JP2001100042A - 偏光板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 外光の反射による表示品位劣化を防止し、な
お且つＴＮモードの液晶表示装置及びカラー液晶表示装
置の視野角を拡大する。 【解決手段】 ２枚の透明支持体によって偏光層を挟持
してなる偏光板において、該透明支持体のうち一方の支
持体の偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光
学補償層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と
反対側の面に反射防止層を有する偏光板であって、該光
学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物
からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティ
ック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いてお
り、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支
持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において
変化している偏光板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学補償能及び反射
防止能を有する偏光板、それを用いた液晶表示装置及び
カラー液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示装置の構成を図１に示
す。一般的な液晶表示装置においては最裏面にエッジラ
イト方式のバックライト１１を配置し、裏面より順にバ
ックライトの光を表面に出射させる導光板１２、この光
の輝度を均一化させるための散乱シート１３、更に散乱
シートにより均一化された光を所定方向に集光する機
能、または特定の偏光を選択的に透過、反射する機能を
有する１枚または複数の調光シート１４のように配置さ
れ、これらのフィルムを通過した光が１対の偏光板１
５、１６に挟持されてなる液晶セル１７に入射する。１
８は光源の冷陰極蛍光管、１９は反射シートである。

【０００３】反射防止層は一般に、ＣＲＴ、ＰＤＰやＬ
ＣＤのような画像表示装置において、外光の反射による
コントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光
学干渉の原理を用いて反射率を低減するディスプレイの
最表面に配置される。すなわち、図１において１６の表
示側に反射防止層が設けられている。

【０００４】反射防止層としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。複数
の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を防止
するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着
（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法
の一種である真空蒸着法により形成されている。金属酸
化物の透明薄膜は、反射防止層として優れた光学的性質
を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性が低く
大量生産に適していない。蒸着法に代えて、透明支持体
上に光学的機能層を塗布により形成して反射防止層を製
造する方法も提案されている。

【０００５】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂）を混在さ
せて、膜厚方向にその混合比を変化させたときの反射防
止膜を開示している。混合比を変化させることにより屈
折率を変化させ、高屈折率層と低屈折率層を設けた反射
防止層と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エ
チルシリケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂により接着し
ている。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の
燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。同公報
の第１図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が
層から離脱することにより、超微粒子の間に空隙が生じ
ている。特開平７−４８５２７号公報は、多孔質シリカ
よりなる無機微粉末とバインダとを含有する反射防止層
を開示している。特開平９−２８８２０１号公報は、含
フッ素ポリマーからなる微粒子を二個以上積み重ねるこ
とにより、微粒子間に空隙を形成した低屈折率層を有す
る反射防止層を開示している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】空隙を有する低屈折率
層は、空隙中の空気によって非常に低い屈折率が得られ
るとの特徴がある。本発明の課題の一つは、この特徴を
生かすことにより生産性の高い塗布法を用いて、簡便か
つ安価にして十分な反射防止性能と耐傷性、防汚性を有
する反射防止フィルムを提供することである。

【０００７】ところで、ＬＣＤの表示方式は大きく複屈
折モードと旋光モードに分けることができる。複屈折モ
ードを利用する超捻れ（スーパーツィスティッド）ネマ
ティック液晶表示装置（以下、ＳＴＮ−ＬＣＤ）は、９
０度を超える捻れ角及び急峻な電気光学特性を有するス
ーパーツィスティッドネマティック液晶を用いている。
このためＳＴＮ−ＬＣＤは時分割駆動による大容量の表
示が可能である。しかしながらＳＴＮ−ＬＣＤは応答速
度が遅い（数百ミリ秒）、階調表示が困難等の問題があ
ることから、能動素子を使用した液晶表示装置（例、Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤ及びＭＩＭ−ＬＣＤ）の表示特性に比べて
劣っている。ＴＦＴ−ＬＣＤ及びＭＩＭ−ＬＣＤにおい
ては、９０度の捻れ角及び正の複屈折を有する捻れネマ
ティック液晶が、画像を表示するために使用されてい
る。これらは旋光モードであるＴＮ−ＬＣＤの表示モー
ドであり、高速応答性（数十ミリ秒）及び高いコントラ
ストが得られるため、複屈折モードに比べて多くの点で
有利である。しかしながら、ＴＮ−ＬＣＤは表示色や表
示コントラストが液晶表示装置を見るときの角度によっ
て変化するため（視野角特性）、ＣＲＴに比べて見づら
いという問題がある。

【０００８】上記視野角特性を改善するため、一対の偏
光板と液晶セルとの間に位相差板（光学補償シート）を
設けるという提案が特開平４−２２９８２８号及び特開
平４−２５８９２３号に記載されている。上記公報で提
案されている位相差板は、液晶セルに対して垂直方向の
位相差はほぼゼロであるため、真正面からは何ら光学的
作用を与えないが、傾けたときに位相差が発現する。こ
れにより液晶セルの斜め方向で発生する位相差を補償す
るものである。このような光学補償シートといては、ネ
マティック液晶の正の複屈折を補償するように負の複屈
折を有し、且つ光軸が傾いているシートが有効である。

【０００９】特開平６−７５１１５号及びＥＰ０５７６
３０４Ａ１には、負の複屈折を有し、且つ光軸が傾いて
いる光学補償シートが記載されている。このシートはポ
リカーボネートやポリエステル等のポリマーを延伸する
ことにより製造され、シートの法線から傾いた主屈折率
方向を有している。このようなシートは極めて複雑な延
伸処理が必要とされるため、この方法により大面積で均
一な光学補償シートを安定に製造するのは非常に困難で
ある。

【００１０】一方、液晶ポリマーを用いた方法も特開平
３−９３２６号及び特開平３−２９１６０１号に記載さ
れている。これは液晶性を有するポリマーを支持体上の
配向層表面に塗布することにより得られる光学補償シー
トである。しかしながら液晶性を有するポリマーは、配
向層上では十分な配向を示さないため、すべての方向に
おいて視野角を拡大することはできない。また、特開平
５−２１５９２１号には支持体と液晶性及び正の複屈折
を有する重合性棒状化合物からなる光学補償シート（複
屈折板）が記載されている。この光学補償シートは、重
合性棒状化合物の溶液を支持体に塗布、加熱硬化するこ
とにより得られる。しかしながら、この液晶性を有する
ポリマーは複屈折を持たないため、全方向の視野角を拡
大することができない。

【００１１】ところで、特開平８−５０２０６号にディ
スコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈
折を有する層を有し、該ディスコティック化合物と支持
体とのなす角度が層の深さ方向において変化しているこ
とを特徴とする光学補償シートが記載されている。この
方法によるとコントラストから見た視野角は全方向にお
いて大幅に拡大し、また斜め方向から見たときの黄変の
ような画質低下もほとんど見られない。しかしながら、
この光学補償シートのみによっては、前述の外光反射に
よる表示品位の劣化を改良することはできないため、さ
らなる改良が必要とされている。

