JP4187139B2

JP4187139B2 - 光拡散フイルム、反射防止フイルム、偏光板および画像表示装置

Info

Publication number: JP4187139B2
Application number: JP2002068595A
Authority: JP
Inventors: 工安藤
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2002-03-13
Filing date: 2002-03-13
Publication date: 2008-11-26
Anticipated expiration: 2022-03-13
Also published as: JP2003270409A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基材および光拡散層を有する光拡散フイルムに関する。また、本発明は、透明基材、光拡散層および低屈折率層を、この順序で有する反射防止フイルムにも関する。さらに、本発明は、偏光膜の両面に保護膜が設けられている偏光板にも関する。さらにまた、本発明は、光拡散フイルム、反射防止フイルムまたは偏光板を用いた画像表示装置にも関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから構成されている。液晶表示装置の表示品位上の欠点は、視野角と外光の写り込みである。
視野角に関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置において、特開平８−５０２０６号公報、特開平７−１９１２１７号公報、およびに欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書に記載のように光学補償フイルムを偏光板と液晶セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装置が実現されている。ところが、上記液晶表示装置はパネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。
この問題に対して、特許第２８２２９８３号公報には光拡散手段を、特開２００１−３３７８３号公報には光軸変換板を、そして特開２００１−５６４６１号公報には出射光を拡散する光学手段を、視認側表面に設けることで著しく表示品位が改善されることが提案されている。しかしながら、これらに記載の具体的手段は高度に制御されたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡散手段であり、高価、かつ大量生産が非常に困難であった。
【０００３】
特開平６−１８７０６号、同１０−２０１０３号の各公報には、透明基材フイルムの表面に、フィラー（例、二酸化ケイ素（シリカ））を含む樹脂を塗工して形成した安価、かつ大量生産可能な光拡散フイルムが開示されている。特開平１１−１６０５０５号、同１１−３０５０１０号、同１１−３２６６０８号、特開２０００−１２１８０９号、同２０００−１８０６１１号、および同２０００−３３８３１０号の各公報には、その他の光拡散フイルムが開示されている。これらの光拡散フイルムを用いても、表示品位の向上は不充分であった。
近年では、液晶表示装置が画素が細かい高精細モニター用途に用いられることが多くなっている。光拡散フイルムを高精細モニターで使用すると、画像の呆けが生じやすいとの別の大きな問題にも直面している。
【０００４】
一方、外光の写り込みに関しては、反射防止フイルムが一般に用いられる。反射防止フイルムは、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するディスプレイの最表面に配置される。しかしながら、従来の反射防止フイルムには上述のような視野角の問題を解決しうるものではなく、外光の写り込みに優れ、かつ視野角の問題を解決できるような反射防止フイルムが望まれていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、液晶表示装置の広視野角化、特にパネル下方向の階調反転および外光の写り込み防止を高度に実現することである。
また、本発明の目的は、高精細液晶表示装置でも呆けのない画像を実現することでもある。
さらに、本発明の目的は、液晶パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向視野角）を拡大することでもある。
さらにまた、本発明の目的は、視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、あるいは色相変化の発生を防止することでもある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、下記（１）〜（４）の光拡散フイルム、下記（５）、（６）の反射防止フイルム、下記（７）〜（９）の偏光板、および下記（１０）、（１１）の画像表示装置により達成された。
（１）透明基材および光拡散層を有する光拡散フイルムであって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有し、光拡散層が透光性樹脂および透光性微粒子からなり、透光性樹脂が、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーとともに、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子を含有し、透光性微粒子が、０．５μｍ乃至２．０μｍの粒子径を有する微粒子と２．５μｍ乃至５．０μｍの粒子径を有する微粒子とからなり、透光性微粒子が透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有し、透光性樹脂が１．５１乃至２．００の屈折率を有し、さらに透光性微粒子の屈折率と透光性樹脂の屈折率との差が０．０２乃至０．２０であることを特徴とする光拡散フイルム。
【０００７】
（２）光拡散層が、０．０２％以下の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を有する（１）に記載の光拡散フイルム。
（３）光拡散層が、４０乃至９０％の範囲に、全ヘイズ値を有する（１）に記載の光拡散フイルム。
（４）光拡散層が、３０乃至８０％の範囲に、内部拡散ヘイズ値を有する（１）に記載の光拡散フイルム。
【０００８】
（５）透明基材、光拡散層および低屈折率層を、この順序で有する反射防止フイルムであって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有し、光拡散層が透光性樹脂および透光性微粒子からなり、透光性樹脂が、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーとともに、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子を含有し、透光性微粒子が、０．５μｍ乃至２．０μｍの粒子径を有する微粒子と２．５μｍ乃至５．０μｍの粒子径を有する微粒子とからなり、透光性微粒子が透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有し、透光性樹脂が１．５１乃至２．００の屈折率を有し、透光性微粒子の屈折率と透光性樹脂の屈折率との差が０．０２乃至０．２０であり、さらに反射防止フイルムが、２．５％以下の範囲に、５度入射における鏡面反射率の４５０乃至６５０ｎｍの波長領域での平均値を有することを特徴とする反射防止フイルム。
（６）光拡散層が、０．０２％以下の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を有する（５）に記載の反射防止フイルム。
【０００９】
（７）偏光膜の両面に保護膜が設けられている偏光板であって、保護膜の一方が（１）〜（４）に記載の光拡散フイルムあるいは（５）または（６）に記載の反射防止フイルムであることを特徴とする偏光板。
（８）（１）〜（４）に記載の光拡散フイルムあるいは（５）または（６）に記載の反射防止フイルム、偏光膜および液晶性化合物からなる光学異方性層を、この順序で有する偏光板。
（９）液晶性化合物がディスコティック化合物である（８）に記載の偏光板。
（１０）（１）〜（４）に記載の光拡散フイルム、（５）または（６）に記載の反射防止フイルムあるいは（７）〜（９）に記載の偏光板をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする画像表示装置。
（１１）画像表示装置がＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードあるいはＥＣＢモードの液晶表示装置である（１０）に記載の画像表示装置。
【００１０】
【発明の効果】
