JP2003215339A - 偏光板の製造方法、偏光板、および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 視野角が広く、外光の映り込みがない偏光板
あるいは液晶表示装置を低コストで提供すること。 【解決手段】 液晶性化合物から成る光学異方性層、偏
光子、防眩層、および該防眩層上に少なくとも１層の低
屈折率層を有する偏光板であって、該低屈折率層が塗布
法により形成され、該低屈折率層表面の中心線平均粗さ
Ｒａ値が０．６以上１．３以下であり、該防眩層／該低
屈折率層界面の中心線平均粗さをＲｂとするとき、Ｒａ
／Ｒｂ値が０．８３以上１．００以下である偏光板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学異方性層を有
する偏光板の製造方法、およびそれにより製造した偏光
板、およびその偏光板を用いた液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に液晶表示装置の表示品位上の欠点
は、視野角が狭いこと、および外光の写り込みである。
視野角に関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液
晶表示装置において、特開平８−５０２０６号公報、特
開平７−１９１２１７号公報、およびに欧州特許０９１
１６５６Ａ２号明細書に記載のように、光学異方性層を
用いた光学補償フィルムを偏光板と液晶セルの間に挿入
し、広視野角の液晶表示装置が実現されている。しか
し、この光学補償フイルムを用いる方法は優れた方法で
あるが、液晶表示装置を用いて、画像を観察しようとす
ると、未だ、視野角が十分でなく、また、外光の映り込
みが生じるため、画像が見にくくなると言う欠点があ
り、液晶表示装置としては、十分な性能ではなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光学
異方性層を用いて偏光板あるいは液晶表示装置を作成し
た際に、視野角がさらに広く、かつ、外光の映り込みが
ないものを低コストで提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究の結
果、視野角をさらに改良するためには、光学異方性層を
用いるのみでは十分でなく、さらに、液晶表示装置の観
察者側の最外面、すなわち偏光板の表面に所望の凹凸を
形成することにより光拡散性を持たせた層を設けること
が有効であることを見いだした。外光の映り込みはこの
光拡散性層によっても改良されるが、十分でない。その
ため、さらに光拡散性層（以下、防眩層という）の上に
低屈折率層からなる反射防止層を設けることが効果的で
ある。反射防止層を設ける方法としては、ＣＶＤ法、気
相蒸着法、あるいは、塗布法が知られているが、生産性
とコストの観点から塗布法が有利である。しかし、凹凸
を持つ防眩層の上に反射防止層を塗布法により設ける
と、好ましく反射率を低減することができないという問
題があることも見いだした。本発明者は、反射防止性が
十分に低減しないのは、反射防止層を防眩層上にオーバ
ーコートする際に、反射防止層がきわめて薄膜層である
ために、凹凸のある防眩層上に所望の凹凸形状で均一に
形成されていないことが原因であることを見いだした。
このような欠点を改良し、視野角依存性がきわめて小さ
く、外光の映り込みが低減した偏光板、および液晶表示
装置は次のようにして提供することができる。

【０００５】（１） 液晶性化合物から成る光学異方性
層、偏光子、防眩層、および該防眩層上に少なくとも１
層の低屈折率層を有する偏光板であって、該低屈折率層
が塗布法により形成され、該低屈折率層表面の中心線平
均粗さＲａ値が０．６以上１．３以下であり、該防眩層
／該低屈折率層界面の中心線平均粗さをＲｂとすると
き、Ｒａ／Ｒｂ値が０．８３以上１．００以下であるこ
とを特徴とする偏光板。 （２） 液晶性化合物から成る光学異方性層、偏光子、
防眩層、および該防眩層上に少なくとも１層の低屈折率
層を有する偏光板の製造方法において、該低屈折率層が
塗布法により形成され、その塗布液が１種以上の溶媒を
含有し、該溶媒の５０〜１００質量％が沸点１００℃以
下の溶媒であることを特徴とする偏光板の製造方法。 （３） 形成された低屈折率層表面の中心線平均粗さＲ
ａ値が０．６以上１．３以下であり、防眩層／低屈折率
層界面の中心線平均粗さをＲｂとするとき、Ｒａ／Ｒｂ
値が０．８３以上１．００以下であることを特徴とする
（２）に記載の偏光板の製造方法。 （４） 塗布液の溶媒の９０〜１００質量％が沸点１０
０℃以下の溶媒であることを特徴とする（２）又は
（３）に記載の偏光板の製造方法。 （５） 塗布液の溶媒がケトン類および／またはエステ
ル類であることを特徴とする（２）〜（４）に記載の偏
光板の製造方法。 （６） 塗布液の溶媒が２−ブタノンであることを特徴
とする（５）に記載の偏光板の製造方法。 （７） 低屈折率層が平均粒径０．００１〜０．２μｍ
の無機微粒子を含有することを特徴とする（２）〜
（６）に記載の偏光板の製造方法。 （８） 透明支持体がトリアセチルセルロース、ポリエ
チレンテレフタレート、またはポリエチレンナフタレー
トであることを特徴とする（２）〜（７）に記載の偏光
板の製造方法。 （９） 該液晶性化合物がディスコティック化合物であ
ることを特徴とする（１）に記載の偏光板、または、
（２）〜（８）に記載の偏光板の製造方法。 （１０） （２）〜（９）のいずれか１に記載の製造方
法で製造した偏光板。 （１１） （１）または（１０）に記載の偏光板をその
光学異方性層側を液晶セル面に配置することを特徴とす
る液晶表示装置。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の偏光板について具体的に
記載する。本発明の好ましい偏光板の構成について図１
に示した。透明基材フィルム５の一方の面（図において
上面）にマット粒子３を含有する透光性樹脂４からなる
防眩層２を積層し、その上に低屈折率層１を設ける。透
明基材フィルム５の反対面（図においては下面）に、偏
光子６、透明基材フィルム７及び光学異方性層８を積層
している。

【０００７】本発明の防眩層を形成する透明バインダ組
成物の素材の屈折率は、好ましくは１．５０〜２．００
であり、より好ましくは１．５１〜１．７０である。低
屈折率層を形成する素材の屈折率は好ましくは１．３８
〜１．４９である。

【０００８】防眩層を形成する透明バインダ組成物の屈
折率が小さすぎると反射防止性が低下する。さらにこれ
が大きすぎると、反射光の色味が強くなり好ましくな
い。また、反射防止性は、低屈折率層の屈折率が１．３
８〜１．４９の間では低いほど良好であるが、反射光の
色味が強くなる。