【００１２】以上のように、本発明の課題は外光の反射
による表示品位劣化を防止し、なお且つＴＮモードの液
晶表示装置及びカラー液晶表示装置の視野角を拡大する
ことによってあらゆる方向に優れた表示品位を有する液
晶表示装置を提供すること、そしてそれらを簡便な方法
で安定に製造することによって安価に供給することであ
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。 （１） ２枚の透明支持体によって偏光層を挟持してな
る偏光板において、該透明支持体のうち一方の支持体の
偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償
層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と反対側
の面に反射防止層を有する偏光板であって、該光学異方
性層がディスコティック構造単位を有する化合物からな
る負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構
造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且
つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面
とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化し
ていることを特徴とする偏光板。 （２） 該角度が光学異方層の支持体面側からの距離の
増加とともに増加している請求項１に記載の偏光板。 （３） 該光学異方層が、更にセルロースエステルを含
んでいる（１）に記載の偏光板。 （４） 該光学異方層側の透明支持体が、光学的に負の
一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を
有し、更に下記の条件を満足する（１）に記載の偏光
板。

【数２】 ２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００ （ｄ：光学補償層厚み） （５） 光学異方層と透明支持体との間に、配向層が形
成されている（１）に記載の偏光板。 （６） 配向層がポリマーの硬化膜からなる（５）に記
載の偏光板。 （７） 光学異方層がモノドメインであるか、または
０．１μｍ以下のサイズのドメインを多数形成している
ことを特徴とする（１）に記載の偏光板。 （８） 前記反射防止層が、透明支持体及び透明支持体
の屈折率よりも低い屈折率と３乃至５０体積％の空隙率
とを有する低屈折率層が積層されてなることを特徴とす
る（１）に記載の偏光板。 （９） 該低屈折率層が粒径０．１μｍ以下の微粒子を
含み、微粒子間または微粒子内に空隙が形成されている
（８）に記載の偏光板。 （１０） 透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を有す
る高屈折率層が透明支持体と低屈折率層との間に設けら
れている（８）に記載の偏光板。 （１１） 該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオ
ーバーコート層がさらに積層されており、オーバーコー
ト層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合が７
０体積％未満であることを特徴とする（８）に記載の偏
光板。 （１２） 該オーバーコート層を形成してなる含フッ素
化合物の重量平均分子量が２万乃至２００万であって、
それ以外の分子量２万未満の低分子量成分が該オーバー
コート層固形分の５０重量％以下であることを特徴とす
る（１１）に記載の偏光板。 （１３） （１）から（１２）に記載の偏光板を、液晶
セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、表示側の
偏光板として用い、且つ光学異方層を液晶セル側へ向け
て配置することを特徴とする液晶表示装置。 （１４） 透明電極、画素電極及びカラーフィルタを有
する一対の基板と、その基板間に封入された捻れ配向し
たネマティック液晶とからなる液晶セル、液晶セルの両
側に設けられた一対の光学補償シートとその外側に配置
された一対の偏光板からなるカラー液晶表示装置におい
て、液晶セルの表示側光学補償シート及び偏光板として
（１）から（１２）に記載の偏光板を用い、且つ該光学
異方層を液晶セル側へ向けて配置し、更に液晶セルのバ
ックライト側にディスコティック構造単位を有する化合
物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有し、該
ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対
して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円
盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ
方向において変化している光学補償シートを有するカラ
ー液晶表示装置。

【００１４】更に光学異方層については以下の条件を満
たすことが好ましい。 （１） ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持
体面とのなす角度が、支持体面側からの距離の増加とと
もに増加しており、該角度が５から８５度の範囲で変化
する光学異方層。 （２） 該角度の最小値が０から８５度（より好ましく
は５から４０度）の範囲にあり、その最大値が５から９
０度（より好ましくは３０から８５度）の範囲にある光
学異方層。 （３） セルロースエステル（より好ましくはセルロー
スアセテートブチレート）を含んでいる光学異方層。 （４） 偏光板の法線方向から傾いた方向にゼロ以外の
レターデーションの絶対値の最小値を有する光学異方
層。 （５） 液晶セルの基板が一方向にラビング処理された
配向表面を有し、且つ光学異方層のレターデーションの
最小値の方向を液晶セル上に正投影したときの方向と光
学異方層に隣接する液晶セル基板のラビング方向とのな
す角が９０から２７０度となるように配置されている光
学異方層。

【発明の実施の形態】本発明の光学補償能及び反射防止
能を有する偏光板それを用いた液晶表示装置の基本的な
構成を図面を引用しながら説明する。

【００１５】図２は、光学補償層の層構成を示す断面模
式図の一例である。光学補償層は、透明支持体２１、配
向層２２、光学異方層２３の順序の層構成を有する。光
学異方層は液晶性ディスコティック化合物２４ａ、２４
ｂ、２４ｃを有し、その光軸と透明支持体の法線方向２
５に対してそれぞれθａ、θｂ、θｃの傾斜角をなす。
この傾斜角は光学異方層の透明支持体側より表面側に向
かって増加する。

【００１６】図３に光学補償層の光学特性を示す。配向
層には液晶性ディスコティック化合物を配向させるため
にラビング等の処理を施す。３１は配向層のラビング方
向を示す。ｎ１、ｎ２及びｎ３は光学補償層の直交する
三軸の屈折率を表し、正面から見たときにはｎ１≦ｎ３
≦ｎ２の関係を満たす。光学補償層は、透明支持体の法
線方向から傾いた方向にゼロ以外のレターデーションの
絶対値の最小値を有する。図中３２はレターデーション
の絶対値の最小値を示す方向と透明支持体の法線方向２
５とのなす角度である。ＴＮ−ＬＣＤの視野角特性を改
善するために、３２は５乃至５０度であることが好まし
く、１０乃至４０度が特に好ましい。

【００１７】光学補償層は下記式を満足する。

【数３】 ２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００ （ｄ：光学補償層厚み）

【００１８】また光学補償層は下記式を満足することが
好ましい。

【数４】 ５０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００

【００１９】更に光学補償層は下記式を満足することが
特に好ましい。

【数５】 １００≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
≦４００

【００２０】光学補償層に用いる透明支持体としては、
プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラス
チックフイルムの材料の例には、セルロースエステル
（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、ア
セチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−
４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタ
レート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリ
スチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイ
ミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケト
ン、市販品としてはゼオネックス（日本ゼオン（株）
製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）が含まれる。

【００２１】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることが更に好まし
い。透明支持体は正面から見たときに光学的等方性を有
するものが好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％
以下であることが好ましく、１．０％以下であることが
更に好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。これらの観点からトリアセチ
ルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレンテレ
フタレート、ゼオネックス、ＡＲＴＯＮが好ましく、Ｌ
ＣＤ用偏光板の偏光層を保護する保護膜としてはトリア
セチルセルロースが特に好ましい。

【００２２】透明支持体面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、
厚み方向の主屈折率をｎｚ、厚みをｄｂとしたとき、主
屈折率の関係がｎｚ＜ｎｙ＝ｎｘ（負の一軸性）を満足
し、｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表されるレタ
ーデーションが２０乃至４００ｎｍである。透明支持体
のレターデーションは３０乃至１５０ｎｍであることが
より好ましい。またｎｘとｎｙは厳密に等しい必要はな
く、｜ｎｘ−ｎｙ｜／｜ｎｘ−ｎｚ｜≦０．２であれば
実用上問題ない。｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄｂで表される正面
レターデーションは５０ｎｍ以下であることが好まし
く、２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。