本発明者は、ゴニオフォトメータで測定される散乱光の強度分布と視野角改良効果に相関にあることを突き止めた。本発明者は、さらに研究を進め、ヘイズ値を制御し、特定の低屈折率層を積層した反射防止フイルムにすることで、画像の呆けを犠牲にせずに、外光の写り込みと視野角改良を達成した。
すなわち、バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散フイルムで拡散されればされるほど視野角特性が良くなる。しかし、あまり拡散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する。また、散乱が大きすぎると、画像鮮明性が劣化する問題が生じる。従って、散乱光強度分布をある範囲に制御することが必要となる。
【００１１】
本発明者がさらに検討した結果、所望の視認特性を達成するには、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対して、特に視野角改良効果と相関ある３０°の散乱光強度を一定の範囲に制御すれば良いことが判明した。また、画像鮮明性の観点からは、画像の呆けと相関がある６０°方向の散乱光強度を制御すれば良いことも判明した。
以上の結果、本発明によれば、液晶表示装置の広視野角化、特にパネル下方向の階調反転および外光の写り込み防止を高度に実現できる。また、本発明によれば、高精細液晶表示装置でも呆けのない画像を実現することもできる。さらに、本発明によれば、液晶パネルの厚みを厚くすることなく、視野角（特に下方向視野角）を拡大することもできる。さらにまた、本発明によれば、視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、あるいは色相変化の発生を防止することもできる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明では、所望の視認特性を達成するために、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対して、特に視野角改良効果と相関ある３０°の散乱光強度を０．０１乃至０．２％の範囲に調整する。３０°の散乱光強度は、０．０２乃至０．１５％の範囲であることが好ましく、０．０３乃至０．１％の範囲であることがさらに好ましい。
また、画像鮮明性の観点からは、画像の呆けと相関がある６０°方向の散乱光強度を制御することがより好ましい。具体的には、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度が、０．０２％以下であることが好ましく、０．０１％以下であることがさらに好ましく、０．００５％以下であることが最も好ましい。
散乱光プロファイルは、作成した光散乱フイルムについて、市販の自動変角光度計（ＧＰ−５型、（株）村上色彩技術研究所製）を用いて測定できる。
【００１３】
視野角特性の改良には、ヘイズ値の調整も重要である。内部散乱ヘイズとして、３０％乃至８０％が好ましく、３５％乃至７０％が更に好ましく、４０％乃至６０％が最も好ましい。
内部散乱ヘイズを上昇させる方法としては、粒径が０．５乃至２．０μｍである粒子濃度を上げる、もしくは膜厚を厚くする、さらには該粒子の屈折率を上げるなどの方法がある。
内部散乱ヘイズとは別に、視認性の観点から表面凹凸により表面ヘイズを設けることも必要であり、該内部散乱ヘイズと表面ヘイズが存在する状態で、全ヘイズ値として４０％以上であることで視野角改良効果が発揮され、４０％乃至９０％が好ましく、４５％乃至８０％が更に好ましく、５０％乃至７０％が最も好ましい。
【００１４】
［光拡散フイルムの基本構成］
図１は、光拡散フイルムの基本構成を示す断面模式図である。
図１に示す光拡散フイルム（１０）は、透明基材フイルム（２０）、光拡散層（３０）および低屈折率層（５０）とを積層してなる。光拡散層（３０）は、透光性樹脂（３１）中に、第１の透光性微粒子（４１）及び第２の透光性微粒子（４２）とを含む。光拡散層（３０）は複数の層からなっていてもよい。
種類以上の透光性微粒子を用いてもよい。
【００１５】
光拡散層（３０）の透光性樹脂（３１）の屈折率は、１．５１〜２．００であることが好ましい。低屈折率層（５０）の屈折率は、１．３５〜１．４５であることが好ましい。透明基材フイルム（２０）として好ましく用いられるトリアセチルセルロースの屈折率は、１．４８である。
光拡散層の屈折率を高くすることで、低屈折率層の屈折率が１．３５〜１．４５の範囲であっても、優れた反射防止効果が得られる。光拡散層の屈折率が小さすぎると、反射防止効果が低下する。光拡散層の屈折率が大きすぎると、反射光の色味が強くなる。
【００１６】
［光拡散層］
光拡散層は、透光性粒子と透光性樹脂からなる。透光性粒子と透光性樹脂により散乱光プロファイル及びヘイズ値を調整する。
本発明では、２種類以上の粒径の透光性微粒子を用いることが好ましい。
【００１７】
二種類以上の透光性微粒子は、いずれも、光拡散層全体を構成する透光性樹脂との屈折率の差が０．０２乃至０．２０であることが好ましい。屈折率差が０．０２未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果が得られない。屈折率差が０．２０よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フイルム全体が白化する。屈折率差は、０．０３乃至０．１５がさらに好ましく、０．０４乃至０．１３が最も好ましい。
また、前記透光性微粒子（４２）の粒子径は、０．５μｍ乃至２．０μｍであることが好ましい。粒子径の調整により、前述した光散乱の角度分布を得ることができる。
【００１８】
本発明では、表示品位を上げる（下方向視野角改善）ために、ある程度入射した光を拡散させる事が必要である。拡散効果が大きければ大きい程、視角特性は向上する。しかし、表示品位という点で正面の明るさを維持するためには、出来る限り透過率を高めることが必要である。
前記粒子径を０．５μｍ以下とした場合、散乱の効果が大きく、視角特性は飛躍的に向上するが、後方散乱が大きくなり明るさの減少が激しい。一方、２．０μｍ以上とした場合は、散乱効果が小さくなり、視角特性の向上は小さくなる。従って、前記粒子径は、０．６μｍ乃至１．８μｍが好ましく、０．７μｍ乃至１．７μｍが最も好ましい。
【００１９】
また、前記透光性微粒子（４１）の粒子径は２．５μｍ乃至５．０μｍであることが好ましい。これにより、本発明に適した表面散乱を得ることができる。
良好な表示品位を達成するには、外光の写り込みを防止する事も必要である。
表面のヘイズ値は、低いほど表示のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるが、ヘイズ値が低すぎると映り込み及び面ギラ（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生する。逆に、高すぎると白っぽくなり（白化；黒濃度低下）、表面ヘイズ値ｈsは０．５＜ｈs＜３０が好ましく、３≦ｈs≦２０が更に好ましく、７≦ｈs≦１５が最も好ましい。
この表面ヘイズ値を制御するには、微粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることが好ましい形態として用いられる。ヘイズ値（曇価）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じ村上色彩技術研究所製ＨＲ−１００を用いてを測定出来る。
【００２０】
前記粒子径を２．５μｍ以下とした場合、表面凸凹は小さくなり、表面散乱の効果が小さく、外光による写り込みを十分に抑えることが出来ない。一方、５．０μｍ以上とした場合は、表面凸凹が大きくなり、写り込みは抑えられるが、著しく白化し逆に表示品位を落とすことになる。従って、前記粒子径は、２．２μｍ乃至４．７μｍが好ましく、２．４μｍ乃至４．５μｍが最も好ましい。
表面凸凹は、表面粗さＲａが１．２μｍ以下であることが好ましく、０．８μｍ以下であることが更に好ましく、最も好ましくは、０．５μｍ以下である。表面粗さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメント（株）製）を用いてを測定出来る。
【００２１】
前記透光性微粒子において、２種類以上の粒子径の異なる透光性微粒子を用い、それら透光性微粒子の混合を行なうことにより、表示品位に関わる視角特性と外光の写り込みを各々独自に最適化することができ、透光性微粒子の混合比により細かい設定が可能となり、１種類の場合よりも制御が可能となり、様々な設計が容易となる。
【００２２】
前記透光性微粒子（４１）および（４２）は、単分散の有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、曇価の設計が容易となる。
前記透光性微粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．６８）等が用いられる。
無機微粒子としては、シリカビーズ（屈折率１．４４）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が用いられる。