【０００９】以下に、個別要素について説明する。 （透明基材フイルム）前記透明基材フィルムの素材とし
ては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シート
や透明ガラスがある。

【００１０】透明樹脂フィルムとしては、トリアセテー
トセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルム、ジアセチルセルロースフ
ィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポ
リエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィ
ルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルロ
ニトリルフィルム等が使用できる。又、厚さは通常２５
μｍ〜１０００μｍ程度とする。

【００１１】前記透明基材フィルムには、液晶用途とし
ては、複屈折がないＴＡＣが、散乱フィルムと偏光素子
との積層を可能（後述）とし、更にその散乱フィルムを
用いて表示品位の優れた表示装置を得ることができるの
で、特に好ましい。

【００１２】［セルロースアセテート］本発明では、酢
化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテ
ートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロー
ス単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、
ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等
の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従
う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、
２５０以上であることが好ましく、２９０以上であるこ
とがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロー
スエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは数
平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体
的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７である
ことが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさら
に好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好まし
い。

【００１３】一般に、セルロースアセテートの２，３，
６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配さ
れるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾
向がある。本発明ではセルロースアセテートの６位水酸
基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アセチ
ル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以
上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセル
ロースアセテートの６位アセチル基の置換度が０．８８
以上であることが好ましい。セルロースアセテートとし
て、公開特許公報 特開平１１−５８５１記載の００４
３〜００４４の実施例［合成例１］、００４８〜００４
９の［合成例２］、００５１〜００５２の［合成例３］
の方法で得られたセルロースアセテートを用いることが
できる。

【００１４】［レターデーション上昇剤］セルロースア
セテートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用することが好ましい。

【００１５】芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２
乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であること
がより好ましく、２乃至８であることがさらに好まし
く、２乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）
単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合
する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれ
でもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水
素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水
素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが
特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテ
ロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環また
は７員環であることが好ましく、５員環または６員環で
あることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般
に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子
が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン
環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソ
オキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イ
ミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾー
ル環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジ
ン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含
まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チ
オフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール
環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピ
リミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン
環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジ
ン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一
つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ま
しい。このようなレターデーション上昇剤は、セルロー
スアセテート１００質量部に対して、０．０１乃至２０
質量部の範囲で使用する。セルロースアセテート１００
質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用
することが好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使
用することがさらに好ましい。二種類以上のレターデー
ション上昇剤を併用してもよい。レターデーション上昇
剤の具体例としては、特開２０００−１１１９１４号公
報、同２０００−２７５４３４号公報、ＰＣＴ／ＪＰ０
０／０２６１９号明細書に記載の化合物が挙げられる。

【００１６】［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイ
ルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法
では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液
（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、
炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃
至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルお
よび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選
ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンお
よびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ
−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上
有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を
有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶
媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有す
る化合物の規定範囲内であればよい。

【００１７】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。

【００１８】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好まし
くは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃
至１１０℃である。

【００１９】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００２０】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。

【００２１】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却開始から最終的な冷却温度に達するまでの時間で割っ
た値である。

【００２２】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃
／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上
であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ま
しいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０
００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒
が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始
する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始し
てから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値
である。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

【００２３】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただ
し、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢
化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒に
より異なる。

【００２４】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。

【００２５】調製したセルロースアシレート溶液（ドー
プ）を用いて２層以上の流延でフィルム化することも出
来る。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロー
スアシレートフイルムを作製することが好ましい。ドー
プは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させ
てフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が
１０〜４０％となるように濃度を調整することが好まし
い。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げて
おくことが好ましい。

【００２６】２層以上の複数のセルロースアシレート液
を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流
延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて
設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶
液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製
してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開
平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、
などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口か
らセルロースアシレート溶液を流延することによっても
フィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７
５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９
４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６
１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記
載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１
７号に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを
低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その
高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す
セルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。

【００２７】或いはまた２個の流延口を用いて、第一の
流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支
持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでよ
り、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４
４−２０２３５号に記載されている方法である。流延す
るセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、
異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定され
ない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせる
ために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液
を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらの本発明
のセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、
接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、
ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施
しうる。

【００２８】従来の単層液では、必要なフィルム厚さに
するためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶
液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシ
レート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障
となったり、平面性が不良であったりして問題となるこ
とが多かった。この解決として、複数のセルロースアシ
レート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の
溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良
化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、
濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負
荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高め
ることができる。

【００２９】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。

【００３０】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。

【００３１】［高熱伝導性粒子］セルロースアセテート
フィルムの熱伝導性を向上させるために様々な高熱伝導
性粒子を使用する。高熱伝導性粒子としては、窒化アル
ミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化マグネシウ
ム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化
亜鉛、酸化マグネシウム、炭素、ダイヤモンド、金属等
を挙げる事ができる。フィルムの透明性を損なわないた
めに、透明な粒子を使用することが望ましい。 高熱伝
導性粒子のセルロースアセテートフィルムへの配合量
は、セルロースアセテート１００質量部に対して５〜１
００質量のはんいで充填するのがよい。配合量が５質量
部未満であると熱伝導の向上が乏しく、また５０質量部
を超える充填は、生産性の面で困難かつセルロースアセ
テートフィルムが脆いものになってしまう。高熱伝導性
粒子の平均粒径は０．０５〜８０μｍ、好ましくは０．
１〜１０μｍが好ましい。球状の粒子を用いても良い
し、針状の粒子を用いても良い。

【００３２】［二軸延伸］本発明のセルロースアセテー
トフィルムは、吸湿膨張を低減させるために、延伸処理
されることが好ましい。延伸することにより、延伸方向
の吸湿膨張が低減出来るので、面内すべての方向で歪み
を低減するために二軸延伸することが更に好ましい。二
軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法がある
が、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、
ドープを流延した後、バンドもしくはドラムより剥ぎ取
り、幅方向（長手方法）に延伸した後、長手方向（幅方
向）に延伸される。幅方向に延伸する方法は、例えば、
特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５
号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同
１１−４８２７１号などに記載されている。フイルムの
延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度
は、フイルムのガラス転移温度以下であることが好まし
い。フイルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、
特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸
の場合、例えば、フイルムの搬送ローラーの速度を調節
して、フイルムの剥ぎ取り速度よりもフイルムの巻き取
り速度の方を速くするとフイルムは延伸される。幅方向
の延伸の場合、フイルムの巾をテンターで保持しながら
搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによっても
フイルムを延伸できる。フイルムの乾燥後に、延伸機を
用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる
一軸延伸）もできる。フイルムの延伸倍率（元の長さに
対する延伸による増加分の比率）は、５〜５０％が好ま
しく、さらに好ましくは１０乃至４０％、最も好ましく
は１５乃至３５％である。