【００２３】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えば
トリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ
（メタ）アクリレート樹脂及びその置換体、スチレン−
ブタジエン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機械
処理、コロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行っ
てもよい。

【００２４】配向層はその上に設けられる液晶性ディス
コティック化合物の配向方向を規定するように機能す
る。そしてこの配向が透明支持体の法線方向から傾いた
光軸を与える。配向層は光学異方層に配向性を付与でき
れば特に限定されない。配向層の好ましい例としては、
有機化合物により形成された表面をラビング処理した
層、無機化合物の斜方蒸着層、レジストによるパターニ
ング等により形成されたマイクログルーブ層、あるいは
ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウム
クロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・
ブロジェット膜、さらに電場あるいは磁場により配向さ
れた誘電体層を挙げることができる。ラビング処理層は
製造上、簡便且つ安価であるため好ましい。

【００２５】配向層用の有機化合物としては、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合
体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルア
ルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ス
チレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素
化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビ
ニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重
合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート等のポリマー及びシラ
ンカップリング剤等の化合物が含まれる。中でもポリイ
ミド、ポリスチレン、ポリビニルアルコール及びアルキ
ル基（炭素数６以上が好ましい）を含有するアルキル変
性ポリビニルアルコールが好ましく、アルキル基（炭素
数６以上が好ましい）含有アルキル変性ポリビニルアル
コールが特に好ましい。ポリイミドとしては、ポリアミ
ック酸（例えば日立化成（株）製ＬＱ／ＬＸシリーズ、
日産化学（株）製ＳＥシリーズ等）を塗布し、１００乃
至３００℃で０．５乃至１時間焼成したものが挙げら
れ、アルキル変性ポリビニルアルコールとしてはＭＰ１
０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０（いずれもクラレ（株）
製）が挙げられる。

【００２６】また、前記ラビング処理はＬＣＤの液晶配
向処理工程として広く採用されている処理方法を利用す
ることができる。即ち、配向層表面を紙やガーゼ、フェ
ルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維等を用
いて一定方向に擦ることによって配向を得る方法を用い
ることができる。一般的には長さ及び太さが均一な繊維
を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行
う。

【００２７】また、光学異方層を配向層を用いずに配向
させてもよい。これは光学異方層を形成する液晶性ディ
スコティック化合物層を電場、磁場、偏光照射あるいは
斜め非偏光照射等によって配向させる方法が挙げられ
る。

【００２８】光学異方層はディスコティック構造単位を
有する化合物からなる負の複屈折を有する層である。光
学異方層は液晶性ディスコティック化合物の層または重
合性ディスコティック化合物の硬化により得られるポリ
マー層である。本発明のディスコティック化合物の例と
しては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載さ
れているベンゼン誘導体、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２
巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｉｃｓ．Ｌｅｔ
ｔ，Ａ、７８巻、８２頁（１９９０年）に記載されてい
るトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａ
ｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９６巻、７０頁（１９８
４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．
Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．
１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報
告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５
頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフ
ェニルアセチレン系マクロサイクル等を挙げることがで
きる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般
にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やア
ルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖とし
て放射状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般
にディスコティック液晶と呼ばれるものが含まれる。但
し、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与で
きるものであれば上記記載に限定されるものではない。
また本発明において、「ディスコティック化合物から形
成した」とは最終的にできたものが上記化合物である必
要はなく、例えば低分子ディスコティック液晶が熱、電
離放射線等で架橋する官能基を有しており、熱または電
離放射線照射によって高分子量化して液晶性を失ったも
のも含まれる。

【００２９】該ディスコティック化合物の好ましい例を
下記に示す。

【００３０】

【化１】

【００３１】

【化２】

【００３２】

【化３】

【００３３】

【化４】

【００３４】

【化５】

【００３５】

【化６】

【００３６】

【化７】

【００３７】

【化８】

【００３８】

【化９】

【００３９】

【化１０】

【００４０】

【化１１】

【００４１】

【化１２】

【００４２】光学異方層はディスコティック化合物及び
他の化合物を溶解してなる塗布液を配向層上に塗布、乾
燥し、次いでディスコティックネマティック相形成温度
まで加熱し、その配向状態を維持したまま冷却すること
により得られる。あるいはディスコティックネマティッ
ク相形成温度まで加熱した後、電離放射線照射により重
合させて固定してもよい。ディスコティックネマティッ
ク液晶相−固相転移温度としては５０乃至３００℃が好
ましく、７０乃至１７０℃が特に好ましい。

【００４３】光学異方層には、液晶性ディスコティック
化合物の傾斜角、ディスコティックネマティック相形成
温度、相溶性、塗布性等をコントロールするために、可
塑剤や界面活性剤、重合性モノマー、高分子化合物等、
ディスコティック化合物の配向を阻害しない限り如何な
る化合物を添加してもよい。

【００４４】重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニ
ルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有
するものが好ましい。重合性モノマーはディスコティッ
ク化合物に対して１乃至５０重量％、好ましくは５乃至
３０重量％用いることができる。

【００４５】高分子化合物は、ディスコティック化合物
との相溶性を有していれば如何なるものも用いることが
できる。高分子化合物としてはセルロースエステルが好
ましく、中でもセルロースアセテートブチレートが特に
好ましい。高分子化合物はディスコティック化合物に対
し、０．１乃至１０重量％、好ましくは０．１乃至５重
量％用いることができる。また、セルロースアセテート
ブチレートのブチリル化度は３０乃至８０％が好まし
く、アセチル化度は３０乃至８０％が好ましい。

【００４６】図４−ａは、反射防止層の層構成を示す断
面模式図の一例である。反射防止層は、透明支持体４
１、ハードコート層４２、低屈折率層４５の順序の層構
成を有する。低屈折率層の屈折率と膜厚が下記式を満足
することが好ましい。

【００４７】

【数６】 ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３

【００４８】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００４９】図４−ｂは、反射防止層の層構成を示す断
面模式図の一例である。反射防止層は、透明支持体４
１、ハードコート層４２、高屈折率層４４、低屈折率層
４５の順序の層構成を有する。図４−ｂのように、高屈
折率層４４と低屈折率層４５とを有する反射防止層で
は、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されているよ
うに、高屈折率層が下記式（Ｉ）、低屈折率層が下記式
（ＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。

【００５０】

【数７】 ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３ （Ｉ）

【００５１】式中、ｍは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ₁は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ₁は高屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００５２】

【数８】 第２層 ｎλ／４×０．７＜ｎ₂ｄ₂＜ｎλ／４×１．３ （ ＩＩ）

【００５３】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ₂は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₂は低屈折
率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００５４】図４−ｃは、反射防止層の層構成を示す断
面模式図の一例である。反射防止層は、透明支持体４
１、ハードコート層４２、中屈折率層４３、高屈折率層
４４、低屈折率層４５の順序の層構成を有する。図４−
ｃのように、中屈折率層４３、高屈折率層４４と低屈折
率層４５とを有する反射防止膜では、特開昭５９−５０
４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が下
記式（ＩＩＩ)、高屈折率層が下記式（ＩＶ）、低屈折
率層が下記式（Ｖ）をそれぞれ満足することが好まし
い。

