JP2001100044A

JP2001100044A - 偏光板

Info

Publication number: JP2001100044A
Application number: JP31574699A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Amimori; 一郎網盛; Hidetoshi Watabe; 英俊渡部; Atsushi Watabe; 淳渡部
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-09-30
Filing date: 1999-09-30
Publication date: 2001-04-13

Abstract

(57)【要約】【課題】調光フィルムとの接触によるニュートンリン
グ、および調光フィルム由来の輝度ムラを改良し、なお
且つＴＮモードの液晶表示装置およびカラー液晶表示装
置の視野角を拡大する。【解決手段】２枚の透明支持体によって偏光層を挟持
してなる偏光板において、該透明支持体のうち一方の支
持体の偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光
学補償層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と
反対側の面にマット性高透過率層を有する偏光板であっ
て、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有す
る化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディ
スコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して
傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面
と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向
において変化している偏光板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学補償能およびマ
ット性能を有する高透過率偏光板、それを用いた液晶表
示装置およびカラー液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示装置の構成を図１に示
す。一般的な液晶表示装置においては最裏面にエッジラ
イト方式のバックライト１１を配置し、裏面より順にバ
ックライトの光を表面に出射させる導光板１２、この光
の輝度を均一化させるための散乱シート１３、更に散乱
シートにより均一化された光を所定方向に集光する機
能、または特定の偏光を選択的に透過、反射する機能を
有する１枚または複数の調光シート１４のように配置さ
れ、これらのフィルムを通過した光が１対の偏光板１
５、１６に挟持されてなる液晶セル１７に入射する。１
８は光源の冷陰極蛍光管、１９は反射シートである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この調光フ
ィルム１４と液晶セル側の裏面偏光板５とは特に粘着剤
等では固着されておらず、間にわずかな隙間を有してい
る。調光フィルム１４はアクリル樹脂、ポリエステル、
ポリカーボネート等よりなるが、これらは温度変化によ
る伸縮が大きく、環境やバックライト等による加熱で伸
びた調光フィルム１４が裏面偏光板１５と接触し、周辺
に表示ムラが発生する。またいくつかの調光フィルムに
おいてはそれらに特有の輝度ムラがあり、表示品位を低
下させていた。接触による表示ムラは表面に凹凸を形成
したいわゆるマット性を付与することで改良できること
が特開平１０−２４０１４３に記載されている。しかし
ながら、この方法では凹凸表面の散乱によってバックラ
イトの透過率が低下し、表示輝度が低下する。調光フィ
ルムの輝度ムラについては調光フィルムと液晶セルの間
にもう一枚の散乱フィルムを使用することが考えられる
が、一般に散乱フィルムはヘイズを有しているために透
過率が低下し、マット性付与と同様に表示輝度の低下を
引き起こす。

【０００４】しかも、通常凹凸を有する裏面偏光板１５
はシリカのような硬い無機粒子により形成されるが、こ
のような液晶表示装置の運搬等のような振動を与える際
に、裏面偏光板１５の突起がポリエステルのような軟ら
かい調光フィルム１４の表面に傷をつけてしまい、表示
品位を低下させていた。本発明の課題の一つは、このよ
うな散乱による表示輝度の低下、接触、擦傷による表示
品位の低下を改良することである。

【０００５】ところで、ＬＣＤの表示方式は大きく複屈
折モードと旋光モードに分けることができる。複屈折モ
ードを利用する超捻れ（スーパーツィスティッド）ネマ
ティック液晶表示装置（以下、ＳＴＮ−ＬＣＤ）は、９
０度を超える捻れ角および急峻な電気光学特性を有する
スーパーツィスティッドネマティック液晶を用いてい
る。このためＳＴＮ−ＬＣＤは時分割駆動による大容量
の表示が可能である。しかしながらＳＴＮ−ＬＣＤは応
答速度が遅い（数百ミリ秒）、階調表示が困難等の問題
があることから、能動素子を使用した液晶表示装置
（例、ＴＦＴ−ＬＣＤおよびＭＩＭ−ＬＣＤ）の表示特
性に比べて劣っている。ＴＦＴ−ＬＣＤおよびＭＩＭ−
ＬＣＤにおいては、９０度の捻れ角および正の複屈折を
有する捻れネマティック液晶が、画像を表示するために
使用されている。これらは旋光モードであるＴＮ−ＬＣ
Ｄの表示モードであり、高速応答性（数十ミリ秒）およ
び高いコントラストが得られるため、複屈折モードに比
べて多くの点で有利である。しかしながら、ＴＮ−ＬＣ
Ｄは表示色や表示コントラストが液晶表示装置を見ると
きの角度によって変化するため（視野角特性）、ＣＲＴ
に比べて見づらいという問題がある。

【０００６】上記視野角特性を改善するため、一対の偏
光板と液晶セルとの間に位相差板（光学補償シート）を
設けるという提案が特開平４−２２９８２８号および特
開平４−２５８９２３号に記載されている。上記公報で
提案されている位相差板は、液晶セルに対して垂直方向
の位相差はほぼゼロであるため、真正面からは何ら光学
的作用を与えないが、傾けたときに位相差が発現する。
これにより液晶セルの斜め方向で発生する位相差を補償
するものである。このような光学補償シートといては、
ネマティック液晶の正の複屈折を補償するように負の複
屈折を有し、且つ光軸が傾いているシートが有効であ
る。

【０００７】特開平６−７５１１５号およびＥＰ０５７
６３０４Ａ１には、負の複屈折を有し、且つ光軸が傾い
ている光学補償シートが記載されている。このシートは
ポリカーボネートやポリエステル等のポリマーを延伸す
ることにより製造され、シートの法線から傾いた主屈折
率方向を有している。このようなシートは極めて複雑な
延伸処理が必要とされるため、この方法により大面積で
均一な光学補償シートを安定に製造するのは非常に困難
である。

【０００８】一方、液晶ポリマーを用いた方法も特開平
３−９３２６号および特開平３−２９１６０１号に記載
されている。これは液晶性を有するポリマーを支持体上
の配向層表面に塗布することにより得られる光学補償シ
ートである。しかしながら液晶性を有するポリマーは、
配向層上では十分な配向を示さないため、すべての方向
において視野角を拡大することはできない。また、特開
平５−２１５９２１号には支持体と液晶性および正の複
屈折を有する重合性棒状化合物からなる光学補償シート
（複屈折板）が記載されている。この光学補償シート
は、重合性棒状化合物の溶液を支持体に塗布、加熱硬化
することにより得られる。しかしながら、この液晶性を
有するポリマーは複屈折を持たないため、全方向の視野
角を拡大することができない。