【００３３】これら流延から後乾燥までの工程は、空気
雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
でもよい。本発明のセルロースアシレートフィルムの製
造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているもので
よく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンショ
ン法、内部応力一定のプログラムテンションコントロー
ル法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。 ［吸湿膨張係数］吸湿膨張係数の測定方法について以下
に示す。作製したポリマーフィルムから幅５ｍｍ、長さ
２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５
℃、２０％ＲＨの雰囲気下にぶら下げた。他方の端に
０．５ｇの重りをぶら下げて、一定時間放置した。次
に、一定温度のまま、湿度を８０％ＲＨにして、長さの
変形量を測定した。測定は同一試料につき１０サンプル
行い、平均値を採用した。上記吸湿による寸度変化は、
ポリマーフィルム中の自由体積を小さくすればよい事を
見出した。該自由体積を大きく左右するのは、製膜時の
残留溶剤量であり、少ない方が寸度変化は少ない。残留
溶剤を減らすための一般的手法は、高温かつ長時間で乾
燥することであるが、あまり長時間であると、当然のこ
とながら生産性が落ちるため、０．０１質量％乃至１質
量％であることが好ましく、０．０２質量％乃至０．０
７質量％が更に好ましく、最も好ましいのは、０．０３
質量％乃至０．０５質量％である。上記残留溶剤量を制
御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に
高い生産性で製造することが可能となる。また、上記吸
湿による寸度変化を小さくする方法として、疎水性を有
する化合物を添加する事が好ましい。疎水性を有する素
材としては、分子中にアルキル基やフェニル基のような
疎水基を有する素材であれば特に制限はないが、後述の
可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく
用いられる。添加量は調整する溶液（ドープ）の０．０
１乃至１０質量％が好ましく、０．１乃至５質量％がさ
らに好ましく、１乃至３質量％が最も好ましい。

【００３４】［セルロースアセテートフイルムの表面処
理］セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施す
ことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処
理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理
または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−
３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層を設け
ることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持
する観点から、これら処理においてセルロースアセテー
トフイルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下
とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜として使用
する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理または
アルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対する
ケン化処理を実施することが特に好ましい。表面エネル
ギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍ
Ｎ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好まし
い。以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明す
る。フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶
液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われること
が好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶
液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの
規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好まし
く、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好まし
い。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好ま
しく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。固体の表面
エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社
１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、
湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本
発明のセルロースアセテートフィルムの場合、接触角法
を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギー
が既知である２種の溶液をセルロースアセテートフィル
ムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点におい
て、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴
を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの
表面エネルギーを算出出来る。

【００３５】（ハードコート層）本発明の防眩性反射防
止フィルムでは、ハードコート層を必要に応じてフィル
ムの耐傷性向上の目的で透明支持体と防眩層の間に塗工
してもよい。ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭
化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有す
るポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポ
リマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例に
は、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル
（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタ
ントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキ
サントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、
４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステ
ル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスル
ホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、
メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミド
が含まれる。これらのなかでも、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく
用いられる。

【００３６】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶
解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応
により硬化させる必要がある。

【００３７】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。即ち、架橋基とは、
上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を
示すものであってもよい。これら架橋基を有する化合物
は塗布後熱などによって架橋させる必要がある。

【００３８】（防眩層）本発明の防眩層のヘイズ値は内
部散乱に起因するヘイズ値が１６〜９０％であることが
好ましく、３０〜６０％であることがさらに好ましい。
表面散乱に起因するヘイズ値は１〜３０％であることが
好ましく、１〜２０％であることがさらに好ましい。こ
こで内部散乱に起因するヘイズとは該防眩層を形成する
透明バインダ組成物をオーバーコートして表面を平滑化
したときに測定されるヘイズ値である。内部散乱による
ヘイズ値をコントロールすることは（１） 防眩層を形
成する透明バインダ組成物の屈折率と（２） 表面凹凸
を形成するための層厚以上の粒子径を有するマット粒子
及び／または表面凹凸には寄与しない層厚未満の粒子径
を有する微粒子の屈折率との、屈折率差を０．０２〜
０．２とし、さらに透明バインダ組成物と上記粒子との
比率をコントロールすることで可能である。

【００３９】このような内部散乱性を付与することで、
画像形成装置に適用した際に表面凹凸がレンズとして作
用し、画像を拡大することによって発生するいわゆるギ
ラツキを大幅に緩和することができる。また、光学異方
性層と併せて用いることで、上下、左右すべての方向で
視野角の広がった表示装置を得ることができ特に好まし
い。内部散乱に起因するヘイズ値が１６％未満であると
ギラツキ緩和効果が小さく、９０％を越えると透過率が
低下する。

【００４０】表面散乱は防眩性を付与するために特定の
周期の表面凹凸を形成することで必然的に発生するもの
である。表面凹凸を多くすると表面散乱によるヘイズ値
は増加し、表面凹凸を少なくすると表面散乱によるヘイ
ズ値は減少する。１％未満では防眩性を付与できず、３
０％を越えると後方散乱が大きくなりすぎて、明室にお
いて、フィルムの白化が許容外となる。液晶表示装置に
実装すると１％未満では背景の映り込みが大きく、３０
％を越えるとコントラストの低下を引き起こす。

【００４１】防眩層を形成する化合物は高屈折率を有す
るモノマーまたは高屈折率を有する金属酸化物超微粒子
を含む。高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタク
リロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレ
ン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフ
ェニル−４‘−メトキシフェニルエーテルなどが含まれ
る。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としては、ジ
ルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜
鉛、錫、アンチモン、のうちより選ばれる少なくとも１
つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５
０ｎｍ以下の微粒子が挙げられる。微粒子の具体例とし
ては、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ａｌ₂Ｏ₃ 、Ｉｎ₂Ｏ₃ 、Ｚ
ｎＯ、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、ＩＴＯなどが挙げられ
る。この中でもＺｒＯ₂ が好ましく用いられる。金属酸
化物超微粒子の添加量は、透明バインダ組成物の全質量
の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０
％質量％であるとさらに好ましく、最も好ましくは３０
〜７０質量％である。この配合比を調節することで、後
述するマット粒子との屈折率差を自由に制御することが
できる。

