤の例には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエト
キシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエト
キシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シ
アノエチルトリエトキシシランが含まれる。分子内に二
重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、式( Ｉ
I ａ）で示されるγ−アクリロイルオキシプロピルトリ
メトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシランが特に好ましい。

【００２３】式（Ｉｂ）で示されるシランカップリング
剤の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニル
ジエトキシシランが含まれる。

【００２４】分子内に二重結合を有するγ−アクリロイ
ルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニ
ルジエトキシシランが好ましく、式( ＩI ｂ）で示され
るγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジ
メトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシランが特に好ましい。

【００２５】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）で示されるシランカ
ップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用い
てもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ
酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オル
トケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケ
イ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケ
イ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその
加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面処理
は、低屈折層用無機微粒子の分散物に、カップリング剤
を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０
日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理
反応を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、
クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン
酸、炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベン
ゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、ま
たはこれらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分
散物に添加してもよい。

【００２６】（２）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。

【００２７】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基
を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入
してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート
基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アル
デヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル
基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビ
ニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして
利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解
反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。

【００２８】また、本発明において架橋基とは、上記化
合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すも
のであってもよい。バインダーポリマーは、低屈折率層
の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時
または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）
により形成することが好ましい。重合反応および架橋反
応に使用する熱重合開始剤の例には、無機過酸化物
（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム）、アゾニ
トリル化合物（例、アゾビスシアノ吉草酸ナトリウ
ム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス
（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、環状アゾア
ミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２−（５−メ
チル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン塩酸
塩）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビス｛２
−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメチル）
−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド）、アゾ化
合物（例、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロ
ピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチ
レート）および有機過酸化物（例、ラウリルパーオキシ
ド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオクト
エート）が含まれる。

【００２９】重合反応および架橋反応に使用できる活性
エネルギー線重合開始剤の例には、アセトフェノン類、
ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド
類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン
類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオ
ン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化
合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン
類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−
ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェ
ニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノ
プロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが
含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイ
ソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例
には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノ
ン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロ
ベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例
には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフ
ォスフィンオキシドが含まれる。活性エネルギー線とし
ては、紫外線（近紫外線から真空紫外線まで）、電子
線、α線、γ線などが挙げられるが、紫外線が好ましく
使用できる。紫外線源としては、水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、エキシマー・レーザー等を挙げることが
できる。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例、
ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチ
ルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロ
ース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよ
い。

【００３０】［低屈折率層］低屈折率層は、以上の微粒
子およびポリマーを含み、ミクロボイド構造を有する層
である。低屈折率層の屈折率は、１．２０ないし１．５
５であることが好ましく、１．３０ないし１．５５であ
ることがさらに好ましい。低屈折率層の層厚は、５０な
いし４００ｎｍであることが好ましく、５０ないし２０
０ｎｍであることがさらに好ましい。

【００３１】［透明支持体］反射防止膜をＣＲＴ画像表
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。
プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエス
テル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート及びポリエチレンテレフタレートが好まし
い。透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが
好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透
明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好まし
く、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支
持体の屈折率は、１．４ないし１．７であることが好ま
しい。

【００３２】［高屈折率層および中屈折率層］図２の
（ｂ）に示すように、低屈折率層と透明支持体との間に
高屈折率層を設けてもよい。また、図２の（ｃ）に示す
ように、高屈折率層と透明支持体との間に中屈折率層を
設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、１．６５ないし
２．４０であることが好ましく、１．７０ないし２．２
０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の
値となるように調整する、中屈折率層の屈折率は、１．
５５ないし１．７０であることが好ましい。

【００３３】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。屈折
率の高い無機微粒子（高屈折率用無機粒子）を上記ポリ
マー中に分散してもよい。高屈折率用無機粒子を用いる
場合は、比較的屈折率の低いポリマー、例えば、ビニル
系ポリマー（アクリル系ポリマーを含む）、ポリエステ
ル系ポリマー（アルキド系ポリマーを含む）、セルロー
ス系ポリマーやウレタン系ポリマーでも、無機微粒子を
安定に分散するために用いることができる。