【００２３】
透光性微粒子の粒径は、前述のように０．５〜５μｍのものを適宜選択して用いるとよく、透光性樹脂１００質量部に対して５〜３０質量部含有させるとよい。
【００２４】
上記のような透光性微粒子の場合には、樹脂組成物（透光性樹脂）中で透光性微粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性微粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【００２５】
透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。又、光拡散層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ乃至７μｍとすると良い。
透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜２．００であり、より好ましくは１．５１〜１．９０であり、更に好ましくは１．５１〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性微粒子を含まずに測定した値である。
屈折率が小さすぎると反射防止性が低下する。さらに、これが大きすぎると、反射光の色味が強くなり、好ましくない。
【００２６】
該透光性樹脂に用いるバインダーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００２７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
【００２８】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化することができる。
【００２９】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００３０】
透光性樹脂は、上記バインダポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成されることが好ましい。
高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。
高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。
【００３１】
透光性樹脂と透明基材フイルムが接する場合、透光性樹脂を形成するための塗布液の溶剤は、防眩性の発現および支持体と防眩層間との密着性の両立を図るために、透明基材フイルム（例えばトリアセチルセルロース支持体）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、透明基材フイルムを溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤から構成する。より好ましくは、透明基材フイルムを溶解しない溶剤のうちのすくなくとも一種類が、透明基材フイルムを溶解する溶剤うちの少なくとも一種類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましくは、透明基材フイルムを溶解しない溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、透明基材フイルムを溶解する溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上であることであり、最も好ましくは５０℃以上であることである。
【００３２】
透明基材フイルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解する溶剤として、
炭素子数が３〜１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等、
炭素数が３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、
炭素数が３〜１２のエステル類：具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等、
２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等
が挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。透明基材を溶解する溶剤としてはケトン系溶剤が好ましい。
【００３３】
透明基材フイルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶剤として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノンが挙げられる。
これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
透明基材フイルムを溶解する溶剤の総量（Ａ）と透明基材フイルムを溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。
【００３５】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【００３６】
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００３７】
[低屈折率層]
低屈折率層は、反射防止能付与する目的で、支持体上に光拡散層を設けた側の最外層に反射防止層として設けられる。
低屈折率層の屈折率は、上述のとおり好ましくは１．３５〜１．４５である。
低屈折率層の屈折率は、下記数式（Ｉ）を満すことが好ましい。
（ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……数式（Ｉ）
式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００３８】
本発明の低屈折率層には、熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物が硬化した含フッ素樹脂が用いられる。これにより、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐傷性に優れている。熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物の屈折率としては１．３５以上１．４５以下が好ましい。硬化した含フッ素樹脂の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０度である。
このような架橋性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【００３９】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
【００４０】
架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。
【００４１】
また、低屈折率層には、上記含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体だけでなく、これにその他のモノマーが共重合したポリマーを用いてもよい。
共重合してもよいその他のモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【００４２】
低屈折率層に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を付与するために、平均粒径が好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．００１〜０．０５μｍのＳｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。反射防止性の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含フッ素樹脂の屈折率を下げていくと耐傷性が悪化する。そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率のバランスの最も良い点を見出すことができる。
Ｓｉの酸化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。
【００４３】
反射防止フイルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のいずれかに対して常温常湿で測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²であることが好ましい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ²である。ここで、単位のｐｃ（ピコクーロン）は、１０^-12クーロンである。