【００４２】防眩層には、上述の通り、マット粒子が含
まれる。このマット粒子は透明であることが好ましい。
マット粒子の平均粒径はコールター法による個数平均粒
径で１．０〜５．０μｍが好ましく、１．７〜３．５μ
ｍがより好ましい。平均粒径が１．０μｍ未満であると
防眩性が不足し、５．０μｍ以上では透過像鮮明性が悪
化する。

【００４３】マット粒子としては無機化合物粒子または
樹脂粒子が用いられ、たとえば不定形シリカ粒子、Ｔｉ
Ｏ₂ 粒子、Ａｌ₂Ｏ₃ 粒子、架橋ポリメチルメタクリレ
ート粒子などの架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、
メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、架橋シ
ロキサン粒子などが好ましく用いられるが、樹脂粒子が
好ましく、特に架橋スチレン粒子が特に好ましい。

【００４４】またマット粒子の形状として、球形、不定
形、のいずれも使用できるが、安定な防眩性を得るため
には球形が好ましい。異なる２種以上の粒子を併用して
もよい。

【００４５】さらに防眩層には防眩性には寄与しない
が、内部散乱を付与するために上記粒子よりも粒子径の
小さい微粒子を同時に含んでもよい。この内部散乱を目
的とした微粒子の粒子径はコールター法による個数平均
粒径で０．１μｍ以上、２．０μｍ未満が好ましい。

【００４６】防眩層は特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥
などの面状均一性を確保するためにフッ素系、シリコー
ン系のいずれかの界面活性剤、あるいはその両者を塗布
組成物中に含有してもよい。特にフッ素系の界面活性剤
は、本発明の散乱性層の塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥な
どの面状故障を改良する効果が大のため、好ましく用い
られる。

【００４７】フッ素系の界面活性剤の好ましい例として
は、スリーエム社製のフロラードＦＣ−４３１などのパ
ーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、
大日本インキ社製のメガファックＦ−１７１、Ｆ−１７
２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦなどのパーフルオロア
ルキル基含有オリゴマーなどが挙げられる。シリコーン
系界面活性剤としては各種置換基で側鎖や主鎖の末端が
変性されたポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。
防眩層上にオーバーコートする低屈折率層の微細なムラ
を防止するために、上記界面活性剤の構造と添加量を調
整することにより、防眩層の表面エネルギーを２５ｍＮ
・ｍ^-1〜７０ｍＮ・ｍ^-1とすることが好ましい。２５ｍ
Ｎ・ｍ^-1以下となると、該防眩層上に低屈折率層をコー
トする際に低屈折率層に目で見えない微細なムラが発生
し、それが反射防止性を悪化させる。７０ｍＮ・ｍ^-1以
上となると、該防眩層自身の塗布性が悪化し、ムラが生
じる。さらに好ましくは３５ｍＮ・ｍ^-1〜７０ｍＮ・ｍ
^-1、最も好ましくは４０ｍＮ・ｍ^-1〜７０ｍＮ・ｍ^-1と
する。

【００４８】また、上記のような表面エネルギーを実現
するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子
由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃ
が０．４０以下であること、およびシリコン原子由来の
ピークと炭素原子由来のピークの比であるＳｉ／Ｃが
０．３０以下であることが好ましい。

【００４９】（低屈折率層）本発明の低屈折率層は、下
記数式（１）を満足することが好ましい。 ｍλ／４×０．７ ＜ ｎ₁ ｄ₁ ＜ ｍλ／４×１．３ 数式（１） 式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁ は低屈折
率層の屈折率、ｄ₁ は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）であ
る。また、λは設定波長であり、５００〜５５０ｎｍの
範囲である。なお、上記数式（１）を満たすとは、上記
波長の範囲において数式（１）を満たすｍ（正の奇数、
通常１である）が存在することを意味する。

【００５０】低屈折率層には熱硬化性または電離放射線
硬化性の含フッ素樹脂の硬化物が好ましく用いられる。
該硬化物の動摩擦係数は好ましくは０．０３〜０．１
５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０度であ
る。該硬化性の含フッ素樹脂として、パーフルオロアル
キル基含有シラン化合物（たとえは、（ヘプタデカフル
オロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシ
ラン）等のほか、含フッ素モノマーと架橋性基付与のた
めのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げ
られる。含フッ素モノマーの具体例としては例えば、フ
ルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリ
デンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフ
ルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフル
オロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール類な
ど）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化ア
ルキルエステル誘導体類（例えば、ビスコート６ＦＭ
（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）な
ど）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類などで
ある。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジ
ルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官
能基を有する（メタ）アクリレートモノマーのほか、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば
（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリル
アクリレートなど）が挙げられる。後者は共重合の後、
架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８、
及び特開平１０−１４７７３９に記載されている。

【００５１】また、上記含フッ素系モノマーを構成単位
とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモ
ノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマ
ー単位には特に限定はなく、例えば、オレフィン類（エ
チレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデンなど）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシ
ル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレング
リコールジメタクリレートなど）、スチレン誘導体（ス
チレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチ
ルスチレンなど）、ビニルエーテル類（メチルビニルエ
ーテルなど）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、桂皮酸ビニルなど）、アクリルアミド類
（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキ
シルアクリルアミドなど）、メタクリルアミド類、アク
リロニトリル誘導体などを挙げることができる。