【０００９】ところで、特開平８−５０２０６号にディ
スコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈
折を有する層を有し、該ディスコティック化合物と支持
体とのなす角度が層の深さ方向において変化しているこ
とを特徴とする光学補償シートが記載されている。この
方法によるとコントラストから見た視野角は全方向にお
いて大幅に拡大し、また斜め方向から見たときの黄変の
ような画質低下もほとんど見られない。しかしながら、
この光学補償シートのみによっては、前述の調光フィル
ムとの接触によるニュートンリング、および調光フィル
ム由来の輝度ムラを改良することはできないため、さら
なる改良が必要とされている。

【００１０】以上のように、本発明の課題は、調光フィ
ルムとの接触によるニュートンリング、および調光フィ
ルム由来の輝度ムラを改良し、なお且つＴＮモードの液
晶表示装置およびカラー液晶表示装置の視野角を拡大す
ることによってあらゆる方向に優れた表示品位を有する
液晶表示装置を提供すること、そしてそれらを簡便な方
法で安定に製造することによって安価に供給することで
ある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。（１）２枚の透明支持体によって偏光層を挟持してな
る偏光板において、該透明支持体のうち一方の支持体の
偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償
層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と反対側
の面にマット性高透過率層を有する偏光板であって、該
光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合
物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコテ
ィック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いて
おり、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明
支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向におい
て変化していることを特徴とする偏光板。（２）該角度が光学異方層の支持体面側からの距離の
増加とともに増加している（１）に記載の偏光板。（３）該光学異方層が、更にセルロースエステルを含
んでいる（１）に記載の偏光板。（４）該光学異方層側の透明支持体が、光学的に負の
一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を
有し、更に下記の条件を満足する（１）に記載の偏光
板。

【数２】２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００（ｄ：光学補償層厚み）（５）光学異方層と透明支持体との間に、配向層が形
成されている（１）に記載の偏光板。（６）配向層がポリマーの硬化膜からなる（５）に記
載の偏光板。（７）光学異方層がモノドメインであるか、または
０．１μｍ以下のサイズのドメインを多数形成している
ことを特徴とする（１）に記載の偏光板。（８）前記マット性高透過率層が、粒径１．０μｍ以
上の粒子を含んでなるマット層と該マット層上に屈折率
１．４５以下の低屈折率層を有することを特徴とする
（１）に記載の偏光板。（９）該マット層を形成するバインダポリマーの平均
膜厚より大きい平均粒径及び変動係数０．２以下の粒子
径分布を有し、モース硬度７未満の樹脂よりなる単分散
性透明微粒子をマット層中に含んでなることを特徴とす
る（８）に記載の偏光板（１０）該低屈折率層が、熱または電離放射線により
架橋する含フッ素化合物を含んでなり、動摩擦係数０．
１５以下であることを特徴とする（８）に記載の偏光
板。（１１）該マット層中の粒子がモース硬度７未満であ
ることを特徴とする（８）に記載の偏光板。（１２）（１）から（１１）に記載の偏光板を、液晶
セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、バックラ
イト側の偏光板として用い、且つ該マット性高透過率層
をバックライト側へ向けて配置することを特徴とする液
晶表示装置。（１３）透明電極、画素電極およびカラーフィルタを
有する一対の基板と、その基板間に封入された捻れ配向
したネマティック液晶とからなる液晶セル、液晶セルの
両側に設けられた一対の光学補償シートとその外側に配
置された一対の偏光板からなるカラー液晶表示装置にお
いて、液晶セルのバックライト側光学補償シートおよび
偏光板として（１）から（１１）に記載の偏光板を用
い、且つ該光学異方層を液晶セル側へ向けて配置し、更
に液晶セルの表示側にディスコティック構造単位を有す
る化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を有
し、該ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体
面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単
位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層
の深さ方向において変化している光学補償シートを有す
るカラー液晶表示装置。（１４）（１３）に記載のカラー液晶表示装置におい
て、表示側偏光板の表示側最表面上に反射防止層を形成
してなることを特徴とするカラー液晶表示装置。（１５）（１３）に記載のカラー液晶表示装置におい
て、表示側偏光板の表示側最表面上に防眩層を形成して
なることを特徴とするカラー液晶表示装置。（１６）（１３）に記載のカラー液晶表示装置におい
て、表示側偏光板の表示側最表面上に防眩性反射防止層
を形成してなることを特徴とするカラー液晶表示装置。

【００１２】更に光学異方層については以下の条件を満
たすことが好ましい。（１）ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持
体面とのなす角度が、支持体面側からの距離の増加とと
もに増加しており、該角度が５から８５度の範囲で変化
する光学異方層。（２）該角度の最小値が０から８５度（より好ましく
は５から４０度）の範囲にあり、その最大値が５から９
０度（より好ましくは３０から８５度）の範囲にある光
学異方層。（３）セルロースエステル（より好ましくはセルロー
スアセテートブチレート）を含んでいる光学異方層。（４）偏光板の法線方向から傾いた方向にゼロ以外の
レターデーションの絶対値の最小値を有する光学異方
層。（５）液晶セルの基板が一方向にラビング処理された
配向表面を有し、且つ光学異方層のレターデーションの
最小値の方向を液晶セル上に正投影したときの方向と光
学異方層に隣接する液晶セル基板のラビング方向とのな
す角が９０から２７０度となるように配置されている光
学異方層。

【発明の実施の形態】本発明の光学補償能およびマット
性能を有する高透過率偏光板それを用いた液晶表示装置
の基本的な構成を図面を引用しながら説明する。

【００１３】図２は、光学補償層の層構成を示す断面模
式図の一例である。光学補償層は、透明支持体２１、配
向層２２、光学異方層２３の順序の層構成を有する。光
学異方層は液晶性ディスコティック化合物２４ａ、２４
ｂ、２４ｃを有し、その光軸と透明支持体の法線方向２
５に対してそれぞれθａ、θｂ、θｃの傾斜角をなす。
この傾斜角は光学異方層の透明支持体側より表面側に向
かって増加する。