さらに好ましくは、常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ／ｃｍ²〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ²である。
【００４４】
垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りである。
測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置く台と相手のフイルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定するエレクトロメーターがつながっている。測定する防眩性反射防止フイルムを台に乗せ、ヘッドにＴＡＣあるいはＰＥＴを装着する。測定部分を除電したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電とする。
【００４５】
相手フイルムや測定サンプルの種類によってプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があるが、問題となるのは絶対値の大きさである。
また、一般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくなる。本発明の防眩性反射防止フイルムはこの絶対値も小さい。
【００４６】
反射防止フイルムは、常温常湿及び常温１０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値が小さいので防塵性に優れる。
垂直剥離帯電の値を上記の範囲とするには、反射防止フイルム表面の各種元素の割合を調節することによって行われる。
【００４７】
反射防止フイルムの表面抵抗値は、１×１０¹¹Ω／□以上、好ましくは１×１０¹²Ω／□以上である。表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円電極法である。即ち、電圧印加後、１分後の電流値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。
本発明では、表面抵抗値を小さくすること、例えば１×１０¹⁰Ω／□以下にすることで防塵性（ゴミ付着防止性）を良くする方法とは考え方が根本的に異なる。この方法は画像表示品位が落ちるため採用せず、本発明では上記した方法で垂直剥離帯電の絶対値を小さくしているので、表面抵抗値を小さくする必要がなく、表面抵抗値を１×１０¹¹Ω／□以上とすることができ画像表示品位が落ちない。
【００４８】
反射防止フイルムは、５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であり、１．２％以下が好ましく、より好ましくは１．１％以下である。
また、５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であることが好ましく、より好ましくは２．３％以下である。
【００４９】
上記５度入射における鏡面反射率、および５度入射について説明する。
５度入射における鏡面反射率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する法線方向−５度で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。防眩性反射防止フイルムに適用する場合には、防眩性付与のために設けた表面凹凸に起因する散乱光の分だけ、法線方向−５度で反射した光の強度は弱くなる。従って、鏡面反射率は防眩性と反射防止性の両方の寄与を反映する測定法といえる。
【００５０】
一方、５度入射における積分反射率とは、サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する全ての方向に反射した光の強度の積分値の割合である。反射防止フイルムに適用する場合には、防眩性による反射光の減少が起こらないため、反射防止性だけを反映する測定が可能である。
従って、上記の両方の反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値をそれぞれ２．５％以下（鏡面反射率）、２．５％以下（積分反射率）とすることにより、防眩性と反射防止性を同時に満足させることが可能になる。
【００５１】
反射防止フイルムの５度入射における鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、背景の映り込みが気になり、表示装置の表面フイルムに適用したときの視認性が低下する。
一方、反射防止フイルムの５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラスト改善効果が少なくなり、防眩性付与のための表面凹凸起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表示品位が低下する。
【００５２】
反射防止フイルムは、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊、ａ＊、ｂ＊値で定量化したときに、それぞれＬ＊≦１０、０≦ａ＊≦２、−５≦ｂ＊≦２の範囲内に入るように設計されていることが好ましい。これを満たす正反射光の色味はニュートラルな色味である。
ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味は、５度入射における波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における鏡面反射率の実測値と光源Ｄ６５の各波長における分光分布の積を算出して得られた分光反射スペクトルから、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値をそれぞれ算出することで定量化することができる。
Ｌ＊値が１０より大きいと、反射防止性が十分でない。ａ＊値が２より大きいと反射光の赤むらさき色が強く、０未満では逆に緑色が強くなり好ましくない。また、ｂ＊値が−５未満では青味が強く、２より大きいと黄色が強くなり好ましくない。
【００５３】
このようなニュートラルな色味の反射光を有し、且つ低反射率を有する反射防止フイルムは、低屈折率層の屈折率と防眩層のバインダ素材の屈折率のバランスを最適化することで得られる。
一般に３層以上の蒸着、スパッタ等による光学薄膜による反射防止膜は、鏡面反射率の平均値を０．３％以下まで低減でき、従ってＬ＊値も３以下にまで低減できるが、ａ＊値が１０以上、ｂ＊値が−１０未満の値となり、反射光の色味が非常に強いものとなっていたが、本発明の防眩性反射防止フイルムではこの反射光の色味の点で大幅に改善されている。
【００５４】
［透明基材］
透明基材の素材としては、透明樹脂フイルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスがある。透明樹脂フイルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム（屈折率１．４８）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム、ジアセチレンセルロースフイルム、アセテートブチレートセルロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイルム、ポリアクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂フイルム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフイルム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトンフイルム、（メタ）アクリルニトリルフイルム等が使用できる。又、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
透明基材は、偏光板の最表面に用いるため、偏光板の保護フイルムとして一般に用いられているセルロースアセテートフイルムを使用する事が好ましい。
光散乱フイルムの透明基材フイルムとしては、透明性が高く、表面が平滑なセルロースアセテートフイルムが好ましい。
【００５５】
本発明では透明基材フイルムに、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが特に好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
【００５６】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。