【００３４】有機置換されたケイ素化合物を、高屈折率
層または中屈折率層に添加してもよい。ケイ素化合物と
しては、低屈折率層の無機微粒子の表面処理に使用する
シランカップリング剤またはその加水分解物が好ましく
用いられる。高屈折率用無機粒子としては、金属（例、
アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモ
ン）の酸化物が好ましい。無機微粒子の粉末またはコロ
イド状分散物を上記のポリマーまたは有機ケイ素化合物
中と混合して使用する。高屈折率用無機粒子の平均粒径
は、１０ないし１００ｎｍであることが好ましい。被膜
形成能を有する有機金属化合物から、高屈折率層または
中屈折率層を形成してもよい。有機金属化合物は、適当
な媒体に分散できるか、あるいは液状であることが好ま
しい。

【００３５】有機金属化合物の例には、金属アルコレー
ト（例、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−
プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタ
ンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−sec-ブトキ
シド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウム
トリエトキシド、アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシ
ド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエト
キシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテト
ラエトキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プロポキシ
ド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−se
c-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシ
ド）、キレート化合物（例、ジ−イソプロポキシチタニ
ウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウ
ムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチタニウム
ビスアセチルアセトネート、ビスアセチルアセトンジル
コニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセ
トアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノ
エチルアセトアセテート）、有機酸塩（例、炭酸ジルコ
ニールアンモニウム）およびジルコニウムを主成分とす
る活性無機ポリマーが含まれる。アルキルシリケート
類、その加水分解物および微粒子状シリカ、特にコロイ
ド状に分散したシリカゲルを高屈折率層または中屈折率
層に添加してもよい。高屈折率層および中屈折率層のヘ
イズは、３％以下であることが好ましい。

【００３６】［ハードコート層］ハードコート層は、透
明支持体に耐傷性を付与する機能を有する。ハードコー
ト層は、架橋しているポリマーを含む。架橋しているポ
リマーを含むハードコート層は、多官能モノマーと重合
開始剤を含む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モ
ノマーを重合させることにより形成できる。官能基とし
ては、エチレン性不飽和基が好ましい。多官能モノマー
は、多価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸と
のエステルであることが好ましい。多価アルコールの例
には、エチレングリコール、１，４−シクロヘキサノー
ル、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、
トリメチロールエタン、ジペンタエリスリトール、１，
２，４−シクロヘキサノール、ポリウレタンポリオール
およびポリエステルポリオールが含まれる。トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリス
リトールおよびポリウレタンポリオールが好ましい。二
種類以上の多官能モノマーを併用してもよい。

【００３７】ハードコート層に、無機微粒子を添加する
ことで膜としての架橋収縮率を改良し塗膜の平面性を向
上させることができる。無機微粒子としては硬度が高い
ものが好ましく、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸チタ
ン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子
が含まれる。無機微粒子の平均粒子径は、１ないし２０
００ｎｍであることが好ましく、２ないし１０００ｎｍ
であることがより好ましく、５ないし５００ｎｍである
ことがさらに好ましく、１０ないし２００ｎｍであるこ
とが最も好ましい。無機微粒子の添加量は、ハードコー
ト層の全量の１ないし９９質量％であることが好まし
く、１０ないし９０質量％であることがより好ましく、
２０ないし８０質量％であることがさらに好ましく、４
０ないし６０質量％であることが最も好ましい。

【００３８】一般に無機微粒子はバインダーポリマーと
の親和性が悪いため単に両者を混合するだけでは界面が
破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善することは
困難である。無機微粒子を有機セグメントを含む表面処
理剤で処理することで無機微粒子とポリマーバインダー
との親和性は改良されこの問題は解決できる。表面処理
剤は一方で金属粒子と結合を形成し得、他方でバインダ
ーポリマーと高い親和性を有することが必要である。金
属と結合を生成し得る官能基としては、金属アルコキシ
ドが好ましく、実際にはアルミニウム、チタニウム等の
化合物を挙げることができる。あるいは、アニオン性基
を有する化合物が好ましく、リン酸、スルホン酸基等の
官能基を有することが好ましい。またバインダーポリマ
ーとは化学的に結合させることが好ましく、末端にビニ
ル性重合基等を導入したものが好適である。例えば、エ
チレン性不飽和基を重合性基および架橋性基として有す
るモノマーからバインダーポリマーを合成する場合は、
金属アルコキシド化合物またはアニオン性化合物の末端
にエチレン性不飽和基を有していることが好ましい。