【００１４】図３に光学補償層の光学特性を示す。配向
層には液晶性ディスコティック化合物を配向させるため
にラビング等の処理を施す。３１は配向層のラビング方
向を示す。ｎ１、ｎ２及びｎ３は光学補償層の直交する
三軸の屈折率を表し、正面から見たときにはｎ１≦ｎ３
≦ｎ２の関係を満たす。光学補償層は、透明支持体の法
線方向から傾いた方向にゼロ以外のレターデーションの
絶対値の最小値を有する。図中３２はレターデーション
の絶対値の最小値を示す方向と透明支持体の法線方向２
５とのなす角度である。ＴＮ−ＬＣＤの視野角特性を改
善するために、３２は５乃至５０度であることが好まし
く、１０乃至４０度が特に好ましい。

【００１５】光学補償層は下記式を満足する。

【数３】２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００（ｄ：光学補償層厚み）

【００１６】また光学補償層は下記式を満足することが
好ましい。

【数４】５０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００

【００１７】更に光学補償層は下記式を満足することが
特に好ましい。

【数５】１００≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
≦４００

【００１８】光学補償層に用いる透明支持体としては、
プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラス
チックフイルムの材料の例には、セルロースエステル
（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、ア
セチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−
４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタ
レート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリ
スチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイ
ミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケ
トン、市販品としてはゼオネックス（日本ゼオン（株）
製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）が含まれる。

【００１９】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることが更に好まし
い。透明支持体は正面から見たときに光学的等方性を有
するものが好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％
以下であることが好ましく、１．０％以下であることが
更に好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。これらの観点からトリアセチ
ルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレンテレ
フタレート、ゼオネックス、ＡＲＴＯＮが好ましく、Ｌ
ＣＤ用偏光板の偏光層を保護する保護膜としてはトリア
セチルセルロースが特に好ましい。

【００２０】透明支持体面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、
厚み方向の主屈折率をｎｚ、厚みをｄｂとしたとき、主
屈折率の関係がｎｚ＜ｎｙ＝ｎｘ（負の一軸性）を満足
し、｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表されるレタ
ーデーションが２０乃至４００ｎｍである。透明支持体
のレターデーションは３０乃至１５０ｎｍであることが
より好ましい。またｎｘとｎｙは厳密に等しい必要はな
く、｜ｎｘ−ｎｙ｜／｜ｎｘ−ｎｚ｜≦０．２であれば
実用上問題ない。｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄｂで表される正面
レターデーションは５０ｎｍ以下であることが好まし
く、２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。

【００２１】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えば
トリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ
（メタ）アクリレート樹脂およびその置換体、スチレン
−ブタジエン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機
械処理、コロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行
ってもよい。

【００２２】配向層はその上に設けられる液晶性ディス
コティック化合物の配向方向を規定するように機能す
る。そしてこの配向が透明支持体の法線方向から傾いた
光軸を与える。配向層は光学異方層に配向性を付与でき
れば特に限定されない。配向層の好ましい例としては、
有機化合物により形成された表面をラビング処理した
層、無機化合物の斜方蒸着層、レジストによるパターニ
ング等により形成されたマイクログルーブ層、あるいは
ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウム
クロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・
ブロジェット膜、さらに電場あるいは磁場により配向さ
れた誘電体層を挙げることができる。ラビング処理層は
製造上、簡便且つ安価であるため好ましい。

【００２３】配向層用の有機化合物としては、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合
体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルア
ルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ス
チレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素
化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビ
ニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重
合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート等のポリマー及びシラ
ンカップリング剤等の化合物が含まれる。中でもポリイ
ミド、ポリスチレン、ポリビニルアルコール及びアルキ
ル基（炭素数６以上が好ましい）を含有するアルキル変
性ポリビニルアルコールが好ましく、アルキル基（炭素
数６以上が好ましい）含有アルキル変性ポリビニルアル
コールが特に好ましい。ポリイミドとしては、ポリアミ
ック酸（例えば日立化成（株）製ＬＱ／ＬＸシリーズ、
日産化学（株）製ＳＥシリーズ等）を塗布し、１００乃
至３００℃で０．５乃至１時間焼成したものが挙げら
れ、アルキル変性ポリビニルアルコールとしてはＭＰ１
０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０（いずれもクラレ（株）
製）が挙げられる。

【００２４】また、前記ラビング処理はＬＣＤの液晶配
向処理工程として広く採用されている処理方法を利用す
ることができる。即ち、配向層表面を紙やガーゼ、フェ
ルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維等を用
いて一定方向に擦ることによって配向を得る方法を用い
ることができる。一般的には長さ及び太さが均一な繊維
を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行
う。

【００２５】また、光学異方層を配向層を用いずに配向
させてもよい。これは光学異方層を形成する液晶性ディ
スコティック化合物層を電場、磁場、偏光照射あるいは
斜め非偏光照射等によって配向させる方法が挙げられ
る。

【００２６】光学異方層はディスコティック構造単位を
有する化合物からなる負の複屈折を有する層である。光
学異方層は液晶性ディスコティック化合物の層または重
合性ディスコティック化合物の硬化により得られるポリ
マー層である。本発明のディスコティック化合物の例と
しては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載さ
れているベンゼン誘導体、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２
巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｉｃｓ．Ｌｅｔ
ｔ，Ａ、７８巻、８２頁（１９９０年）に記載されてい
るトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａ
ｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９６巻、７０頁（１９８
４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．
Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．
１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報
告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５
頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフ
ェニルアセチレン系マクロサイクル等を挙げることがで
きる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般
にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やア
ルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖とし
て放射状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般
にディスコティック液晶と呼ばれるものが含まれる。但
し、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与で
きるものであれば上記記載に限定されるものではない。
また本発明において、「ディスコティック化合物から形
成した」とは最終的にできたものが上記化合物である必
要はなく、例えば低分子ディスコティック液晶が熱、電
離放射線等で架橋する官能基を有しており、熱または電
離放射線照射によって高分子量化して液晶性を失ったも
のも含まれる。