６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。本発明のセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号に記載の「００４３」〜「００４４」「実施例」［合成例１］、「００４８」〜「００４９」［合成例２］、「００５１」〜「００５２」［合成例３］の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００５７】
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００５８】
炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
【００５９】
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００６０】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについては公開技報２００１−１７４５に記載されているものがあげられる。
セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【００６１】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００６２】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００６３】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００６４】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００６５】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００６６】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００６７】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延でフイルム化することも出来る。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフイルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【００６８】
２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフイルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフイルム流延方法でもよい。
【００６９】
或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフイルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フイルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号に記載されている方法である。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【００７０】
単層液では、必要なフイルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多い。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることができる。
【００７１】
セルロースアセテートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００７２】
セルロースアセテートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００７３】
セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
フイルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフイルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【００７４】
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。
生産性の観点から、アルカリ液を塗布し、鹸化処理後に水洗によりフイルム表面よりアルカリ除去する事が好ましい。濡れ性の観点から、塗布溶媒としてはＩＰＡ、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール等のアルコール類が好ましく、アルカリ溶解の助剤として水、プロピレングリコール、エチレングリコール、等を加える事が好ましく用いられる。
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出出来る。
【００７５】
［液晶化合物からなる光学異方性層］
光学異方性層に用いられる液晶化合物は、棒状液晶でも、ディスコティック液晶でも良く、またそれらが高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含む。本発明の液晶性化合物として最も好ましいのは、ディスコティック液晶である。
【００７６】
棒状液晶の好ましい例としては、特開２０００−３０４９３２号公報に記載のものがあげられる。本発明のディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。
【００７７】
光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる複屈折を有する層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化していることが好ましい。
【００７８】
上記ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【００７９】
上記光学異方層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【００８０】
例えば、支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【００８１】
上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて使用される。更に、好ましい重合性モノマーの例としては、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３官能以上が好ましく、４官能以上が更に好ましい。最も好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサアクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異なる多官能モノマーを混合して使用することも可能である。
【００８２】
上記ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーでも使用することができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好ましくは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量にて使用される。
本発明では、セルロースアセテートフイルム、その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成されたディスコティック液晶からなり、配向膜が架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。
【００８３】
[配向膜]
配向膜は、架橋された２種のポリマーからなる層である。少なくとも１種のポリマーが、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成するか；あるいは、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【００８４】
このような架橋は、通常上記ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施されるが、最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いので、配向膜を透明支持体上に塗設した後から、最終の光学補償シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処理を行なっても良い。配向膜上に形成される円盤状構造を有する化合物（光学異方層）の配向性を考えると、円盤状構造を有する化合物の配向させたのちに、充分架橋を行なうことも好ましい。すなわち、透明支持体上に、ポリマー及び該ポリマーを架橋することができる架橋剤を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後（一般に架橋が行なわれるが、加熱温度が低い場合にはディスコティックネマチック相形成温度に加熱された時に更に架橋が進む）、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、次いでこの配向膜上に円盤状構造単位を有する化合物を含む塗布液を塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成する。