【００３９】有機金属化合物の表面処理剤例 ａ）アルミニウム含有有機化合物例 ａ−１ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＡｌ（ＯＣ₄Ｈ₉）₂ ａ−２ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₃Ｈ₆ＯＡｌ（ＯＣ₃Ｈ₇）₂ ａ−３ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＡｌ（ＯＣ₂Ｈ₅）₂ ａ−４ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣ₂Ｈ₄ＯＡｌ（Ｏ
Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ₂Ｈ₅）₂ ａ−５ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＡｌ（ＯＣ
₄Ｈ₉）₂ ａ−６ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＡｌ（ＯＣ₄Ｈ₉）
ＯＣ₄Ｈ₈ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ₂ ａ−７ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＡｌ｛Ｏ（1,4-ｐ
ｈ）ＣＨ₃｝₂

【００４０】ｂ）ジルコニウム含有有機化合物 ｂ−１ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＺｒ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃ ｂ−２ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₃Ｈ₇ＯＺｒ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃ ｂ−３ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＺｒ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ｂ−４ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＺｒ（ＯＣ
₄Ｈ₉）₃ ｂ−５ ｛ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ｝₂Ｚｒ（ＯＣ₄Ｈ
₉）₂

【００４１】ｃ）チタン含有有機化合物 ｃ−１ ｛Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ｝₃ＴｉＯＣ₂Ｈ₄
ＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃ ｃ−２ Ｔｉ｛ＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₂ＯＣ₂Ｈ₄ＣＨ＝Ｃ
Ｈ₂）₂Ｃ₂Ｈ₅｝₄ ｃ−３ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＴｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃ ｃ−４ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₃Ｈ₇ＯＴｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃ ｃ−５ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＴｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ｃ−６ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＳｉＯＴｉ（ＯＳｉＣＨ₃）
₃ ｃ−７ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₄Ｈ₈ＯＴｉ（ＯＣ
₄Ｈ₉）₃

【００４２】アニオン性官能基含有表面処理剤例 ｄ）リン酸基含有有機化合物例 ｄ−１ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＰＯ（Ｏ
Ｈ）₂ ｄ−２ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＰＯ（ＯＨ）₂ ｄ−３ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ₁₀ＯＰＯ
（ＯＨ）₂ ｄ−４ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＰＯ（ＯＨ）₂ ｄ−５ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＰＯＣ_{l 2} ｄ−６ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＣＨ｛ＯＰＯ
（ＯＨ）₂）₂ ｄ−７ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＰＯ（ＯＮａ）₂ ｄ−８ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯ（1,4-ｐｈ）
Ｃ₅Ｈ₁₀ＯＰＯ（ＯＨ）₂ ｄ−９ （Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ）₂ＣＨＣ₂Ｈ₄Ｏ
ＣＯＣ₅Ｈ₁₀ＯＰＯ（ＯＨ）₂

【００４３】ｅ）スルホン酸基含有有機化合物例 ｅ−１ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＳＯ₃Ｈ ｅ−２ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₃Ｈ₆ＳＯ₃Ｈ ｅ−３ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＳＯ₃Ｈ ｅ−４ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ₁₀ＯＳＯ
₃Ｈ ｅ−５ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₂Ｈ₂₄（1,4-ｐｈ）ＳＯ₃
Ｈ ｄ−６ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯＣ₅Ｈ
₁₀ＯＳＯ₃Ｎａ