【００２７】該ディスコティック化合物の好ましい例を
下記に示す。

【００２８】

【化１】

【００２９】

【化２】

【００３０】

【化３】

【００３１】

【化４】

【００３２】

【化５】

【００３３】

【化６】

【００３４】

【化７】

【００３５】

【化８】

【００３６】

【化９】

【００３７】

【化１０】

【００３８】

【化１１】

【００３９】

【化１２】

【００４０】光学異方層はディスコティック化合物及び
他の化合物を溶解してなる塗布液を配向層上に塗布、乾
燥し、次いでディスコティックネマティック相形成温度
まで加熱し、その配向状態を維持したまま冷却すること
により得られる。あるいはディスコティックネマティッ
ク相形成温度まで加熱した後、電離放射線照射により重
合させて固定してもよい。ディスコティックネマティッ
ク液晶相−固相転移温度としては５０乃至３００℃が好
ましく、７０乃至１７０℃が特に好ましい。

【００４１】光学異方層には、液晶性ディスコティック
化合物の傾斜角、ディスコティックネマティック相形成
温度、相溶性、塗布性等をコントロールするために、可
塑剤や界面活性剤、重合性モノマー、高分子化合物等、
ディスコティック化合物の配向を阻害しない限り如何な
る化合物を添加してもよい。

【００４２】重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニ
ルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有
するものが好ましい。重合性モノマーはディスコティッ
ク化合物に対して１乃至５０重量％、好ましくは５乃至
３０重量％用いることができる。

【００４３】高分子化合物は、ディスコティック化合物
との相溶性を有していれば如何なるものも用いることが
できる。高分子化合物としてはセルロースエステルが好
ましく、中でもセルロースアセテートブチレートが特に
好ましい。高分子化合物はディスコティック化合物に対
し、０．１乃至１０重量％、好ましくは０．１乃至５重
量％用いることができる。また、セルロースアセテート
ブチレートのブチリル化度は３０乃至８０％が好まし
く、アセチル化度は３０乃至８０％が好ましい。

【００４４】図４は、マット性高透過率層の層構成を示
す断面模式図の一例である。マット性高透過率層は、透
明支持体４１、マット層４２、低屈折率層４３の順序の
層構成を有する。マット層はモース硬度７未満の粒子４
４を含有し、この粒子が表面に凹凸を形成するとともに
フィルムにヘイズを与える。低屈折率層には熱または電
離放射線により架橋する含フッ素化合物が用いられ、そ
の屈折率と膜厚が下記式を満足することが好ましい。

【００４５】

【数６】ｍλ／４×０．７＜ｎ_１ｄ_１＜ｍλ／４×１．３

【００４６】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００４７】マット性高透過率層に用いる透明支持体と
しては、プラスチックフイルムを用いることが好まし
い。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロース
エステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセ
ルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトン、市販品としてはゼオネックス（日本ゼオン
（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）が含まれ
る。

【００４８】透明支持体の光透過率は、８０％以上であ
ることが好ましく、８６％以上であることが更に好まし
い。透明支持体は正面から見たときに光学的等方性を有
するものが好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％
以下であることが好ましく、１．０％以下であることが
更に好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。これらの観点からトリアセチ
ルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレンテレ
フタレート、ゼオネックス、ＡＲＴＯＮが好ましく、Ｌ
ＣＤ用偏光板の偏光層を保護する保護膜としてはトリア
セチルセルロースが特に好ましい。

【００４９】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、例えば
トリアセチルセルロース上においてはゼラチンやポリ
（メタ）アクリレート樹脂およびその置換体、スチレン
−ブタジエン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機
械処理、コロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行
ってもよい。

【００５０】マット層に用いるバインダポリマーは高分
子化合物であれば特に限定されない。また、重合性モノ
マー等の低分子化合物を熱または電離放射線で架橋した
ものでもよい。加工時にそれ自体に傷がつきにくいよう
にするためには、ハードコート性を有することが好まし
い。

【００５１】マット層にハードコート性を付与するため
には、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有
するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主
鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バ
インダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和
炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不
飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架
橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上
のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが
好ましい。

【００５２】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基
を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による
重合反応により硬化させる必要がある。

【００５３】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００５４】マット層に添加するマット性の粒子として
は、モース硬度７未満の樹脂よりなるものが好ましく、
例としてはポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹
脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹
脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリス
チレン樹脂等が挙げられる。マット性粒子は水および有
機溶剤に不溶のものが好ましい。マット性粒子のサイズ
としては、平均粒径が１μｍ乃至１０μｍのものが好ま
しく、３μｍ乃至７μｍのものが特に好ましい。また、
粒径分布は変動係数が０．２以下のものが好ましく、変
動係数０．１以下の単分散性の高いものが特に好まし
い。ハードコート層に添加するマット性粒子は、ヘイズ
調整のために２種類以上の粒子を組み合わせて用いても
構わない。

【００５５】更にマット層には、屈折率の調節や膜の硬
化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても良い。
無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．５μｍ以下
のものが好ましく、０．２μｍ以下のものが特に好まし
い。無機微粒子としては二酸化ケイ素粒子、二酸化チタ
ン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カル
シウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリンおよ
び硫酸カルシウム粒子があげられ、二酸化ケイ素粒子、
二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子が特に好まし
い。無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全重量の
１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０乃至８
０重量％であると更に好ましく、３０乃至６０重量％が
特に好ましい。ハードコート層の厚さは１乃至１５μｍ
であることが好ましい。

【００５６】低屈折率層に用いる化合物としては、屈折
率１．４５以下、動摩擦係数０．１５以下で熱または電
離放射線により架橋する含フッ素化合物が用いられる。
塗布性や膜硬度等を調節するために、他の化合物と併用
してもよい。架橋性含フッ素化合物としては、含フッ素
モノマーや架橋性含フッ素ポリマーが挙げられるが、塗
布性の観点から架橋性含フッ素ポリマーが好ましい。

【００５７】架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフ
ルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデ
カフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエト
キシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与
のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が
挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジル
メタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能
基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボ
キシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等
を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メ
タ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリ
レート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造
を導入できることが特開平１０−２５３８８および特開
平１０−１４７７３９に知られている。

【００５８】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。

【００５９】光学補償層及びマット性高透過率層の各層
は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテ
ンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート
法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法
（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布によ
り形成することができる。二以上の層を同時に塗布して
もよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１
７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、
同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コー
ティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載
がある。