【００５５】

【数９】 第１層 ｈλ／４×０．７＜ｎ₃ｄ₃＜ｈλ／４×１．３ （ ＩＩＩ）

【００５６】式中、ｈは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ₃は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ₃は中屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００５７】

【数１０】 第２層 ｊλ／４×０．７＜ｎ₄ｄ₄＜ｊλ／４×１．３ （ ＩＶ）

【００５８】式中、ｊは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ₄は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ₄は高屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００５９】

【数１１】 第３層 ｋλ／４×０．７＜ｎ₅ｄ₅＜ｋλ／４×１．３ （ Ｖ）

【００６０】式中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ₅は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₅は低屈折
率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００６１】図４−ｄは、反射防止層の層構成を示す断
面模式図の一例である。反射防止層は、透明支持体４
１、ハードコート層４２、中屈折率層４３、高屈折率層
４４、低屈折率層４５、オーバーコート層４６の順序の
層構成を有する。 中屈折率層、高屈折率層、低屈折率
層の屈折率と膜厚は図４−ｃと同様である。オーバーコ
ート層は撥水、撥油性による防汚性付与、滑り性による
耐傷性改良の効果があり、光学特性上、屈折率に制約は
ないが、膜厚は２０ｎｍ以下であることが好ましい。

【００６２】反射防止層に用いる透明支持体としては、
プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラス
チックフイルムの材料の例には、セルロースエステル
（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、ア
セチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−
４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタ
レート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリ
スチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイ
ミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケト
ン、市販品としてはゼオネックス（日本ゼオン（株）
製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）が含まれる。

【００６３】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることが更に好まし
い。透明支持体は正面から見たときに光学的等方性を有
するものが好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％
以下であることが好ましく、１．０％以下であることが
更に好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。これらの観点からトリアセチ
ルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレンテレ
フタレート、ゼオネックス、ＡＲＴＯＮが好ましく、Ｌ
ＣＤ用偏光板の偏光層を保護する保護膜としてはトリア
セチルセルロースが特に好ましい。

【００６４】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えば
トリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ
（メタ）アクリレート樹脂及びその置換体、スチレン−
ブタジエン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機械
処理、コロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行っ
てもよい。ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭化
水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーで
あることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有する
ポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポリ
マーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主
鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマー
の重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバ
インダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性
不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

【００６５】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基
を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による
重合反応により硬化させる必要がある。

【００６６】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００６７】更にハードコート層には、屈折率の調節や
膜の硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても
良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．５μ
ｍ以下のものが好ましく、０．２μｍ以下のものが特に
好ましい。無機微粒子としては二酸化ケイ素粒子、二酸
化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭
酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリ
ンおよび硫酸カルシウム粒子があげられ、二酸化ケイ素
粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子が特に
好ましい。無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全
重量の１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０
乃至８０重量％であると更に好ましく、３０乃至６０重
量％が特に好ましい。ハードコート層の厚さは１乃至１
５μｍであることが好ましい。

【００６８】図の４−ｂに示すように、低屈折率層と透
明支持体との間に高屈折率層を設けてもよい。また、図
の４−ｃに示すように、高屈折率層と透明支持体との間
に中屈折率層を設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、
１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０
乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層
の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率
との間の値となるように調整する、中屈折率層の屈折率
は、１．５５乃至１．８０であることが好ましい。高屈
折率層および中屈折率層のヘイズは、３％以下であるこ
とが好ましい。

【００６９】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００７０】屈折率の高い無機微粒子を前述のモノマー
と開始剤、有機置換されたケイ素化合物、または上記ポ
リマー中に分散してもよい。無機微粒子としては、金属
（例、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アン
チモン）の酸化物が好ましい。モノマーと開始剤を用い
る場合は、塗布後に電離放射線または熱による重合反応
によりモノマーを硬化させることで、耐傷性や密着性に
優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。無機微粒
子の平均粒径は、１０乃至１００ｎｍであることが好ま
しい。

【００７１】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例には、金属
アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−Ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ-ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
−Ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
Ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−sec-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ−イソ
プロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−
ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エ
トキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセ
チルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセ
トネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチル
アセトアセテート、アルミニウムジ−Ｉ−プロポキシド
モノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジ
ルコニウムモノエチルアセトアセテート）、有機酸塩
（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）およびジルコニ
ウムを主成分とする活性無機ポリマーが含まれる。

【００７２】低屈折率層に用いる化合物としては、フッ
素原子を有する化合物、一般式に示される有機置換され
たケイ素系化合物が含まれる。これら以外の化合物と併
用してもよい。 Ｒ１ａＲ２ｂＳｉＸ_4-(a+b) （ここでＲ１、Ｒ２は各々アルキル基、アルケニル基、
アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有
する炭化水素基。Ｘはアルコキシル、アルコキシアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。ａ、ｂは各々０、１または２でか
つａ＋ｂが１または２である。）であらわされる化合物
ないしはその加水分解生成物である。また、層内に光の
波長以下のサイズの空気または真空からなるミクロボイ
ドを均一に有することによって、低屈折率層を形成する
こともできる。

【００７３】ミクロボイドにより低屈折率層内に３乃至
５０体積％、好ましくは５乃至３５体積％の空隙率を有
する。低屈折率層のミクロボイドは一般的に知られてい
るゾル−ゲル法による二酸化炭素と水蒸気離脱時の形成
や、特開平９−２８８２０１号に記載のように粒径０．
１μｍ以下の微粒子を含み、微粒子間または微粒子内に
形成する方法等が知られている。微粒子内にミクロボイ
ドを形成する方法としては、ゾル−ゲル法（特開昭５３
−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記
載）または析出法（ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ、２
７、３３５６（１９８８）．に記載）等が知られてい
る。

【００７４】低屈折率層に用いられるフッ素化合物は、
フッ素原子を有するモノマーを重合して形成されたポリ
マーが含まれる。モノマー単位の具体例としては、例え
ばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パー
フルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール
等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化ア
ルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニ
ルエーテル類等であり、これらの中から一つまたは複数
のモノマーを任意の比率で組み合わせて共重合により目
的のポリマーを得ることができる。