【００４４】ｆ）カルボン酸基含有有機化合物例 ｆ−１ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₅Ｈ₁₀ＣＯＯ）₂Ｈ ｆ−２ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₅Ｈ₁₀ＣＯＯＨ ｆ−３ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＯ（1,２-ｐｈ）
ＣＯＯＨ ｆ−４ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ₂Ｈ₄ＣＯＯ）₂Ｈ ｆ−５ Ｈ₂Ｃ＝Ｃ（ＣＨ）ＣＯＯＣ₅Ｈ₁₀ＣＯＯＨ ｆ−６ Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣ₂Ｈ₄ＣＯＯＨ ここでｐｈはフェニレン基を示す。

【００４５】架橋しているバインダーポリマーの合成反
応（多官能モノマーの重合反応）には、光重合開始剤を
用いることが好ましい。光重合開始剤の例には、アセト
フェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイル
ベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチ
ルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類が
含まれる。光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いても
よい。光増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケ
トンおよびチオキサントンが含まれる。光重合開始剤
は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１ない
し１５質量部の範囲で使用することが好ましく、１ない
し１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。
光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫
外線照射により実施することが好ましい。

【００４６】［帯電防止層］次に帯電防止層について記
す。埃の付着を完全に防止するためには、体積抵抗率が
１０^-8（Ωcm^-3）以下の導電性を付与することが必要と
なる。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性
剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダル
シリカ等の使用でも１０^-8（Ωcm^-3）の体積抵抗率の付
与は可能であるものの、温湿度依存性が大きく、低湿で
は十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、
導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。ところ
で、金属酸化物には着色しているものがあるが、これら
の金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全
体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化
物を形成する金属としてZn, Ti, Al, In, Si, Mg, Ba,
Mo, W, 又はVをあげることができ、これれを主成分とし
た金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例とし
ては、ZnO, TiO₂ , SnO₂, Al₂O₃, In₂O₃, SiO₂, MgO, B
aO, MoO₃, V₂O₅等、あるいはこれらの複合酸化物がよ
く、特にZnO, TiO₂, 及びSnO ₂が好ましい。異種原子を
含む例としては、例えばZnOに対してはAl, In等の添加
物、SnO₂に対してはSb, Nb,ハロゲン元素等の添加、ま
たTiO₂に対してはNb, TA等の添加が効果的である。更に
また、特公昭59-6235号に記載の如く、他の結晶性金属
粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金
属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積
抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較する
ことはできないが、体積抵抗値で１０^-8（Ωcm^-3）以下
の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０^{- 10}
（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好
ましくは１０^-8（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値
は帯電防止層を最表層としたときの値として測定される
ことが必要であり、本特許に記載の積層フィルムを形成
する途中の段階で測定することができる。

【００４７】［防汚層］最外層の防汚層としては、公知
のフッ素を含有する低表面エネルギーの化合物が好まし
く、具体的にはフッ化炭化水素基を含有するシリコン化
合物、フッ化炭化水素基含有ポリマー、フッ化炭化水
素、シリコンを有するモノマーのグラフト、ブロック共
重合体等が挙げられる。これらは熱硬化性、放射線硬化
基を含有する架橋性の樹脂が好ましい。表面の水の接触
角は８０℃以上が好ましく、９０℃以上がより好まし
い。

【００４８】［その他の層］低屈折率層の上に、保護層
を設けてもよい。保護層は、滑り層または汚れ防止層と
して機能する。滑り層に用いる滑り剤の例には、ポリオ
ルガノシロキサン（例、ポリジメチルシロキサン、ポリ
ジエチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリ
メチルフェニルシロキサン、アルキル変性ポリジメチル
シロキサン）、天然ワックス（例、カルナウバワック
ス、キャンデリラワックス、ホホバ油、ライスワック
ス、木ろう、蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モンタンワッ
クス）、石油ワックス（例、パラフィンワックス、マイ
クロクリスタリンワックス）、合成ワックス（例、ポリ
エチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワック
ス）、高級脂肪脂肪酸アミド（例、ステアラミド、オレ
インアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアラミド）、
高級脂肪酸エステル（例、ステアリン酸メチル、ステア
リン酸ブチル、グリセリンモノステアレート、ソルビタ
ンモノオレエート）、高級脂肪酸金属塩（例、ステアリ
ン酸亜鉛）およびフッ素含有ポリマー（例、パーフルオ
ロ主鎖型パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ側鎖
型パーフルオロポリエーテル、アルコール変性パーフル
オロポリエーテル、イソシアネート変性パーフルオロポ
リエーテル）が含まれる。反射防止膜には、さらに、防
湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。
汚れ防止層には、含フッ素疎水性化合物（例、含フッ素
ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フッ素オイル）を添
加する。保護層の厚さは、反射防止機能に影響しないよ
うにするため、２０ｎｍ以下であることが好ましい。