【００８５】
本発明の配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論両方可能なポリマーもある。上記ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００８６】
上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましく、重合度の異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが最も好ましい。
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）₃、Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯ、ＳＯ₃Ｎａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ₂、ＣＯＯＲ、Ｃ₆Ｈ₅等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
これら変性ポリマーの合成方法、可視吸収スペクトル測定、および導入率ｙの決定方法等は、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載がある。
【００８７】
上記ポリビニルアルコール等のポリマーと共に使用される架橋剤の具体例として、下記のものを挙げることができるが、これらは上記水溶性ポリマー、特にポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール（上記特定の変性物も含む）、と併用する場合に好ましい。例えば、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グリオキザール及びグルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロール化合物（例、ジメチロール尿素及びメチロールジメチルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナフタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロピリジニウム及び１−モルホリノカルボニル−３−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物（例、１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン及びＮ，Ｎ’−メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオキサゾール類、及びジアルデヒド澱粉、などを挙げることができる。これらは、単独または組合せて用いることができる。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアルデヒド類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好ましい。
【００８８】
架橋剤としては、特に限定はなく、添加量は、耐湿性に関しては、多く添加した方が良化傾向にある。しかし、配向膜としての配向能が、ポリマーに対して５０質量％以上添加した場合に低下することから、０．１〜２０質量％が好ましく、特に０．５〜１５質量％が好ましい。本発明の配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいるが、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、特に０．５質量％以下であることが好ましい。配向膜中に１．０質量を超える量で架橋剤が含まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、液晶表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレーションが発生することがある。
【００８９】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である、上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができ、架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なっても良い。そして、前記のポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒と水の混合溶媒とすることが好ましく、その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が一般的であり、０：１００〜９１：９であることが好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。塗布方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。特にＥ型塗布法が好ましい。また、膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は２０℃ないし１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成させるためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができる。好ましくは５分間乃至３０分間である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【００９０】
配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。
【００９１】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００９２】
［光学異方性層を塗設する透明支持体］
透明支持体は、高透過率なプラスティックフイルムであれば特に制限はないが、偏光板の保護フイルムであるセルロースアセテートを用いることが好ましい。光学的に１軸性でも二軸性であってもよい。
光学異方性層を塗設する透明支持体は、それ自身が光学的に重要な役割を果たすため、本発明の透明支持体のＲｅレターデーション値を０乃至２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍに調節される事が好ましい。
液晶表示装置に二枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。
液晶表示装置に一枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。
【００９３】
なお、セルロースアセテートフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至０．００２であることが好ましい。また、セルロースアセテートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好ましい。
レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算出する。
レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率である。
（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（II）には、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。ｄは、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。
【００９４】
［偏光板］
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる。一方の保護フイルムとして、本発明の光拡散フイルム、反射防止フイルムを用いることができる。他方の保護フイルムは、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。
光拡散フイルムの透明基材やセルロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