【００７５】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００７６】反射防止膜には、さらに図４−ｄのように
オーバーコート層を設けてもよい。特に低屈折率層の上
に、滑り層または防汚層を設けることが好ましい。滑り
層に用いる滑り剤の例には、ポリオルガノシロキサン
（例、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサ
ン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシ
ロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン）、天
然ワックス（例、カルナウバワックス、キャンデリラワ
ックス、ホホバ油、ライスワックス、木ろう、蜜ろう、
ラノリン、鯨ろう、モンタンワックス）、石油ワックス
（例、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワッ
クス）、合成ワックス（例、ポリエチレンワックス、フ
ィッシャー・トロプシュワックス）、高級脂肪脂肪酸ア
ミド（例、ステアラミド、オレインアミド、Ｎ，Ｎ’−
メチレンビスステアラミド）、高級脂肪酸エステル
（例、ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチル、グリ
セリンモノステアレート、ソルビタンモノオレエー
ト）、高級脂肪酸金属塩（例、ステアリン酸亜鉛）およ
びフッ素含有ポリマー（例、パーフルオロ主鎖型パーフ
ルオロポリエーテル、パーフルオロ側鎖型パーフルオロ
ポリエーテル、アルコール変性パーフルオロポリエーテ
ル、イソシアネート変性パーフルオロポリエーテル）が
含まれる。

【００７７】防汚層には、撥水、撥油性の観点から含フ
ッ素化合物が用いられる。含フッ素化合物としてはパー
フルオロポリエーテル潤滑剤（例えばＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ６０（アウジモント製））やパーフルオロアルキル基
含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，
１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシランやＫＰ
−８０１Ｍ（信越シリコーン製）等）等の他、含フッ素
モノマーを構成単位とする含フッ素ポリマーが挙げられ
る。モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオ
レフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフル
オライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエ
チレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−
２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メ
タ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエス
テル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学
製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部
分フッ素化ビニルエーテル類等であり、これらの中から
一つまたは複数のモノマーを任意の比率で組み合わせて
共重合させることにより目的のポリマーを得ることがで
きる。該ポリマーは上記含フッ素モノマーを含んでいれ
ば、可撓性や架橋性等の機能を付与するために構成単位
として非フッ素モノマーを含んでもよい。非フッ素モノ
マーを構造単位に含むポリマーとしては、上記フッ素モ
ノマーと（メタ）アクリレート（エステル）モノマーの
共重合体や、さらに滑り性を付与するための構造を有し
ているＪＮ−７２１９、ＪＮ−７２２１、ＪＮ−７２２
５（いずれもＪＳＲ（株）製）が挙げられる。滑り性と
防汚性の両立の観点から、オーバーコート層にはＪＮ−
７２１９、ＪＮ−７２２１、ＪＮ−７２２５が好まし
い。

【００７８】低屈折率層の上にオーバーコート層を積層
すると、低屈折率層のミクロボイドにオーバーコート層
を形成する素材が浸入して空隙率が低下してしまい、好
ましくない。低屈折率を維持するためには、オーバーコ
ート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合が
７０体積％未満であることが好ましい。具体的には、塗
布する際に塗布液中の素材をラテックスのような微粒子
にする方法、エマルジョンのようにする方法、または高
分子量化する方法のいずれかによって、オーバーコート
を形成する素材をミクロボイドよりも大きくする方法が
挙げられる。中でも、高分子量化は皮膜形成性の観点か
ら特に好ましい。

【００７９】オーバーコート層を形成する含フッ素化合
物を高分子量化する場合、含フッ素化合物の重量平均分
子量が３万乃至２００万、好ましくは５万乃至２００万
であって、架橋剤や界面活性剤のようなそれ以外の分子
量２万未満の低分子量成分が該オーバーコート層固形分
の５０重量％以下、好ましくは２０重量％以下とするこ
とにより達成される。

【００８０】保護層の厚さは、反射防止機能に影響しな
いようにするため、２０ｎｍ以下であることが好まし
く、１０ｎｍであると更に好ましい。。

【００８１】反射防止層に防眩性を付与するために、反
射防止層に凹凸を形成してもよい。凹凸を形成する方法
としては、特開昭Ｓ６１−２０９１５４に記載されてい
る透明支持体上にバインダに粒子を添加した凹凸層を塗
布したものや、特開平６−１６８５１に記載されている
あらかじめ凹凸面を形成したフィルムを透明支持体上の
塗布層に貼り合わせて凹凸を転写させたもの、または透
明支持体に直接またはハードコート層のごとき他の層を
介してエンボス加工により凹凸を形成したものの上に反
射防止層を塗布する方法や、反射防止層を形成した後に
エンボス加工により凹凸を形成する方法が挙げられる。
凹凸上に反射防止層を形成する場合、レベリングによっ
て膜厚分布が生じ、反射防止能が悪化するので好ましく
ない。塗布型反射防止層に防眩性を付与する場合は、反
射防止層を形成した後にエンボス加工により凹凸を形成
する方法が好ましい。

【００８２】エンボスによって凹凸を形成する場合に
は、ハードコート層はほとんど塑性変形を起こさないた
め、凹凸形成は透明支持体の塑性変形によりなされる
が、透明支持体よりも変形しやすい（メタ）アクリル酸
エステルからなるポリマー層を透明支持体とハードコー
ト層の下に設けることにより、外部からの圧力による塑
性変形をより大きくし、結果として表面凹凸を形成しや
すくすることができる。また、この工程は圧力だけでな
く熱を併用することができるが、（メタ）アクリル酸エ
ステルのガラス転移点温度よりも高い温度で行うことに
より、さらに塑性変形を促進することができる。また、
この（メタ）アクリル酸エステルのエステル部の構造を
変えることにより、ポリマーのガラス転移点温度を任意
に設定することができるが、ガラス転移点温度は常温と
透明支持体のガラス転移点温度として一般的な１４０乃
至２００℃の間にあることが好ましく、具体的には８０
乃至１１０℃が好ましい。これは、常温においてはガラ
ス転移点より小さいために反射防止膜のハードコート性
を損なうことがなく、凹凸形成時には透明支持体の光
学、力学物性を変化させることなく、変形層の塑性変形
のみを促進することができるからである。

【００８３】光学補償層及び反射防止層の各層は、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書）により、塗布により形成するこ
とができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時
塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同
２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５
２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、
２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

【００８４】図５に本発明の光学補償能及び反射防止能
を有する偏光板の構成図の一例を示す。本発明の偏光板
は、２枚の透明支持体２１、４１によって偏光層５１を
挟持してなり、該透明支持体のうち一方の支持体の偏光
層と反対側の面に光学異方層２３を含んでなる光学補償
層５２を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と反
対側の面に反射防止層５３を有する。

【００８５】本発明の光学補償能及び反射防止能を有す
る偏光板は、液晶表示装置に適用する。液晶表示装置の
構成図の一例を図６に示す。反射防止層６１は表示側偏
光板として反射防止層を表示側へ向けて配置し、光学補
償層６２ｂは粘着剤６５等を介して液晶セル６３に貼合
される。そしてバックライト側偏光板にもこの光学補償
層を有する偏光板を用い、光学補償層６２ａは粘着剤等
を介して液晶セルに貼合される。

【００８６】図７に光学補償を行うための本発明の偏光
板の代表的な配置図を示す。バックライト７４側が下側
であるが、下側光学補償層６２ａのラビング方向は７１
ａ、上側光学補償層６２ｂのラビング方向は７１ｂであ
る。液晶セル６３の破線矢印７２ａはバックライト側液
晶セル基板のラビング方向を、実線７２ｂは表示側液晶
セル基板のラビング方向を示し、７３ａ、７３ｂはそれ
ぞれ偏光板の透過軸である。