【００５２】低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂に
は、耐傷性を付与するために、無機微粒子を含有させる
ことが好ましい。そのサイズとしては０．００１〜０．
２μｍであることが好ましい。無機微粒子としては珪素
の酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。反射
防止性の観点から屈折率が低いほど好ましいが、含フッ
素樹脂の屈折率を下げていくと、耐傷性が悪化する。そ
こで、含フッ素樹脂の屈折率と珪素の酸化物超微粒子の
添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率のバ
ランスのもっともよい点を見いだすことができる。珪素
の酸化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散され
たシリカゾルをそのまま塗布組成物に添加しても、市販
の各種シリカ粉体を有機溶剤に分散して使用してもよ
い。 （中心線平均粗さ）中心線平均粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６
０１−１９８２で定義される数値である。この指標は高
精細性モニターに対応する防眩性偏光板を開発する際に
重要であり、本発明の偏光板では、低屈折率層表面の中
心線平均粗さ（Ｒａ）は０．０６以上０．１３以下が必
要であり、好ましくは０．０８以上０．１２以下であ
る。この中心線平均粗さを調整することは、防眩層の厚
み、マット性粒子の大きさ、マット性粒子の頻度（塗設
量、含量）、粒子の分散度、粒子とバインダとの親和
性、低屈折率層の塗布液処方、厚さなどを制御すること
により行うことができる。本発明の偏光板で、防眩層／
低屈折率層界面の中心線平均粗さをＲｂとすると、Ｒａ
／Ｒｂ値は０．８５以上１．００以下であり、好ましく
は０．９３以上１．００以下である。Ｒａ／Ｒｂ値が１
に近いほど、防眩層の凹凸の上に低屈折率層が均一に塗
布されていることを意味している。Ｒｂは低屈折率層塗
布前の防眩層表面の粗さを計ることにより求めることが
できる。また、低屈折率層形成後においては、その資料
の断面写真を撮影することにより、その低屈折率層表面
の形状、および、低屈折率層／防眩層界面の形状よりＲ
ａ、Ｒｂを求めることができる。低屈折率層を均一に塗
布するためには、その塗布組成物に用いる塗布溶剤が重
要な要因である。

【００５３】低屈折率層用の塗布組成物に用いる塗布溶
剤について説明する。本発明では低屈折率層を形成する
ために用いられる塗布液の溶媒の沸点と組成に特徴があ
る。溶媒は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併
用してもよい。溶媒１種単独使用の時にはその溶媒の沸
点は１００℃以下であり、好ましくは５０〜９５℃の範
囲にある。溶媒２種以上を併用するときには、沸点が１
００℃以下、好ましくは５０〜９５℃の範囲にある溶媒
が全溶媒の５０〜１００質量％を占め、好ましくは８０
〜１００質量％、より好ましくは９０〜１００質量％を
占める。溶媒１種単独使用の時にその溶媒の沸点が１０
０℃を超えるときあるいは溶媒２種以上併用の時に沸点
が１００℃以下の溶媒が占める割合が５０質量％未満で
ある場合、乾燥速度が遅く、レベリングが十分に進むた
め、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にムラが生じるため、
反射率などの光学特性が悪化する。沸点が１００℃以下
の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７
℃）、ヘプタン（沸点９８．４℃）、シクロヘキサン
（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水
素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム
（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−
ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン
（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチル
エーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６
８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テト
ラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチ
ル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エ
チル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）など
のエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン
（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケト
ン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．
３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパ
ノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニト
リル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）
などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）など
がある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特
にケトン類が好ましい。ケトン類の中では２−ブタノン
が特に好ましい。沸点が１００℃以上の溶媒としては例
えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．
６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン
（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、
ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４
２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキ
サノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン
（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール
（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１
５３℃）、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６
℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。
好ましくはシクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタ
ノンである。低屈折率層成分を前述の組成の溶媒で希釈
することにより本発明の低屈折率層用塗布液は調製され
る。塗布液濃度は塗布液の粘度、低屈折率層素材の比重
などを考慮して適宜調節されることが好ましいが、０．
１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質
量％である。

【００５４】低屈折率層、防眩層などはディップコート
法、エアナイフコート法、カーテンコート法、ローラー
コート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、
マイクログラビアコート法やエクストルーションコート
法（米国特許２６８１２９４号）により、塗布により形
成することができる。２層以上の層を同時に塗布しても
よい。同時塗布の方法については米国特許２７６１７９
１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３
５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティン
グ工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載があ
る。

【００５５】（光学異方性層、液晶性化合物）光学異方
性層に含まれる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物、
あるいはディスコティック液晶性化合物が含まれる。棒
状液晶性化合物は、棒状液晶性分子を配向させて、その
配向状態を固定してなる。ディスコティック液晶性化合
物は、ディスコティック液晶性分子を配向させて、その
配向状態を固定してなる。棒状液晶性分子としては、ア
ゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノ
フェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキ
サンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシ
クロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、ア
ルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサ
ン類、トラン類、およびアルケニルシクロヘキシルベン
ゾニトリル類が好ましく用いられる。棒状液晶性分子の
複屈折率は、０．００１乃至０．７であることが好まし
い。棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するため
に、重合性基を有することが好ましい。重合性基の例
は、後述ディスコティック化合物の重合性基の例と同様
である。棒状液晶性分子は、短軸方向に対してほぼ対称
となる分子構造を有することが好ましい。そのために
は、棒状分子構造の両端に重合性基を有することが好ま
しい。

【００５６】光学異方性層は、負の一軸性を有し傾斜配
向したディスコティック化合物を含む層であることが好
ましい。ディスコティック化合物は、ディスコティック
化合物の円盤面と透明支持体面とのなす角が、光学異方
性層の深さ方向において変化している（ハイブリッド配
向している）ことが好ましい。ディスコティック化合物
の光軸は、円盤面の法線方向に存在する。ディスコティ
ック化合物は、光軸方向の屈折率よりも円盤面方向の屈
折率が大きな複屈折性を有する。光学異方性層は、後述
する配向膜によってディスコティック化合物を配向さ
せ、その配向状態のディスコティック化合物を固定する
ことによって形成することが好ましい。ディスコティッ
ク化合物は、重合反応により固定することが好ましい。
なお、光学異方性層には、レターデーション値が０とな
る方向が存在しない。言い換えると、光学異方性層のレ
ターデーションの最小値は、０を越える値である。 ［ディスコティック化合物］本発明のディスコティック
化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報
告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．，７１巻、１１１頁（１９８
１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔ
ｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．，１２２
巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔ
ｔ．，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されてい
るトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａ
ｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，９６巻、７０頁（１９８４年）
に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈ
ｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７
９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１６巻、２６５５頁
（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェ
ニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることがで
きる。上記ディスコティック化合物は、一般的にこれら
を分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ
基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線
状に置換された構造であり、液晶性を示す。ただし、分
子自身が負の一軸性を有し、一定の配向を付与できるも
のであれば上記記載に限定されるものではない。