【００４９】［反射防止膜］反射防止膜の各層は、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書）により、塗布により形成するこ
とができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時
塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同
２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５
２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。反射防止
膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していて
もよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸
を形成することにより得られる。本発明では、低屈折率
層に微粒子を使用するため、図１に示すように反射防止
膜の表面に凹凸が形成されている。微粒子により得られ
るアンチグレア機能では不充分な場合は、いずれかの層
（好ましくはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒
径：２ないし１５μｍ）を少量（０．１ないし５０質量
％）添加してもよい。

【００５０】反射防止膜のヘイズは、３ないし３０％で
あることが好ましく、５ないし２０％であることがさら
に好ましく、７ないし２０％であることが最も好まし
い。反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ
ディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲ
Ｔ）のような画像表示装置に適用する。反射防止膜が透
明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表示装置
の画像表示面に接着する。帯電防止反射防止フィルムが
透明あるいはニュートラルグレイであり、特定の着色の
ないようにすることは帯電防止反射防止フィルムの好ま
しい実施態様である。

【００５１】

【実施例】［実施例１］ （無機粒子分散液（Ｍ−１）の調製）セラミックコート
のベッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン ３３７ ｇ ＰＭ−２（日本化薬（株）製リン酸基含有メタアクリレート） ３１ ｇ ＡＫＰ−Ｇ０１５（住友化学工業（株）製アルミナ：粒径15nm） ９２ ｇ 上記混合液をサンドミル（１／４Ｇのサンドミル）にて
１６００ｒｐｍ、１０時間微細分散した。メディアは１
ｍｍΦのジルコニアビーズを１４００ｇ用いた。

【００５２】（ハードコート層用塗布液の調製）表面処
理したアルミナ微粒子の４３質量％シクロヘキサノン分
散液１１６ｇに、メタノール９７ｇ、イソプロパノール
１６３ｇおよびメチルイソブチルケトン１６３ｇを加え
た。混合液に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混
合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２００ｇを加えて
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を４加えて溶解した。混合物を３０分間攪拌した後、孔
径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハー
ドコート層用塗布液を調製した。

【００５３】（低屈折率層塗布液の調製）テトラメトキ
シシラン１００ｇをメタノール５３０ｇと混合した。室
温で３０質量％アンモニア水を、混合液に滴下し、２４
時間撹拌した。２４時間還流してアンモニアを除去し、
２０質量％まで濃縮して多孔質無機微粒子分散物を得
た。多孔質無機微粒子分散物３００ｇにシランカップリ
ング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリコーン（株）製）５
ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で５時間撹拌し
た後、４日間室温で放置して、多孔質無機微粒子をシラ
ンカップリング処理した。分散物２２３ｇに、イソプロ
ピルアルコール７８９ｇおよびメタノール４５０ｇを加
えた。光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）３．２ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）１．６ｇを３２ｇのイソプロピ
ルアルコールに溶解した溶液を加え、さらに、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．２ｇを７８ｇのイソプロピルアルコー
ルに溶解した溶液を加えた。混合物を２０分間室温で撹
拌し、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００５４】 （下塗り塗布液−Ａ） ・アクリル樹脂（日本アクリル（株）製 ＨＡ−１６） ５質量部 ・アクリル変性共重合ポリエステル樹脂（高松樹脂（株）製 ベスレジンＡ−５ １５ＧＢ） ２．５質量部 ・ブタジエン−スチレン共重合ラテックス（質量比３０／７０） ２．５質量部 ・メラミン樹脂（住友化学工業（株）製Ｓｕｍｉｔｅｘ Ｒｅｓｉｎ Ｍ−３） ２．５質量部 ・酸化アンチモン／酸化錫（石原産業（株） SN-100F） ５質量部 ・Ｃ₉Ｈ₁₉‐Ｃ₆Ｈ₄‐（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₁₂ＯＨ ０．２質量部 ・C₈H₁₇‐C₆H₄‐（ＣＨ₂ＣＨ₂O）₃（CH₂）₂SO₃K ０．１質量部 ・２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン ０．５質量部 ・エピクロルヒドリン樹脂 ０．１質量部 水 全体で１００質量部となるように添加した