【００８７】また図７以外の配置図として、光学補償層
は上記のように上下２枚の偏光板に分割して設けなくて
もよい。つまり、下側偏光板の液晶セル側に２層の光学
異方層を設けることができる。

【００８８】本発明のカラー液晶表示装置の代表的構成
図を図８に示す。図８において、対向透明電極８２とカ
ラーフィルタ８５を備えたガラス基板８４ａ、画素電極
８３とＴＦＴ８６を備えたガラス基板８４ｂ、この２枚
の基板間に封入された捻れ配向ネマティック液晶８１と
からなる液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の
偏光板８７ａ、８７ｂが組み合わせられてカラー液晶表
示装置を構成している。このうち、８７ｂが本発明の偏
光板であって、８７ａは図のように光学異方層を設けて
もよい。あるいは前述の通り、下側偏光板に２層の光学
異方層を設けることもできる。

【００８９】以下、本発明を詳細に説明するために、以
下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００９０】

【実施例】

【００９１】（ハードコート層用塗布液の調製）ジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒
に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０
ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５３であった。さらにこの溶液を孔径３０μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコー
ト層の塗布液を調製した。

【００９２】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率２．７
０）３０重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：ＤＭ
ＡＥＡ、興人（株）製）０．３重量部およびメチルエチ
ルケトン６５．２重量部をサンドグラインダーにより分
散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００９３】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．０
ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００９４】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン３７．
２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解した。さ
らに、上記の二酸化チタン分散物１３．１３ｇおよびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室温で３０分間
攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルター
でろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００９５】（低屈折率層用塗布液の調製）シリカ微粒
子のメタノール分散液（Ｒ５０７、日産化学（株）製）
２００ｇにシランカップリング剤（ＫＢＮ−８０３、信
越シリコーン（株）製）１０ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇ
を加え、室温で５時間撹拌した後、４日間室温で放置し
て、シランカップリング処理したシリカ微粒子の分散物
を調製した。分散物１４９ｇに、イソプロピルアルコー
ル７８９ｇおよびメタノール４５０ｇを加えた。光重合
開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３．
２１ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化
薬（株）製）１．６０５ｇを３１．６２ｇのイソプロピ
ルアルコールに溶解した溶液を加え、さらに、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トーツヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．１７ｇを７８．１３ｇのイソプロピル
アルコールに溶解した溶液を加えた。混合物を２０分間
室温で撹拌し、１μｍのメッシュのフィルターで濾過し
て、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００９６】（オーバーコート層用塗布液Ａの調製）熱
架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１９、ＪＳＲ
（株）製）溶液にメチルイソブチルケトンを加えて１．
０重量％とし、１μｍのメッシュのフィルターで濾過し
て、オーバーコート層用塗布液Ａを調製した。

【００９７】（オーバーコート層用塗布液Ｂの調製）熱
架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１９、ＪＳＲ
（株）製）溶液の低分子成分を除去した。得られた含フ
ッ素ポリマーの分子量は重量平均分子量７万であった。
この含フッ素ポリマーにメチルイソブチルケトンを加え
て１．０重量％とし、１μｍのメッシュのフィルターで
濾過して、オーバーコート層用塗布液Ｂを調製した。

【００９８】（配向層用塗布液の調製）直鎖アルキル変
性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）
製）３０ｇに水１３０ｇ、メタノール４０ｇを加えて攪
拌、溶解した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過して、配向層用塗布液を調製した。

【００９９】（光学異方層用塗布液Ａの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：８、ｍ＝４）を１．６ｇ、フェノキシジエチレン
グリコールアクリレート（Ｍ−１０１、東亜合成（株）
製）０．４ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡ
Ｂ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．０５ｇ
及び光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギ
ー社製）０．０１ｇを３．６５ｇのメチルエチルケトン
に溶解した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、光学異方層用塗布液Ａを調製した。

【０１００】（光学異方層用塗布液Ｂの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：８、ｍ＝４）を１．８ｇ、エチレングリコール変
性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６
０、大阪有機化学工業（株）製）０．２ｇ、セルロース
アセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマ
ンケミカル社製）０．０４ｇ及び光重合開始剤（イルガ
キュア−９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ及び光
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
０．０２ｇを３．４３ｇのメチルエチルケトンに溶解し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、光学異方層用塗布液Ｂを調製した。

【０１０１】（光学異方層用塗布液Ｃの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：３）１．８ｇを７．２ｇのメチルエチルケトンに
溶解した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルター
でろ過して、光学異方層用塗布液Ｃを調製した。

【０１０２】［実施例１］ （反射防止フィルムの作成）８０μｍの厚さのトリアセ
チルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空
冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ６μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８
０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、厚
さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することにより、
反射防止層を有するフィルムを作成した。

【０１０３】（光学補償フィルムの作成）ゼラチン薄膜
（０．１μｍ）の下塗り層を有する１２０μｍの厚さの
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム
（株）製）に、上記配向層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、６０℃で乾燥した後、ラビング処理を行っ
て、厚さ０．５μｍの配向層を形成した。この配向層付
きトリアセチルセルロースの厚みをマイクロメータを用
いて測定し、種々の方向からのレターデーションをエリ
プソメータ（ＡＥＰ−１００、（株）島津製作所製）に
より測定し、前記｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ、及び｛（ｎｘ＋
ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄを決定したところ、｜ｎｘ−ｎ
ｙ｜×ｄは３ｎｍ、｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
は６０ｎｍであった。つまりこのトリアセチルセルロー
スはほぼ負の一軸性フィルムであり、光軸はほぼフィル
ムの法線方向にあった。その配向層上に、上記光学異方
層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後さらに３分間加熱、液晶の熟成を行ってディ
スコティック化合物を配向させた後、１２０℃のまま１
６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフ
ィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ１．８μｍの光学異方層を形成する
ことにより、光学補償フィルムを作成した。

【０１０４】（偏光板の作成）前記反射防止フィルム及
び光学補償フィルムを１．５Ｎ ＮａＯＨ水溶液にてケ
ン化処理し、ヨウ素ドープした延伸ポリビニルアルコー
ルからなる偏光層を、反射防止フィルム及び光学補償フ
ィルムのトリアセチルセルロース面で挟んで接着して実
施例１の偏光板を作成した。

【０１０５】［実施例２］実施例１の低屈折率層上に上
記オーバーコート層用塗布液Ａをバーコーターを用いて
塗布し、１２０℃で乾燥して、厚さ２０ｎｍのオーバー
コート層を形成することにより、反射防止層を有するフ
ィルムを作成した。この反射防止フィルムの他は実施例
１と同様にして実施例２の偏光板を作成した。

【０１０６】［実施例３］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空
冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ４μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
高屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライ
ドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照
度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高
屈折率層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗布
液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ０．０９２μｍの低屈折率層を形
成した。その上に、上記オーバーコート層用塗布液Ａを
バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥して、厚
さ２０ｎｍのオーバーコート層を形成することにより反
射防止層を有するフィルムを作成した。この反射防止フ
ィルムの他は実施例１と同様にして実施例３の偏光板を
作成した。