【００５７】また、本発明において、液晶性化合物から
形成したとは、最終的にできた物が液晶性である必要は
なく、例えば、前記低分子ディスコティツク化合物が
熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等
で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を
失ったものも含まれる。上記ディスコティック化合物の
好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されて
いる。

【００５８】本発明の光学異方性層は、ディスコティッ
ク構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する
層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、
透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構
造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方性
層の深さ方向に変化していることが好ましい。

【００５９】上記ディスコティック構造単位の面の角度
（傾斜角）は、一般に、光学異方性層の深さ方向でかつ
光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増加または
減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加す
ることが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続
的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的
増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む
間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚
さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。
傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として
増加または減少していることが好ましい。更に、傾斜角
は全体として増加していることが好ましく、特に連続的
に変化することが好ましい。

【００６０】上記光学異方性層は、一般にディスコティ
ック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向
膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチ
ック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコ
ティックネマチック相）を維持して冷却することにより
得られる。あるいは、上記光学異方性層は、ディスコテ
ィック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノ
マー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上
に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック
相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等
により）、さらに冷却することにより得られる。本発明
に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティ
ックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０
〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好まし
い。

【００６１】例えば、支持体側のディスコティック単位
の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配
向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理
方法の選択することにより、調整することができる。ま
た、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角
は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコテ
ィック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑
剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択
することにより調整することができる。更に、傾斜角の
変化の程度も上記選択により調整することができる。

【００６２】上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマ
ーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、
液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えら
れるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化
合物も使用することができる。これらの中で、重合性モ
ノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。
上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に
１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて
使用される。

【００６３】上記ポリマーとしては、ディスコティック
化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物
に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマー
でも使用することができる。ポリマー例としては、セル
ロースエステルを挙げることができる。セルロースエス
テルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピ
ルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙
げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコテ
ィック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティ
ック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好まし
くは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量に
て使用される。本発明で用いられる液晶性化合物からな
る光学異方性層は、セルロースアセテートフィルム、そ
の上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成されたディ
スコティック液晶からなる層であって、配向膜が架橋さ
れたポリマーからなるラビング処理された膜である。本
発明で用いられる配向膜の好ましい例としては特開平９
−１５２５０９に記載の化合物が挙げられる。

【００６４】［偏光板］偏光子には、ヨウ素系偏光子、
二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子が
ある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポ
リビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。セル
ロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光子の透過軸と
は、実質的に平行になるように配置する。偏光板の生産
性には透明基材フィルムの透湿性が重要であることがわ
かった。偏光子と透明基材フィルムは水系接着剤で貼り
合わせられており、この接着剤溶剤は透明基材フィルム
中を拡散することで、乾燥される。透明基材フィルムの
透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は
向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環
境（高湿下）により、水分が偏光子中に入ることで偏光
能が低下する。透明基材フィルムの透湿性は、ポリマー
フィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体
積、親疎水性、等により決定される。透湿性は１００乃
至１０００ｇ／ｍ² ・２４ｈｒｓである事が好ましく、
３００乃至７００ｇ／ｍ² ・２４ｈｒｓである事が更に
好ましい。厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインス
ピード、あるいは、延伸、圧縮により調整する事が出来
る。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調
整により好ましい範囲にすることが可能である。自由体
積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整すること
が出来る。この場合もまた、使用する主素材により透湿
性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にす
ることが可能である。透明基材フィルムの親疎水性は、
添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に
親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に
疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることが
出来る。上記透湿性を独立に制御することにより、高品
質の偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能と
なる。

【００６５】［液晶表示装置］本発明の偏光板は、液晶
表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられ
る。透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に
配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の
電極基板の間に液晶を担持している。本発明の偏光板は
その光学異方性層を液晶セル面側に配置して使用するこ
とが好ましい。

【００６６】液晶セルには種々のモードが存在する。Ｓ
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性
分子が実質的に水平配向し、さらに１８０°乃至２７０
°にねじれ配向している。また、ＴＮモードの液晶セル
では、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配
向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＳＴＮモード、およびＴＮモードの液晶セルは、黒白、
およびカラー液晶表示装置として最も多く利用されてお
り、多数の文献に記載がある。ＶＡモードの液晶セルで
は、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配
向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液
晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電
圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモード
の液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加
えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチド
メイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９
７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予
稿集），２８（１９９７），８４５記載）、（３）棒状
液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電
圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ
−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集
５８〜５９（１９９８）記載）、（４）ＳＵＲＶＡＩＶ
ＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８
で発表）、および（５）ＣＰＡモードの液晶セル（ＳＩ
Ｄ２００１、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒ
ｓ（予稿集），４１（２００１），１０９０記載）が含
まれる。ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を
液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的
に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液
晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４
１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性
分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向している
ため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機
能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏ
ｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎ
ｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶
表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

【００６７】

【実施例】以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明
するが、本発明は実施例に限定されて解釈されることは
ない。

【００６８】（セルロースアセテート溶液の調製）下記
の成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら撹拌
して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調
製した。

【００６９】 セルロースアセテート溶液組成 ・酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部 ・トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部 ・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部 ・メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部 ・メタノール（第２溶媒） ５４質量部 ・１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部

【００７０】別のミキシングタンクに、レターデーショ
ン上昇剤（スミソルブＴＭ１６５−Ｆ 住友化学製）１
６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノ
ール２０質量部を投入し、加熱しながら撹拌して、レタ
ーデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテ
ート溶液４７５質量部に上記レターデーション上昇剤溶
液２５質量部を混合し、充分に撹拌してドープを調製し
た。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースア
セテート１００質量部に対して、３．０質量部であっ
た。作製したセルロースアセテートフィルム（ＣＡＦ−
０１）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本
分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるＲｅ
レターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を
測定した。Ｒｅは１０ｎｍで、Ｒｔｈは８１ｎｍであっ
た。

【００７１】（下塗り層の作製）前記で作製したセルロ
ースアセテートフィルム（ＣＡＦ−０１）に下記組成の
塗布液を２８ｍｌ／ｍ² 塗布乾燥し、０．１μｍの下塗
り層を塗設した。 ・ゼラチン ０．５４２質量部 ・ホルムアルデヒド ０．１３６質量部 ・サリチル酸 ０．１６０質量部 ・アセトン ３９．１質量部 ・メタノール １５．８質量部 ・メチレンクロライド ４０．６質量部 ・水 １．２質量部