偏光板の生産性には保護フイルムの透湿性が重要であることがわかった。偏光膜と保護フイルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フイルム中を拡散することで、乾燥される。保護フイルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
【００９５】
偏光板の透湿性は、透明基材、ポリマーフイルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明の光拡散フイルム、反射防止フイルムを偏光板の保護フイルムとして用いる場合、透湿性は１００乃至１０００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓである事が好ましく、３００乃至７００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓである事が更に好ましい。
透明基材の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整する事が出来る。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明基材の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することが出来る。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明基材の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることが出来る。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【００９６】
本発明においては本発明の光拡散フイルムあるいは反射防止フイルム、偏光子、液晶性化合物からなる光学異方性層をこの順に積層した偏光板が好ましい。
光学異方性層は、ポリマーフイルム上に円盤状化合物（ディスコティック化合物）、もしくは棒状液晶化合物を含む層として形成されていても良い。本発明においては液晶性化合物がディスコティック化合物であることが好ましい。光学異方性層は、円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成することが好ましい。
円盤状化合物は、一般に大きな複屈折率を有する。また、円盤状化合物には、多様な配向形態がある。従って、円盤状化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を有する光学異方層とすることができる。円盤状化合物を用いた光学異方層については、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、西独特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。
【００９７】
［画像表示装置］
本発明の光拡散フイルム、反射防止フイルム、または偏光板は、画像表示装置に有利に用いられ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。画像表示装置には、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイパネルや陰極管表示装置が含まれる。液晶表示装置に用いると、特に有効である。
ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＢ、ＩＰＳ及びＥＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
液晶表示装置においては光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置される。
【００９８】
液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、またはＴＮモードであることが好ましい。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
【００９９】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１００】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１０１】
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１０２】
【実施例】
［実施例１］
光拡散層を構成する透光性樹脂はシリカ超微粒子分散物含有ハードコート液（デソライトＺ７５２６ＪＳＲ（株）製、屈折率１．５１）を１００質量部、透光性微粒子として架橋ポリスチレンビーズ（綜研化学製ＳＸ１３０Ｈ、粒径１．３μｍ、屈折率１．６１）を２５質量部、架橋ポリスチレンビーズ（綜研化学製ＳＸ３５０Ｈ、粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を６質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分４５％になるように調整したものを、トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズの塗布量が１．１ｇ／ｍ²になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フイルムＡ−０１を作製した。このフイルムの光拡散層乾燥膜厚は３．５μｍであった。
【０１０３】
（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇにＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）分散物、日産化学（株）製）８ｇ、およびメチルエチルケトン１００ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０１０４】
［実施例２］
光拡散フイルムＡ−０１の光拡散層上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、光拡散フイルムＡ−０２を作製した。
【０１０５】
［実施例３］
１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズの塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＡ−０２と同様に光拡散フイルムＡ−０３〜Ａ−０７を作製した。塗布量は第１表に示す通りである。
【０１０６】
［実施例４］
１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズを１．５μｍシリカビーズ（日本触媒製シーホスターＫＥ−Ｐ１５０屈折率１．４４）に変更し、塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＡ−０２と同様に光拡散フイルムＡ−０８〜Ａ−０９を作製した。塗布量は第１表に示す通りである。
【０１０７】
［実施例５］
光拡散層を構成する透光性樹脂は、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を１００部、透光性樹脂（日本化薬製ＤＰＨＡ）を５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
この溶液に透光性微粒子として、ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）を１７質量部、およびポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製、ＭＸ３００粒径３．０μｍ、屈折率１．４９）を７質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように調整したものを、トリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４ｇ／ｍ²になるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散フイルムＢ−０１を作製した。このフイルムの光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。
【０１０８】
［実施例６］
光拡散フイルムＢ−０１の光拡散層上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、光拡散フイルムＢ−０２を作製した。
【０１０９】
［実施例７］
１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＢ−０２と同様に光拡散フイルムＢ−０３〜Ｂ−０６を作製した。塗布量は第２表に示す通りである。
【０１１０】
［実施例８］