【０１０７】［実施例４］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空
冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ４μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライ
ドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照
度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０８μｍの中
屈折率層を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布
液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高屈折率層を形成
した。その上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコータ
ーを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃ
ｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス
（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量
３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、厚さ０．０９２μｍの低屈折率層を形成した。その
上に、上記オーバーコート層用塗布液Ａをバーコーター
を用いて塗布し、１２０℃で乾燥して、厚さ２０ｎｍの
オーバーコート層を形成することにより反射防止層を有
するフィルムを作成した。この反射防止フィルムの他は
実施例１と同様にして実施例４の偏光板を作成した。

【０１０８】［実施例５］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空
冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ４μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１
２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライ
ドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照
度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０８μｍの中
屈折率層を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布
液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高屈折率層を形成
した。その上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコータ
ーを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃ
ｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス
（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量
３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、厚さ０．０９２μｍの低屈折率層を形成した。その
上に、上記オーバーコート層用塗布液Ｂをバーコーター
を用いて塗布し、１２０℃で乾燥して、厚さ２０ｎｍの
オーバーコート層を形成することにより反射防止層を有
するフィルムを作成した。この反射防止フィルムの他は
実施例１と同様にして実施例５の偏光板を作成した。

【０１０９】［実施例６］ （防眩性の付与）実施例５の反射防止フィルムに、片面
エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）を用
いて、プレス圧力６００Ｋｇ／ｃｍ、プレヒートロール
温度１２０℃、エンボスロール温度１２０℃、処理速度
２m／分の条件でエンボス処理を行い、防眩性反射防止
フィルムを作成した。この反射防止フィルムの他は実施
例１と同様にして実施例６の偏光板を作成した。得られ
た防眩性反射防止膜について、４５０〜６５０ｎｍの波
長における平均反射率、ヘイズ値および表面の鉛筆硬度
を測定した結果、平均反射率１．０％、ヘイズ１．５
％、鉛筆硬度Ｈであった。

【０１１０】［実施例７］実施例１の配向層上に、上記
光学異方層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、
１２０℃で乾燥の後さらに３分間加熱、液晶の熟成を行
ってディスコティック化合物を配向させた後、１２０℃
のまま１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ１．８μｍの光学異方層を形
成することにより、光学補償フィルムを作成した。この
光学補償フィルムの他は実施例１と同様にして実施例７
の偏光板を作成した。

【０１１１】［実施例８］実施例５の反射防止フィルム
と光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を粘着
剤加工し、偏光層保護フィルムとしてトリアセチルセル
ロースを用いている市販の偏光板（（株）サンリッツ
製）の両面に貼り合わせることにより、実施例８の偏光
板を作成した。

【０１１２】［実施例９］実施例１の光学補償フィルム
のトリアセチルセルロース面を粘着剤加工し、偏光層保
護フィルムとして片面にトリアセチルセルロース、もう
一方の面に蒸着により形成された反射防止層付きトリア
セチルセルロースを用いている市販の偏光板（（株）サ
ンリッツ製）のトリアセチルセルロース保護膜側に貼り
合わせることにより、実施例９の偏光板を作成した。

【０１１３】［比較例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空
冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ４μｍのハードコート層を形成した。このハードコー
ト性フィルムを反射防止フィルムの代わりに用いる他は
実施例１と同様にして比較例１の偏光板を作成した。

【０１１４】［比較例２］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）を
光学補償フィルムの代わりに用いる他は実施例５と同様
にして比較例２の偏光板を作成した。

【０１１５】［比較例３］実施例１の配向層上に、上記
光学異方層用塗布液Ｃをバーコーターを用いて塗布し、
１８０℃で乾燥の後さらに１分間加熱、液晶の熟成を行
ってディスコティック化合物を配向させた後、室温まで
冷却し、厚さ１．０μｍの光学異方層を形成することに
より、光学補償フィルムを作成した。この光学補償フィ
ルムの他は実施例５と同様にして比較例７の偏光板を作
成した。

【０１１６】（反射防止フィルムの評価）得られた反射
防止フィルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （３）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止層を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：△ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：× （４）接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる ：○ 指紋がやや見える ：△ 指紋がほとんど拭き取れない ：×

【０１１７】（５）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。 （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：×

【０１１８】（光学補償フィルムの評価）得られた光学
補償フィルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （２）光軸、傾斜角変化 この光学補償フィルムについて、ラビング軸を含み光学
補償フィルム面に垂直な面においてあらゆる方向からの
レターデーションをエリプソメータ（ＡＥＰ−１００、
（株）島津製作所製）で測定し、さらに測定部分の光学
異方層を除去した後の支持体及び配向層のみのレターデ
ーションを同様に測定した。この２つの測定値から光学
異方層のみの光学特性（レターデーションの測定角依存
性）を得ることにより、レタデーションがゼロの方向を
光軸とし、光軸の有無を調べた。また、光学特性のフィ
ッティングによりディスコティック化合物の支持体表面
からの傾き（傾斜角変化）を計算した。 （３）ドメインのサイズ 光学異方層に形成されたドメインのサイズを偏光顕微鏡
観察により測定した。

【０１１９】表１に実施例及び比較例の結果を示す。

【０１２０】

【表１】

【０１２１】次に、実施例１、５、６、７、８、９及び
比較例１〜３のフィルムを用いて図６のような液晶表示
装置を作成した。表側偏光板の光学補償フィルムにはぞ
れぞれの例に用いたのと同じ光学補償フィルムを用い
た。液晶セルはネマティック液晶を９０°の捻れ角で、
且つ４．５μｍのギャップサイズとなるように挟んだ。
図９に示すように、下側光学補償フィルムのラビング方
向７１ａと下側基板のラビング方向７２ａのなす角９１
が１８０度、上側光学補償フィルムのラビング方向７１
ｂと上側基板のラビング方向７２ｂのなす角９２が１８
０度となるようにし、図７のように配置した。

【０１２２】（液晶表示装置の評価）得られた液晶表示
装置について、以下の項目の評価を行った。 （１）正面コントラスト 得られたＴＮ−ＬＣＤに５５Ｈｚの矩形波の電圧を０か
ら５Ｖで印加し、正面方向のコントラストを分光計（Ｌ
ＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）を用いて測定し
た。 （２）視野角 得られたＴＮ−ＬＣＤに５５Ｈｚの矩形波の電圧を０か
ら５Ｖで印加し、上／下、左／右方向へ傾いた方向のコ
ントラストを分光計（ＬＣＤ−５０００、大塚電子
（株）製）を用いて測定した。視野角はコントラスト１
０以上となる角度範囲とした。 （３）室内での視認性 得られたＴＮ−ＬＣＤの室内での黒表示における黒のし
まりを以下のように目視評価した。 ◎：室内の明るさが気にならないくらい黒がしまる ○：室内の明るさの影響を受けるが、十分黒がしまる △：斜め方向でやや黒のしまりが悪くなる ×：黒のしまりが悪い

【０１２３】表２に実施例及び比較例の結果を示す。

【０１２４】

【表２】

【０１２５】次に、ＴＦＴ型液晶カラーテレビ６Ｅ−Ｃ
３（シャープ（株）製）の偏光板を剥がして、実施例
１、５、６、７、８、９及び比較例１〜３の偏光板を用
いてカラー液晶表示装置を作成した。