【００６０】図５に本発明の光学補償能およびマット性
能を有する高透過率偏光板の構成図の一例を示す。本発
明の偏光板は、２枚の透明支持体２１、４１によって偏
光層５１を挟持してなり、該透明支持体のうち一方の支
持体の偏光層と反対側の面に光学異方層２３を含んでな
る光学補償層５２を有し、更にもう一方の透明支持体の
偏光層と反対側の面にマット性高透過率層５３を有す
る。

【００６１】本発明の光学補償能およびマット性能を有
する高透過率偏光板は、液晶表示装置に適用する。液晶
表示装置の構成図の一例を図６−ａに示す。マット性高
透過率層６１はバックライト側偏光板としてマット層を
バックライト側へ向けて配置し、光学補償層６２ａは粘
着剤６５等を介して液晶セル６３に貼合される。そして
表示側偏光板にもこの光学補償層を有する偏光板を用
い、光学補償層６２ｂは粘着剤等を介して液晶セルに貼
合される。

【００６２】該表示側偏光板の表示側即ち液晶表示装置
の最表面には、反射光による画像の劣化を防ぐために反
射防止層や防眩層、防眩性反射防止層等、外光反射によ
る表示品位劣化を防止する層を用いることができる。こ
の反射防止層は例えば特公昭４５−６１９３に記載され
ている多層蒸着膜を透明支持体上に形成したものや、特
開昭５７−３４５０７に記載されている透明支持体上に
含フッ素化合物等からなる低屈折率有機化合物を塗布し
たもの、あるいは特開平９−２８８２０１に記載されて
いる層内に光の波長より小さいミクロボイドを有する低
屈折率層を塗布したもの等が挙げられる。また、防眩層
としては特開昭Ｓ６１−２０９１５４に記載されている
透明支持体上にバインダに粒子を添加した凹凸層を塗布
したものや、特開平６−１６８５１に記載されているあ
らかじめ凹凸面を形成したフィルムを透明支持体上の塗
布層に貼り合わせて凹凸を転写させたもの、または透明
支持体に直接またはハードコート層のごとき他の層を介
してエンボス加工により凹凸を形成したものが挙げられ
る。また、防眩性反射防止層としては、特開平６−１１
７０６に記載されている防眩層上に反射防止層を設ける
ものや、反射防止層上にエンボス加工により凹凸を形成
したものが挙げられる。反射防止層、防眩層あるいは防
眩性反射防止層を用いた液晶表示装置の構成図を図６−
ｂに示す。６４は反射防止層、防眩層あるいは防眩性反
射防止層である。

【００６３】図７に光学補償を行うための本発明の偏光
板の代表的な配置図を示す。バックライト７４側が下側
であるが、下側光学補償層６２ａのラビング方向は７１
ａ、上側光学補償層６２ｂのラビング方向は７１ｂであ
る。液晶セル６３の破線矢印７２ａはバックライト側液
晶セル基板のラビング方向を、実線７２ｂは表示側液晶
セル基板のラビング方向を示し、７３ａ、７３ｂはそれ
ぞれ偏光板の透過軸である。

【００６４】また図７以外の配置図として、光学補償層
は上記のように上下２枚の偏光板に分割して設けなくて
もよい。つまり、下側偏光板の液晶セル側に２層の光学
異方層を設けることができる。

【００６５】本発明のカラー液晶表示装置の代表的構成
図を図８に示す。図８において、対向透明電極８２とカ
ラーフィルタ８５を備えたガラス基板８４ａ、画素電極
８３とＴＦＴ８６を備えたガラス基板８４ｂ、この２枚
の基板間に封入された捻れ配向ネマティック液晶８１と
からなる液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の
偏光板８７ａ、８７ｂが組み合わせられてカラー液晶表
示装置を構成している。このうち、８７ａが本発明の偏
光板であって、８７ｂは図のように光学異方層を設けて
もよい。あるいは前述の通り、下側偏光板に２層の光学
異方層を設けることもできる。

【００６６】以下、本発明を詳細に説明するために、以
下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。

【００６７】

【実施例】（ハードコート層用塗布液Ａの調製）ジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）２５６．５ｇを、イソプロパノール７
８．８ｇ、メチルイソブチルケトン１５７．２ｇ、メタ
ノール１０２．１ｇの混合溶媒に溶解した。得られた溶
液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）５．４ｇを加えた。これを撹拌、溶解した後、
孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、更
に平均粒径５．０μの架橋アクリル粒子（ＭＸ−５００
Ｈ、綜研化学（株）製）１．３ｇを添加、攪拌してハー
ドコート層の塗布液Ａを調製した。（ハードコート層用塗布液Ｂの調製）ＵＶ架橋性ハード
コート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）をイソ
プロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケトン１
４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した後、孔
径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、更に
平均粒径５．０μの架橋アクリル粒子（ＭＸ−５００
Ｈ、綜研化学（株）製）１．３ｇおよび平均粒径３．０
μの架橋アクリル粒子（ＭＸ−３００Ｈ、綜研化学
（株）製）１．３ｇを添加、攪拌してハードコート層の
塗布液Ｂを調製した。（ハードコート層用塗布液Ｃの調製）ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）２５６．５ｇを、イソプロパノール７８．８ｇ、メ
チルイソブチルケトン１５７．２ｇ、メタノール１０
２．１ｇの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
５．４ｇを加えた。これを撹拌、溶解した後、孔径１μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコー
ト層の塗布液Ｃを調製した。（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）２５６．５ｇを、イソプロパノール７８．８ｇ、メ
チルイソブチルケトン１５７．２ｇ、メタノール１０
２．１ｇの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
５．４ｇを加えた。これを撹拌、溶解した後、孔径１μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、更に平均粒
径３μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−
５２６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高
速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した
後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
してハードコート層の塗布液Ｄを調製した。（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）２５６．５ｇを、イソプロパノール７８．８ｇ、メ
チルイソブチルケトン１５７．２ｇ、メタノール１０
２．１ｇの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
５．４ｇを加えた。これを撹拌、溶解した後、孔径１μ
ｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、更に平均粒
径１．５μのシリカ粒子（シーホスターＫＥ−Ｐ１５
０、日本触媒（株）製）２０．０ｇを添加、攪拌してハ
ードコート層の塗布液Ｅを調製した。