【００５５】 （下塗り塗布液−Ｂ） ・アクリル樹脂（日本アクリル（株）製 ＨＡ−１６） ５質量部 ・アクリル変性共重合ポリエステル樹脂（高松樹脂（株）製 ベスレジンＡ−５ １５ＧＢ） ２．５質量部 ・ブタジエン−スチレン共重合ラテックス（質量比３０／７０） ２．５質量部 ・メラミン樹脂（住友化学工業（株）製Ｓｕｍｉｔｅｘ Ｒｅｓｉｎ Ｍ−３） ２．５質量部 ・Ｃ₉Ｈ₁₉‐Ｃ₆Ｈ₄‐（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₁₂ＯＨ ０． ２質量部 ・C₈H₁₇‐C₆H₄‐（ＣＨ₂ＣＨ₂O）₃（CH₂）₂SO₃K ０．１質量部 ・２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン ０．５質量部 ・エピクロルヒドリン樹脂 ０．１質量部 ・水 全体で１００質量部となるように添加した

【００５６】（防汚層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ
素ポリマー（ＪＮ−７２１４、日本合成ゴム（株）製）
にイソプロピルアルコールを加えて、０．２質量％の粗
分散液を調製した。粗分散液を、更に超音波分散し、防
汚層用塗布液を調製した。

【００５７】（帯電防止反射防止フィルムの形成）反射
防止透明導電性積層フイルムの作製：１８８μｍのポリ
エチレンテレフタレートフイルムの一面にワイヤーバー
を用いて下塗り層液Ａを膜厚０．２μｍになるように塗
布、乾燥し下塗り層を形成した。更に反対面に下塗り層
液Ｂを膜厚０．２μｍになるように塗布、乾燥し下塗り
層を形成した。ハードコート塗布液を層厚８μｍになる
ように塗布・乾燥し、紫外線照射しハードコート層を作
製した。コロナ処理を施した後、低屈折率層塗布液を膜
厚８０ｎｍになるように塗布・乾燥し、紫外線照射し
た。さらに、防汚層用塗布液を同様にワイヤーバーで５
ｍｇ／ｍ²塗布し１２０℃で乾燥・熱処理を行った。

【００５８】［実施例２］ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
質量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０質量
部、アニオン性モノマー（ＰＭ２１、日本化薬（株）
製）３質量部、カチオン性モノマー（ＤＭＡＥＡ、興人
（株）製）１質量部およびメチルエチルケトン６５．２
質量部を、ダイノミルにより分散し、二酸化チタン分散
物を調製した。

【００５９】（中屈折率層用塗布液Ｍ−１の調製）シク
ロヘキサノン１７２ｇおよびメチルエチルケトン４３ｇ
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）０．１８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）０．０５９ｇを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物１５．８ｇおよびジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）３．１ｇを加え、室温で３０分間撹拌し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
して、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００６０】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１８３ｇおよびメチルエチルケトン４６ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．０８５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、
日本化薬（株）製）０．０２８ｇを溶解した。さらに、
上記の二酸化チタン分散物１７．９ｇおよびジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１．０ｇを加え、室温で３０分間撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００６１】（帯電防止反射防止フィルムの形成）実施
例１と全く同様にして帯電防止層、ハードコート層を塗
設したフィルムのハードコート層にコロナ処理を施した
後、中屈折率層塗布液を膜厚８０ｎｍになるように塗布
・乾燥し、紫外線照射した。次いで同様にして高屈折率
層、低屈折率層をそれぞれ１５０ｎｍ、９５ｎｍの厚み
になるように塗設した。さらに、防汚層用塗布液を同様
にワイヤーバーで５ｍｇ／ｍ²塗布し１２０℃で乾燥・
熱処理を行った。