【００７２】さらにその上に下記組成の塗布液を７ｍｌ
／ｍ² 塗布乾燥した。 ・アニオン性下記共重合体（ｘ：ｙ：ｚ＝５０／２５／２５） ０．０７９質量部 ・クエン酸モノエチルエステル １．０１質量部 ・アセトン ２０質量部 ・メタノール ８７．７質量部 ・水 ４．０５質量部

【００７３】

【化１】

【００７４】さらに上記と反対側の層に下記組成の塗布
液を２５ｍｌ／ｍ² 塗布乾燥し、バック層を設けた。

【００７５】 バック層塗布液組成物 ・セルロースジアセテート（酢化度５５％） ０．６５６質量部 ・シリカ系マット剤（平均粒径１μｍ） ０．０６５質量部 ・アセトン ６７．９質量部 ・メタノール １０．４質量部

【００７６】（配向膜層の作製）このセルロースアセテ
ートフィルム（ＣＡＦ−０１）のゼラチン層上に、下記
の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８
ｍｌ／ｍ² 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９
０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセ
テートフィルム（ＣＡＦ−０１）の長手方向に、形成し
た膜にラビング処理を実施した。

【００７７】 配向膜塗布液組成 ・下記構造の変性ポリビニルアルコール ８質量部 ・ＰＶＡ２１７（クラレ製） ２質量部 ・水 ３７１質量部 ・メタノール １１９質量部 ・グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部

【００７８】

【化２】

【００７９】（光学異方性層の形成）配向膜上に、下記
構造のディスコティック化合物４１．０１ｇ、エチレン
オキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレー
ト（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）２．０３ｇ、
ジペンタエリストールアクリレート（ＫＹＡＲＡＤＤＰ
ＨＡ 日本化薬製）２．０３ｇ、セルロースアセテート
ブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミ
カル社製）０．９０ｇ、セルロースアセテートブチレー
ト（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チ
バガイギー社製）１．３５ｇ、増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを、１０２ｇの
メチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃４のワイヤ
ーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３
０℃の恒温槽中で２分間加熱し、円盤状化合物を配向さ
せた。

【００８０】次に、８０℃の雰囲気下のもと、膜面温度
が約１００℃の状態で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用い
て、０．４秒間ＵＶ照射し下記ディスコティック液晶性
化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。この
ようにして、光学異方性層を形成した。波長６３３ｎｍ
で測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４
８ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との
間の角度（傾斜角）は平均で４２゜であった。

【００８１】

【化３】

【００８２】（偏光板（Ｐｏｌ−Ａ）の作製）延伸した
ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏
光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用い
て、上記で作成した液晶性化合物からなる光学異方性層
のセルロースアセテートフィルム側を偏光膜の片側に、
もう一方には市販のセルローストリアセテートフィルム
（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）
製）の貼合する側にケン化処理を行い、貼り合わせ、８
０℃で１０分間乾燥させた。

【００８３】偏光膜の透過軸と前記で作製した光学異方
性層の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の
透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅
相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏
光板（Ｐｏｌ−Ａ）を作製した。

【００８４】 （防眩層用塗布液Ａの調製） ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア クリレートの混合物 （ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製） ３．０ｇ 表面修飾シリカ混合物（製品名Ｚ７５２６、ＪＳＲ（株）製） ４４．０ｇ ２−メチルー４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ） ３９．０ｇ スチレンビーズペースト（製品名ＳＸ１３０Ｈ、架橋ＰＳｔ１．３μｍ粒子、総 研化学（株）製） １１．１ｇ スチレンビーズペースト（製品名ＳＸ３５０Ｈ、架橋ＰＳｔ３．５μｍ粒子、総 研化学（株）製） ２．６ｇ ここでＭＩＢＫは溶剤メチルイソブチルケトンを表す。
上記のように混合し、防眩層用塗布液Ａを調製した。

【００８５】 （防眩層用塗布液Ｂの調製） ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア クリレートの混合物 （ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製） １８．７ｇ 表面修飾ジルコニア混合物（製品名ＫＺ７１１４Ａ，ＪＳＲ（株）製） ３８．７ｇ ２−ブタノン（ＭＥＫと同じ） １１．８ｇ ２−メチルー４−ペンタノン ２３．５ｇ ＰＭＭＡビーズペースト（製品名ＭＸ１５０、ＰＭＭＡ１．５μｍ粒子、総研化 学（株）製） ５．３ｇ ＰＭＭＡビーズペースト（製品名ＭＸ３００、ＰＭＭＡ３．０μｍ粒子、総研化 学（株）製） ３．３ｇ ここでＭＥＫは溶剤メチルエチルケトンを表し、ＰＭＭ
Ａはポリメチルメタクリレートを表す。上記のように混
合し、防眩層用塗布液Ｂを調製した。

【００８６】 （低屈折率層用塗布液Ａの調製） 熱架橋性含フッ素ポリマーの６質量％の２−ブタノン溶液（ＪＮ７２２８、ＪＳ Ｒ（株）製）（屈折率１．４２） ５３．９ｇ 平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ₂ ゾルの２−ブタノン 分散物（ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学（株）製） ４．６３ｇ ２−ブタノン ３８．６ｇ シクロヘキサノン ２．８８ｇ 上記からなる低屈折率層用塗布液Ａを調製した。ここに
おいて、上記処方中の２−ブタノン（沸点７９．６℃）
９２．５ｇ、シクロヘキサノン（沸点１５５．７℃）
２．８８ｇであり、全溶媒中に沸点１００℃以下の溶媒
の占める質量％は９７％である。

【００８７】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）低屈折率
層用塗布液Ａにおいて、添加した２−ブタノン量を３
８．６ｇから２２．４ｇに、さらにシクロヘキサノン量
を２．８８ｇから１９．１ｇに変更したこと以外は、低
屈折率層用塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液
Ｂを調製した。ここにおいて、上記処方中の２−ブタノ
ン（沸点７９．６℃）７６．３ｇ、シクロヘキサノン
（沸点１５５．７℃）１９．１ｇであり、全溶媒中に沸
点１００℃以下の溶媒の占める質量％は８０％である。 （低屈折率層用塗布液Ｃの調製）低屈折率層用塗布液Ａ
において、添加した２−ブタノン量を３８．６ｇから０
ｇに、さらにシクロヘキサノン量を２．８８ｇから４
４．１ｇに変更したこと以外は、低屈折率層用塗布液Ａ
と同様にして、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。ここ
において、上記処方中の２−ブタノン（沸点７９．６
℃）５３．９ｇ、シクロヘキサノン（沸点１５５．７
℃）４４．１ｇであり、全溶媒中に沸点１００℃以下の
溶媒の占める質量％は５５％である。