【００６８】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）熱架橋性
含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２５、ＪＳＲ（株）製）
２００ｇにメチルイソブチルケトンを２００ｇ添加、攪
拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００６９】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）熱架橋性
含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２３、ＪＳＲ（株）製）
５００ｇにメチルイソブチルケトンを１００ｇ添加、攪
拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００７０】（配向層用塗布液の調製）直鎖アルキル変
性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）
製）３０ｇに水１３０ｇ、メタノール４０ｇを加えて攪
拌、溶解した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過して、配向層用塗布液を調製した。

【００７１】（光学異方層用塗布液Ａの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：８、ｍ＝４）を１．６ｇ、フェノキシジエチレン
グリコールアクリレート（Ｍ−１０１、東亜合成（株）
製）０．４ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡ
Ｂ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．０５ｇ
及び光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギ
ー社製）０．０１ｇを３．６５ｇのメチルエチルケトン
に溶解した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、光学異方層用塗布液Ａを調製した。

【００７２】（光学異方層用塗布液Ｂの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：８、ｍ＝４）を１．８ｇ、エチレングリコール変
性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６
０、大阪有機化学工業（株）製）０．２ｇ、セルロース
アセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマ
ンケミカル社製）０．０４ｇ及び光重合開始剤（イルガ
キュア−９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ及び光
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
０．０２ｇを３．４３ｇのメチルエチルケトンに溶解し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、光学異方層用塗布液Ｂを調製した。

【００７３】（光学異方層用塗布液Ｃの調製）液晶性デ
ィスコティック化合物として前記化合物番号ＴＥ−８
（Ｒ：３）１．８ｇを７．２ｇのメチルエチルケトンに
溶解した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルター
でろ過して、光学異方層用塗布液Ｃを調製した。

【００７４】［実施例１］（マット性高透過率フィルムの作成）８０μｍの厚さの
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム
（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液Ａをバー
コーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０
Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィッ
クス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照
射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬
化させ、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布し、８０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱
架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成するこ
とにより、マット性高透過率層を有するフィルムを作成
した。

【００７５】（光学補償フィルムの作成）ゼラチン薄膜
（０．１μｍ）の下塗り層を有する１２０μｍの厚さの
トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム
（株）製）に、上記配向層用塗布液をバーコーターを用
いて塗布し、６０℃で乾燥した後、ラビング処理を行っ
て、厚さ０．５μｍの配向層を形成した。この配向層付
きトリアセチルセルロースの厚みをマイクロメータを用
いて測定し、種々の方向からのレターデーションをエリ
プソメータ（ＡＥＰ−１００、（株）島津製作所製）に
より測定し、前記｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ、および｛（ｎｘ
＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄを決定したところ、｜ｎｘ−
ｎｙ｜×ｄは３ｎｍ、｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×
ｄは６０ｎｍであった。つまりこのトリアセチルセルロ
ースはほぼ負の一軸性フィルムであり、光軸はほぼフィ
ルムの法線方向にあった。その配向層上に、上記光学異
方層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０
℃で乾燥の後さらに３分間加熱、液晶の熟成を行ってデ
ィスコティック化合物を配向させた後、１２０℃のまま
１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラ
フィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ１．８μｍの光学異方層を形成する
ことにより、光学補償フィルムを作成した。

【００７６】（偏光板の作成）前記マット性高透過率フ
ィルムおよび光学補償フィルムを１．５ＮＮａＯＨ水
溶液にてケン化処理し、ヨウ素ドープした延伸ポリビニ
ルアルコールからなる偏光層を、マット性高透過率フィ
ルムおよび光学補償フィルムのトリアセチルセルロース
面で挟んで接着して実施例１の偏光板を作成した。

【００７７】［実施例２］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｂをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８
０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、厚
さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することにより、
マット性高透過率層を有するフィルムを作成した。この
マット性高透過率フィルムの他は実施例１と同様にして
実施例２の偏光板を作成した。

【００７８】［実施例３］実施例１の配向層上に、上記
光学異方層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、
１２０℃で乾燥の後さらに３分間加熱、液晶の熟成を行
ってディスコティック化合物を配向させた後、１２０℃
のまま１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ１．８μｍの光学異方層を形
成することにより、光学補償フィルムを作成した。この
光学補償フィルムの他は実施例１と同様にして実施例３
の偏光板を作成した。

【００７９】［実施例４］実施例１のマット性高透過率
フィルムと光学補償フィルムのトリアセチルセルロース
面を粘着剤加工し、偏光層保護フィルムとしてトリアセ
チルセルロースを用いている市販の偏光板（（株）サン
リッツ製）の両面に貼り合わせることにより、実施例４
の偏光板を作成した。

【００８０】［比較例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｂをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。このマット性フ
ィルムをマット性高透過率フィルムの代わりに用いる他
は実施例１と同様にして比較例１の偏光板を作成した。

【００８１】［比較例２］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｂをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布し、
８０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、
厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することによ
り、マット性高透過率層を有するフィルムを作成した。
このマット性高透過率フィルムの他は実施例１と同様に
して比較例２の偏光板を作成した。

【００８２】［比較例３］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｃをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、
８０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、
厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することによ
り、マット性高透過率層を有するフィルムを作成した。
このマット性高透過率フィルムの他は実施例１と同様に
して比較例３の偏光板を作成した。

【００８３】［比較例４］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｄをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、
８０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、
厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することによ
り、マット性高透過率層を有するフィルムを作成した。
このマット性高透過率フィルムの他は実施例１と同様に
して比較例４の偏光板を作成した。

【００８４】［比較例５］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）
に、上記のハードコート層用塗布液Ｅをバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの
空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）
製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００
ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ３μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、
８０℃で乾燥の後、更に１２０℃で１０分間熱架橋し、
厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成することによ
り、マット性高透過率層を有するフィルムを作成した。
このマット性高透過率フィルムの他は実施例１と同様に
して比較例５の偏光板を作成した。

【００８５】［比較例６］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製）を
光学補償フィルムの代わりに用いる他は実施例２と同様
にして比較例６の偏光板を作成した。