１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズを５．０μｍポリメチルメタクリレート系ビーズに変更した以外は光拡散フイルムＢ−０２と同様に光拡散フイルムＢ−０７を作製した。
【０１１１】
［実施例９］
１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズを１．３μｍ架橋ポリスチレンビーズに変更し、塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＢ−０２と同様に光拡散フイルムＢ−０８〜Ａ−０９を作製した。塗布量は第２表に示す通りである。
【０１１２】
［実施例１０］
１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズをメラミンホルムアルデヒド系ビーズ（日本触媒製、粒径０．５μｍ、屈折率１．６８）に変更し、塗布量を変更した以外は光拡散フイルムＢ−０２と同様に光拡散フイルムＢ−１０を作製した。塗布量は第２表に示す通りである。
【０１１３】
（光拡散フイルムの評価）
得られた光拡散フイルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を第１表及び第２表に示す。
【０１１４】
（１）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。
【０１１５】
（２）ヘイズ
得られたフイルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
【０１１６】
（３）散乱光プロファイルの評価
自動変角光度計ＧＰ−５型（(株)村上色彩技術研究所製）を用いて、入射光に対して光拡散フイルムを垂直に配置し、全方位に渡って散乱光プロファイルを測定した。出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度、出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を求めた。
図２は、実施例２で作製した光拡散フイルム（Ａ−０２）の散乱プロファイルである。図２において、同心円状の間隔は対数である。
【０１１７】
次に、上記実施例の光拡散フイルムを用いて偏光板を作成し、液晶表示装置での評価を実施した。
【０１１８】
（視認側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。光拡散フイルムＡ−０１〜０９及びＢ−０１〜１０に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光拡散フイルムの透明基材（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、フイルム支持体が偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板ＰＡ−０１〜０９及びＰＢ−０１〜１０を作製した。
【０１１９】
（バックライト側偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセルロースフイルム（富士写真フイルム製フジタックＴＤ８０）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、セルロースアセテートフイルムが偏光膜側となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバックライト側偏光板を作製した。
【０１２０】
［実施例１１］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板ＰＡ−０１〜０９及びＰＢ−０１〜１０を、それぞれ光学補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、光学補償フイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介してバックライト側偏光板を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
【０１２１】
また、液晶表示装置に画像を表示させ、下記の３段階で画像の呆けを評価した。
画像の呆けが全く判らない：Ａ
画像がわずかに呆ける：Ｂ
画像の呆けが認識できる：Ｃ
結果を第１表及び第２表に示す。
【０１２２】
【表１】

【０１２３】
【表２】

【０１２４】
【表３】

【０１２５】
【表４】

【０１２６】
第１表及び第２表に示された結果から以下のことが明らかである。
３０°／０°の散乱光強度比が０．０１％以上の光拡散フイルムは、偏光板加工して液晶表示装置に用いると、顕著な視野角改良効果が得られた。特に下方向及び左右方向の視野角が改良されている。但し、３０°／０°の散乱光強度比が０．２％を越えると視野角拡大効果は大きいが、画像に呆けがみられるようになる。従って、３０°／０°の散乱光強度比が０．０１％乃至０．２％の光拡散フイルムにより画像の呆けが無く、液晶表示装置の広視野角化が達成できた。
【０１２７】
更に表から明らかなように、低屈折率層を積層して反射防止処理を施した光拡散フイルムは鏡面反射率が２．５％以下と低く、優れた反射防止性を示している。
このように本発明の光拡散フイルム、反射防止フイルム、偏光板、液晶表示装置においては優れた視認性を示している。
【図面の簡単な説明】
【図１】光拡散フイルムの基本構成を示す断面模式図である。
【図２】実施例２で作製した光拡散フイルム（Ａ−０２）の散乱プロファイルである。
【符号の説明】
１０光拡散フイルム
２０透明支持体
３０光拡散層
４１マット粒子１
４２マット粒子２
５０低屈折率層

Claims

透明基材および光拡散層を有する光拡散フイルムであって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有し、光拡散層が透光性樹脂および透光性微粒子からなり、透光性樹脂が、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーとともに、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子を含有し、透光性微粒子が、０．５μｍ乃至２．０μｍの粒子径を有する微粒子と２．５μｍ乃至５．０μｍの粒子径を有する微粒子とからなり、透光性微粒子が透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有し、透光性樹脂が１．５１乃至２．００の屈折率を有し、さらに透光性微粒子の屈折率と透光性樹脂の屈折率との差が０．０２乃至０．２０であることを特徴とする光拡散フイルム。
光拡散層が、０．０２％以下の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する６０°の散乱光強度を有する請求項１に記載の光拡散フイルム。
光拡散層が、４０乃至９０％の範囲に、全ヘイズ値を有する請求項１に記載の光拡散フイルム。
透光性微粒子が、０．６μｍ乃至１．８μｍの粒子径を有する有機微粒子と２．５μｍ乃至４．５μｍの粒子径を有する有機微粒子とからなる請求項１に記載の光拡散フイルム。
透明基材、光拡散層および低屈折率層を、この順序で有する反射防止フイルムであって、光拡散層が、０．０１乃至０．２％の範囲に、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を有し、光拡散層が透光性樹脂および透光性微粒子からなり、透光性樹脂が、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーとともに、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の超微粒子を含有し、透光性微粒子が、０．５μｍ乃至２．０μｍの粒子径を有する微粒子と２．５μｍ乃至５．０μｍの粒子径を有する微粒子とからなり、透光性微粒子が透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有し、透光性樹脂が１．５１乃至２．００の屈折率を有し、透光性微粒子の屈折率と透光性樹脂の屈折率との差が０．０２乃至０．２０であり、さらに反射防止フイルムが、２．５％以下の範囲に、５度入射における鏡面反射率の４５０乃至６５０ｎｍの波長領域での平均値を有することを特徴とする反射防止フイルム。
偏光膜の両面に保護膜が設けられている偏光板であって、保護膜の一方が請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光拡散フイルムあるいは請求項５に記載の反射防止フイルムであることを特徴とする偏光板。
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光拡散フイルム、請求項５に記載の反射防止フイルムあるいは請求項６に記載の偏光板をディスプレイの最表層に用いた画像表示装置。