【００６２】［実施例３］ （中屈折率層用塗布液Ｍ−２の調製）シクロヘキサノン
１７２ｇおよびメチルエチルケトン４３ｇに、光重合開
始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）０．１
８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．０５９ｇを溶解した。さらに、酸化錫／
酸化アンチモンのＭＥＫ分散液（ＳＮＳ１０Ｍ 石原産
業（株）製）１５．８ｇおよびジペンタエリスリトール
ペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
３．１ｇを加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径１μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈折率
層用塗布液を調製した。

【００６３】（帯電防止反射防止フィルムの形成）実施
例１と全く同様にしてハードコート層を塗設したフィル
ムのハードコート層にコロナ処理を施した後、中屈折率
層塗布液Ｍ−２を膜厚８０ｎｍになるように塗布・乾燥
し、紫外線照射した以外は全く同様にして反射防止膜を
形成した。

【００６４】［比較例１］両面の下塗り層を下塗り層液
Ｂで形成した以外は実施例１と全く同様にして反射防止
膜を形成した。

【００６５】［比較例２］両面の下塗り層を下塗り層液
Ｂで形成した以外は実施例２と全く同様にして反射防止
膜を形成した。

【００６６】得られた透明導電性フィルムは、以下の方
法でその評価を実施した。 １）表面抵抗 試料を２５℃、１０％で６時間調湿し、４端子法表面抵
抗率計（三菱化学(株)製「ロレスタＧＰ」）を用いてそ
の抵抗を測定した。小さいほど好ましい。 ２）反射率 分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、４５０〜６５
０ｎｍの波長領域における入射光５゜における正反射の
平均反射率を測定した。 ３）耐傷性 スチールウール（３ｃｍ四角）に１５０ｇの荷重をかけ
てその表面を擦すり、その表面のすり傷の状態を目視で
評価した。 Ａ：傷は認められなった。 Ｂ：傷が少し認められた Ｃ：傷が相当認められた Ｄ：傷が著しく認められた 埃付き サンプルを２５℃６０％で１時間調湿後、木綿の布で表
面を３０回擦った後にタバコの灰をかけ、裏返しにした
後にタバコの灰の付着量を目視で評価した。 Ａ：灰が付着していないもの。 Ｂ：灰が少し付着したもの Ｃ：灰が相当付着したもの

【００６７】実施例１ないし比較例２の結果を表１に示
す。

【００６８】 （表１） 反射防止膜 表面抵抗値 反射率 耐傷性 埃付き ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 実施例１ ５×１０^-7 1.2 Ａ Ａ 実施例２ ３×１０^-7 0.6 Ａ Ａ 実施例３ ２×１０^-7 0.5 Ａ Ａ 比較例１ ８×10^-12 0.7 Ａ Ｃ 比較例２ ４×10^-12 0.5 Ａ Ｂ〜Ｃ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・

【００６９】［実施例４］実施例１で作成した透明導電
性フィルムをＣＲＴディスプレイの表面に粘着剤で貼り
つけた。このＣＲＴディスプレイはスチールウールでこ
すっても傷がつかず、フィルムのないディスプレイに比
べてごみのつき方も少ないことが確認された。

【００７０】

【発明の効果】本発明の反射防止膜は、塗布により簡単
に製造することができ、大量生産に適している。そし
て、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることに
より微粒子間にミクロボイドが形成されている。さら
に、微粒子内にもミクロボイドが形成されている。その
結果、低屈折率層の空隙率が高く、非常に低い屈折率の
値が得られる。さらにまた、ポリマーにより無機微粒子
が接着されているため、低屈折率層の強度も優れてい
る。粒子間および粒子内のミクロボイドはポリマーによ
り充填されていないため、ミクロボイドの屈折率低下機
能も損なわれていない。以上のような反射防止膜を用い
ることで、画像表示装置の画像表示面における光の反射
を有効に防止することができる。また、本発明の反射防
止膜には無機微粒子で強化されたハードコート層を有し
ており、陰極管表示装置の表面に配置することで、十分
な機械強度を賦与することができるとともに、埃の付着
を防止することができる。