【００８６】［比較例７］実施例１の配向層上に、上記
光学異方層用塗布液Ｃをバーコーターを用いて塗布し、
１８０℃で乾燥の後さらに１分間加熱、液晶の熟成を行
ってディスコティック化合物を配向させた後、室温まで
冷却し、厚さ１．０μｍの光学異方層を形成することに
より、光学補償フィルムを作成した。この光学補償フィ
ルムの他は実施例２と同様にして比較例７の偏光板を作
成した。

【００８７】（マット性高透過率フィルムの評価）得ら
れたマット性高透過率フィルムについて、以下の項目の
評価を行った。（１）光線透過率、ヘイズ得られたフィルムの光線透過率およびヘイズをヘイズメ
ーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本電色工業（株）
製）を用いて測定した。（２）鉛筆硬度評価耐傷性の指標としてＪＩＳＫ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳＳ６００６に規
定するＨおよび２Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷
重にてｎ＝５の評価において傷が全く認められない ○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ △ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 × （３）動摩擦係数測定表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。（４）マット性評価マット性の指標として、作成したフィルムのマット層上
に４×５ｃｍのスライドグラスを置き、その上から１ｋ
ｇの重りをのせて接触によるリング状のムラの程度を以
下のように評価した。全くムラが認められない〇わずかに小さなムラが発生する △ 全面にムラが発生する × （５）傷つき防止性評価傷つき防止性の指標として、作成したフィルムを２０×
７５ｍｍで５００ｇのステンレス板にマット面を外側に
して貼り付け、このマット面を下にしてポリエチレンテ
レフタレートフィルムに乗せ、２０ｍｍ／ｍｉｎでステ
ンレス板を挿引した。こうして擦られたポリエチレンテ
レフタレートフィルムの傷を以下のように評価した。傷が全く認められない ○ 試験部に部分的に傷が認められる △ 試験部に全面的に傷が認められる ×

【００８８】（光学補償フィルムの評価）得られた光学
補償フィルムについて、以下の項目の評価を行った。（１）ヘイズ得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。（２）光軸、傾斜角変化この光学補償フィルムについて、ラビング軸を含み光学
補償フィルム面に垂直な面においてあらゆる方向からの
レターデーションをエリプソメータ（ＡＥＰ−１００、
（株）島津製作所製）で測定し、さらに測定部分の光学
異方層を除去した後の支持体および配向層のみのレター
デーションを同様に測定した。この２つの測定値から光
学異方層のみの光学特性（レターデーションの測定角依
存性）を得ることにより、レタデーションがゼロの方向
を光軸とし、光軸の有無を調べた。また、光学特性のフ
ィッティングによりディスコティック化合物の支持体表
面からの傾き（傾斜角変化）を計算した。（３）ドメインのサイズ光学異方層に形成されたドメインのサイズを偏光顕微鏡
観察により測定した。

【００８９】表１に実施例および比較例の結果を示す。

【００９０】

【表１】

【００９１】次に、実施例１〜４および比較例１〜７の
フィルムを用いて図６−ａのような液晶表示装置を作成
した。表側偏光板の光学補償フィルムにはぞれぞれの例
に用いたのと同じ光学補償フィルムを用いた。また実施
例５として、表側偏光板の保護膜に蒸着により形成され
た市販の防眩性反射防止付き偏光板（（株）サンリッツ
製）を用い、防眩性反射防止層の反対側の面に粘着剤を
用いて実施例１の光学補償フィルムを貼り合わせたもの
を作成し、実施例２の偏光板を裏側偏光板に用いて図６
−ｂのような液晶表示装置を作成した。液晶セルはネマ
ティック液晶を９０°の捻れ角で、且つ４．５μｍのギ
ャップサイズとなるように挟んだ。図９に示すように、
下側光学補償フィルムのラビング方向７１ａと下側基板
のラビング方向７２ａのなす角９１が１８０度、上側光
学補償フィルムのラビング方向７１ｂと上側基板のラビ
ング方向７２ｂのなす角９２が１８０度となるように
し、図７のように配置した。

【００９２】（液晶表示装置の評価）得られた液晶表示
装置について、以下の項目の評価を行った。（１）正面コントラスト得られたＴＮ−ＬＣＤに５５Ｈｚの矩形波の電圧を０か
ら５Ｖで印加し、正面方向のコントラストを分光計（Ｌ
ＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）を用いて測定し
た。（２）視野角得られたＴＮ−ＬＣＤに５５Ｈｚの矩形波の電圧を０か
ら５Ｖで印加し、上／下、左／右方向へ傾いた方向のコ
ントラストを分光計（ＬＣＤ−５０００、大塚電子
（株）製）を用いて測定した。視野角はコントラスト１
０以上となる角度範囲とした。（３）室内での視認性得られたＴＮ−ＬＣＤの室内での黒表示における黒のし
まりを以下のように目視評価した。 ◎：室内の明るさが気にならないくらい黒がしまる ○：室内の明るさの影響を受けるが、十分黒がしまる △：斜め方向でやや黒のしまりが悪くなる ×：黒のしまりが悪い

【００９３】表２に実施例および比較例の結果を示す。

【００９４】

【表２】

【００９５】次に、ＴＦＴ型液晶カラーテレビ６Ｅ−Ｃ
３（シャープ（株）製）の偏光板を剥がして、実施例
１、３、４、５および比較例６、７の偏光板を用いてカ
ラー液晶表示装置を作成した。

【００９６】（カラー液晶表示装置の評価）得られた液
晶表示装置について、以下の項目の評価を行った。（１）視野角得られたカラー液晶表示装置について白表示、黒表示を
行い、上／下、左／右方向へ傾いた方向のコントラスト
を分光計（ＬＣＤ−５０００、大塚電子（株）製）を用
いて測定した。視野角はコントラスト１０以上となる角
度範囲とした。

【００９７】表３に実施例および比較例の結果を示す。

【００９８】

【表３】

【００９９】

【発明の効果】本発明の光学補償能およびマット性能を
有する高透過率偏光板、それを用いた液晶表示装置およ
びカラー液晶表示装置により、調光フィルムとの接触に
よるニュートンリング、および調光フィルム由来の輝度
ムラを改良し、なお且つＴＮモードの液晶表示装置およ
びカラー液晶表示装置の視野角を拡大することによって
あらゆる方向に優れた表示品位を有する液晶表示装置を
提供することができる。しかも、塗布という量産性に優
れた方法を用いることによって、それらを簡便で安定に
製造することができ、本発明の光学補償能およびマット
性能を有する高透過率偏光板を安価に供給することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の液晶表示装置の代表的な構成を示す図で
ある。