【０１２６】（カラー液晶表示装置の評価）得られた液
晶表示装置について、以下の項目の評価を行った。 （１）視野角 得られたカラー液晶表示装置について白表示、黒表示を
行い、上／下、左／右方向へ傾いた方向のコントラスト
を分光計（ＬＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）を用
いて測定した。視野角はコントラスト１０以上となる角
度範囲とした。

【０１２７】表３に実施例及び比較例の結果を示す。

【０１２８】

【表３】

【０１２９】

【発明の効果】本発明の光学補償能及び反射防止能を有
する偏光板、それを用いた液晶表示装置及びカラー液晶
表示装置により、外光の反射による表示品位の劣化を改
良し、なお且つＴＮモードの液晶表示装置及びカラー液
晶表示装置の視野角を拡大することによってあらゆる方
向に優れた表示品位を有する液晶表示装置を提供するこ
とができる。しかも、塗布という量産性に優れた方法を
用いることによって、それらを簡便で安定に製造するこ
とができ、本発明の光学補償能及び反射防止能を有する
偏光板を安価に供給することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の液晶表示装置の代表的な構成を示す図で
ある。

【図２】光学補償フィルムの代表的な層構成を示す断面
模式図である。

【図３】光学補償フィルムの代表的な構成及び３軸の主
屈折率の関係を示す図である。

【図４】反射防止フィルムの代表的な層構成を示す断面
模式図である。

【図５】光学補償能及び反射防止能を有する偏光板の代
表的な層構成を示す断面模式図である。

【図６】本発明の偏光板を用いた液晶表示装置の代表的
な構成を示す図である。

【図７】本発明の液晶表示装置の代表的な構造を示す図
である。

【図８】本発明のカラー液晶表示装置の代表的な構造を
示す図である。

【図９】図７をフィルム法線方向から見たときの代表的
な構成を示す図である。

【符号の説明】

１１ 反射シート １２ 導光板 １３ 散乱シート １４ 調光フィルム １５ 裏面偏光板 １６ 表面偏光板 １７ 液晶セル １８ 冷陰極蛍光管 １９ 反射シート ２１、４１ 透明支持体 ２２ 配向層 ２３ 光学異方層 ２４ａ、２４ｂ、２４ｃ 液晶性ディスコティック化合
物 ２５ 透明支持体の法線方向 ３１ ラビング方向 ３２ レターデーションの絶対値の最小値を示す方向と
透明支持体の法線方向とのなす角度 ４２ ハードコート層 ４３ 中屈折率層 ４４ 高屈折率層 ４５ 低屈折率層 ４６ オーバーコート層 ５１ 偏光層 ５２、６２ａ、６２ｂ 光学補償層（フィルム） ５３、６１ 反射防止層（フィルム） ６３ 液晶セル ６４ 粘着剤層 ７１ａ、７１ｂ 光学補償フィルムのラビング方向 ７２ａ、７２ｂ 液晶セルのラビング方向 ７３ａ、７３ｂ 偏光層の透過方向 ７４ バックライト ８１ 捻れ配向ネマティック液晶分子 ８２ 対向透明電極 ８３ 画素電極 ８４ａ、８４ｂ ガラス基板 ８５ カラーフィルタ ８６ ＴＦＴ ８７ａ 下側偏光板 ８７ｂ 上側偏光板 ９１、９２ 光学補償フィルムのラビング方向とガラス
基板のラビング方向のなす角度

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 淳 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BB03 BB49 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA37X FA37Z FA41Z FB02 FC23 FD06 GA06 GA16 HA07 KA01 LA02 LA07 LA12 LA19

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の透明支持体によって偏光層を挟持
   してなる偏光板において、該透明支持体のうち一方の支
   持体の偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光
   学補償層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と
   反対側の面に反射防止層を有する偏光板であって、該光
   学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物
   からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティ
   ック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いてお
   り、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支
   持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において
   変化していることを特徴とする偏光板。
2. 【請求項２】 該角度が光学異方層の支持体面側からの
   距離の増加とともに増加している請求項１に記載の偏光
   板。
3. 【請求項３】 該光学異方層が、更にセルロースエステ
   ルを含んでいる請求項１に記載の偏光板。
4. 【請求項４】 該光学異方層側の透明支持体が、光学的
   に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に
   光軸を有し、更に下記の条件を満足する請求項１に記載
   の偏光板。 【数１】 ２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
   ４００ （ｄ：光学補償層厚み）
5. 【請求項５】 光学異方層と透明支持体との間に、配向
   層が形成されている請求項１に記載の偏光板。
6. 【請求項６】 配向層がポリマーの硬化膜からなる請求
   項５に記載の偏光板。
7. 【請求項７】 光学異方層がモノドメインであるか、ま
   たは０．１μｍ以下のサイズのドメインを多数形成して
   いることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
8. 【請求項８】 前記反射防止層が、透明支持体及び透明
   支持体の屈折率よりも低い屈折率と３乃至５０体積％の
   空隙率とを有する低屈折率層が積層されてなることを特
   徴とする請求項１に記載の偏光板。
9. 【請求項９】 該低屈折率層が粒径０．１μｍ以下の微
   粒子を含み、微粒子間または微粒子内に空隙が形成され
   ている請求項８に記載の偏光板。
10. 【請求項１０】 透明支持体の屈折率よりも高い屈折率
    を有する高屈折率層が透明支持体と低屈折率層との間に
    設けられている請求項８に記載の偏光板。
11. 【請求項１１】 該低屈折率層の上に含フッ素化合物を
    含むオーバーコート層がさらに積層されており、オーバ
    ーコート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割
    合が７０体積％未満であることを特徴とする請求項８に
    記載の偏光板。
12. 【請求項１２】 該オーバーコート層を形成してなる含
    フッ素化合物の重量平均分子量が２万乃至２００万であ
    って、それ以外の分子量２万未満の低分子量成分が該オ
    ーバーコート層固形分の５０重量％以下であることを特
    徴とする請求項１１に記載の偏光板。
13. 【請求項１３】 請求項１から１２に記載の偏光板を、
    液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、表示
    側の偏光板として用い、且つ光学異方層を液晶セル側へ
    向けて配置することを特徴とする液晶表示装置。
14. 【請求項１４】 透明電極、画素電極及びカラーフィル
    タを有する一対の基板と、その基板間に封入された捻れ
    配向したネマティック液晶とからなる液晶セル、液晶セ
    ルの両側に設けられた一対の光学補償シートとその外側
    に配置された一対の偏光板からなるカラー液晶表示装置
    において、液晶セルの表示側光学補償シート及び偏光板
    として請求項１から１２に記載の偏光板を用い、且つ該
    光学異方層を液晶セル側へ向けて配置し、更に液晶セル
    のバックライト側にディスコティック構造単位を有する
    化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有
    し、該ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体
    面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単
    位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層
    の深さ方向において変化している光学補償シートを有す
    るカラー液晶表示装置。