【００７１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る反射防止膜の低屈折率
層の断面模式図である。

【図２】本発明の一実施例に係る反射防止膜の種々の層
構成を示す断面模式図である。

【符号の説明】

１ 低屈折率層 ２ ハードコート層 ３ 透明支持体 ４ 高屈折率層 ５ 中屈折率層 １１ 無機微粒子 １２ 粒子間ミクロボイド １３ 粒子内ミクロボイド １４ ポリマー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 29/89 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ ５Ｃ０５８ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｚ Ｆターム(参考） 2H042 AA07 AA26 AA27 BA02 BA04 BA12 BA20 2H091 FA37X FB02 FB06 FB12 FB13 FD06 GA02 KA01 LA07 2K009 AA07 CC03 CC06 CC09 CC23 CC26 CC33 CC34 CC42 DD02 DD05 DD06 DD07 DD08 EE03 4F100 AA01D AA17B AA19C AA20C AA21C AA27C AA28 AA29 AK01D AK12 AK17 AK25C AK29 AK36 AK41 AL01 AR00B AR00D AR00E AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA26 CC00C DE01C DE01D DJ10D GB41 JG03B JK12C JL06E JN01A JN18D YY00B YY00D 5C032 AA02 EE01 EE02 EE17 EF01 EF05 5C058 AA01 AA06 AA11 BA35 DA01 DA10

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材上に、体積抵抗率が１０^-8（Ω
   cm^-3）以下の帯電防止層と、無機微粒子および多官能ア
   クリレート化合物の架橋物で構成されるハードコート層
   と、該ハードコート層の屈折率よりも小さな屈折率を有
   する低屈折率層と、さらに最外層に形成された防汚層を
   設けたことを特徴とする帯電防止反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 ハードコート層を構成する無機微粒子が
   少なくとも酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チ
   タン、酸化ジルコニウムのいずれかから選ばれる無機微
   粒子であることを特徴とする請求項１に記載の帯電防止
   反射防止フィルム。
3. 【請求項３】 帯電防止層が実質的にZn, Ti, Al, In,
   Si, Mg, Ba, Mo, W,又はVを主成分とした金属酸化物で
   構成されることを特徴とした請求項１又は２に記載の帯
   電防止反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 該低屈折率層が、１．２０ないし１．７
   ０の屈折率を有する請求項１ないし３いずれか１項に記
   載の帯電防止反射防止フィルム。
5. 【請求項５】 該低屈折率層が無機微粒子を５０ないし
   ９５質量％およびポリマーを５ないし５０質量％含み、
   該無機微粒子の平均粒径が０．５ないし２００ｎｍ範囲
   にあり、該無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねる
   ことにより微粒子間にミクロボイドが形成したものであ
   ることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項に記
   載の帯電防止反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 低屈折率層とハードコート層との間にハ
   ードコート層よりも屈折率の高い層（高屈折率層）を設
   けたことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項に
   記載の帯電防止反射防止フィルム。
7. 【請求項７】 高屈折率層が帯電防止層と同一層である
   ことを特徴とする請求項６に記載の帯電防止反射防止フ
   ィルム。
8. 【請求項８】 高屈折率層とハードコート層との間にハ
   ードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈
   折率の低い層（中屈折率層）を設けたことを特徴とする
   請求項６又は７に記載の帯電防止反射防止フィルム。
9. 【請求項９】 中屈折率層が帯電防止層と同一層である
   ことを特徴とする請求項８に記載の帯電防止反射防止フ
   ィルム。
10. 【請求項１０】 陰極線管表示装置の表面に配置される
    ことを特徴とする請求項１ないし９いずれか１項に記載
    の帯電防止反射防止フィルム。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０いずれか１項に記
    載の帯電防止反射防止フィルムを用いた陰極線管表示装
    置。