【図２】光学補償フィルムの代表的な層構成を示す断面
模式図である。

【図３】光学補償フィルムの代表的な構成及び３軸の主
屈折率の関係を示す図である。

【図４】マット性高透過率フィルムの代表的な層構成を
示す断面模式図である。

【図５】光学補償能およびマット性能を有する高透過率
偏光板の代表的な層構成を示す断面模式図である。

【図６】本発明の偏光板を用いた液晶表示装置の代表的
な構成を示す図（ａ）および本発明の偏光板および防眩
性反射防止フィルム等を併用した液晶表示装置の代表的
な構成を示す図（ｂ）である。

【図７】本発明の液晶表示装置の代表的な構造を示す図
である。

【図８】本発明のカラー液晶表示装置の代表的な構造を
示す図である。

【図９】図７をフィルム法線方向から見たときの代表的
な構成を示す図である。

【符号の説明】

１１反射シート１２導光板１３散乱シート１４調光フィルム１５裏面偏光板１６表面偏光板１７液晶セル１８冷陰極蛍光管１９反射シート２１、４１透明支持体２２配向層２３光学異方層２４ａ、２４ｂ、２４ｃ液晶性ディスコティック化合
物２５透明支持体の法線方向３１ラビング方向３２レターデーションの絶対値の最小値を示す方向と
透明支持体の法線方向とのなす角度４２マット層４３低屈折率層４４マット粒子５１偏光層５２、６２ａ、６２ｂ光学補償層（フィルム）５３、６１マット性高透過率層（フィルム）６３液晶セル６４反射防止層６５粘着剤層７１ａ、７１ｂ光学補償フィルムのラビング方向７２ａ、７２ｂ液晶セルのラビング方向７３ａ、７３ｂ偏光層の透過方向７４バックライト８１捻れ配向ネマティック液晶分子８２対向透明電極８３画素電極８４ａ、８４ｂガラス基板８５カラーフィルタ８６ＴＦＴ８７ａ下側偏光板８７ｂ上側偏光板９１、９２光学補償フィルムのラビング方向とガラス
基板のラビング方向のなす角度

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡部淳神奈川県南足柄市中沼210番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H038 AA55 BA06 2H049 BA02 BA06 BA25 BA27 BA42 BB03 BB17 BB33 BB43 BB49 BB65 BC04 BC09 BC10 BC22 2H091 FA08Z FA31Z FB02 FC17 FC18 FD06 LA19 2K009 AA04 AA15 BB28 CC24 CC26 DD02 DD06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚の透明支持体によって偏光層を挟持
してなる偏光板において、該透明支持体のうち一方の支
持体の偏光層と反対側の面に光学異方層を含んでなる光
学補償層を有し、更にもう一方の透明支持体の偏光層と
反対側の面にマット性高透過率層を有する偏光板であっ
て、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有す
る化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディ
スコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して
傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面
と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向
において変化していることを特徴とする偏光板。
【請求項２】該角度が光学異方層の支持体面側からの
距離の増加とともに増加している請求項１に記載の偏光
板。
【請求項３】該光学異方層が、更にセルロースエステ
ルを含んでいる請求項１に記載の偏光板。
【請求項４】該光学異方層側の透明支持体が、光学的
に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に
光軸を有し、更に下記の条件を満足する請求項１に記載
の偏光板。【数１】２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦
４００（ｄ：光学補償層厚み）
【請求項５】光学異方層と透明支持体との間に、配向
層が形成されている請求項１に記載の偏光板。
【請求項６】配向層がポリマーの硬化膜からなる請求
項５に記載の偏光板。
【請求項７】光学異方層がモノドメインであるか、ま
たは０．１μｍ以下のサイズのドメインを多数形成して
いることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項８】前記マット性高透過率層が、粒径１．０
μｍ以上の粒子を含んでなるマット層と該マット層上に
屈折率１．４５以下の低屈折率層を有することを特徴と
する請求項１に記載の偏光板。
【請求項９】該マット層を形成するバインダポリマー
の平均膜厚より大きい平均粒径及び変動係数０．２以下
の粒子径分布を有し、モース硬度７未満の樹脂よりなる
単分散性透明微粒子をマット層中に含んでなることを特
徴とする請求項８に記載の偏光板
【請求項１０】該低屈折率層が、熱または電離放射線
により架橋する含フッ素化合物を含んでなり、動摩擦係
数０．１５以下であることを特徴とする請求項８に記載
の偏光板。
【請求項１１】該マット層中の粒子がモース硬度７未
満であることを特徴とする請求項８に記載の偏光板。
【請求項１２】請求項１から１１に記載の偏光板を、
液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板のうち、バッ
クライト側の偏光板として用い、且つ該マット性高透過
率層をバックライト側へ向けて配置することを特徴とす
る液晶表示装置。
【請求項１３】透明電極、画素電極およびカラーフィ
ルタを有する一対の基板と、その基板間に封入された捻
れ配向したネマティック液晶とからなる液晶セル、液晶
セルの両側に設けられた一対の光学補償シートとその外
側に配置された一対の偏光板からなるカラー液晶表示装
置において、液晶セルのバックライト側光学補償シート
および偏光板として請求項１から１１に記載の偏光板を
用い、且つ該光学異方層を液晶セル側へ向けて配置し、
更に液晶セルの表示側にディスコティック構造単位を有
する化合物からなる負の複屈折を有する光学異方性層を
有し、該ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持
体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造
単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方
層の深さ方向において変化している光学補償シートを有
するカラー液晶表示装置。
【請求項１４】請求項１３に記載のカラー液晶表示装
置において、表示側偏光板の表示側最表面上に反射防止
層を形成してなることを特徴とするカラー液晶表示装
置。
【請求項１５】請求項１４に記載のカラー液晶表示装
置において、表示側偏光板の表示側最表面上に防眩層を
形成してなることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項１６】請求項１５に記載のカラー液晶表示装
置において、表示側偏光板の表示側最表面上に防眩性反
射防止層を形成してなることを特徴とするカラー液晶表
示装置。