【００８８】（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）低屈折率
層用塗布液Ａにおいて、添加した２−ブタノン量を３
８．６ｇから０ｇに、さらにシクロヘキサノン量を２．
８８ｇから５６．１ｇに変更したこと以外は、低屈折率
層用塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｄを調
製した。ここにおいて、上記処方中の２−ブタノン（沸
点７９．６℃）５３．９ｇ、シクロヘキサノン（沸点１
５５．７℃）５６．１ｇであり、全溶媒中に沸点１００
℃以下の溶媒の占める質量％は４９％である。

【００８９】（偏光板１の作成）セルローストリアセテ
ート（ＴＤ８０ＵＤ）の面上に、上記防眩層用塗布液Ａ
をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、
１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラ
フィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ
² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ約３．５μｍの防眩層を形成した。
その表面の中心線表面粗さを小坂研究所（株）製、表面
粗さ計ＡＹ２２を用いて測定し、Ｒｂ値とした。その上
に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて
塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で８分間熱
架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。
これを防眩フイルム１とする。偏光板Ｐｏｌ−Ａの作成
において、市販のセルローストリアセテートフイルム
（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）
製）の代わりに、上記の防眩フイルム１をそのセルロー
ストリアセテート側にケン化処理を行った後、その面を
偏光板側に張り合わせて、偏光板１を作成した。

【００９０】〔偏光板２の作成〕防眩層用塗布液ＡをＢ
に置き換えたこと以外は偏光板１と同様にして偏光板２
を作成した。

【００９１】〔偏光板３の作成〕低屈折率層塗布液Ａを
Ｂに置き換えたこと以外は偏光板１と同様にして偏光板
３を作成した。

【００９２】〔偏光板４の作成〕低屈折率層塗布液Ａを
Ｃに置き換えたこと以外は偏光板１と同様にして偏光板
４を作成した。 〔偏光板５の作成〕低屈折率層塗布液ＡをＤに置き換え
たこと以外は偏光板１と同様にして偏光板５を作成し
た。

【００９３】〔実施例１〕ＴＮ型液晶セルを用いた液晶
表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられ
ている一対の偏光板をはがして、代わりに液晶セルを挟
むようにして偏光板１を観察者側に、Ｐｏｌ−Ａをバッ
クライト側に、光学異方性層が液晶セル側になるよう
に、粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透
過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とはｏモード
となるように配置した。これを液晶表示装置１とした。

【００９４】（実施例２）偏光板１に変えて、偏光板２
を使用したこと以外は、液晶表示装置１と同様にして液
晶表示装置２を作成した。

【００９５】（実施例３）偏光板１に変えて、偏光板３
を使用したこと以外は、液晶表示装置１と同様にして液
晶表示装置３を作成した。 （実施例４）偏光板１に変えて、偏光板４を使用したこ
と以外は、液晶表示装置１と同様にして液晶表示装置４
を作成した。

【００９６】（比較例１）偏光板１に変えて、偏光板５
を使用したこと以外は、液晶表示装置１と同様にして液
晶表示装置５を作成した。

【００９７】（比較例２）偏光板１に変えて、Ｐｏｌ−
Ａを使用したこと以外は、液晶表示装置１と同様にして
液晶表示装置６を作成した。

【００９８】評価方法 （１）視野角；作成した液晶表示装置について、測定機
（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＭＩＤ社製）
を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８
段階で視野角を測定した。 （２）外光の映り込み；液晶表示装置の電源を切った状
態で、裸の蛍光灯が画像表示装置の上に反射し、映る状
況を確認した。 ◎；蛍光灯の輪郭が全くわからない。 ○；蛍光灯の輪郭がわずかにわかる。 △；蛍光灯はぼけているが輪郭は識別できる。 ×；蛍光灯はほとんどぼけない。 これらのサンプルの評価結果を表１に示す。

【００９９】

【表１】

【０１００】実施例１〜３では上下左右の視野角が広
く、かつ外光の映り込みが少なく、視認性に優れた液晶
表示装置が得られた。それに対して、比較例１では視野
角は許容範囲内であるものの、外光映り込みがあり、比
較例２では視野角が狭く不十分であり、外光映り込みが
大きく、実用上好ましいものではなかった。

【０１０１】

【発明の効果】本発明の偏光板は画像表示装置、特に高
精細液晶表示装置に搭載したときの視野角依存性が小さ
く、外光の映り込みが少なく好ましい。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の偏光板の層構成を模式的に示す概略
断面図である。

【符号の説明】

１ 低屈折率層 ２ 防眩層 ３ マット粒子 ４ 透光性樹脂 ５ 透明基材フィルム ６ 偏光子 ７ 透明基材フィルム ８ 光学異方性層

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BB33 BB44 BB49 BB63 BC03 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA37X FB02 FD06 LA16 LA19 2K009 AA02 AA12 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC24 CC26 CC47 DD02

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶性化合物から成る光学異方性層、偏
   光子、防眩層、および該防眩層上に少なくとも１層の低
   屈折率層を有する偏光板であって、該低屈折率層が塗布
   法により形成され、該低屈折率層表面の中心線平均粗さ
   Ｒａ値が０．６以上１．３以下であり、該防眩層／該低
   屈折率層界面の中心線平均粗さをＲｂとするとき、Ｒａ
   ／Ｒｂ値が０．８３以上１．００以下であることを特徴
   とする偏光板。
2. 【請求項２】 液晶性化合物から成る光学異方性層、偏
   光子、防眩層、および該防眩層上に少なくとも１層の低
   屈折率層を有する偏光板の製造方法において、該低屈折
   率層が塗布法により形成され、その塗布液が１種以上の
   溶媒を含有し、該溶媒の５０〜１００質量％が沸点１０
   ０℃以下の溶媒であることを特徴とする偏光板の製造方
   法。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の製造方法で製造したこ
   とを特徴とする偏光板。
4. 【請求項４】 請求項１又は３に記載の偏光板をその光
   学異方性層側を液晶セル面に配置することを特徴とする
   液晶表示装置。